KR20150136781A - 마이크로파 가열 장치 및 마이크로파 가열 장치의 제어 방법 - Google Patents

마이크로파 가열 장치 및 마이크로파 가열 장치의 제어 방법 Download PDF

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Abstract

마이크로파 가열 장치 및 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 개시한다. 단일의 마이크로파 발생기를 이용하여 마이크로파를 발생시키되, 이 마이크로파를 복수의 마이크로파 변환부로 분배하고 마이크로파의 특성을 필요에 따라 다양하게 변환할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다. 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와; 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와; 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함한다.

Description

마이크로파 가열 장치 및 마이크로파 가열 장치의 제어 방법{HIGHT FREQUENCY HEATING APPARATUS AND METHOD OF CONTROLLING HIGHT FREQUENCY HEATING APPARATUS}
마이크로파 가열 장치에 관한 것으로, 마이크로파를 발생시켜서 피 가열물을 가열하기 위한 장치에 관한 것이다.
마이크로파 가열 장치는 마이크로파 발생기를 통해 마이크로파를 발생시켜서 피 가열물을 가열하는 장치이다. 대표적인 마이크로파 가열 장치는 마그네트론을 통해 마이크로파를 발생시키는 장치를 예로 들 수 있다. 마그네트론 방식의 마이크로파 가열 장치는, 대량의 곡물 등을 건조시키기 위한 산업용 장치와 조리물을 해동하거나 조리하기 위한 가전기기 형태의 것 등 다양한 종류가 존재한다.
이와 같은 마이크로파 가열 장치 중 전자레인지는 마그네트론에서 발생하는 마이크로파를 조리물에 조사함으로써 조리물에 함유된 물분자의 병진 운동에 따른 마찰열을 이용하여 조리물을 조리하는 장치이다. 또한 마이크로파 가열 장치는 농작물을 가열하여 건조시키기 위한 건조 장치로도 사용될 수 있다.
이처럼 마이크로파 가열 장치는 가열실 내부에 마이크로파를 조사함으로써 가열실 내부에 위치한 피 가열물을 가열한다. 피 가열물은 조리하고자 하는 조리물이나 건조시키고자 하는 농작물, 그 밖의 다양한 열 처리 대상일 수 있다. 이처럼 다양한 종류의 피 가열물 각각은 서로 다른 특성의 마이크로파를 필요로 할 수 있다. 이와 같은 피 가열물의 종류에 따른 서로 다른 형태의 마이크로파를 조사하기 위해 기존에는 복수의 마이크로파 발생기를 이용하는데, 이 경우 복수의 마이크로파 발생기의 구비에 따른 마이크로파 가열 장치의 크기 증가와 생산 원가의 상승이 초래되어 효율과 비용 측면에서 불합리한 측면이 있다.
일 측면에 따르면, 단일의 마이크로파 발생기를 이용하여 마이크로파를 발생시키되, 이 마이크로파를 복수의 마이크로파 변환부로 분배하고 마이크로파의 특성을 필요에 따라 다양하게 변환할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와; 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와; 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성의 변환은 마이크로파의 위상이 변화하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성을 변환할 때 마이크로파의 주파수를 고정시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파의 변환이 이루어지도록 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고; 제어부가 회전체를 제어하여 마이크로파의 특성을 변환시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 회전체의 제어는 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 웨이브 가이드의 일단에 마이크로파 발생부가 마련되고; 웨이브 가이드의 타단에 마이크로파 변환부가 마련된다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 또 다른 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와; 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와; 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와; 가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부와; 제 1 전력 검출부의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 제어부는, 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 검출된 전력의 부족을 보상하도록 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성의 변환은 마이크로파의 위상이 변화하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성을 변환할 때 마이크로파의 주파수를 고정시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 변환이 이루어지도록 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고; 제어부가 회전체를 제어하여 마이크로파의 특성을 변환시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 회전체의 제어는 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 웨이브 가이드의 일단에 마이크로파 발생부가 마련되고; 웨이브 가이드의 타단에 마이크로파 변환부가 마련된다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 또 다른 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와; 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와; 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와; 가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하기 위한 피 가열물 검출부와; 피 가열물 검출부의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 피 가열물 검출부는 가열실 내부의 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하기 위한 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성의 변환은 마이크로파의 위상이 변화하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성을 변환할 때 마이크로파의 주파수를 고정시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파의 변환이 이루어지도록 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고; 제어부가 회전체를 제어하여 마이크로파의 특성을 변환시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 회전체의 제어는 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 웨이브 가이드의 일단에 마이크로파 발생부가 마련되고; 웨이브 가이드의 타단에 마이크로파 변환부가 마련된다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 또 다른 마이크로파 가열 장치는, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와; 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와; 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와; 가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부와; 가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하기 위한 피 가열물 검출부와; 제 1 전력 검출부의 검출 결과 및 피 가열물 검출부의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 제어부는, 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 검출된 전력의 부족을 보상하도록 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 피 가열물 검출부는 가열실 내부의 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하기 위한 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성의 변환은 마이크로파의 위상이 변화하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 특성을 변환할 때 마이크로파의 주파수를 고정시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파의 변환이 이루어지도록 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고; 제어부가 회전체를 제어하여 마이크로파의 특성을 변환시킨다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 회전체의 제어는 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치에서, 웨이브 가이드의 일단에 마이크로파 발생부가 마련되고; 웨이브 가이드의 타단에 마이크로파 변환부가 마련된다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법은, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서, 마이크로파를 발생시키도록 단일의 마이크로파 발생기를 제어하고; 마이크로파의 변환이 이루어지도록 복수의 마이크로파 변환부를 제어한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서, 마이크로파의 특성의 변환은 마이크로파의 위상이 변화하는 것이다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서,
마이크로파의 특성을 변환할 때 마이크로파의 주파수를 고정시킨다. 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 마이크로파 가열 장치의 또 다른 제어 방법은, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서, 가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하고; 마이크로파의 전력의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서, 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 검출된 전력의 부족을 보상하도록 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 마이크로파 가열 장치의 또 다른 제어 방법은, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서, 가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하고; 피 가열물의 상태의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서, 피 가열물 검출부를 이용하여 가열실 내부의 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 마이크로파 가열 장치의 또 다른 제어 방법은, 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 웨이브 가이드에 의해 분배되는 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서, 가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하고; 가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하며; 마이크로파의 전력의 검출 결과 및 피 가열물의 상태의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 마이크로파의 특성이 가변되도록 한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서, 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 검출된 전력의 부족을 보상하도록 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어한다.
또한, 상술한 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에서, 피 가열물 검출부를 이용하여 가열실 내부의 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출한다.
일 측면에 따르면, 단일의 마이크로파 발생기를 이용하여 마이크로파를 발생시키되, 이 마이크로파를 복수의 마이크로파 변환부로 분배하고 마이크로파의 특성을 필요에 따라 다양하게 변환할 수 있도록 함으로써, 단일의 마이크로파 발생기의 채용에 따른 마이크로파 가열 장치의 크기 감소 효과 및 생산 원가 절감 효과를 얻을 수 있고, 또 피 가열물의 효율적인 가열이 이루어질 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 전장실의 구조를 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 웨이브 가이드의 구조를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 또 다른 웨이브 가이드의 실시 예들을 나타낸 도면이다.
도 5는 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 가열실 내부를 나타낸 도면이다.
도 6은 도 5에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 마이크로파 검출부 및 피 가열물 검출부의 설치 구조를 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다.
도 12는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다.
도 13은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다.
도 14는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다.
이하에서는 본 발명에 따른 실시 예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치를 나타낸 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치(1)는 전자레인지로서, 내부에 가열실(12)이 형성되는 본체(10)와, 본체(10)의 개방된 전면을 개폐하는 도어(11)를 구비한다. 본체(10)의 전면에는 마이크로파 가열 장치(1)의 각종 기능을 제어하기 위한 다수의 조작버튼 및 디스플레이 등을 포함하는 컨트롤 패널(13)이 마련된다. 가열실(12)의 측방 즉 컨트롤 패널(13)의 뒤쪽에는 전장실(도 2의 14 참조)이 마련된다.
본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)에서는 가열실(12) 내에서 피 가열물(102)을 회전시키기 위한 트레이는 설치되지 않을 수도 있다. 트레이는 피 가열물(102)을 회전시켜서 마이크로파가 피 가열물(102)에 고르게 조사되도록 하기 위한 것이다. 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)에서는 트레이를 이용하여 피 가열물(102)을 회전시키는 대신 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에서의 마이크로파의 변환을 통해 피 가열물(102)의 종류와 형태, 크기, 위치에 따라 적절한 형태의 마이크로파로 변환하여 피 가열물(102)에 조사함으로써 트레이를 이용하여 피 가열물(102)을 회전시키는 것과 동일한 효과를 얻을 수 있도록 한다.
도 2는 도 1에 나타낸 전자레인지의 전장실의 구조를 나타낸 도면이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 전장실(14)에는 마이크로파를 발생시키는 마이크로파 발생기(15)(예를 들면 마그네트론)과, 마이크로파 발생기(15)으로 고전압의 전력을 공급하여 구동하는 구동부인 고전압 트랜스포머(20)와 고전압 커패시터(21), 고전압 다이오드(22)가 각각 설치된다. 또한, 전장실(14)의 후방에는 각각의 전장품의 방열을 위한 방열 팬(16)이 설치되어 있다.
도 3은 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 웨이브 가이드의 구조를 나타낸 도면이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 가열실(12)의 상부의 독립된 공간 내에는 웨이브 가이드(302)가 마련된다. 웨이브 가이드(302)는 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파가 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에 전달될 수 있도록 마련된다. 웨이브 가이드(302)의 경로(즉 모양과 길이, 배치 등)는 마이크로파 발생기(15)와 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각의 위치에 따라 결정된다. 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각은 회전체인 스터러(Stirrer)와 스터러를 회전시키기 위한 모터를 포함할 수 있다. 스터러를 회전시키는 모터는 회전 속도와 회전 주기가 가변될 수 있다. 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치에서는 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 가변 제어하여 마이크로파의 위상을 변화시킨다. 즉, 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 발생한 고정 주파수의 마이크로파가 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에 전달되면, 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에서는 회전체(스터러)의 회전 속도 및 회전 주기의 가변 제어에 의해 마이크로파의 위상이 변환되고, 위상이 변환된 마이크로파가 가열실(12)에 조사되어 피 가열물(102)이 가열될 수 있다. 마이크로파의 위상은 피 가열물(102)의 종류와 형태, 크기, 위치에 따라 다르게 변환될 수 있다.
도 4는 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 또 다른 웨이브 가이드의 실시 예들을 나타낸 도면이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)에서는 복수의 마이크로파 변환부(304)를 다양하게 배치하고, 이와 같은 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에 마이크로파를 전송하기 위한 웨이브 가이드(302) 역시 다양한 경로를 형성하도록 마련할 수 있다.
도 4A의 경우, 두 개의 마이크로파 변환부(304)가 단일의 마이크로파 발생기(15)를 중심으로 좌우 대칭을 이루도록 배치되며, 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 두 개의 마이크로파 변환부(304) 각각에 이르도록 웨이브 가이드(304)가 마련된다. 웨이브 가이드(304)는 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파를 두 개의 마이크로파 변환부(304) 각각으로 분배하기 위한 거의 동일한 길이의 경로를 형성한다.
도 4B의 경우, 두 개의 마이크로파 변환부(304)가 단일의 마이크로파 발생기(15)로부터 각각 가까운 거리와 먼 거리에 비대칭을 이루도록 배치되며, 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 두 개의 마이크로파 변환부(304) 각각에 이르도록 웨이브 가이드(304)가 마련된다. 웨이브 가이드(304)는 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파를 두 개의 마이크로파 변환부(304) 각각으로 분배하기 위한 서로 다른 길이의 경로를 형성한다.
도 4C의 경우, 네 개의 마이크로파 변환부(304)가 단일의 마이크로파 발생기(15)를 중심으로 좌우 대칭을 이루도록 배치되며, 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 네 개의 마이크로파 변환부(304) 각각에 이르도록 웨이브 가이드(304)가 마련된다. 즉 단일의 마이크로파 발생부(15)로부터 가까운 거리에 두 개의 마이크로파 변환부(304)가 좌우 대칭을 이루도록 배치되고, 또 단일의 마이크로파 발생부(15)로부터 먼 거리에 또 다른 두 개의 마이크로파 변환부(304)가 좌우 대칭을 이루도록 배치된다. 웨이브 가이드(304)는 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파를 가까운 거리의 두 개의 마이크로파 변환부(304)와 먼 거리의 두 개의 마이크로파 변환부(304) 각각으로 분배하기 위한 경로를 형성한다.
도 4D의 경우, 세 개의 마이크로파 변환부(304)가 단일의 마이크로파 발생기(15)를 중심으로 좌우 대칭을 이루도록 배치되며, 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 세 개의 마이크로파 변환부(304) 각각에 이르도록 웨이브 가이드(304)가 마련된다. 웨이브 가이드(304)는 단일의 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파를 세 개의 마이크로파 변환부(304) 각각으로 분배하기 위한 경로를 형성한다.
본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치에서, 마이크로파 변환부(304)의 수와 위치는 도 4에 나타낸 것으로 한정되지 않고 더 많은 수의 마이크로파 변환부(304)가 더 다양한 위치에 마련될 수 있다. 또한 웨이브 가이드(302)의 경로 역시 복수의 마이크로파 변환부(304)의 수와 위치에 따라 다양한 경로를 형성할 수 있다.
도 5는 도 1에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 가열실의 내부를 나타낸 도면이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)의 가열실(12)의 내부에는 피 가열물(102)이 놓이고, 가열실(12)의 상부에 위치하는 복수의 마이크로파 변환부(304)로부터 피 가열물(102)로 마이크로파가 조사된다. 복수의 마이크로파 변환부(304)의 위치는 가열실(12)의 상부로 한정되지 않으며, 가열실(12)의 좌측과 우측, 후방의 벽면에 설치될 수도 있다. 또한 복수의 마이크로파 변환부(304)의 수 역시 두 개로 한정되지 않으며, 가열실(12)의 크기(용량) 또는 목적하는 가열 형태 등에 따라 복수의 마이크로파 변환부(304)의 수가 결정될 수 있다.
도 5에서, 가열실(12)의 우측 벽에는 피 가열물(102)의 상태를 검출하기 위한 피 가열물 검출부(502)가 설치되고, 가열실(12)의 좌측 벽에는 가열실(12) 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부(504)가 설치된다. 이와 같은 피 가열물 검출부(502) 및 제 1 전력 검출부(504)에 대해서는 도 6을 참조하여 좀 더 구체적으로 설명하고자 한다.
도 6은 도 5에 나타낸 마이크로파 가열 장치의 마이크로파 검출부 및 피 가열물 검출부의 설치 구조를 나타낸 도면이다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)의 피 가열물 검출부(502)는 가열실(12)을 한정하는 케이스(640)의 우측 면(640)의 외부에 설치된다. 케이스(640)에는 피 가열물 검출부(502)가 가열실(12) 내부의 상태를 검출할 수 있도록 하기 위한 검출구(642)가 마련된다. 피 가열물 검출부(502)는 검출구(642)를 통해 조리실(12) 내부의 피 가열물(102)의 상태를 검출할 수 있도록 검출구(642) 주위에 설치된다. 피 가열물 검출부(502)는 스크류 등의 체결 부재에 의해 케이스(640)에 고정될 수 있다. 피 가열물 검출부(502)는 카메라, 적외선 센서, 3D 스캐너 등으로 구현될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치(1)의 제 1 전력 검출부(504) 역시 가열실(12)을 한정하는 케이스(640)의 좌측 면(650)의 외부에 설치된다. 케이스(640)에는 제 1 전력 검출부(504)가 가열실(12) 내부의 전력을 검출할 수 있도록 하기 위한 검출구(652)가 마련된다. 제 1 전력 검출부(504)는 검출구(652)를 통해 조리실(12) 내부의 전력을 검출할 수 있도록 검출구(652) 주위에 설치된다. 제 1 전력 검출부(504)는 스크류 등의 체결 부재에 의해 케이스(640)에 고정될 수 있다.
도 6에서, 피 가열물 검출부(502) 및 제 1 전력 검출부(504)의 설치 위치는 가열실(12)의 우측 벽과 좌측 벽에 한정되지 않으며, 피 가열물(102)의 상태를 검출할 수 있거나 또는 가열실(12)의 내부의 전력을 검출할 수 있는 다른 위치(예를 들면 후방, 상부, 바닥)에 설치될 수도 있다.
도 7은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다. 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치는 앞서 설명한 도 1 내지 도 6의 마이크로파 가열 장치(1)를 기반으로 구현될 수 있다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파는 웨이브 가이드(302)에 의해 분배되어 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달된다. 마이크로파 가열 장치(1)의 동작 전반을 제어하는 제어부(708)는 마이크로파 발생기(15)를 제어하여 마이크로파가 발생하도록 한다. 또한 제어부(708)는 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변화하도록 한다. 이와 같은 제어부(708)의 제어에 의해 이루어지는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 도 8을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 8은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 제어부(708)는 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령을 수신한다(802). 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령의 수신은, 사용자가 컨트롤 패널(13)을 통해 목적하는 가열 형태 및/또는 가열 시간 등을 설정하는 것을 포함할 수 있다. 제어부(708)는, 수신된 운전 명령에 따라 마이크로파 발생기(15) 및 마이크로파 변환부(304)의 운전을 시작한다(804).
제어부(708)는, 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변환되도록 한다(812). 즉, 제어부(708)는 피 가열물(102)을 목적하는 수준으로 가열하는데 필요한 마이크로파의 출력과 위상 등을 판단하고, 마이크로파 발생기(15)의 출력을 제어하고 또 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각을 제어하여 목적하는 위상의 마이크로파가 가열실(102)의 내부로 조사되도록 한다. 마이크로파의 위상 변환은 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각의 회전체의 회전 속도 및 회전 주기의 가변 제어를 통해 이루어진다.
가열실(12)의 내부에 있는 피 가열물(102)의 가열이 완료되면(814의 ‘예’), 제어부(708)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 모두 종료한다(816). 만약 피 가열물(102)의 가열이 완료되지 않으면(814의 ‘아니오’), 제어부(708)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 계속한다.
도 9은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다. 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치는 앞서 설명한 도 1 내지 도 6의 마이크로파 가열 장치(1)를 기반으로 구현될 수 있다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파는 웨이브 가이드(302)에 의해 분배되어 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달된다. 웨이브 가이드(302)의 타단에 마련되는 복수의 제 2 전력 검출부(306)는 마이크로파 발생부(15)에서 발생하여 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에 전달되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 것이다. 앞서 도 5의 설명에서 가열실(12)의 내부의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부(504)에 대해 설명한 바 있다. 제 1 전력 검출부(504)가 가열실(12)의 내부의 전력을 검출하는 것과 달리, 제 2 전력 검출부(306)는 마이크로파 발생기(15)에서 발생하여 복수의 마이크로파 변환부(304)에 의해 변환되기 전의 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 것이다. 마이크로파 가열 장치(1)의 동작 전반을 제어하는 제어부(908)는 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력과 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력의 차(差)를 구하고, 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력이 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력에 이르지 못하면 가열실(12)의 내부의 전력의 부족분을 보상하도록 마이크로파 변환부(304)를 제어한다. 여기서 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력은 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력의 부족분의 보상을 결정하기 위한 기준 전력이 될 수 있다.
도 9에서, 제어부(908)는 마이크로파 발생기(15)를 제어하여 마이크로파가 발생하도록 한다. 또한 제어부(908)는 제 1 전력 검출부(504) 및 복수의 제 2 전력 검출부(306)를 통해 가열실(12)의 내부의 전력 및 마이크로파 발생기(15)의 출력 전력을 검출한다. 또한 제어부(908)는 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변화하도록 한다. 이와 같은 제어부(908)의 제어에 의해 이루어지는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 도 10을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 10은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 제어부(908)는 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령을 수신한다(1002). 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령의 수신은, 사용자가 컨트롤 패널(13)을 통해 목적하는 가열 형태 및/또는 가열 시간 등을 설정하는 것을 포함할 수 있다. 제어부(908)는, 수신된 운전 명령에 따라 마이크로파 발생기(15) 및 마이크로파 변환부(304)의 운전을 시작한다(1004).
마이크로파 발생기(15)에서 발생한 마이크로파가 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달되어 가열실(12)에 조사되는 동안, 제어부(908)는 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파의 전력을 검출하고(1006), 또 가열실(12)의 내부의 전력을 검출한다(1008). 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파의 전력의 검출은 앞서 설명한 제 2 전력 검출부(306)에 의해 이루어지고, 가열실(12)의 내부의 전력의 검출은 앞서 설명한 제 1 전력 검출부(504)를 통해 이루어진다.
제어부(908)는, 제 1 전력 검출부(504)의 전력 검출 결과와 제 2 전력 검출부(306)의 전력 검출 결과 가운데 적어도 하나의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변환되도록 한다(1012). 즉, 제어부(908)는 피 가열물(102)을 목적하는 수준으로 가열하는데 필요한 마이크로파의 출력과 위상 등을 판단하고, 마이크로파 발생기(15)의 출력을 제어하고 또 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각을 제어하여 목적하는 위상의 마이크로파가 가열실(102)의 내부로 조사되도록 한다. 마이크로파의 위상 변환은 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각의 회전체의 회전 속도 및 회전 주기의 가변 제어를 통해 이루어진다.
가열실(12)의 내부에 있는 피 가열물(102)의 가열이 완료되면(1014의 ‘예’), 제어부(908)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 모두 종료한다(1016). 만약 피 가열물(102)의 가열이 완료되지 않으면(1014의 ‘아니오’), 제어부(908)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 계속한다.
도 11은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다. 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치는 앞서 설명한 도 1 내지 도 6의 마이크로파 가열 장치(1)를 기반으로 구현될 수 있다.
도 11에 나타낸 바와 같이, 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파는 웨이브 가이드(302)에 의해 분배되어 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달된다.
도 11에서, 제어부(1108)는 마이크로파 발생기(15)를 제어하여 마이크로파가 발생하도록 한다. 또한 제어부(1108)는 피 가열물 검출부(502)를 통해 가열실(12)의 내부에 위치한 피 가열물(102)의 상태를 검출한다. 또한 제어부(1108)는 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변화하도록 한다. 이와 같은 제어부(1108)의 제어에 의해 이루어지는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 도 12를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 12는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다. 도 12에 나타낸 바와 같이, 제어부(1108)는 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령을 수신한다(1202). 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령의 수신은, 사용자가 컨트롤 패널(13)을 통해 목적하는 가열 형태 및/또는 가열 시간 등을 설정하는 것을 포함할 수 있다. 제어부(1108)는, 수신된 운전 명령에 따라 마이크로파 발생기(15) 및 마이크로파 변환부(304)의 운전을 시작한다(1204).
마이크로파 발생기(15)에서 발생한 마이크로파가 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달되어 가열실(12)에 조사되는 동안, 제어부(1108)는 가열실(12)의 내부에 위치한 피 가열물(102)의 상태를 검출한다(1210). 피 가열물(102)의 상태의 검출은 앞서 설명한 피 가열물 검출부(502)에 의해 이루어진다.
제어부(1108)는, 피 가열물 검출부(502)의 피 가열물 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변환되도록 한다(1212). 즉, 제어부(1108)는 피 가열물(102)을 목적하는 수준으로 가열하는데 필요한 마이크로파의 출력과 위상 등을 판단하고, 마이크로파 발생기(15)의 출력을 제어하고 또 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각을 제어하여 목적하는 위상의 마이크로파가 가열실(102)의 내부로 조사되도록 한다. 마이크로파의 위상 변환은 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각의 회전체의 회전 속도 및 회전 주기의 가변 제어를 통해 이루어진다.
가열실(12)의 내부에 있는 피 가열물(102)의 가열이 완료되면(1214의 ‘예’), 제어부(1108)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 모두 종료한다(1216). 만약 피 가열물(102)의 가열이 완료되지 않으면(1214의 ‘아니오’), 제어부(1108)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 계속한다.
도 13은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 계통을 나타낸 도면이다. 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치는 앞서 설명한 도 1 내지 도 6의 마이크로파 가열 장치(1)를 기반으로 구현될 수 있다.
도 13에 나타낸 바와 같이, 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파는 웨이브 가이드(302)에 의해 분배되어 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달된다. 웨이브 가이드(302)의 타단에 마련되는 복수의 제 2 전력 검출부(306)는 마이크로파 발생부(15)에서 발생하여 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각에 전달되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 것이다. 앞서 도 5의 설명에서 가열실(12)의 내부의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부(504)에 대해 설명한 바 있다. 제 1 전력 검출부(504)가 가열실(12)의 내부의 전력을 검출하는 것과 달리, 제 2 전력 검출부(306)는 마이크로파 발생기(15)에서 발생하여 복수의 마이크로파 변환부(304)에 의해 변환되기 전의 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 것이다. 마이크로파 가열 장치(1)의 동작 전반을 제어하는 제어부(1308)는 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력과 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력의 차(差)를 구하고, 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력이 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력에 이르지 못하면 가열실(12)의 내부의 전력의 부족분을 보상하도록 마이크로파 변환부(304)를 제어한다. 여기서 복수의 제 2 전력 검출부(306)의 검출 전력은 제 1 전력 검출부(504)의 검출 전력의 부족분의 보상을 결정하기 위한 기준 전력이 될 수 있다.
도 13에서, 제어부(1308)는 마이크로파 발생기(15)를 제어하여 마이크로파가 발생하도록 한다. 또한 제어부(1308)는 제 1 전력 검출부(504) 및 복수의 제 2 전력 검출부(306)를 통해 가열실(12)의 내부의 전력 및 마이크로파 발생기(15)의 출력 전력을 검출한다. 또한 제어부(1308)는 피 가열물 검출부(502)를 통해 가열실(12)의 내부에 위치한 피 가열물(102)의 상태를 검출한다. 또한 제어부(1308)는 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변화하도록 한다. 이와 같은 제어부(1308)의 제어에 의해 이루어지는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 도 14를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 14는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 마이크로파 가열 장치의 제어 방법을 나타낸 도면이다. 도 14에 나타낸 바와 같이, 제어부(1308)는 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령을 수신한다(1402). 마이크로파 발생기(15)의 운전 명령의 수신은, 사용자가 컨트롤 패널(13)을 통해 목적하는 가열 형태 및/또는 가열 시간 등을 설정하는 것을 포함할 수 있다. 제어부(1308)는, 수신된 운전 명령에 따라 마이크로파 발생기(15) 및 마이크로파 변환부(304)의 운전을 시작한다(1404).
마이크로파 발생기(15)에서 발생한 마이크로파가 웨이브 가이드(302)를 통해 복수의 마이크로파 변환부(304)에 전달되어 가열실(12)에 조사되는 동안, 제어부(1308)는 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파의 전력을 검출하고(1406), 또 가열실(12)의 내부의 전력을 검출한다(1408). 마이크로파 발생기(15)에서 발생하는 마이크로파의 전력의 검출은 앞서 설명한 제 2 전력 검출부(306)에 의해 이루어지고, 가열실(12)의 내부의 전력의 검출은 앞서 설명한 제 1 전력 검출부(504)를 통해 이루어진다. 또한 제어부(1308)는 가열실(12)의 내부에 위치한 피 가열물(102)의 상태를 검출한다(1410). 피 가열물(102)의 상태의 검출은 앞서 설명한 피 가열물 검출부(502)에 의해 이루어진다.
제어부(1308)는, 제 1 전력 검출부(504)의 전력 검출 결과와 제 2 전력 검출부(306)의 전력 검출 결과, 피 가열물 검출부(502)의 피 가열물 검출 결과 가운데 적어도 하나의 검출 결과에 기초하여 복수의 마이크로파 변환부(304)를 제어하여 가열실(12)에 조사되는 마이크로파의 위상이 변환되도록 한다(1412). 즉, 제어부(1308)는 피 가열물(102)을 목적하는 수준으로 가열하는데 필요한 마이크로파의 출력과 위상 등을 판단하고, 마이크로파 발생기(15)의 출력을 제어하고 또 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각을 제어하여 목적하는 위상의 마이크로파가 가열실(102)의 내부로 조사되도록 한다. 마이크로파의 위상 변환은 복수의 마이크로파 변환부(304) 각각의 회전체의 회전 속도 및 회전 주기의 가변 제어를 통해 이루어진다.
가열실(12)의 내부에 있는 피 가열물(102)의 가열이 완료되면(1414의 ‘예’), 제어부(1308)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 모두 종료한다(1416). 만약 피 가열물(102)의 가열이 완료되지 않으면(1414의 ‘아니오’), 제어부(1308)는 마이크로파 발생기(15) 및 복수의 마이크로파 변환부(304)의 운전을 계속한다.
12 : 가열실(조리실)
15 : 단일의 마이크로파 발생기(마그네트론)
102 : 피 가열물
304 : 복수의 마이크로파 변환부
306 : 제 2 전력 검출부
302 : 웨이브 가이드
502 : 피 가열물 검출부
504 : 제 1 전력 검출부

Claims (42)

  1. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와;
    상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와;
    상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성의 변환은 상기 마이크로파의 위상이 변화하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성을 변환할 때 상기 마이크로파의 주파수를 고정시키는 마이크로파 가열 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 변환이 이루어지도록 상기 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고;
    상기 제어부가 상기 회전체를 제어하여 상기 마이크로파의 특성을 변환시키는 마이크로파 가열 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 회전체의 제어는 상기 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 웨이브 가이드의 일단에 상기 마이크로파 발생부가 마련되고;
    상기 웨이브 가이드의 타단에 상기 마이크로파 변환부가 마련되는 고주파 가열 장치.
  8. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와;
    상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와;
    상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와;
    가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부와;
    상기 제 1 전력 검출부의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 제어부는,
    상기 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 상기 검출된 전력의 부족을 보상하도록 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하는 마이크로파 가열 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성의 변환은 상기 마이크로파의 위상이 변화하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성을 변환할 때 상기 마이크로파의 주파수를 고정시키는 마이크로파 가열 장치.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 변환이 이루어지도록 상기 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고;
    상기 제어부가 상기 회전체를 제어하여 상기 마이크로파의 특성을 변환시키는 마이크로파 가열 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 회전체의 제어는 상기 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  15. 제 8 항에 있어서,
    상기 웨이브 가이드의 일단에 상기 마이크로파 발생부가 마련되고;
    상기 웨이브 가이드의 타단에 상기 마이크로파 변환부가 마련되는 고주파 가열 장치.
  16. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와;
    상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와;
    상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와;
    가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하기 위한 피 가열물 검출부와;
    상기 피 가열물 검출부의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 피 가열물 검출부는 상기 가열실 내부의 상기 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하기 위한 것인 마이크로파 가열 장치.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성의 변환은 상기 마이크로파의 위상이 변화하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성을 변환할 때 상기 마이크로파의 주파수를 고정시키는 마이크로파 가열 장치.
  20. 제 16 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 변환이 이루어지도록 상기 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고;
    상기 제어부가 상기 회전체를 제어하여 상기 마이크로파의 특성을 변환시키는 마이크로파 가열 장치.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 회전체의 제어는 상기 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  23. 제 16 항에 있어서,
    상기 웨이브 가이드의 일단에 상기 마이크로파 발생부가 마련되고;
    상기 웨이브 가이드의 타단에 상기 마이크로파 변환부가 마련되는 고주파 가열 장치.
  24. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와;
    상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와;
    상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부와;
    가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하기 위한 제 1 전력 검출부와;
    가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하기 위한 피 가열물 검출부와;
    상기 제 1 전력 검출부의 검출 결과 및 상기 피 가열물 검출부의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 제어부를 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  25. 제 24 항에 있어서, 상기 제어부는,
    상기 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 상기 검출된 전력의 부족을 보상하도록 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하는 마이크로파 가열 장치.
  26. 제 24 항에 있어서,
    상기 피 가열물 검출부는 상기 가열실 내부의 상기 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하기 위한 것인 마이크로파 가열 장치.
  27. 제 24 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성의 변환은 상기 마이크로파의 위상이 변화하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성을 변환할 때 상기 마이크로파의 주파수를 고정시키는 마이크로파 가열 장치.
  29. 제 24 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 변환이 이루어지도록 상기 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 마이크로파 가열 장치.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 마이크로파 변환부가 회전체를 포함하고;
    상기 제어부가 상기 회전체를 제어하여 상기 마이크로파의 특성을 변환시키는 마이크로파 가열 장치.
  31. 제 30 항에 있어서,
    상기 회전체의 제어는 상기 회전체의 회전 속도와 회전 주기 가운데 적어도 하나를 제어하는 것인 마이크로파 가열 장치.
  32. 제 24 항에 있어서,
    상기 웨이브 가이드의 일단에 상기 마이크로파 발생부가 마련되고;
    상기 웨이브 가이드의 타단에 상기 마이크로파 변환부가 마련되는 고주파 가열 장치.
  33. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서,
    마이크로파를 발생시키도록 상기 단일의 마이크로파 발생기를 제어하고;
    상기 마이크로파의 변환이 이루어지도록 상기 복수의 마이크로파 변환부를 제어하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  34. 제 33 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성의 변환은 상기 마이크로파의 위상이 변화하는 것인 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 마이크로파의 특성을 변환할 때 상기 마이크로파의 주파수를 고정시키는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  36. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서,
    가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하고;
    상기 마이크로파의 전력의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  37. 제 36 항에 있어서,
    상기 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 상기 검출된 전력의 부족을 보상하도록 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  38. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서,
    가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하고;
    상기 피 가열물의 상태의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  39. 제 38 항에 있어서,
    상기 피 가열물 검출부를 이용하여 상기 가열실 내부의 상기 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  40. 마이크로파를 발생시키는 단일의 마이크로파 발생기와, 상기 단일의 마이크로파 발생기에서 발생하는 상기 마이크로파가 복수의 경로로 분배되도록 마련되는 웨이브 가이드와, 상기 웨이브 가이드의 각 경로마다 마련되어 상기 웨이브 가이드에 의해 분배되는 상기 마이크로파의 특성을 변환하는 복수의 마이크로파 변환부를 포함하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법에 있어서,
    가열실의 내부에 조사되는 마이크로파의 전력을 검출하고;
    가열실의 내부의 피 가열물의 상태를 검출하며;
    상기 마이크로파의 전력의 검출 결과 및 상기 피 가열물의 상태의 검출 결과에 기초하여 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하여 상기 마이크로파의 특성이 가변되도록 하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  41. 제 40 항에 있어서,
    상기 제 1 전력 검출부에 의해 검출된 전력이 미리 설정된 기준 전력보다 작을 때 상기 검출된 전력의 부족을 보상하도록 상기 복수의 마이크로파 변환부 각각을 제어하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
  42. 제 40 항에 있어서,
    상기 피 가열물 검출부를 이용하여 상기 가열실 내부의 상기 피 가열물의 크기와 모양, 위치 가운데 적어도 하나를 검출하는 마이크로파 가열 장치의 제어 방법.
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WO2023090691A1 (ko) * 2021-11-16 2023-05-25 한국전기연구원 원형 편광 마이크로파 유도가열 장치

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