KR20150142722A

KR20150142722A - 플라즈마를 이용하는 여드름 치료기

Info

Publication number: KR20150142722A
Application number: KR1020140070542A
Authority: KR
Inventors: 박봉주; 김용희; 상학 이; 은하 최
Original assignee: 광운대학교 산학협력단
Priority date: 2014-06-11
Filing date: 2014-06-11
Publication date: 2015-12-23
Also published as: KR101630922B1

Abstract

본 발명의 목적은 여드름균을 사멸할 수 있는 플라즈마 제트소스를 제공하고 이를 적절히 운용하여 여드름 치료가 안전하고도 충분하게 이루어질 수 있는 여드름 치료기 운용방법을 제공하는 것이다.
상기 목적에 따라 본 발명은 플렉서블 플라즈마 제트소스 및 버퍼를 구비하여 방열 및 감전을 예방한 플라즈마 제트소스를 제공하였으며, 상기 플라즈마 제트소스에 20 내지 60kHz의 교류전압으로 2 내지 5kV를 인가하여 플라즈마 제트를 생성하고 이로써, 여드름 박테리아에 200 내지 600초를 처리함으로써 여드름균을 완전히 사멸함으로써 여드름 치료기 운용방법을 제공하였다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 제트에 의해 OH-, O-, O₂ ⁺-, N- 래디칼이 생성되어 여드름균 내부에 활성산소를 다량 생성함으로써 여드름균이 사멸된다.

Description

플라즈마를 이용하는 여드름 치료기{ACNES TREATMENT SYSYEM WITH PLASMA}

본 발명은 플라즈마를 이용하여 여드름균을 사멸하는 여드름 치료기에 관한 것이다.

최근 대기압 플라즈마는 공학뿐 아니라 바이오 연구 및 의료기기와의 융합 기술 분야에 접목되고 있다. 대기압 플라즈마 제트의 경우, 제트 스트림 방식으로 방사되는 플라즈마를 페트리 접시에 준비된 생체시료에 처리하여 바이오 분야 연구에 이용되고 있다. 이러한 대기압 플라즈마 제트 소스의 구조는 도 1과 같다. 대한민국등록특허 제10-1020769호의 구조도 이와 비슷하다.

즉, 원통형 내부전극(10)을 방전관 속에 넣고 방전관(20) 안으로 가스를 공급하면서 내부전극과 시료바닥면 또는 방전관 외벽면에 접지전극을 연결하여 교류 전원을 인가한다. 가스는 주로 Ar, Ne, He과 같은 비활성 가스가 이용된다. 이와 같이 구성된 종래 플라즈마 제트 소스는 몇 가지 문제점을 나타낸다.

원통형 내부전극(10)의 단부에서 플라즈마가 방사될 때 열이 발생 되는 문제가 있다. 발열로 인해 피 처리물인 세포가 변형되거나 손상되어 본래 의도하던 결과와 다른 결과를 낳게 되는 것이다. 또한, 플라즈마 제트를 인체에 의료용으로 처리하고자 할 경우, 플라즈마 전하가 인체에 감전 전류로 작용하는 위험성이 있다. 이는 원통형 내부전극과 접지전극 사이에서 다이렉트 플라즈마가 발생되는데 이때 내부전극이 노출되어 있기 때문이다.

또한, 방전관은 플렉서블 하지 않기 때문에 내시경과 같이 자유롭게 경로를 구부릴 수 있어야 하는 제품에는 적용될 수 없다는 것도 문제이다.

여드름 치료와 같이 피부 질환 치료를 위해 플라즈마 소스를 적용한 예로는 미국공개공보 2013/0072858A1가 있으며, 여기에서는 마스크 형태의 치료장치를 선보이고 있으나, 플라즈마 소스 구조는 종래 기술 범주에 속하며, 마스크 형태의 치료장치는 후술할 플라즈마의 살균력을 감안할 때, 여드름 부위 이외에 플라즈마가 처리될 수 있다는 점에서 바람직하지 않다.

따라서 본 발명의 목적은 감전 위험이 없고, 방열 수단을 구비한 플라즈마 제트 소스를 제공하고 이를 이용한 여드름 치료기를 제공하고자 하는 것이다.

또한, 본 발명의 목적은 취급상의 편리성을 고려하여, 플렉서블한 하우징을 적용하고, 플라즈마 피처리물에 대한 발열 및 감전의 문제가 없는 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공하고자 하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 제트 소스를 이용하여 여드름균을 사멸할 수 있는 플라즈마 제트 소스의 운용방법을 제공하고자 하는 것이다.

상기 목적에 따라 본 발명은,

한쪽이 유전체로 막혀있는 속이 빈 방전관;

상기 방전관 안에 넣어 진 원통형 내부전극; 및

상기 방전관에 결합 되는 플렉서블 유전체 호스;를 포함하고,

상기 유전체 호스에 브랜치;를 형성하여 방전관의 유전장벽 표면에서 생성된 플로팅 플라즈마를 브랜치에서 공급되는 비활성 기체로 유도하여 유전체 호스의 단부에서 제트 형태의 저온 플라즈마를 방출하게 함으로써 피 처리물에 플라즈마 처리할 수 있게 구성한 플렉서블 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공한다.

상기 내부전극은 상기 방전관 유전체면에 접촉되게 배치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

상기 내부전극은 전극하단에 외부공기가 순환할 수 있도록 천공하여 방전관에서 발생되는 열을 방출하는 역할을 하는 냉각홀을 구비한것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명은, 상기에서, 교류 전원의 X전극은 상기 내부전극에 인가하고 Y전극은 접지하는 것을 특징으로 하는 플로팅 전극의 플렉서블 튜브형 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명은, 상기에서, 상기 브랜치와 호스 본체 접합부는 플라즈마 방전 단 후단에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명은, 상기에서, 상기 호스의 유전율, 유전체의 두께에 따라 인가 전력을 조절하여, 방전되는 플라즈마에 의한 감전 방지 최적화를 이루는 것을 특징으로 하는 플로팅 전극의 플렉서블 튜브형 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명은, 상기에서, 상기 방전관은 유리, 석영 또는 세라믹으로 구성되는 것을 특징으로 하는 플로팅 전극의 플렉서블 튜브형 플라즈마 제트 소스를 이용한 여드름 치료기를 제공할 수 있다.

또한, 본 발명은,

속이 빈 내부 전극;

상기 내부전극을 둘러싸는 절연체 관;

상기 절연체 관을 둘러싸며 절연체 관 외측에 배치되는 외부전극; 및

상기 외부전극과 내부전극 사이를 채우는 다공성 세라믹 버퍼;를 포함하여,

상기 내부전극을 통해 플라즈마 방전용 가스를 주입하고, 상기 내부전극과 외부전극 사이에 전압을 인가하여 방전되는 플라즈마로 여드름균을 처리하며,

상기 버퍼를 통해 열을 흡수되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기를 제공한다.

또한, 본 발명은, 상기 여드름 치료기 운용방법으로서, 상기 캐리어 가스는 비활성 가스, 질소, 산소, 수증기 또는 공기 중 하나 이상을 사용하고, 인가전압은 20 내지 60kHz의 교류전압으로 2 내지 5kV로 하고, 여드름 박테리아에 대한 처리시간은 200 내지 600초로 동작시키는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플로팅 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기의 운용방법을 제공한다.

또한, 본 발명은, 플라즈마 제트를 발생시켜, OH-, O-, O₂ ⁺-, N-, N₂ ⁺-, N₂- 래디칼 중 하나 이상의 래디칼을 생성하여 여드름균에 상기 래디칼을 작용시킴으로써 여드름균 내부에 활성산소를 생성하여 여드름균이 사멸되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기의 운용방법을 제공한다.

본 발명에 따르면, 플렉서블한 호스 단부에서 플라즈마가 방사되므로 플라즈마 처리 부위 접급성을 높인 여드름 치료기를 구현할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 전극 단부에서 방전이 일어나 플라즈마가 호스 단부를 통해 방사되므로 전극 근처에서 발열이 일어나도 브랜치를 통해 공급되는 비활성 기체에 의해 이동되는 동안 방열되어 호스 단부에서는 세포의 열 손상 문제가 없다.

또한, 본 발명에 따르면, 비활성 기체를 호스의 브랜치를 통해 주입하므로 전극 단부에서 방전된 플라즈마가 하강함에 따라 전하량이 다소 감소 되어 인체에 안전하다.

또한, 본 발명에 따르면, 다공성 세라믹으로 된 버퍼층으로 내부전극과 외부전극 사이를 충진 하여 감전 위험과 방열을 모두 도모한 플라즈마 제트 여드름 치료기를 제공한다.

또한, 본 발명에 따르면, 플라즈마 제트소스를 이용하여 여드름균을 완전히 사멸시킬 수 있는 최적의 조건을 제공한다.

도 1은 종래 플라즈마 제트 소스의 구성을 보여주는 단면도이다.
도 2(a)는 본 발명에 따른 플렉서블 플라즈마 제트 소스의 구성을 보여주는 단면도이다.
도 2(b)는 본 발명에 따른 플라즈마 제트 소스의 구성을 보여주는 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 플라즈마 제트 소스의 구현동작을 보여주는 사진이다.
도 4는 본 발명의 여드름 치료기에 의해 여드름균을 처리하는 시간에 따라 변화된 균주의 잔존량에 대한 그래프이다.
도 5는 본 발명의 여드름 치료기에 의해 여드름균의 내부와 외부에서 생성된 ROS의 양을 처리하는 시간에 따라 확인한 그래프이다.
도 6는 본 발명에 따른 여드름 치료기에 의해 처리된 여드름균에 대한 형광현미경 사진이다.
도 7은 본 발명에 따른 여드름 치료기에 의해 처리된 여드름균에 대한 SEM 사진이다.
도 8은 본 발명의 여드름 치료기로부터 생성되는 래디칼에 대한 스펙트럼이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 2(a)는 본 발명에 따른 플렉서블 플라즈마 제트 소스의 구성을 나타낸다.

내부전극(100)은 속이 빈 원통형이며 바닥면이 유전체(250)로 형성되어 밀봉되어있는 방전관(200) 안에 넣어진다. 상기 방전관(200)은 유전체 호스(300)에 조립되며 유전체 호스(300)는 가스 유입을 위한 브랜치(400)를 구비한다. 내부전극(100)에는 교류 전원이 인가되어 플라즈마 방전에 필요한 전력을 공급한다. 비활성 기체의 주입과 전력인가에 의해 유전체(250)표면에서 방전이 일어나 생성된 플로팅된 플라즈마는 브랜치(400)를 통해 유입되는 비활성 기체에 의해 유전체 호스(300)를 통해 아래로 이동한다. 그에 따라 유전체 호스(300) 단부에서 플라즈마가 방출되어 호스(300) 단부 아래 놓인 피 처리물에 플라즈마 처리가 이루어질 수 있다. 유전체 호스(300)는 플렉서블한 소재로 구성되므로 인체에 대한 접근성이 좋으며 특히, 인체 내에 유전체 호스(300)를 삽입하여 치료나 처치를 요하는 인체 내 조직에 플라즈마 처리를 실시할 수 있게 된다.

상기와 같은 플라즈마 제트 소스는 전극(100)에서 발열이 있어도 전극에 형성된 냉각홀(150)로 외부공기를 순환시켜서 방전관(200) 내부의 열을 방열할 수 있고 또한, 브랜치(400)에서 공급된 비활성 기체에 의해 유전체호스(300) 내부의 플라즈마의 열 또한 자연스럽게 방열되어 플라즈마 처리되는 피 처리물에는 열 손상 문제가 없다.

한편, 상기 브랜치(400)는 N₂, Ar, Ne, He 등의 비활성 가스를 주입하는 가스 유입구로 작용한다. 이러한 브랜치(400)가 호스(300) 본체와 접하는 단부의 위치 설정은 기술적으로 중요한 의미를 지닌다. 즉, 브랜치(400)가 시작되는 지점은 플라즈마가 발생하는 유전체(250)표면보다 후단일 것을 요한다. 그렇지 않을 경우, 플라즈마 전하가 다량으로 발생될 뿐만 아니라 전하가 집중되어 인체 감전 위험이 있기 때문이다. 실제로, 브랜치(400) 시작지점은 방전관(200) 바닥면으로부터 1 내지 3 cm 정도 떨어진 곳에 두는 것이 바람직하다.

이러한 브랜치(400) 위치 설정의 원인은 다음과 같이 설명될 수 있다.

유전체(250)표면에서 방전된 플라즈마는 브랜치(400)에서 유입되는 가스 흐름을 따라 유전체 호스(300) 아래로 이동된다. 따라서 유입된 가스는 내부 전극(100)에서 가까운 유전체(250) 표면에서 플로팅된 플라즈마를 생성하고 전극(100)으로부터 멀리 떨어질수록 단순히 운반자 역할을 하게 된다. 따라서 전극(100) 근처 방전단 또는 그 전단에서 브랜치(400)가 시작되면 브랜치(400)에서 유입된 가스가 플라즈마 방전 가스로 작용하여 과다한 하전량을 가지게 된다. 인체는 도전체이므로 플라즈마 전하와 전기적으로 상호작용(플라즈마 전하를 끌어당김)하게 되어 과다한 하전량은 결국 인체에 감전 위험으로 작용하게 된다.

상기 플라즈마 제트 소스의 원통형 전극(100)은 내경이 1 내지 5 mm인 속이 빈 기둥형이며, 전극(100) 끝은 유전체(250)의 내부 표면에 접촉시키는 것이 바람직하다.

본 실시예에서, 방전관(200)의 벽면은 두께가 1 mm 내외로 하였고, 그 유전체(250)는 좀 더 두껍게 구성하였다. 즉, 유전체(250) 두께는 2 내지 3mm로 하였으며, 이는 플라즈마 방전에 유리하고 감전위험성을 감소시킬 수 있다.

유전체 호스(300)의 경우, 본 실시예에서는 실리콘 고무를 사용하였다. 그러나 이에 한정되지 않는다. 내시경에 적용될 경우 호스(300)의 길이는 인가 전압과 상관이 있으며, 본 실시예는 30cm 길이의 호스(300)를 통해 방사되는 플라즈마 제트의 효용성을 확인하였다.

유전체 방전관(200) 유전율과 방전관(200) 바닥면의 두께 및 인가전압은 서로 조합적으로 제어되어 플라즈마 방전의 원활함과 감전 방지를 동시에 최적화시킬 수 있다. 본 실시예는 유전율ε=5.0 내외의 것으로 택하였으며, 유리, 석영, 세라믹 등으로 구성될 수 있다.

상기 유전체(250) 유전율이 클수록 감전 위험 및 방열이 적어 인가전력을 키워 방전 효율을 높일 수 있고, 유전체(250)의 두께는 mm 수준에서 두꺼울수록 같은 효과를 낼 수 있다.

본 실시예는, 유전체(250) 두께는 2 내지 3mm, 방전관 유전율ε=5.0 일 때 교류전압 1 내지 3kV로 인가하였다. 이때 실리콘 고무 호스 길이는 30cm였고 그 단부에서 방사되는 플라즈마 제트 소스로 페트리 접시에 놓인 생체시료 처리를 실시할 수 있었다. 상기 치수는 예시적이며, 필요에 따라 변경될 수 있으나 생체 대상 시술에 대해 최적화된 상태이다. 호스의 플렉서블한 정도 또한 취급에 편리한 정도의 것으로 택할 수 있으며, 단부에 좀 더 단단한 유전체 캡을 구비하여 취급의 편리성을 더할 수 있다.

또한, 도 2(b)과 같은 대기압 플라즈마를 방전시키는 플라즈마 제트를 이용하여 여드름균을 처리할 수 있다.

도 2(b)을 보면, 속이 빈 내부 전극(110)과 이에 대응하는 외부 전극(120) 그리고 내부전극(110)을 둘러싸는 석영관(130)이 나타나있다. 석영관(130)은 세라믹이나 폴리머 계열의 유전체 관으로 대체될 수 있다.

속이 빈 내부 전극(110)을 통해 방전 가스를 주입 및 공급할 수 있다. 외부전극(120)은 공기 중에 노출되며, 일종의 케이스 역할을 겸한다. 석영관(130)은 유전체로서 외부전극(120)과 내부전극(110) 사이의 단락을 막고 오 방전이나 아크 방전을 막아 안정적인 방전이 일어나게 한다. 외부전극(120) 안쪽에는 다공성 세라믹, 예를 들면 알루미나(Al₂O₃)와 같은 금속산화물로 된 유전체 물질을 채워 버퍼(140)로 활용되며, 버퍼(140)는 플라즈마 방전시 발열이 있게 되면 열을 흡수하여 상온 플라즈마를 만든다. 이러한 플라즈마 제트 소스를 이용하여 여드름균을 처리할 수 있다.

다음은, 상기의 플로팅 플라즈마 제트 소스를 이용하여 여드름균에 대한 사멸 실험 실시결과에 대해 설명한다. 본 발명의 플로팅 플라즈마 제트 소스에 의한 여드름균 사멸시험은 세포 열 손상 및 감전 위험성 없이 원하는 실험 결과를 얻을 수 있다.

페트리 접시에 여드름균(Propionibacterium acnes)을 인체의 체온 수준의 온도에서 3 내지 5일 동안 배양하여 준비한다. 여드름균의 배양방법은 알려진 바에 따라 실시될 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다. 잘 배양된 여드름균은 마치 필름과 같은 상태를 이루며 이를 바이오필름이라 부른다. 이러한 바이오필름 시료에 플로팅 플라즈마 제트 소스를 동작시켜 10 내지 600초에 이르기까지 플라즈마 처리하였다. 동작 전압은 25kHz 주파수로 2.24kV, 전류는 1.08mA 였고, 아르곤 가스를 1 lpm으로 흘려주었다. 한편, 도 8에는 여드름균 실험에 적용하기 위한 또 다른 형태의 플라즈마 소스 구성이 나타나 있다. 도 2(a) 또는 도 2(b)의 플라즈마 제트 소스는 제트형 플라즈마가 생성되도록 구성된 플라즈마 소스이다. 내부 전극을 바늘형으로 구성하고 이를 둘러싸는 외부 전극을 구성하고, 내부 전극과 외부전극 사이에 석영관으로 절연하며, 외부 전극 단부에 접지를 형성한다. 외부전극 상단에는 일종의 하우징을 두고 여기에 가스 인렛을 두었다.

상기 고리형 플라즈마 소스는, 동작 전압 25kHz 주파수로 3.0kV를 인가하였고, 아르곤 가스를 1 lpm으로 흘려주었다. 고리형 플라즈마의 경우, 박테리아 사멸에 시간이 좀 더 길어질 필요가 있어 60초 내지 1800초까지 처리하였다.

플라즈마 처리 결과는 도 4 내지 도 7에 도시되어 있으며, 플라즈마 제트 소스(도 2(a) 또는 도 2(b))에 의한 결과가 표시되어 있다. 전반적으로 플라즈마 제트에 의한 처리는 좋은 치료 결과를 나타내었다.

이하, 플라즈마 제트에 의한 결과에 대해 상세히 설명한다.

도 4와 같이 180초 경과에서부터 여드름균 양이 현저히 줄어들기 시작하여 300초에서는 상당량이 감소 된 것을 확인할 수 있고, 600초 경과시점에서는 완전히 사멸되었다.

세포 내/외에서 플라즈마 처리에 따른 ROS (Reactive Oxygen Species) 값은 도 5의 그래프에서도 명확히 알 수 있다. 여기에서도 600초 정도의 플라즈마 처리로써 세포 내 ROS 값은 거의 0에 근접하였다. 이것은 플라즈마 처리에 의해 여드름균이 완전히 사멸되어서 ROS가 발생되지 않는 것을 의미한다.

이러한 플라즈마 처리에 따른 여드름균의 사멸효과는 도 6의 현미경 사진에서도 확인할 수 있다. 도 6은 형광 처리된 현미경 사진으로, 초기 배지와 일반 가스 처리시 붉게 보이는 것은 여드름균의 존재를 나타낸다. 플라즈마를 300초 처리, 600초 처리한 경우 검은 색으로 보이는 영역이 나타나며, 이는 여드름균의 사멸을 뜻한다.

도 7은 여드름균 바이오필름에 대한 SEM 사진이다. 플라즈마 처리 전 상태는 여드름균 개체의 형태가 뚜렷하나, 플라즈마 처리 후, 여드름균 개체는 그 수가 감소하며, 잔존하는 것의 형태도 변형되어 있는 것(300초 처리 및 600초 처리시 사진)을 확인할 수 있다.

본 발명자는, 여드름균에 처리한 플라즈마 자체에 대해 발광 스펙트럼을 조사하여 상기와 같은 여드름균 살균력에 영향을 미치는 래디칼이 무엇인지 분석하였다. 그 결과 도 8과 같은 발광스펙트럼을 얻었으며, 플라즈마 제트 소스에서 방출되는 플라즈마는 OH-, O-, O₂ ⁺-, N-, N₂ ⁺-, N₂-래디칼을 생성하는 것이 확인되었다.

따라서 플라즈마 제트 소스로부터 방출된 플라즈마가 상기와 같이 활성이 높은 래디칼들을 다수 생성함으로써, 박테리아에 다량의 활성산소를 만들고, 다량의 활성산소가 여드름균을 파괴하여 사멸시키는 것으로 보인다. 따라서 여드름 치료 시간의 단축 등을 위해, 방전 가스를 선택함에 있어 상기 래디칼을 더욱 많이 생성할 수 있는 것을 택할 수 있다. 예를 들면, 수증기, 산소, 질소와 같은 분자 기체를 비활성 가스에 비해 좀 더 고농도로 공급하는 것이다.

상기 실험을 통해, 플라즈마 제트 소스는 그 자체로 효과가 우수한 여드름 치료기가 될 수 있음을 알 수 있다. 특히, 플라즈마 제트를 300 내지 600초 조사하는 것으로 여드름의 원인이 되는 여드름균을 완전히 사멸시킬 수 있어, 단시간에 치료효과를 거둘 수 있다. 또한, 플라즈마의 발생단면이 니들 전극의 내부 직경에 의해 조절될 수 있어, 개개의 여드름 부위에 개별 처리하게 구성하거나, 좀 더 넓은 면적으로 처리하게 구성할 수 있다.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.

10, 100, 110: 내부전극
120: 외부전극
140: 버퍼
150: 방열홀
20, 200: 방전관
250: 유전체
300: 호스
400: 브랜치
30, 130: 석영관
40: 버퍼

Claims

한쪽이 유전체로 막혀있는 속이 빈 유리관;
상기 방전관 안에 넣어 진 냉각홀이 있는 원통형 전극; 및
상기 방전관에 결합 되는 플렉서블 유전체 호스;를 포함하고,
상기 유전체 호스에 브랜치;를 형성하여 브랜치를 통해 플라즈마 캐리어 가스를 공급하여 플렉서블 호스의 단부에서 플라즈마 제트가 방사되어 피 처리물에 플라즈마 처리할 수 있게 구성한 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항에 있어서, 상기 방전관은 속이 비되, 냉각홀이 구비되어 막혀 있는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제2항에 있어서, 상기 원통형 전극은 상기 방전관 바닥면에 접촉되게 배치되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항에 있어서, 교류 전원의 X전극이 내부전극에 인가되고, Y전극은 접지되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항에 있어서, 상기 브랜치와 호스 본체 접합부는 플라즈마 방전 단 후단에 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항에 있어서, 상기 호스의 유전율, 유전체의 두께 및 인가 전력을 조절하여, 방전되는 플라즈마에 의한 감전 방지 최적화를 이루는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항에 있어서, 상기 방전관은 유리, 석영 또는 세라믹으로 구성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
속이 빈 내부 전극;
상기 내부전극을 둘러싸는 절연체 관;
상기 절연체 관을 둘러싸며 절연체 관 외측에 배치되는 외부전극; 및
상기 외부전극과 내부전극 사이를 채우는 다공성 세라믹 버퍼;를 포함하여,
상기 내부전극을 통해 플라즈마 방전용 가스를 주입하고, 상기 내부전극과 외부전극 사이에 전압을 인가하여 방전되는 플라즈마로 여드름균을 처리하며,
상기 버퍼를 통해 열을 흡수되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 여드름 치료기 운용방법으로서, 상기 캐리어 가스는 비활성 가스, 질소, 산소, 수증기 또는 공기 중 하나 이상을 사용하고, 인가전압은 20 내지 60kHz의 교류전압으로 2 내지 5kV로 하고, 여드름균에 대한 처리시간은 200 내지 600초로 동작시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기의 운용방법.
제9항에 있어서, 플라즈마 제트를 발생시켜, OH-, O-, O₂ ⁺-, N-, N₂ ⁺-, N₂-래디칼 중 하나 이상의 래디칼을 생성하여 여드름균에 상기 래디칼을 작용시킴으로써 여드름균 내부에 활성산소를 생성하여 여드름균이 사멸되게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제트 소스로 된 여드름 치료기의 운용방법.