KR20150077674A - Nano copper oxide composition for manufacturing metal mesh and manufacturing method of metal mesh using the same - Google Patents

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KR20150077674A KR1020130166405A KR20130166405A KR20150077674A KR 20150077674 A KR20150077674 A KR 20150077674A KR 1020130166405 A KR1020130166405 A KR 1020130166405A KR 20130166405 A KR20130166405 A KR 20130166405A KR 20150077674 A KR20150077674 A KR 20150077674A
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Abstract

The present invention relates to a nano copper oxide ink composition for manufacturing a metal mesh and a manufacturing method of the metal mesh using the same, and more specifically, to a composition which enables to reduce a process time and to reduce process costs as well as minimizing damage of a substrate by a sintering process through a light radiation. According to the present invention, the copper oxide ink composition for manufacturing a metal mesh comprises: a copper particle or a copper precursor having copper oxide and a copper oxide film; and ascorbic acid reducing copper which is oxidized by the light radiation.

Description

메탈메쉬 형성용 나노산화구리 잉크 조성물 및 이를 이용한 메탈메쉬 형성방법{Nano copper oxide composition for manufacturing metal mesh and manufacturing method of metal mesh using the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a nano-oxide-copper ink composition for forming a metal mesh, and a metal mesh forming method using the same.

본 발명은 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물 및 이를 이용한 메탈메쉬 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 공정 take-time을 줄이고 공정 비용을 절감할 수 있으며 광조사를 통한 소결 공정으로 기판의 손상을 최소화할 수 있는 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물 및 이를 이용한 메탈메쉬 형성방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a copper oxide ink composition for forming a metal mesh and a method of forming a metal mesh using the same. More particularly, the present invention relates to a metal ink for forming a metal mesh, which can reduce process take- And more particularly, to a copper oxide ink composition for forming a metal mesh and a metal mesh forming method using the same.

현재 인쇄전자기술에서 사용되고 있는 도전성 잉크는 주로 은을 포함하는 은 잉크 또는 은 페이스트이고, 이외에도 도전성 잉크에는 금, 백금, 팔라듐 등의 금속 입자가 포함될 수 있다.The conductive ink currently used in printing and printing technology is silver ink or silver paste mainly containing silver. In addition, metal particles such as gold, platinum, and palladium may be included in the conductive ink.

이와 같은 도전성 잉크는 주로 디스플레이 패널, 태양 전지판, 인쇄회로기판의 도전 패턴으로 사용되고 있지만 도전성 잉크에 포함되는 은의 가격이 매우 비싸 경제성 있는 도전 패턴을 구현하기 쉽지 않은 제약을 갖는다.Such conductive ink is used mainly as a conductive pattern of a display panel, a solar panel, and a printed circuit board. However, the price of silver contained in the conductive ink is very expensive, and thus it is difficult to realize an economical conductive pattern.

최근에는 도전성 잉크에 은(silver) 입자 대신 구리 입자를 포함시켜 가격이저렴한 도전성 잉크를 이용한 도전 패턴을 구현하기 위한 기술이 개발되고 있다.In recent years, techniques for realizing a conductive pattern using a conductive ink having low cost by including copper particles instead of silver particles in a conductive ink have been developed.

그러나, 구리 입자를 포함하는 도전성 잉크로 도전 패턴을 구현할 경우, 도전성 잉크에 포함된 각 구리 입자의 표면에 쉽게 산화막이 형성되기 때문에 도전 패턴의 전기 저항이 매우 높아지는 문제점을 갖는다.However, when a conductive pattern is formed using a conductive ink containing copper particles, an oxide film is easily formed on the surface of each copper particle contained in the conductive ink, thereby increasing the electrical resistance of the conductive pattern.

각 구리 입자의 표면에 구리 산화막이 형성되지 않도록 하기 위해서는 불활성 기체 분위기 하에서 500℃ 이상의 높은 온도로 1 시간 내지 3시간 소성을 해야 하는데, 이와 같이 불활성 기체 분위기 하에서 고온으로 장시간 소성을 할 경우 오히려 은 입자를 사용하는 도전성 잉크에 비하여 생산 단가가 더 증가하는 문제점을 갖는다.
In order to prevent the copper oxide film from being formed on the surface of each copper particle, it is necessary to perform the firing at an elevated temperature of 500 ° C or higher for 1 hour to 3 hours under an inert gas atmosphere. When firing at a high temperature for a long time in an inert gas atmosphere, There is a problem that the production cost is further increased as compared with the conductive ink using the conductive ink.

한국공개특허 10-2012-0060450Korean Patent Publication No. 10-2012-0060450 한국공개특허 10-2013-0031414Korean Patent Publication No. 10-2013-0031414

본 발명의 목적은 공정 take-time을 줄이고 공정 비용을 절감할 수 있으며 광조사를 통한 소결 공정으로 기판의 손상을 최소화할 수 있는 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a copper oxide ink composition for forming a metal mesh, which can reduce process take-time, reduce a process cost, and minimize damage to a substrate by a sintering process through light irradiation.

본 발명의 목적은 상기 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물을 이용한 메탈메쉬 형성방법 및 그를 이용하여 형성된 메탈메쉬를 제공하는 데 있다.
It is an object of the present invention to provide a metal mesh forming method using the copper oxide ink composition for forming a metal mesh and a metal mesh formed using the metal mesh forming method.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체: 및 광 조사에 의해 산화된 구리를 환원시키는 아스코르브산을 포함하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a copper ink composition for forming a metal mesh comprising copper oxide, copper particles or copper precursor having a copper oxide film, and ascorbic acid for reducing copper oxidized by light irradiation.

상기 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물은 바인더: 및 용매를 더 포함할 수 있다.The copper ink composition for forming a metal mesh may further include a binder: and a solvent.

상기 바인더는 PVP, PVA, PVC, 셀룰로오스계 수지, 폴리 염화비닐수지, 공중합 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈계 수지, 아크릴 수지, 아세트산비닐-아크릴산에스테르 공중합 수지, 부티랄 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 로진에스테르 수지, 폴리에스테르 수지 및 실리콘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The binder may be selected from the group consisting of PVP, PVA, PVC, a cellulose resin, a polyvinyl chloride resin, a copolymer resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinylpyrrolidone resin, an acrylic resin, a vinyl acetate / acrylate copolymer resin, A resin, an epoxy resin, a phenol resin, a rosin ester resin, a polyester resin, and silicone.

상기 용매는 탄화수소계 용매, 염소화탄화수소계 용매, 고리형 에테르계 용매, 케톤계 용매, 알코올, 다가알코올계 용매, 아세테이트계 용매, 다가알코올의 에테르계 용매 및 테르펜계 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.Wherein the solvent is selected from the group consisting of a hydrocarbon solvent, a chlorinated hydrocarbon solvent, a cyclic ether solvent, a ketone solvent, an alcohol, a polyhydric alcohol solvent, an acetate solvent, an ether solvent of a polyhydric alcohol, Or more species.

상기 용매는 BCA(부틸카비톨 초산염), BC(부틸카비톨), 텍산올(texanol), 테르피테올(terpineol), BA(부틸아크릴레이트, butyl acrylate), EA(athylacetate,에틸아세테이트), 에틸렌글리콜(EG), 디에틸렌글리콜(diethylene glycol), 글리세롤, 크레졸, MEK 및 아세톤으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The solvent is selected from the group consisting of BCA (butyl carbitol acetate), BC (butyl carbitol), texanol, terpineol, BA (butyl acrylate), EA (athylacetate, ethyl acetate) And may include at least one member selected from the group consisting of glycol (EG), diethylene glycol, glycerol, cresol, MEK, and acetone.

상기 구리 전구체는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2, Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2 및 CuSO4로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The copper precursor may be selected from the group consisting of CuCl, CuCl2, Cu (acac) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO3) 2 and CuSO4.

상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체의 입경은 10nm~500nm인 것이 바람직하며, 40nm~150nm인 것이 더욱 바람직하다.The particle diameter of the copper oxide, copper particles and copper precursor is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 40 nm to 150 nm.

상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체 100 중량부에 대한 상기 아스코르브산의 첨가량은 0.1 내지 5 중량부인 것이 바람직하다.The amount of the ascorbic acid to be added to 100 parts by weight of the copper oxide, the copper particles and the copper precursor is preferably 0.1 to 5 parts by weight.

본 발명은 또한, 산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체: 아스코르브산, 바인더 및 용매를 포함하는 산화구리 잉크 조성물을 제조하는 단계; 상기 산화구리 잉크 조성물을 기판에 인쇄하여 예비 도전 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 예비 도전 패턴에 광을 조사하여 산화된 구리를 환원 및 소결하여 도전 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 메탈메쉬 형성방법을 제공한다.The present invention also relates to a process for preparing a copper oxide ink composition comprising copper oxide, copper particles having a copper oxide film or a copper precursor: ascorbic acid, a binder and a solvent; Printing the copper oxide ink composition on a substrate to form a preliminary conductive pattern; And forming a conductive pattern by irradiating light onto the preliminary conductive pattern to reduce and sinter the oxidized copper to form a conductive pattern.

상기 구리 잉크 조성물에서 상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체 100 중량부에 대한 상기 아스코르브산의 첨가량은 0.1 내지 5 중량부인 것이 바람직하다.In the copper ink composition, the amount of the ascorbic acid to be added to 100 parts by weight of the copper oxide, the copper particles and the copper precursor is preferably 0.1 to 5 parts by weight.

상기 기판은 폴리이미드, 폴리우레탄, PMMA 및 PET 중에서 선택되는 합성수지 기판, 스테인레스, 알루미늄, 금 및 은 중에서 선택되는 금속 기판 또는 (Indium Tin Oxide) 및 세라믹, 유리 및 실리콘 중에서 선택되는 비금속 기판이 사용될 수 있다.The substrate may be a synthetic resin substrate selected from polyimide, polyurethane, PMMA and PET, a metal substrate selected from stainless steel, aluminum, gold and silver, or a nonmetal substrate selected from among indium tin oxide and ceramics, have.

상기 도전 패턴을 형성하는 단계는, 예열 및 상기 용매 건조를 위한 예비 광조사 단계 및 상기 구리 산화막을 구리로 환원하여 소결하기 위한 메인 광조사 단계를 포함할 수 있다.The forming of the conductive pattern may include a preliminary light irradiation step for preheating and drying the solvent, and a main light irradiation step for reducing and sintering the copper oxide film to copper.

상기 구리 잉크 조성물의 상기 기판에 대한 인쇄는, 잉크젯 인쇄, 플렉소/그라뷰어링 인쇄, 오프셋 인쇄, 리버스옵셋, 임프린팅, 디스펜싱 인쇄 및 스크린 인쇄로 이루어진 군에서 선택되는 인쇄방법을 이용하여 이루어지는 것이 바람직하다.The printing of the copper ink composition onto the substrate is performed using a printing method selected from the group consisting of ink jet printing, flexographic / gravure ring printing, offset printing, reverse offset, imprinting, .

상기 광의 펄스 폭은 0.01ms 내지 100ms이고, 펄스 갭은 0.1ms 내지 100ms이고, 펄스 수는 1 내지 1,000번이며, 강도는 1J/m2 내지 100J/m2인 것이 바람직하다.Wherein the light pulse width is 0.01ms to 100ms, and the pulse gap is 0.1ms to 100ms, the number of pulses is 1 to 1,000 times, the strength is preferably in a 1J / m 2 to 100J / m 2.

본 발명은 또한, 상기 메탈메쉬 형성방법을 이용하여 형성된 메탈메쉬를 제공한다.
The present invention also provides a metal mesh formed using the metal mesh forming method.

본 발명의 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물 및 이를 이용한 메탈메쉬 형성방법에 따르면, 저가의 산화구리 또는 산화막이 형성된 구리를 사용함으로써 전극 형성 비용을 크게 절감할 수 있다.According to the copper oxide ink composition for forming a metal mesh of the present invention and the method of forming a metal mesh using the copper oxide ink, the cost of electrode formation can be greatly reduced by using copper oxide or copper oxide formed at low cost.

또한, 광 조사를 통한 소결 공정을 이용함으로써, 기판의 손상을 최소화하고 공정 take-time을 줄일 수 있으며, 이를 통해 공정 비용을 더욱 절감할 수 있다.
In addition, by using a light irradiation sintering process, it is possible to minimize the damage of the substrate and reduce the process take-time, thereby further reducing the processing cost.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 구리 잉크 조성물을 이용한 메탈메쉬 형성 과정을 도시한 순서도이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 1의 조성물을 이용하여 인쇄된 전극의 광 조사 에너지에 따른 비저항 측정 결과를 나타낸 그래프이다.
1 is a flowchart illustrating a process of forming a metal mesh using a copper ink composition according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the results of resistivity measurement according to light irradiation energy of electrodes printed using the compositions of Example 1 and Comparative Example 1. FIG.

이하 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흐리지 않는 범위에서 생략될 수 있다는 점을 유의하여야 한다.In the following description, only parts necessary for understanding embodiments of the present invention will be described, and description of other parts may be omitted within the scope of the present invention.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to best describe its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are merely preferred embodiments of the present invention, and are not intended to represent all of the technical ideas of the present invention, so that various equivalents And variations are possible.

먼저, 본 발명의 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물에 대하여 설명한다.First, the copper oxide ink composition for forming a metal mesh of the present invention will be described.

본 발명의 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물은, 산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체, 아스코르브산, 바인더 및 용매를 포함한다.The copper oxide ink composition for forming a metal mesh of the present invention comprises copper oxide, copper particles or copper precursor having a copper oxide film, ascorbic acid, a binder and a solvent.

본 발명의 메탈메쉬 형성용 산화구리잉크 조성물은 도전체로서 산화구리 또는, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체를 포함한다. 구리 원료로서 산화구리 등은 일부 또는 전체가 산화된 상태의 구리를 사용함으로써 제조 단가를 크게 낮출 수 있다.The copper oxide ink composition for forming a metal mesh of the present invention comprises copper oxide or a copper precursor having copper oxide or copper oxide as a conductor. As the copper raw material, copper oxide or the like can be significantly reduced in production cost by using copper in a partially or entirely oxidized state.

산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체는 10 내지 500nm의 크기를 갖는 것이 바람직하며, 40 내지 150nm의 크기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.Copper oxide, copper particles having a copper oxide film or a copper precursor preferably have a size of 10 to 500 nm, more preferably 40 to 150 nm. However, the present invention is not limited thereto.

상기 구리 전구체는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2, Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2 또는 CuSO4 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 또한, 상기 구리화합물들은 그 자체로 또는 수화된 상태로 사용될 수 있다.
The copper precursor may be selected from the group consisting of CuCl, CuCl2, Cu (acac) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO3) 2 or CuSO4. These may be used alone or in combination. In addition, the copper compounds may be used as such or in a hydrated state.

아스코르브산은 산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 및 구리 전구체를 구리로 환원시키기 위한 반응에서 촉매제로 기능하는 것으로서 광 조사를 받아 산화구리 등의 구리 원료를 구리로 환원시킴과 동시에 분산제로서 작용할 수 있으며, 또한 재산화 (re-oxidation)를 방지하는 효과를 가지고 있다. 이와 같이 아스코르브산이 환원 및 광소결의 개시제로서 역할을 하기 때문에 잉크 조성물에 포함되는 바인더의 종류에 제약을 받지 않는다.Ascorbic acid functions as a catalyst in the reaction for reducing copper oxide, copper oxide having a copper oxide film, and copper precursor to copper, and can act as a dispersing agent while reducing the copper raw material such as copper oxide to copper by light irradiation, It also has the effect of preventing re-oxidation. As such, since the ascorbic acid serves as a reducing agent and initiator for the photocomposition, the kind of the binder contained in the ink composition is not limited.

따라서, 아스코르브산을 산화구리 잉크 조성물의 촉매로서 포함함으로써, 폴리이미드, 폴리우레탄, PMMA 및 PET 중에서 선택되는 합성수지 기판, 스테인레스, 알루미늄, 금 및 은 중에서 선택되는 금속 기판 또는 (Indum Tin Oxide) 및 세라믹, 유리 및 실리콘 중에서 선택되는 비금속 기판 등을 모두 사용할 수 있으며, 이들에 대한 도전 패턴의 접착력을 향상시킬 수 있고, 도전 패턴의 인쇄성을 향상시키고 고 종횡비(high aspect ratio)를 구현할 수 있다.Thus, by incorporating ascorbic acid as a catalyst in a copper oxide ink composition, a synthetic resin substrate selected from polyimide, polyurethane, PMMA and PET, a metal substrate selected from stainless steel, aluminum, gold and silver, A non-metallic substrate selected from glass, silicon, and the like can be used, the adhesion of the conductive pattern to the conductive pattern can be improved, the printing property of the conductive pattern can be improved, and a high aspect ratio can be realized.

또한, 아스코르브산을 산화구리 잉크 조성물의 촉매로서 포함함에 따라, 낮은 에너지의 광조사를 통한 소결이 가능하여 기판의 휨(xarpage) 또는 수축과 같은 손상을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 레이저 에칭, 열소결 등에 비해 공정 take-time을 줄이고 공정 비용을 절감할 수 있다.In addition, since ascorbic acid is included as a catalyst in a copper oxide ink composition, sintering through light irradiation with a low energy is possible, thereby preventing damage such as xarpage or shrinkage of the substrate, It is possible to reduce the process take-time and reduce the process cost compared to sintering.

상기 아스코르브산은 상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부가 첨가되는 것이 바람직하다. 상기 아스코르브산의 첨가량이 5 중량부를 초과하면 전체 조성물 시스템에서의 분산성 저하 및 상용성 저하로 인한 균질성 저하의 문제점이 있고, 0.1 중량부 미만이면 광 조사에 의한 원활한 산화 구리 입자의 환원 및 소결이 이루어지지 않는 문제점이 있어 바람직하지 못하다.
It is preferable that the ascorbic acid is added in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper oxide, the copper particles and the copper precursor. When the amount of the ascorbic acid added is more than 5 parts by weight, there is a problem of lowering the dispersibility and lowering the homogeneity due to the lowering of the compatibility in the entire composition system. When the amount is less than 0.1 part by weight, the reduction and sintering of smooth copper oxide particles It is not preferable because it is not achieved.

하기 바인더는 산화구리 잉크 조성물을 이용하여 메탈메쉬 전극을 형성할 때 구리 원료를 바인딩하는 역할을 하는 것으로 도전 패턴이 우수한 인쇄성 및 고 종횡비를 유지할 수 있도록 한다.The following binder serves to bind the copper raw material when forming the metal mesh electrode using the copper oxide ink composition, so that the conductive pattern can maintain excellent printability and high aspect ratio.

상기 바인더로는 대표적으로 셀룰로오스계 수지, 폴리 염화비닐수지, 공중합 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈계 수지, 아크릴 수지, 아세트산비닐-아크릴산에스테르 공중합 수지, 부티랄 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 로진에스테르 수지, 폴리에스테르 수지 또는 실리콘 등이 사용될 수 있다. 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
Examples of the binder include a cellulose resin, a polyvinyl chloride resin, a copolymer resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl pyrrolidone resin, an acrylic resin, a vinyl acetate-acrylate copolymer resin, a butyral resin, an alkyd resin, A resin, a phenol resin, a rosin ester resin, a polyester resin, or silicone can be used. These may be used alone or in combination.

상기 용매는 대표적으로 탄화수소계 용매, 염소화탄화수소계 용매, 고리형 에테르계 용매, 케톤계 용매, 알코올, 다가알코올계 용매, 아세테이트계 용매, 다가알코올의 에테르계 용매 또는 테르펜계 용매 등이 사용될 수 있다.Typically, the solvent may be a hydrocarbon solvent, a chlorinated hydrocarbon solvent, a cyclic ether solvent, a ketone solvent, an alcohol, a polyhydric alcohol solvent, an acetate solvent, an ether solvent of a polyhydric alcohol, or a terpene solvent .

구체적으로, 상기 용매는 BCA(부틸카비톨 초산염), BC(부틸카비톨), 텍산올(texanol), 테르피테올(terpineol), BA(부틸아크릴레이트, butyl acrylate), EA(athylacetate,에틸아세테이트), 에틸렌글리콜(EG), 디에틸렌글리콜(diethylene glycol), 글리세롤, 크레졸, MEK 또는 아세톤 등이 사용될 수 있다.
Specifically, the solvent is selected from the group consisting of BCA (butyl carbitol acetate), BC (butyl carbitol), texanol, terpineol, BA (butyl acrylate), EA (athylacetate, ethyl acetate ), Ethylene glycol (EG), diethylene glycol, glycerol, cresol, MEK or acetone.

다음으로, 본 발명의 메탈메쉬 전극 형성방법에 대하여 설명한다.Next, a method of forming the metal mesh electrode of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 메탈메쉬 형성방법의 공정 순서도이다.1 is a flowchart of a method of forming a metal mesh according to an embodiment of the present invention.

도 1에 따르면, 구리 원료, 아스코르브산, 바인더 및 용매를 포함하는 구리 잉크 조성물을 제조한다(S1).1, a copper ink composition comprising a copper raw material, ascorbic acid, a binder and a solvent is prepared (S1).

구리 원료는 도전체로서 사용되며, 산화구리 또는, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체가 사용될 수 있다. 구리 원료로서 산화구리 등은 일부 또는 전체가 산화된 상태의 구리를 사용함으로써 제조 단가를 크게 낮출 수 있다.The copper raw material is used as a conductor, and copper oxide or a copper particle having a copper oxide film or a copper precursor can be used. As the copper raw material, copper oxide or the like can be significantly reduced in production cost by using copper in a partially or entirely oxidized state.

산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체는 10 내지 500nm의 크기를 갖는 것이 바람직하며, 40 내지 150nm의 크기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.Copper oxide, copper particles having a copper oxide film or a copper precursor preferably have a size of 10 to 500 nm, more preferably 40 to 150 nm. However, the present invention is not limited thereto.

상기 구리 전구체는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2, Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2 또는 CuSO4 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 또한, 상기 구리화합물들은 그 자체로 또는 수화된 상태로 사용될 수 있다.The copper precursor may be selected from the group consisting of CuCl, CuCl2, Cu (acac) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO3) 2 or CuSO4. These may be used alone or in combination. In addition, the copper compounds may be used as such or in a hydrated state.

아스코르브산은 산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 및 구리 전구체를 구리로 환원시키기 위한 반응에서 촉매제로 기능하는 것으로서 광 조사를 받아 산화구리 등의 구리 원료를 구리로 환원시킨다. Ascorbic acid functions as a catalyst in the reaction for reducing copper oxide, copper oxide having a copper oxide film, and a copper precursor to copper, and reduces the copper raw material such as copper oxide to copper by light irradiation.

아스코르브산을 산화구리 잉크 조성물의 촉매로서 포함함에 따라, 광조사를 통한 소결이 가능하여 기판의 휨(Warpage) 또는 수축과 같은 손상을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 레이저 에칭, 열소결 등에 비해 공정 take-time을 줄이고 공정 비용을 절감할 수 있다.
As a result of the inclusion of ascorbic acid as a catalyst in the copper oxide ink composition, it is possible to perform sintering through light irradiation, thereby preventing damage such as warpage or shrinkage of the substrate, -time can be reduced and the process cost can be reduced.

상기 바인더는 산화구리 잉크 조성물을 이용하여 메탈메쉬 전극을 형성할 때 구리 원료를 바인딩하는 역할을 하는 것으로 도전 패턴이 우수한 인쇄성 및 고 종횡비를 유지할 수 있도록 한다.The binder serves to bind the copper raw material when forming the metal mesh electrode using the copper oxide ink composition, so that the conductive pattern can maintain excellent printability and high aspect ratio.

상기 바인더로는 대표적으로 셀룰로오스계 수지, 폴리 염화비닐수지, 공중합 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈계 수지, 아크릴 수지, 아세트산비닐-아크릴산에스테르 공중합 수지, 부티랄 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 로진에스테르 수지, 폴리에스테르 수지 또는 실리콘 등이 사용될 수 있다. 이들은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
Examples of the binder include a cellulose resin, a polyvinyl chloride resin, a copolymer resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl pyrrolidone resin, an acrylic resin, a vinyl acetate-acrylate copolymer resin, a butyral resin, an alkyd resin, A resin, a phenol resin, a rosin ester resin, a polyester resin, or silicone can be used. These may be used alone or in combination.

상기 용매는 대표적으로 탄화수소계 용매, 염소화탄화수소계 용매, 고리형 에테르계 용매, 케톤계 용매, 알코올, 다가알코올계 용매, 아세테이트계 용매, 다가알코올의 에테르계 용매 또는 테르펜계 용매 등이 사용될 수 있다.Typically, the solvent may be a hydrocarbon solvent, a chlorinated hydrocarbon solvent, a cyclic ether solvent, a ketone solvent, an alcohol, a polyhydric alcohol solvent, an acetate solvent, an ether solvent of a polyhydric alcohol, or a terpene solvent .

구체적으로, 상기 용매는 BCA(부틸카비톨 초산염), BC(부틸카비톨), 텍산올(texanol), 테르피테올(terpineol), BA(부틸아크릴레이트, butyl acrylate), EA(athylacetate,에틸아세테이트), 에틸렌글리콜(EG), 디에틸렌글리콜(diethylene glycol), 글리세롤, 크레졸, MEK 또는 아세톤 등이 사용될 수 있다.Specifically, the solvent is selected from the group consisting of BCA (butyl carbitol acetate), BC (butyl carbitol), texanol, terpineol, BA (butyl acrylate), EA (athylacetate, ethyl acetate ), Ethylene glycol (EG), diethylene glycol, glycerol, cresol, MEK or acetone.

구리 원료, 아스코르브산, 바인더 및 용매를 혼합하고 나면, 구성물들을 보다 균일하게 혼합하기 위하여 추가적인 균일화 공정 및 필터링 공정을 거칠 수 있다.Once the copper raw material, ascorbic acid, binder and solvent are mixed, additional homogenization and filtering processes may be performed to more evenly mix the constituents.

균일화 공정에서는 예를 들어 혼합물을 선분산기에 의하여 30분 내지 1시간 동안 선분산시키고, 선분산된 혼합물을 다시 3본 밀에 의하여 고분산시킨다. 이와 같은 균일화 공정을 통해 산화구리 잉크 조성물의 구성 물질들이 보다 균일하게 혼합되게 할 수 있다. 또한, 필터링 공정에서는 산화구리 잉크 조성물에 함유된 이물질들을 필터링한다.
In the homogenization process, for example, the mixture is linearly dispersed by a linear disperser for 30 minutes to 1 hour, and the linearly dispersed mixture is further dispersed by a three-necked mill. Through such a homogenization process, the constituents of the copper oxide ink composition can be mixed more uniformly. Further, in the filtering step, the foreign substances contained in the copper oxide ink composition are filtered.

다음으로, 상기 산화구리 잉크 조성물을 기판에 인쇄하여 예비 도전 패턴을 형성한다(S2).Next, the copper oxide ink composition is printed on a substrate to form a preliminary conductive pattern (S2).

상기 기판으로는 예를 들어 폴리이미드, 폴리우레탄, PMMA 및 PET 중에서 선택되는 합성수지 기판, 스테인레스, 알루미늄, 금 및 은 중에서 선택되는 금속 기판 또는 (Indum Tin Oxide) 및 세라믹, 유리 및 실리콘 중에서 선택되는 비금속 기판 등을 모두 사용할 수 있다.Examples of the substrate include a synthetic resin substrate selected from the group consisting of polyimide, polyurethane, PMMA and PET, a metal substrate selected from stainless steel, aluminum, gold, and silver, or a metal substrate selected from among indium tin oxide and ceramics, Substrate and the like can all be used.

예비 도전 패턴 형성을 위한 상기 구리 잉크 조성물의 상기 기판에 대한 인쇄는, 잉크젯 인쇄, 플렉소/그라뷰어링 인쇄, 오프셋 인쇄, 리버스옵셋, 임프린팅, 디스펜싱 인쇄 또는 스크린 인쇄 등이 사용될 수 있다. Printing on the substrate of the copper ink composition for forming the preliminary conductive pattern may be performed by inkjet printing, flexographic / gravure ring printing, offset printing, reverse offset, imprinting, dispensing printing, or screen printing.

예비 도전 패턴은, 예를 들어 기판 상에 5㎛의 두께, 1cm의 폭, 2cm의 길이로 형성될 수 있는데, 이는 예시적인 것으로 두께, 폭 및 길이는 적절히 선택될 수 있다.The preliminary conductive pattern may be formed on the substrate, for example, with a thickness of 5 占 퐉, a width of 1 cm, and a length of 2 cm, which are illustrative and thickness, width, and length may be appropriately selected.

예비 도전 패턴은 광 소결되기 이전에는 유동성을 갖기 때문에 기판에 예비 도전 패턴이 형성된 후 건조 과정을 통해 예비 도전 패턴에 포함된 용매의 일부를 건조시키는 것이 바람직하다. 건조 공정은 70~90℃의 온도로 3분 내지 1시간 동안 진행하는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Since the preliminary conductive pattern has fluidity before being photo-sintered, it is preferable to dry a part of the solvent included in the preliminary conductive pattern through a drying process after the preliminary conductive pattern is formed on the substrate. The drying process is preferably carried out at a temperature of 70 to 90 DEG C for 3 minutes to 1 hour, but is not limited thereto.

다음으로, 상기 예비 도전 패턴에 광을 조사하여 산화된 구리를 환원 및 소결하여 도전 패턴을 형성한다(S3).Next, light is irradiated to the preliminary conductive pattern to reduce and sinter the oxidized copper to form a conductive pattern (S3).

예비 도전 패턴을 광 소결하여 기판 상에 도전 패턴을 형성하기 위해서, 기판에 형성된 예비 도전 패턴에는 광이 제공된다.In order to form a conductive pattern on the substrate by photo-sintering the preliminary conductive pattern, light is provided to the preliminary conductive pattern formed on the substrate.

예비 도전 패턴에 제공되는 광으로는 예를 들어 제논 플래쉬 램프(xenon flash lamp)로부터 발생된 백색광이 사용될 수 있으나, 다른 종류의 램프로부터 발생된 광이 사용될 수 있음은 물론, 다른 색의 광이 사용될 수도 있다. For example, a white light generated from a xenon flash lamp may be used as the light to be provided to the preliminary conductive pattern, but it is also possible to use light generated from other types of lamps, It is possible.

제논 플래쉬 램프로부터 발생된 백색광은 펄스 폭(pulse width), 펄스 갭(pulse gap), 펄스 수(pulse numbers) 및 강도(intensity)를 정밀하게 조절하기 쉽기 때문에 바람직하게 사용될 수 있다.The white light generated from the xenon flash lamp can be preferably used because it is easy to precisely control the pulse width, pulse gap, pulse numbers and intensity.

예비 도전 패턴에 제공되는 백색광의 펄스 폭은 약 0.01ms 내지 약 100ms일 수 있고, 제논 플래쉬 램프로부터 발생된 펄스 갭은 약 0.1ms 내지 약 100ms, 펄스 수는 1 내지 약 100번, 백색광의 강도는 약 1J/㎠ 내지 약 25 J/㎠일 수 있다. The pulse width of the white light provided to the preliminary conductive pattern may be about 0.01 ms to about 100 ms, the pulse gap generated from the xenon flash lamp is about 0.1 ms to about 100 ms, the number of pulses is 1 to about 100, From about 1 J / cm 2 to about 25 J / cm 2.

백색광의 펄스 폭이 100ms 보다 클 경우 단위 시간 당 입사 에너지가 줄어들어 광소결 효율이 저하될 수 있다. 또한, 펄스 갭이 100ms 보다 크게, 또는 펄스 수가 100번 보다 클 경우에는 백색광의 낮은 에너지에 기인하여 산화구리 잉크가 제대로 소결되지 못할 수 있다. If the pulse width of the white light is larger than 100 ms, the incident energy per unit time is reduced and the photo-sintering efficiency may be lowered. Also, if the pulse gap is greater than 100 ms or the number of pulses is greater than 100, copper oxide ink may not be sintered properly due to low energy of white light.

또한, 펄스 갭이 0.1ms 보다 작거나 백색광의 강도가 25J/㎠ 초과일 경우 램프의 손상 또는 수명이 단축될 수 있으며, 기판에 손상을 줄 수 있다. In addition, if the pulse gap is less than 0.1 ms or the intensity of white light is more than 25 J / cm 2, damage or life of the lamp may be shortened and the substrate may be damaged.

또한, 백색광의 강도가 약 1 J/㎠ 이하일 경우 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체의 표면에 형성된 구리 산화막을 구리로 환원하기 위한 환원 반응이 약하여 도전 패턴의 전기 저항 특성이 저하될 수 있다. In addition, when the intensity of the white light is about 1 J / cm 2 or less, the reduction reaction for reducing copper oxide, copper particles, and copper oxide film formed on the surface of the copper precursor to copper is weak, and the electrical resistance characteristic of the conductive pattern may be deteriorated.

반대로 백색광의 강도가 약 25 J/㎠ 이상일 경우 고에너지가 기판에 제공되어 기판의 수축, 휨 및 뒤틀림 등의 손상이 발생될 수 있고, 예비 도전 패턴 및 기판의 박리 등이 발생될 수 있다. 그러나, 기계적 강도가 우수한 기판의 경우 백색광의 강도는 25 J/㎠ 보다 큰 약 100 J/㎠까지 제공될 수 있다.
On the contrary, when the intensity of the white light is about 25 J / cm 2 or more, high energy is provided to the substrate, and the substrate may be damaged such as shrinkage, warping and twisting, and the preliminary conductive pattern and the substrate may be peeled off. However, in the case of a substrate having excellent mechanical strength, the intensity of white light can be provided up to about 100 J / cm 2, which is larger than 25 J / cm 2.

예비 도전 패턴에 광을 제공하여 도전 패턴을 형성하는 단계는, 예비 도전 패턴에 상기한 광의 펄스폭 범위, 펄스 갭 범위, 펄스 수 범위 및 강도 범위 내에서 기판에 광을 1회 조사하여 수행될 수 있다. The step of providing light to the preliminary conductive pattern to form the conductive pattern can be performed by irradiating the preliminary conductive pattern with light once to the substrate within the pulse width range, the pulse gap range, the pulse number range, and the intensity range of the light described above have.

아울러, 예비 도전 패턴에 광을 2회 이상 조사하여 광 소결을 수행할 수 있는데, 바람직하게는 예비 도전 패턴에 광을 2회에 걸쳐 조사하여 예비 도전 패턴에 포함된 구리 원료의 광 소결을 수행할 수 있다. 이때 1차의 광 조사는 예비 도전 패턴의 예열, 조직 치밀화 및 용매 건조를 위해 수행되며, 2차의 광 조사는 구리 원료의 소결을 위해 수행될 수 있다.In addition, light can be sintered by irradiating the preliminary conductive pattern with light twice or more. Preferably, the light is sintered twice to the preliminary conductive pattern to perform photo-sintering of the copper raw material contained in the preliminary conductive pattern . At this time, the primary light irradiation is performed for the preheating of the preliminary conductive pattern, the texture densification and solvent drying, and the secondary light irradiation can be performed for the sintering of the copper raw material.

인쇄 전극 내의 하부 (기판 상부 인접 위치) 용매의 완전한 휘발을 위해 1차 광조사시, 3J/cm2 이하의 광을 펄스폭 1~20ms 범위에서 1회에서 5회 이상 조사함으로써 용매의 휘발을 용이하게 하고 기판과 잉크와의 밀착력을 높일 수 있다. 2차 광조사는 5J/cm2 이상의 광을 펄스폭 5~100ms의 범위에서 조절할 수 있다. 펄스폭 및 에너지는 기판의 종류 및 인쇄전극의 두께에 따라 조절할 수 있다. 하기 실시예에서처럼 폴리이미드 기판을 사용할 경우, 2차 광조사는 5~15J/cm2, 펄스폭 5~30ms의 범위에서 행해질 수 있다. 광조사 에너지가 15J/cm2을 초과할 경우, 과도한 에너지로 인해 기판의 휨 등의 변형이 발생하기 때문이며, 동일한 광에너지라 하더라도 펄스폭이 클수록 기판 변형은 심했다.
In order to completely volatilize the solvent in the lower portion (upper portion of the substrate) in the printing electrode, light of 3 J / cm 2 or less is irradiated once or more five times in the pulse width range of 1 to 20 ms at the time of primary light irradiation, And the adhesion between the substrate and the ink can be increased. In the secondary light irradiation, light of 5 J / cm 2 or more can be adjusted in a pulse width range of 5 to 100 ms. The pulse width and the energy can be adjusted according to the type of the substrate and the thickness of the printing electrode. When a polyimide substrate is used as in the following examples, the secondary light irradiation can be performed in a range of 5 to 15 J / cm 2 and a pulse width of 5 to 30 ms. When the light irradiation energy exceeds 15 J / cm 2, deformation such as warping of the substrate occurs due to excessive energy, and even if the same light energy is used, the deformation of the substrate is more serious as the pulse width is larger.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention. Such variations and modifications are intended to be within the scope of the appended claims.

실시예Example

실시예 1: 산화구리 잉크 조성물의 제조Example 1: Preparation of copper oxide ink composition

평균입도가 100nm인 산화구리 200g, 폴리비닐피롤리돈 10g, 아스코르브산 2g을 에틸렌글리콜 40g에 첨가한 후 혼합하고, 제조된 혼합물을 선분산기에서 1시간동안 선분산하고, 3본 밀에서 고분산시켜 산화구리 잉크 조성물을 제조하였다.
200 g of copper oxide having an average particle size of 100 nm, 10 g of polyvinylpyrrolidone and 2 g of ascorbic acid were added to 40 g of ethylene glycol, and the mixture was linearly dispersed in a line disperser for 1 hour, To prepare a copper oxide ink composition.

비교예 1: 산화구리 잉크 조성물의 제조Comparative Example 1: Preparation of copper oxide ink composition

평균입도가 100nm인 산화구리 200g, 폴리비닐피롤리돈 10g을 에틸렌글리콜 40g에 첨가한 후 혼합하고, 제조된 혼합물을 선분산기에서 1시간동안 선분산하고, 3본 밀에서 고분산시켜 산화구리 잉크 조성물을 제조하였다. 실시예 1과 아스코르브산을 제외하고는 조성이 동일하다.
200 g of copper oxide having an average particle size of 100 nm and 10 g of polyvinyl pyrrolidone were added to 40 g of ethylene glycol and mixed. The resulting mixture was linearly dispersed in a linear disperser for 1 hour and dispersed in a three- A composition was prepared. The composition is the same as in Example 1 except for ascorbic acid.

실험예: 도전 패턴의 형성 및 비저항 측정Experimental Example: Formation of Conductive Pattern and Resistivity Measurement

실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 산화구리 잉크 조성물을 각각 폴리이미드 기판에 스크린 프린팅한 후 80℃에서 30분간 건조시켜 예비 도전 패턴을 형성하였다.The copper oxide ink compositions prepared in Example 1 and Comparative Example 1 were each screen-printed on a polyimide substrate and then dried at 80 DEG C for 30 minutes to form a preliminary conductive pattern.

그 후 예비 도전 패턴에 제논 플래쉬 램프로부터 발생된 백색광을 조사하여 도전 패턴을 형성하였다. 이때 백색광의 20ms의 펄스폭을 갖는 광을 8에서 12J/cm2까지 변화시키면서 인쇄된 전극의 비저항 변화를 측정하였다. 실시예 1 및 비교예 1의 조성물을 이용하여 인쇄된 전극의 광 조사 에너지에 따른 비저항 측정 결과는 아래 표 1과 같으며, 변화 추이를 도 2의 그래프에 도시하였다.Thereafter, the preliminary conductive pattern was irradiated with white light generated from a xenon flash lamp to form a conductive pattern. At this time, the change of the resistivity of the printed electrode was measured while changing the light having the pulse width of 20 ms of white light from 8 to 12 J / cm 2. The results of the resistivity measurement according to the light irradiation energy of the electrodes printed using the compositions of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Table 1 below and the change of the resistivity is shown in the graph of FIG.

광 조사 에너지에 따른 비저항 측정 결과Resistivity measurement results according to light irradiation energy 광 조사 에너지
(J/cm2)
Light irradiation energy
(J / cm 2 )
비저항-실시예 1
(uΩ㎝)
Resistivity - Example 1
(u [Omega] cm)
비저항-비교예 1
(uΩ㎝)
Resistivity - Comparative Example 1
(u [Omega] cm)
88 6060 125125 99 2525 7575 1010 2020 5050 1111 1010 7070 1212 88 8080

아스코르브산이 첨가된 실시예 1의 조성물의 경우, 광조사 에너지가 8J/cm2에서 12J/cm2로 증가함에 따라 지속적으로 비저항이 감소하는 반면, 아스코르브산이 첨가되지 않은 비교예 1의 조성물의 경우는 10J/cm2까지 비저항이 감소하다가 광조사 에너지가 10J/cm2을 초과함에 따라 다시 상승하였다. In the case of the composition of Example 1 in which ascorbic acid was added, the resistivity was constantly decreased as the irradiation energy was increased from 8 J / cm 2 to 12 J / cm 2, while in the case of the composition of Comparative Example 1 in which ascorbic acid was not added, cm < 2 >, and then increased again as the irradiation energy exceeded 10 J / cm < 2 >.

실시예 1의 조성물의 경우 모든 광 조사 에너지에서 비저항이 비교예 1의 조성물에 비해 1/2 이하의 낮은 비저항을 나타내는 점으로부터 아스코르브산이 광조사에 의한 산화구리 층의 환원을 돕는다는 것을 확인할 수 있다. It can be confirmed that the composition of Example 1 exhibits a resistivity lower than 1/2 that of the composition of Comparative Example 1 at all light irradiation energies, so that ascorbic acid aids reduction of the copper oxide layer by light irradiation .

아울러, 비교에 1의 조성물의 경우 광 조사 에너지가 증가함에 따라 비저항이 감소하다가 증가하였으나, 실시예 1의 조성물의 경우 광 조사 에너지가 증가함에 따라 지속적으로 비저항이 줄어든 점으로부터 미루어 볼 때, 아스코르브산이 구리의 재산화를 방지하는 효과가 있음을 확인할 수 있다.In addition, in the case of the composition 1 of the comparative example, the resistivity was decreased and increased as the light irradiation energy was increased. However, in the case of the composition of Example 1, the resistivity was decreased continuously as the light irradiation energy was increased. It can be confirmed that there is an effect of preventing the re-oxidation of copper.

Claims (16)

산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체: 및
광 조사에 의해 산화된 구리를 환원시키는 아스코르브산을 포함하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
Copper oxide, copper particles or copper precursor having a copper oxide film: and
And an ascorbic acid for reducing copper oxidized by light irradiation.
제1항에 있어서,
바인더: 및 용매를 더 포함하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
1. A copper ink composition for forming a metal mesh, comprising: a binder; and a solvent.
제1항에 있어서,
상기 바인더는 PVP, PVA, PVC, 셀룰로오스계 수지, 폴리 염화비닐수지, 공중합 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈계 수지, 아크릴 수지, 아세트산비닐-아크릴산에스테르 공중합 수지, 부티랄 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 로진에스테르 수지, 폴리에스테르 수지 및 실리콘으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The binder may be selected from the group consisting of PVP, PVA, PVC, a cellulose resin, a polyvinyl chloride resin, a copolymer resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinylpyrrolidone resin, an acrylic resin, a vinyl acetate / acrylate copolymer resin, The copper ink composition for forming a metal mesh according to claim 1, wherein the composition contains at least one selected from the group consisting of a resin, an epoxy resin, a phenol resin, a rosin ester resin, a polyester resin and silicone.
제1항에 있어서,
상기 용매는 탄화수소계 용매, 염소화탄화수소계 용매, 고리형 에테르계 용매, 케톤계 용매, 알코올, 다가알코올계 용매, 아세테이트계 용매, 다가알코올의 에테르계 용매 및 테르펜계 용매로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the solvent is selected from the group consisting of a hydrocarbon solvent, a chlorinated hydrocarbon solvent, a cyclic ether solvent, a ketone solvent, an alcohol, a polyhydric alcohol solvent, an acetate solvent, an ether solvent of a polyhydric alcohol, Wherein at least one of the metal particles is at least one selected from the group consisting of copper oxide,
제4항에 있어서,
상기 용매는 BCA(부틸카비톨 초산염), BC(부틸카비톨), 텍산올(texanol), 테르피테올(terpineol), BA(부틸아크릴레이트, butyl acrylate), EA(athylacetate,에틸아세테이트), 에틸렌글리콜(EG), 디에틸렌글리콜(diethylene glycol), 글리세롤, 크레졸, MEK 및 아세톤으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
5. The method of claim 4,
The solvent is selected from the group consisting of BCA (butyl carbitol acetate), BC (butyl carbitol), texanol, terpineol, BA (butyl acrylate), EA (athylacetate, ethyl acetate) Wherein the composition contains at least one selected from the group consisting of glycol (EG), diethylene glycol, glycerol, cresol, MEK, and acetone.
제1항에 있어서,
상기 구리 전구체는 CuCl, CuCl2, Cu(acac)2, Cu(hfac)2, Cu(tfac)2, Cu(dpm)2, Cu(ppm)2, Cu(fod)2, Cu(acim)2, Cu(nona-F)2, Cu(acen)2, Cu(NO3)2 및 CuSO4로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
The copper precursor may be selected from the group consisting of CuCl, CuCl2, Cu (acac) 2, Cu (hfac) 2, Cu (tfac) Wherein at least one selected from the group consisting of Cu (nona-F) 2, Cu (acen) 2, Cu (NO3) 2 and CuSO4 is contained.
제1항에 있어서,
상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체의 입경은 10nm~500nm인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the copper oxide, copper particles and copper precursor have a particle diameter of 10 nm to 500 nm.
제7항에 있어서,
상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체의 입경은 40nm~150nm인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
8. The method of claim 7,
Wherein the copper oxide, copper particles and copper precursor have a particle diameter of 40 nm to 150 nm.
제1항 있어서,
상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체 100 중량부에 대한 상기 아스코르브산의 첨가량은 0.1 내지 5 중량부인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성용 구리 잉크 조성물.
The method of claim 1,
Wherein the amount of the ascorbic acid added to 100 parts by weight of the copper oxide, the copper particles, and the copper precursor is 0.1 to 5 parts by weight.
산화구리, 구리 산화막을 갖는 구리 입자 또는 구리 전구체: 아스코르브산, 바인더 및 용매를 포함하는 산화구리 잉크 조성물을 제조하는 단계;
상기 산화구리 잉크 조성물을 기판에 인쇄하여 예비 도전 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 예비 도전 패턴에 광을 조사하여 산화된 구리를 환원 및 소결하여 도전 패턴을 형성하는 단계;
를 포함하는 메탈메쉬 형성방법.
Preparing a copper oxide ink composition comprising copper oxide, copper particles having a copper oxide film or copper precursor: ascorbic acid, a binder and a solvent;
Printing the copper oxide ink composition on a substrate to form a preliminary conductive pattern; And
Irradiating light onto the preliminary conductive pattern to reduce and sinter oxidized copper to form a conductive pattern;
≪ / RTI >
제10항에 있어서,
상기 구리 잉크 조성물에서 상기 산화구리, 구리 입자 및 구리 전구체 100 중량부에 대한 상기 아스코르브산의 첨가량은 0.1 내지 5 중량부인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the amount of the ascorbic acid added to 100 parts by weight of the copper oxide, the copper particles, and the copper precursor in the copper ink composition is 0.1 to 5 parts by weight.
제10항에 있어서,
상기 기판은 폴리이미드, 폴리우레탄, PMMA 및 PET 중에서 선택되는 합성수지 기판, 스테인레스, 알루미늄, 금 및 은 중에서 선택되는 금속 기판 또는 (Indium Tin Oxide) 및 세라믹, 유리 및 실리콘 중에서 선택되는 비금속 기판인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the substrate is a synthetic resin substrate selected from the group consisting of polyimide, polyurethane, PMMA, and PET, a metal substrate selected from stainless steel, aluminum, gold, and silver, or a nonmetal substrate selected from ceramics, glass, and silicon To form a metal mesh.
제10항에 있어서,
상기 도전 패턴을 형성하는 단계는,
예열 및 상기 용매 건조를 위한 예비 광조사 단계 및
상기 구리 산화막을 구리로 환원하여 소결하기 위한 메인 광조사 단계를 포함하는 메탈메쉬 형성방법.
11. The method of claim 10,
Wherein forming the conductive pattern comprises:
A preliminary light irradiation step for preheating and drying the solvent, and
And a main light irradiation step for reducing and sintering the copper oxide film with copper.
제10항에 있어서,
상기 구리 잉크 조성물의 상기 기판에 대한 인쇄는, 잉크젯 인쇄, 플렉소/그라뷰어링 인쇄, 오프셋 인쇄, 리버스옵셋, 임프린팅, 디스펜싱 인쇄 및 스크린 인쇄로 이루어진 군에서 선택되는 인쇄방법을 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성방법.
11. The method of claim 10,
The printing of the copper ink composition onto the substrate is performed using a printing method selected from the group consisting of ink jet printing, flexographic / gravure ring printing, offset printing, reverse offset, imprinting, ≪ / RTI >
제10항에 있어서,
상기 광의 펄스 폭은 0.01ms 내지 100ms이고, 펄스 갭은 0.1ms 내지 100ms이고, 펄스 수는 1 내지 1,000번이며, 강도는 1J/m2 내지 100J/m2인 것을 특징으로 하는 메탈메쉬 형성방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the light pulse width is 0.01ms to 100ms, and the pulse gap is 0.1ms to 100ms, the number of pulses is 1 to 1,000 times, the strength is method of forming a metal mesh, characterized in that 1J / m 2 to 100J / m 2.
제10항 내지 제15항 중 어느 한 항의 메탈메쉬 형성방법을 이용하여 형성된 메탈메쉬.A metal mesh formed by the method of any one of claims 10 to 15.
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