KR20150073598A - Substrate detection device for substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20150073598A
KR20150073598A KR1020130161488A KR20130161488A KR20150073598A KR 20150073598 A KR20150073598 A KR 20150073598A KR 1020130161488 A KR1020130161488 A KR 1020130161488A KR 20130161488 A KR20130161488 A KR 20130161488A KR 20150073598 A KR20150073598 A KR 20150073598A
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한흥수
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

The present invention relates to a substrate detection device for a substrate processing apparatus comprising: a body unit having an insertion groove; a vertically moving body unit inserted into the insertion groove of the body unit to downwardly move to a perpendicular direction in accordance with contact of a substrate; a sensor unit detecting a change of magnetic field of a magnet arranged in the body unit in accordance with a movement of the body unit; and a restoring force supply unit providing a restoring force which upwardly restores the vertically moving body unit to an original position. According to the present invention, a substrate detection device for a substrate processing apparatus is comprised of vertically moving in accordance with contact of a substrate to minimize a space required for installation.

Description

기판처리장치의 기판 감지장치{Substrate detection device for substrate processing apparatus}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate detection apparatus,

본 발명은 기판처리장치의 기판 감지장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 동작 반경의 크기를 줄여, 장치가 차지하는 공간을 최소화할 수 있는 기판처리장치의 기판 감지장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus capable of reducing a size of an operation radius and minimizing a space occupied by the apparatus.

평판 디스플레이 제조과정에서는 대형의 유리 기판에 박막의 증착, 마스크의 형성, 식각 등의 공정이 선택적으로 반복되어 요구되는 소자들을 제조한다. 이와 같은 공정의 진행과정에서 해당 공정의 전이나 후, 또는 전후에 기판에서 이물을 제거하는 세정 공정이 진행된다.
In the process of manufacturing a flat panel display, processes such as thin film deposition, mask formation, and etching are selectively repeated on a large glass substrate to manufacture required devices. In the course of such a process, a cleaning process is performed to remove foreign matter from the substrate before, after, or both before and after the process.

이와 같은 다양한 공정의 진행시 기판이 특정위치에 진입함을 감지 또는 검출하는 장치는 필수적으로 필요하며, 그 기판이 감지되었을 때 공정의 진행 또는 공정의 중단 등 설정된 동작을 수행하게 된다.
An apparatus for sensing or detecting that a substrate enters a specific position in the course of various processes is indispensable and performs a set operation such as a process or an interruption of a process when the substrate is detected.

종래 대면적 기판의 위치를 검출하기 위한 감지장치는 기판과 롤러가 접촉되었을 때 회전 변위가 발생하고, 그 변위에 따른 자기장의 변화를 감지하는 구조를 가지고 있으며, 이와 같은 종래 대면적 기판 감지장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
Conventionally, a sensing device for detecting the position of a large-area substrate has a structure in which a rotational displacement is generated when a substrate and a roller are in contact with each other, and a change in a magnetic field is detected according to the displacement. The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 기판 감지장치의 단면 구성도이고, 도 2는 종래 기판 감지장치의 측면구성도이다.FIG. 1 is a sectional view of a conventional substrate sensing apparatus, and FIG. 2 is a side view of a conventional substrate sensing apparatus.

도 1과 도 2를 각각 참조하면 종래 기판 감지장치는, 기판의 이송경로 상에 설치되며 설치홈(2)이 마련된 몸체(1)와, 상기 몸체(1)의 설치홈 내에 삽입된 자기장센서(3)와, 상기 설치홈(2) 내에 삽입되고, 그 설치홈(2)의 양측면에 회전축(4)에 의해 변위가 발생이 가능하도록 설치된 이동몸체부(5)와, 상기 이동몸체부(5)의 저면측에 마련된 자석(6)과, 상기 이동몸체부(5)의 상부측에 회전가능하게 결합된 롤러(7)를 포함하여 구성된다.
1 and 2, the conventional substrate sensing apparatus includes a body 1 provided on a transfer path of a substrate and provided with an installation groove 2, a magnetic field sensor (not shown) inserted into the mounting groove of the body 1, A movable body part 5 inserted into the mounting groove 2 and provided on both sides of the mounting groove 2 so as to be displaceable by a rotary shaft 4, And a roller 7 rotatably coupled to the upper side of the moving body 5. The magnet 6 is provided on the bottom side of the moving body 5,

이하, 상기와 같이 구성된 종래 기판 감지장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the conventional substrate detection apparatus constructed as above will be described in more detail.

먼저 이동몸체부(5)는 상기 몸체(1)의 설치홈(2) 내에 설치되는 상하 길이가 긴 육면체의 구조이며, 그 상부에는 롤러(7)가 회전가능하게 체결되어 있다.First, the movable body 5 has a vertically long hexagonal structure provided in the mounting groove 2 of the body 1, and a roller 7 is rotatably fastened to the upper portion thereof.

상기 몸체(1)는 기판을 이송하는 이송축의 사이에 위치하는 것일 수 있으며, 기판의 이동속도와 공정구간까지의 거리를 고려하여 설치됨이 바람직하다. 즉 기판이 진입됨을 감지한 상태에서 세정 등의 공정을 진행하게 된다.
The body 1 may be positioned between transfer shafts through which the substrate is transferred. It is preferable that the body 1 is installed considering the moving speed of the substrate and the distance to the process region. That is, the process such as washing is performed in a state where it is detected that the substrate has entered.

상기 기판이 이송되어 롤러(7)에 접촉되면 그 롤러(7)는 바로 회전하지 않고 이동몸체부(5)가 회전축(4)을 중심으로 소정각도로 기울어지게 되며, 그 롤러(7)의 높이는 보다 낮아지게 되고, 상기 롤러(7)의 상부로 기판이 지나면서 그 롤러(7)는 기판의 저면과 마찰 되어 회전한다.When the substrate is fed and contacts the roller 7, the roller 7 is not rotated immediately but the moving body 5 is inclined at a predetermined angle about the rotational axis 4, and the height of the roller 7 And as the substrate passes over the roller 7, the roller 7 rubs against the bottom surface of the substrate and rotates.

상기 이동몸체부(5)가 기울어짐에 따라 그 하부측에 마련된 자석(6)은 위치가 변경되는 변위가 발생하며, 이에 따라 자기장에도 변화가 발생하게 된다.As the movable body 5 tilts, the magnet 6 disposed on the lower side of the movable body 5 is displaced to change its position, so that the magnetic field also changes.

상기 자기장의 변화는 몸체부(1)의 설치홈(2) 하부측에 매설된 자기장센서(3)에 의해 검출되어 기판이 해당 위치에 도달하였음을 전기적인 신호로 공정을 제어하는 제어부(도면 생략)로 전달하게 된다.
The change of the magnetic field is detected by the magnetic field sensor 3 embedded in the lower part of the mounting groove 2 of the body part 1, and a control part (not shown) ).

상기 이동몸체부(5)의 기울어짐에 따라 롤러(7)의 높이가 낮아진 상태에서 그 기판은 롤러(7)를 지나 이송될 수 있으며, 그 롤러(7)는 아이들(idle) 상태로 기판의 저면과 접촉되어 회전하게 된다.
The substrate can be transported past the rollers 7 in a state in which the height of the rollers 7 is lowered due to the tilting of the moving body 5 and the rollers 7 are moved in an idle state And is rotated in contact with the bottom surface.

상기 기판이 롤러(7)를 통과하게 되면, 복원력제공부(8)에 의하여 상기 이동몸체부(5)가 원래의 위치로 복원된다. 상기 복원력제공부(8)는 각각 상기 이동몸체부(5)와 몸체(1)에 위치하며, 상호 인력이 작용하는 한 쌍의 자석으로 이루어져 있다.When the substrate passes the roller 7, the movable body 5 is restored to its original position by the restoring force providing portion 8. The restoring force providing unit 8 is located in the moving body 5 and the body 1, respectively, and is composed of a pair of magnets in which mutual attraction is exerted.

이처럼 상호 인력이 작용하는 한 쌍의 자석인 복원력제공부(8)는 상기 이동몸체부(5)가 회전운동을 하게 됨으로써, 기판을 감지한 상태에서 수평 및 수직 방향으로의 변위가 생기게 되어 인력의 작용이 원활하게 이루어지지 않을 수 있으며, 특히 흄 또는 이물의 유입에 의하여 인력이 약화 되어 이동몸체부(5)가 원래의 위치로 복원이 되지 않는 현상이 발생할 수 있다. 이동몸체부(5)가 원래의 위치로 복원되지 않는 경우 다음의 기판 검출과정에서 오류가 발생할 수 있는 문제점이 있었다.
As described above, the restoring force providing unit 8, which is a pair of magnets in which mutual attraction is applied, causes the moving body 5 to rotate, so that a horizontal and vertical displacement occurs in a state of sensing the substrate, It may not be smoothly performed. Especially, due to the inflow of fume or foreign matter, the attraction force may be weakened and the moving body part 5 may not be restored to its original position. There is a problem that an error may occur in the next substrate detection process when the moving body 5 is not restored to its original position.

또한 상기 회전축(4)을 따라 회전하는 이동몸체부(5)의 원활한 회전을 위하여 주변에 간섭물이 없어야 하며, 따라서 이동몸체부(5)의 회전 반경 내의 공간을 확보해야 한다. 상기 이동몸체부(5)는 회전축(4)이 측면의 중앙부분에 위치하게 되며, 이동몸체부(5)의 형상이 상하로 긴 육면체 형상이기 때문에 상대적으로 회전 반경이 크고, 따라서 설치 공간이 상대적으로 많이 필요한 문제점이 있었다.
Further, in order to smoothly rotate the moving body 5 rotating along the rotation axis 4, there should be no interference in the surroundings, and thus a space within the turning radius of the moving body 5 must be secured. Since the movable body 5 is located at the center of the side of the rotary shaft 4 and the shape of the movable body 5 is a long hexahedron shape, the rotation radius is relatively large, There was a lot of problems.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 설치 공간을 최소화할 수 있는 기판처리장치의 기판 감지장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate detection apparatus for a substrate processing apparatus capable of minimizing installation space.

또한 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 기판을 감지할 때의 변위가 상하 방향으로만 이루어지도록 하여, 복원력을 제공하는 자석간의 변위가 일방향으로 이루어지도록 함으로써, 복원력을 충분히 제공할 수 있으며, 흄과 이물이 유입됨을 방지하여 복원력의 저하를 방지할 수 있는 기판처리장치의 기판 감지장치를 제공함에 있다.
Another problem to be solved by the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic sensor capable of providing a sufficient restoring force by displacing the magnet only in the up and down direction and detecting displacement of the substrate in one direction, And to prevent deterioration of restoring force by preventing foreign objects from entering the substrate processing apparatus.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명 기판처리장치의 기판 감지장치는, 삽입홈을 가지는 몸체부와, 상기 몸체부의 삽입홈에 삽입되어 기판의 접촉에 따라 직하방향으로 하향 이동하는 상하이동 몸체부와, 상기 몸체부의 이동에 따라 상기 몸체부에 마련된 자석의 자기장 변화를 검출하는 센서부와, 상기 상하이동 몸체부를 원래의 위치로 상향 복원하는 복원력을 제공하는 복원력제공부를 포함한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a body having an insertion groove, A sensor unit for detecting a change in a magnetic field of the magnet provided on the body part according to the movement of the body part and a restoring force providing part for restoring the up and down moving body part up to its original position.

본 발명 기판처리장치의 기판 감지장치는, 기판의 접촉 여부에 따라 상하로 이동하도록 구성함으로써, 설치에 요구되는 공간을 최소화할 수 있는 효과가 있다.The substrate sensing apparatus of the present invention substrate processing apparatus is configured to move up and down depending on whether the substrate is in contact with the substrate, thereby minimizing the space required for installation.

또한 본 발명은 구조를 단순화하여 고장의 발생 포인트를 최소화함과 아울러 복원력의 저하를 방지하여 기판 감지 오류의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the present invention has the effect of simplifying the structure, minimizing the occurrence point of the failure, preventing the degradation of the restoring force, and preventing the substrate detection error.

도 1은 종래 기판처리장치의 기판 감지장치의 단면 구성도이다.
도 2는 종래 기판처리장치의 측면 구성도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 분리 구성도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 단면 구성도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 일부 투영 측면도이다.1 is a sectional view of a substrate sensing apparatus of a conventional substrate processing apparatus.
2 is a side view of a conventional substrate processing apparatus.
FIG. 3 is a block diagram illustrating the structure of a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. Referring to FIG.
4 is a cross-sectional view of a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
5 is a partial projected side view of a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 본 발명 기판처리장치의 기판 감지장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 분리 구성도이며, 도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 단면 구성도이고, 도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치 일부 투영 측면도이다.4 is a cross-sectional view of a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view of a substrate sensing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 3 is a partial projected side view of a substrate sensing apparatus of a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 5를 각각 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치는, 상부가 개방되고 하부로 소정의 깊이로 마련된 삽입홈(11)이 마련된 몸체부(10)와, 상기 몸체부(10)의 상부측면에서 삽입되어 상기 삽입홈(11)을 가로지르는 가이드핀(12)과, 상기 삽입홈(11) 내에 삽입되며, 상기 가이드핀(12)이 관통하는 장공의 가이드홈(23)을 포함하는 상하이동 몸체부(20)와, 상기 상하이동 몸체부(20)의 상부측에 마련되어 이송되는 기판이 접촉되는 롤러(21)와, 상기 몸체부(10)의 삽입홈(11)의 일측면 내측에 삽입설치되어 상기 상하이동 몸체부(20) 내에 설치된 자석(22)의 변위에 따른 자기장의 변화를 검출하는 센서부(30)와, 상기 상하이동 몸체부(20)가 하향으로 이동하였을 때 상향으로의 복원력을 제공하는 복원력제공부(40)를 포함하여 구성된다.
Referring to FIGS. 3 to 5, the substrate sensing apparatus of the substrate processing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention includes a body 10 having an upper opening and an insertion groove 11 provided at a predetermined depth downward, A guide pin 12 inserted in the upper side of the body 10 and crossing the insertion groove 11 and inserted into the insertion groove 11, A vertical movement body 20 including a guide groove 23 and a roller 21 provided on an upper side of the vertical movement body 20 to be contacted with a transported substrate, A sensor unit 30 inserted in one side of the groove 11 to detect a change in magnetic field due to the displacement of the magnet 22 installed in the up and down moving body 20, And a restoring force providing unit (40) for providing a restoring force to the upward direction .

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 기판 감지장치의 구성과 작용에 대하여 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the substrate sensing apparatus of the substrate processing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

먼저, 몸체부(10)는 육면체의 형상이며 상면의 중앙부로부터 하향으로 소정 깊이를 가지는 삽입홈(11)이 형성되어 있다. 여기서 소정 깊이라 함은 앞서 설명한 상하이동 몸체부(20)가 삽입되고, 하향으로 이동이 가능한 정도의 깊이를 뜻한다.
First, the body 10 has a hexahedron shape, and an insertion groove 11 having a predetermined depth downward from the center of the upper surface is formed. Here, the predetermined depth means a depth to which the vertically moving body 20 is inserted and can be moved downward.

상기 삽입홈(11)은 상부측으로만 개방이 되어 있는 것이며, 종래에는 회전식으로 기판을 감지하였기 때문에 이동몸체부(도 1에서 도면부호 5)가 회전할 수 있도록 양측면도 개방된 구조를 사용하는 것에 비하여, 흄과 이물의 유입을 방지할 수 있게 된다.
Since the insertion groove 11 is open only to the upper side and conventionally, since the substrate is detected by a rotary type, the structure in which both side surfaces are opened so that the movable body portion (reference numeral 5 in FIG. 1) It is possible to prevent the inflow of fume and foreign matter.

상기 몸체부(10)의 삽입홈(11)에 삽입되는 상하이동 몸체부(20)는 바(bar) 형태이며, 상부측에 롤러(21)가 회전 가능한 상태로 결합 되어 있다. 상하이동 몸체부(20)의 측면에는 상하방향으로 긴 장공의 가이드홀(23)이 형성되어 있다. 상기 장공의 가이드홀(23)의 상하 방향 길이는 실질적으로 상하이동 몸체부(20)의 상하 변위를 결정하게 된다.The vertical moving body 20 inserted into the insertion groove 11 of the body 10 is in the form of a bar and the roller 21 is rotatably coupled to the upper side. On the side surface of the up-and-down moving body portion 20, a guide hole 23 having a long slot is formed in the up-and-down direction. The vertical length of the guide hole 23 of the elongated hole determines the vertical displacement of the vertically movable body 20 substantially.

상기 상하이동 몸체부(20)가 몸체부(10)의 삽입홈(11)에 삽입된 상태에서, 상기 몸체부(10)의 측면에 가이드핀(12)이 결합된다. 이 가이드핀(12)은 상기 상하이동 몸체부(20)의 가이드홀(23)을 관통하여 상기 상하이동 몸체부(20)가 외부로 이탈됨을 방지함과 아울러 기판의 접촉에 따라 직하 방향으로 이동하거나, 복원력제공부(40)에 의해 상향으로 이동할 수 있게 한다.
The guide pin 12 is engaged with the side surface of the body 10 in a state where the up and down moving body 20 is inserted into the insertion groove 11 of the body 10. The guide pin 12 penetrates the guide hole 23 of the up and down moving body 20 to prevent the up and down moving body 20 from being deviated to the outside and moves in the downward direction Or to move upward by the restoring force providing unit 40. [

상기 상하이동 몸체부(20)는 상부에 롤러(21)가 회전 가능한 상태로 고정되어 있으며, 기판이 이송되어 상기 롤러(21)에 접촉되면 롤러(21)가 회전함과 아울러 기판의 무게에 의해 상하이동 몸체부(20)가 직하 방향으로 이동하게 된다. When the substrate is fed and contacts the roller 21, the roller 21 rotates, and when the substrate 21 is rotated by the weight of the substrate 21, The vertical moving body 20 is moved in the downward direction.

상하이동 몸체부(20)가 직하방향으로 이동함에 따라 상하이동 몸체부(20)에 삽입 설치된 자석(22)의 자기장이 변화되며, 그 자석(22)의 자기장 변화는 센서부(30)에서 검출되어 기판이 이송됨을 검출하게 된다.
The magnetic field of the magnet 22 inserted into the vertical moving body 20 changes as the vertical moving body 20 moves in the downward direction and the magnetic field change of the magnet 22 is detected by the sensor unit 30 And detects that the substrate is fed.

상기 상하이동 몸체부(20)가 종래와는 다르게 수직방향으로 상하이동을 하기 때문에 설치공간을 줄일 수 있으며, 주변의 설비들에 간섭되지 않게 되어 설치가 용이하다.
Since the up-and-down moving body 20 moves up and down in the vertical direction differently from the conventional one, the installation space can be reduced, and the installation can be easily performed without interfering with nearby facilities.

상기 기판의 접촉에 따라 하향으로 이동한 상하이동 몸체부(20)는 기판의 이송이 진행되어 기판이 롤러(21)를 지나게 되면, 복원력제공부(40)에 의해 원래의 상태로 복원된다.
When the substrate is conveyed and the substrate passes the roller 21, the vertical movement body 20 moved downward according to the contact of the substrate is restored to its original state by the restoring force providing unit 40.

상기 복원력제공부(40)는 상호 척력이 작용하는 한 쌍의 자석이며, 그 한 쌍의 자석은 각각 상기 상하이동 몸체부(20)의 하부측과 상기 삽입홈(11)의 하부측 몸체부(10)에 삽입된다.
The restoring force providing portion 40 is a pair of magnets to which a reciprocal repulsive force acts and the pair of magnets are respectively connected to the lower side of the up and down moving body portion 20 and the lower side body portion 10).

상기 복원력제공부(40)는 상하이동 몸체부(20)가 수직방향으로만 이동하기 때문에 일정한 수준의 척력을 항상 유지할 수 있으며, 몸체부(10)의 삽입홈(11)이 상부측으로만 개방되어 있어 흄 및 이물의 유입이 감소되어 상기 복원력제공부(40)를 구성하는 한 쌍의 자석 간 척력이 감소 되지 않기 때문에 상하이동 몸체부(20)를 항상 원래의 위치로 복원하기가 용이하게 된다.
Since the vertical movement body 20 moves only in the vertical direction, the restoring force providing portion 40 can always maintain a repulsive force of a certain level and the insertion groove 11 of the body portion 10 is opened only to the upper side Since the inflow of fume and foreign matter is reduced and the repulsive force between the pair of magnets constituting the restoring force providing portion 40 is not reduced, it is easy to always restore the up and down moving body portion 20 to its original position.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정, 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention will be.

10:몸체부 11:삽입홈
12:가이드핀 20:상하이동 몸체부
21:롤러 22:자석
23:가이드홈 30:센서부
40:복원력제공부
10: body part 11: insertion groove
12: guide pin 20: vertical moving body part
21: roller 22: magnet
23: guide groove 30: sensor part
40: Restorative power supply

Claims (3)

삽입홈을 가지는 몸체부;
상기 몸체부의 삽입홈에 삽입되어 기판의 접촉에 따라 직하방향으로 하향 이동하는 상하이동 몸체부;
상기 몸체부의 이동에 따라 상기 몸체부에 마련된 자석의 자기장 변화를 검출하는 센서부; 및
상기 상하이동 몸체부를 원래의 위치로 상향 복원하는 복원력을 제공하는 복원력제공부를 포함하는 기판처리장치의 기판 감지장치.
A body portion having an insertion groove;
A vertical moving body part inserted into the insertion groove of the body part and moving downward in a downward direction according to the contact of the substrate;
A sensor unit for detecting a change in a magnetic field of the magnet provided on the body part according to the movement of the body part; And
And a restoring force providing unit for restoring the up-and-down moving body to an original position.
제1항에 있어서,
상기 몸체부는,
상기 삽입홈을 가로지르며, 상기 상하이동 몸체부에 마련된 가이드홈을 관통하는 가이드핀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 기판 감지장치.
The method according to claim 1,
The body portion
Further comprising a guide pin passing through the insertion groove and passing through a guide groove formed in the up-and-down moving body portion.
제2항에 있어서,
상기 삽입홈은,
상면만 개방된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 기판 감지장치.3. The method of claim 2,
The insertion groove
Wherein only the upper surface is opened.
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