KR20150078603A - Apparatus for treating substrate - Google Patents

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Abstract

Provided is an apparatus for treating substrates. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for treating substrates comprises: a frame; an upper transfer unit installed in the longitudinal direction at the top of the frame, settling the substrate on the top, and linearly transferred to a first direction with the substrate; an up and down transfer unit installed to ascend and descend in the height direction of one side of the frame, descending by taking over the substrate from the upper transfer unit when ascending, and providing the substrate to a process chamber at the bottom of the frame; and a transfer unit arranged between the up and down transfer unit when descending, and the process chamber, taking over the substrate from the up and down transfer unit. and providing the substrate to the process chamber.

Description

기판 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE}[0001] APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE [0002]

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 안정적이고 원활한 이송이 가능한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus capable of stable and smooth transfer of a substrate.

일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 장치의 제조에서 유리 기판과 같은 대면적 기판에 대하여 일련의 처리라인을 거치면서 소정의 처리 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 식각 공정, 스트립 공정, 세정 공정, 건조 공정 등과 같은 단위 공정들이 상기 기판에 대하여 수행될 수 있으며, 상기 단위 공정들을 수행하기 위한 장치는 일반적으로 인라인 방식으로 기판을 이동시키면서 수행될 수 있다. 이러한 기판의 처리라인에 있어서는 라인간에 기판을 이송하기 위한 이송장치들이 필수적으로 적용되며, 상기 기판 이송 장치들에 관한 다양한 기술들이 개발되고 있다.In general, in the manufacture of a flat panel display (FPD) device, predetermined processing steps can be performed while passing through a series of processing lines to a large-area substrate such as a glass substrate. For example, unit processes such as an etching process, a strip process, a cleaning process, a drying process, and the like may be performed on the substrate, and the apparatus for performing the unit processes may be generally performed while moving the substrate in an in- have. In the processing line of such a substrate, transfer devices for transferring the substrate between the lines are essentially applied, and various techniques for the substrate transfer devices are being developed.

종래의 기판 처리 장치는 기판 이송 모듈과 기판 처리 모듈을 포함할 수 있다. 상기 기판 이송 모듈과 기판 처리 모듈은 수직 방향으로 적층될 수 있다. 특히, 상기 기판 이송 모듈 아래에 상기 기판 처리 모듈이 배치될 수 있으며, 상기 기판 이송 모듈과 기판 처리 모듈의 양측에는 각각 로드 승강부와 언로드 승강부가 배치될 수 있다. 특히, 기판을 수평 및 상하로 이송하는 장치는 대부분 수입에 의존하고 있으며 매우 고가여서 원가 절감을 위한 기술 개발이 요구되고 있는 실정이다. Conventional substrate processing apparatuses may include a substrate transfer module and a substrate processing module. The substrate transfer module and the substrate processing module may be stacked in a vertical direction. Particularly, the substrate processing module may be disposed under the substrate transfer module, and a rod elevator and an unload elevator may be disposed on both sides of the substrate transfer module and the substrate processing module, respectively. In particular, most of the apparatuses for transporting substrates horizontally and vertically are dependent on imports, and they are very expensive and require development of technology for cost reduction.

본 발명은 기판을 수평 및 상하로 안정적이면서도 원활하게 이송시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of stably and smoothly transferring a substrate horizontally and vertically.

또한, 본 발명은 간단한 구조로 설비 표준화 및 원가 절감이 가능한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of standardizing facilities and reducing costs with a simple structure.

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치는 프레임과, 상기 프레임 상부의 길이 방향에 설치되어, 상부에 기판을 안착시켜 기판과 함께 제1 방향으로 직선 이동되는 상부 이동 유닛과, 상기 프레임 일측의 높이 방향에 승하강 가능하게 설치되며, 상승시 상기 상부 이동 유닛으로부터 기판을 인계받아 하강하여 기판을 상기 프레임 하부의 공정 챔버로 제공하는 상하 이동 유닛과, 하강시의 상기 상하 이동 유닛과 상기 공정 챔버 사이에 배치되어, 상기 상하 이동 유닛으로부터 기판을 인수하여 상기 공정 챔버로 기판을 제공하는 이송 유닛을 포함한다.The present invention provides a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a frame, an upper movable unit installed in the longitudinal direction of the upper portion of the frame, linearly moved in a first direction together with the substrate by placing the substrate thereon, A vertical moving unit installed to be movable up and down in a height direction and lowering the substrate from the upper movable unit when the movable unit is lifted to provide a substrate to a process chamber under the frame; And a transfer unit that takes a substrate from the up-and-down moving unit and provides the substrate to the process chamber.

일 예에 의하면, 상기 상부 이동 유닛은, 상기 프레임 상에 평행하게 배치된 한 쌍의 레일 위에서 슬라이드 이동 가능하게 결합되는 이동 부재와, 상기 이동 부재 상에 그 길이 방향이 상기 제1 방향을 향해 배치되고 상부에 기판이 놓여지는 복수의 지지바와, 각각의 상기 지지바 상에 돌출 형성되어 기판을 지지하는 복수의 지지돌기를 포함한다.According to an embodiment, the upper moving unit includes: a moving member slidably coupled on a pair of rails disposed in parallel on the frame; and a moving member having a longitudinal direction disposed in the first direction And a plurality of support protrusions formed on the respective support bars to support the substrates.

일 예에 의하면, 상기 이동 부재는, 상부에서 바라볼 때 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 평행하게 배치되어 양단이 상기 레일 상에 위치되는 한 쌍의 하부 부재와, 상기 하부 부재를 상기 제1 방향으로 연결하는 적어도 하나 이상의 연결 부재와, 상기 하부 부재의 상단에서 위로 연장되는 복수의 상부 부재를 갖는다.According to an embodiment, the moving member includes a pair of lower members disposed parallel to each other in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and having both ends positioned on the rails; At least one connecting member connecting in a first direction and a plurality of upper members extending upward from an upper end of the lower member.

일 예에 의하면, 상기 상하 이동 유닛은, 베이스부와, 상기 베이스부의 상부에서 위로 연장되는 하부 지지부와, 내부에 다수의 롤러를 구비하고 상기 하부 지지부의 상부에서 길이 방향이 상기 상부 이동 유닛을 향하여 연장 형성되어 상기 상부 이동 유닛으로부터 기판을 넘겨받는 아암부와, 상기 베이스부의 상부에서 위로 연장되어 상기 제1 방향으로 상기 아암부의 외측에 맞닿게 배치되는 측면 지지부와, 상기 아암부와 상기 측면 지지부 내부에 위치되어 상기 롤러를 구동시키는 롤러 구동부를 포함한다.According to one example, the up-and-down moving unit includes a base portion, a lower support portion extending upward from the upper portion of the base portion, and a plurality of rollers therein, A side support portion extending upward from an upper portion of the base portion and disposed to abut the outer side of the arm portion in the first direction; And a roller driving unit for driving the roller.

일 예에 의하면, 상기 아암부는, 일정 간격 이격되어 각각 평행하게 배치된 3개의 핸드를 포함한다. According to an example, the arm portion includes three hands spaced apart from each other by a predetermined distance and arranged in parallel.

일 예에 의하면, 상기 롤러 구동부는, 상기 측면 지지부의 일단에 위치되어 상기 측면 지지부 내에 길이 방향으로 위치되는 제1 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 모터와, 각각의 상기 핸드가 위치되는 지점에 상기 제1 샤프트에 각각 결합되는 3개의 제1 헬리컬 기어와, 각각의 상기 핸드 내에 상기 롤러의 일측에 위치되는 3개의 제2 샤프트에 결합되는 복수의 제2 헬리컬 기어를 포함하되, 상기 제2 샤프트의 일단은 각각의 상기 제1 헬리컬 기어와 결합되고, 상기 제2 헬리컬 기어는 마그네틱 헬리컬 기어로 제공된다.According to an embodiment, the roller driving unit may include: a driving motor that is disposed at one end of the side supporting portion and provides a driving force to a first shaft positioned in the longitudinal direction in the side supporting portion; And a plurality of second helical gears coupled to three second shafts positioned at one side of the roller in each of the hands, wherein the first helical gears are connected to one end of the second shaft, Is coupled to each of the first helical gears, and the second helical gear is provided as a magnetic helical gear.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 수평 및 상하로 안정적이면서도 원활하게 이송시킬 수 있다.The substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention can stably and smoothly transfer the substrate horizontally and vertically.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 간단한 구조로 설비 표준화 및 원가 절감이 가능한 장점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention has an advantage that it can standardize the facility and reduce the cost by a simple structure.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1의 상부 이동 유닛과 상하 이동 유닛의 평면도이다.
도 3은 도 2에서 기판을 인계하는 모습을 보여주는 도면이다.
도 4는 도 1의 상부 이동 유닛의 측면도이다.
도 5는 도 1의 상하 이동 유닛의 측면도이다.
도 6은 도 1의 상하 이동 유닛의 내부 모습을 보여주는 도면이다.
도 7은 상부 이동 유닛에서 상하 이동 유닛으로 기판을 인계하는 모습을 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate exemplary embodiments of the invention and, together with the description of the invention, It should not be construed as limited.
1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a plan view of the upper mobile unit and the up-and-down mobile unit of Fig. 1. Fig.
FIG. 3 is a view showing a state in which the substrate is taken over in FIG. 2. FIG.
4 is a side view of the upper mobile unit of Fig.
5 is a side view of the up-and-down moving unit of Fig.
FIG. 6 is a view showing the inside of the up-and-down moving unit of FIG. 1. FIG.
7 is a view showing a state in which the substrate is transferred to the up-and-down moving unit in the upper moving unit.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 따라서 도면에서의 도시된 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. Therefore, the shapes and the like of the illustrated components in the drawings are exaggerated in order to emphasize a clear explanation.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 상부 이동 유닛과 상하 이동 유닛의 평면도이고, 도 3은 도 2에서 기판을 인계하는 모습을 보여주는 도면이고, 도 4는 도 1의 상부 이동 유닛의 측면도이고, 도 5는 도 1의 상하 이동 유닛의 측면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the upper moving unit and the vertical moving unit of FIG. 1, and FIG. , Fig. 4 is a side view of the upper mobile unit of Fig. 1, and Fig. 5 is a side view of the vertical mobile unit of Fig.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 프레임(100), 상부 이동 유닛(200), 상하 이동 유닛(300), 이송 유닛(400), 그리고 공정 챔버(500)를 포함한다.1 to 5, the substrate processing apparatus 10 includes a frame 100, an upper movable unit 200, a vertically movable unit 300, a transfer unit 400, and a process chamber 500 .

본 발명이 제안하는 기판의 수평 및 상하 이송장치는 통상적인 기판 처리라인에 적용될 수 있고, 더불어 적층형의 기판 처리라인의 입측 및 출측에 적용될 수도 있다. 즉, 상기한 적층형의 기판 처리라인은 다층구조를 갖는 프레임의 내부에 기판을 처리하기 위한 기판 처리유닛을 소형화하여 구비한 라인으로서, 그 입측 및 출측에 기판의 수평 이송수단 및 상하 이송수단을 배치함으로써 기판을 공급하거나 배출할 수 있다.The horizontal and vertical transfer devices of the present invention proposed by the present invention can be applied to a conventional substrate processing line and also to the entrance and exit of a stacked substrate processing line. That is, the above-described laminate type substrate processing line is a line provided with a substrate processing unit for processing a substrate inside a frame having a multilayer structure, and has horizontally moving means and up-and-down moving means Whereby the substrate can be supplied or discharged.

프레임(100)은 다층 구조를 갖는다. 프레임(100)은 하부에 기판(S)을 처리하기 위한 공정 챔버(500)가 구비된다. 여기서는 가장 간단한 구조로 상부(상층)과 하부(하층) 구조를 갖는 프레임(100)으로 예시한다. The frame 100 has a multi-layer structure. The frame 100 is provided with a process chamber 500 for processing the substrate S in a lower portion thereof. Here, the simplest structure is exemplified by the frame 100 having the upper (upper layer) and lower (lower layer) structures.

상부 이동 유닛(200)은 프레임(100) 상부의 길이 방향에 설치된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상부 이동 유닛(200)은 상부에 기판(S)을 안착시켜 기판(S)과 함께 제1 방향(12)으로 직선 이동된다. 상부 이동 유닛(200)은 이동 부재(210), 지지바(220) 및 지지돌기(230)를 포함한다. The upper mobile unit 200 is installed in the longitudinal direction of the upper portion of the frame 100. 2, the upper movable unit 200 is moved linearly in the first direction 12 together with the substrate S by seating the substrate S on the upper side. The upper mobile unit 200 includes a movable member 210, a support bar 220, and a support protrusion 230.

이동 부재(210)는 프레임(100) 상에 제1 방향(12)으로 평행하게 배치된 한 쌍의 레일(110) 위에서 슬라이드 이동 가능하게 결합된다. 따라서 이동 부재(210)는 레일(110)을 따라 제1 방향(12)으로 슬라이드 되어 직선 이동한다. 이동 부재(210)는 하부 부재(211), 연결 부재(212) 및 상부 부재(213)를 갖는다. Moving member 210 is slidably coupled on a pair of rails 110 disposed in parallel in a first direction 12 on frame 100. Thus, the shifting member 210 slides in the first direction 12 along the rail 110 and moves linearly. The shifting member 210 has a lower member 211, a connecting member 212, and an upper member 213.

하부 부재(211)는 한 쌍으로 2개가 나란하게 설치된다. 하부 부재(211)는 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 제2 방향(14)으로 평행하게 배치된다. 하부 부재(211)의 길이 방향의 양단은 레일(110) 상에 놓인다. 하부 부재(211)의 길이 방향의 양단에는 레일(110) 상에서 이동될 수 있는 슬라이드 수단(미도시)이 자체 형성되거나 별도의 장치로서 결합될 수 있다. 또한, 도시되지는 않았지만 하부 부재(211)는 벨트와 리니어 모터(LM) 가이드 등을 통해 슬라이드 직선 운동을 할 수 있다. Two lower members 211 are installed side by side in a pair. The lower member 211 is disposed in parallel in a second direction 14 perpendicular to the first direction 12 when viewed from above. Both ends in the longitudinal direction of the lower member 211 are placed on the rail 110. Sliding means (not shown), which can be moved on the rail 110, may be formed on both ends of the lower member 211 in the longitudinal direction, or may be combined as a separate device. Also, although not shown, the lower member 211 can slide linearly through a belt, a linear motor (LM) guide, or the like.

연결 부재(212)는 한 쌍의 하부 부재(211)를 상호 연결한다. 연결 부재(212)는 한 쌍의 하부 부재(211)를 제1 방향(12) 또는 레일(110)과 평행한 방향으로 연결한다. 연결 부재(212)는 적어도 하나 이상 형성되어 한 쌍의 하부 부재(211)가 일체로 움직일 수 있도록 연결한다. The connecting member 212 interconnects the pair of lower members 211. The connecting member 212 connects the pair of lower members 211 in a direction parallel to the first direction 12 or the rail 110. At least one connecting member 212 is formed so that the pair of lower members 211 are connected so as to move integrally.

상부 부재(213)는 하부 부재(211)의 상단에서 위로 연장된다. 상부 부재(213)는 복수 개로 제공된다. 각각의 상부 부재(213)는 하부 부재(211)의 상단에서 서로 일정 간격 이격되어 형성될 수 있다. The upper member 213 extends upward from the upper end of the lower member 211. The upper member 213 is provided in plural. Each of the upper members 213 may be formed at a predetermined distance from the upper end of the lower member 211.

지지바(220)는 이동 부재(210) 상에 그 길이 방향이 제1 방향(12)을 향해 배치된다. 즉, 지지바(220)는 상승시의 상하 이동 유닛(300)을 향해 길게 설치된다. 지지바(220)는 각각의 상부 부재(213)의 상단에 위치된다. 즉, 지지바(220)는 복수 개가 제공된다. 지지바(220)는 그 길이 방향이 상하 이동 유닛(300)을 향해 배치된다. 다수의 지지바(220)의 상부에는 기판이 놓여진다. The supporting bar 220 is disposed on the moving member 210 such that its longitudinal direction is directed toward the first direction 12. That is, the support bar 220 is installed to be long toward the up-and-down moving unit 300 at the time of the rise. The support bars 220 are positioned at the top of each of the upper members 213. That is, a plurality of support bars 220 are provided. The support bars 220 are arranged in the longitudinal direction toward the up-and-down moving unit 300. A substrate is placed on top of the plurality of support bars 220.

지지돌기(230)는 각각의 지지바(220) 상에 돌출 형성된다. 지지돌기(230)는 각각의 지지바(220) 마다 복수 개가 형성된다. 지지돌기(230)는 지지바(220) 상에 위치되는 기판(S)의 하면을 지지한다. Supporting protrusions 230 are formed on each support bar 220 in a protruding manner. A plurality of support protrusions 230 are formed for each support bar 220. The support protrusion 230 supports the lower surface of the substrate S which is positioned on the support bar 220.

도 1을 참조하면, 상하 이동 유닛(300)은 프레임(100)의 일측의 높이 방향에 승하강 가능하게 설치된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상하 이동 유닛(300)은 상승시 상부 이동 유닛(200)으로부터 기판(S)을 인계받는다. 상하 이동 유닛(300)은 하강하여 기판(S)을 프레임(100) 하부의 공정 챔버(500)로 제공한다.Referring to FIG. 1, the vertical moving unit 300 is installed so as to be vertically movable in a height direction of one side of the frame 100. As shown in FIG. 3, the vertical movement unit 300 takes over the substrate S from the upper movable unit 200 when the vertical movement unit 300 ascends. The vertically moving unit 300 is lowered to provide the substrate S to the process chamber 500 under the frame 100.

상하 이동 유닛(300)은 베이스부(310), 하부 지지부(320), 아암부(330), 측면 지지부(340), 그리고 롤러 구동부(350)를 포함한다. The vertical movement unit 300 includes a base portion 310, a lower support portion 320, an arm portion 330, a side support portion 340, and a roller driving portion 350.

베이스부(310)는 직육면체의 플레이트 형상으로 형성된다. 프레임(100)의 일측에는 상하 방향으로 상하 구동부(360)가 설치된다. 상하 구동부(360)는 베이스부(310)를 상하 직선 구동시킴으로써 상하 이동 유닛(300)을 승하강 시킨다. 상하 구동부(360)는 상하 구동 벨트부(미도시)와 상하 구동부재(미도시)를 포함한다. 상하 이동 유닛(300)은 상하 구동부재로부터 동력을 제공받아 상하 구동 벨트부를 통해 수직 방향으로 이동 가능하다. The base portion 310 is formed in the shape of a rectangular parallelepiped plate. On one side of the frame 100, a vertical driving part 360 is provided in the vertical direction. The up and down driving unit 360 drives the base unit 310 up and down to linearly move the up and down moving unit 300 up and down. The upper and lower drive unit 360 includes a vertical drive belt unit (not shown) and a vertical drive member (not shown). The up-and-down moving unit 300 is vertically movable through the up-and-down driving belt unit by receiving power from the up-and-down driving member.

하부 지지부(320)는 베이스부(310)의 상부에서 위로 연장되어 다수가 배치된다. 하부 지지부(320) 상에는 아암부(330)가 위치된다. 하부 지지부(320)는 각각의 핸드들(331,332,333)마다 배치될 수 있다. The lower support portion 320 extends upward from the upper portion of the base portion 310 and is disposed in a plurality of places. On the lower support part 320, the arm part 330 is positioned. The lower support portion 320 may be disposed for each of the hands 331, 332, 333.

아암부(330)는 하부 지지부(320)의 상단에 배치되어 길이 방향이 제1 방향(12)과 반대 방향으로 형성된다. 즉, 아암부(330)는 길이 방향이 상부 이동 유닛(200)을 향하여 연장 형성된다. 아암부(330)는 내부에 그 길이 방향으로 다수의 롤러(334)를 구비한다. 롤러(334)의 상부는 아암부(330)의 상면보다 위로 돌출 되도록 배치된다. 아암부(330)는 상부 이동 유닛(200)으로부터 기판(S)을 인계받는다. 즉, 상부 이동 유닛(200)으로부터 넘겨받은 기판(S)은 아암부(330)의 롤러(334) 상에 놓이게 된다. The arm portion 330 is disposed at the upper end of the lower support portion 320 and is formed in a direction opposite to the first direction 12 in the longitudinal direction. That is, the arm portion 330 extends in the longitudinal direction toward the upper mobile unit 200. The arm portion 330 has a plurality of rollers 334 in its longitudinal direction. The upper portion of the roller 334 is arranged to protrude above the upper surface of the arm portion 330. The arm portion 330 receives the substrate S from the upper movable unit 200. That is, the substrate S transferred from the upper movable unit 200 is placed on the roller 334 of the arm portion 330.

아암부(330)는 3개의 핸드들(331,332,333)을 포함한다. 핸드들(331,332,333)은 각각의 모두가 서로 일정 간격 이격되어 평행하게 혹은 나란하게 배치된다. 핸드들(331,332,333)의 일단은 측면 지지부(350)의 상부 측면과 연결된다. 다시 말해, 핸드들(331,332,333)은 측면 지지부(350)의 상부 측면에서 상부 이동 유닛(200)을 향해 연장된다. 다수의 롤러(334)를 포함한 3개의 핸드들(331,332,333)의 최대 높이는 복수의 지지바(220)의 높이 보다는 약간 낮게 형성된다. The arm portion 330 includes three hands 331, 332, 333. Each of the hands 331, 332, 333 is disposed in parallel or in parallel with each other at a predetermined interval. One end of the hands 331, 332, 333 is connected to the upper side of the side support 350. In other words, the hands 331, 332, 333 extend from the upper side of the side support 350 toward the upper mobile unit 200. The maximum height of the three hands 331, 332, 333 including the plurality of rollers 334 is formed to be slightly lower than the height of the plurality of support bars 220. [

측면 지지부(340)는 제1 방향(12)으로 아암부(330)의 외측에 맞닿게 배치된다. 측면 지지부(340)는 베이스부(310)의 상부에서 위로 연장되어 형성된다. 따라서 측면 지지부(340)는 하부 지지부(320)와 평행하게 제공된다. The side support portion 340 is disposed in contact with the outside of the arm portion 330 in the first direction 12. The side support portion 340 is formed to extend upward from the upper portion of the base portion 310. Thus, the side support portion 340 is provided in parallel with the lower support portion 320.

도 6은 도 1의 상하 이동 유닛의 내부 모습을 보여주는 도면이다. 도 6을 참조하면, 아암부와(330)와 측면 지지부(340)의 내부에는 롤러(334)를 구동시키는 롤러 구동부(350)가 위치된다. FIG. 6 is a view showing the inside of the up-and-down moving unit of FIG. 1. FIG. Referring to FIG. 6, a roller driving unit 350 for driving the rollers 334 is disposed inside the arm portion 330 and the side supporting portion 340.

롤러 구동부(350)는 제1 샤프트(351), 구동 모터(352), 3개의 제1 헬리컬 기어들(353a,353b,353c), 3개의 제2 샤프트들(354a,354b,354c), 그리고 다수의 제2 헬리컬 기어(355)들을 포함한다. The roller driving unit 350 includes a first shaft 351, a driving motor 352, three first helical gears 353a, 353b, 353c, three second shafts 354a, 354b, 354c, And second helical gears 355 of the second helical gear 355.

구동 모터(352)는 측면 지지부(350)의 일단에 위치된다. 구동 모터(352)는 제1 샤프트(351)와 연결되어 제1 샤프트(351)에 구동력 또는 회전력을 제공한다. The drive motor 352 is positioned at one end of the side support portion 350. The driving motor 352 is connected to the first shaft 351 to provide a driving force or a rotational force to the first shaft 351.

제1 샤프트(351)는 아암부(330)와 맞닿는 측면 지지부(340)의 내부에 길이 방향으로 위치된다. 즉, 제1 샤프트(351)는 아암부(330)와 연결되는 지점의 측면 지지부(340)의 내부에 제2 방향(14)으로 배치된다. The first shaft 351 is positioned in the longitudinal direction inside the side support portion 340 abutting the arm portion 330. That is, the first shaft 351 is disposed in the second direction 14 inside the side support portion 340 at a point connected to the arm portion 330.

제1 샤프트(351)에는 3개의 제1 헬리컬 기어(353a,353b,353c)들이 각각 결합된다. 제1 헬리컬 기어들(353a,353b,353c)은 각각의 핸드(331,332,333)가 위치되는 지점마다 제1 샤프트(351)에 일정 거리 이격되어 각각 설치된다. 제1 헬리컬 기어들(353a,353b,353c)은 3개의 제2 샤프트들(344a,344b,344c)의 일단과 각각 연결된다. Three first helical gears 353a, 353b, and 353c are coupled to the first shaft 351, respectively. The first helical gears 353a, 353b, and 353c are spaced a predetermined distance from the first shaft 351 at positions where the hands 331, 332, and 333 are positioned. The first helical gears 353a, 353b, and 353c are connected to one ends of the three second shafts 344a, 344b, and 344c, respectively.

제2 샤프트들(354a,354b,354c)은 각각의 핸드(331,332,333)의 내부에 다수 설치되는 롤러(334)들의 일측에서 각 핸드(331,332,333)와 같은 길이 방향으로 배치된다. 제2 샤프트들(354a,354b,354c)은 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)으로 제1 샤프트(342)와 수직하게 배치된다. 제2 샤프트들(344a,344b,344c)의 일단은 측면 지지부(340)의 내부에서 제1 헬리컬 기어들(353a,353b,353c)과 결합된다.The second shafts 354a, 354b and 354c are arranged in the same longitudinal direction as the respective hands 331, 332 and 333 on one side of the rollers 334 installed in the respective hands 331, 332 and 333. The second shafts 354a, 354b, 354c are disposed perpendicular to the first shaft 342 in the first direction 12 when viewed from above. One end of the second shafts 344a, 344b and 344c is engaged with the first helical gears 353a, 353b and 353c inside the side support portion 340. [

제2 샤프트들(354a,354b,354c)에는 각각의 롤러(334)가 위치되는 지점마다 각각 제2 헬리컬 기어(355)가 결합된다. 복수의 제2 헬리컬 기어(355)들은 마그네틱 헬리컬 기어로 제공될 수 있다. The second helical gear 355 is coupled to each of the second shafts 354a, 354b, and 354c at the positions where the respective rollers 334 are located. The plurality of second helical gears 355 may be provided as magnetic helical gears.

또한, 측면 지지부(340)의 상단에는 길이 방향으로 다수의 프리롤러(341)가 배치된다. 프리롤러(341)는 별도의 동력 전달이 없이 구동된다. 프리롤러(341)는 복수의 롤러(334)들과 같은 방향으로 회전되도록 설치된다.A plurality of free rollers 341 are disposed at the upper end of the side support portion 340 in the longitudinal direction. The free rollers 341 are driven without any separate power transmission. The free rollers 341 are installed to rotate in the same direction as the plurality of rollers 334.

도 7은 상부 이동 유닛에서 상하 이동 유닛으로 기판을 인계하는 모습을 보여주는 도면이다. 도 7을 참조하면, 상하 이동 유닛(300)은 상승하여 대기중이고, 상부 이동 유닛(200)은 상부에 기판(S)이 안착되어 기판(S)과 함께 제1 방향(12)으로 이동한다. 다수의 지지바(220)가 3개의 핸드(331,332,333)의 각각의 사이로 들어가서 기판(S)의 일부 영역을 다수의 롤러(334) 위에 위치시킨다. 이후, 롤러 구동부(350)가 동원되어 다수의 롤러(334)를 제1 방향(12)으로 회전시켜 기판(S)을 핸드들(331,332,333) 위로 이동시켜 기판(S)의 전체 영역이 상하 이동 유닛(300) 상에 배치되도록 한다. 이때, 상하 구동부(360)의 서보 모터(미도시)를 통해 상하 이동 유닛(300)을 일정 높이(예: 약 2mm 등) 업 시켜 상부 이동 유닛(200)이 원래의 위치로 복귀할 수 있는 공간을 확보한다. 그 다음, 상하 구동부(360)가 상하 이동 유닛(300)을 하강시킨다. 이후, 상하 이동 유닛(300)은 롤러 구동부(350)를 통해 다수의 롤러(334)를 상승시의 방향과 반대 방향인 공정 챔버(500)를 향해 회전시켜 이송 유닛(400)에 기판(S)을 인계한다. 7 is a view showing a state in which the substrate is transferred to the up-and-down moving unit in the upper moving unit. Referring to FIG. 7, the up-and-down moving unit 300 is lifted and is in the standby state, and the upper movable unit 200 has the substrate S mounted thereon and moved in the first direction 12 together with the substrate S. A plurality of support bars 220 enter between each of the three hands 331, 332, 333 to position a portion of the substrate S over the plurality of rollers 334. [ Thereafter, the roller driving unit 350 is used to rotate the plurality of rollers 334 in the first direction 12 to move the substrate S over the hands 331, 332, 333 so that the entire area of the substrate S is moved up and down (300). At this time, the up-and-down moving unit 300 is raised up to a certain height (for example, about 2 mm) through a servo motor (not shown) of the up-down driving unit 360, . Then, the up-and-down driving unit 360 moves the up-and-down moving unit 300 down. Thereafter, the vertical moving unit 300 rotates the plurality of rollers 334 toward the process chamber 500, which is opposite to the direction of the upward movement, through the roller driving unit 350 to transfer the substrate S to the transfer unit 400 Take over.

이송 유닛(400)은 프레임(100)의 하부에서 하강시의 상하 이동 유닛(300)과 공정 챔버(500) 사이에 배치된다. 이송 유닛(400)은 상하 이동 유닛(300)으로부터 기판(S)을 인수하여 공정 챔버(500)로 기판(S)을 제공한다.The transfer unit 400 is disposed between the vertically moving unit 300 and the process chamber 500 when the frame 100 is lowered. The transfer unit 400 takes the substrate S from the up-and-down moving unit 300 and provides the substrate S to the process chamber 500.

이송 유닛(400)은 이송 샤프트(410)와 이송 롤러(420)를 구비한다. 이송 샤프트(410)는 기판(S)이 이송되는 제1 방향(12)의 반대 방향을 따라 공정 챔버(500)를 향해 서로 나란하게 이격되어 복수 개가 배열된다. 각각의 이송 샤프트(410)의 외주면에는 그 길이 방향을 따라 다수의 이송 롤러(420)가 설치된다. 이송 롤러(420)는 이송 샤프트(410)에 일정 간격으로 배치될 수 있다. 이송 롤러(420)는 이송 샤프트(410)에 고정결합된다. 이송 샤프트(410)는 그 중심축을 기준으로 샤프트 구동부(미도시)에 의해 회전된다. 이송 샤프트(410)가 회전하면 복수의 이송 롤러(420)도 함께 회전한다. 샤프트 구동부에 의해 이송 샤프트(410)와 이송 롤러(420)가 회전되면, 기판(S)은 그 하면이 이송 롤러(420)에 접촉된 상태로 이송 샤프트(410)를 따라 직선 이동된다. 기판(S)은 이송 유닛(400)을 통해 공정 챔버(500) 내로 제공된다. The transfer unit 400 has a transfer shaft 410 and a transfer roller 420. A plurality of transfer shafts 410 are arranged in parallel to each other toward the process chamber 500 along the direction opposite to the first direction 12 in which the substrates S are transferred. A plurality of feed rollers 420 are provided on the outer circumferential surface of each of the feed shafts 410 along the longitudinal direction thereof. The transfer rollers 420 may be disposed at a predetermined interval on the transfer shaft 410. The conveying roller 420 is fixedly coupled to the conveying shaft 410. The transfer shaft 410 is rotated by a shaft driving unit (not shown) with respect to its central axis. When the conveying shaft 410 rotates, the plurality of conveying rollers 420 rotate together. When the conveying shaft 410 and the conveying roller 420 are rotated by the shaft driving unit, the substrate S is linearly moved along the conveying shaft 410 while the lower surface thereof is in contact with the conveying roller 420. The substrate S is fed into the process chamber 500 through the transfer unit 400.

공정 챔버(500)는 기판 처리 공정이 진행되는 공간을 제공한다. 공정 챔버(500)은 대체로 직육면체 형상을 가지며, 서로 인접하게 배치된다. 공정 챔버(500)의 일 측벽에는 기판이 유입되는 유입구(미도시)가 제공되고, 이와 마주보는 타 측벽에는 공정 챔버(500)로부터 기판이 유출되는 유출구(미도시)가 제공된다. 각 공정 챔버(500) 내에서는 기판에 대해 소정 공정이 진행된다. 각 공정 챔버(500) 내에서는 각각 식각공정 또는 세정공정 등이 진행될 수 있다. 공정 챔버(500)에서는 액 공급라인(미도시)과 연결되는 액 공급 장치(예를 들어, 노즐 등)를 이용하여 기판으로 액을 공급하여 기판의 공정 처리를 수행한다.The process chamber 500 provides a space through which the substrate processing process proceeds. The process chambers 500 have a generally rectangular parallelepiped shape and are disposed adjacent to each other. One side wall of the process chamber 500 is provided with an inlet (not shown) through which the substrate is introduced, and the other side wall is provided with an outlet (not shown) through which the substrate flows out of the process chamber 500. In each process chamber 500, a predetermined process is performed on the substrate. In each of the process chambers 500, an etching process or a cleaning process may be performed. In the process chamber 500, a liquid is supplied to a substrate using a liquid supply device (for example, a nozzle or the like) connected to a liquid supply line (not shown) to perform processing of the substrate.

상술한 바와 같이, 본 발명은 상부 이동 유닛 및 상하 이동 유닛을 구비함으로써 기판을 수평 및 상하로 안정적이면서도 원활하게 이송시킬 수 있다. 특히, 본 발명의 상하 이동 유닛의 3개의 핸드는 간단한 구조로 설비 표준화 및 원가 절감이 가능한 장점이 있으며, 우수한 택 타임(tac time)과 정전기 방지 등 여러 방면으로 우수하다. As described above, the present invention can stably and smoothly transport the substrate horizontally and vertically by providing the upper movable unit and the vertically movable unit. Particularly, the three hands of the up-and-down mobile unit of the present invention are advantageous in terms of standardization of facilities and cost reduction by a simple structure, and excellent in various aspects such as excellent tack time and anti-static.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

10 : 기판 처리 장치 100 : 프레임
110 : 레일 200 : 상부 이동 유닛
210 : 이동 부재 211 : 하부 부재
212 : 연결 부재 213 : 상부 부재
220 : 지지바 230 : 지지돌기
300 : 상하 이동 유닛 310 : 베이스부
320 : 하부 지지부 330 : 아암부
331,332,333 : 핸드 334 : 롤러
340 : 측면 지지부 341 : 프리롤러
350 : 롤러 구동부 360 : 상하 구동부10: substrate processing apparatus 100: frame
110: rail 200: upper movable unit
210: moving member 211: lower member
212: connecting member 213: upper member
220: support bar 230: support projection
300: Up / down mobile unit 310: Base unit
320: lower support part 330:
331,332,333: Hand 334: Roller
340: side support portion 341: free roller
350: roller driving part 360: upper and lower driving part

Claims (2)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
프레임과,
상기 프레임 상부의 길이 방향에 설치되어, 상부에 기판을 안착시켜 기판과 함께 제1 방향으로 직선 이동되는 상부 이동 유닛과,
상기 프레임 일측의 높이 방향에 승하강 가능하게 설치되며, 상승시 상기 상부 이동 유닛으로부터 기판을 인계받아 하강하여 기판을 상기 프레임 하부의 공정 챔버로 제공하는 상하 이동 유닛과,
하강시의 상기 상하 이동 유닛과 상기 공정 챔버 사이에 배치되어, 상기 상하 이동 유닛으로부터 기판을 인수하여 상기 공정 챔버로 기판을 제공하는 이송 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate,
Frame,
An upper movable unit installed in the longitudinal direction of the upper part of the frame and having a substrate placed thereon and linearly moved in a first direction together with the substrate;
A vertical moving unit installed to move up and down in a height direction of the frame at one side of the frame and descending the substrate from the upper moving unit at the time of rising to provide a substrate to a process chamber under the frame,
And a transfer unit which is disposed between the up-down moving unit and the process chamber at the time of falling, and receives the substrate from the up-and-down moving unit to provide the substrate to the process chamber. 제 1항에 있어서,
상기 상부 이동 유닛은,
상기 프레임 상에 평행하게 배치된 한 쌍의 레일 위에서 슬라이드 이동 가능하게 결합되는 이동 부재와,
상기 이동 부재 상에 그 길이 방향이 상기 제1 방향을 향해 배치되고 상부에 기판이 놓여지는 복수의 지지바와,
각각의 상기 지지바 상에 돌출 형성되어 기판을 지지하는 복수의 지지돌기를 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
The upper mobile unit includes:
A moving member slidably coupled on a pair of rails arranged in parallel on the frame,
A plurality of support bars on the moving member whose longitudinal direction is oriented toward the first direction and on which the substrate is placed,
And a plurality of support protrusions protruding from each of the support bars to support the substrate.
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