KR20150114688A - 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치 - Google Patents

가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치 Download PDF

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KR20150114688A
KR20150114688A KR1020140039165A KR20140039165A KR20150114688A KR 20150114688 A KR20150114688 A KR 20150114688A KR 1020140039165 A KR1020140039165 A KR 1020140039165A KR 20140039165 A KR20140039165 A KR 20140039165A KR 20150114688 A KR20150114688 A KR 20150114688A
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laser irradiation
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KR1020140039165A
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이학영
김보현
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(주) 케이앤아이테크놀로지
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Abstract

가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치는 X-Y축 스테이지, 레이저 조사 부재 및 Z축 스테이지를 포함한다. X-Y축 스테이지는 가발 착용자의 두상 몰드를 두상 몰드를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시킨다. 레이저 조사 부재는 상기 X-Y축 스테이지의 상부에 배치되어, 상기 두상 몰드로 레이저를 조사하여 상기 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 상기 두상 몰드의 표면에 스케칭한다. Z축 스테이지는 상기 레이저 조사 부재를 Z축 방향을 따라 이동시킨다. 따라서, 레이저를 이용해서 두상 몰드의 표면에 패턴을 스케칭하게 되므로, 단시간 내에 명확한 라인, 글자, 문자 등을 두상 몰드의 표면에 스케칭할 수가 있다. 결과적으로, 가발 제작 시간이 대폭 줄어들 수가 있게 된다.

Description

가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치{THREE-DIMENSIONAL LASER SKETCHING APPARATUS FOR MANUFACTURING A WIG}
본 발명은 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 가발 착용자의 두상 몰드에 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 레이저를 이용해서 스케칭하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 가발은 착용자의 두상 형상을 3차원 두상 스캐너를 이용해서 측정하는 공정, 측정된 두상 데이터를 이용해서 두상 몰드를 제작하는 공정, 두상 몰드에 착용자에 부합하는 가발 패턴을 스케칭하는 공정, 및 두상 몰드에 머리카락을 심는 공정 등을 포함한다.
관련 기술들에 따르면, 패턴은 수성펜을 이용해서 두상 몰드의 표면에 스케칭하여 형성한다. 그러나, 수성펜을 이용하는 방식은 다음과 같은 문제점을 안고 있다. 수성펜으로 스케칭된 라인과 글자, 문자 등은 명확하지 않다. 또한, 수성펜으로 스케칭하는 속도가 너무 느리다는 문제도 있다. 아울러, 수성펜 세팅 시간 및 수성펜 마모에 따른 교체 시간이 소요된다는 문제도 있다.
본 발명은 단시간 내에 명확한 패턴을 정확하게 스케칭할 수 있는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치를 제공한다.
본 발명의 일 견지에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치는 X-Y축 스테이지, 레이저 조사 부재 및 Z축 스테이지를 포함한다. X-Y축 스테이지는 가발 착용자의 두상 몰드를 두상 몰드를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시킨다. 레이저 조사 부재는 상기 X-Y축 스테이지의 상부에 배치되어, 상기 두상 몰드로 레이저를 조사하여 상기 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 상기 두상 몰드의 표면에 스케칭한다. Z축 스테이지는 상기 레이저 조사 부재를 Z축 방향을 따라 이동시킨다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 장치는 상기 X-Y축 스테이지에 배치되어, 상기 두상 몰드를 고정하는 클램프를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 두상 몰드는 상기 X-Y축 스테이지의 상부면에 맞대어지는 편평한 하부면을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 X-Y축 스테이지는 90㎜/s 내지 100㎜/s의 이동 속도를 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 상기 두상 정보를 수신하는 제어부, 및 상기 제어부의 제어 신호에 따라 상기 두상 몰드로 상기 레이저를 조사하는 레이저 조사부를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 파선형의 패턴 스케칭을 위해 펄스형 레이저도 선택적으로 조사할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저는 CO2 레이저를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저는 3W 내지 10W의 파워를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 견지에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치는 X-Y축 스테이지, 레이저 조사 부재, 레이저 초점 렌즈 및 Z축 스테이지를 포함한다. X-Y축 스테이지는 가발 착용자의 두상 몰드를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시킨다. 레이저 조사 부재는 상기 X-Y축 스테이지의 상부에 배치되어, 상기 두상 몰드로 레이저를 조사하여 상기 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 두상 몰드의 표면에 스케칭한다. 레이저 초점 렌즈는 상기 레이저 조사 부재와 상기 X-Y축 스테이지 사이에 배치되어, 상기 레이저를 상기 두상 몰드의 표면에 집중시킨다. Z축 스테이지는 상기 레이저 초점 렌즈를 Z축 방향을 따라 이동시킨다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 장치는 상기 X-Y축 스테이지에 배치되어, 상기 두상 몰드를 고정하는 클램프를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 두상 몰드는 상기 X-Y축 스테이지의 상부면에 맞대어지는 편평한 하부면을 가질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 상기 두상 정보를 수신하는 제어부, 및 상기 제어부의 제어 신호에 따라 상기 레이저 초점 렌즈를 통해서 상기 두상 몰드로 상기 레이저를 조사하는 레이저 조사부를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 파선형의 패턴 스케칭을 위해 펄스형 레이저도 선택적으로 조사할 수 있다.
상기된 본 발명에 따르면, 레이저를 이용해서 두상 몰드의 표면에 패턴을 스케칭하게 되므로, 단시간 내에 명확한 라인, 글자, 문자 등을 두상 몰드의 표면에 스케칭할 수가 있다. 결과적으로, 가발 제작 시간이 대폭 줄어들 수가 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 장치의 X-Y축 스테이지를 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 X-Y축 스테이지에 고정되는 두상 몰드의 저면을 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 3의 두상 몰드가 도 2의 X-Y축 스테이지에 고정된 상태를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치를 나타낸 사시도이다.
도 6은 도 5의 장치의 레이저 초점 렌즈를 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 7은 레이저 조사 부재로부터 조사된 레이저의 파워에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진이다.
도 8 및 도 9는 레이저 초점 거리에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다.
도 10 및 도 11은 두상 몰드의 이동 속도에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다.
도 12는 레이저의 펄스 주파수에 따른 스케치 라인의 파선 간격 및 두께 변화를 나타낸 사진이다.
도 13 및 도 14는 충격 계수에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 장치의 X-Y축 스테이지를 확대해서 나타낸 사시도이며, 도 3은 도 2의 X-Y축 스테이지에 고정되는 두상 몰드의 저면을 나타낸 사시도이고, 도 4는 도 3의 두상 몰드가 도 2의 X-Y축 스테이지에 고정된 상태를 나타낸 사시도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치(100)는 프레임(110), X-Y축 스테이지(120), 레이저 조사 부재(130), 클램프(150) 및 Z축 스테이지(140)를 포함한다.
프레임(110)은 복수개의 바들이 서로 연결된 구조를 갖는다. 프레임(110)은 전체적으로 대략 직육면체 형상을 갖는다.
X-Y축 스테이지(120)는 프레임(110)의 저면에 이동 가능하게 배치된다. X-Y축 스테이지(120)는 두상 몰드(M)를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시킨다. 즉, X-Y축 스테이지(120)는 두상 몰드(M)를 수평 방향을 따라 이동시킨다. 본 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, X-Y축 스테이지(120)는 프레임(110)의 저면 상에 이동 가능하게 배치된 X축 스테이지 상에 Y축 스테이지가 이동 가능하게 배치된 구조를 갖는다.
도 3을 참조하면, 두상 몰드(M)는 정렬 블럭(B)을 갖는다. 정렬 블럭(B)은 두상 몰드(M)의 하부면에 형성된다. 정렬 블럭(B)은 X-Y축 스테이지(120)의 상부면에 맞대어지는 편평한 직사각형의 하부면을 갖는다.
두상 몰드(M)는 CNC 기계를 이용해서 제작된다. CNC 기계는 두상 몰드 형성용 폴리우레탄 재료를 고정하기 위한 클램프를 갖는다. 기존에는 CNC 기계의 클램프에 두상 몰드(M)를 고정시킨 상태에서 수성펜으로 패턴을 두상 몰드(M)의 표면에 스케치하였다. 반면에, 본 실시예에서는, CNC 기계에서 제작된 두상 몰드(M)는 레이저 스케칭 장치(100)로 이송된다. 따라서, 두상 몰드(M)를 X-Y축 스테이지(120)의 상부면에 CNC 기계에서의 정렬 위치와 동일한 위치에 정렬시킬 것이 요구된다.
도 4를 참조하면, 클램프(150)는 X-Y축 스테이지(120)의 측면들에 배치된다. 클램프(150)는 X-Y축 스테이지(120)의 상부면에 안치된 두상 몰드(M)의 측면들을 지지하여, 두상 몰드(M)를 견고하게 고정한다. 본 실시예에서, 클램프(150)는 나사를 조이는 방식으로 두상 몰드(M)를 지지할 수 있다. 또한, 클램프(150)는 CNC 기계의 클램프와 실질적으로 동일한 구조를 가질 수 있다. 따라서, 레이저 스케칭 장치(100)의 클램프(150)는 CNC 기계의 클램프에 따라 변경될 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 레이저 조사 부재(130)는 프레임(110)의 상부면에 설치되어 X-Y축 스테이지(120)의 상부에 위치한다. 본 실시예에서, 레이저 조사 부재(130)는 제어부(132) 및 레이저 조사부(134)를 포함한다. 제어부(132)는 가발 착용자의 두상 정보를 수신한다. 레이저 조사부(134)는 제어부(132)에서 송신된 제어 신호에 따라 레이저를 두상 몰드(M)의 표면으로 조사한다. 따라서, 라인과 글자, 문자 등과 같은 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴이 두상 몰드(M)의 표면에 스케칭된다.
본 실시예에서, 레이저 조사 부재(130)는 선형 레이저뿐만 아니라 펄스형 레이저도 조사한다. 선형 레이저는 연속적으로 이어진 라인형 패턴을 스케치한다. 펄스형 레이저는 파선형 패턴을 스케치한다.
Z축 스테이지(140)는 레이저 조사 부재(130)를 Z축 방향을 따라 이동시킨다. 즉, Z축 스테이지(140)는 레이저 조사 부재(130)를 수직 방향을 따라 이동시킨다. 이와 같이, 두상 몰드(M)는 X-Y축 스테이지(120)에 의해서 수평 방향을 따라 이동되고, 레이저 조사 부재(130)는 Z축 스테이지(140)에 의해서 수직 방향을 따라 이동되므로, 레이저 조사 부재(130)는 3차원 형상의 두상 몰드(M)의 표면에 원하는 패턴을 정확하면서 선명하게 스케칭할 수가 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치를 나타낸 사시도이고, 도 6은 도 5의 장치의 레이저 초점 렌즈를 확대해서 나타낸 사시도이다.
본 실시예에 따른 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치(100a)는 Z축 스테이지의 위치와 레이저 초점 렌즈를 더 포함한다는 점을 제외하고는 도 1의 장치(100)의 구성요소들과 실질적으로 동일한 구성요소들을 포함한다. 따라서, 동일한 구성요소들은 동일한 참조부호들로 나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 장치(100a)는 레이저 초점 렌즈(160)를 더 포함한다. 레이저 초점 렌즈(160)는 X-Y축 스테이지(120)와 레이저 조사 부재(130) 사이에 배치된다. 레이저 초점 렌즈(160)는 레이저 조사 부재(130)로부터 조사된 레이저를 X-Y축 스테이지(120) 상에 고정된 두상 몰드(M)의 표면에 집중시킨다.
Z축 스테이지(140)는 레이저 초점 렌즈(160)를 Z축 방향을 따라 이동시킨다. 즉, 본 실시예에서는, 레이저 조사 부재(130)는 프레임(110)에 고정되어 있고, 레이저 초점 렌즈(160)가 Z축 스테이지(140)에 의해 수직 방향을 따라 이동된다. Z축 스테이지(140)는 레이저 초점 렌즈(160)를 수직 방향을 따라 이동시켜서, 레이저 초점 렌즈(160)와 두상 몰드(M)의 표면까지의 거리을 일정하게 유지시킨다. 즉, 3차원 형상의 두상 몰드(M)의 표면으로부터 레이저 초점 렌즈(160)까지의 거리는 계속적으로 변화되므로, Z축 스테이지(140)가 두상 몰드(M)의 표면과 레이저 초점 렌즈(160)의 거리에 따라 레이저 초점 렌즈(160)를 선택적으로 상승 또는 하강시켜서, 레이저가 두상 몰드(M)의 표면에 정확하게 집중되도록 한다.
본 실시예에서, 레이저의 파워가 너무 크면, 폴리우레탄 재질의 두상 몰드(M)에 너무 깊은 스케치 라인이 형성될 수 있다. 또한, 레이저가 조사된 두상 몰드(M) 부위가 레이저의 열에 의해서 검게 변색될 수도 있다. 한편, Nd-Yag 레이저로는 폴리우레탄 재질의 두상 몰드(M)의 표면에 패턴을 스케치할 수가 없다. 따라서, 본 실시예의 레이저는 10W의 파워, 10.6㎛의 파장을 갖는 CO2 레이저를 포함할 수 있다.
도 7은 레이저 조사 부재(130)로부터 조사된 레이저의 파워에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진이다. 레이저 파워를 3W에서 10W까지 변화시켜 가면서 두상 몰드(M)의 표면에 형성된 스케치 라인들의 두께를 측정하였다.
도 7에 도시된 바와 같이, 레이저의 파워가 증가함에 따라 스케치 라인의 두께도 점진적으로 증가한다. 또한, 스케치 라인은 레이저의 파워가 대략 3W 정도일 때부터 육안으로 관찰될 수 있었다. 따라서, 레이저의 파워는 대략 3W 내지 10W 정도일 수 있다.
도 8 및 도 9는 레이저 초점 거리에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다. 도 8에서는 3W의 파워를 갖는 레이저가 사용되었고, 도 9에서는 6W의 파워를 갖는 레이저가 사용되었다. 또한, 설계된 레이저 초점 거리가 100㎜로 설정된 상태에서, 레이저 초점 거리를 100㎜ 내지 130㎜ 범위에서 5㎜씩 변화시키면서 스케치 라인의 두께 변화를 측정하였다.
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 레이저 초점 거리가 설계된 100㎜로부터 5㎜ 내지 10㎜ 정도 변화되어도, 스케치 라인의 두께는 크게 변화하지 않음을 알 수 있다.
도 10 및 도 11은 두상 몰드의 이동 속도에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다. 두상 몰드의 이동 속도를 50㎜/s에서 250㎜/s까지 변화시키면서 스케치 라인의 두께 변화를 측정하였다.
도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 두상 몰드의 이동 속도가 100㎜/s를 초과하면, 스케치 라인의 두께가 너무 얕아지게 된다. 반면에, 두상 몰도의 이동 속도가 90㎜/s 미만이면, 스케치 라인의 두께가 너무 깊어지게 되어, 가발의 인조 피부에 스케치 라인이 부분적으로 전사될 수 있다. 따라서, 두상 몰드의 이동 속도는 90㎜/s 내지 100㎜/s일 수 있다.
도 12는 레이저의 펄스 주파수에 따른 스케치 라인의 파선 간격 및 두께 변화를 나타낸 사진이다. 충격 계수(duty factor)를 30%로 고정한 상태에서 레이저의 펄스 주파수를 10Hz, 100Hz, 200Hz 및 500Hz로 변화시키면서 스케치 라인의 파선 간격 및 두께 변화를 측정하였다. 충격 계수는 펄스파가 얼마나 날카로운가를 나타내는 수치로, 펄스폭을 반복 주기로 나눈 값이다.
도 12에 도시된 바와 같이, 레이저의 펄스 주파수가 10Hz인 경우, 2㎜ 간격의 파선이 스케치된다. 또한, 레이저의 펄스 주파수가 100Hz 이상이면, 스케치 라인의 두께는 거의 변화되지 않는다. 따라서, 레이저의 펄스 주파수는 스케치 라인의 두께에 큰 영향을 미치지 않음을 알 수 있다.
도 13 및 도 14는 충격 계수에 따른 스케치 라인의 두께 변화를 나타낸 사진들이다. 도 13에서는 레이저의 펄스 주파수는 200Hz로 고정되고, 도 14에서는 레이저의 펄스 주파수가 100Hz로 고정된다. 충격 계수를 10% 내지 60%까지 변화시키면서 스케치 라인의 두께를 측정하였다.
도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 충격 계수가 증가할수록 스케치 라인의 두께도 증가함을 알 수 있다. 특히, 두상 몰드의 이동 속도, 레이저 파워, 레이저의 펄스 주파수보다 충격 계수의 변화에 따라 스케치 라인의 두께 변화가 상대적으로 크다는 것을 알 수 있다. 따라서, 스케치 라인의 두께는 두상 몰드의 이동 속도, 레이저 파워, 레이저의 펄스 주파수보다는 충격 계수를 조절하는 것에 의해서 보다 미세하게 조정할 수 있음을 알 수 있다.
상술한 바와 같이 본 실시예들에 의하면, 레이저를 이용해서 두상 몰드의 표면에 패턴을 스케칭하게 되므로, 단시간 내에 명확한 라인, 글자, 문자 등을 두상 몰드의 표면에 스케칭할 수가 있다. 결과적으로, 가발 제작 시간이 대폭 줄어들 수가 있게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
110 ; 프레임 120 ; X-Y축 스테이지
130 ; 레이저 조사 부재 132 ; 제어부
134 ; 레이저 조사부 140 ; Z축 스테이지
150 ; 클램프 160 ; 레이저 초점 렌즈

Claims (13)

  1. 가발 착용자의 두상 몰드를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시키는 X-Y축 스테이지;
    상기 X-Y축 스테이지의 상부에 배치되어, 상기 두상 몰드로 레이저를 조사하여 상기 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 상기 두상 몰드의 표면에 스케칭하는 레이저 조사 부재; 및
    상기 레이저 조사 부재를 Z축 방향을 따라 이동시키는 Z축 스테이지를 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 X-Y축 스테이지에 배치되어, 상기 두상 몰드를 고정하는 클램프를 더 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 두상 몰드는 상기 X-Y축 스테이지의 상부면에 맞대어지는 편평한 하부면을 갖는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 X-Y축 스테이지는 90㎜/s 내지 100㎜/s의 이동 속도를 갖는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는
    상기 두상 정보를 수신하는 제어부; 및
    상기 제어부의 제어 신호에 따라 상기 두상 몰드로 상기 레이저를 조사하는 레이저 조사부를 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 파선형의 패턴 스케칭을 위해 펄스형 레이저도 선택적으로 조사하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저는 CO2 레이저를 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저는 3W 내지 10W의 파워를 갖는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  9. 가발 착용자의 두상 몰드를 X축 방향과 Y축 방향을 따라 이동시키는 X-Y축 스테이지;
    상기 X-Y축 스테이지의 상부에 배치되어, 상기 두상 몰드로 레이저를 조사하여 상기 가발 착용자의 두상 정보에 따른 패턴을 상기 두상 몰드의 표면에 스케칭하는 레이저 조사 부재;
    상기 레이저 조사 부재와 상기 X-Y축 스테이지 사이에 배치되어, 상기 레이저를 상기 두상 몰드의 표면에 집중시키는 레이저 초점 렌즈; 및
    상기 레이저 초점 렌즈를 Z축 방향을 따라 이동시키는 Z축 스테이지를 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 X-Y축 스테이지에 배치되어, 상기 두상 몰드를 고정하는 클램프를 더 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 두상 몰드는 상기 X-Y축 스테이지의 상부면에 맞대어지는 편평한 하부면을 갖는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는
    상기 두상 정보를 수신하는 제어부; 및
    상기 제어부의 제어 신호에 따라 상기 레이저 초점 렌즈를 통해서 상기 두상 몰드로 상기 레이저를 조사하는 레이저 조사부를 포함하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 레이저 조사 부재는 파선형의 패턴 스케칭을 위해 펄스형 레이저도 선택적으로 조사하는 가발 제작용 3차원 레이저 스케칭 장치.
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