KR20150087612A - Apparatus and method for generating structured light - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 구조광 생성 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다중 수직 공진 표면광 레이저(Vertical Cavity Surface Emitting Laser; VCSEL) 광원을 이용하여, 피사체의 깊이 영상을 획득할 수 있는 구조광 생성 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a structured light generating apparatus, and more particularly, to a structured light generating apparatus and method capable of acquiring a depth image of a subject using a multiple vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) .
일반적으로, 3차원 영상 정보는, 형상(geometry) 정보와 컬러(color) 정보를 포함하는데, 형상 정보는 깊이(depth) 영상을 이용하여 얻어질 수 있다.Generally, the three-dimensional image information includes geometry information and color information, and the shape information can be obtained using a depth image.
최근 이러한 3차원 깊이 영상을 획득하기 위하여, 두 장 이상의 가시광 영상을 이용하는 기존의 방법 대신에, 능동 광원을 이용한 적외선 영상으로 깊이 영상 정보를 획득하는 방식이 사용되고 있다.Recently, in order to acquire such a 3D depth image, a method of acquiring depth image information from an infrared image using an active light source is used instead of an existing method using two or more visible light images.
그리고, 깊이 측정 방식 중, 2차원 수광계를 이용한 측정 방식은, 광원의 공간적 변형을 이용한 구조광 방식과, 광원의 시간적 변형을 이용한 ToF(Time of Flight) 방식이 대표적이라 할 수 있다.Of the depth measurement methods, a measurement method using a two-dimensional photometer can be typified by a structured light method using spatial deformation of a light source and a time-of-flight (ToF) method using temporal deformation of a light source.
여기서, 구조광 방식은, 특정 패턴이 코딩된 레이저 광을 물체에 조사하고, 되돌아오는 반사광을 카메라로 기록하며, 이 반사광의 패턴 이동(shift) 량을 계산함으로써, 물체의 깊이를 측정하는 방식이다.Here, in the structured light system, a depth of an object is measured by irradiating an object with a laser beam coded with a specific pattern, recording the returned light reflected by the camera, and calculating a shift amount of the reflected light .
이 방식은, 레이저 광원을 사용하고, 코딩된 반사광을 받아들이는 송광부와 수광부의 물리적인 크기로 인하여 소형화에 제약이 따르고, 이로 인하여 모바일 제품에의 응용이 어려운 단점이 있다.This method is disadvantageous in that it is difficult to apply to a mobile product due to a limitation in downsizing due to a physical size of a light-emitting portion and a light-receiving portion which use a laser light source and receive coded reflected light.
또한, 이 방식은, 소수의 광원을 이용하여, 다수의 구조 광원을 생성해야 하므로, 고출력의 광원이 필요하며, 또한 패턴 형성을 광학 소자에서 광효율을 저하시키는 문제가 있었다.In addition, this method has a problem that a light source of high output is required because a plurality of structured light sources are generated by using a small number of light sources, and the optical efficiency is lowered in an optical element by pattern formation.
이 경우, 카메라 등과 같은 수광 센서에서는, 구조 광이 외란 광과 구분하기 위해서는 광점이 존재하는 부분과 광점이 존재하지 않는 부분 사이의 밝기 차이가 클수록 안정적인 3차원 깊이 정보를 획득할 수 있다.In this case, in the light-receiving sensor such as a camera, stable three-dimensional depth information can be obtained as the difference in brightness between the portion where the light spot exists and the portion where the light spot does not exist is large in order to distinguish the structured light from the disturbance light.
따라서, 수광계가 안정적인 깊이 정보를 획득하기 위해서는, 고출력의 레이저 광원이 필요하므로, 필연적으로 발열이 발생한다.Therefore, in order for the photomultiplier to acquire stable depth information, a high-power laser light source is required, so that heat is inevitably generated.
이처럼, 레이저 광원의 특성상, 발열이 발생하면, 광원의 파장 천이가 발생하는데, 수광계에서는, 주변에 존재하는 외란 광과 구조 광을 분리하기 위하여, 특정 파장의 광만을 통과시키는 광학 필터를 사용하므로, 광 효율은 더욱 급격히 저하될 수 있다.As described above, due to the characteristics of the laser light source, when a heat generation occurs, a wavelength transition of the light source occurs. In the light receiving system, an optical filter that passes only light of a specific wavelength is used in order to separate disturbance light and structured light existing in the surrounding , The light efficiency can be lowered more rapidly.
이러한 광 효율 저하를 막기 위하여, 레이저 광원 및 그 주변에 광을 냉각시키기 위한 냉각 장치가 사용되기도 하였지만, 냉각 장치의 추가로 인하여, 소형화 및 비용절감에 제약이 있으므로, 구조 광 발생 장치의 구조적 한계와 비용적 한계를 가지게 되는 문제가 있었다.In order to prevent such deterioration in light efficiency, a laser light source and a cooling device for cooling light around the laser light source have been used. However, due to the addition of a cooling device, there are restrictions on downsizing and cost reduction. There is a problem in that it has a cost limit.
본 발명의 일실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는, 수직 공진 표면광 레이저 광원으로 발광부를 구성하여, 장치 전체 크기를 줄이고, 구조광의 광 효율 및 안정성을 향상시킬 수 있는 구조광 생성 장치 및 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a structured light generating apparatus and a method for constructing a light emitting unit with a vertical resonant surface light laser light source to reduce the overall size of the apparatus and improve the light efficiency and stability of the structured light do.
또한, 본 발명의 일실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는, 패턴 변환부를 이용하여, 복제부에서 구조광 복제시에 발생하는 복제 왜곡을 크게 줄여, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있는 구조광 생성 장치 및 방법을 제공하고자 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method for generating a structured light, which is capable of increasing the structural optical recognition rate in a photodetector by significantly reducing copying distortion occurring during copying of the structured light, Apparatus, and method.
본 발명의 일실시예에 의한 구조광 생성 장치는, 다수의 광원들이 매트릭스 형태로 배열되는 발광부와, 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는 패턴 변환부와, 변환된 제 2 광 패턴을 다수개로 복제하여, 구조광을 생성하고, 생성된 구조광을 피사체로 전송하는 복제부를 포함하고, 발광부에서, 서로 인접하는 광원들은, 최소 기준 간격을 가지며, 최소 기준 간격은, 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정될 수 있다.A structured light generating apparatus according to an embodiment of the present invention includes a light emitting unit having a plurality of light sources arranged in a matrix form, a pattern converting unit converting a first light pattern generated from the light emitting unit into a second light pattern, And a copying unit for copying a plurality of second light patterns of the first light pattern to generate a structured light and transmitting the generated structured light to the subject, wherein the light sources adjacent to each other have a minimum reference interval, Can be determined according to the amount of light of the adjacent light sources.
여기서, 발광부의 광원은, 수직 공진 표면광 레이저 광원일 수 있다.Here, the light source of the light emitting portion may be a vertical resonant surface light laser light source.
그리고, 발광부의 광원들은, 서로 인접하는 광원들 사이의 최소 기준 간격이 모두 동일할 수 있고, 서로 동일한 광량을 가질 수도 있다.In addition, the light sources of the light emitting unit may have the same minimum reference intervals between adjacent light sources, and may have the same light quantity.
이어, 패턴 변환부는, 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는데, 제 2 광 패턴은, 제 1 광 패턴의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가한 광 패턴일 수 있다.Then, the pattern converting section converts the first light pattern generated from the light emitting section into a second light pattern, wherein the second light pattern has a predetermined pattern interval in the X-axis direction or the Y-axis direction Lt; RTI ID = 0.0 > value. ≪ / RTI >
또한, 패턴 변환부는, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 평행광으로 제공하는 제 1 광학 부재 및 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는 제 2 광학 부재 중, 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The pattern converting unit may include at least one of a first optical member for providing light having the first light pattern as parallel light and a second optical member for converting the first light pattern to the second light pattern .
그리고, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에는, 제 3 광학 부재가 배치되고, 제 3 광학 부재는, 회절 광학 소자일 수 있다.A third optical member may be disposed between the first optical member and the second optical member, and the third optical member may be a diffractive optical element.
본 발명의 일실시예에 의한 구조광 생성 장치의 구조광 생성 방법은, 발광부로부터 제 1 광 패턴을 갖는 광을 생성하는 단계와, 발광부로부터 생성된 광을 평행광으로 만드는 단계와, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 제 2 광 패턴으로 변환하는 단계와, 제 2 광 패턴으로 변환된 광을 다수개로 복제하여, 구조광을 생성하는 단계와, 생성된 구조광을 피사체로 전송하는 단계를 포함할 수 있다.A method of generating structured light of a structured light generating apparatus according to an embodiment of the present invention includes the steps of generating light having a first light pattern from a light emitting unit, Converting the light having one light pattern into a second light pattern; replicating the light converted into the second light pattern into a plurality of light beams to generate structured light; and transmitting the generated structured light to a subject .
본 발명의 일실시예에 의하면, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 이용하여, 발광부를 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작함으로써, 광원들 사이의 배치 거리를 최적화할 수 있어, 발광부의 크기를 최소화하고, 구조광의 광효율 및 안정성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, by arranging the light emitting portion as a surface light source having a plurality of light source arrays by using the vertical resonant surface light laser light source, the arrangement distance between the light sources can be optimized, And the light efficiency and stability of the structured light can be improved.
그리고, 본 발명은, 패턴 변환부를 이용하여, 복제부에서 구조광 복제시에 발생하는 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시키므로, 복제부에서의 복제 왜곡을 크게 줄여, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있는 효과가 있다.The present invention modifies the first light pattern into the second light pattern by taking into consideration distortions such as pin cushion and the like which are generated in the copying of the structured light in the copying unit by using the pattern converting unit, Is greatly reduced and the structure light recognition rate in the light receiving system can be increased.
도 1은 본 발명에 따른 구조광 생성 장치를 개략적으로 보여주는 도면
도 2a 및 도 2b는 광원들간의 최소 기준 간격을 보여주는 도면
도 3은 광원들간의 최소 기준 간격이 다른 것을 보여주는 도면
도 4는 광원들이 배치되는 발광부를 보여주는 도면
도 5는 발광부로부터 생성되는 광 패턴을 보여주는 도면
도 6a 내지 도 6c는 패턴 변환부로부터 변환된 광 패턴을 보여주는 도면
도 7a 내지 도 7d는 도 1의 패턴 변환부의 구성을 보여주는 도면
도 8은 도 7a의 제 2 광학 부재를 보여주는 도면
도 9는 도 1의 패턴 변환부의 구성에 대한 다른 실시예를 보여주는 도면
도 10a 및 도 10b는 도 1의 패턴 변환부의 구성에 대한 또 다른 실시예를 보여주는 도면
도 11은 광 패턴 복제에 따른 핀쿠션 변형을 보여주는 도면
도 12는 본 발명에 따른 구조광 생성 장치의 구조광 생성 방법을 설명하기 위한 흐름도1 is a view schematically showing a structure light generating device according to the present invention;
FIGS. 2A and 2B are views showing a minimum reference interval between light sources
Fig. 3 is a view showing a different minimum reference interval between light sources
4 is a view showing a light emitting portion in which light sources are arranged
5 is a view showing a light pattern generated from a light emitting portion
6A to 6C are diagrams showing a light pattern converted from the pattern converting unit
Figs. 7A to 7D are diagrams showing the configuration of the pattern conversion unit of Fig. 1
8 is a view showing the second optical member of Fig. 7A
9 is a view showing another embodiment of the configuration of the pattern conversion unit of FIG.
10A and 10B are diagrams showing still another embodiment of the configuration of the pattern conversion unit of FIG.
Fig. 11 is a view showing a pincushion deformation according to the photoprinting
12 is a flowchart for explaining a method of generating structured light of the structured light generating apparatus according to the present invention.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 단순히 본 명세서 작성의 용이함을 고려하여 부여되는 것으로서, 상기 "모듈" 및 "부"는 서로 혼용되어 사용될 수도 있다.The suffix "module" and " part "for components used in the following description are given merely for ease of description, and the" module "and" part "
나아가, 이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG.
본 명세서에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 관례 또는 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 명세서에서 사용되는 용어는, 단순한 용어의 명칭이 아닌 그 용어가 가지는 실질적인 의미와 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 해석되어야 함을 밝혀두고자 한다.As used herein, terms used in the present invention are selected from general terms that are widely used in the present invention while taking into account the functions of the present invention, but these may vary depending on the intention or custom of a person skilled in the art or the emergence of new technologies. In addition, in certain cases, there may be a term arbitrarily selected by the applicant, in which case the meaning thereof will be described in the description of the corresponding invention. Therefore, it is intended that the terminology used herein should be interpreted based on the meaning of the term rather than on the name of the term, and on the entire contents of the specification.
도 1은 본 발명에 따른 구조광 생성 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.1 is a schematic view of a structure light generating apparatus according to the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 구조광 생성 장치는, 발광부(100), 패턴 변환부(200), 그리고 복제부(300)를 포함할 수 있다.1, the structure light generating apparatus of the present invention may include a
여기서, 발광부(100)는, 다수의 광원들이 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.Here, in the
이때, 발광부(100)의 광원은, 수직 공진 표면광 레이저 광원일 수 있다.At this time, the light source of the
수직 공진 표면광 레이저 광원은, 광통신 분야에서 사용하는 면광원으로서, 높은 대량 생산성, 저가격, 높은 온도 안정성을 가지며, 높은 변조 속도, 좁은 스펙트럼, 좁은 방사각, 높은 변환 효율 및 낮은 동작 전류 등의 장점을 가지고 있다.The vertical resonant surface light laser light source is a surface light source used in the field of optical communication, and has advantages of high mass productivity, low price, high temperature stability, high modulation speed, narrow spectrum, narrow radiation angle, high conversion efficiency and low operating current Lt; / RTI >
또한, 수직 공진 표면광 레이저 광원은, 저출력이고 고효율인 다수의 레이저를 면광원 형태로, 반도체 웨이퍼에 프린팅하여 대량 생산이 가능한 장점이 있다.In addition, the vertical-cavity surface-emitting laser light source is advantageous in that a large number of low-power, high-efficiency lasers can be printed on a semiconductor wafer in the form of a surface light source to be mass-produced.
따라서, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 구조광 생성 장치에 적용할 경우, 광원 또는 광원 및 패턴 생성을 동시에 활용할 수 있어, 구조광 생성 장치의 가격, 크기, 광효율 및 안정성 등이 기존의 소수 고출력 레이저를 이용하는 구조광 생성 장치보다 더욱 효과적이다.Therefore, when the vertical cavity surface-emitting laser light source is applied to the structure light generating device, it is possible to utilize the light source or the light source and the pattern generation at the same time, so that the price, size, light efficiency, It is more effective than the structured light generating device used.
이처럼, 수직 공진 표면광 레이저 광원은, 광효율성이 기존의 고출력 레이저보다 우수하므로, 구조광 형상을 최적화할 수 있어, 수광계의 3차원 깊이 정보에 대한 인식율이 높아진다.As described above, the vertical resonant surface light laser source is superior in light efficiency to the conventional high output laser, so that the structural light shape can be optimized and the recognition rate for the three-dimensional depth information of the light receiving system is enhanced.
이러한, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 본 발명의 발광부(100)에 적용할 경우, 서로 인접하는 광원들은, 최소 기준 간격을 가질 수 있다.When such a vertically-resonating surface-emitting laser light source is applied to the
여기서, 최소 기준 간격은, 수직 공진 표면광 레이저 광원들간의 발열 특성 유지를 위한 최소 간격을 의미한다.Here, the minimum reference interval means a minimum interval for maintaining the heat generation characteristics between the vertical resonant surface light laser light sources.
따라서, 최소 기준 간격은, 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정될 수 있다.Thus, the minimum reference interval can be determined according to the amount of light of the adjacent light sources.
즉, 본 발명은, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 이용하여, 발광부(100)를 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작하는데, 면광원을 최소 면적으로 제작하기 위해서는, 광원들간의 발열 특성을 유지하는 최소 거리를 광원들 사이의 배치 거리로 하여, 발광부(100)의 크기를 최소화할 수 있다.That is, in the present invention, the
일 예로, 발광부(100)의 광원들은, 서로 인접하는 광원들 사이의 최소 기준 간격이 모두 동일할 수 있다.For example, the light sources of the
여기서, 발광부(100)의 광원들은, 서로 동일한 광량을 가질 수 있다.Here, the light sources of the
이처럼, 서로 인접하는 광원들 사이의 최소 기준 간격이 모두 동일할 때, 발광부(100)의 광원들이 서로 동일한 광량을 가지는 이유는, 광원들간의 최소 기준 간격이, 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정되기 때문이다.The reason why the light sources of the
예를 들면, 큰 광량을 갖는 광원들간의 간격과 작은 광량을 갖는 광원들간의 간격이 동일하면, 큰 광량을 갖는 광원들은, 간격이 광량에 비해 작으므로, 광원들 간의 발열 특성에 영향을 주어, 광원의 파장 천이가 일어나서, 광학 필터에 차단되므로, 광 효율이 급격히 떨어질 수 있다.For example, if the distance between the light sources having a large light quantity and the distance between the light sources having a small light quantity are the same, the light sources having a large light quantity have a smaller gap than the light quantity, The wavelength transition of the light source occurs and is blocked by the optical filter, so that the light efficiency may drop sharply.
따라서, 광원들의 광량에 따라, 광원들은, 최소 기준 간격으로 배치되어야 할 것이다.Thus, depending on the light intensity of the light sources, the light sources will have to be arranged at a minimum reference spacing.
일 예로, 발광부(100)의 광원들은, 서로 인접하고, 제 1 간격을 갖는 제 1 광원들과, 서로 인접하고, 제 2 간격을 갖는 제 2 광원들을 포함할 수 있는데, 이 경우, 제 1 간격은, 제 2 간격보다 더 가까울 수 있다.In one example, the light sources of the
여기서, 제 1 광원들은, 제 1 광량을 가지고, 제 2 광원들은, 제 2 광량을 가질 때, 제 1 광량은, 제 2 광량보다 더 작을 수 있다.Here, when the first light sources have the first light amount and the second light sources have the second light amount, the first light amount may be smaller than the second light amount.
즉, 광원들간의 광량이 크면, 광원들간의 간격을 넓히고, 광원들간의 광량이 작으면, 광원들간의 간격을 좁힐 수 있다.That is, if the light amount between the light sources is large, the interval between the light sources is widened, and if the light amount between the light sources is small, the interval between the light sources can be narrowed.
일 실시예로, 본 발명의 발광부(100)에서, 서로 인접하는 광원들 사이의 간격은, 약 20 - 30um이고, 서로 인접하는 광원들의 광량은, 약 2 - 3mW일 수 있다.In one embodiment, in the
따라서, 발광부(100)는, 기판과, 기판 위에 매트릭스 형태로 배열되고, 제 1 광 패턴을 생성하는 다수의 광원들을 포함할 수 있다.Accordingly, the
즉, 발광부(100)는, 다수의 광원들이 배열되는 면광원으로 제작되고, 광점을 통해, 광 패턴을 생성할 수 있다.That is, the
다음, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)로부터 생성되는 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환할 수 있다.Next, the
여기서, 제 2 광 패턴은, 제 1 광 패턴의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가한 광 패턴일 수 있다.Here, the second light pattern may be a light pattern increased by a predetermined value in the X-axis direction or the Y-axis direction with respect to the minimum pattern interval of the first light pattern.
즉, 제 1 광 패턴은, 광원들의 최소 기준 간격 배치에 의해, 생성되는 구조 광점이고, 제 2 광 패턴은, 광원들에 의해 생성된 구조 광점들간의 최소 기준 간격을 변조시킨 패턴이다.That is, the first light pattern is a structured light spot generated by the minimum reference interval arrangement of the light sources, and the second light pattern is a pattern modulating the minimum reference interval between the structured light spots generated by the light sources.
따라서, 패턴 변환부(200)는, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시켜, 구조광을 변형시킴으로써, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있다.Therefore, the
또한, 패턴 변환부(200)는, 복제부(300)에서 구조광 복제시에 발생하는 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시키므로, 복제부(300)에서의 복제 왜곡을 크게 줄일 수 있다.The
그리고, 패턴 변환부(200)는, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 평행광으로 제공하는 제 1 광학 부재 및 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는 제 2 광학 부재 중, 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The
일 예로, 제 1 광학 부재는, 시준 렌즈일 수 있는데, 이에 제한되지는 않는다.In one example, the first optical member may be a collimating lens, but is not limited thereto.
그리고, 제 2 광학 부재는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있는데, 이에 제한되지는 않는다.The second optical member may be at least one of a beam shaping prism, a beam shaping lens, a reflecting mirror, a reflecting prism, and a combination member thereof, but is not limited thereto.
여기서, 제 1 광학 부재는, 발광부(100)에 인접하여 배치되고, 제 2 광학 부재는, 복제부(300)에 인접하여 배치될 수 있다.Here, the first optical member may be disposed adjacent to the
이때, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재는, 서로 접촉되어 일체형으로 형성될 수 있다.At this time, the first optical member and the second optical member may be integrally formed by being in contact with each other.
경우에 따라, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재는, 일정 간격으로 떨어져 배치될 수도 있다.Optionally, the first optical member and the second optical member may be spaced apart at regular intervals.
다른 경우로서, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재 사이에는, 제 3 광학 부재가 배치될 수 있는데, 일 예로, 제 3 광학 부재는, 회절 광학 소자일 수 있다.As another example, a third optical member may be disposed between the first optical member and the second optical member. In one example, the third optical member may be a diffractive optical element.
그리고, 복제부(300)는, 변환된 제 2 광 패턴을 다수 개로 복제하여, 구조광을 생성하고, 생성된 구조광을 피사체로 전송할 수 있다.Then, the copying
여기서, 복제부(300)는, 회절 광학 소자일 수 있다.Here, the
이와 같이, 본 발명은, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 이용하여, 발광부(100)를 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작함으로써, 광원들 사이의 배치 거리를 최적화할 수 있어, 발광부(100)의 크기를 최소화할 수 있다.As described above, the present invention can optimize the arrangement distance between the light sources by making the light emitting portion 100 a surface light source having a plurality of light source arrays by using the vertically-resonating surface light laser light source, 100 can be minimized.
그리고, 본 발명은, 패턴 변환부(200)를 이용하여, 복제부(300)에서 구조광 복제시에 발생하는 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시키므로, 복제부(300)에서의 복제 왜곡을 크게 줄여, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있다.The present invention modulates the first light pattern into the second light pattern by considering the distortions such as pin cushion and the like that are generated in the copying
도 2a 및 도 2b는 광원들간의 최소 기준 간격을 보여주는 도면이다.2A and 2B are diagrams showing a minimum reference interval between light sources.
도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 발광부는, 다수의 광원들이 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.As shown in FIGS. 2A and 2B, the light emitting unit may have a plurality of light sources arranged in a matrix form.
여기서, 발광부의 광원은, 수직 공진 표면광 레이저 광원일 수 있다.Here, the light source of the light emitting portion may be a vertical resonant surface light laser light source.
이때, 서로 인접하는 광원들은, 최소 기준 간격 d를 가질 수 있다.At this time, the adjacent light sources may have a minimum reference distance d.
여기서, 최소 기준 간격 d는, 광원들간의 발열 특성 유지를 위한 최소 간격을 의미한다.Here, the minimum reference distance d means a minimum interval for maintaining the heat generation characteristics between the light sources.
따라서, 최소 기준 간격 d는, 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정될 수 있다.Therefore, the minimum reference distance d can be determined according to the amount of light of the adjacent light sources.
즉, 본 발명은, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 이용하여, 발광부를 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작하는데, 면광원을 최소 면적으로 제작하기 위해서는, 광원들간의 발열 특성을 유지하는 최소 거리를 광원들 사이의 배치 거리로 하여, 발광부의 크기를 최소화할 수 있다.That is, in the present invention, the light emitting portion is fabricated as a surface light source having a plurality of light source arrays by using the vertical resonant surface light laser light source. In order to manufacture the surface light source with a minimum area, As the arrangement distance between the light sources, the size of the light emitting portion can be minimized.
일 예로, 도 2a와 같이, 서로 인접하는 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)이 삼각 형태로 배치될 때, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d, 그리고 제 1, 제 3 광원(110a, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d는, 모두 동일할 수 있다.2A, when the first, second, and third
여기서, 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들은, 서로 동일한 광량을 가질 수 있다.Here, the first, second, and third
일 실시예로, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d, 그리고 제 1, 제 3 광원(110a, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d는, 약 20 - 30um일 수 있고, 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들의 광량은, 약 2 - 3mW일 수 있다.In one embodiment, the minimum reference distance d between the first and second
이처럼, 서로 인접하는 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들 사이의 최소 기준 간격 d이 모두 동일할 때, 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들이, 서로 동일한 광량을 가지는 이유는, 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들간의 최소 기준 간격이, 서로 인접하는 제 1, 제 2, 제 3 광원(110a, 110b, 110c)들의 광량에 따라, 결정되기 때문이다.The first, second, and third
예를 들면, 큰 광량을 갖는 광원들간의 간격과 작은 광량을 갖는 광원들간의 간격이 동일하면, 큰 광량을 갖는 광원들은, 간격이 광량에 비해 작으므로, 광원들 간의 발열 특성에 영향을 주어, 광원의 파장 천이가 일어나서, 광학 필터에 차단되므로, 광 효율이 급격히 떨어질 수 있다.For example, if the distance between the light sources having a large light quantity and the distance between the light sources having a small light quantity are the same, the light sources having a large light quantity have a smaller gap than the light quantity, The wavelength transition of the light source occurs and is blocked by the optical filter, so that the light efficiency may drop sharply.
따라서, 광원들의 광량에 따라, 광원들은, 최소 기준 간격으로 배치되어야 할 것이다.Thus, depending on the light intensity of the light sources, the light sources will have to be arranged at a minimum reference spacing.
다른 예로, 도 2b와 같이, 서로 인접하는 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 광원(110a, 110b, 110c, 110d)이 사각 형태로 배치될 때, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 3, 제 4 광원(110c, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d, 그리고 제 1, 제 4 광원(110a, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d는, 모두 동일할 수 있다.As another example, when the first, second, third, and fourth
여기서, 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 광원(110a, 110b, 110c, 110d)들은, 서로 동일한 광량을 가질 수 있다.Here, the first, second, third, and fourth
일 실시예로, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d, 제 3, 제 4 광원(110c, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d, 그리고 제 1, 제 4 광원(110a, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d는, 약 20 - 30um일 수 있고, 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 광원(110a, 110b, 110c, 110d)들의 광량은, 약 2 - 3mW일 수 있다.The minimum reference distance d between the first and second
도 3은 광원들간의 최소 기준 간격이 다른 것을 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a view showing a different minimum reference interval between light sources. FIG.
도 3에 도시된 바와 같이, 발광부는, 다수의 광원들이 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.As shown in FIG. 3, the light emitting unit may have a plurality of light sources arranged in a matrix form.
여기서, 발광부의 광원은, 수직 공진 표면광 레이저 광원일 수 있다.Here, the light source of the light emitting portion may be a vertical resonant surface light laser light source.
이때, 서로 인접하는 광원들은, 최소 기준 간격 d를 가질 수 있다.At this time, the adjacent light sources may have a minimum reference distance d.
여기서, 최소 기준 간격 d는, 광원들간의 발열 특성 유지를 위한 최소 간격을 의미한다.Here, the minimum reference distance d means a minimum interval for maintaining the heat generation characteristics between the light sources.
따라서, 최소 기준 간격 d는, 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정될 수 있다.Therefore, the minimum reference distance d can be determined according to the amount of light of the adjacent light sources.
일 예로, 도 3과 같이, 서로 인접하는 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 광원(110a, 110b, 110c, 110d)이 사각 형태로 배치될 때, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d1과, 제 3, 제 4 광원(110c, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d1은 서로 동일하고, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d2와, 제 1, 제 4 광원(110a, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d2는, 서로 동일할 수 있다.For example, when the first, second, third, and fourth
그리고, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b) 사이의 최소 기준 간격 d1과, 제 3, 제 4 광원(110c, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d1은, 제 2, 제 3 광원(110b, 110c) 사이의 최소 기준 간격 d2, 또는 제 1, 제 4 광원(110a, 110d) 사이의 최소 기준 간격 d2보다 더 작을 수 있다.The minimum reference distance d1 between the first and second
여기서, 제 1, 제 2 광원(110a, 110b)의 광량은, 제 3, 제 4 광원(110c, 110d)의 광량보다 더 작을 수 있다.Here, the amount of light of the first and second
즉, 광원들간의 광량이 크면, 광원들간의 간격을 넓히고, 광원들간의 광량이 작으면, 광원들간의 간격을 좁힐 수 있다.That is, if the light amount between the light sources is large, the interval between the light sources is widened, and if the light amount between the light sources is small, the interval between the light sources can be narrowed.
도 4는 광원들이 배치되는 발광부를 보여주는 도면이다.4 is a view illustrating a light emitting unit in which light sources are disposed.
도 4에 도시된 바와 같이, 발광부는, 기판(120)과, 기판(120) 위에 매트릭스 형태로 배열되고, 제 1 광 패턴을 생성하는 다수의 광원(110)들을 포함할 수 있다.4, the light emitting portion may include a
즉, 발광부는, 다수의 광원(110)들이 배열되는 면광원으로 제작되고, 광점을 통해, 광 패턴을 생성할 수 있다.That is, the light emitting unit is fabricated as a surface light source in which a plurality of
여기서, 서로 인접하는 광원(110)들은, 최소 기준 간격 d을 가지는데, 최소 기준 간격 d은, 서로 인접하는 광원(110)들의 광량에 따라, 결정될 수 있다.Here, the adjacent
그리고, 광원(110)은, 수직 공진 표면광 레이저 광원일 수 있다.The
이때, 광원(110)은, 저출력이고 고효율인 다수의 레이저를 면광원 형태로, 반도체 웨이퍼에 프린팅하여 대량 생산이 가능하다.At this time, the
따라서, 광원(110)은, 광효율성이 기존의 고출력 레이저보다 우수하므로, 구조광 형상을 최적화할 수 있어, 수광계의 3차원 깊이 정보에 대한 인식율을 높일 수 있다.Therefore, since the
즉, 발광부는, 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작되는데, 면광원을 최소 면적으로 제작하기 위해서는, 광원(110)들간의 발열 특성을 유지하는 최소 거리를 광원(110)들 사이의 최소 기준 간격으로 하여, 발광부의 크기를 최소화할 수 있다.That is, the light emitting unit is formed of a planar light source having a plurality of light source arrays. In order to manufacture the planar light source with a minimum area, a minimum distance for maintaining the heat generating characteristics between the
도 5는 발광부로부터 생성되는 광 패턴을 보여주는 도면이다.5 is a view showing a light pattern generated from a light emitting portion.
도 5에 도시된 바와 같이, 발광부는, 다양한 제 1 광 패턴(130)을 생성할 수 있다.As shown in FIG. 5, the light emitting unit can generate various
여기서, 제 1 광 패턴(130)에서, 서로 인접하는 광점들은, 최소 기준 간격 d을 가질 수 있다.Here, in the
이때, 최소 기준 간격 d은, 광원들간의 발열 특성 유지를 위한 최소 간격을 의미한다.In this case, the minimum reference distance d means a minimum interval for maintaining heat generation characteristics between the light sources.
그리고, 제 1 광 패턴(130)은, 광점의 형상, 분포, 밝기 등 다양한 특성을 이용하여, 설계될 수 있다.The
여기서, 최소 독립 구조광은, 자기 자신 이외에 동일한 구조광 형상이 없는 구간 내에 존재하는 구조광으로서, 수광계에서, 구조광을 검출할 수 있는 피사체의 최소 면적에 관련되므로, 가능한 최소 크기로 설계될 수 있다.Here, since the minimum independent structure light is structured light existing in a section having no identical structural light shape other than itself, it is related to the minimum area of the object capable of detecting structured light in the light receiving system, .
또한, 제 1 광 패턴(130)은, 수광계에서, 구조광 검출시, 나타나는 구조광의 왜곡 정도를 고려하여, 설계할 수 있다.Further, the
본 발명은, 구조광 형상을 설계할 때, 2단계로 설계할 수 있다.The present invention can be designed in two stages when designing a structural light shape.
제 1 단계는, 광원들간의 최소 기준 간격 d를 이용한 정규분포 구조광 형상 설계인데, 이를 정규화 패턴 설계라고 한다.The first step is a normal distribution structure optical design using the minimum reference spacing d between light sources. This is called normalized pattern design.
그리고, 제 2 단계는, 생성된 정규분포 구조광 형상이 패턴 변환부를 통과하면서 변형되는 구조광으로서, 광원에서 생성된 정규분포 구조광 대비 인식율을 높이기 위한 비정규화 패턴 설계이다.The second step is an irregular pattern design for increasing the recognition rate of the normal distribution structure light generated by the light source, as the structure light that is deformed while the generated regular distribution structure light shape passes through the pattern conversion unit.
여기서, 제 1 단계인 정규화 패턴 설계단은, 3차원 깊이 정보 측정 시스템에서, 조명계와 수광계 사이의 거리인 시차거리에 따라, 필요한 형상 독립 구간을, 광점의 형상, 분포, 밝기 등 다양한 특성을 이용하여 설계할 수 있다.Here, the first stage of the normalization pattern design stage is a three-dimensional depth information measurement system in which various necessary characteristics such as shape, distribution, and brightness of a necessary shape-independent section are determined according to the parallax distance, which is the distance between the illumination system and the light- Can be designed.
이때, 형상 독립 구간은, 구조광 형상이 해당 구간 내에서, 자기 자신을 제외하고 같은 형상이 없는 구간이다.In this case, the shape-independent section is a section in which the structural light shape does not have the same shape except for itself in the corresponding section.
따라서, 최소 독립 구조광의 크기는, 최소 크기로 설계할 수 있다.Therefore, the size of the minimum independent structure light can be designed to the minimum size.
그리고, 정규화 패턴 설계단은, 구조광 측정 시스템의 특성, 또는 외란에 의한 구조광 변형시, 에러와 구분되도록 설계하거나, 에러 보정이 가능하도록 구조광 형상의 특이 조건을 포함하여 설계할 수 있다.The normalized pattern design stage can be designed so as to be distinguished from the error in the characteristic of the structural light measurement system or in the structural light deformation due to the disturbance or to include the specific condition of the structural light shape so that error correction is possible.
또한, 정규분포 구조광의 형상 독립 구간의 설계 결과는, 활용 영역의 필요에 따른 광량을 고려하여, 형상 독립 구간을 다중으로 조합할 수 있다.In addition, the design result of the shape-independent section of the normal distribution structure light can be combined with the shape-independent section in consideration of the amount of light according to the necessity of the utilization area.
그리고, 다중 조합된 구조광의 결과는, 다중 수직 공진 표면광 레이저의 각 레이저 광원의 배치와 매칭될 수 있다.The result of the multiplexed structured light can then be matched with the arrangement of the respective laser light sources of the multiple vertical resonant surface light lasers.
도 6a 내지 도 6c는 패턴 변환부로부터 변환된 광 패턴을 보여주는 도면이다.6A to 6C are diagrams showing the light patterns converted from the pattern converting unit.
도 6a 내지 도 6c에 도시된 바와 같이, 패턴 변환부는, 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환할 수 있다.6A to 6C, the pattern conversion unit may convert the
여기서, 제 2 광 패턴(140)은, 제 1 광 패턴(130)의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가한 광 패턴일 수 있다.Here, the second
패턴 변환부는, 제 1 광 패턴(130)을 다양한 방식으로 변형시킴으로써, 다양한 형상의 제 2 광 패턴(130)을 만들 수 있다.The pattern converting unit may deform the
일 예로, 패턴 변환부는, 도 6a와 같이, 원점 회전 방식으로 제 1 광 패턴(130)을 변형하여, 제 2 광 패턴(140)을 만들 수 있다.For example, the pattern converting unit may transform the
다른 예로, 패턴 변환부는, 도 6b와 같이, 확대 방식으로 제 1 광 패턴(130)을 변형하여, 제 2 광 패턴(140)을 만들 수 있다.As another example, the pattern converting unit may deform the
또 다른 예로, 패턴 변환부는, 도 6c와 같이, 핀 쿠션 현상을 완화시키기 위한 배럴 변형 방식으로 제 1 광 패턴(130)을 변형하여, 제 2 광 패턴(140)을 만들 수도 있다.As another example, the pattern converting unit may deform the
본 발명은, 구조광 형상을 설계할 때, 2단계로 설계할 수 있다.The present invention can be designed in two stages when designing a structural light shape.
제 1 단계는, 광원들간의 최소 기준 간격 d를 이용한 정규분포 구조광 형상 설계인데, 이를 정규화 패턴 설계라고 한다.The first step is a normal distribution structure optical design using the minimum reference spacing d between light sources. This is called normalized pattern design.
그리고, 제 2 단계는, 생성된 정규분포 구조광 형상이 패턴 변환부를 통과하면서 변형되는 구조광으로서, 광원에서 생성된 정규분포 구조광 대비 인식율을 높이기 위한 비정규화 패턴 설계이다.The second step is an irregular pattern design for increasing the recognition rate of the normal distribution structure light generated by the light source, as the structure light that is deformed while the generated regular distribution structure light shape passes through the pattern conversion unit.
여기서, 제 2 단계인 비정규화 패턴 설계단은, 정규화 패턴 설계단에서 생성된 결과를 바탕으로, 형상 독립 구간 내에서, 상호 상관(cross-correlation)값 등과 같은, 각 형상 간의 유사도를 가장 적게 하도록, 형상, 분포, 밝기 등에 변형을 줄 수 있다.Here, the second stage of denormalization pattern designing stage is designed to minimize the similarity between shapes, such as cross-correlation values, in the shape-independent section based on the results generated in the normalization pattern design stage , Shape, distribution, brightness, and the like.
비정규화 패턴 설계단은, 투사렌즈, 회절광학소자 등과 같은 조사 광학계 중, 적용이 용이한 부품에 각각 혹은 단독으로 다양한 변형율(크기, 회전, 왜곡 등)을 적용하게 된다.The unstructured pattern design stage may be applied with various strain rates (size, rotation, distortion, etc.) to each of the irradiation optical systems such as the projection lens and the diffractive optical element.
또한, 구조광을 수광계의 시야각만큼 형상 독립 구간을 복제하기 위하여, 사용하는 회절광학소자 등과 같은 구조광 복제 광학계는, 방사형으로 구조광을 분포시키기 때문에, 일반적으로 외곽에서 핀쿠션 변형이 일어나게 된다.In addition, since the structured light replicating optical system such as the diffractive optical element used for replicating the structure independent section by the viewing angle of the structured light by the viewing angle of the light receiving system distributes structured light radially, pincushion deformation generally occurs at the outer periphery.
따라서, 패턴 변환부와 같은 비정규화 패턴 설계단은, 이러한 핀쿠션 변형을 보정하기 위하여, 어느 정도 배럴 변형을 감안하여 구조광에 대해 비정규 변형을 시킬 수 있다.Therefore, the unconformed pattern design stage such as the pattern conversion section can cause irregular strain on the structured light in consideration of the barrel deformation to some extent in order to correct such pincushion deformation.
도 7a 내지 도 7d는 도 1의 패턴 변환부의 구성을 보여주는 도면이다.7A to 7D are diagrams showing the configuration of the pattern conversion unit of FIG.
도 7a 내지 도 7d에 도시된 바와 같이, 패턴 변환부(200)는, 다양한 광학계로 설계가 가능하다.As shown in FIGS. 7A to 7D, the
패턴 변환부(200)는, 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환하기 위한 것으로, 패턴 변환부(200)는, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 평행광으로 제공하는 제 1 광학 부재 및 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는 제 2 광학 부재 중, 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The
도 7a와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)와 복제부(300) 사이에, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)를 포함할 수 있다.The
여기서, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)에 인접하여 배치되고, 제 2 광학 부재(220)는, 복제부(300)에 인접하여 배치될 수 있다.Here, the first
이때, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)로부터 입사되는 제 1 광 패턴(130)을 갖는 광을 평행광으로 제공할 수 있다.At this time, the first
일 예로, 제 1 광학 부재(210)는, 시준 렌즈일 수 있다.In one example, the first
그리고, 제 2 광학 부재(220)는, 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환하는 광학 부재일 수 있다.The second
일 예로, 제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있다.In one example, the second
여기서, 빔 정형 프리즘 및 빔 정형 렌즈는, 입사되는 광을 원대칭 형상을 특정 한 방향으로 늘이거나 줄이는 변형을 주는 소자이다.Here, the beam shaping prism and the beam shaping lens are devices for imparting a deformation that stretches or reduces incident light in a specific direction.
빔 정형 렌즈는, 빔 정형 프리즘과 동일한 기능을 가질 수 있는데, 프리즘 대신에 가로 및 세로의 곡률 반경이 서로 다른 아나모픽 렌즈(anamorphic lens)를 사용하여, 입력 광의 가로 및 세로의 출력 비율을 변경하는 렌즈이다.The beam shaping lens may have the same function as the beam shaping prism. The beam shaping lens may be formed by using an anamorphic lens having different radii of curvature in the horizontal and vertical directions instead of the prism, to be.
이러한 빔 정형 렌즈를 사용하면, 시준렌즈와 일체화하여, 별도의 빔 정형 프리즘을 사용할 필요가 없으므로, 부품 절감에 유리하다.When such a beam shaping lens is used, it is not necessary to use a separate beam shaping prism in unison with the collimating lens, which is advantageous in reducing the parts.
이와 같이, 본 발명은, 빔 정형 프리즘이나 빔 정형 렌즈를 사용하고, 이들을 입력 광에 대해 적절한 각도로 배치하면, 원하는 방향으로 정규 패턴의 변형이 가능하다.As described above, according to the present invention, by using a beam shaping prism or a beam shaping lens and arranging them at appropriate angles with respect to the input light, the normal pattern can be deformed in a desired direction.
그리고, 빔 정형 소자를 사용하면, 별도의 회절 소자를 추가할 필요가 없으므로, 광원의 콘트라스트(contrast)가 그대로 유지되면서, 광 패턴을 바꿀 수 있으므로, 광 패턴의 식별에 있어서 유리하다.If a beam shaping element is used, there is no need to add another diffraction element, which is advantageous for identifying a light pattern because the contrast of the light source can be maintained and the light pattern can be changed.
다른 예로서, 도 7b와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)와 복제부(300) 사이에, 제 1 광학 부재(210)와 다수의 광학 소자를 포함하는 제 2 광학 부재(220)를 포함할 수 있다.7B, the
여기서, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)에 인접하여 배치되고, 제 2 광학 부재(220)는, 복제부(300)에 인접하여 배치될 수 있다.Here, the first
이때, 제 2 광학 부재(220)는, 제 1 광학소자(220a) 및 제 2 광학소자(220b)를 포함할 수 있다.At this time, the second
제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)로부터 입사되는 제 1 광 패턴(130)을 갖는 광을 평행광으로 제공할 수 있는, 시준 렌즈일 수 있다.The first
그리고, 제 2 광학 부재(220)는, 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환하는 광학 부재로서, 다수의 광학 소자를 포함할 수 있는데, 일 예로, 제 1 광학소자(220a) 및 제 2 광학소자(220b)를 포함할 수 있다.The second
여기서, 제 1 광학소자(220a) 및 제 2 광학소자(220b)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 중 어느 하나이고, 서로 다른 소자일 수 있다.Here, the first
일 예로, 제 1 광학소자(220a)는, 빔 정형 렌즈이고, 제 2 광학소자(220b)는, 반사 미러 또는 반사 프리즘이거나, 제 1 광학소자(220a)는, 반사 미러 또는 반사 프리즘이고, 제 2 광학소자(220b)는, 빔 정형 프리즘일 수 있다.For example, the first
또 다른 예로서, 도 7c와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100) 앞에 배치되고, 복제부(300)가 생략되는 대신, 복제부(300)의 역할을 수행할 수도 있다.As another example, as shown in FIG. 7C, the
여기서, 패턴 변환부(200)는, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)를 포함하는데, 제 1 광학 부재(210)는, 시준 렌즈일 수 있고, 제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있다.Here, the
또 다른 예로서, 도 7d와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)와 복제부(300) 사이에 배치될 수 있다.As another example, the
여기서, 패턴 변환부(200)는, 시준 렌즈인 제 1 광학 부재(210)가 생략되고, 제 2 광학 부재(220)만이 배치될 수 있다.Here, in the
이때, 제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있다.At this time, the second
도 8은 도 7a의 제 2 광학 부재를 보여주는 도면이다.FIG. 8 is a view showing the second optical member of FIG. 7A. FIG.
제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있는데, 도 8에 도시된 바와 같이, 빔 정형 프리즘은, 입사되는 광을 원 대칭 형상을 특정 한 방향으로 늘이거나 줄이는 변형을 주는 소자이다.The second
여기서, 빔 정형 프리즘은, 광학 구조상, 입사광을 특정 방향으로 늘려 출사광을 변형할 수 있다.Here, on the optical structure, the beam shaping prism can deform the outgoing light by increasing incident light in a specific direction.
따라서, 빔 정형 프리즘은, 제 1 광 패턴을 갖는 입사광에 대해 적절한 각도로 배치함으로써, 원하는 방향으로 정규 패턴의 변형이 가능하다.Therefore, by arranging the beam shaping prism at an appropriate angle with respect to the incident light having the first light pattern, the normal pattern can be deformed in a desired direction.
도 9는 도 1의 패턴 변환부의 구성에 대한 다른 실시예를 보여주는 도면이다.FIG. 9 is a view showing another embodiment of the configuration of the pattern conversion unit of FIG. 1. FIG.
도 9에 도시된 바와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)와 복제부(300) 사이에, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)를 포함할 수 있다.9, the
그리고, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220) 사이에는, 제 3 광학 부재(230)가 배치될 수 있다.A third
여기서, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)에 인접하여 배치되고, 제 2 광학 부재(220)는, 복제부(300)에 인접하여 배치될 수 있다.Here, the first
이때, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)로부터 입사되는 제 1 광 패턴(130)을 갖는 광을 평행광으로 제공할 수 있다.At this time, the first
일 예로, 제 1 광학 부재(210)는, 시준 렌즈일 수 있다.In one example, the first
그리고, 제 2 광학 부재(220)는, 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환하는 광학 부재일 수 있다.The second
일 예로, 제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있다.In one example, the second
또한, 제 3 광학 부재(230)는, 제 1 광 패턴(130)을 다수 개로 복제할 수 있다.Further, the third
일 예로, 제 3 광학 부재(230)는, 회절 광학 소자일 수 있다.In one example, the third
즉, 제 3 광학 부재(230)는, 광원의 정규화 패턴을 약간 비틀어지게 함으로써, 원하는 패턴을 형성할 수 있다.That is, the third
또한, 제 3 광학 부재(230)는, 한 면에 회절 패턴을 생성하고, 다른 면에 광학적 파워를 사용함으로써, 복제부(300)가 생성하는 복제 왜곡을 완화시킬 수 있다.Further, the third
따라서, 제 3 광학 부재(230)는, 복제부(300)에서, 구조광 복제시에 발생하는 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 복제하여, 제 1 광 패턴을 비틀어 변형시키므로, 복제부(300)에서의 복제 왜곡을 크게 줄일 수 있다.Therefore, in the copying
도 10a 및 도 10b는 도 1의 패턴 변환부의 구성에 대한 또 다른 실시예를 보여주는 도면이다.10A and 10B are views showing another embodiment of the configuration of the pattern conversion unit of FIG.
도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 패턴 변환부(200)는, 발광부(100)와 복제부(300) 사이에, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)를 포함할 수 있다.10A and 10B, the
여기서, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)에 인접하여 배치되고, 제 2 광학 부재(220)는, 복제부(300)에 인접하여 배치될 수 있다.Here, the first
이때, 제 1 광학 부재(210)는, 발광부(100)로부터 입사되는 제 1 광 패턴(130)을 갖는 광을 평행광으로 제공할 수 있다.At this time, the first
일 예로, 제 1 광학 부재(210)는, 시준 렌즈일 수 있다.In one example, the first
그리고, 제 2 광학 부재(220)는, 제 1 광 패턴(130)을 제 2 광 패턴(140)으로 변환하는 광학 부재일 수 있다.The second
일 예로, 제 2 광학 부재(220)는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나일 수 있다.In one example, the second
도 10a와 같이, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)는, 서로 접촉되어 일체형으로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 10A, the first
경우에 따라, 도 10b와 같이, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)는, 일정 간격 d11으로 떨어져 배치될 수도 있다.In some cases, as shown in FIG. 10B, the first
여기서, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220) 사이의 간격은, 구조광 발생 장치의 광학계 크기를 줄이는 요소가 될 수도 있고, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변형하는 중요 요소가 될 수도 있다.Here, the interval between the first
따라서, 본 발명은, 원하는 구조광 패턴을 얻기 위하여, 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220) 사이의 간격을 조정하거나, 또는 제 1 광학 부재(210)와 제 2 광학 부재(220)를 포함하는 일체형 광학 부재를 제작할 수도 있다.Therefore, the present invention can be applied to the case where the distance between the first
도 11은 광 패턴 복제에 따른 핀쿠션 변형을 보여주는 도면이다.Fig. 11 is a view showing a pincushion deformation according to the photoprinting. Fig.
도 11에 도시된 바와 같이, 복제부는, 변환된 제 2 광 패턴을 다수 개로 복제하여, 구조광을 생성하는데, 구조광에 핀 쿠션 변형이 발생할 수 있다.As shown in Fig. 11, the copying unit replicates the converted second light pattern in a plurality of patterns, and generates the structured light, which may cause pin cushion distortion in the structured light.
즉, 복제부는, 구조광 복제시, 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 발생시킬 수 있다.That is, the copying unit can generate distortions such as pin cushion and the like when copying structured light.
따라서, 본 발명은, 이러한 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시키므로, 복제부에서의 복제 왜곡을 크게 줄여, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있다.Therefore, the present invention modulates the first light pattern to the second light pattern in consideration of these distortions, thereby greatly reducing the copying distortion in the copying section, thereby increasing the structural light recognition rate in the light receiving system.
도 12는 본 발명에 따른 구조광 생성 장치의 구조광 생성 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.FIG. 12 is a flowchart for explaining a structured light generating method of the structured light generating apparatus according to the present invention.
도 12에 도시된 바와 같이, 먼저, 발광부는, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 생성한다.(S10)12, first, the light emitting unit generates light having the first light pattern (S10)
이어, 패턴 변환부는, 발광부로부터 생성된 광을 평행광으로 변환한다.(S20)Then, the pattern converting unit converts the light generated from the light emitting unit into parallel light. (S20)
그리고, 패턴 변환부는, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 제 2 광 패턴으로 변환한다.(S30)Then, the pattern converting section converts the light having the first light pattern into the second light pattern (S30)
여기서, 제 1 광 패턴을 갖는 광을 제 2 광 패턴으로 변환할 때, 제 2 광 패턴은, 제 1 광 패턴의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가하도록 변환될 수 있다.Here, when the light having the first light pattern is converted into the second light pattern, the second light pattern is converted so as to increase by a predetermined value in the X-axis direction or the Y-axis direction with respect to the minimum pattern interval of the first light pattern .
다음, 복제부는, 제 2 광 패턴으로 변환된 광을 다수개로 복제하여, 구조광을 생성하고,(S40) 생성된 구조광을 피사체로 전송할 수 있다.(S50)Next, the copying unit replicates the light converted into the second light pattern into a plurality of light beams to generate structured light (S40), and transmit the generated structured light to the subject. (S50)
이와 같이, 본 발명은, 수직 공진 표면광 레이저 광원을 이용하여, 발광부를 다수의 광원 어레이를 갖는 면광원으로 제작함으로써, 광원들 사이의 배치 거리를 최적화할 수 있어, 발광부의 크기를 최소화하고, 구조광의 광효율 및 안정성을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, by using the vertically-resonating surface-emitting laser light source and fabricating the light emitting portion as a surface light source having a plurality of light source arrays, the arrangement distance between the light sources can be optimized, The light efficiency and stability of the structured light can be improved.
그리고, 본 발명은, 패턴 변환부를 이용하여, 복제부에서 구조광 복제시에 발생하는 핀 쿠션 등과 같은 왜곡들을 고려하여, 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변조시키므로, 복제부에서의 복제 왜곡을 크게 줄여, 수광계에서의 구조광 인식율을 높일 수 있다.The present invention modifies the first light pattern into the second light pattern by taking into consideration distortions such as pin cushion and the like which are generated in the copying of the structured light in the copying unit by using the pattern converting unit, Can be greatly reduced and the structural light recognition rate in the light receiving system can be increased.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해돼서는 안 될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.
100 : 발광부 130 : 제 1 광 패턴
140 : 제 2 광 패턴 200 : 패턴 변환부
210 : 제 1 광학 부재 220 : 제 2 광학 부재
230 : 제 3 광학 부재 300 : 복제부100: light emitting portion 130: first light pattern
140: second optical pattern 200: pattern conversion unit
210: first optical member 220: second optical member
230: Third optical member 300:
Claims (18)
상기 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하는 패턴 변환부; 그리고,
상기 변환된 제 2 광 패턴을 다수개로 복제하여, 구조광을 생성하고, 상기 생성된 구조광을 피사체로 전송하는 복제부를 포함하고,
상기 발광부에서, 상기 서로 인접하는 광원들은, 최소 기준 간격을 가지며,
상기 최소 기준 간격은, 상기 서로 인접하는 광원들의 광량에 따라, 결정되는 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.A light emitting unit in which a plurality of light sources are arranged in a matrix form;
A pattern conversion unit for converting a first light pattern generated from the light emitting unit into a second light pattern; And,
And a copying unit for copying the converted second light patterns into a plurality of copies to generate structured light and transmitting the generated structured light to a subject,
In the light emitting portion, the adjacent light sources have a minimum reference interval,
Wherein the minimum reference interval is determined according to the amount of light of the adjacent light sources.
서로 인접하고, 제 1 간격을 갖는 제 1 광원들과,
서로 인접하고, 제 2 간격을 갖는 제 2 광원들을 포함하고,
상기 제 1 간격은, 상기 제 2 간격보다 더 가까운 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.The light emitting device according to claim 1,
First light sources adjacent to each other and having a first interval,
And second light sources adjacent to each other and having a second gap,
Wherein the first spacing is closer to the second spacing than the second spacing.
상기 제 2 광원들은, 제 2 광량을 가지며,
상기 제 1 광량은, 상기 제 2 광량보다 더 작은 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.6. The apparatus of claim 5, wherein the first light sources have a first light amount,
The second light sources having a second light amount,
Wherein the first light amount is smaller than the second light amount.
상기 서로 인접하는 광원들의 광량은, 2 - 3mW인 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.The method of claim 1, wherein the spacing between adjacent light sources is 20-30 um,
Wherein a light amount of the adjacent light sources is 2 - 3 mW.
기판과,
상기 기판 위에 매트릭스 형태로 배열되고, 상기 제 1 광 패턴을 생성하는 다수의 광원들을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.The light emitting device according to claim 1,
A substrate;
And a plurality of light sources arranged in a matrix form on the substrate and generating the first light pattern.
상기 발광부로부터 생성되는 제 1 광 패턴을 제 2 광 패턴으로 변환하고,
상기 제 2 광 패턴은,
상기 제 1 광 패턴의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가한 광 패턴인 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.The apparatus according to claim 1,
Converting the first light pattern generated from the light emitting portion into a second light pattern,
The second light pattern may be a light-
Wherein the optical pattern is a light pattern increased by a predetermined value in the X-axis direction or the Y-axis direction with respect to a minimum pattern interval of the first light pattern.
상기 제 1 광 패턴을 갖는 광을 평행광으로 제공하는 제 1 광학 부재 및 상기 제 1 광 패턴을 상기 제 2 광 패턴으로 변환하는 제 2 광학 부재 중, 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.The apparatus according to claim 1,
And a second optical member for converting the first optical pattern into the second optical pattern, wherein the first optical member includes a first optical member that provides light having the first optical pattern as parallel light, and a second optical member that converts the first optical pattern into the second optical pattern. Optical device.
상기 제 2 광학 부재는, 빔 정형 프리즘, 빔 정형 렌즈, 반사 미러, 반사 프리즘 및 그들의 조합 부재 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치. 11. The image pickup apparatus according to claim 10, wherein the first optical member is a collimating lens,
Wherein the second optical member is at least one of a beam shaping prism, a beam shaping lens, a reflecting mirror, a reflecting prism, and a combination member thereof.
상기 제 2 광학 부재는, 상기 복제부에 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.11. The light emitting device according to claim 10, wherein the first optical member is disposed adjacent to the light emitting portion,
And the second optical member is disposed adjacent to the replica portion.
상기 제 3 광학 부재는, 회절 광학 소자인 것을 특징으로 하는 구조광 생성 장치.11. The image display apparatus according to claim 10, wherein a third optical member is disposed between the first optical member and the second optical member,
And the third optical member is a diffractive optical element.
상기 발광부로부터 제 1 광 패턴을 갖는 광을 생성하는 단계;
상기 발광부로부터 생성된 광을 평행광으로 만드는 단계;
상기 제 1 광 패턴을 갖는 광을 제 2 광 패턴으로 변환하는 단계;
상기 제 2 광 패턴으로 변환된 광을 다수개로 복제하여, 구조광을 생성하는 단계; 그리고,
상기 생성된 구조광을 피사체로 전송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구조광 생성 방법.A structure light generating method of a structured light generating device including a light emitting portion in which a plurality of light sources are arranged at minimum reference intervals,
Generating light having a first light pattern from the light emitting portion;
Converting the light generated from the light emitting unit into parallel light;
Converting the light having the first light pattern into a second light pattern;
Replicating the light converted into the second light pattern into a plurality of light beams to generate structured light; And,
And transmitting the generated structured light to a subject.
상기 제 2 광 패턴은,
상기 제 1 광 패턴의 최소 패턴 간격에 대해, X축 방향 또는 Y축 방향으로 소정값만큼 증가하도록 변환된 것을 특징으로 하는 구조광 생성 방법.18. The method of claim 17, wherein in the step of converting light having the first light pattern into a second light pattern,
The second light pattern may be a light-
Axis direction or the Y-axis direction with respect to a minimum pattern interval of the first light pattern by a predetermined value.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017204498A1 (en) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 엘지전자 주식회사 | Mobile terminal |
KR20190000052A (en) * | 2017-06-22 | 2019-01-02 | 엘지이노텍 주식회사 | Light transmission apparatus and tof module using the same |
CN109155801A (en) * | 2016-05-27 | 2019-01-04 | Lg电子株式会社 | Mobile terminal |
KR20190014977A (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-13 | 엘지이노텍 주식회사 | Time of flight module |
WO2022025677A1 (en) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | 엘지이노텍 주식회사 | Distance measuring camera |
WO2023055180A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 엘지이노텍 주식회사 | Camera device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130028594A (en) * | 2011-09-09 | 2013-03-19 | 엘지전자 주식회사 | Method for creating structured light, apparatus thereof and aparatus for motion detection by using apparatus thereof |
KR101341620B1 (en) * | 2012-06-14 | 2013-12-13 | 전자부품연구원 | System and method for measuring three dimensional shape |
-
2014
- 2014-01-22 KR KR1020140007784A patent/KR102103722B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130028594A (en) * | 2011-09-09 | 2013-03-19 | 엘지전자 주식회사 | Method for creating structured light, apparatus thereof and aparatus for motion detection by using apparatus thereof |
KR101341620B1 (en) * | 2012-06-14 | 2013-12-13 | 전자부품연구원 | System and method for measuring three dimensional shape |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017204498A1 (en) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | 엘지전자 주식회사 | Mobile terminal |
CN109155801A (en) * | 2016-05-27 | 2019-01-04 | Lg电子株式会社 | Mobile terminal |
US11409119B2 (en) | 2016-05-27 | 2022-08-09 | Lg Electronics Inc. | Mobile terminal |
KR20190000052A (en) * | 2017-06-22 | 2019-01-02 | 엘지이노텍 주식회사 | Light transmission apparatus and tof module using the same |
KR20190014977A (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-13 | 엘지이노텍 주식회사 | Time of flight module |
KR20220075283A (en) * | 2017-08-04 | 2022-06-08 | 엘지이노텍 주식회사 | Time of flight module |
WO2022025677A1 (en) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | 엘지이노텍 주식회사 | Distance measuring camera |
WO2023055180A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 엘지이노텍 주식회사 | Camera device |
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