KR20150105111A - Flexible touch sensor - Google Patents

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KR20150105111A
KR20150105111A KR1020140027348A KR20140027348A KR20150105111A KR 20150105111 A KR20150105111 A KR 20150105111A KR 1020140027348 A KR1020140027348 A KR 1020140027348A KR 20140027348 A KR20140027348 A KR 20140027348A KR 20150105111 A KR20150105111 A KR 20150105111A
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금동기
손영섭
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은 플렉서블 터치 센서에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1개 이상의 접힘축을 가지는 기판의 일면에 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 포함하는 감지 패턴을 구비하고, 상기 접힘축 상의 감지 패턴은 그라펜으로 형성함으로써, 접힘축에 따라 접을 수 있어 플렉서블한 특성을 구현할 수 있는, 플렉서블 터치 센서에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible touch sensor, and more particularly, to a flexible touch sensor having a sensing pattern including a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction on one surface of a substrate having at least one folding axis, Wherein the sensing pattern on the folding axis is formed of graphene, so that it can be folded along the folding axis to realize a flexible characteristic.

Description

플렉서블 터치 센서 {FLEXIBLE TOUCH SENSOR}FLEXIBLE TOUCH SENSOR

본 발명은 플렉서블 터치 센서에 관한 것이다.
The present invention relates to a flexible touch sensor.

터치스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.The touch screen panel is an input device that allows a user to input a command by selecting an instruction displayed on a screen of a video display device or the like as a human hand or an object.

이를 위해, 터치스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen panel is provided on the front face of the image display device and converts the contact position, which is in direct contact with a human hand or an object, into an electrical signal. Thus, the instruction content selected at the contact position is accepted as the input signal.

이와 같은 터치스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen panel can be replaced with a separate input device connected to the image display device such as a keyboard and a mouse, and thus the use range thereof is gradually expanding.

터치스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.The touch screen panel is known as a resistive film type, a light sensing type, and a capacitive type. Among the capacitive touch screen panels, a conductive sensing pattern is formed when a human hand or an object is contacted, The contact position is converted into an electrical signal by detecting a change in capacitance formed with another sensing pattern or a ground electrode or the like.

이와 같은 터치스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or an organic light emitting display device and is often commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness characteristics.

또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In addition, in recent years, a flexible flat panel display has been developed, and in this case, the touch screen panel attached on the flexible flat panel display also needs a flexible characteristic.

그러나, 통상적으로 터치 스크린 패널에 터치 감지 패턴으로 ITO는 유연성이 떨어져 굽힘력을 가하면 깨지는 문제가 있어, 이로써는 플렉서블한 특성을 구현하기 어려운 문제가 있다.However, ITO usually has a problem in that the ITO has a problem of being broken when the bending force is applied because the flexibility of the ITO is low in the touch sensing pattern on the touch screen panel, which makes it difficult to realize flexible characteristics.

한국공개특허 제2011-21532호에는 터치스크린 및 터치스크린의 제조방법이 개시되어 있다.
Korean Patent Publication No. 2011-21532 discloses a method of manufacturing a touch screen and a touch screen.

한국공개특허 제2011-21532호Korea Patent Publication No. 2011-21532

본 발명은 플렉서블 터치 센서를 제공하는 것을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a flexible touch sensor.

1. 기판의 일면에 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 포함하는 감지 패턴을 구비하고,1. A touch panel comprising: a sensing pattern including a first pattern formed on a first surface of a substrate in a first direction and a second pattern formed in a second direction,

1개 이상의 접힘축을 가지며, 상기 접힘축 상의 감지 패턴은 그래핀 패턴인, 플렉서블 터치 센서.Wherein the sensing pattern on the folding axis has at least one folding axis, and the sensing pattern on the folding axis is a graphene pattern.

2. 위 1에 있어서, 상기 접힘축은 제1 방향 또는 제2 방향으로 형성된, 플렉서블 터치 센서.2. The flexible touch sensor of claim 1, wherein the folding axis is formed in a first direction or a second direction.

3. 위 1에 있어서, 상기 제2 패턴의 이격된 단위 패턴을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극을 구비한, 플렉서블 터치 센서.3. The flexible touch sensor of claim 1, further comprising a bridge electrode electrically connecting the spaced apart unit patterns of the second pattern.

4. 위 3에 있어서, 그래핀 패턴은 상기 브릿지 전극과 만나지 않는, 플렉서블 터치 센서.4. The flexible touch sensor of claim 3, wherein the graphene pattern does not meet the bridge electrode.

5. 위 1에 있어서, 상기 접힘축과 인접한 감지 패턴은 그래핀 패턴과 접하는 부위에 플라즈마 처리가 된 것인, 플렉서블 터치 센서.5. The flexible touch sensor according to item 1, wherein the sensing pattern adjacent to the folding axis is plasma-treated at a portion in contact with the graphene pattern.

6. 위 1에 있어서, 상기 그래핀 패턴은 기판과 접하는 부위에 플라즈마 처리가 된 것인, 플렉서블 터치 센서.6. The flexible touch sensor according to 1 above, wherein the graphene pattern is subjected to a plasma treatment at a portion in contact with the substrate.

7. 위 1에 있어서, 상기 접힘축과 인접한 감지 패턴과 그래핀 패턴이 접하는 부위를 덮는 접착층을 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서.7. The flexible touch sensor of claim 1, further comprising an adhesive layer covering a portion where the sensing pattern adjacent to the folding axis and the graphene pattern are in contact with each other.

8. 기판 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이음부로 연결되어 형성된 제1 패턴 및 단위 패턴이 상기 이음부를 기준으로 이격되어 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비한 감지 패턴을 형성하는 단계;8. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a sensing pattern having a first pattern formed by connecting a unit pattern in a first direction on a substrate in a first direction and a second pattern formed in a second direction spaced apart from the center of the unit pattern;

접힘축에 해당하는 부위의 감지 패턴을 식각하는 단계; 및Etching the sensing pattern at a portion corresponding to the folding axis; And

식각된 부위에 그래핀 패턴을 형성하는 단계;Forming a graphene pattern on the etched portion;

를 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.Wherein the flexible touch sensor is a flexible touch sensor.

9. 위 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴은 기재 상에 그래핀층을 형성하고 이를 상기 식각된 부위에 전사함으로써 형성되는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.9. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 8, wherein the graphene pattern is formed by forming a graphene layer on a substrate and transferring the graphene layer onto the etched portion.

10. 위 9에 있어서, 상기 전사 이전에 그래핀층의 표면을 플라즈마 처리하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.10. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 9, wherein the surface of the graphene layer is subjected to plasma treatment before the transfer.

11. 위 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴을 형성하기 전에, 접힘축과 인접한 감지 패턴의 그래핀 패턴과 접하는 부위에 플라즈마 처리를 수행하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.11. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 8, wherein before forming the graphene pattern, a plasma process is performed on a portion of the sensing pattern adjacent to the folding axis in contact with the graphene pattern.

12. 위 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴을 형성한 후에 그래핀 패턴과 이와 인접한 감지 패턴이 접하는 부위를 덮는 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.12. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 8, further comprising forming an adhesive layer covering the portion where the graphene pattern and the adjacent sensing pattern contact with after forming the graphene pattern.

13. 위 8에 있어서, 제1 패턴의 단위 패턴의 이음부 상에 절연체를 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.13. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 8, further comprising the step of forming an insulator on the joint of the unit pattern of the first pattern.

14. 위 13에 있어서, 상기 절연체 상에 제2 패턴의 단위 패턴을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.14. The method of manufacturing a flexible touch sensor according to claim 13, further comprising forming a bridge electrode electrically connecting a unit pattern of a second pattern on the insulator.

15. 위 14에 있어서, 상기 브릿지 전극의 형성시에 비표시부의 금속 배선 및 위치 검출라인을 함께 형성하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
15. The manufacturing method of a flexible touch sensor according to 14 above, wherein the metal wiring of the non-display portion and the position detection line are formed together at the time of forming the bridge electrode.

본 발명의 터치 센서는 접힘축에 따라 접을 수 있어 플렉서블한 특성을 구현할 수 있다.
The touch sensor of the present invention can be folded along the folding axis to realize a flexible characteristic.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 터치 센서의 개략적인 사시도이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 플렉서블 터치 센서의 개략적인 사시도이다.
도 3은 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 플렉서블 터치 센서의 개략적인 사시도이다.
도 4는 도 1에 도시된 플렉서블 터치 센서의 A-A' 단면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 플렉서블 터치 센서의 A-A' 단면도이다.
1 is a schematic perspective view of a flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic perspective view of a flexible touch sensor according to another embodiment of the present invention.
3 is a schematic perspective view of a flexible touch sensor according to another embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along line AA 'of the flexible touch sensor shown in FIG.
5 is a cross-sectional view taken along the line AA 'of the flexible touch sensor shown in FIG.

본 발명은 1개 이상의 접힘축을 가지는 기판의 일면에 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 포함하는 감지 패턴을 구비하고, 상기 접힘축 상의 감지 패턴은 그라펜으로 형성함으로써, 접힘축에 따라 접을 수 있어 플렉서블한 특성을 구현할 수 있는, 플렉서블 터치 센서에 관한 것이다.The present invention provides a sensor having a sensing pattern including a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction on one surface of a substrate having at least one folding axis, The present invention relates to a flexible touch sensor capable of folding along a folding axis to realize a flexible characteristic.

이하 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 터치 센서는 기판의 일면에 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 포함하는 감지 패턴을 구비하고, 1개 이상의 접힘축을 가지며, 상기 접힘축 상의 감지 패턴으로 그래핀 패턴을 갖는다.
The flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention has a sensing pattern including a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction on one surface of a substrate, the sensing pattern having one or more folding axes, It has a graphene pattern as a detection pattern on the folding axis.

기판Board

기판(1)은 특별히 한정되지 않고 플렉서블 터치 센서에 통상적으로 사용되는 소재가 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌에테르프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰산, 폴리이미드 또는 폴리아크릴레이트로 제조된 기판(1)이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The substrate 1 is not particularly limited and may be any material conventionally used for a flexible touch sensor. Examples of the substrate 1 include polyethylene terephthalate, polyethylene ether phthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, , Polyether sulfonic acid, polyimide or polyacrylate may be used, but the present invention is not limited thereto.

본 발명에 따른 기판(1)의 두께는 특별히 한정되지 않고 손상 없이 휘거나 구부릴 수 있도록 적절히 선택될 수 있으며, 그러한 측면에서 예를 들면 1 내지 150㎛일 수 있으며, 보다 바람직하게는 10 내지 50㎛일 수 있다.
The thickness of the substrate 1 according to the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected so as to be bent or bent without being damaged. In this respect, it may be, for example, 1 to 150 탆, more preferably 10 to 50 탆 Lt; / RTI >

감지 패턴Detection pattern

감지 패턴은 제1 방향으로 형성된 제1 패턴(10) 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴(20)을 구비할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern 10 formed in a first direction and a second pattern 20 formed in a second direction.

제1 패턴(10)과 제2 패턴(20)은 서로 다른 방향으로 배치된다. 예를 들면, 제1 방향은 X축 방향, 제2 방향은 이와 교차하는 Y축 방향일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first pattern 10 and the second pattern 20 are arranged in different directions. For example, the first direction may be an X axis direction, and the second direction may be a Y axis direction intersecting the first direction, but the present invention is not limited thereto.

제1 패턴(10)과 제2 패턴(20)은 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공하게 된다. 구체적으로는, 사람의 손 또는 물체가 커버 윈도우 기판에 접촉되면, 제1 패턴(10), 제2 패턴(20) 및 위치 검출라인을 경유하여 구동회로 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달된다. 그리고, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.The first pattern 10 and the second pattern 20 provide information on the X and Y coordinates of the touched point. Specifically, when a human hand or an object is brought into contact with the cover window substrate, a change in capacitance due to the contact position to the driver circuit side via the first pattern 10, the second pattern 20, do. Then, the contact position is grasped by the change of the electrostatic capacitance by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like and converted into an electrical signal.

이와 관련하여, 제1 패턴(10) 및 제2 패턴(20)은 동일층에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는 각각의 패턴들이 전기적으로 연결되어야 한다. 그런데, 제1 패턴(10)의 단위 패턴은 이음부를 통해 서로 연결된 형태이지만 제2 패턴(20)의 단위 패턴은 섬(island) 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로 제2 패턴(20)을 전기적으로 연결하기 위해서는 별도의 브릿지 전극(30)이 필요하다. 브릿지 전극(30)에 대해서는 후술하도록 한다.In this regard, the first pattern 10 and the second pattern 20 are formed on the same layer, and respective patterns must be electrically connected to detect a touched point. Since the unit patterns of the first patterns 10 are connected to each other through the joints but the unit patterns of the second patterns 20 are separated from each other in the form of islands, A separate bridge electrode 30 is required. The bridge electrode 30 will be described later.

감지 패턴의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 각각 10 내지 200nm일 수 있다. 감지 패턴의 두께가 10nm 미만이면 전기저항이 커져 터치 민감도가 저하될 수 있고, 200nm 초과이면 반사율이 커져 시인성의 문제가 생길 수 있다.The thickness of the detection pattern is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 200 nm each. When the thickness of the sensing pattern is less than 10 nm, the electrical resistance increases and the touch sensitivity may deteriorate. When the sensing pattern has a thickness exceeding 200 nm, the reflectance increases and visibility may be a problem.

감지 패턴은 당 분야에 알려진 투명 전극 소재가 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO), 금속와이어 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 인듐주석산화물(ITO)이 사용될 수 있다. 금속와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 은(Ag), 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티타늄, 텔레늄, 크롬 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern can be applied to the transparent electrode material known in the art without limitation. For example, there may be mentioned indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO) Two or more of them may be used in combination. Preferably, indium tin oxide (ITO) may be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver (Ag), gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, tellurium, chromium and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 플렉서블 터치 센서는 접힘축(100)을 통해 접힐 수 있는 플렉서블 터치 센서로서, 1개 이상의 접힘축(100)을 갖는다.The flexible touch sensor of the present invention is a flexible touch sensor that can be folded through a folding axis 100 and has one or more folding axes 100.

그래핀은 투명하고 우수한 전기 전도도를 가질 뿐만 아니라 인듐주석산화물 등과는 달리 유연한 특성을 가져 접어도 깨지지 않으므로, 접힘축(100) 상의 감지 패턴을 그래핀으로 형성하여 플렉서블한 특성을 구현할 수 있다.Since graphene has transparency and excellent electrical conductivity, and unlike indium tin oxide and the like, it has a flexible property and is not broken. Therefore, the sensing pattern on the folding shaft 100 can be formed of graphene to realize a flexible characteristic.

도 1 및 도 2에는 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 터치 센서의 개략적인 사시도가 도시되어 있다.1 and 2 are schematic perspective views of a flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention.

접힘축(100)은 제1 방향 또는 제2 방향으로 형성될 수 있고, 복수개의 접힘축(100)을 갖는 경우에는 각각의 접힘축(100)들이 평행하도록 형성된다.The folding shafts 100 may be formed in a first direction or a second direction, and when the folding shafts 100 have a plurality of folding shafts 100, the folding shafts 100 are formed to be parallel to each other.

후술할 브릿지 전극(30)이 접힘축(100) 내에 포함되어 접힘축(100)에 따라 터치 센서를 접는다면, 터치 센서를 다시 복원했을 때 브릿지 전극(30)은 복원되지 않을 수 있고, 제2 패턴(20)의 단위 패턴과의 연결 부위의 신뢰성 문제가 발생할 수 있으므로, 그래핀 패턴(50)은 브릿지 전극(30)과는 만나지 않도록 형성되는 것이 바람직하다. 그러한 측면에서 그래핀 패턴(50)의 폭은 5mm 이하일 수 있고, 바람직하게는 3 내지 4mm일 수 있다.If the bridge electrode 30 to be described later is included in the folding axis 100 and folds the touch sensor along the folding axis 100, the bridge electrode 30 may not be restored when the touch sensor is restored again, It is preferable that the graphene pattern 50 is formed not to be in contact with the bridge electrode 30 because a reliability problem of a connection portion with the unit pattern of the pattern 20 may occur. In this respect, the width of the graphene pattern 50 may be less than or equal to 5 mm, preferably between 3 and 4 mm.

접힘축(100) 상의 그래핀 패턴(50)은 접힘축(100)과 인접한 감지 패턴과 접하게 되는데, 접힘축(100)과 인접한 감지 패턴의 그래핀 패턴(50)과 접하는 부위는 플라즈마 처리가 된 것일 수 있다. 그러한 경우에 인접한 감지 패턴과 그래핀 패턴(50) 사이의 밀착력이 더욱 개선된다.The graphene pattern 50 on the folding axis 100 is brought into contact with the detection pattern adjacent to the folding axis 100. A portion of the detection pattern adjacent to the folding axis 100 in contact with the graphene pattern 50 is subjected to plasma treatment Lt; / RTI > In such a case, the adhesion between the adjacent sensing patterns and the graphene pattern 50 is further improved.

또한, 그래핀 패턴(50)은 기판(1)과 접하는 부위에 플라즈마 처리가 된 것일 수 있다. 그러한 경우에 그래핀 패턴(50)이 기판(1)과 보다 견고하게 결착될 수 있다.
In addition, the graphene pattern 50 may be subjected to a plasma treatment at a portion in contact with the substrate 1. In such a case, the graphen pattern 50 can be stuck more firmly with the substrate 1. [

브릿지bridge 전극 electrode

브릿지 전극(30)은 제2 패턴(20)의 이격된 단위 패턴을 전기적으로 연결한다.The bridge electrode 30 electrically connects the separated unit patterns of the second pattern 20.

이때, 브릿지 전극(30)은 감지 패턴 중 제1 패턴(10)과는 전기적으로 차단되어야 하므로, 이를 위해 절연체가 형성된다. 이에 대해서는 후술하도록 한다.At this time, the bridge electrode 30 must be electrically disconnected from the first pattern 10 of the sensing pattern, and thus an insulator is formed. This will be described later.

브릿지 전극(30)은 제2 패턴(20)의 상부 또는 하부에 위치할 수 있다.The bridge electrode 30 may be located above or below the second pattern 20.

도 1 및 2는 브릿지 전극(30)이 제2 패턴(20)의 상부에 위치하는 일 구현예에 따른 사시도, 도 3은 브릿지 전극(30)이 제2 패턴(20)의 하부에 위치하는 일 구현예에 따른 사시도이다.1 and 2 are perspective views according to an embodiment in which the bridge electrode 30 is located above the second pattern 20; FIG. 3 is a perspective view of the bridge electrode 30 located under the second pattern 20; Fig.

그리고, 도 4는 도 1에 도시된 플렉서블 터치 센서의 A-A' 단면도, 도 5는 도 3에 도시된 플렉서블 터치 센서의 A-A' 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line A-A 'of the flexible touch sensor shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line A-A' of the flexible touch sensor shown in FIG.

상기 도면들에 예시된 바와 같이 브릿지 전극(30)은 제2 패턴(20)의 상부 또는 하부에 위치할 수 있고, 그에 따라 감지 패턴 및 절연체(40)의 적층 순서도 당 분야에 공지된 방법에 의해 적절히 선택될 수 있다.The bridge electrode 30 may be located above or below the second pattern 20 as illustrated in the figures so that the sensing pattern and the stacking sequence of the insulator 40 may also be determined by methods known in the art Can be appropriately selected.

본 발명에 따른 브릿지 전극(30)은 금속 소재로 형성되고, 바람직하게는 비표시부의 금속 배선 및 위치 검출라인과 동일 소재로 형성된다. 그러한 경우에 금속 배선 및 위치 검출라인의 형성 시에 브릿지 전극(30)을 함께 형성할 수 있어 공정을 보다 단순화 할 수 있다.The bridge electrode 30 according to the present invention is formed of a metal material, and preferably formed of the same material as the metal wiring and the position detecting line of the non-display portion. In such a case, the bridge electrode 30 can be formed at the time of forming the metal wiring and the position detecting line, so that the process can be further simplified.

본 명세서에서 비표시부는 터치 센서를 적용한 터치 스크린 패널에서 화상이 표시되지 않는 가장자리 부위(베젤)를 의미하고, 표시부는 화상이 표시되는 부위를 의미한다. 표시부에 형성된 감지 패턴 및 브릿지 전극이 사용자의 터치 신호를 인식하고, 감지된 신호는 비표시부의 위치 검출라인을 경유하여 구동 회로 측으로 전달된다.In the present specification, the non-display portion refers to an edge portion (bezel) where an image is not displayed in a touch screen panel to which a touch sensor is applied, and the display portion refers to a portion where an image is displayed. The sensing pattern formed on the display unit and the bridge electrode recognize the touch signal of the user, and the sensed signal is transmitted to the driver circuit side via the position detection line of the non-display unit.

상기 금속은 전기 전도도가 우수하고 저항이 낮은 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The metal is not particularly limited as long as it has excellent electrical conductivity and low resistance, and examples thereof include molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin and titanium. These may be used alone or in combination of two or more.

단위 브릿지 전극(30)의 폭은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2 내지 30㎛일 수 있고, 바람직하게는 2 내지 20㎛일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 브릿지의 폭이 2㎛ 미만이면 저항이 과도하게 높아질 수 있고, 30㎛ 초과이면 패턴이 시인될 수 있다.The width of the unit bridge electrode 30 is not particularly limited and may be, for example, 2 to 30 탆, preferably 2 to 20 탆, but is not limited thereto. If the width of the bridge is less than 2 mu m, the resistance can be excessively increased, and if the width is more than 30 mu m, the pattern can be recognized.

브릿지 전극(30)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 0.1 내지 1.5㎛일 수 있고, 바람직하게는 0.1 내지 1㎛일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 브릿지의 두께가 0.1㎛ 미만이면 저항이 충분히 낮아지지 않아 터치 감도가 낮아질 수 있고, 1.5㎛ 초과이면 이후 공정시 두께 불균일을 초래할 수 있다.The thickness of the bridge electrode 30 is not particularly limited and can be, for example, 0.1 to 1.5 탆, preferably 0.1 to 1 탆, but is not limited thereto. If the thickness of the bridge is less than 0.1 탆, the resistance is not sufficiently lowered and the touch sensitivity may be lowered. If the thickness is more than 1.5 탆, thickness irregularity may occur in a subsequent process.

또한, 브릿지 전극(30)은 2종 이상의 금속을 2층 이상 적층한 형태일 수 있다. 전술한 금속 소재의 범위 내에서 2종 이상의 금속으로 2층, 3층 등의 다층의 구조로 형성될 수 있으며, 예를 들면, 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴의 3층의 구조를 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
In addition, the bridge electrode 30 may be formed by stacking two or more layers of two or more metals. Layer structure such as a two-layer structure or a three-layer structure in the range of the above-described metal material. For example, a three-layer structure of molybdenum / aluminum / molybdenum may be used. It is not.

절연체Insulator

절연체(40)는 제1 패턴(10)과 브릿지 전극(30)의 전기적 연결을 방지하기 위해서 제1 패턴(10)과 브릿지 전극(30) 사이에 형성된다.The insulator 40 is formed between the first pattern 10 and the bridge electrode 30 to prevent electrical connection between the first pattern 10 and the bridge electrode 30.

절연체(40)는 제1 패턴(10)의 단위 패턴의 이음부 상에 형성될 수 있다.The insulator 40 may be formed on the joint portion of the unit pattern of the first pattern 10.

또한, 절연체는 형성의 용이성을 위해 제1 패턴(10)의 단위 패턴의 이음부 위 뿐만 아니라, 이를 포함하는 층의 형태로 형성될 수 있다.In addition, the insulator may be formed not only on the joint portion of the unit pattern of the first pattern 10, but also in the form of a layer including it, for ease of formation.

절연체(40)가 층의 형태로 형성되는 경우, 브릿지 전극(30)이 제2 패턴(20)의 이격된 단위 패턴을 연결할 수 있도록 필요에 따라 콘택홀을 구비할 수 있다. 그러한 경우에 콘택홀에서 제2 패턴(20)의 이격된 단위 패턴과 브릿지 전극(30)의 전기적 접속이 이루어진다.If the insulator 40 is formed in the form of a layer, the bridge electrode 30 may be provided with a contact hole as needed so as to connect the spaced apart unit patterns of the second pattern 20. In such a case, the electrical connection between the bridge electrode 30 and the unit pattern of the second pattern 20 spaced apart in the contact hole is made.

본 발명에 따른 절연체(40)는 당 분야에 알려진 투명 절연 소재가 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물이나 아크릴계 수지를 포함하는 투명한 감광성 수지 조성물 혹은 열경화성 수지 조성물을 사용하여 필요한 패턴으로 형성될 수 있다.
The insulator 40 according to the present invention can be applied without limitation to transparent insulating materials known in the art. For example, using a transparent photosensitive resin composition or thermosetting resin composition containing a metal oxide such as silicon oxide or an acrylic resin.

접착층Adhesive layer

본 발명의 플렉서블 터치 센서는 그래핀 패턴과 이와 인접한 감지 패턴과의 밀착력 개선을 위해 접착층을 더 포함할 수 있다.The flexible touch sensor of the present invention may further include an adhesive layer for improving the adhesion between the graphene pattern and the adjacent sensing pattern.

접착층은 접힘축과 인접한 감지 패턴과 그래핀 패턴이 접하는 부위를 덮음으로써 이들 사이의 밀착력을 개선한다.The adhesive layer covers the portion where the detection pattern adjacent to the folding axis and the graphene pattern are in contact with each other, thereby improving the adhesion between them.

접착층은 접힙축을 덮으므로 투명성 및 탄력성이 우수한 소재가 바람직하게 사용될 수 있으며, 예를 들면 아크릴계 수지, 실록산계 수지 등을 포함하는 투명한 감광성 수지 조성물, 열경화성 수지 조성물 등을 사용하여 필요한 패턴으로 형성될 수 있으며, 탄력성의 측면에서 바람직하게는 실록산계 수지 조성물로 형성될 수 있다.Since the adhesive layer covers the folding shaft, a material having excellent transparency and elasticity can be preferably used. For example, a transparent photosensitive resin composition containing an acrylic resin, a siloxane resin, etc., a thermosetting resin composition, And is preferably formed from a siloxane-based resin composition in view of elasticity.

본 발명의 터치 스크린 패널은 상기 구성 외에도 당 분야에 통상적으로 사용되는 구성을 더 포함할 수 있다.
The touch screen panel of the present invention may further include a configuration commonly used in the art in addition to the above configuration.

<플렉서블 터치 센서의 제조 방법><Manufacturing Method of Flexible Touch Sensor>

또한, 본 발명은 플렉서블 터치 센서의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method of manufacturing a flexible touch sensor.

이하 본 발명의 일 구현예에 따른 플렉서블 터치 센서의 제조 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a flexible touch sensor according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

먼저, 제1 방향으로 단위 패턴이 이음부로 연결되어 형성된 제1 패턴(10) 및 단위 패턴이 상기 이음부를 기준으로 이격되어 제2 방향으로 형성된 제2 패턴(20)을 구비한 감지패턴을 형성한다.First, a first pattern 10 formed by connecting a unit pattern to a first direction in a first direction and a second pattern 20 formed in a second direction with a unit pattern being spaced apart from the base are formed .

제1 패턴(10)과 제2 패턴(20)은 서로 다른 방향으로 배치된다. 예를 들면, 제1 방향은 X축 방향, 제2 방향은 이와 교차하는 Y축 방향일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first pattern 10 and the second pattern 20 are arranged in different directions. For example, the first direction may be an X axis direction, and the second direction may be a Y axis direction intersecting the first direction, but the present invention is not limited thereto.

제1 패턴(10) 및 제2 패턴(20)은 동일층에 형성되며, 제1 패턴(10)의 단위 패턴은 이음부를 통해 서로 연결된 형태, 제2 패턴(20)의 단위 패턴은 섬(island) 형태로 서로 분리된 구조로 형성된다.The first pattern 10 and the second pattern 20 are formed on the same layer and the unit patterns of the first patterns 10 are connected to each other through the joints. ), Respectively.

감지 패턴은 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD) 등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. The sensing pattern can be formed by various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). For example, it can be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition.

또한, 감지 패턴은 인쇄 공정으로 형성될 수 있다. 이러한 인쇄 공정 시, 그라비아 오프 셋(gravure off set), 리버스 오프 셋(reverse off set), 잉크젯 인쇄, 스크린 인쇄 및 그라비아(gravure) 인쇄 등 다양한 인쇄 방법이 이용될 수 있다. 특히, 인쇄 공정으로 감지 패턴을 형성할 경우 인쇄 가능한 페이스트 물질로 형성할 수 있다. 일례로, 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink)로 형성할 수 있다.Further, the sensing pattern may be formed by a printing process. In such a printing process, various printing methods such as gravure off set, reverse off set, inkjet printing, screen printing and gravure printing can be used. In particular, when a sensing pattern is formed by a printing process, it can be formed of a printable paste material. For example, a carbon nano tube (CNT), a conductive polymer, and a silver nano wire ink (Ag nano wire ink) can be formed.

상기 방법 외에 포토리소그래피에 의해서 형성될 수도 있다.It may be formed by photolithography in addition to the above method.

감지 패턴은 전술한 소재 및 두께 범위 내에서 적절히 선택되어 형성될 수 있다.The detection pattern can be appropriately selected and formed within the above-described material and thickness range.

이후에, 접힘축(100)에 해당하는 부위의 감지 패턴을 식각한다.Thereafter, the detection pattern corresponding to the folding axis 100 is etched.

접힘축(100)은 제1 방향 또는 제2 방향으로 형성될 수 있고, 복수개의 접힘축(100)을 갖는 경우에는 각각의 접힘축(100)들이 평행하도록 형성된다.The folding shafts 100 may be formed in a first direction or a second direction, and when the folding shafts 100 have a plurality of folding shafts 100, the folding shafts 100 are formed to be parallel to each other.

식각 방법은 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에 공지된 물리적, 화학적 식각 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.The etching method is not particularly limited, and physical and chemical etching methods known in the art can be used without limitation.

다음으로, 상기 식각된 부위에 그래핀 패턴(50)을 형성한다.Next, a graphene pattern 50 is formed on the etched portion.

그래핀 패턴(50)은 기재 상에 그래핀층을 형성하고 이를 상기 식각된 부위에 전사함으로써 형성할 수 있다.The graphene pattern 50 can be formed by forming a graphene layer on a substrate and transferring the graphene layer onto the etched portion.

기재는 예를 들어, 유리, 석영, 실리콘, 산소, 탄소펠트, 사파이어, 질화실리콘, 탄화실리콘, 산화실리콘, 티타늄 코팅기판, 세라믹, 금속, 또는 플라스틱을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The substrate can be, but is not limited to, glass, quartz, silicon, oxygen, carbon felt, sapphire, silicon nitride, silicon carbide, silicon oxide, titanium coated substrates, ceramics, metals, or plastics .

그래핀층은 당 분야에 공지된 방법에 의해 형성될 수 잇으며, 예를 들면 화학기상증착(CVD) 방법, 에피택시(epitaxy)법, 또는 기계적 박리법에 의하여 형성된 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The graphene layer may be formed by a method known in the art and may be formed by, for example, a chemical vapor deposition (CVD) method, an epitaxy method, or a mechanical peeling method, no.

기재 상에 형성된 그래핀층을 상기 접힘축 상의 식각된 감지 패턴에 맞게 패터닝한 후에 이를 식각 부위로 전사할 수도 있고, 그래핀층을 식각 부위로 전사한 후에 식각된 감지 패턴에 맞게 패터닝하여 그래핀 패턴(50)을 형성할 수도 있다.The graphene layer formed on the substrate may be patterned to match the etched pattern on the folding axis, and then transferred to the etched portion. Alternatively, the graphene layer may be transferred to the etched portion, 50 may be formed.

그래핀층의 전사 방법은 특별히 한정되지 않으며, 습식 전사 방법 또는 건식 전사 방법을 이용하여 상기 식각 부위로 전사할 수 있다. 건식 전사 방법으로는 UV 테이프(Ultraviolet tape), 온도 반응형 점착력 소멸 테이프(thermal release tape) 등을 이용한 간접 전사 방법을 사용하거나, 직접 그래핀층을 식각 부위로 전사하는 직접 전사 방법이 사용될 수 있다.The method of transferring the graphene layer is not particularly limited and may be transferred to the etching site using a wet transfer method or a dry transfer method. As the dry transfer method, an indirect transfer method using a UV tape (ultraviolet tape), a temperature responsive adhesive force dissipation tape (thermal release tape), or a direct transfer method in which a direct graphene layer is transferred to an etched portion may be used.

그래핀층을 전사하기 전에 그래핀층의 표면을 플라즈마 처리할 수 있다. 그러한 경우에, 그래핀층이 기판에 보다 견고하게 결착될 수 있다. The surface of the graphene layer can be subjected to plasma treatment before transferring the graphene layer. In such a case, the graphene layer can be more firmly adhered to the substrate.

본 발명의 플렉서블 터치 센서의 제조 방법은 그래핀 패턴(50)과 인접한 감지 패턴의 밀착력을 더욱 개선하기 위해, 접힘축(100)과 인접한 감지 패턴의 그래핀 패턴(50)과 접하는 부위에 플라즈마 처리를 더 수행할 수 있다.The manufacturing method of the flexible touch sensor of the present invention is a method of manufacturing a flexible touch sensor in which a plasma processing is performed on a portion of the sensing pattern adjacent to the folding axis 100 in contact with the graphene pattern 50, . &Lt; / RTI &gt;

그리고, 후술할 브릿지 전극(30)이 접힘축(100) 내에 포함되어 접힘축(100)에 따라 터치 센서를 접는다면, 터치 센서를 다시 복원했을 때 브릿지 전극(30)은 복원되지 않을 수 있고, 제2 패턴(20)의 단위 패턴과의 연결 부위의 신뢰성 문제가 발생할 수 있으므로, 그래핀 패턴(50)은 브릿지 전극(30)과는 만나지 않도록 형성되는 것이 바람직하다.If the bridge electrode 30 to be described later is included in the folding axis 100 and folds the touch sensor along the folding axis 100, the bridge electrode 30 may not be restored when the touch sensor is restored again, It is preferable that the graphene pattern 50 is formed not to be in contact with the bridge electrode 30 because a reliability problem of the connecting portion of the second pattern 20 with the unit pattern may occur.

그래핀 패턴(50)의 인접한 감지 패턴과의 밀착력 개선을 위해, 본 발명의 플렉서블 터치 센서의 제조 방법은 상기 그래핀 패턴(50)을 형성한 후에 그래핀 패턴(50)과 이와 인접한 감지 패턴이 접하는 부위를 덮는 접착층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In order to improve the adhesion of the graphene pattern 50 to the adjacent sensing patterns, the manufacturing method of the flexible touch sensor of the present invention is characterized in that after the graphene pattern 50 is formed, the graphene pattern 50 and the adjacent sensing patterns And forming an adhesive layer covering the contacting portion.

접착층은 전술한 범위 내의 소재로 형성될 수 있다.The adhesive layer may be formed of a material within the above-mentioned range.

이후에, 제1 패턴(10)의 단위 패턴의 이음부 상에 절연체(40)를 형성한다.Thereafter, the insulator 40 is formed on the joint portion of the unit pattern of the first pattern 10.

절연체(40)는 후술할 브릿지 전극(30)과 제1 패턴(10)을 전기적으로 절연시키는 역할을 한다.The insulator 40 electrically insulates the bridge electrode 30 and the first pattern 10, which will be described later.

절연체(40)는 제1 패턴(10)의 단위 패턴의 이음부 상에만 형성될 수도 있고, 층의 형태로 형성될 수도 있다.The insulator 40 may be formed only on the joint portion of the unit pattern of the first pattern 10 or may be formed in the form of a layer.

절연체(40)를 층의 형태로 형성하는 경우에는 제2 패턴(20)의 단위 패턴과 브릿지 전극(30)이 전기적으로 연결될 수 있도록 콘택홀을 형성해야 하는데, 이는 절연체(40)를 전체적으로 형성한 후에 홀을 형성하는 방식으로 형성할 수도 있으며(홀 방식), 절연체(40)를 제2 패턴(20)의 단위 패턴과 브릿지 전극(30)이 전기적으로 연결되는 부위만 제외하고 형성하는 방식으로 형성할 수도 있다(섬(island) 방식).When the insulator 40 is formed in the form of a layer, a contact hole should be formed so that the unit pattern of the second pattern 20 and the bridge electrode 30 can be electrically connected to each other. The insulator 40 may be formed in such a manner that a unit pattern of the second pattern 20 and a portion where the bridge electrode 30 is electrically connected are formed (Island method).

절연체(40)는 전술한 범위 내의 소재로 형성될 수 있다.The insulator 40 may be formed of a material within the above-mentioned range.

다음으로, 상기 절연체(40) 상에 제2 패턴(20)의 단위 패턴을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극(30)을 형성한다. 브릿지 전극(30)은 전술한 폭 및 소재 범위 내에서 형성될 수 있다.Next, a bridge electrode 30 for electrically connecting unit patterns of the second pattern 20 is formed on the insulator 40. The bridge electrode 30 can be formed within the width and material range described above.

또한, 상기 브릿지 전극(30)의 형성시에 비표시부의 금속 배선 및 위치 검출라인을 함께 형성할 수 있다. 그러한 경우에 공정 수율이 현저히 개선된다.Further, the metal wiring of the non-display portion and the position detection line can be formed together when the bridge electrode 30 is formed. In such cases, the process yield is significantly improved.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to be illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art that such variations and modifications are within the scope of the appended claims.

실시예Example

두께 20㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 기판 상에 인듐주석산화물(ITO)를 100nm 두께로 증착하고 패터닝하여 제1 방향으로 단위 패턴이 이음부로 연결되어 형성된 제1 패턴 및 단위 패턴이 상기 이음부를 기준으로 이격되어 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비한 감지 패턴을 형성하였다.Indium tin oxide (ITO) was deposited to a thickness of 100 nm on a polyethylene terephthalate substrate having a thickness of 20 탆 and patterned to form a first pattern and a unit pattern formed by connecting the unit patterns in the first direction, Thereby forming a sensing pattern having a second pattern formed in a second direction.

이후에, 기판 중앙 부위에 제2 방향으로 제1 패턴을 4mm 폭으로 식각하고, 식각된 부위에 그래핀 패턴을 형성하였다.Thereafter, the first pattern was etched to a 4 mm width in the second direction on the central portion of the substrate, and a graphene pattern was formed on the etched portion.

그래핀 패턴은, 구리 기재 상에 100nm 두께로 그래핀을 증착하여 이를 상기 식각 부위에 전사한 다음에, 구리를 식각하고 그래핀층을 식각된 감지 패턴에 맞게 패터닝하여 형성하였다.The graphene pattern was formed by depositing graphene to a thickness of 100 nm on a copper substrate, transferring the graphene to the etching site, etching the copper, and patterning the graphene layer according to the etched sensing pattern.

다음으로, 제1 패턴의 단위 패턴의 이음부 상에 절연체를 형성하고, 절연체 상에 은, 팔라듐 및 구리 합금으로 브릿지 전극을 형성함으로써 터치 센서를 제조하였다.Next, an insulator was formed on the joint portion of the unit pattern of the first pattern, and a bridge electrode was formed of silver, palladium, and copper alloy on the insulator, thereby manufacturing a touch sensor.

상기 브릿지 전극의 형성시에 비표시부의 금속 배선 및 위치 검출라인도 이와 동일한 소재로 한 공정 내에서 형성하였다.
The metal wiring and the position detection line of the non-display portion at the time of forming the bridge electrode were also formed in the same material.

비교예Comparative Example 1 One

감지 패턴의 식각 및 그래핀 패턴의 형성 공정을 수행하지 않은 것을 제외하고는 실시예와 동일한 방법으로 터치 센서를 제조하였다.
A touch sensor was manufactured in the same manner as in the embodiment except that etching of the sensing pattern and formation of the graphene pattern were not performed.

비교예Comparative Example 2 2

감지 패턴을 PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))으로 200nm 두께로 형성한 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 터치 센서를 제조하였다.
A touch sensor was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1, except that the sensing pattern was formed to have a thickness of 200 nm by PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)).

실험예Experimental Example

(1) 굴곡 평가(1) Flexural evaluation

실시예 및 비교예의 터치 센서를 굴곡 반경 4mm로 굴곡 테스트를 수행하여 하기 기준으로 굴곡 평가를 수행하였다.Flexural tests were performed on the touch sensors of Examples and Comparative Examples at a bending radius of 4 mm to perform flexural evaluation based on the following criteria.

○: 감지 패턴이 파단되지 않으며, 터치 센서가 다시 복원됨○: The detection pattern is not broken, and the touch sensor is restored again.

X: 감지 패턴이 파단되고, 터치 센서가 다시 복원되지 않음
X: Detection pattern broken, touch sensor not restored

(2) 투과율 측정(2) Measurement of transmittance

헤이즈 미터(HM-150, 무라카미사)를 사용하여 실시예 및 비교예의 터치 센서의 전광선 투과율을 측정하였고, 유리 기판 대비 투과율을 계산하여 하기 표 1에 측정 결과를 기재하였다.
Using a haze meter (HM-150, Murakami Co., Ltd.), the total light transmittance of the touch sensors of Examples and Comparative Examples was measured, and the transmittance of the glass substrate was calculated and the measurement results are shown in Table 1 below.

구분division 굴곡성Flexibility 투과율(%)Transmittance (%) 실시예Example 9090 비교예 1Comparative Example 1 XX 9090 비교예 2Comparative Example 2 XX 9090

상기 표 1을 참조하면, 실시예의 터치 센서는 감지 패턴의 파단 없이 터치 센서가 다시 복원되어, 플렉서블한 특성을 구현할 수 있음을 확인하였다. 그리고, 비교예와 동등한 수준의 투과율을 나타내었다.Referring to Table 1, it is confirmed that the touch sensor of the embodiment can restore the touch sensor without breaking the sensing pattern, thereby realizing a flexible characteristic. The transmittance was equivalent to that of the comparative example.

그러나, 비교예 1 및 2의 터치 센서는 감지 패턴이 파단되고, 터치 센서가 다시 복원되지 않아 플렉서블한 특성을 구현할 수 없었다.
However, in the touch sensors of Comparative Examples 1 and 2, the sensing pattern was broken, and the touch sensor was not restored, so that a flexible characteristic could not be realized.

1: 기판 10: 제1 패턴
20: 제2 패턴 30: 브릿지 전극
40: 절연체 50: 그래핀 패턴
100: 접힘축
1: substrate 10: first pattern
20: second pattern 30: bridge electrode
40: Insulator 50: Graphene pattern
100: Folding axis

Claims (15)

기판의 일면에 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 포함하는 감지 패턴을 구비하고,
1개 이상의 접힘축을 가지며, 상기 접힘축 상의 감지 패턴은 그래핀 패턴인, 플렉서블 터치 센서.
And a sensing pattern including a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction on one surface of the substrate,
Wherein the sensing pattern on the folding axis has at least one folding axis, and the sensing pattern on the folding axis is a graphene pattern.
청구항 1에 있어서, 상기 접힘축은 제1 방향 또는 제2 방향으로 형성된, 플렉서블 터치 센서.
The flexible touch sensor according to claim 1, wherein the folding axis is formed in a first direction or a second direction.
청구항 1에 있어서, 상기 제2 패턴의 이격된 단위 패턴을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극을 구비한, 플렉서블 터치 센서.
The flexible touch sensor of claim 1, further comprising a bridge electrode electrically connecting the spaced apart unit patterns of the second pattern.
청구항 3에 있어서, 그래핀 패턴은 상기 브릿지 전극과 만나지 않는, 플렉서블 터치 센서.
4. The flexible touch sensor of claim 3, wherein the graphene pattern does not meet the bridge electrode.
청구항 1에 있어서, 상기 접힘축과 인접한 감지 패턴은 그래핀 패턴과 접하는 부위에 플라즈마 처리가 된 것인, 플렉서블 터치 센서.
The flexible touch sensor according to claim 1, wherein the sensing pattern adjacent to the folding axis is subjected to plasma treatment at a portion in contact with the graphene pattern.
청구항 1에 있어서, 상기 그래핀 패턴은 기판과 접하는 부위에 플라즈마 처리가 된 것인, 플렉서블 터치 센서.
The flexible touch sensor according to claim 1, wherein the graphene pattern is subjected to a plasma treatment at a portion in contact with the substrate.
청구항 1에 있어서, 상기 접힘축과 인접한 감지 패턴과 그래핀 패턴이 접하는 부위를 덮는 접착층을 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서.
The flexible touch sensor according to claim 1, further comprising an adhesive layer covering a portion where the detection pattern adjacent to the folding axis and the graphen pattern contact.
기판 상에 제1 방향으로 단위 패턴이 이음부로 연결되어 형성된 제1 패턴 및 단위 패턴이 상기 이음부를 기준으로 이격되어 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비한 감지 패턴을 형성하는 단계;
접힘축에 해당하는 부위의 감지 패턴을 식각하는 단계; 및
식각된 부위에 그래핀 패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
Forming a sensing pattern having a first pattern formed by connecting a unit pattern in a first direction on the substrate in a first direction and a second pattern formed in a second direction spaced apart from the center of the unit pattern;
Etching the sensing pattern at a portion corresponding to the folding axis; And
Forming a graphene pattern on the etched portion;
Wherein the flexible touch sensor is a flexible touch sensor.
청구항 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴은 기재 상에 그래핀층을 형성하고 이를 상기 식각된 부위에 전사함으로써 형성되는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
The method according to claim 8, wherein the graphene pattern is formed by forming a graphene layer on a substrate and transferring the graphene layer onto the etched portion.
청구항 9에 있어서, 상기 전사 이전에 그래핀층의 표면을 플라즈마 처리하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
The manufacturing method of a flexible touch sensor according to claim 9, wherein the surface of the graphene layer is subjected to plasma treatment before the transfer.
청구항 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴을 형성하기 전에, 접힘축과 인접한 감지 패턴의 그래핀 패턴과 접하는 부위에 플라즈마 처리를 수행하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
The manufacturing method of a flexible touch sensor according to claim 8, wherein before forming the graphene pattern, a plasma process is performed on a portion in contact with the graphene pattern of the sensing pattern adjacent to the folding axis.
청구항 8에 있어서, 상기 그래핀 패턴을 형성한 후에 그래핀 패턴과 이와 인접한 감지 패턴이 접하는 부위를 덮는 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
9. The method of claim 8, further comprising forming an adhesive layer covering the portion where the graphene pattern and the adjacent sensing pattern contact with after forming the graphene pattern.
청구항 8에 있어서, 제1 패턴의 단위 패턴의 이음부 상에 절연체를 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
The manufacturing method of a flexible touch sensor according to claim 8, further comprising the step of forming an insulator on the joint of the unit pattern of the first pattern.
청구항 13에 있어서, 상기 절연체 상에 제2 패턴의 단위 패턴을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.
The manufacturing method of a flexible touch sensor according to claim 13, further comprising forming a bridge electrode electrically connecting unit patterns of a second pattern on the insulator.
청구항 14에 있어서, 상기 브릿지 전극의 형성시에 비표시부의 금속 배선 및 위치 검출라인을 함께 형성하는, 플렉서블 터치 센서의 제조 방법.15. The manufacturing method of a flexible touch sensor according to claim 14, wherein the metal wiring of the non-display portion and the position detection line are formed together at the time of forming the bridge electrode.
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