KR20150069903A - Method for Manufacturing Touch Panel and Display Panel and Display Panel - Google Patents

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KR20150069903A KR1020130156609A KR20130156609A KR20150069903A KR 20150069903 A KR20150069903 A KR 20150069903A KR 1020130156609 A KR1020130156609 A KR 1020130156609A KR 20130156609 A KR20130156609 A KR 20130156609A KR 20150069903 A KR20150069903 A KR 20150069903A
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a touch panel, a method for manufacturing a display panel, and a display panel, the invention comprising the steps of: forming a reinforcing substrate on one surface of a touch substrate to manufacture a touch panel; forming a touch electrode on a back surface of the touch substrate bonded with the reinforcing substrate; and separating the reinforcing substrate from the touch substrate. According to the present invention, the touch substrate is to prevent an easy damage to the touch substrate in the manufacturing process. Accordingly, it is possible to improve a yield rate and a quality of a slim touch panel and thereby, it is possible to improve a yield rate and a quality of a slim display panel.

Description

터치패널 제조방법, 디스플레이패널 제조방법, 및 디스플레이패널{Method for Manufacturing Touch Panel and Display Panel and Display Panel}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch panel manufacturing method, a display panel manufacturing method,

본 발명은 터치기능을 갖는 디스플레이패널을 제조하기 위한 터치패널 제조방법, 디스플레이패널 제조방법 및 터치패널에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel manufacturing method, a display panel manufacturing method, and a touch panel for manufacturing a display panel having a touch function.

영상을 표시하기 위한 장치로 LCD(Liquid Crystal Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes), PDP(Plasma Display Panel), EPD(Electrophoretic Display) 등의 디스플레이장치가 있다. 이러한 디스플레이장치는 터치 기능을 구현하기 위해 터치패널을 포함하도록 제조된다.As a device for displaying an image, there is a display device such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED), a plasma display panel (PDP), and an electrophoretic display (EPD). Such a display device is manufactured to include a touch panel for realizing a touch function.

최근 업계에서는 디스플레이장치에 대한 중량 감소, 배치 용이성, 디자인적 측면 강조 등을 위해 얇은 두께로 제조된 슬림(Slim) 디스플레이장치에 대한 수요가 증가하고 있다. 이에 따라, 최근 업계에서는 슬림 디스플레이장치에 대한 개발이 활발하게 이루어지고 있다. 슬림 디스플레이장치를 제조하기 방안으로, 터치패널의 두께를 줄인 슬림 터치패널을 이용하는 방안이 있다.In recent years, there is an increasing demand for a thin-walled Slim display device for weight reduction, ease of placement, and design emphasis on display devices. Accordingly, in recent years, development of slim display devices has been actively carried out in the industry. As a method of manufacturing the slim display device, there is a method of using a slim touch panel that reduces the thickness of the touch panel.

이와 같이 터치패널의 두께를 줄이기 위해 터치패널을 제조하기 위한 기판(이하, '터치기판'이라 함)으로 얇은 두께로 형성된 것을 이용하는 방안이 제안되었다. 그러나, 터치기판이 얇은 두께로 형성됨에 따라 터치기판이 갖는 내구성이 저하되므로, 터치전극을 형성하는 공정 등을 수행하는 과정에서 터치기판이 쉽게 손상되는 문제가 있다.In order to reduce the thickness of the touch panel, a method of using a substrate formed of a thin thickness as a substrate for manufacturing a touch panel (hereinafter referred to as a 'touch substrate') has been proposed. However, since the touch substrate is formed to have a thin thickness, the durability of the touch substrate is lowered, so that the touch substrate is easily damaged in the process of forming the touch electrode.

이를 해결하기 위해, 최종적으로 터치패널에 구비되는 터치기판에 비해 두꺼운 두께로 형성된 터치기판을 이용하여 터치전극을 형성하는 공정 등을 수행한 후에, 터치기판의 일부를 식각함으로써 슬림 터치패널을 제조하는 방안이 제안되었다. 그러나, 이와 같은 종래 기술은 다음과 같은 문제가 있다.In order to solve this problem, after a step of forming a touch electrode using a touch substrate formed thicker than a touch substrate provided on the touch panel, a slim touch panel is manufactured by etching a part of the touch substrate A plan was proposed. However, such conventional techniques have the following problems.

첫째, 종래 기술은 터치기판 전체를 식각하기 위해 많은 양의 식각액이 소모될 뿐만 아니라, 터치기판을 식각함에 따라 발생하는 이물질 등으로 인해 식각액이 오염되므로 식각액을 주기적으로 교체하여야 한다. 따라서, 종래 기술은 식각액 사용으로 인해 소모품에 대한 공정 비용을 상승시키고, 이에 따라 터치패널에 대한 제조 단가를 상승시키는 문제가 있다.First, in the prior art, not only a large amount of etching solution is consumed to etch the entire touch substrate, but the etchant is contaminated due to foreign substances generated by etching the touch substrate, so the etchant should be periodically replaced. Therefore, the prior art has a problem in that the use of the etching solution raises the process cost for the consumables, thereby raising the manufacturing cost for the touch panel.

둘째, 종래 기술은 터치기판을 식각하는 공정이 이루어지는 챔버 내부가 식각액, 터치기판을 식각함에 따라 발생하는 이물질 등으로 인해 오염되므로, 챔버 내부를 주기적으로 세정하는 작업이 필요하다. 따라서, 종래 기술은 주기적인 세정 작업 수행으로 인해 공정 비용이 상승할 뿐만 아니라, 세정 작업이 이루어지는 동안 터치패널을 제조하는 공정을 중지하여야 하므로, 공정 시간에 손실이 발생함에 따라 터치패널에 대한 생산성을 저하시키는 문제가 있다.Secondly, in the prior art, the inside of the chamber where the process of etching the touch substrate is contaminated due to the etchant, foreign substances generated by etching the touch substrate, and so on, it is necessary to periodically clean the inside of the chamber. Therefore, in the related art, not only the process cost is increased due to the periodical cleaning operation but also the manufacturing process of the touch panel is stopped during the cleaning operation. Therefore, There is a problem of deterioration.

셋째, 종래 기술은 식각액으로 불화수소(HF, Hydrogen Fluoride) 등과 같은 환경 오염 물질을 사용함에 따라, 환경 오염 문제를 발생시킬 우려가 있는 문제가 있다.Thirdly, there is a problem that environmental pollution problem may occur due to the use of environmental pollutants such as hydrogen fluoride (HF) as an etchant.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하고 안출된 것으로, 슬림 터치패널을 제조하는 과정에서 터치기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 터치패널 제조방법, 디스플레이패널 제조방법, 및 터치패널을 제공하기 위한 것이다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a touch panel manufacturing method, a display panel manufacturing method, and a touch panel capable of preventing a touch substrate from being damaged in the course of manufacturing a slim touch panel. will be.

본 발명은 식각액을 이용하지 않고도 슬림 터치패널을 제조할 수 있는 터치패널 제조방법, 디스플레이패널 제조방법, 및 터치패널을 제공하기 위한 것이다.The present invention provides a touch panel manufacturing method, a display panel manufacturing method, and a touch panel capable of manufacturing a slim touch panel without using an etchant.

상술한 바와 같은 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 하기와 같은 구성을 포함할 수 있다.In order to solve the above-described problems, the present invention can include the following configuration.

본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계; 상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계; 상기 터치전극의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링(Anealing) 처리하는 단계; 상기 터치기판의 타면에 제1캐리어기판을 결합시키는 단계; 및 상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는 상기 터치기판의 타면에 상기 제1캐리어기판을 결합시키기 전에 상기 터치기판 및 상기 제1캐리어기판 간의 결합력이 상기 터치기판 및 상기 보강기판 간의 결합력보다 크도록 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링 처리함으로써 이루어질 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, including: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel; Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled; Annealing the touch electrode formed on the other surface of the touch electrode; Coupling a first carrier substrate to the other surface of the touch substrate; And separating the reinforcing substrate from the touch substrate. Wherein the step of annealing the touch electrode is performed such that the bonding force between the touch substrate and the first carrier substrate is greater than the bonding force between the touch substrate and the reinforcing substrate before the first carrier substrate is bonded to the other surface of the touch substrate, And annealing the touch electrode formed on the other surface of the substrate.

본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계; 상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계; 및 상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, including: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel; Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled; And separating the reinforcing substrate from the touch substrate.

본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계; 상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계; 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링 처리하는 단계; 상기 터치기판의 타면에 제1캐리어기판을 결합시키는 단계; 상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계; 상기 제1캐리어기판이 결합된 터치패널 상에 컬러필터층을 형성하여 상부기판을 제조하는 단계; 박막트랜지스터 어레이를 갖는 하부기판 및 상기 상부기판을 합착하는 단계; 및 상기 상부기판으로부터 상기 제1캐리어기판을 분리하는 단계를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display panel, including: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel; Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled; Annealing the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate; Coupling a first carrier substrate to the other surface of the touch substrate; Separating the reinforcing substrate from the touch substrate; Forming a color filter layer on a touch panel to which the first carrier substrate is coupled to manufacture an upper substrate; Depositing a lower substrate having a thin film transistor array and the upper substrate; And separating the first carrier substrate from the upper substrate.

본 발명에 따른 디스플레이패널은 박막트랜지스터 어레이가 형성된 패널기판; 상기 패널기판에 결합된 터치기판; 및 상기 터치기판 상에 어닐링 처리되어 형성된 터치전극을 포함할 수 있다.A display panel according to the present invention includes: a panel substrate on which a thin film transistor array is formed; A touch substrate coupled to the panel substrate; And a touch electrode formed on the touch substrate by annealing.

본 발명은 제조과정에서 터치기판이 쉽게 손상되는 것을 방지할 수 있도록 구현됨으로써, 슬림 터치패널에 대한 수율 및 품질을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 슬림 디스플레이패널에 대한 수율 및 품질을 향상시킬 수 있다.The present invention can prevent the touch substrate from being easily damaged during the manufacturing process, thereby improving the yield and quality of the slim touch panel, thereby improving the yield and quality of the slim display panel.

본 발명은 제조과정에서 보강기판이 손상 내지 파손되는 것을 방지하여 보강기판이 재사용될 수 있도록 구현됨으로써, 보강기판에 대한 소모량을 줄일 수 있고, 이에 따라 터치패널 및 디스플레이패널을 제조하기 위한 공정 비용을 절감할 수 있다.The present invention can prevent the reinforcing board from being damaged or damaged during the manufacturing process, so that the reinforcing board can be reused, so that the consumption amount of the reinforcing board can be reduced and the cost for manufacturing the touch panel and the display panel can be reduced Can be saved.

본 발명은 식각액을 이용하지 않고도 제조과정에서 터치기판이 손상되는 것을 방지할 수 있도록 구현됨으로써, 공정 비용을 줄일 수 있고, 세정 작업으로 인해 공정 시간에 손실이 발생하는 것을 방지함으로써 슬림 터치패널 및 슬림 디스플레이패널에 대한 생산성을 향상시킬 수 있다.The present invention can be implemented to prevent the touch substrate from being damaged in the manufacturing process without using an etching liquid, thereby reducing the process cost and preventing the loss of the process time due to the cleaning operation, The productivity for the display panel can be improved.

본 발명은 환경 오염 물질인 식각액을 이용하지 않으므로, 환경 오염 문제가 발생하는 것을 방지함으로써, 터치패널 및 디스플레이패널을 제조하기 위한 제조공정을 친환경적으로 구현하는데 기여할 수 있다.Since the present invention does not use an etchant that is an environmental pollutant, it prevents the environmental pollution problem from occurring, thereby contributing to eco-friendly implementation of the manufacturing process for manufacturing the touch panel and the display panel.

도 1은 본 발명에 따른 터치패널 제조방법의 개략적인 순서도
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 터치패널 제조방법에 따라 터치패널을 제조하는 과정을 설명하기 위한 터치패널의 개략적인 단면도
도 4는 본 발명에 따른 터치패널 제조방법에 있어서 터치기판 및 보강기판을 결합시키는 결합장치의 일례에 대한 개략적인 단면도
도 5는 본 발명의 변형된 실시예에 따른 터치패널 제조방법의 개략적인 순서도
도 6 및 도 7은 본 발명의 변형된 실시예에 따른 터치패널 제조방법에 따라 터치패널을 제조하는 과정을 설명하기 위한 터치패널의 개략적인 단면도
도 8은 본 발명에 따른 터치패널 제조방법에 있어서 터치기판으로부터 보강기판을 분리하는 분리장치의 일례에 대한 개략적인 단면도
도 9는 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법의 개략적인 순서도
도 10 및 도 11은 본 발명에 따른 디스플레이패널을 제조하는 과정을 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 12는 본 발명에 따른 디스플레이패널의 개략적인 단면도
1 is a schematic flowchart of a method of manufacturing a touch panel according to the present invention
2 and 3 are schematic sectional views of a touch panel for explaining a process of manufacturing a touch panel according to a method of manufacturing a touch panel according to the present invention
4 is a schematic cross-sectional view of an example of a coupling device for coupling a touch substrate and a reinforcing substrate in the method of manufacturing a touch panel according to the present invention
5 is a schematic flowchart of a method of manufacturing a touch panel according to a modified embodiment of the present invention
6 and 7 are schematic sectional views of a touch panel for explaining a process of manufacturing a touch panel according to a method of manufacturing a touch panel according to a modified embodiment of the present invention
8 is a schematic cross-sectional view of an example of a separating apparatus for separating a reinforcing substrate from a touch substrate in the method of manufacturing a touch panel according to the present invention
9 is a schematic flowchart of a method of manufacturing a display panel according to the present invention
10 and 11 are schematic cross-sectional views for explaining a process of manufacturing a display panel according to the present invention
12 is a schematic cross-sectional view of a display panel according to the present invention

이하에서는 본 발명에 따른 터치패널 제조방법의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a touch panel manufacturing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4를 참고하면, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 디스플레이장치에 터치 기능을 구현하는 터치패널(10, 도 3에 도시됨)을 제조하기 위한 것이다. 상기 터치패널(10)은 LCD(Liquid Crystal Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes), PDP(Plasma Display Panel), EPD(Electrophoretic Display) 등의 디스플레이장치에 터치 기능을 구현할 수 있다. 이러한 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 to 4, the method for manufacturing a touch panel according to the present invention is for manufacturing a touch panel 10 (shown in FIG. 3) for implementing a touch function on a display device. The touch panel 10 may implement a touch function for a display device such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED), a plasma display panel (PDP), or an electrophoretic display (EPD) The method of manufacturing a touch panel according to the present invention may include the following configuration.

우선, 터치기판(11)에 보강기판(20)을 결합시킨다(S10). 이러한 공정(S10)은 상기 터치기판(11)의 일면에 상기 보강기판(20)을 결합시킴으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치기판(11)은 상기 터치패널(10)을 제조하기 위한 기판으로, 글래스(Glass)로 제조된 기판일 수 있다. 상기 보강기판(20)은 글래스(GlasS)로 제조된 기판일 수 있다. 상기 보강기판(20)은 상기 터치기판(11)에 비해 두꺼운 두께를 갖는 기판일 수 있다. 예컨대, 상기 터치기판(11)은 0.2 mm의 두께를 갖는 기판이고, 상기 보강기판(20)은 0.5 mm의 두께를 갖는 기판일 수 있다.First, the reinforcing substrate 20 is bonded to the touch substrate 11 (S10). The step S10 may be performed by joining the reinforcing substrate 20 to one surface of the touch substrate 11. The touch substrate 11 is a substrate for manufacturing the touch panel 10, and may be a glass substrate. The reinforcing substrate 20 may be a substrate made of glass (GlasS). The reinforcing substrate 20 may be a thicker substrate than the touch substrate 11. For example, the touch substrate 11 may be a substrate having a thickness of 0.2 mm, and the reinforcing substrate 20 may be a substrate having a thickness of 0.5 mm.

상기 터치기판에 보강기판을 결합시키는 공정(S10)을 수행함에 따라, 상기 터치기판(11)은 상기 보강기판(20)에 의해 내구성이 보강된다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 다음과 같은 작용효과를 도모할 수 있다.The step of bonding the reinforcing substrate to the touch substrate (S10) is performed, so that the durability of the touch substrate (11) is enhanced by the reinforcing substrate (20). Therefore, the touch panel manufacturing method according to the present invention can achieve the following operational effects.

첫째, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 보강기판(20)에 의해 내구성이 보강된 터치기판(11)을 이용하여 상기 터치패널(10)을 제조하기 위한 소정의 공정을 수행함으로써, 상기 터치패널(10)을 제조할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판(11)이 얇은 두께로 형성된 것이더라도, 상기 터치패널(10)을 제조하는 과정에서 상기 터치기판(11)이 쉽게 손상되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 향상된 품질을 갖는 터치패널(10)을 제조할 수 있다.First, in the method of manufacturing a touch panel according to the present invention, a predetermined process for manufacturing the touch panel 10 is performed using the touch substrate 11 having enhanced durability by the reinforcing substrate 20, The panel 10 can be manufactured. Accordingly, even if the touch substrate 11 is formed to have a small thickness, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can prevent the touch substrate 11 from being easily damaged in the process of manufacturing the touch panel 10 . Accordingly, the touch panel manufacturing method according to the present invention can manufacture the touch panel 10 having an improved quality.

둘째, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 종래 기술과 같이 식각액을 이용하지 않고도, 상기 터치기판(11)이 손상되는 것을 방지하면서 얇은 두께를 갖는 터치패널(10)을 제조할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 종래 기술과 비교할 때, 소모품인 식각액을 사용하지 않음으로써 공정 비용을 줄일 수 있고, 이에 따라 얇은 두께를 갖는 터치패널(10)에 대한 제조 단가를 낮출 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 종래 기술과 같이 식각액 사용으로 인한 챔버 세정 작업을 생략할 수 있으므로, 공정 비용을 더 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 세정 작업으로 인해 공정 시간에 손실이 발생하는 것을 방지함으로써 얇은 두께를 갖는 터치패널(10)에 대한 생산성을 향상시킬 수 있다.Second, the touch panel manufacturing method according to the present invention can manufacture the touch panel 10 having a thin thickness while preventing the touch substrate 11 from being damaged without using an etching liquid as in the prior art. Accordingly, the touch panel manufacturing method according to the present invention can reduce the process cost by not using the etchant, which is a consumable item, as compared with the related art, and accordingly, the manufacturing cost for the touch panel 10 having a thin thickness can be reduced have. In addition, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can omit a chamber cleaning operation due to the use of an etching liquid as in the prior art, so that not only a process cost can be further reduced, but also a process time is lost due to a cleaning operation The productivity of the touch panel 10 having a thin thickness can be improved.

셋째, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 종래 기술과 같이 환경 오염 물질인 식각액을 이용하지 않으므로, 환경 오염 문제가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치패널(10)을 제조하기 위한 공정라인을 친환경적으로 구현하는데 기여할 수 있다.Third, the touch panel manufacturing method according to the present invention does not use an etchant, which is an environmental pollutant, as in the prior art, thereby preventing environmental pollution problems. Accordingly, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can contribute to eco-friendly implementation of a processing line for manufacturing the touch panel 10.

상기 터치기판에 보강기판을 결합시키는 공정(S10)은, 상기 터치기판(11)에 상기 보강기판(20)을 결합시키기 위한 결합장치(30, 도 4에 도시됨)에 의해 수행될 수 있다.The step S10 of bonding the reinforcing substrate to the touch substrate may be performed by a coupling device 30 (shown in Fig. 4) for coupling the reinforcing substrate 20 to the touch substrate 11. [

예컨대, 상기 결합장치(30)는 챔버기구(31, 도 4에 도시됨), 제1정반(32, 도 4에 도시됨), 제2정반(33, 도 4에 도시됨), 및 압력조절부(34, 도 4에 도시됨)를 포함할 수 있다. 상기 보강기판(20)은 상기 제1정반(32)에 지지된다. 상기 터치기판(11)은 흡착력, 정전력, 점착력 중 적어도 하나에 의해 상기 제2정반(33)에 부착된다. 이 상태에서 상기 결합장치(30)는 상기 터치기판(11)에 상기 보강기판(20)을 결합시킬 수 있다.4), a second platen 33 (shown in Fig. 4), and a pressure regulator 32 (shown in Fig. 4) Section 34 (shown in FIG. 4). The reinforcing substrate 20 is supported on the first platen 32. The touch substrate 11 is attached to the second platen 33 by at least one of an attraction force, an electrostatic force and an adhesive force. In this state, the coupling device 30 can couple the reinforcing substrate 20 to the touch substrate 11.

이 경우, 상기 터치기판에 보강기판을 결합시키는 공정(S10)은, 챔버기구 내부에서 상기 터치기판 및 상기 보강기판을 접촉시키는 공정(미도시), 및 챔버기구 내부의 압력을 낮추는 공정(미도시)을 포함할 수 있다.In this case, the step (S10) of joining the reinforcing substrate to the touch substrate includes a step (not shown) of bringing the touch substrate and the reinforcing substrate into contact with each other in the chamber mechanism, and a step of lowering the pressure inside the chamber mechanism ).

상기 터치기판에 상기 보강기판을 접촉시키는 공정은, 상기 제2정반(33)에 부착되어 있던 터치기판(11)을 상기 제2정반(33)으로부터 이격시킴으로써 이루어질 수 있다. 이는 상기 결합장치(30)가 상기 터치기판(11)을 상기 제2정반(33)에 부착시키고 있던 부착력을 제거함으로써 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 터치기판(11)은 상기 제2정반(33)으로부터 제공되는 흡착력, 정전력, 점착력 등이 제거됨으로써, 자중에 의해 낙하된 후에 상기 제1정반(32)에 지지된 보강기판(20)에 접촉될 수 있다.The step of bringing the reinforcing substrate into contact with the touch substrate may be performed by separating the touch substrate 11 attached to the second surface plate 33 from the second surface plate 33. This can be done by removing the adhesive force to which the coupling device 30 has attached the touch substrate 11 to the second platen 33. [ For example, the touch substrate 11 has a function of removing the attraction force, the electrostatic force, the adhesive force, and the like provided from the second surface plate 33, ). ≪ / RTI >

상기 챔버기구 내부의 압력을 낮추는 공정은, 상기 터치기판(11)이 상기 제2정반(33)으로부터 이격되어 상기 보강기판(20)에 접촉되면, 상기 압력조절부(34)가 상기 챔버기구(31) 내부의 압력을 소정의 진공압력으로 낮춤으로써 이루어질 수 있다. 이에 따라, 상기 압력조절부(34)는 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20) 사이에 잔존하는 기체 등을 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20) 사이로부터 배출시킴으로써, 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20)을 실런트 등과 같은 접착제 없이 분자 결합을 이용하여 결합시킬 수 있다.When the touch substrate 11 is separated from the second platen 33 and contacts the reinforcing substrate 20, the pressure regulating unit 34 lowers the pressure in the chamber mechanism 31) to a predetermined vacuum pressure. The pressure regulator 34 discharges gas or the like remaining between the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 from between the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20, The touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 can be bonded by molecular bonding without using an adhesive such as a sealant.

따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20)을 결합시키기 위해 실런트를 도포하는 공정, 실런트를 경화시키는 공정 등을 생략할 수 있으므로, 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20)을 결합시키기 위한 공정 수를 줄일 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20)을 결합시키는데 걸리는 시간을 줄임으로써 상기 터치패널(10)을 제조하는 공정에 대한 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20)을 결합시키데 필요한 장치 수를 줄일 수 있으므로, 상기 터치패널(10)을 제조하는 공정에 대한 공정비용 및 운영비용을 절감할 수 있다.Therefore, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can omit the step of applying the sealant and the step of hardening the sealant to bond the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20, 11 and the reinforcing substrate 20 can be reduced. Accordingly, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can reduce the time taken to bond the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20, thereby improving the productivity of the process of manufacturing the touch panel 10 have. The method of manufacturing a touch panel according to the present invention can reduce the number of devices required to couple the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 to each other, And operating costs.

도시되지 않았지만, 상기 결합장치(30)는 상기 터치기판(11)이 상기 제1정반(32)에 지지되고 상기 보강기판(20)이 상기 제2정반(33)에 부착된 상태에서, 상기 보강기판(20)을 상기 터치기판(11) 쪽으로 낙하시킨 후에 상기 챔버기구(31) 내부의 압력을 낮춤으로써 상기 터치기판(11) 및 상기 보강기판(20)을 결합시킬 수도 있다.Although not shown in the figure, the joining device 30 is configured such that, in a state where the touch substrate 11 is supported by the first platen 32 and the reinforcing substrate 20 is attached to the second platen 33, The touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 may be joined by lowering the pressure inside the chamber mechanism 31 after the substrate 20 is dropped to the touch substrate 11. [

다음, 터치기판(11) 상에 터치전극(12)을 형성한다(S20). 이러한 공정(S20)은 상기 터치기판(11)의 타면 상에 터치전극(12, 도 3에 도시됨)을 형성함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치기판(11)의 타면은, 상기 터치기판(11)에서 상기 보강기판(20)이 결합된 일면에 대해 반대되는 면이다. 상기 터치기판 상에 터치전극을 형성하는 공정(S20)은, 상기 터치기판(11)에 상기 보강기판(20)이 결합된 상태에서 수행될 수 있다. 상기 터치기판 상에 터치전극을 형성하는 공정(S20)은 소정의 증착공정을 통해 상기 터치기판(11)에 상기 터치전극(12)을 형성함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치기판 상에 터치전극을 형성하는 공정(S20)은 소정의 증착공정 및 소정의 식각공정을 통해 상기 터치기판(11)에 상기 터치전극(12)을 형성함으로써 이루어질 수도 있다. 상기 터치전극(12)은 ITO(Induim Tin Oxide)로 형성될 수 있다. 상기 터치전극(12)은 터치를 센싱하기 위한 수신전극(RX 전극)일 수 있다. 상기 터치전극(12)은 상기 수신전극 및 터치 구동신호(TX Signal)가 공급되는 구동전극(TX 전극)을 포함할 수도 있다.Next, the touch electrode 12 is formed on the touch substrate 11 (S20). This step S20 may be performed by forming a touch electrode 12 (shown in Fig. 3) on the other surface of the touch substrate 11. [ The other surface of the touch substrate 11 is a surface opposite to a surface of the touch substrate 11 to which the reinforcing substrate 20 is coupled. The step S20 of forming the touch electrode on the touch substrate may be performed in a state where the reinforcing substrate 20 is coupled to the touch substrate 11. [ The step S20 of forming a touch electrode on the touch substrate may be performed by forming the touch electrode 12 on the touch substrate 11 through a predetermined deposition process. The step S20 of forming the touch electrode on the touch substrate may be performed by forming the touch electrode 12 on the touch substrate 11 through a predetermined deposition process and a predetermined etching process. The touch electrode 12 may be formed of indium tin oxide (ITO). The touch electrode 12 may be a receiving electrode (RX electrode) for sensing a touch. The touch electrode 12 may include a receiving electrode and a driving electrode (TX electrode) to which a touch driving signal (TX signal) is supplied.

다음, 터치기판(11)으로부터 보강기판(20)을 분리한다(S30). 이러한 공정(S30)은 상기 터치기판(11)에 상기 터치전극(12)이 형성된 후에, 상기 터치기판(11)으로부터 상기 보강기판(20)을 분리함으로써 이루어질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판(11)이 상기 보강기판(20)에 의해 내구성이 보강된 상태에서 상기 터치전극(12)을 형성한 후에 상기 터치기판(11)으로부터 상기 보강기판(20)을 분리함으로써, 향상된 품질을 갖는 슬림 터치패널(10)을 제조할 수 있다.Next, the reinforcing substrate 20 is separated from the touch substrate 11 (S30). The step S30 may be performed by separating the reinforcing substrate 20 from the touch substrate 11 after the touch electrode 12 is formed on the touch substrate 11. [ The method of manufacturing a touch panel according to the present invention is characterized in that the touch substrate 11 is formed with the durability reinforced by the reinforcing substrate 20 after the touch electrode 12 is formed, By separating the reinforcing board 20, the slim touch panel 10 having improved quality can be manufactured.

도 2 내지 도 5를 참고하면, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 터치전극을 어닐링(Anealing) 처리하는 공정(S40)을 더 포함할 수 있다.2 to 5, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention may further include a step (S40) of annealing the touch electrode.

상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)은, 상기 보강기판(20)이 결합된 터치기판(11)에 상기 터치전극(12)을 형성한 후에, 상기 터치기판(11)의 타면 상에 형성된 터치전극(12)을 어닐링 처리함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 수행함으로써, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 높은 투과율을 갖는 터치패널(10)을 제조할 수 있다.The step S40 of annealing the touch electrode may be performed after the touch electrode 12 is formed on the touch substrate 11 to which the reinforcing substrate 20 is bonded and is then formed on the other surface of the touch substrate 11 And the touch electrode 12 may be annealed. By performing the step S40 of annealing the touch electrode, the touch panel manufacturing method according to the present invention can manufacture the touch panel 10 having a high transmittance.

이는, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 어닐링 처리하지 않은 비교예(REF) 및 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 소정 온도로 어닐링 처리한 실시예들(150, 170, 190, 210, 230) 각각에 대해 투과율을 측정한 실험결과를 나타낸 아래 그림 1로부터 알 수 있다. 실시예들(150, 170, 190, 210, 230)에 대한 실험결과는, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 150도, 170도, 190도, 210도, 230도로 1000초 동안 가열하여 어닐링 처리한 것에 대해 투과율을 측정한 결과이다. 비교예(REF)는 상기 터치전극(12)이 형성된 터치기판(11)을 2매 제조하고, 상기 터치전극(12)에 대한 어닐링 처리 없이 투과율을 측정하였다. 실험예들(150, 170, 190, 210, 230)은 상기 터치전극(12)이 형성된 터치기판(11)을 10매 제조하고, 상술한 5개의 온도 각각에 대해 2매씩 터치전극(12)을 어닐링 처리한 후에 투과율을 측정하였다. 아래 그림 1에서 세로축은 투과율이고, 가로축은 투과율을 측정하는데 이용한 광의 파장이다.
This is because the comparative example (REF) in which the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 is not annealed and the embodiments in which the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 is annealed at a predetermined temperature 150, 170, 190, 210, and 230, respectively. Experimental results of the embodiments 150, 170, 190, 210 and 230 show that the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 is rotated 150 degrees, 170 degrees, 190 degrees, 210 degrees, 230 degrees, , And the transmittance was measured for annealing treatment. In the comparative example (REF), two touch substrates 11 on which the touch electrodes 12 were formed were manufactured, and the transmittance was measured without annealing the touch electrodes 12. The test samples 150, 170, 190, 210, and 230 are prepared by forming ten touch substrates 11 on which the touch electrodes 12 are formed, and applying two touch electrodes 12 After the annealing treatment, the transmittance was measured. In Figure 1, the vertical axis is the transmittance and the horizontal axis is the wavelength of the light used to measure the transmittance.

[그림 1][Figure 1]

Figure pat00001

Figure pat00001

그림 1로부터, 상기 터치전극(12)을 어닐링 처리한 실시예들(150, 170, 190, 210, 230)은, 상기 터치전극(12)을 어닐링 처리하지 않은 비교예(REF)에 비해 높은 투과율을 갖게 됨을 알 수 있다. 특히, 실시예들(150, 170, 190, 210, 230)은 디스플레이장치가 표시하는 영상의 품질에 큰 영향을 미치는 400 nm ~ 500 nm 파장영역에서 비교예(REF)에 비해 높은 투과율을 갖게 됨을 알 수 있다.1, the embodiments 150, 170, 190, 210 and 230 in which the touch electrode 12 is annealed have a higher transmittance than the comparative example (REF) in which the touch electrode 12 is not annealed As shown in Fig. In particular, embodiments 150, 170, 190, 210 and 230 have a higher transmittance than the comparative example (REF) in the wavelength range of 400 nm to 500 nm, which greatly affects the quality of the image displayed by the display device Able to know.

따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 수행함으로써 높은 투과율을 갖는 터치패널(10)을 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 디스플레이장치가 표시하는 영상의 품질을 향상시키는데 기여할 수 있다.Accordingly, the touch panel manufacturing method according to the present invention can manufacture the touch panel 10 having a high transmittance by performing the step S40 of annealing the touch electrode, Can be improved.

한편, 실시예들에 대해 화이트(White) 광을 이용하여 투과율을 측정한 실험결과는, 아래 표 1과 같다.
On the other hand, the experimental results of measuring transmittance using white light for the embodiments are shown in Table 1 below.

Figure pat00002
Figure pat00002

표 1로부터, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 150도 이상 230도 이하의 온도로 가열하여 어닐링 처리하면, 상기 터치패널(10)은 화이트 광에 대해 대략 90% 이상의 높은 투과율을 갖게 됨을 알 수 있다.It can be seen from Table 1 that when the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 is annealed by heating to a temperature of 150 degrees or more and 230 degrees or less, the touch panel 10 has a high transmittance As shown in Fig.

상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)은, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 150도 이상 230도 이하의 온도로 가열하는 공정을 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 그림 1 및 표 1로부터 알 수 있듯이 높은 투과율을 갖는 터치패널(10)을 제조함으로써, 터치기능을 갖는 디스플레이장치가 표시하는 영상의 품질을 향상시키는데 기여할 수 있다.The step S40 of annealing the touch electrode may include a step of heating the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 to a temperature of 150 degrees or more and 230 degrees or less. Accordingly, as shown in FIGS. 1 and 1, the touch panel manufacturing method according to the present invention can improve the quality of the image displayed by the display device having a touch function by manufacturing the touch panel 10 having a high transmittance have.

상기 터치전극을 가열하는 공정은, 상기 터치전극(12)이 형성된 터치기판(11)을 가열장치(미도시) 내부에 위치시킨 후에 150도 이상 230도 이하의 온도로 가열함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치전극을 가열하는 공정은, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 150도 이상 230도 이하의 온도로 1000초 동안 가열함으로써 이루어질 수도 있다. 바람직하게는, 상기 터치전극을 가열하는 공정은, 상기 터치기판(11)에 형성된 터치전극(12)을 230도의 온도로 1000초 동안 가열함으로서 이루어질 수 있다. 이 경우, 표 1로부터 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 평균적으로 가장 높은 투과율을 갖는 터치패널(10)을 제조할 수 있다.The step of heating the touch electrode may be performed by heating the touch substrate 11 formed with the touch electrode 12 to a temperature of 150 ° C. to 230 ° C. after the touch substrate 11 is placed in a heating device (not shown). The step of heating the touch electrode may be performed by heating the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 at a temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for 1000 seconds. Preferably, the step of heating the touch electrode may be performed by heating the touch electrode 12 formed on the touch substrate 11 at a temperature of 230 degrees for 1000 seconds. In this case, as can be seen from Table 1, the touch panel manufacturing method according to the present invention can manufacture the touch panel 10 having the highest transmittance on average.

상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)은, 상기 터치전극을 가열하는 공정을 수행한 후에 상기 터치전극을 상온으로 복원시키는 공정을 포함할 수 있다. 이러한 공정은, 상기 가열장치로부터 상기 터치전극(12)이 형성된 터치기판(11)을 반출한 후에 식힘으로써 이루어질 수 있다.The step (S40) of annealing the touch electrode may include a step of restoring the touch electrode to room temperature after performing the step of heating the touch electrode. This process can be performed by removing the touch substrate 11 on which the touch electrode 12 is formed from the heating device and then cooling it.

한편, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 수행함으로써, 상기 터치전극(12)이 갖는 저항을 낮출 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치패널(10)이 갖는 센싱감도를 향상시킴으로써, 터치기능을 갖는 디스플레이장치에 대한 품질을 향상시킬 수 있다.Meanwhile, in the method of manufacturing a touch panel according to the present invention, the resistance of the touch electrode 12 can be lowered by performing the step S40 of annealing the touch electrode. Therefore, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can improve the quality of a display device having a touch function by improving the sensing sensitivity of the touch panel 10.

도 4 내지 도 7을 참고하면, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 터치기판에 제1캐리어기판을 결합시키는 공정(S50)을 더 포함할 수 있다.4 to 7, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention may further include a step (S50) of bonding a first carrier substrate to a touch substrate.

상기 터치기판에 제1캐리어기판을 결합시키는 공정(S50)은, 상기 터치기판(11)의 타면에 상기 제1캐리어기판(40, 도 6에 도시됨)을 결합시킴으로써 이루어질 수 있다. 상기 제1캐리어기판(40)은 글래스로 제조된 기판일 수 있다. 상기 제1캐리어기판(40)은 상기 터치기판(11)에 비해 두꺼운 두께를 갖는 기판일 수 있다. 예컨대, 상기 터치기판(11)은 0.2 mm의 두께를 갖는 기판이고, 상기 보강기판(20)은 0.5 mm의 두께를 갖는 기판일 수 있다. 상기 터치기판에 상기 제1캐리어기판을 결합시키는 공정(S50)은, 상기 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시키는 장치에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시키는 장치는 상술한 결합장치(30, 도 4에 도시됨)와 유사하게 구성될 수 있다.The step S50 of bonding the first carrier substrate to the touch substrate may be performed by coupling the first carrier substrate 40 (shown in Fig. 6) to the other surface of the touch substrate 11. Fig. The first carrier substrate 40 may be a glass substrate. The first carrier substrate 40 may be a thicker substrate than the touch substrate 11. For example, the touch substrate 11 may be a substrate having a thickness of 0.2 mm, and the reinforcing substrate 20 may be a substrate having a thickness of 0.5 mm. The step (S50) of bonding the first carrier substrate to the touch substrate may be performed by an apparatus for coupling the first carrier substrate 40 to the touch substrate 11. [ For example, the apparatus for coupling the first carrier substrate 40 to the touch substrate 11 may be configured similar to the coupling apparatus 30 (shown in FIG. 4) described above.

상기 터치기판에 제1캐리어기판을 결합시키는 공정(S50)은, 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 수행한 이후 및 상기 터치기판으로부터 보강기판을 분리하는 공정(S30)이 수행되기 이전에 수행될 수 있다.(S50) of bonding the first carrier substrate to the touch substrate is performed after the step (S40) of annealing the touch electrode and the step (S30) of separating the reinforcing substrate from the touch substrate are performed . ≪ / RTI >

이에 따라, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 수행한 후에 상기 터치기판에 제1캐리어기판을 결합시키는 공정(S50)을 수행함으로써, 상기 터치기판(11) 및 상기 제1캐리어기판(40) 간의 결합력을 강화할 수 있다. 상기 터치전극(12)을 어닐링 처리함에 따라 상기 터치전극(12)의 표면 조도(Roughness)를 증대시킴으로써, 표면이 거칠게 변화된 터치전극(12)으로 인해 상기 제1캐리어기판(40)이 상기 터치기판(11)에 강한 결합력으로 결합되기 때문이다. 즉, 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)은, 상기 터치패널(10)이 갖는 투과율 및 센싱감도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 상기 제1캐리어기판(40) 및 상기 터치기판(11) 간의 결합력을 강화시킬 수 있다.Accordingly, in the method of manufacturing a touch panel according to the present invention, after performing the step S40 of annealing the touch electrode, a step S50 of bonding the first carrier substrate to the touch substrate, 11 and the first carrier substrate 40 can be strengthened. The surface roughness of the touch electrode 12 is increased by increasing the surface roughness of the touch electrode 12 as the touch electrode 12 is annealed to increase the surface roughness of the first carrier substrate 40, (11) with a strong coupling force. That is, the step S40 of annealing the touch electrode may improve the transmittance and sensing sensitivity of the touch panel 10, and may also improve the transmittance and sensing sensitivity of the touch panel 10, Can be strengthened.

따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치기판으로부터 보강기판을 분리하는 공정(S30)을 수행하는 과정에서, 상기 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)이 결합된 상태로 유지되면서 상기 터치기판(11)으로부터 상기 보강기판(20)만 분리할 수 있다. 상기 터치전극을 어닐링 처리하는 공정(S40)을 통해, 상기 터치기판(11) 및 상기 제1캐리어기판(40)을 상기 터치기판(11) 및 상기 보강기판(20) 간의 결합력에 비해 더 큰 결합력으로 결합시킬 수 있기 때문이다.Therefore, in the process of separating the reinforcing substrate from the touch substrate (S30), the first carrier substrate (40) is coupled to the touch substrate (11) So that only the reinforcing substrate 20 can be separated from the touch substrate 11. The bonding force between the touch substrate 11 and the first carrier substrate 40 is greater than the bonding force between the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 through the step S40 of annealing the touch electrode. . ≪ / RTI >

이는 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리된 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 실시예 및 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리되지 않은 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 비교예 각각에 대해 상기 터치기판(11)과 상기 제1캐리어기판(40) 간의 결합력 및 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20) 간의 결합력을 측정한 아래 실험결과로부터 알 수 있다.This is because the first carrier substrate 40 is bonded to the touch substrate 11 on which the touch electrode 12 is annealed and the second carrier substrate 40 is bonded to the touch substrate 11 on which the touch electrode 12 is not annealed The bonding force between the touch substrate 11 and the first carrier substrate 40 and the bonding force between the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 were measured for each comparative example in which one carrier substrate 40 was bonded It can be seen from the experimental results below.

우선, 비교예 및 실시예에 대한 결합력 측정 실험은, 상기 제1캐리어기판(40)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때 상기 제1캐리어기판(40)에 가한 가압력 및 상기 보강기판(20)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때 상기 보강기판(20)에 가한 가압력을 측정함으로써 수행되었다. 상기 보강기판(20) 및 상기 제1캐리어기판(40)을 상기 터치기판으로부터 분리시키는 것은, 상기 터치기판(11)을 고정한 상태에서 상기 보강기판(20) 및 상기 제1캐리어기판(40) 각각을 가압핀으로 가압함으로써 수행하였다. 상기 보강기판(20) 및 상기 제1캐리어기판(40)에 가한 가압력은, 상기 보강기판(20) 및 상기 제1캐리어기판(40) 각각이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때 상기 가입핀에 제공한 힘을 측정함으로써 확인하였다.First, the binding force test for the comparative example and the example is performed by measuring the pressing force applied to the first carrier substrate 40 when the first carrier substrate 40 is detached from the touch substrate 11, ) Was separated from the touch substrate (11) by measuring the pressing force applied to the reinforcing substrate (20). The step of separating the reinforcing substrate 20 and the first carrier substrate 40 from the touch substrate is performed in a state in which the touch substrate 11 is fixed and the reinforcing substrate 20 and the first carrier substrate 40 Was pressed by a pressing pin. The pressing force applied to the reinforcing substrate 20 and the first carrier substrate 40 is set such that when the reinforcing substrate 20 and the first carrier substrate 40 are separated from the touch substrate 11, Was measured by measuring the force applied to the test piece.

다음, 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리되지 않은 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 비교예의 경우, 상기 보강기판(20)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때 상기 보강기판(20)에 가한 가압력은 0.1 ~ 0.2 kgf로 측정되었다. 상기 제1캐리어기판(40)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때, 상기 제1캐리어기판(40)에 가한 가압력은 0.1 ~ 0.2 kgf로 측정되었다.Next, in the case of a comparative example in which the first carrier substrate 40 is bonded to the touch substrate 11 to which the touch electrode 12 has not been annealed, the reinforcing substrate 20 is detached from the touch substrate 11 The pressing force applied to the reinforcing substrate 20 was measured at 0.1 to 0.2 kgf. When the first carrier substrate 40 is separated from the touch substrate 11, the pressing force applied to the first carrier substrate 40 is measured at 0.1 to 0.2 kgf.

이로부터 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리되지 않은 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 비교예는, 상기 터치기판(11)과 상기 제1캐리어기판(40) 간의 결합력 및 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20) 간의 결합력이 대략 일치함을 알 수 있다. 따라서, 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리되지 않은 터치기판(11)으로부터 상기 보강기판(20)을 분리하는 경우, 상기 제1캐리어기판(40)은 부분적으로 상기 터치기판(11)으로부터 분리됨으로써 손상 내지 파손될 수 있다. 또한, 상기 보강기판(20)은 부분적으로 상기 터치기판(11)으로부터 분리되지 못함으로써 손상 내지 파손될 수 있다.A comparative example in which the first carrier substrate 40 is bonded to the touch substrate 11 to which the touch electrode 12 has not been annealed is formed between the touch substrate 11 and the first carrier substrate 40 The bonding force and the bonding force between the touch substrate 11 and the reinforcing substrate 20 are substantially the same. Therefore, when the reinforcing substrate 20 is detached from the touch substrate 11 without the touch electrode 12, the first carrier substrate 40 is partly separated from the touch substrate 11 It may be damaged or broken. Also, the reinforcing substrate 20 can not be separated from the touch substrate 11 partially, and thus may be damaged or broken.

다음, 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리된 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 실시예의 경우, 상기 보강기판(20)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때 상기 보강기판(20)에 가한 가압력을 0.1 ~ 0.2 kgf로 측정되었다. 상기 제1캐리어기판(40)이 상기 터치기판(11)으로부터 분리될 때, 상기 제1캐리어기판(40)에 가한 가압력은 0.3 kgf로 측정되었다.Next, when the first carrier substrate 40 is coupled to the touch substrate 11 having the touch electrode 12 annealed, when the reinforcing substrate 20 is detached from the touch substrate 11 The pressing force applied to the reinforcing substrate 20 was measured at 0.1 to 0.2 kgf. When the first carrier substrate 40 was separated from the touch substrate 11, the pressing force applied to the first carrier substrate 40 was measured at 0.3 kgf.

이로부터 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리된 터치기판(11)에 상기 제1캐리어기판(40)을 결합시킨 실시예는, 상기 터치기판(11)과 상기 제1캐리어기판(40) 간의 결합력이 상기 터치기판(11)과 상기 보강기판(20) 간의 결합력에 비해 더 큼을 알 수 있다. 이에 따라, 상기 터치전극(12)이 어닐링 처리된 터치기판(11)으로부터 상기 보강기판(20)을 분리하는 경우, 상기 제1캐리어기판(40)은 상기 터치기판(11)에 결합된 상태로 유지될 수 있다. 또한, 상기 보강기판(20)은 상기 터치기판(11)으로부터 완전하게 분리될 수 있다.The embodiment in which the first carrier substrate 40 is coupled to the touch substrate 11 on which the touch electrode 12 has been annealed is characterized in that the bonding force between the touch substrate 11 and the first carrier substrate 40 Is greater than the bonding force between the touch substrate (11) and the reinforcing substrate (20). When the reinforcing substrate 20 is detached from the touch substrate 11 subjected to the annealing process by the touch electrode 12, the first carrier substrate 40 is coupled to the touch substrate 11 Can be maintained. Also, the reinforcing board 20 can be completely separated from the touch substrate 11.

따라서, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 상기 터치패널(10)을 제조하는 과정에서 상기 보강기판(20)이 손상 내지 파손되는 것을 방지함으로써, 상기 터치기판(11)으로부터 분리한 보강기판(20)을 다른 터치패널(10)을 제조하는데 재사용할 수 있도록 구현된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 터치패널 제조방법은 슬림 터치패널(10)을 제조하는 과정에서 상기 보강기판(20)에 대한 소모량을 줄임으로써, 공정 비용을 절감할 수 있다.Accordingly, the method of manufacturing a touch panel according to the present invention can prevent damage or breakage of the reinforcing board 20 in the process of manufacturing the touch panel 10, Can be reused to manufacture the other touch panel 10. Accordingly, the manufacturing method of the touch panel according to the present invention can reduce the process cost by reducing the consumption amount of the reinforcing substrate 20 in the process of manufacturing the slim touch panel 10.

도 8을 참고하면, 상기 터치기판으로부터 보강기판을 분리하는 공정(S30)은, 상기 터치기판(11)으로부터 상기 터치전극(12)을 분리시키기 위한 분리장치(50)에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 분리장치(50)는 제1스테이지(51), 제2스테이지(52), 밀폐기구(53), 승강기구(54), 및 분리기구(55)를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 터치기판으로부터 보강기판을 분리하는 공정(S30)은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.8, the step of separating the reinforcing substrate from the touch substrate S30 may be performed by a separating device 50 for separating the touch electrode 12 from the touch substrate 11. As shown in FIG. For example, the separating device 50 may include a first stage 51, a second stage 52, an airtight mechanism 53, an elevating mechanism 54, and a separating mechanism 55. In this case, the step of separating the reinforcing substrate from the touch substrate (S30) may include the following configuration.

우선, 상기 보강기판(20)을 고정한다. 이러한 공정은 상기 보강기판(20)이 흡착력, 정전력, 점착력 중 적어도 하나에 의해 상기 제1스테이지(51)에 고정됨으로써 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 터치기판(11)은 상기 제1캐리어기판(40)이 결합된 상태로 상기 보강기판(20)이 상기 제1스테이지(51)에 접촉됨으로써, 상기 제1스테이지(51)에 지지된 상태이다.First, the reinforcing substrate 20 is fixed. This process may be performed by fixing the reinforcing substrate 20 to the first stage 51 by at least one of an attraction force, an electrostatic force, and an adhesive force. In this case, the touch substrate 11 is supported by the first stage 51 by contacting the first stage 51 with the reinforcing substrate 20 in a state where the first carrier substrate 40 is engaged, Respectively.

다음, 상기 밀폐기구(53)를 상기 제1캐리어기판(40)에 접촉시킨다. 이러한 공정은 상기 승강기구(54)가 상기 밀폐기구(53)가 결합된 제2스테이지(52)를 하강시킴으로써 이루어질 수 있다. 상기 승강기구(54)는 상기 밀폐기구(53)가 상기 제1캐리어기판(40)에 접촉되면, 상기 제2스테이지(52)를 정지시킨다.Next, the sealing mechanism (53) is brought into contact with the first carrier substrate (40). This process may be performed by lowering the second stage 52 to which the closing mechanism 53 is coupled. The lift mechanism 54 stops the second stage 52 when the hermetic mechanism 53 contacts the first carrier substrate 40.

다음, 상기 보강기판(20)을 상기 터치기판(11)으로부터 분리한다. 이러한 공정은 상기 밀폐기구(53)가 상기 제1캐리어기판(40)에 접촉된 상태에서 상기 분리기구(55)가 유체를 흡입하여 상기 제1캐리어기판(40)을 상기 제2스테이지(52)에 흡착시킴으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치기판(11)은 상기 분리기구(55)에 의해 상기 제1캐리어기판(40)이 상기 제2스테이지(52)에 흡착됨에 따라 상기 보강기판(20)으로부터 분리된다.Next, the reinforcing substrate 20 is separated from the touch substrate 11. In this process, the separation mechanism 55 sucks the fluid to move the first carrier substrate 40 to the second stage 52 while the sealing mechanism 53 is in contact with the first carrier substrate 40, As shown in Fig. The touch substrate 11 is separated from the reinforcing substrate 20 as the first carrier substrate 40 is attracted to the second stage 52 by the separating mechanism 55.

이하에서는 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a method of manufacturing a display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 9 내지 도 12를 참고하면, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 터치기능을 갖는 디스플레이패널(100, 도 12에 도시됨)을 제조하기 위한 것이다. 상기 디스플레이패널(100)은 LCD, OLED, PDP, EPD 등의 디스플레이장치에 터치 기능을 구현할 수 있다. 이러한 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 다음과 같은 구성을 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 9 to 12, the method for manufacturing a display panel according to the present invention is for manufacturing a display panel 100 (shown in FIG. 12) having a touch function. The display panel 100 may implement a touch function for a display device such as an LCD, an OLED, a PDP, and an EPD. The display panel manufacturing method according to the present invention may include the following configuration.

우선, 상기 터치패널(10)을 제조한다(S100). 이러한 공정(S100)은, 상술한 본 발명에 따른 터치패널 제조방법을 수행함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치패널을 제조하는 공정(S100)에 따라 제조된 터치패널(10)은, 상기 터치기판(11)의 타면(11)에 상기 제1캐리어기판(40)이 결합된 것이다. 상기 터치패널(10)에서 상기 터치기판(11)의 타면 및 상기 제1캐리어기판(40) 사이에는 어닐링 처리된 터치전극(12)이 형성되어 있다.First, the touch panel 10 is manufactured (S100). This step (S100) can be performed by performing the above-described method of manufacturing a touch panel according to the present invention. The touch panel 10 manufactured in accordance with the step S100 of manufacturing the touch panel has the first carrier substrate 40 coupled to the other surface 11 of the touch substrate 11. An annealing-treated touch electrode 12 is formed between the other surface of the touch substrate 11 and the first carrier substrate 40 in the touch panel 10.

다음, 상기 터치패널(10)에 컬러필터층(210)을 형성한다(S210). 이러한 공정(S210)은 상기 터치기판(11)의 일면에 상기 컬러필터층(210)을 형성함으로써 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 터치패널에 컬러필터층(210)을 형성하는 공정은, 레드(Red), 그린(Green), 및 블루(Blue)를 포함하는 컬러필터층(210)을 상기 터치기판(11)의 타면에 형성함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치패널에 컬러필터층을 형성하는 공정(S210)을 수행함에 따라, 상기 디스플레이패널(100)을 제조하기 위한 상부기판(200)이 제조될 수 있다. 이 경우, 상기 터치기판(11)은 상기 디스플레이패널(100)에 터치 기능을 구현하는데 이용됨과 동시에 상기 디스플레이패널(100)을 구성하는 패널기판으로도 기능한다.Next, a color filter layer 210 is formed on the touch panel 10 (S210). This process (S210) may be performed by forming the color filter layer 210 on one surface of the touch substrate 11. [ For example, in the process of forming the color filter layer 210 on the touch panel, a color filter layer 210 including red, green, and blue is formed on the other surface of the touch substrate 11 . An upper substrate 200 for manufacturing the display panel 100 may be manufactured by performing a step S210 of forming a color filter layer on the touch panel. In this case, the touch substrate 11 is used to implement a touch function on the display panel 100 and also functions as a panel substrate constituting the display panel 100.

상기 터치패널에 컬러필터층을 형성하는 공정(S210)은, 상기 터치패널(10)에 상기 제1캐리어기판(40)이 결합된 상태에서 수행된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 상기 제1캐리어기판(40)에 의해 내구성이 보강된 터치패널(10)을 이용하여 상기 터치패널에 컬러필터층을 형성하는 공정(S210)을 수행할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 상기 터치기판(11)이 얇은 두께로 형성된 것이더라도, 상기 컬리필터층(210)을 형성하는 과정에서 상기 터치기판(11)이 쉽게 손상되는 것을 방지함으로써, 향상된 품질을 갖는 슬림 디스플레이패널(100)을 제조할 수 있다.The step of forming a color filter layer on the touch panel (S210) is performed in a state where the first carrier substrate (40) is coupled to the touch panel (10). Accordingly, in the method of manufacturing a display panel according to the present invention, a step S210 of forming a color filter layer on the touch panel using the touch panel 10 having durability enhanced by the first carrier substrate 40 is performed . Therefore, even if the touch substrate 11 is formed to have a small thickness, the method of manufacturing a display panel according to the present invention can prevent the touch substrate 11 from being easily damaged in the process of forming the curly filter layer 210, The slim display panel 100 having improved quality can be manufactured.

다음, 하부기판(300) 및 상기 상부기판(200)을 합착한다(S220). 이러한 공정(S220)은 상기 컬러필터층(210)을 갖는 상부기판(200) 및 박막트랜지스터 어레이를 갖는 하부기판(300)을 합착함으로써 이루어질 수 있다. 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)은 실런트(400)를 매개로 하여 합착될 수 있다. 도시되지 않았지만, 상기 하부기판 및 상부기판을 합착하는 공정(S220)은 합착장치에 의해 수행될 수 있다. 상기 합착장치는 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)을 가압함으로써, 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)을 합착할 수 있다. 상기 합착장치는 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)을 챔버 내부에 위치시킨 상태에서 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)을 서로 접촉시킨 후에, 상기 챔버 내부의 압력을 낮춤으로써, 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)을 합착할 수도 있다. 이 경우, 상기 합착장치는 상술한 결합장치(30, 도 4에 도시됨)와 유사하게 구성될 수 있다.Next, the lower substrate 300 and the upper substrate 200 are bonded together (S220). This step S220 may be performed by attaching the upper substrate 200 having the color filter layer 210 and the lower substrate 300 having the thin film transistor array. The upper substrate 200 and the lower substrate 300 may be bonded together via the sealant 400. Although not shown, the step S220 of bonding the lower substrate and the upper substrate may be performed by a lid. The upper and lower substrates 200 and 300 may be attached to each other by pressing the upper substrate 200 and the lower substrate 300. The cementing apparatus may contact the upper substrate 200 and the lower substrate 300 in a state where the upper substrate 200 and the lower substrate 300 are positioned inside the chamber, The upper substrate 200 and the lower substrate 300 may be bonded together. In this case, the cigarette lighter can be configured similar to the above-described coupling device 30 (shown in Fig. 4).

도시되지 않았지만, 상기 하부기판 및 상부기판을 합착하는 공정(S220)은 중간층을 형성하는 공정을 포함할 수 있다. 상기 중간층은 디스플레이장치의 종류에 따라 서로 다른 구성을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 디스플레이장치가 LCD인 경우, 상기 중간층은 액정(Liquid Crystal) 등을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이장치가 OLED인 경우, 상기 중간층은 형광성 유기화합물 등을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이장치가 PDP인 경우, 상기 중간층은 불활성기체 등을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이장치가 EPD인 경우, 상기 중간층은 전기영동 분산액 등을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 하부기판 및 상부기판을 합착하는 공정(S220)은 상기 하부기판(300) 상에 상기 중간층 및 실런트(400)를 형성한 후에, 상기 하부기판(300) 및 상기 상부기판(200)을 합착함으로써 이루어질 수 있다.Although not shown, the step of joining the lower substrate and the upper substrate (S220) may include a step of forming an intermediate layer. The intermediate layer may include different structures depending on the type of the display device. For example, when the display device is an LCD, the intermediate layer may include a liquid crystal or the like. When the display device is an OLED, the intermediate layer may include a fluorescent organic compound or the like. When the display device is a PDP, the intermediate layer may include an inert gas or the like. When the display device is an EPD, the intermediate layer may include an electrophoretic dispersion liquid or the like. In this case, the step S220 of attaching the lower substrate and the upper substrate may be performed by forming the intermediate layer and the sealant 400 on the lower substrate 300 and then bonding the lower substrate 300 and the upper substrate 200, As shown in Fig.

다음, 상기 제1캐리어기판(40)을 분리한다(S230). 이러한 공정(S230)은 상기 터치패널(100)로부터 상기 제1캐리어기판(40)을 분리함으로써 이루어질 수 있다. 상기 터치패널을 제조하는 공정(S100)에 있어서, 상술한 바와 같이 상기 제1캐리어기판(40)은 상기 보강기판(20)을 상기 터치기판(11)으로부터 분리하는 과정에서 손상 내지 파손되는 것이 방지된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 상기 터치패널(10)로부터 분리한 제1캐리어기판(40)을 다른 디스플레이패널(100)을 제조하는데 재사용할 수 있도록 구현된다. 따라서, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 디스플레이패널(100)을 제조하는 과정에서 상기 제1캐리어기판(40)에 대한 소모량을 줄임으로써, 공정 비용을 절감할 수 있다.Next, the first carrier substrate 40 is separated (S230). This step (S230) may be performed by separating the first carrier substrate (40) from the touch panel (100). In the step of manufacturing the touch panel (S100), as described above, the first carrier substrate 40 is prevented from being damaged or broken in the process of separating the reinforcing substrate 20 from the touch substrate 11 do. Accordingly, the method of manufacturing a display panel according to the present invention is implemented so that the first carrier substrate 40 separated from the touch panel 10 can be reused to manufacture another display panel 100. [ Therefore, the display panel manufacturing method according to the present invention can reduce the process cost by reducing the consumption amount of the first carrier substrate 40 in the process of manufacturing the display panel 100.

한편, 상기 제1캐리어기판(40)은 어닐링 처리된 터치전극(12)에 의해 상기 터치패널(10)에 상당한 결합력을 결합된 상태이지만, 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)은 실런트(400)를 매개로 합착된 상태이다. 따라서, 상기 상부기판(200) 및 상기 하부기판(300)은 상기 제1캐리어기판(40) 및 상기 터치패널(10) 간의 결합력에 비해 큰 결합력으로 합착된 상태이므로, 상기 제1캐리어기판(40)을 분리하는 과정에서 합착된 상태가 해제되는 것이 방지될 수 있다.The first and second carrier substrates 40 and 40 are bonded to the touch panel 10 by the annealed touch electrode 12 while the upper substrate 200 and the lower substrate 300 are bonded to each other, And the sealant 400 is interposed therebetween. Therefore, the upper substrate 200 and the lower substrate 300 are bonded together with a larger bonding force than the bonding force between the first carrier substrate 40 and the touch panel 10, so that the first carrier substrate 40 Can be prevented from being released from the joined state in the process of separating them.

상기 제1캐리어기판을 분리하는 공정(S230)은, 상기 터치패널(10)로부터 상기 제1캐리어기판(40)을 분리하는 장치에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 터치패널(10)로부터 상기 제1캐리어기판(40)을 분리하는 장치는 상술한 분리장치(50, 도 8에 도시됨)와 유사하게 구성될 수 있다.The step of separating the first carrier substrate (S230) may be performed by an apparatus for separating the first carrier substrate (40) from the touch panel (10). For example, an apparatus for separating the first carrier substrate 40 from the touch panel 10 may be configured similar to the above-described separating apparatus 50 (shown in Fig. 8).

도 9 내지 도 12를 참고하면, 상기 하부기판 및 상부기판을 합착하는 공정(S220)은 패널기판에 제2캐리어기판을 결합시키는 공정(S221), 및 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)을 포함할 수 있다.9 to 12, the step of joining the lower substrate and the upper substrate (S220) includes a step (S221) of bonding a second carrier substrate to a panel substrate, and a step (S222) of forming a thin film transistor array .

상기 패널기판에 제2캐리어기판을 결합시키는 공정(S221)은, 상기 패널기판(310)의 일면에 상기 제2캐리어기판(60)을 결합시킴으로써 이루어질 수 있다. 상기 패널기판(310)은 상기 하부기판(300)을 제조하기 위한 기판으로, 글래스로 제조된 기판일 수 있다. 상기 제2캐리어기판(60)은 글래스로 제조된 기판일 수 있다. 상기 제2캐리어기판(60)은 상기 패널기판(310)에 비해 두꺼운 두께를 갖는 기판일 수 있다. 예컨대, 상기 패널기판(310)은 0.2 mm의 두께를 갖는 기판이고, 상기 제2캐리어기판(60)은 0.5 mm의 두께를 갖는 기판일 수 있다. 상기 패널기판에 상기 제2캐리어기판을 결합시키는 공정(S221)은, 상기 패널기판(310)에 상기 제2캐리어기판(60)을 결합시키는 장치에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 패너기판(310)에 상기 제2캐리어기판(60)을 결합시키는 장치는 상술한 결합장치(30, 도 4에 도시됨)와 유사하게 구성될 수 있다.The step S221 of bonding the second carrier substrate to the panel substrate may be performed by coupling the second carrier substrate 60 to one surface of the panel substrate 310. [ The panel substrate 310 is a substrate for manufacturing the lower substrate 300, and may be a glass substrate. The second carrier substrate 60 may be a glass substrate. The second carrier substrate 60 may be a thicker substrate than the panel substrate 310. For example, the panel substrate 310 may be a substrate having a thickness of 0.2 mm, and the second carrier substrate 60 may be a substrate having a thickness of 0.5 mm. The step of joining the second carrier substrate to the panel substrate may be performed by an apparatus for coupling the second carrier substrate 60 to the panel substrate 310. For example, the apparatus for coupling the second carrier substrate 60 to the panner substrate 310 may be configured similar to the above-described coupling apparatus 30 (shown in Fig. 4).

상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)은, 상기 패널기판(310)의 타면 상에 상기 박막트랜지스터 어레이(320)를 형성함으로써 이루어질 수 있다. 상기 패널기판(310)의 타면은, 상기 패널기판(310)에서 상기 제2캐리어기판(60)이 결합된 일면에 대해 반대되는 면이다. 상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)은 상기 패널기판(310)에 상기 제2캐리어기판(60)이 결합된 상태에서 수행된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 상기 제2캐리어기판(60)에 의해 내구성이 보강된 패널기판(310)을 이용하여 상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)을 수행할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 상기 패널기판(310)이 얇은 두께로 형성된 것이더라도, 상기 박막트랜지스터 어레이(320)를 형성하는 과정에서 상기 패널기판(310)이 쉽게 손상되는 것을 방지함으로써, 향상된 품질을 갖는 슬림 디스플레이패널(100)을 제조할 수 있다.The step of forming the thin film transistor array S222 may be performed by forming the thin film transistor array 320 on the other surface of the panel substrate 310. [ The other surface of the panel substrate 310 is opposite to the surface of the panel substrate 310 where the second carrier substrate 60 is coupled. The step (S222) of forming the thin film transistor array is performed in a state where the second carrier substrate 60 is coupled to the panel substrate 310. Accordingly, the method of manufacturing a display panel according to the present invention can perform the step (S222) of forming the thin film transistor array using the panel substrate 310 having durability enhanced by the second carrier substrate 60 . Therefore, even if the panel substrate 310 is formed to have a small thickness, the method of manufacturing a display panel according to the present invention can prevent the panel substrate 310 from being easily damaged in the process of forming the TFT array 320 , A slim display panel 100 having an improved quality can be manufactured.

상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)은, 소정의 증착공정 및 소정의 식각공정을 통해 상기 패널기판(310) 상에 박막트랜지스터 어레이(320)을 형성함으로써 이루어질 수 있다. 상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)은, 상기 박막트랜지스터 어레이(320)를 형성하는 과정에서 상기 구동전극(TX 전극)을 함께 형성함으로써 이루어질 수도 있다.The step of forming the thin film transistor array S222 may be performed by forming the thin film transistor array 320 on the panel substrate 310 through a predetermined deposition process and a predetermined etching process. The step of forming the thin film transistor array (S222) may be performed by forming the driving electrodes (TX electrodes) together in the process of forming the thin film transistor array (320).

상기 패널기판에 제2캐리어기판을 결합시키는 공정(S221) 및 상기 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 공정(S222)을 수행함에 따라, 상기 디스플레이패널(100)을 제조하기 위한 하부기판(300)이 제조될 수 있다.A step S221 of bonding the second carrier substrate to the panel substrate and a step S222 of forming the thin film transistor array are performed to manufacture the lower substrate 300 for manufacturing the display panel 100 .

도 9 내지 도 12를 참고하면, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 제2캐리어기판을 분리하는 공정(S240)을 더 포함할 수 있다.9 to 12, the display panel manufacturing method according to the present invention may further include a step S240 of separating the second carrier substrate.

상기 제2캐리어기판을 분리하는 공정(S240)은, 상기 하부기판(300) 및 상기 상부기판(200)이 합착된 후에, 상기 하부기판(300)으로부터 상기 제2캐리어기판(60)을 분리함으로써 이루어질 수 있다. 상기 하부기판(300)으로부터 분리된 제2캐리어기판(60)은 다른 디스플레이패널(100)을 제조하는데 재사용될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법은 디스플레이패널(100)을 제조하는 과정에서 상기 제2캐리어기판(60)에 대한 소모량을 줄임으로써, 공정 비용을 절감할 수 있다.The step of separating the second carrier substrate S240 may be performed by separating the second carrier substrate 60 from the lower substrate 300 after the lower substrate 300 and the upper substrate 200 are bonded together Lt; / RTI > The second carrier substrate 60 separated from the lower substrate 300 may be reused to manufacture another display panel 100. Accordingly, the manufacturing cost of the display panel manufacturing method according to the present invention can be reduced by reducing the consumption of the second carrier substrate 60 in the process of manufacturing the display panel 100.

상기 제2캐리어기판을 분리하는 공정(S240)은, 상기 하부기판(300)으로부터 상기 제2캐리어기판(60)을 분리하는 장치에 의해 수행될 수 있다. 예컨대, 상기 하부기판(300)으로부터 상기 제2캐리어기판(60)을 분리하는 장치는 상술한 분리장치(50, 도 8에 도시됨)와 유사하게 구성될 수 있다.The step of separating the second carrier substrate (S240) may be performed by an apparatus for separating the second carrier substrate (60) from the lower substrate (300). For example, an apparatus for separating the second carrier substrate 60 from the lower substrate 300 may be configured similar to the above-described separating apparatus 50 (shown in Fig. 8).

이하에서는 본 발명에 따른 디스플레이패널의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of a display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 12를 참고하면, 본 발명에 따른 디스플레이패널(100)은 상술한 본 발명에 따른 디스플레이패널 제조방법을 수행함에 따라 제조될 수 있다. 본 발명에 따른 디스플레이패널(100)은 상기 패널기판(310), 상기 터치기판(11), 및 상기 터치전극(12)을 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 12, the display panel 100 according to the present invention can be manufactured by performing the method of manufacturing a display panel according to the present invention described above. The display panel 100 according to the present invention includes the panel substrate 310, the touch substrate 11, and the touch electrode 12.

상기 패널기판(310)은 상기 터치기판(11)에 결합된다. 상기 패널기판(310)에는 상기 박막트랜지스터 어레이(320)가 형성된다. 상기 박막트랜지스터 어레이(320)는 상기 패널기판(310) 및 상기 터치기판(11) 사이에 위치되게 상기 패널기판(310)에 형성된다. 상기 패널기판(310)에는 상기 박막트랜지스터 어레이(320) 및 상기 구동전극(TX 전극)이 형성될 수도 있다.The panel substrate 310 is coupled to the touch substrate 11. The thin film transistor array 320 is formed on the panel substrate 310. The thin film transistor array 320 is formed on the panel substrate 310 between the panel substrate 310 and the touch substrate 11. The thin film transistor array 320 and the driving electrode (TX electrode) may be formed on the panel substrate 310.

상기 터치기판(11)은 상기 패널기판(310)에 결합된다. 상기 터치기판(11) 및 상기 패널기판(310) 사이에는 상기 중간층이 형성될 수 있다. 이 경우, 중간층은 상기 패널기판(310) 상에 위치되고, 상기 터치기판(11)은 상기 중간층 상에 형성될수 있다. 상기 터치기판(11)에는 상기 컬러필터층(210)이 형성될 수도 있다. 상기 컬러필터층(210)은 패널기판(310) 및 상기 터치기판(11) 사이에 위치되게 형성될 수 있다. 상기 중간층이 구비되는 경우, 상기 컬러필터층(210)은 상기 중간층 및 상기 터치기판(11) 사이에 위치될 수 있다.The touch substrate 11 is coupled to the panel substrate 310. The intermediate layer may be formed between the touch substrate 11 and the panel substrate 310. In this case, the intermediate layer may be positioned on the panel substrate 310, and the touch substrate 11 may be formed on the intermediate layer. The color filter layer 210 may be formed on the touch substrate 11. The color filter layer 210 may be positioned between the panel substrate 310 and the touch substrate 11. When the intermediate layer is provided, the color filter layer 210 may be positioned between the intermediate layer and the touch substrate 11. [

상기 터치전극(12)은 상기 터치기판(11) 상에 형성된다. 상기 터치기판(11)은 상기 패널기판(310) 및 상기 터치전극(12) 사이에 위치될 수 있다. 상기 터치전극(12)은 상기 수신전극(RX 전극)일 수 있다. 상기 터치전극(12)은 상기 수신전극(RX 전극) 및 구동전극(TX 전극)을 포함할 수도 있다.The touch electrode 12 is formed on the touch substrate 11. The touch substrate 11 may be positioned between the panel substrate 310 and the touch electrode 12. [ The touch electrode 12 may be the receiving electrode (RX electrode). The touch electrode 12 may include the receiving electrode (RX electrode) and the driving electrode (TX electrode).

상기 터치전극(12)은 상기 터치기판(11) 상에 형성된 후에, 어닐링 처리됨으로써 형성될 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 디스플레이패널(100)은 상기 터치전극(12)이 갖는 투과율을 향상시킴으로써, 디스플레이장치가 표시하는 영상의 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 디스플레이패널(100)은 상기 터치전극(12)이 갖는 저항을 낮춤으로써, 디스플레이장치에 부가된 터치 기능에 대한 센싱감도를 향상시킬 수 있다.The touch electrode 12 may be formed on the touch substrate 11 and then annealed. Accordingly, the display panel 100 according to the present invention can improve the quality of the image displayed by the display device by improving the transmittance of the touch electrode 12. In addition, the display panel 100 according to the present invention can improve the sensing sensitivity of the touch function added to the display device by lowering the resistance of the touch electrode 12.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

10 : 터치패널 11 : 터치기판
12 : 터치전극 20 : 보강기판
30 : 결합장치 40 : 제1캐리어기판
50 : 분리장치 60 : 제2캐리어기판
200 : 상부기판 300 : 하부기판
10: touch panel 11: touch substrate
12: touch electrode 20: reinforcing substrate
30: coupling device 40: first carrier substrate
50: separator 60: second carrier substrate
200: upper substrate 300: lower substrate

Claims (10)

터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계;
상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계;
상기 터치전극의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링(Anealing) 처리하는 단계;
상기 터치기판의 타면에 제1캐리어기판을 결합시키는 단계; 및
상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계를 포함하고,
상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는 상기 터치기판의 타면에 상기 제1캐리어기판을 결합시키기 전에 상기 터치기판 및 상기 제1캐리어기판 간의 결합력이 상기 터치기판 및 상기 보강기판 간의 결합력보다 크도록 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링 처리하는 것을 특징으로 하는 터치패널 제조방법.
A method for manufacturing a touch panel, comprising: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel;
Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled;
Annealing the touch electrode formed on the other surface of the touch electrode;
Coupling a first carrier substrate to the other surface of the touch substrate; And
And separating the reinforcing substrate from the touch substrate,
Wherein the step of annealing the touch electrode is performed such that the bonding force between the touch substrate and the first carrier substrate is greater than the bonding force between the touch substrate and the reinforcing substrate before the first carrier substrate is bonded to the other surface of the touch substrate, And annealing the touch electrode formed on the other surface of the substrate.
터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계;
상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계; 및
상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.
A method for manufacturing a touch panel, comprising: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel;
Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled; And
And separating the reinforcing substrate from the touch substrate.
제2항에 있어서,
상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널 제조방법.
3. The method of claim 2,
And annealing the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate.
제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는, 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 150도 이상 230도 이하의 온도로 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널 제조방법.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the step of annealing the touch electrode includes a step of heating the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate to a temperature of 150 ° C to 230 ° C.
제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는, 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 150도 이상 230도 이하의 온도로 1000초 동안 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널 제조방법.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the step of annealing the touch electrode comprises heating the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate to a temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for 1000 seconds.
터치패널을 제조하기 위한 터치기판의 일면에 보강기판을 결합시키는 단계;
상기 보강기판이 결합된 터치기판의 타면 상에 터치전극을 형성하는 단계;
상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 어닐링 처리하는 단계;
상기 터치기판의 타면에 제1캐리어기판을 결합시키는 단계;
상기 터치기판으로부터 상기 보강기판을 분리하는 단계;
상기 제1캐리어기판이 결합된 터치패널 상에 컬러필터층을 형성하여 상부기판을 제조하는 단계;
박막트랜지스터 어레이를 갖는 하부기판 및 상기 상부기판을 합착하는 단계; 및
상기 상부기판으로부터 상기 제1캐리어기판을 분리하는 단계를 포함하는 디스플레이패널 제조방법.
A method for manufacturing a touch panel, comprising: bonding a reinforcing substrate to one surface of a touch substrate for manufacturing a touch panel;
Forming a touch electrode on the other surface of the touch substrate to which the reinforcing substrate is coupled;
Annealing the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate;
Coupling a first carrier substrate to the other surface of the touch substrate;
Separating the reinforcing substrate from the touch substrate;
Forming a color filter layer on a touch panel to which the first carrier substrate is coupled to manufacture an upper substrate;
Depositing a lower substrate having a thin film transistor array and the upper substrate; And
And separating the first carrier substrate from the upper substrate.
제6항에 있어서,
상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는, 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 150도 이상 230도 이하의 온도로 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이패널 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the step of annealing the touch electrode includes a step of heating the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate to a temperature of 150 ° C to 230 ° C.
제6항에 있어서,
상기 터치전극을 어닐링 처리하는 단계는, 상기 터치기판의 타면 상에 형성된 터치전극을 150도 이상 230도 이하의 온도로 1000초 동안 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이패널 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the step of annealing the touch electrode comprises heating the touch electrode formed on the other surface of the touch substrate to a temperature of 150 ° C. to 230 ° C. for 1000 seconds.
제6항에 있어서,
상기 하부기판 및 상기 상부기판을 합착하는 단계는, 상기 하부기판을 제조하기 위한 패널기판의 일면에 제2캐리어기판을 결합시키는 단계, 및 상기 제2캐리어기판이 결합된 패널기판의 타면 상에 박막트랜지스터 어레이를 형성하는 단계를 포함하고;
상기 하부기판 및 상기 상부기판이 합착된 후에 상기 하부기판으로부터 상기 제2캐리어기판을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이패널 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the step of bonding the lower substrate and the upper substrate comprises the steps of: bonding a second carrier substrate to one surface of a panel substrate for manufacturing the lower substrate; and bonding the second carrier substrate to the other surface of the panel substrate, Forming a transistor array;
And separating the second carrier substrate from the lower substrate after the lower substrate and the upper substrate are bonded together.
박막트랜지스터 어레이가 형성된 패널기판;
상기 패널기판에 결합된 터치기판; 및
상기 터치기판 상에 어닐링 처리되어 형성된 터치전극을 포함하는 디스플레이패널.
A panel substrate on which a thin film transistor array is formed;
A touch substrate coupled to the panel substrate; And
And a touch electrode formed on the touch substrate by annealing.
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