KR20150088186A - Preparation method of Electrode and Separation type Electrode paste composition for electrical materials - Google Patents

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KR20150088186A
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박영일
김계홍
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주식회사 동진쎄미켐
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing an electrode and an electrode paste composition for a peelable electronic material. The method for manufacturing an electrode comprises: a step (a) of printing an electrode pattern on a substrate by using an electrode paste composition; a step (b) of forming a plastic body of the electrode pattern by burning the substrate on which the electrode paste composition is printed; and a step (c) of stripping and transiting the plastic body of the electrode pattern from the substrate. The present invention has effects of manufacturing an electrode without the conventional etching and plating processes, and being environmentally friendly, and implementing low resistance required for an electrode of an electronic material.

Description

전극의 제조방법 및 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물 {Preparation method of Electrode and Separation type Electrode paste composition for electrical materials}[0001] The present invention relates to a method for manufacturing an electrode, and an electrode paste composition for an exfoliative electronic material.

본 발명은 전극의 제조방법 및 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an electrode and an electrode paste composition for a peelable electronic material.

전자재료에 사용되는 일부 저온형 전극 제조 공정은 주로 2가지 방법이 사용되고 있다.Some of the low-temperature electrode manufacturing processes used in electronic materials are mainly used in two ways.

첫째로, PI 필름 또는 PET 필름에 Cu foil, Al foil을 합지하고, 원하는 회로 패턴을 제외한 불필요한 부분을 에칭함으로써 전극 패턴을 구현하는 방법이 있다. 즉, 종래 방법은 패턴 형성시, 호일 합지 후 에칭이 필수적으로 사용되는 방법이 있다. First, there is a method in which a Cu foil or an Al foil is laminated on a PI film or a PET film, and an unnecessary portion other than a desired circuit pattern is etched to realize an electrode pattern. That is, in the conventional method, there is a method in which etching after foil laminating is essentially used at the time of pattern formation.

둘째로, Ag 페이스트 및 Cu 페이스트를 사용하여 기판에 인쇄 및 건조 후, 도금 공정을 거쳐 전극 패턴을 포함하는 최종 전극을 형성하는 방법이 있다.Secondly, there is a method of printing and drying on a substrate using Ag paste and Cu paste, and then forming a final electrode including an electrode pattern through a plating process.

그러나, 상기 첫 번째 방법은 현상, 에칭, 박리, 수세 등의 복잡한 공정을 거쳐야 하며, 또한 공정 재료로 감광성 필름, 에칭액 등 상당한 재료가 사용되므로 제품의 가격을 올리면서 환경을 오염시키는 문제가 있다. 또한, 상기 두번째 방법은 금속 페이스트 인쇄 후 건조 공정만으로 필요한 저항에 도달할 수 없으므로 전극 위에 구리 도금 공정을 추가로 진행해야 하고, 이때 도금액은 환경에 상당히 유해한 문제가 있다.However, the first method requires a complex process such as development, etching, peeling, washing and the like, and since a considerable material such as a photosensitive film or an etching solution is used as a process material, there is a problem of polluting the environment while raising the price of the product. In addition, since the second method can not reach the required resistance only by drying after the printing of the metal paste, a copper plating process must be further performed on the electrode, and the plating solution is extremely harmful to the environment.

또한, 전극 형성 재료로서 전도성 고분자가 이용되는데, 상기 전도성 고분자를 이용한 코팅막의 경우 투과도는 우수하나 전극형성 재료로 사용하기 위한 기간에 따른 면저항 상승에 따른 신뢰성 저하의 문제점이 발생하고 있다.
In addition, a conductive polymer is used as an electrode-forming material. In the case of a coating film using the conductive polymer, however, there is a problem in that reliability is lowered due to an increase in sheet resistance depending on a period for use as an electrode-forming material.

본 발명은 에칭 및 도금 공정을 진행하는 종래 전자재료용 전극 제조 공정을 간소화하고 제조 단가 인하 및 친환경화 방향으로 대체 가능한 전극 재료 및 공정을 개발하는데 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to simplify a manufacturing process of an electrode for a conventional electronic material and to develop an electrode material and a process which can be replaced with a reduction in manufacturing cost and an environmentally friendly process.

따라서, 본 발명의 목적은 각종 소자의 전극을 형성함에 있어 종래의 에칭 및 도금공정을 거치치 않아도 필요한 저항을 구현할 수 있으면서 환경에 유해하지 않는 전극의 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an electrode which is capable of realizing a necessary resistance even when a conventional etching and plating process is not performed, and is not harmful to the environment.

본 발명의 다른 목적은 상기 에칭 및 도금공정 생략으로 제조공정이 간단하여 비용 및 설비 절감효과는 물론 신뢰성이 우수한 전극의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrode which is simple in the manufacturing process owing to the omission of the etching and plating process and thus has a cost and a facility saving effect as well as an excellent reliability.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 전극의 제조에 사용되는 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.
Still another object of the present invention is to provide an electrode paste composition for a peelable electronic material used in the production of the electrode.

본 발명은 (a) 전극 페이스트 조성물을 이용하여 기판에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;(A) printing an electrode pattern on a substrate using an electrode paste composition;

(b) 상기 전극 페이스트 조성물이 인쇄된 기판을 소성하여 전극 패턴의 소성체를 형성하는 단계; 및(b) firing a substrate on which the electrode paste composition is printed to form a fired body of the electrode pattern; And

(c) 상기 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시키는 단계;(c) separating and transferring the sintered body of the electrode pattern from the substrate;

를 포함하는 전극의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of manufacturing an electrode including the electrode.

상기 기판은 Ra 값이 0.01 내지 0.5인 표면 조도를 갖는 세라믹 기판인 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 기판은 알루미나 또는 알루미늄 나이트라이트를 포함하는 세라믹 기판인 것을 특징으로 한다.Wherein the substrate is a ceramic substrate having a surface roughness Ra of 0.01 to 0.5. Further, the substrate is a ceramic substrate including alumina or aluminum nitride.

상기 전극 패턴의 소성체를 박리 및 전이하는 단계에서, 점착 필름, 접착력 테이프 또는 양면 테이프를 사용하여 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시킬 수 있다.In the step of peeling and transferring the fired body of the electrode pattern, the fired body of the electrode pattern can be peeled and transferred from the substrate by using an adhesive film, an adhesive tape or a double-sided tape.

상기 소성은 400 내지 900℃의 온도에서 2분 내지 600분 동안 이루어질 수 있다.The calcination may be performed at a temperature of 400 to 900 DEG C for 2 to 600 minutes.

상기 전극 페이스트 조성물은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속, 바인더, 유기용매 및 분산제를 포함할 수 있다. 상기 도전성 금속은 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. The electrode paste composition may include a conductive metal having an average particle diameter of 20 to 900 nm, a binder, an organic solvent, and a dispersant. The conductive metal may be at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles.

또한, 본 발명은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속 50 내지 90 중량%, 바인더 1 내지 20 중량%, 유기용매 1 내지 30 중량% 및 분산제 0.1 내지 10 중량%를 포함하며, 상술한 전극의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는, 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물을 제공한다.The present invention also relates to a conductive paste composition comprising 50 to 90% by weight of a conductive metal having an average particle diameter of 20 to 900 nm, 1 to 20% by weight of a binder, 1 to 30% by weight of an organic solvent and 0.1 to 10% The present invention provides an electrode paste composition for a peelable electronic material.

상기 전극 페이스트 조성물은 평균 입경 1~5㎛크기의 구형 은분말, 금분말, Ag 코팅된 Cu 분말, Cu 분말, Al, 및 ZnO 분말로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함할 수 있다. The electrode paste composition may further include at least one selected from the group consisting of spherical silver powder having an average particle size of 1 to 5 탆, gold powder, Ag coated Cu powder, Cu powder, Al, and ZnO powder.

상기 바인더는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 비닐 수지, 에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필 에틸 셀룰로오스, 하이드록시프로필 메틸셀룰로오스, 폴리메타크릴레이트, 모노부틸 에테르 및 폴리비닐수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. The binder may be selected from the group consisting of acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, amino resin, phenol resin, vinyl resin, ethyl cellulose, hydroxypropylethylcellulose, Polyvinyl resins, and polyvinyl resins.

상기 유기용매는 터피네올, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 다이에틸렌 글리콜 모노 부틸에테르, 에틸렌 글리콜, 텍사놀, 부틸카비톨 아세테이트, 디메틸 포름아마이드, 아세틸 아세톤, 1-메틸-2-피롤리딘온, 디프로필케톤 및 에틸 락테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The organic solvent may be at least one selected from the group consisting of terpineol, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol, texanol, butyl carbitol acetate, dimethyl formamide, acetylacetone, Propyl ketone, and ethyl lactate.

본 발명에서, 상기 도전성 금속은 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.In the present invention, the conductive metal may be at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles.

또한 본 발명은 상술한 방법으로 제조된 연성회로기판용 전극을 제공한다. 이때, 상기 연성회로기판용 전극은 NFC안테나, WPC(무선충전기용 안테나), IOT(사물인터넷)용, BLU용, TSP용, 디지타이저, 카메라 모듈용, 또는 밴딩타입용 전극을 포함할 수 있다.
The present invention also provides an electrode for a flexible circuit board manufactured by the above-described method. At this time, the electrode for the flexible circuit board may include an NFC antenna, an antenna for a WPC (wireless charger), an IOT (object internet), a BLU, a TSP, a digitizer, a camera module, or a banding type electrode.

본 발명은 도전성 전극 페이스트를 인쇄, 소성 후 소성된 전극을 박리 및 전이 공정을 통해 최종 소자용 전극을 제조함으로써, 에칭 및 도금 공정을 거치지 않아도 필요한 저항을 구현할 수 있으며 환경에 유해하지 않고, 제조 공정의 단순화로 비용 절감에 효과적이다. 또한 본 발명의 전극 소성체는 유연성을 가지고 있으므로 플렉시블한 전극 특성을 요구하는 다양한 분야에 적용이 가능하다. 또한 본 발명의 전극은 연성회로기판에 적용되는 다양한 전극 제조를 위해 적용이 가능하다. 특히, 본 발명의 전극 페이스트 조성물은 연성회로기판에 적용되는 NFC안테나, WPC(무선충전기용 안테나), IOT(사물인터넷)용, BLU용, TSP용, 디지타이저, 카메라 모듈용, 또는 기타 밴딩타입용 전극 제조에 적용이 가능하다.
The present invention can realize a necessary resistance even without etching and plating processes by producing the electrode for the final device through the printing and firing of the conductive electrode paste and the peeling and transferring process of the fired electrode after the firing, It is effective to reduce the cost. Further, since the electrode fired body of the present invention has flexibility, it can be applied to various fields requiring flexible electrode characteristics. In addition, the electrode of the present invention can be applied to manufacture various electrodes applied to a flexible circuit board. In particular, the electrode paste composition of the present invention can be used for an NFC antenna, an antenna for a wireless charger, an IOT (object internet), a BLU, a TSP, a digitizer, a camera module, It is applicable to electrode manufacturing.

이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

발명의 일 구현예에 따르면, (a) 전극 페이스트 조성물을 이용하여 기판에 전극 패턴을 인쇄하는 단계; (b) 상기 전극 페이스트 조성물이 인쇄된 기판을 소성하여 전극 패턴의 소성체를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시키는 단계;를 포함하는 전극의 제조방법이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: (a) printing an electrode pattern on a substrate using an electrode paste composition; (b) firing a substrate on which the electrode paste composition is printed to form a fired body of the electrode pattern; And (c) separating and transferring the sintered body of the electrode pattern from the substrate.

상기 전극 페이스트 조성물은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속, 바인더, 유기용매 및 분산제를 포함할 수 있다. 상기 도전성 금속은 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 바람직하게, 상기 전극 페이스트 조성물은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 또는 ZnO 입자를 함유하는 도전성 금속 50 내지 90 중량%, 바인더 1 내지 20 중량%, 유기용매 1 내지 30 중량% 및 분산제 0.1 내지 10 중량%를 포함한다.The electrode paste composition may include a conductive metal having an average particle diameter of 20 to 900 nm, a binder, an organic solvent, and a dispersant. The conductive metal may be at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles. Preferably, the electrode paste composition comprises 50 to 90% by weight of a conductive metal containing spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, or ZnO particles having an average particle size of 20 to 900 nm, %, 1 to 30% by weight of an organic solvent and 0.1 to 10% by weight of a dispersant.

본 발명은 상술한 바와 같은 조성의 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물을 이용함을 특징으로 하므로, 별도의 에칭 공정이나 도금 공정 없이도 원하는 저항을 나타내며, 환경에 유해하지 않은 간단한 공정으로 전극을 제조할 수 있다. 이렇게 제조된 전극은 유연성도 우수하므로 플렉시블 소자에 다양하게 적용할 수 있다. 또한 본 발명에 따라 제조된 전극은 박리특성과 유연성을 지니므로, 본 발명의 방법은 원하는 전자재료 기판에 사용할 수 있는 박리형 전극 제조 공정이다.The present invention is characterized by using an electrode paste composition for a peelable electronic material having the composition as described above. Therefore, it is possible to manufacture an electrode by a simple process which is not harmful to the environment and exhibits a desired resistance without a separate etching process or a plating process have. Since the electrode thus manufactured has excellent flexibility, it can be applied to various kinds of flexible devices. Also, since the electrode manufactured according to the present invention has peeling property and flexibility, the method of the present invention is a peelable electrode manufacturing process which can be used for a desired electronic material substrate.

본 발명의 전극의 제조방법에서, 상기 기판은 Ra 값이 0.01 내지 0.5인 표면 조도를 갖는 세라믹 기판을 사용하는 특징이 있다.In the method of manufacturing an electrode of the present invention, the substrate is characterized by using a ceramic substrate having a surface roughness Ra of 0.01 to 0.5.

보다 구체적으로 설명하면, 본 발명에서 사용되는 세라믹 기판은 전극 소성시 고온에서 견딜 수 있는 기판이다. 그런데, 1000℃ 이상에서 변형이 없는 세라믹 기판 중에서도 표면의 조도에 따라 박리특성이 달라지므로 기판의 조도 특성 관리가 필요하다. 따라서, 본 발명에서는 전극 제조시 최적의 박리특성을 고려하여, 세라믹 기판의 표면 조도는 Ra값이 0.01 내지 0.5를 갖는 것이 바람직하다. 상기 Ra값이 0.01 미만이면 세라믹 기판의 정밀한 표면 래핑작업이 추가되므로 가격 상승의 문제가 있고, Ra값이 0.5를 초과하면 세라믹 기판 표면 조도가 좋지 않아서 박리 특성에서 문제가 있다.More specifically, the ceramic substrate used in the present invention is a substrate that can withstand high temperatures when firing an electrode. However, in a ceramic substrate having no deformation at 1000 占 폚 or more, the peeling characteristics vary depending on the surface roughness, so that it is necessary to manage the roughness characteristics of the substrate. Therefore, in the present invention, it is preferable that the surface roughness of the ceramic substrate has an Ra value of 0.01 to 0.5 in consideration of the optimum peeling property at the time of electrode production. If the Ra value is less than 0.01, a precise surface lapping operation of the ceramic substrate is added. Therefore, there is a problem of an increase in the price, and when the Ra value exceeds 0.5, the roughness of the surface of the ceramic substrate is poor.

이러한 특정 조도 값을 나타내는 세라믹 기판의 바람직한 예를 들면, 알루미나 또는 알루미늄 나이트라이트를 포함하는 세라믹 기판이 있다. 기존 일반적으로 사용되는 글래스는 박리가 불가능하며, 폴리이미드 필름 (PI film)은 소성이 불가하므로, 본 발명에 따른 특정 조도 값을 나타내는 세라믹 기판을 적용해야 박리가 용이한 전극 제조가 가능하다.Preferable examples of the ceramic substrate exhibiting such a specific roughness value include a ceramic substrate including alumina or aluminum nitride. Conventional commonly used glass can not be peeled off, and a polyimide film (PI film) can not be fired. Therefore, it is possible to manufacture an electrode which can be easily peeled off by applying a ceramic substrate exhibiting a specific roughness value according to the present invention.

또한, 본 발명은 상기 전극 패턴의 소성체를 박리시 점착 성분을 이용할 수 있다. 상기 점착 성분은 세라믹 기판에 소성되어 있는 소성체를 박리하고 다른 기판으로 전이시키기 위한 매개체이다. 따라서, 전극 소성체, 바람직하게 Ag 소정체는 점착 성분을 통해 세라믹 기판에서 다른 전자재료 기판으로 이동하게 된다. 이러한 점착 성분은 그 두께가 한정되지는 않으며, 이 분야에 잘 알려진 구입이 용이한 것을 모두 사용 가능하다. 바람직하게, 상기 전극 패턴의 소성체를 박리 및 전이하는 단계에서, 상기 점착 성분으로 점착 필름(Stacky film), 접착력 테이프 또는 양면 테이프를 사용하여 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시킬 수 있다. 또한, 상기 전극 패턴의 소성체의 박리 및 전이 방법의 일례를 들면, 전극 소성체 위에 점착 필름을 올렸다가 떼어내기만 하면 용이하게 상기 전극 소성체를 세라믹 기판에서 다른 전자재료 등에 전사시킬 수 있다.Further, in the present invention, an adhesive component can be used when the fired body of the electrode pattern is peeled off. The adhesive component is a medium for separating the fired bodies baked on the ceramic substrate and transferring the fired bodies to another substrate. Therefore, the electrode fired body, preferably the Ag prism body, moves from the ceramic substrate to another electronic material substrate through the adhesive component. Such a pressure-sensitive adhesive component is not limited in its thickness. Preferably, in the step of peeling and transferring the sintered body of the electrode pattern, the sintered body of the electrode pattern can be peeled and transferred from the substrate by using an adhesive film (Stacky film), an adhesive tape or a double-sided tape as the adhesive component . An example of the method of peeling and transferring the fired body of the electrode pattern is that the fired electrode can be easily transferred from the ceramic substrate to another electronic material by simply raising and removing the pressure-sensitive adhesive film on the fired electrode.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 소성은 400 내지 900℃의 온도에서 2분 내지 600분 동안 이루어질 수 있다. 또한, 상기 소성은 Box 소성로 또는 벨트 소성로에서 진행될 수 있다.
Further, according to the present invention, the firing can be performed at a temperature of 400 to 900 DEG C for 2 to 600 minutes. The firing may be carried out in a Box firing furnace or a belt firing furnace.

한편, 발명의 바람직한 다른 구현예에 따르면, 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속 50 내지 90 중량%, 바인더 1 내지 20 중량%, 유기용매 1 내지 30 중량% 및 분산제 0.1 내지 10 중량%를 포함하며, 상술한 전극의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는, 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물이 제공된다.According to another preferred embodiment of the present invention, it comprises 50 to 90% by weight of a conductive metal having an average particle diameter of 20 to 900 nm, 1 to 20% by weight of a binder, 1 to 30% by weight of an organic solvent and 0.1 to 10% And an electrode paste composition for a peelable electronic material is provided, which is used for the production of the above-mentioned electrode.

상기 전극 페이스트 조성물은 평균 입경 1~5㎛크기의 구형 은분말, 금분말, Ag 코팅된 Cu 분말, Cu 분말, Al, 및 ZnO 분말로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함할 수 있다.The electrode paste composition may further include at least one selected from the group consisting of spherical silver powder having an average particle size of 1 to 5 탆, gold powder, Ag coated Cu powder, Cu powder, Al, and ZnO powder.

이러한 전극 페이스트 조성물은 기존대비 박리특성이 우수한 조성을 가지고 있으므로, 용이한 방법으로 박리형 전극을 제조할 수 있다.Since such an electrode paste composition has a composition excellent in peeling property compared with the conventional one, a peelable electrode can be manufactured by an easy method.

이때, 본 발명은 도전성 금속으로 나노크기의 은분말을 사용함으로써, 기판으로부터의 박리성을 향상시킬 수 있다. 즉, 나노크기의 분말은 수축률이 크기 때문에 박리에 유리한 효과를 제공한다.At this time, the present invention can improve the peelability from the substrate by using a nano-sized silver powder as the conductive metal. Namely, since the nano-sized powder has a large shrinkage ratio, it provides a favorable effect for peeling.

따라서, 상기 도전성 금속은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게 100 내지 500nm의 평균입경을 갖는 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 도전성 금속은 100 내지 500nm의 평균입경을 갖는 구형의 Ag 또는 Ag 코팅된 Cu 입자를 사용하는 것이 가장 바람직할 수 있다.Therefore, it is preferable that the conductive metal includes at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles having an average particle diameter of 20 to 900 nm, And may include at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles having an average particle size of 100 to 500 nm. It is most preferable to use spherical Ag or Ag coated Cu particles having an average particle diameter of 100 to 500 nm as the conductive metal.

또한, 본 발명의 전극 페이스트 조성물은 상기 나노크기의 도전성 금속 분말 외에 마이크로 크기의 금속 분말을 선택적으로 추가로 혼합 사용하는 것이 바람직하다. 상기 마이크로 크기의 금속 분말은 마이크로 크기를 갖는 구형의 은분말, 금분말, Ag 코팅된 Cu 분말, Cu 분말, Al, 및 ZnO 분말로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 또한 상기 마이크로 크기의 금속 분말은 평균 입경이 1~5㎛일 수 있다.In addition, the electrode paste composition of the present invention preferably further comprises a mixture of micro-sized metal powders in addition to the nano-sized conductive metal powder. The micro-sized metal powder may be at least one selected from the group consisting of spherical silver powder having a micro size, gold powder, Ag coated Cu powder, Cu powder, Al, and ZnO powder. The micro-sized metal powder may have an average particle diameter of 1 to 5 mu m.

이러한 경우 바람직한 예를 들면, 본 발명의 도전성 금속은 마이크로 크기의 금속분말과 나노크기의 금속 분말의 혼합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 마이크로 크기의 금속 분말과 나노크기의 금속 분말은, 전극 페이스트 조성물에 사용되는 전체 도전성 금속 중에서 1:99 내지 99:1의 중량비로 혼합 사용할 수 있다. 이때, 도전성 금속으로 기존과 같이 마이크로크기의 구형 또는 판상형 Ag 분말만 혼합 사용할 경우, 박리특성이 떨어진다.In this case, as a preferable example, it is preferable that the conductive metal of the present invention includes a mixture of a micro-sized metal powder and a nano-sized metal powder. The micro-sized metal powder and the nano-sized metal powder may be mixed in a weight ratio of 1:99 to 99: 1 in the total conductive metal used for the electrode paste composition. At this time, when the conductive metal is mixed with only spherical or plate-shaped Ag powder of micro size as before, the peeling property is deteriorated.

상기 도전성 금속의 함량이 50 중량% 미만이면 소성시 탈바인딩율이 커서 전극의 치밀도가 떨어지므로 저항이 상승하는 문제가 있고, 90 중량%를 초과하면 소성두께 상승으로 박리 및 전이시 전극의 크랙이 발생할 수 있으며, 가격상승의 문제가 있다.When the content of the conductive metal is less than 50% by weight, there arises a problem that the resistance of the electrode is lowered due to a high debinding rate at the time of firing and the density of the electrode is decreased. When the content exceeds 90% by weight, And there is a problem of price increase.

또한, 본 발명에서 상기 바인더는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 비닐 수지, 에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필 에틸 셀룰로오스, 하이드록시프로필 메틸셀룰로오스, 폴리메타크릴레이트, 모노부틸 에테르 및 폴리비닐수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다. 상기 바인더는 전극 페이스트 조성물의 인쇄 후 소성공정에서 탈바인딩될 수 있다. 또한, 본 발명의 전극 페이스트 조성물을 구성하는 상기 바인더의 함량이 1 중량% 미만이면 페이스트의 인쇄가능한 레올로지 특성 확보가 어려운 문제가 있고, 20 중량%를 초과하면 인쇄시 선폭 퍼짐으로 원하는 선폭 구현이 어렵고, 탈바인딩시 전극의 치밀도를 저하시키는 문제가 있다.In the present invention, the binder may be selected from the group consisting of acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, amino resin, phenol resin, vinyl resin, ethyl cellulose, hydroxypropyl ethyl cellulose, , Monobutyl ether, and polyvinyl resin. The binder may be debinded in the post-firing process of the electrode paste composition. If the content of the binder constituting the electrode paste composition of the present invention is less than 1% by weight, it is difficult to secure the printable rheology property of the paste. If the content exceeds 20% by weight, And there is a problem that the density of the electrode is lowered during debinding.

또한, 상기 전극 페이스트 조성물은 필요에 따라 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전도성 고분자를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 전도성 고분자는 고형분 함량이 0.1 내지 5.0 wt%인 용액 상태로 제조하여 사용 가능하고, 전극 페이스트 조성물 100 중량부에 대해 1 내지 30 중량부로 사용 가능하다. In addition, the electrode paste composition may further include at least one conductive polymer selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, and derivatives thereof, if necessary. At this time, the conductive polymer may be used in a form of a solution having a solid content of 0.1 to 5.0 wt%, and may be used in an amount of 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the electrode paste composition.

또한, 상기 유기용매는 전체 조성물에 대하여 잔량으로 포함될 수 있으나, 바람직하게 전체 전극 페이스트 조성물의 충 중량을 기준으로 1 내지 30 중량%로 사용할 수 있다.In addition, the organic solvent may be contained in a residual amount relative to the whole composition, but may be preferably used in an amount of 1 to 30% by weight based on the weight of the entire electrode paste composition.

상기 유기용매는 터피네올, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 다이에틸렌 글리콜 모노 부틸에테르, 에틸렌 글리콜, 텍사놀, 부틸카비톨 아세테이트, 디메틸 포름아마이드, 아세틸 아세톤, 1-메틸-2-피롤리딘온, 디프로필케톤 및 에틸 락테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The organic solvent may be at least one selected from the group consisting of terpineol, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol, texanol, butyl carbitol acetate, dimethyl formamide, acetylacetone, Propyl ketone, and ethyl lactate.

또한, 상기 분산제는 이 분야에 잘 알려진 재료를 사용 가능하므로, 그 종류와 함량 범위가 특별히 한정되지 않는다. 바람직하게, 상기 분산제는 전극 페이스트 조성물의 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%로 사용한다.In addition, since the dispersing agent can use materials well known in the art, the kind and content range thereof are not particularly limited. Preferably, the dispersing agent is used in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the electrode paste composition.

본 발명의 전극 페이스트 조성물의 제조방법은 특별히 한정되지 않고, 상술한 각 성분을 혼합하여 제조한다. 이때, 본 발명은 기존의 저온형 전자재료 기판에 사용되는 전극 재료처럼 경화제를 사용하여 경화를 진행하고, 도금공정을 진행하는 방식과 달리, 경화제를 포함하지 않고 소성과정만 거쳐 낮은 저항을 구현할 수 있으므로 상술하는 바의 전극 제조에 이용 가능하다.
The method for producing the electrode paste composition of the present invention is not particularly limited, and is manufactured by mixing the respective components described above. In this case, unlike the electrode material used in the conventional low-temperature type electronic material substrate, the curing process is performed by using a curing agent, and unlike the method of performing the plating process, a low resistance can be realized through only the firing process without the curing agent And thus can be used for manufacturing the electrode as described above.

한편 본 발명의 다른 구현예에 따라, 상술한 방법에 따른 방법으로 제조된 연성회로기판용 전극이 제공된다.According to another embodiment of the present invention, there is provided an electrode for a flexible circuit board manufactured by a method according to the above-described method.

즉, 본 발명의 전극은 연성회로기판에 적용되는 용도로 사용될 수 있다. 특히, 본 발명의 전극은 연성회로회로 기판에 적용되며, NFC안테나, WPC(무선충전기용 안테나), IOT(사물인터넷)용, BLU용, TSP용, 디지타이저, 카메라 모듈용, 또는 밴딩타입용 전극의 제조에 사용되는 것이 바람직하다.That is, the electrode of the present invention can be used for application to a flexible circuit board. Particularly, the electrode of the present invention is applied to a flexible circuit board, and can be used for an NFC antenna, an antenna for a wireless charger, an IOT (Internet), a BLU, a TSP, a digitizer, a camera module, It is preferable to use it for the production of

이러한 경우, 본 발명은 종래와 같이 에칭 및 도금 공정 없이도 간편하게 박리형 전극을 제조할 수 있고, 전극의 성능도 우수하여 박리형 전자재료에 효과적으로 사용할 수 있다.
In this case, the present invention can easily manufacture the peelable electrode without etching and plating processes as in the conventional method, and the electrode can be effectively used for the peelable electronic material because of its excellent performance.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

도전성 금속(평균 입경 1.5㎛의 판상형 은분말) 80 중량%, 바인더(폴리에스터) 6 중량%, 유기용매(프로필렌글리콜모노메틸에테르) 8 중량%, 경화제(BI-180) 5.5 중량% 및 분산제(BYK-111) 0.5 중량%를 혼합하여 전극 페이스트 조성물을 제조하였다., 80 wt% of a conductive metal (plate-shaped silver powder having an average particle diameter of 1.5 탆), 6 wt% of a binder (polyester), 8 wt% of an organic solvent (propylene glycol monomethyl ether), 5.5 wt% of a curing agent (BI- BYK-111) were mixed to prepare an electrode paste composition.

이후, PI 필름 위에 상기 전극 페이스트를 전극 패턴으로 인쇄하고, 120℃에서 30분 동안 건조 및 경화하여 Ag전극을 제조하였다. 그런 다음, 상기 Ag 전극 위에 통상의 방법으로 구리 도금을 실시하여 전극을 제조하였다. 즉, 비교예 1은 페이스트를 일반적인 방법으로 연성 기판에 인쇄 및 건조 후, 구리 도금액을 사용하여 도금 공정을 거쳐 전극을 제조하였다.
Then, the electrode paste was printed on the PI film in an electrode pattern, and dried and cured at 120 캜 for 30 minutes to prepare an Ag electrode. Then, copper was plated on the Ag electrode by a conventional method to prepare an electrode. That is, in Comparative Example 1, the paste was printed and dried on a flexible substrate by a general method, and then a plating process was performed using a copper plating solution to prepare an electrode.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

하기 표 1과 같이, 도전성 금속(평균 입경 200nm의 구형 은분말 및 평균 입경 1.3㎛의 구형 은분말) 혼합물(중량비=1:0.7 (전체 도전성 금속에서의 중량비=39:61)) 90 중량%, 바인더(하이드록시프로필 메틸셀룰로오스) 4.5 중량%, 유기용매(프로필렌글리콜모노메틸에테르) 5 중량% 및 분산제(BYK-108) 0.5 중량%를 혼합하여 전극 페이스트 조성물을 제조하였다. 90 weight% of a mixture of a conductive metal (spherical silver powder having an average particle diameter of 200 nm and spherical silver powder having an average particle diameter of 1.3 탆) (weight ratio = 1: 0.7 (weight ratio of all conductive metals) = 39: 61) 4.5% by weight of a binder (hydroxypropylmethylcellulose), 5% by weight of an organic solvent (propylene glycol monomethyl ether) and 0.5% by weight of a dispersant (BYK-108) were mixed to prepare an electrode paste composition.

두께 1mm의 알루미나 기판을 준비하고, 상기 기판 위에 전극 페이스트를 전극 패턴으로 인쇄하였다. 그런 다음, 별도의 경화과정 없이 30분간 600℃의 Box 소성로에서 소성하여 기판에 Ag 소성체를 제조하였다. 이때, 하기 표 2에 나타낸 바대로, 전극 제조시 다양한 Ra를 갖는 세라믹 기판을 사용하였다(두께 1mm의 알루미나 기판(Ra=0.01 내지 0.5), 알루미늄 나이트라이트(Ra=0.2 내지 0.5)). An alumina substrate having a thickness of 1 mm was prepared, and an electrode paste was printed on the substrate in an electrode pattern. Then, the sintered body was baked in a Box baking furnace at 600 ° C for 30 minutes without a separate curing process. At this time, as shown in Table 2 below, a ceramic substrate having various Ras was used in the production of an electrode (an alumina substrate with a thickness of 1 mm (Ra = 0.01 to 0.5) and aluminum nitride (Ra = 0.2 to 0.5)).

이어서, 두께 0.05mm의 점착 필름을 이용하여 상기 기판으로부터 Ag 소성체를 박리 및 전이시켜 전극을 제조하였다.
Subsequently, the Ag fired body was peeled and transferred from the substrate using an adhesive film having a thickness of 0.05 mm to prepare an electrode.

<실시예 2 내지 8>&Lt; Examples 2 to 8 &

하기 표 1과 같이 조성과 함량을 변경한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 전극을 제조하였다. 단, 실시예 6 내지 7은 고온 소성과정에서 Box소성로 내부를 N2 gas를 주입하여 안정한 질소분위기에서 소성하면서 Cu의 산화를 방지하면서 전극을 제조하였다.An electrode was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition and the content were changed as shown in Table 1 below. However, in Examples 6 to 7, N 2 gas was injected into the box baking furnace during the high-temperature firing process, and firing was performed in a stable nitrogen atmosphere, thereby preventing the oxidation of Cu.

실시예Example 1One 22 33 44 55 66 77 88 도전성 금속
(전도성입자)
Conductive metal
(Conductive particles)
은분말,1.5㎛ (wt%)Silver powder, 1.5 占 퐉 (wt%) 3535 1010
은분말,1.3㎛ (wt%)Silver powder, 1.3 占 퐉 (wt%), 3535 5555 1010 은분말,400nm (wt%)Silver powder, 400 nm (wt%), 5555 4545 은분말,200nm (wt%)At 200 nm (wt%), 5555 3535 7070 4545 5555 5555 5555 Ag coated CuAg coated Cu 3535 Cu powderCu powder 3535 Au powderAu powder 3535 바인더bookbinder 하이드록시프로필 메틸셀룰로오스 (wt%)Hydroxypropyl methylcellulose (wt%) 4.54.5 4.54.5 4.54.5 4.54.5 4.54.5 4.54.5 4.54.5 4.54.5 유기
용매
abandonment
menstruum
프로필렌글리콜모노메틸에테르 (wt%)Propylene glycol monomethyl ether (wt%) 55 55 55 55 55 55 55 55
첨가제additive 분산제 (wt%)Dispersant (wt%) 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5

<비교예 2 내지 3>&Lt; Comparative Examples 2 to 3 >

하기 표 2와 같이 조성과 함량을 변경한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 전극을 제조하였다. An electrode was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition and content were changed as shown in Table 2 below.

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 도전성 금속
(전도성입자)
Conductive metal
(Conductive particles)
은분말,1.5㎛ (wt%)Silver powder, 1.5 占 퐉 (wt%) 80
(판상형)
80
(Plate type)
3535
은분말,1.3㎛ (wt%)Silver powder, 1.3 占 퐉 (wt%), 5555 9090 은분말,400nm (wt%)Silver powder, 400 nm (wt%), 은분말,200nm (wt%)At 200 nm (wt%), Ag coated CuAg coated Cu Cu powderCu powder Au powderAu powder 바인더bookbinder 폴리에스테르(wt%)Polyester (wt%) 66 하이드록시프로필
메틸셀룰로오스 (wt%)
Hydroxypropyl
Methyl cellulose (wt%)
4.54.5 4.54.5
유기
용매
abandonment
menstruum
프로필렌글리콜
모노메틸에테르 (wt%)
Propylene glycol
Monomethyl ether (wt%)
88 55 55
경화제Hardener BI-180(wt%)BI-180 (wt%) 5.55.5 첨가제additive 분산제 (wt%)Dispersant (wt%) 0.50.5 0.50.5 0.50.5

<실험예><Experimental Example>

상기 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 전극에 대하여, 통상적인 방법으로 저항을 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타내었다. Resistances of the electrodes of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 were measured by a conventional method, and the results are shown in Table 3.

또한, 하기 표 3에 나타낸 바대로, 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 3의 경우, 기판의 Ra에 따라 다양하게 실험하였다 (두께 1mm의 알루미나 기판(Ra=0.01 내지 0.5), 알루미늄 나이트라이트(Ra=0.2 내지 0.5)). 그리고, 각 기판에 대한 박리특성 결과는 다음 평가 기준으로 측정하여 표 3에 결과를 나타내었다.In Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 as shown in Table 3 below, various experiments were conducted according to Ra of the substrate (an alumina substrate with a thickness of 1 mm (Ra = 0.01 to 0.5), aluminum nitride (Ra = 0.2 to 0.5)). The results of peeling properties for each substrate were measured in accordance with the following criteria and the results are shown in Table 3.

◎: 세라믹 기판에서 Ag 소성체를 저점착 필름(Stacky Film)으로 박리한 경우&Amp; cir &amp;: When the Ag-sintered body was peeled off from a ceramic substrate with a low adhesive film (Stacky Film)

○: 세라믹 기판에서 Ag 소성체를 중점착 필름(3M 810 Scotch Magic Tape)으로 박리한 경우○: When the Ag-sintered body was peeled off from the ceramic substrate with a focusing film (3M 810 Scotch Magic Tape)

△: 세라믹 기판에서 Ag 소성체를 고점착 필름(3M 610 Scotch Tape)으로 박리한 경우DELTA: When the Ag-sintered body was peeled off from the ceramic substrate by a high-adhesion film (3M 610 Scotch Tape)

X : 세라믹 기판에서 Ag 소성체를 박리시 박리가 전혀 되지 않은 경우X: No peeling at all when the Ag fired body was peeled from the ceramic substrate

실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 44 55 66 77 88 1One 22 33 선저항(Ω/60cm)Line resistance (Ω / 60cm) 0.50.5 0.60.6 0.80.8 0.60.6 1.01.0 1.21.2 1.31.3 0.40.4 0.80.8 1.31.3 1.31.3 소성두께 (um)Plastic Thickness (um) 1515 1717 1818 1616 1616 1515 1414 1313 15
건조두께
15
Dry thickness
2020 1919
박리
특성
Exfoliation
characteristic
Al2O3
(순도 96%)
Ra값 0.5이상
Al 2 O 3
(96% purity)
Ra value of 0.5 or more
XX XX XX XX XX XX XX XX XX XX
Al2O3
(순도 96%)
Ra값 0.2~0.5
Al 2 O 3
(96% purity)
Ra value 0.2 to 0.5
XX XX
Al2O3
(순도 96%)
Ra값 0.01~0.05
Al 2 O 3
(96% purity)
Ra value 0.01 to 0.05
Al2O3
(순도 99.9%)
Ra값 0.2~0.5
Al 2 O 3
(Purity 99.9%)
Ra value 0.2 to 0.5
XX XX
AlN
Ra값 0.2~0.5
AlN
Ra value 0.2 to 0.5

상기 표 3의 결과를 보면, 본 발명의 실시예 1 내지 8은 비교예 1 내지 3 대비, 선저항이 낮고, 소성 두께 및 박리특성이 모두 전반적으로 우수함을 알 수 있다. 반면, 비교예 1은 경화 공정을 거쳐야 하고 또한 에칭 및 도금 공정 등이 필수적이며, 비교예 2 내지 3은 나노크기의 은분말을 사용하지 않으므로, 박리 특성이 불량하였다.From the results of Table 3, it can be seen that Examples 1 to 8 of the present invention are low in line resistance, compared to Comparative Examples 1 to 3, and have excellent overall thickness and delamination properties. On the other hand, Comparative Example 1 is required to undergo a curing process and also requires an etching and plating process, and Comparative Examples 2 and 3 do not use nano-sized silver powder.

이러한 결과를 통해, 본 발명은 기존 공정 보다 효율적으로 전극을 제조할 수 있음을 알 수 있다. 즉, 본 발명은 별도의 도금 공정 없이도 필요한 저항을 구현할 수 있는 전극을 제공할 수 있으므로, 환경 유해 요인을 방지할 수 있다. 또한 본 발명은 특정 조도가 우수한 값을 갖는 세라믹 기판을 이용하므로, 소성 공정 후 간단한 방법으로 전극의 박리 및 전사가 가능하므로, 낮은 저항을 구현할 수 있는 각종 전자재료용 전극을 용이한 방법으로 제공할 수 있다.From these results, it can be seen that the present invention can manufacture electrodes more efficiently than conventional processes. In other words, the present invention can provide an electrode capable of realizing a required resistance even without a separate plating process, thereby preventing environmental harmful factors. Further, since the present invention uses a ceramic substrate having a specific roughness value, it is possible to peel and transfer the electrode by a simple method after the firing process, so that electrodes for various electronic materials capable of realizing a low resistance can be easily provided .

Claims (14)

(a) 전극 페이스트 조성물을 이용하여 기판에 전극 패턴을 인쇄하는 단계;
(b) 상기 전극 페이스트 조성물이 인쇄된 기판을 소성하여 전극 패턴의 소성체를 형성하는 단계; 및
(c) 상기 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시키는 단계;
를 포함하는 전극의 제조방법.
(a) printing an electrode pattern on a substrate using an electrode paste composition;
(b) firing a substrate on which the electrode paste composition is printed to form a fired body of the electrode pattern; And
(c) separating and transferring the sintered body of the electrode pattern from the substrate;
Wherein the electrode is formed of a metal.
제1항에 있어서,
상기 기판은 Ra 값이 0.01 내지 0.5인 표면 조도를 갖는 세라믹 기판인 것을 특징으로 하는 전극의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate is a ceramic substrate having a surface roughness Ra of 0.01 to 0.5.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기판은 알루미나 또는 알루미늄 나이트라이트를 포함하는 세라믹 기판인, 전극의 제조방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the substrate is a ceramic substrate comprising alumina or aluminum nitride.
제1항에 있어서,
상기 전극 패턴의 소성체를 박리 및 전이하는 단계에서, 점착 필름, 접착력 테이프 또는 양면 테이프를 사용하여 전극 패턴의 소성체를 기판으로부터 박리 및 전이시키는 것인, 전극의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein in the step of peeling and transferring the fired body of the electrode pattern, the fired body of the electrode pattern is peeled and transferred from the substrate by using an adhesive film, an adhesive tape or a double-sided tape.
제1항에 있어서,
상기 소성은 400 내지 900℃의 온도에서 2분 내지 600분 동안 이루어지는 것인, 전극의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the firing is performed at a temperature of 400 to 900 DEG C for 2 to 600 minutes.
제1항에 있어서,
상기 전극 페이스트 조성물은 20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속, 바인더, 유기용매 및 분산제를 포함하는 전극의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the electrode paste composition comprises a conductive metal having an average particle diameter of 20 to 900 nm, a binder, an organic solvent and a dispersant.
제6항에 있어서,
상기 도전성 금속은 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 전극의 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the conductive metal is at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles.
20 내지 900nm의 평균입경을 갖는 도전성 금속 50 내지 90 중량%, 바인더 1 내지 20 중량%, 유기용매 1 내지 30 중량% 및 분산제 0.1 내지 10 중량%를 포함하며, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 전극의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는,
박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물.
1 to 20% by weight of a binder, 1 to 30% by weight of an organic solvent and 0.1 to 10% by weight of a dispersant, wherein the conductive metal has an average particle diameter of 20 to 900 nm, &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 1, &lt; / RTI &gt;
Electrode paste composition for peelable electronic material.
제8항에 있어서,
평균 입경 1~5㎛크기의 구형 은분말, 금분말, Ag 코팅된 Cu 분말, Cu 분말, Al, 및 ZnO 분말로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함하는 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물.
9. The method of claim 8,
Wherein the electrode paste composition further comprises at least one selected from the group consisting of spherical silver powder having an average particle size of 1 to 5 占 퐉, gold powder, Ag coated Cu powder, Cu powder, Al, and ZnO powder.
제8항에 있어서,
상기 바인더는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 비닐 수지, 에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필 에틸 셀룰로오스, 하이드록시프로필 메틸셀룰로오스, 폴리메타크릴레이트, 모노부틸 에테르 및 폴리비닐수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물.
9. The method of claim 8,
The binder may be selected from the group consisting of acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, amino resin, phenol resin, vinyl resin, ethyl cellulose, hydroxypropyl ethyl cellulose, And a polyvinyl resin. The electrode paste composition for a peelable electronic material according to claim 1,
제8항에 있어서,
상기 유기용매는 터피네올, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 다이에틸렌 글리콜 모노 부틸에테르, 에틸렌 글리콜, 텍사놀, 부틸카비톨 아세테이트, 디메틸 포름아마이드, 아세틸 아세톤, 1-메틸-2-피롤리딘온, 디프로필케톤 및 에틸 락테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물.
9. The method of claim 8,
The organic solvent may be at least one selected from the group consisting of terpineol, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol, texanol, butyl carbitol acetate, dimethyl formamide, acetylacetone, Wherein the electrode paste composition is at least one selected from the group consisting of propyleneglycol, propyleneglycol, propyleneglycol, propyleneglycol, ethyleneglycol, propyleneglycol, propyleneglycol, propyleneglycol,
제8항에 있어서,
상기 도전성 금속은 구형의 Ag, Ag 코팅된 Cu, Au, Cu, Al, 및 ZnO 입자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 박리형 전자재료용 전극 페이스트 조성물.
9. The method of claim 8,
Wherein the conductive metal is at least one selected from the group consisting of spherical Ag, Ag coated Cu, Au, Cu, Al, and ZnO particles.
제1항에 따른 방법으로 제조된 연성회로기판용 전극.
An electrode for a flexible circuit board produced by the method according to claim 1.
제13항에 있어서, 상기 전극은 NFC안테나, WPC(무선충전기용 안테나), IOT(사물인터넷)용, BLU용, TSP용, 디지타이저, 카메라 모듈용, 또는 밴딩타입용 전극을 포함하는 연성회로기판용 전극.14. The method of claim 13, wherein the electrode is a flexible circuit board including an NFC antenna, an antenna for a wireless charger, an IOT, a BLU, a TSP, a digitizer, a camera module, Electrode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20230120716A (en) * 2022-02-10 2023-08-17 파워팩 주식회사 Conductive paste composition and uses thereof

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