KR20150095208A - 신규한 정공주입·정공수송 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 - Google Patents

신규한 정공주입·정공수송 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 Download PDF

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KR20150095208A
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조지은
김봉기
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김성훈
함호완
김동준
한정우
김근태
임동환
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주식회사 동진쎄미켐
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    • H01L51/50—

Abstract

본 발명의 정공주입·정공수송 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자에 정공주입층 또는 정공수송층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.

Description

신규한 정공주입·정공수송 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 {NOVEL HOLE INJECTING· HOLE-TRANSPORTING COMPOUND AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE COMPRISING SAME}
본 발명은 신규한 정공주입·정공수송 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자에 관한 것이다.
최근, 자체 발광형으로 저전압 구동이 가능한 유기발광소자는, 평판 표시소자의 주류인 액정디스플레이(LCD, liquid crystal display)에 비해, 시야각, 대조비 등이 우수하고 백라이트가 불필요하여 경량 및 박형이 가능하며 소비전력 측면에서도 유리하고 색 재현 범위가 넓어, 차세대 표시소자로서 주목을 받고 있다.
유기발광소자에서 유기물 층으로 사용되는 재료는 크게 기능에 따라, 발광 재료, 정공주입 재료, 정공수송 재료, 전자수송 재료, 전자주입 재료 등으로 분류될 수 있다.
현재까지 이러한 유기발광소자에 사용되는 정공주입·정공수송 재료에는 카바졸 골격을 가지는 아민 유도체가 많이 연구되었으나 보다 높은 구동전압, 낮은 효율 및 짧은 수명으로 인해 실용화하는 데에 많은 어려움이 있었다. 따라서, 우수한 특성을 갖는 물질을 이용하여 저전압 구동, 고휘도 및 장수명을 갖는 유기발광소자를 개발하려는 노력이 지속되어 왔다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층 또는 정공수송층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있는 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한 상기 화합물을 포함하여 정공주입 및 정공수송 특성이 향상되고, 동시에 전자차단 특성을 가지며, 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지는 유기발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 정공주입·정공수송 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
Figure pat00001
[화학식 2]
Figure pat00002
상기 화학식 1 또는 2에서,
X는 각각 독립적으로 O, S, 또는 Si(CH3)2이며,
Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고, 인접한 Ar들은 서로 연결될 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 포함하는 유기발광소자를 제공한다.
본 발명의 정공주입·정공수송 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층 또는 정공수송층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
특히, 4환구조에 한 분자의 아릴아민이 치환된 화합물에 비해 정공주입, 전자차단 능력이 우수하고, 높은 정공수송능력을 갖기 때문에 정공주입층 또는 정공수송층에 적용 시 보다 더 유리한 조건을 갖추게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도면의 부호
10 : 기판
11 : 양극
12 : 정공주입층
13 : 정공수송층
14 : 발광층
15 : 전자전달층
16: 음극
본 발명의 화합물은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
Figure pat00003
[화학식 2]
Figure pat00004
상기 화학식 1 또는 2에서,
X는 각각 독립적으로 O, S, 또는 Si(CH3)2이며,
Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고, 인접한 Ar들은 서로 연결될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식 3 내지 8로 표시되는 것 중 하나일 수 있다.
[화학식 3]
Figure pat00005
[화학식 4]
Figure pat00006
[화학식 5]
Figure pat00007
[화학식 6]
Figure pat00008
[화학식 7]
Figure pat00009
[화학식 8]
Figure pat00010
상기 화학식 3 내지 8에서 Ar은 상기 화학식 1 내지 2에서 정의한 바와 같다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물의 바람직한 예는 다음과 같다:
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본 발명에 따른 화학식 1 또는 2의 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자에 정공수송층 또는 정공주입층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
또한 본 발명의 화합물은 하기 반응식 1 내지 2로 표시되는 반응식 중 어느 하나를 통하여 제조될 수 있다:
[반응식 1]
Figure pat00349
[반응식 2]
Figure pat00350
상기 반응식 1 및 2에서 X 및 Ar은 상기 화학식 1 및 2에서 정의한 바와 같다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 유기물층에 포함하는 유기발광소자를 제공한다. 이때, 본 발명의 화합물은 바람직하기로는 정공주입물질 또는 정공수송물질로 단독으로 사용되거나 또는 공지의 공정주입물질 또는 정공수송 화합물과 함께 사용될 수 있다.
또한 본 발명의 유기발광소자는 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 포함하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 바, 상기 유기발광소자는 도 1과 같은 구조일 수 있으며, 상기 유기발광소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
상기 유기발광소자는 애노드(anode)와 캐소드(cathode) 사이에 정공주입층(HIL), 정공수송층(HTL), 발광층(EML), 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL) 등의 유기물층을 1 개 이상 포함할 수 있다.
먼저, 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 애노드 전극용 물질을 증착시켜 애노드를 형성한다. 이때, 상기 기판은 통상의 유기발광소자에서 사용되는 기판을 사용할 수 있으며, 특히 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면평활성, 취급용이성, 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용하는 것이 좋다. 또한, 애노드 전극용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등을 사용할 수 있다. 상기 애노드 전극용 물질은 통상의 애노드 형성방법에 의해 증착할 수 있으며, 구체적으로 증착법 또는 스퍼터링법에 의해 증착할 수 있다.
그 다음, 상기 애노드 전극 상부에 정공주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB(Langmuir-Blodgett)법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 또한 핀정공이 발생하기 어렵다는 등의 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 정공주입층을 형성하는 경우 그 증착조건은 정공주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 정공주입층의 구조 및 열적특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 50-500 ℃의 증착온도, 10-8 내지 10-3 torr의 진공도, 0.01 내지 100 Å/sec의 증착속도, 10 Å 내지 5 ㎛의 층 두께 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.
상기 정공주입층 물질은 본 발명의 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물이 단독으로 사용되거나 또는 공지의 정공주입층 물질이 사용될 수 있으며, 일예로 미국특허 제4,356,429호에 개시된 구리 프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 스타버스트형 아민 유도체류인 TCTA(4,4',4"-트리(N-카바졸릴)트리페닐아민), m-MTDATA(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)트리페닐아민), m-MTDAPB(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)페녹시벤젠), HI-406(N1,N1'-(비페닐-4,4'-디일)비스(N1-(나프탈렌-1-일)-N4,N4-디페닐벤젠-1,4-디아민) 등을 정공주입층 물질로 사용할 수 있다.
다음으로 상기 정공주입층 상부에 정공수송층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 핀정공이 발생하기 어렵다는 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 정공수송층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다.
또한, 상기 정공수송층 물질은 본 발명의 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물이 단독으로 사용되거나 또는 공지의 정공수송층 물질이 혼합되어 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 공지의 정공수송층 물질로는 N-페닐카바졸, 폴리비닐카바졸 등의 카바졸 유도체, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD), N.N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐 벤지딘(α-NPD) 등의 방향족 축합환을 가지는 통상의 아민 유도체 등이 사용될 수 있다.
그 후, 상기 정공수송층 상부에 발광층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 핀정공이 발생하기 어렵다는 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 발광층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다. 또한, 상기 발광층 재료는 공지의 호스트 또는 도펀트로 사용할 수 있다. 일예로 형광 도펀트로는 이데미츠사(Idemitsu사)에서 구입 가능한 IDE102 또는 IDE105, 또는 BD142(N6,N12-비스(3,4-디메틸페닐)-N6,N12-디메시틸크리센-6,12-디아민)를 사용할 수 있으며, 인광 도펀트로는 녹색 인광 도펀트 Ir(ppy)3(트리스(2-페닐피리딘) 이리듐), 청색 인광 도펀트인 F2Irpic(이리듐(Ⅲ) 비스[4,6-다이플루오로페닐)-피리디나토-N,C2'] 피콜린산염), UDC사의 적색 인광 도펀트 RD61 등이 공동 진공증착(도핑)될 수 있다. 도펀트의 도핑농도는 특별히 제한되지 않으나, 호스트 100 중량부 대비 도펀트가 0.01 내지 15 중량부로 도핑되는 것이 바람직하다.
또한, 발광층에 인광 도펀트와 함께 사용할 경우에는 삼중항 여기자 또는 정공이 전자수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여 정공억제재료(HBL)를 추가로 진공증착법 또는 스핀코팅법에 의해 적층시키는 것이 바람직하다. 이때 사용할 수 있는 정공억제물질은 특별히 제한되지는 않으나, 정공억제재료로 사용되고 있는 공지의 것에서 임의의 것을 선택해서 이용할 수 있다. 예를 들면, 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 또는 일본특개평 11-329734(A1)에 기재되어 있는 정공억제재료 등을 들 수 있으며, 대표적으로 Balq(비스(8-하이드록시-2-메틸퀴놀리놀나토)-알루미늄 비페녹사이드), 페난트롤린(phenanthrolines)계 화합물(예: UDC사 BCP(바쏘쿠프로인)) 등을 사용할 수 있다.
상기와 같이 형성된 발광층 상부에는 전자수송층이 형성되는데, 이때 상기 전자수송층은 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성되며, 특히 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다.
상기 전자수송층 재료는 전자주입전극으로부터 주입된 전자를 안정하게 수송하는 기능을 하는 것으로서 그 종류가 특별히 제한되지는 않으며, 예를 들어 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄(Alq3), 또는 ET4(6,6'-(3,4-디메시틸-1,1-디메틸-1H-실올-2,5-디일)디-2,2'-비피리딘)을 사용할 수 있다. 또한, 전자수송층 상부에 캐소드로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자주입층(EIL)이 적층될 수 있으며, 전자주입층 물질로는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등의 물질을 이용할 수 있다.
또한, 상기 전자수송층의 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다.
그 뒤, 상기 전자수송층 상부에 전자주입층 물질을 형성할 수 있으며, 이때 상기 전자수송층은 통상의 전자주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성되며, 특히 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다.
마지막으로 전자주입층 상부에 캐소드 형성용 금속을 진공증착법이나 스퍼터링법 등의 방법에 의해 형성하고 캐소드로 사용한다. 여기서 캐소드 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물, 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등이 있다. 또한, 전면 발광소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투과형 캐소드를 사용할 수도 있다.
본 발명의 유기발광소자는 애노드, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 캐소드 구조의 유기발광소자 뿐만 아니라, 다양한 구조의 유기발광소자의 구조가 가능하며, 필요에 따라 1층 또는 2층의 중간층을 더 형성하는 것도 가능하다.
상기와 같이 본 발명에 따라 형성되는 각 유기물층의 두께는 요구되는 정도에 따라 조절할 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 1,000 ㎚이며, 더욱 바람직하게는 20 내지 150 ㎚인 것이 좋다.
또한 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기물층은 유기물층의 두께를 분자 단위로 조절할 수 있기 때문에 표면이 균일하며, 형태안정성이 뛰어난 장점이 있다.
본 발명의 유기발광소자는 정공주입 및 정공수송 특성이 향상되고, 동시에 전자차단 특성을 가지며, 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명 등의 우수한 소자 특성을 가진다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1: 화합물 1의 합성
Figure pat00351
Figure pat00352

I1 합성
3구 둥근바닥플라스크에 3-benzofuranyl boronic acid 1 당량, 2 Methyl 2-bromobenzoate 1.05 당량, Pd(PPh3)4 0.03 당량, K2CO3 4 당량, 1,-Dioxane 10 Vol%, 물 2 Vol%을 넣는 후에 가열 환류시켰다. 반응이 완료되면 상온에서 증류수를 넣어 희석시켰다. 그런 후에 메틸렌클로라이드와 물로 추출하고 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
I2 합성
3구 둥근바닥플라스크에 1-Bromo-4-Iodobenzene 2.4 당량, THF 10 Vol%을 넣고 -78℃로 냉각하였다. 이후 n-BuLi 2.4 당량을 천천히 가하였다. 1시간 뒤 I1 1 당량을 THF 10 Vol%에 녹인 용액을 천천히 가해주었다. 30분 뒤 상온으로 올리고 교반하였다. 반응이 완료되면 증류수를 넣어 희석시켰다. 그런 후에 아세트산에틸과 물로 추출하고 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
I3 합성
3구 둥근바닥플라스크에 I2 1 당량, HCl 0.05 Vol%, AcOH 10 Vol%을 상온에서 교반하였다. 반응이 완료되면 증류수를 넣어 희석시키고 생성된 고체는 필터하였다. 아세트산 에틸과 물로 추출하고 pH를 중성으로 맞추어주었다. 그런 후에 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
화합물 1(P) 합성
3구 둥근바닥플라스크에 I3 1 당량, Diphenylamine 2.4 당량, NaOt-Bu 4.0 당량, Tri-tert-butylphosphine 0.08 당량, Pd2(dba)3 0.02 당량, 톨루엔을 넣고 가열 교반하였다. 반응이 완료되면 celite, silica filter 후 감압 건조하였다. 메틸렌클로라이드와 n-hexane으로 재결정하여 생성물을 얻었다.
실시예 2-6
상기 화합물 1과 같은 방법으로 화합물 2 내지 화합물 6을 합성하였다.
Figure pat00353
Figure pat00354

실시예 7: 화합물 7의 합성
Figure pat00355
Figure pat00356
I1 합성
3구 둥근바닥플라스크에 2-benzofuranyl boronic acid 1 당량, 2 Methyl 2-bromobenzoate 1.05 당량, Pd(PPh3)4 0.03 당량, K2CO3 4 당량, 1,-DI ioxane 10 Vol%, 물 2 Vol%을 넣은 후에 가열 환류시겼다. 반응이 완료되면 상온에서 증류수를 넣어 희석시켰다. 그런 후에 메틸렌클로라이드와 물로 추출하고 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
I2 합성
3구 둥근바닥플라스크에 1-Bromo-4-Iodobenzene 2.4 당량, THF 10 Vol%을 넣고 -78 ℃로 냉각하였다. n-BuLi 2.4 당량을 천천히 가하였다. 1시간 뒤 I1 1 당량을 THF 10 Vol%에 녹인 용액을 천천히 가해주었다. 30분 뒤 상온으로 올리고 교반하였다. 반응이 완료되면 증류수를 넣어 희석시켰다. 그런 후에 아세트산 에틸과 물로 추출하고 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
I3 합성
3구 둥근바닥플라스크에 I2 1 당량, HCl 0.05 Vol%, AcOH 10 Vol%을 상온에서 교반하였다. 반응이 완료되면 증류수를 넣어 희석시키고 생성된 고체는 필터하였다. 아세트산에틸과 물로 추출하고 pH를 중성으로 맞추어주었다. 그런 후에 유기층을 MgSO4로 건조하여 농축한 후 생성된 화합물을 silicagel column 및 재결정하여 생성물을 얻었다.
화합물 7(P) 합성
3구 둥근바닥플라스크에 I3 1 당량, Diphenylamine 2.4 당량, NaOt-Bu 4.0 당량, Tri-tert-butylphosphine 0.08 당량, Pd2(dba)3 0.02 당량, 톨루엔을 넣고 가열 교반하였다. 반응이 완료되면 celite, silica filter 후 감압 건조하였다. 메틸렌클로라이드와 n-hexane으로 재결정하여 생성물을 얻었다.
실시예 8-12
상기 화합물 7과 같은 방법으로 화합물 8 내지 화합물 12를 합성하였다.
Figure pat00357
Figure pat00358

유기발광소자의 제조
도 1에 기재된 구조에 따라 유기발광소자를 제조하였다. 유기발광소자는 아래로부터 양극(정공주입전극(11))/정공주입층(12)/정공수송층(13)/발광층(14)/전자전달층(15)/음극(전자주입전극(16)) 순으로 적층시켰다.
실시예 및 비교예의 정공주입층(12), 정공전달층(13), 발광층(14), 전자전달층(15)는 아래과 같은 물질을 사용하였다.
Figure pat00359

실시예 13
인듐틴옥사이드(ITO)가 1500 Å 두께가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정 한 후 ITO 기판 상부에 열 진공 증착기(thermal evaporator)를 이용하여 정공주입층 HI01 600 Å, 정공수송층으로 화합물 1 250 Å를 제막하였다. 다음으로 상기 발광층으로 BH01:BD01 5%로 도핑하여 250 Å 제막하였다. 다음으로 전자전달층으로 ET01:Liq(1:1) 300 Å 제막한 후 LiF 10 Å, 알루미늄(Al) 1000 Å 제막하고, 이 소자를 글로브박스에서 밀봉(Encapsulation)함으로써 유기발광소자를 제작하였다.
실시예 14 내지 실시예 24
실시예 13과 같은 방법으로 정공주입층 및 정공수송층을 실시예 1 내지 12를 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
비교예 1
상기 실시예 13의 정공수송층으로 화합물 1을 NPB로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예 2
상기 실시예 13의 정공수송층으로 화합물 1을 비교화합물 1 로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
유기발광소자의 성능평가
키슬리 2400 소스 메져먼트 유닛(Kiethley 2400 source measurement unit) 으로 전압을 인가하여 전자 및 정공을 주입하고 코니카 미놀타(Konica Minolta) 분광복사계(CS-2000)를 이용하여 빛이 방출될 때의 휘도를 측정함으로써, 실시예 및 비교예의 유기발광소자의 성능을 인가전압에 대한 전류 밀도 및 휘도를 대기압 조건하에 측정하여 평가하였으며, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
Op. V mA/cm2 Cd/A lm/w CIEx CIEy 수명
실시예 13 4.001 10 6.25 3.91 0.140 0.122 30
실시예 14 4.005 10 6.24 3.88 0.141 0.119 29
실시예 15 4.100 10 6.20 3.87 0.139 0.130 27
실시예 16 4.105 10 6.19 3.89 0.138 0.124 27
실시예 17 4.150 10 6.00 3.80 0.140 0.126 26
실시예 18 4.165 10 6.10 3.83 0.140 0.125 24
실시예 19 4.180 10 6.13 3.75 0.139 0.124 24
실시예 20 4.200 10 5.99 3.69 0.141 0.122 23
실시예 21 4.205 10 5.90 3.71 0.142 0.125 22
실시예 22 4.210 10 5.85 3.65 0.139 0.124 20
실시예 23 4.235 10 5.88 3.64 0.140. 0.126 19
실시예 24 4.300 10 5.80 3.59 0.141 0.127 17
비교예 1 5.032 10 4.97 3.26 0.143 0.128 12
비교예 2 4.655 10 5.55 3.45 1.42 0.127 15
상기 표 1에 나타나는 바와 같이 본 바와 같이 본 발명의 실시예들은 비교예 1 및 2에 비하여 모든 면에서 물성이 우수함을 확인할 수 있다. 특히 화합물 1 내지 6이 화합물 7 내지 12에 비하여 박막 내 분자배열이 우수하여 전하 모빌리티 증가와 화학적 안정성이 뛰어나 소자 수명이 더욱 개선됨을 알 수 있다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 정공주입·정공수송 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00360

    [화학식 2]
    Figure pat00361

    상기 화학식 1 또는 2에서,
    X는 각각 독립적으로 O, S, 또는 Si(CH3)2이며,
    Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기, C1-30의 알킬기, C2-30의 알케닐기, C2-30의 알키닐기, C1-30의 알콕시기, C1-30의 아릴아미노기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고, 인접한 Ar들은 서로 연결될 수 있다.
  2. 제1항에 있어서,
    하기 화학식 3 내지 8로 표시되는 것 중 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    [화학식 3]
    Figure pat00362

    [화학식 4]
    Figure pat00363

    [화학식 5]
    Figure pat00364

    [화학식 6]
    Figure pat00365

    [화학식 7]
    Figure pat00366

    [화학식 8]
    Figure pat00367

    상기 화학식 3 내지 8에서 Ar은 상기 화학식 1 내지 2에서 정의한 바와 같다.
  3. 제1항에 있어서,
    하기 화학식들 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure pat00368
    Figure pat00369
    Figure pat00370
    Figure pat00371

    Figure pat00372
    Figure pat00373
    Figure pat00374
    Figure pat00375
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    Figure pat00382
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  4. 하기 반응식 1 또는 2로 표시되는 화학식 1 또는 2의 제조방법:
    [반응식 1]
    Figure pat00706

    [반응식 2]
    Figure pat00707

    상기 반응식 1 및 2에서 X 및 Ar은 상기 화학식 1 및 2에서 정의한 바와 같다.
  5. 애노드(anode), 캐소드(cathode) 및 두 전극 사이에 제1항 기재의 화합물을 함유하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기발광소자.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 유기물층이 정공주입층 또는 정공수송층인 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
KR1020150020466A 2014-02-12 2015-02-10 신규한 정공주입·정공수송 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 KR20150095208A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160041018A (ko) * 2014-10-06 2016-04-15 희성소재 (주) 헤테로고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
KR20180007940A (ko) * 2016-07-15 2018-01-24 주식회사 알파켐 신규한 유기발광화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
CN112390770A (zh) * 2019-08-16 2021-02-23 南京高光半导体材料有限公司 一种空穴传输材料及包含该材料的有机电致发光器件

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