KR20150065283A - Thin layers deposition apparatus - Google Patents

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Abstract

A thin layer deposition apparatus is disclosed. A thin layer deposition apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a process chamber in which a deposition process for a substrate proceeds; a deposition material source unit arranged inside the process chamber and spraying a deposition material toward the substrate; and a monitoring unit separated from the deposition material source unit, and arranged toward the deposition material source unit to monitor the deposition material source unit.

Description

박막 증착 장치{THIN LAYERS DEPOSITION APPARATUS}[0001] THIN LAYERS DEPOSITION APPARATUS [0002]

본 발명은, 박막 증착 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 공정챔버 내부의 증착물질소스유닛을 모니터링하여 노즐의 막힘 여부를 파악할 수 있는 박막 증착 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film deposition apparatus, and more particularly, to a thin film deposition apparatus capable of monitoring whether a nozzle is clogged by monitoring a deposition material source unit in the process chamber.

일반적으로 기판이라 함은, 플라즈마 디스플레이(PDP, Plasma Display Panel), 액정디스플레이(LCD, Liquid Crystal Display) 및 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes)과 같은 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display), 반도체용 웨이퍼(wafer), 포토 마스크용 글라스(glass) 등을 가리킨다.In general, the substrate refers to a flat panel display (FPD) such as a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), and organic light emitting diodes (OLED) Semiconductor wafers, photomask glass, and the like.

여기서, 평판표시소자(FPD)로서의 기판과, 반도체용 웨이퍼로서의 기판은 상호간 재질적인 면이나, 용도 등에서 차이가 있지만, 기판들에 대한 일련의 처리 공정, 예를 들어 노광, 현상, 에칭, 스트립, 린스, 세정 등의 공정은 실질적으로 매우 흡사하며, 이 공정들이 순차적으로 진행됨으로써 기판이 제조된다.Here, the substrate as the flat panel display element (FPD) and the substrate as the wafer for semiconductor are different from each other in terms of material, use, and the like, but a series of processing steps for the substrates, for example, exposure, development, etching, strip, The processes such as rinsing, cleaning and the like are substantially very similar, and the substrates are produced by sequentially progressing these processes.

그리고, 평판표시소자(FPD) 중에서 요즘에 각광받고 있는 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답 속도를 갖고 있고, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 디스플레이 장치로서 주목받고 있다. An organic light emitting display (OLED), which is currently popular among flat panel display devices (FPDs), is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of organic materials. And has a wide viewing angle and a fast response speed, and has been attracting attention as a next-generation promising display device because of its simple structure and high light efficiency.

이러한 OLED는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있는데, 여기서, 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자주입층을 더 포함할 수 있다.The OLED includes an anode, a cathode, and organic layers interposed between the anode and the cathode. Here, the organic layers include at least a light emitting layer, and a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, .

그리고, OLED는 유기막 특히, 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기발광소자와 저분자 유기발광소자로 나누어질 수 있다. The OLED can be divided into a polymer organic light emitting device and a low molecular weight organic light emitting device depending on an organic film, especially a material forming the light emitting layer.

또한, OLED에서 풀 칼라(full color)를 구현하기 위해서는 발광층을 패터닝해야 하는데, 대형 OLED를 제작하는 방식으로는 FMM(Fine Metal Mask, 이하 마스크라 함)을 이용한 직접 패터닝 방식과 LITI(Laser Induced Thermal Imaging) 공법을 적용한 방식, 컬러 필터(color filter)를 이용하는 방식 등이 있다.In order to realize a full color in an OLED, a light emitting layer must be patterned. As a method of manufacturing a large OLED, a direct patterning method using a fine metal mask (hereinafter referred to as FMM) and a laser induced thermal Imaging method, and a method using a color filter.

그리고, OLED의 제조공정은 크게 패턴(Pattern) 형성 공정, 박막 증착 공정, 봉지 공정, 그리고 유기박막이 증착된 기판과 봉지 공정을 거친 기판을 붙이는 합착 공정이 있다.The manufacturing process of the OLED includes a pattern forming process, a thin film deposition process, a sealing process, and a bonding process in which a substrate having an organic thin film deposited thereon and a sealing process are attached to the substrate.

여기서, 박막 증착 공정은 증착원에 구비된 증착물질을 기판에 부착시키는 공정으로, 증착원에는, 점 형상의 개구로부터 기체 분자를 분출함으로써 기체 분자를 기판에 부착시키는 포인트 소스형의 증착원과, 포인트 소스형의 증착원을 어레이 형상으로 복수 개 배치하는 것을 통해 실현되는 개구 또는 직사각형의 개구로부터 기체 분자를 분출함으로써 기체 분자를 기판에 부착시키는 리니어 소스형의 증착원이 존재하는데, 리니어 소스형의 증착원은 소스 어셈블리(source assembly)의 형태로 공정 챔버의 일측에 마련된다. Here, the thin film deposition process is a process of attaching the evaporation material provided in the evaporation source to the substrate. The evaporation source includes a point source type evaporation source for adhering gas molecules to the substrate by ejecting gas molecules from the point- There is a linear source type evaporation source for adhering gas molecules to a substrate by ejecting gas molecules from an opening or a rectangular opening realized by arranging a plurality of point source type evaporation sources in an array shape, The evaporation source is provided on one side of the process chamber in the form of a source assembly.

한편, 증착물질을 분사하는 증착원에는 분사노즐이 구비되어 있는데, 분사노즐에 노즐막힘이 발생되면 증착의 균일성을 유지할 수 없어 기판의 불량이 발생되는 문제점이 있다.On the other hand, the deposition source for spraying the deposition material is provided with the injection nozzle. If nozzle clogging occurs in the injection nozzle, the uniformity of the deposition can not be maintained and the substrate is defective.

대한민국공개특허 공개번호:제10-2002-0086502호(공개일자:2002년11월18일)Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2002-0086502 (Publication date: November 18, 2002)

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 공정챔버 내부의 증착물질소스유닛을 모니터링하여 노즐의 막힘 여부를 파악할 수 있으며, 이를 통해, 기판 불량을 방지하여 생산성과 효율성을 향상시킬 수 있는 박막 증착 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a thin film deposition apparatus capable of monitoring a deposition source unit in a process chamber to determine whether a nozzle is clogged, thereby improving productivity and efficiency by preventing substrate failure .

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판에 대한 증착 공정이 진행되는 공정챔버; 상기 공정챔버 내부에 배치되어 상기 기판을 향해 증착물질을 분사하는 증착물질소스유닛; 및 상기 증착물질소스유닛으로부터 이격되고 상기 증착물질소스유닛을 향하도록 배치되어 상기 증착물질소스유닛을 모니터링하는 모니터링유닛을 포함하는 박막 증착 장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a process chamber in which a deposition process for a substrate proceeds; A deposition material source unit disposed inside the process chamber and for spraying a deposition material toward the substrate; And a monitoring unit arranged to face the deposition material source unit and to monitor the deposition material source unit, the deposition unit being spaced apart from the deposition material source unit.

또한, 상기 모니터링유닛은, 상기 모니터링유닛에 묻게 되는 상기 증착물질을 가열하도록 가열유닛을 포함할 수 있다.In addition, the monitoring unit may include a heating unit for heating the deposition material to be buried in the monitoring unit.

그리고, 상기 증착물질소스유닛은, 상기 증착물질을 공급하는 증착물질공급유닛; 및 상기 증착물질공급유닛에 결합되며, 상기 기판을 향하도록 배치되어 상기 기판에 상기 증착물질을 분사하는 증착물질분사노즐을 포함할 수 있다.The deposition material source unit may further include: a deposition material supply unit for supplying the deposition material; And a deposition material spray nozzle coupled to the deposition material supply unit and disposed to face the substrate, for spraying the deposition material onto the substrate.

또한, 상기 모니터링유닛은, 상기 증착물질소스유닛측을 향하도록 배치되는 하우징; 상기 하우징 내부에 설치되며, 상기 증착물질분사노즐을 모니터링하는 카메라유닛; 및 상기 카메라유닛의 전면부에 배치되어 상기 하우징에 결합되는 견시창(見視窓)을 더 포함하며, 상기 가열유닛은, 상기 견시창의 표면에 묻어 있는 상기 증착물질을 증발시키도록 상기 견시창으로부터 이격되어 배치될 수 있다.The monitoring unit may further include: a housing disposed toward the deposition material source unit side; A camera unit installed in the housing for monitoring the deposition material spray nozzle; And a viewing window disposed in a front portion of the camera unit and coupled to the housing, wherein the heating unit is configured to move the viewing window to evaporate the deposition material on the surface of the window, As shown in FIG.

그리고, 상기 견시창은, 상기 하우징에 고정결합되는 제1견시창; 및 상기 제1견시창으로부터 이격되어 회전가능하게 배치되는 제2견시창을 포함할 수 있다.The first window may be fixedly coupled to the housing. And a second viewing window rotatably disposed away from the first viewing window.

또한, 상기 제2견시창의 일측에 배치되는 셔터유닛을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a shutter unit disposed on one side of the second prism window.

그리고, 상기 제2견시창의 타측에는, 상기 가열유닛이 이격되어 배치될 수 있다.And, on the other side of the second prism window, the heating unit can be disposed apart.

또한, 상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 외부로 유출되는 것을 방지하기 위해, 상기 가열유닛을 감싸도록 마련되는 리플렉터를 더 포함할 수 있다.The heating unit may further include a reflector provided to surround the heating unit to prevent heat emitted from the heating unit from flowing out to the outside.

그리고, 상기 하우징과 상기 견시창 사이에 배치되는 쿨링플레이트를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a cooling plate disposed between the housing and the window glass.

또한, 상기 쿨링플레이트는 수냉식(水冷式) 또는 공냉식(空冷式)으로 마련될 수 있다.The cooling plate may be water-cooled (water-cooled) or air-cooled (air-cooled).

그리고, 상기 견시창에 결합되어 상기 증착물질이 상기 견시창에 묻는 것을 방지하도록 마련되는 견시창쉴드를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a silencer which is coupled to the silencer to prevent the silencer from being deposited on the silencer.

또한, 상기 모니터링유닛은, 상기 증착물질소스유닛측을 향하도록 배치되는 하우징; 상기 하우징 내부에 설치되며, 상기 증착물질분사노즐을 모니터링하는 카메라유닛; 및 상기 카메라유닛의 전면부에 배치되어 상기 하우징에 결합되되 내측홈이 형성되는 견시창(見視窓)을 더 포함하며, 상기 가열유닛은 상기 견시창에 형성된 상기 내측홈에 삽입될 수 있다.The monitoring unit may further include: a housing disposed toward the deposition material source unit side; A camera unit installed in the housing for monitoring the deposition material spray nozzle; And a viewing window disposed at a front portion of the camera unit and coupled to the housing, wherein an inner groove is formed, and the heating unit can be inserted into the inner groove formed in the window.

그리고, 상기 가열유닛이 삽입된 상기 내측홈이 세라믹 몰딩되도록 마련될 수 있다.The inner groove into which the heating unit is inserted may be ceramic-molded.

또한, 상기 가열유닛이 삽입된 상기 내측홈에 배치되며, 상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 상기 견시창으로 반사되도록 마련되는 삽입배치반사판을 포함할 수 있다.In addition, the heating unit may include an insertion placement reflector disposed in the inner groove into which the heating unit is inserted, and the heat emitted from the heating unit is reflected by the window.

그리고, 상기 하우징과 상기 견시창 사이에 배치되며, 상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 상기 견시창으로 반사되도록 마련되는 사이배치반사판을 포함할 수 있다.An interposed reflector may be disposed between the housing and the window glass to reflect the heat emitted from the heating unit to the window.

또한, 상기 하우징은 인바(Invar) 또는 스테인레스 스틸로 마련되어 상기 견시창에 결합될 수 있다.The housing may be formed of Invar or stainless steel and may be coupled to the window.

본 발명의 실시예들은, 공정챔버 내부의 증착물질소스유닛을 모니터링하여 노즐의 막힘 여부를 파악할 수 있으며, 이를 통해, 기판 불량을 방지하여 생산성과 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Embodiments of the present invention can monitor whether a nozzle is clogged by monitoring a deposition material source unit in a process chamber, thereby preventing substrate failure and improving productivity and efficiency.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치의 개략적인 구조도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 셔터유닛이 폐쇄되어 있는 모니터링유닛의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 셔터유닛이 개방되어 있는 모니터링유닛의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 모니터링유닛의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 모니터링유닛에 견시창쉴드가 결합된 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 박막 증착 장치에서 모니터링유닛의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic structural view of a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of a monitoring unit in which a shutter unit is closed in a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a monitoring unit in which a shutter unit is opened in a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of a monitoring unit in the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a perspective view of a monitoring unit in a thin-film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention, in which a shield is attached. FIG.
6 is a schematic cross-sectional view of a monitoring unit in a thin film deposition apparatus according to a second embodiment of the present invention.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

본 명세서에서 사용되는 '일측'과 '타측'의 용어는 특정된 측면을 의미할 수도 있고, 또는, 특정된 측면을 의미하는 것이 아니라 복수의 측면 중 임의의 측면을 일측이라 지칭하면, 이에 대응되는 다른 측면을 타측이라 지칭하는 것으로 이해되어질 수 있음을 밝혀 둔다.The terms " one side " and " other side " used in this specification may mean a specified side, or do not mean a specified side, but any side of a plurality of sides may be referred to as one side, And the other side is referred to as the other side.

또한, 본 명세서에서 사용되는 '연결'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재를 직접 연결하는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 이음부재를 통해 다른 부재에 간접적으로 연결되는 경우도 포함됨을 밝혀 둔다.Further, it is to be noted that the term " connection " as used herein includes not only a case where one member is directly connected to another member but also a case where one member is indirectly connected to another member through a coupling member.

본 명세서에서 사용되는 기판은 평면디스플레이용 기판을 의미하는데, 평면디스플레이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다. As used herein, the substrate refers to a substrate for a flat display. The flat display may be an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel), or an OLED (Organic Light Emitting Diodes).

다만, 본 실시예에서는 설명의 편의를 위해, OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 단순히 기판으로 설명하도록 한다.However, in this embodiment, for convenience of explanation, a glass substrate for OLED (Organic Light Emitting Diodes) will be simply described as a substrate.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치의 개략적인 구조도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 셔터유닛이 폐쇄되어 있는 모니터링유닛의 사시도이며, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 셔터유닛이 개방되어 있는 모니터링유닛의 사시도이고, 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 모니터링유닛의 단면도이며, 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에서 모니터링유닛에 견시창쉴드가 결합된 사시도이다.FIG. 1 is a schematic structural view of a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a monitoring unit in which a shutter unit is closed in a thin film deposition apparatus according to a first embodiment of the present invention, 3 is a perspective view of a monitoring unit in which the shutter unit is opened in the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, FIG. 4 is a cross-sectional view of the monitoring unit in the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, 5 is a perspective view of the monitoring unit of the thin film deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, in which a silencer shield is coupled.

이들 도면을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치(100)는, 기판(800)에 대한 증착 공정이 진행되는 공정챔버(200)와, 공정챔버(200) 내부에 배치되어 기판(800)을 향해 증착물질(900)을 분사하는 증착물질소스유닛(300)과, 증착물질소스유닛(300)으로부터 이격되고 증착물질소스유닛(300)을 향하도록 배치되어 증착물질소스유닛(300)을 모니터링하는 모니터링유닛(400)을 포함한다.Referring to these drawings, a thin film deposition apparatus 100 according to a first embodiment of the present invention includes a process chamber 200 in which a deposition process is performed on a substrate 800, A deposition material source unit 300 for injecting an evaporation material 900 toward the substrate 800 and a deposition material source unit 300 spaced from the deposition material source unit 300 and oriented toward the deposition material source unit 300, And a monitoring unit (400) for monitoring the monitoring device (300).

도 1을 참조하면, 공정챔버(200)는 기판(800)의 증착 공정이 진행되도록 마련된다. 즉, 공정챔버(200)에 기판(800)이 배치되면, 증착물질소스유닛(300)이 기판(800)을 향해 증착물질(900)을 분사하게 된다.Referring to FIG. 1, the process chamber 200 is provided so that the deposition process of the substrate 800 proceeds. That is, when the substrate 800 is disposed in the process chamber 200, the deposition material source unit 300 sprays the deposition material 900 toward the substrate 800.

여기서, 공정챔버(200)의 내부는 기판(800)에 대한 증착 공정이 신뢰성 있게 진행될 수 있도록 진공 분위기를 형성한다. Here, the inside of the process chamber 200 forms a vacuum atmosphere so that the deposition process for the substrate 800 can be performed reliably.

이를 위해, 공정챔버(200)의 일측에는 공정챔버(200)의 내부를 진공 분위기로 유지하기 위한 수단으로서 진공 펌프(미도시)가 연결될 수 있다. 여기서, 진공 펌프(미도시)는 소위, 터보 펌프일 수 있다.To this end, a vacuum pump (not shown) may be connected to one side of the process chamber 200 as a means for maintaining the inside of the process chamber 200 in a vacuum atmosphere. Here, the vacuum pump (not shown) may be a so-called turbo pump.

도 1을 참조하면, 증착물질소스유닛(300)은 공정챔버(200) 내부에 배치되어 기판(800)을 향해 증착물질(900)을 분사하도록 마련된다.Referring to FIG. 1, a deposition material source unit 300 is disposed inside the process chamber 200 and is provided to spray the deposition material 900 toward the substrate 800.

여기서, 본 실시예의 경우, 기판(800)이 증착물질소스유닛(300)의 상측에 수평으로 배치되고 증착물질소스유닛(300)으로부터 상측의 기판(800)을 향하여 증착물질(900)을 분사하는 것을 통해 증착 공정이 진행되는 수평식 상향 증착 방식이 제시되고 있다.Here, in this embodiment, the substrate 800 is horizontally disposed on the upper side of the deposition material source unit 300 and the deposition material 900 is sprayed from the deposition material source unit 300 toward the upper substrate 800 A horizontal upward deposition method in which a deposition process is performed is proposed.

하지만, 기판(800)을 비롯하여 마스크 등의 구성들이 수직하게 또는 비스듬히 경사지게 세워져 배치된 후 증착되는 수직식 증착 방식에 대해서도 본 발명의 권리범위가 적용될 수 있을 것이다.However, the scope of the present invention may be applied to a vertical deposition method in which the substrate 800, the mask, and the like are vertically or obliquely inclined and then deposited.

그리고, 증착물질소스유닛(300)은 증착물질공급유닛(310)과, 증착물질분사노즐(320)을 포함하여 구성될 수 있다.The deposition material source unit 300 may include a deposition material supply unit 310 and a deposition material injection nozzle 320.

도 1을 참조하면, 증착물질공급유닛(310)은 증착물질분사노즐(320)에 결합되어 증착물질분사노즐(320)로 증착물질(900)을 공급하도록 마련된다.Referring to FIG. 1, a deposition material supply unit 310 is coupled to a deposition material injection nozzle 320 to supply a deposition material 900 to a deposition material injection nozzle 320.

그리고, 증착물질분사노즐(320)은 증착물질공급유닛(310)에 결합되어 기판(800)을 향하도록 배치되며, 기판(800)에 증착물질(900)을 분사하도록 마련된다. 그런데, 증착물질분사노즐(320)을 통해 증착물질(900)이 분사되므로 증착물질분사노즐(320)에는 공정에 사용되지 못한 증착물질(900)이 남아 있을 수 있으며, 이에 의해, 증착물질분사노즐(320)이 막힐 수 있다.The deposition material injection nozzle 320 is coupled to the deposition material supply unit 310 and is disposed to face the substrate 800 and is provided to spray the deposition material 900 on the substrate 800. Since the deposition material 900 is sprayed through the deposition material injection nozzle 320, the deposition material 900 not used in the process may remain in the deposition material injection nozzle 320, Lt; RTI ID = 0.0 > 320 < / RTI >

여기서, 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치(100)는 모니터링유닛(400)을 구비하여 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있는 바, 이하, 이에 대해 상세히 설명한다.Here, the thin film deposition apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention includes the monitoring unit 400 to determine whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged or not, which will be described in detail below.

도 1을 참조하면, 모니터링유닛(400)은 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있도록, 증착물질소스유닛(300)으로부터 이격되어 증착물질소스유닛(300)을 향하도록 배치될 수 있다.Referring to FIG. 1, the monitoring unit 400 may be disposed to face the deposition material source unit 300, spaced apart from the deposition material source unit 300, so as to grasp whether or not the deposition material injection nozzle 320 is blocked. have.

즉, 모니터링유닛(400)을 통해 실시간 또는 필요시마다 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하게 되어 증착물질분사노즐(320)에 노즐 막힘을 파악할 수 있게 된다.That is, the monitoring unit 400 monitors the deposition material spraying nozzles 320 in real time or whenever necessary, so that the clogging of the nozzles in the deposition material spraying nozzles 320 can be grasped.

여기서, 도 2 내지 도 4를 참조하면, 모니터링유닛(400)은 하우징(410)과, 카메라유닛(420)과, 견시창(見視窓,430)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIGS. 2 to 4, the monitoring unit 400 may include a housing 410, a camera unit 420, and a viewing window 430.

도 1 및 도 2를 참조하면, 모니터링유닛(400)에서 하우징(410)은 증착물질소스유닛(300)측을 향하도록 배치될 수 있다. Referring to FIGS. 1 and 2, in the monitoring unit 400, the housing 410 may be disposed to face the deposition material source unit 300 side.

여기서, 하우징(410)은 공정챔버(200) 외부에 배치될 수도 있고, 또는, 하우징(410)의 일부가 공정챔버(200) 외부에 배치되고, 하우징(410)의 나머지 부분은 공정챔버(200) 내부에 배치되도록 마련될 수도 있다.Herein, the housing 410 may be disposed outside the process chamber 200, or a portion of the housing 410 may be disposed outside the process chamber 200, and the remaining portion of the housing 410 may be disposed outside the process chamber 200 As shown in FIG.

그리고, 도 4를 참조하면, 카메라유닛(420)은 하우징(410) 내부에 설치되며, 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하도록 마련될 수 있다. 그리고, 카메라유닛(420)은 초점이 증착물질분사노즐(320)을 향하도록 기울기의 조절이 가능하게 마련될 수 있다.4, the camera unit 420 is installed inside the housing 410, and may be provided to monitor the evaporation material injection nozzle 320. In addition, the camera unit 420 may be provided so that the tilt can be adjusted so that the focal point is directed toward the deposition material injection nozzle 320.

즉, 하우징(410)이 증착물질소스유닛(300)측을 향하도록 배치된 후 하우징(410) 내부에 설치되어 있는 카메라유닛(420)의 기울기를 조절하여 카메라유닛(420)의 초점이 증착물질분사노즐(320)에 맞추어지도록 마련될 수 있다.That is, after the housing 410 is disposed to face the deposition material source unit 300 side, the tilt of the camera unit 420 installed in the housing 410 is adjusted so that the focal point of the camera unit 420 is the deposition material And may be arranged to be fitted to the injection nozzle 320.

여기서, 도 1을 참조하면, 카메라유닛(420)이 단수로 배치되어 있지만, 카메라유닛(420)의 개수는 이에 한정되는 것은 아니며, 증착물질소스유닛(300)을 고려하여 필요에 따라 복수로 배치될 수 있다.1, although the camera units 420 are arranged in a single number, the number of the camera units 420 is not limited thereto, and may be arranged in plural as necessary in consideration of the deposition material source unit 300 .

그리고, 견시창(430)은 카메라유닛(420)의 전면부에 배치되어 하우징(410)에 결합되도록 마련될 수 있다. 여기서, 전면부는 카메라유닛(420)의 렌즈가 향하는 방향을 의미할 수 있다.The viewing window 430 may be disposed on the front surface of the camera unit 420 and coupled to the housing 410. Here, the front portion may refer to the direction in which the lens of the camera unit 420 faces.

한편, 하우징(410)이 공정챔버(200)의 외부에 배치되고, 견시창(430)이 공정챔버(200)의 외부공간과 내부공간을 연결하는 부분에 설치되어 하우징(410)에 연결되는 경우, 하우징(410) 내부에 설치된 카메라유닛(420)이 견시창(430)을 통해 공정챔버(200) 내부의 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하게 된다.In the case where the housing 410 is disposed outside the process chamber 200 and the window 430 is installed at a portion connecting the outer space and the inner space of the process chamber 200 and connected to the housing 410 The camera unit 420 installed inside the housing 410 monitors the deposition material injection nozzle 320 inside the process chamber 200 through the insole 430.

여기서, 공정챔버(200)에서 증착 공정이 진행되는 경우, 기판(800)에 증착되지 못한 증착물질(900)은 공정챔버(200) 내부의 다양한 부분에 묻게 되는데, 증착물질소스유닛(300)을 향하도록 배치되어 있는 이러한 증착물질(900)이 모니터링유닛(400)의 견시창(430)에 묻게 되면 증착물질분사노즐(320)의 모니터링이 방해를 받을 수 있다. In this case, when the deposition process is performed in the process chamber 200, the deposition material 900 that is not deposited on the substrate 800 is deposited on various portions inside the process chamber 200, The monitoring of the deposition material injection nozzle 320 may be disturbed if the deposition material 900 arranged to face the monitoring material 400 is buried in the window 430 of the monitoring unit 400.

따라서, 견시창(430)에 묻게 되는 증착물질(900)을 제거하거나 또는 견시창(430)에 증착물질(900)이 묻는 것을 방지하는 것이 모니터링에 유리하다.Therefore, it is advantageous for monitoring to remove the deposition material 900 to be deposited on the silk screen 430 or to prevent the deposition material 900 from being deposited on the silk screen 430.

이를 위해, 증착공정 진행 후 견시창(430)에 묻은 증착물질(900)을 제거할 수도 있고, 또는, 모니터링유닛(400)에 셔터유닛(450)을 설치하여 모니터링시에는 셔터유닛(450)을 개방하고 모니터링을 하지 않는 경우에는 셔터유닛(450)을 폐쇄하도록 마련될 수도 있다.The monitoring unit 400 may be provided with a shutter unit 450 to monitor the shutter unit 450 to monitor the deposition material 900 on the monitoring window 400. [ It may be arranged to close the shutter unit 450 when it is opened and not monitored.

그리고, 모니터링유닛(400)의 견시창(430)에 묻게 되는 증착물질(900)을 가열하여 제거할 수 있도록, 모니터링유닛(400)의 일측에 가열유닛(440)을 배치할 수도 있다.The heating unit 440 may be disposed on one side of the monitoring unit 400 so that the deposition material 900 to be deposited on the monitoring window 430 of the monitoring unit 400 can be heated and removed.

즉, 가열유닛(440)은 견시창(430)으로부터 이격되어 배치되며, 견시창(430)으로 열을 전달하여 견시창(430)의 표면에 묻어 있는 증착물질(900)을 증발시키는데, 여기서, 가열유닛(440)은 시스 히터(sheath heater) 또는 할로겐 히터로 마련될 수 있다.That is, the heating unit 440 is spaced apart from the silk screen 430 and transfers heat to the silk screen 430 to evaporate the deposition material 900 buried on the surface of the silk screen 430, The heating unit 440 may be provided with a sheath heater or a halogen heater.

한편, 견시창(430)은 하나로 마련될 수도 있고, 또는, 복수로 마련되어 각각 배치될 수도 있다.On the other hand, the view windows 430 may be provided in one unit, or may be provided in plural units.

견시창(430)이 복수로 마련되는 경우, 예를 들어, 2개로 마련되는 경우를 고려하면, 견시창(430)은 하우징(410)에 고정결합되는 제1견시창(431)과, 제1견시창(431)으로부터 이격되어 배치되는 제2견시창(432)으로 마련될 수 있다(도 3 및 도 4 참조).Considering the case where a plurality of viewing windows 430 are provided, for example, considering that two viewing windows 430 are provided, the viewing window 430 includes a first viewing window 431 fixedly coupled to the housing 410, And a second viewing window 432 disposed apart from the viewing window 431 (see Figs. 3 and 4).

여기서, 도 4를 참조하면, 제2견시창(432)은 회전축(433)에 연결되어 회전가능하게 마련될 수 있는데, 이는, 제2견시창의 일측(432a)에 증착물질(900)이 묻게 되면 제2견시창(432)을 회전하여 가열유닛(440)으로 이동 후 제2견시창(432)에 묻은 가열물질을 증발시키기 위함이다.4, the second saw window 432 may be rotatably connected to the rotating shaft 433 because the deposition material 900 is deposited on one side 432a of the second saw window The heating unit 440 rotates the second viewing window 432 to evaporate the heating material adhering to the second viewing window 432.

도 2 내지 도 4를 참조하여 이에 대해 설명하면, 도 4를 기준으로 좌측에는 카메라유닛(420)이 하우징(410) 내부에 설치되어 있고, 카메라유닛(420)의 우측에 제1견시창(431)이 설치되며, 제1견시창(431)의 우측에 제2견시창(432)이 설치되어 있다.4, the camera unit 420 is installed inside the housing 410 and the first and second windows 431 and 432 are provided on the right side of the camera unit 420, And a second prism window 432 is provided on the right side of the first prism window 431.

그리고, 제2견시창의 일측(432a)에는 셔터유닛(450)이 배치되고, 제2견시창의 타측(432b)에는 가열유닛(440)이 이격되어 배치될 수 있다.A shutter unit 450 may be disposed on one side 432a of the second optical window and a heating unit 440 may be disposed on the other side 432b of the second optical window.

우선, 셔터유닛(450)이 폐쇄되어 있는 경우(도 2 및 도 4 참조), 셔터유닛(450)은 제2견시창(432)에 증착물질(900)이 묻게 되는 것을 방지한다.First, when the shutter unit 450 is closed (see FIGS. 2 and 4), the shutter unit 450 prevents the evaporation material 900 from being deposited on the second viewing window 432.

그리고, 셔터유닛(450)이 개방되면(도 3 참조), 카메라유닛(420)은 제1견시창(431)과 제2견시창(432)의 겹쳐져서 공통되는 부분, 즉, 제1견시창(431)과 제2견시창의 일측(432a)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하게 된다(도 4 참조). 3), when the shutter unit 450 is opened (see Fig. 3), the camera unit 420 has a portion overlapping and common to the first viewing window 431 and the second viewing window 432, The deposition material injection nozzle 320 is monitored through the first side 431 and the second side 432a of the second side window (see FIG. 4).

이때, 셔터유닛(450)이 개방되어 있으므로 제2견시창의 일측(432a)에 증착물질(900)이 묻을 수 있으며, 소정의 시간이 경과하면 제2견시창의 일측(432a)에 묻은 증착물질(900)로 인해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하는 것이 방해받게 된다.At this time, since the shutter unit 450 is opened, the evaporation material 900 may adhere to one side 432a of the second optical window, and when a predetermined time has elapsed, The deposition material injection nozzle 320 is prevented from being monitored by the deposition material injection nozzle 900.

이 경우, 제2견시창(432)은 회전축(433)을 중심으로 회전하게 되는데, 증착물질(900)이 묻은 제2견시창의 일측(432a)은 회전을 통해 가열유닛(440)에 근접하게 위치하게 되고, 증착물질(900)이 묻지 않은 제2견시창의 타측(432b)은 회전을 통해 제1견시창(431)과 겹쳐져서 공통되는 부분에 위치하게 된다(미도시).In this case, the second saw window 432 rotates about the rotation axis 433, and one side 432a of the second saw window on which the deposition material 900 is adhered rotates to be close to the heating unit 440 (Not shown), and the other side 432b of the second optical window 900 on which the deposition material 900 is not deposited is overlapped with the first optical window 431 through rotation to be located at a common position (not shown).

여기서, 제2견시창의 타측(432b)에는 증착물질(900)이 묻어 있지 않으므로, 카메라유닛(420)은 제1견시창(431)과 제2견시창의 타측(432b)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 계속 모니터링할 수 있게 된다(미도시).Since the evaporation material 900 is not present on the other side 432b of the second optical window 420, the camera unit 420 is moved in the direction of the evaporation material injection through the first optical window 431 and the other side 432b of the second optical window, The nozzle 320 can be continuously monitored (not shown).

그리고, 증착물질(900)이 묻은 제2견시창의 일측(432a)은 가열유닛(440)에 근접하게 배치되므로, 가열유닛(440)으로부터 발생되는 열에 의해 증착물질(900)이 증발된다(미도시).The evaporation material 900 is evaporated by the heat generated from the heating unit 440 because the one side 432a of the second saw window on which the evaporation material 900 is deposited is disposed close to the heating unit 440 city).

여기서, 제1견시창(431)에 근접하게 위치하고 있는 제2견시창의 타측(432b)에 증착물질(900)이 묻게 되면, 다시 제2견시창(432)을 회전하게 된다.Here, when the deposition material 900 is deposited on the other side 432b of the second prism window located close to the first prism window 431, the second prism window 432 is rotated again.

이 경우, 가열유닛(440)에 의해 증착물질(900)이 증발된 제2견시창의 일측(432a)이 제1견시창(431)에 근접하게 위치하므로, 제1견시창(431)과 제2견시창의 일측(432a)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 계속 모니터링하게 된다.In this case, since one side 432a of the second saw window, in which the evaporation material 900 is evaporated by the heating unit 440, is located close to the first saw window 431, The deposition material spraying nozzle 320 is continuously monitored through the one side 432a of the second saw window.

그리고, 증착물질(900)이 묻어 있는 제2견시창의 타측(432b)은 가열유닛(440)에 근접하게 배치되어 가열유닛(440)에서 발생되는 열에 의해 증착물질(900)이 증발된다.The other side 432b of the second saw window on which the deposition material 900 is placed is disposed close to the heating unit 440 and the deposition material 900 is evaporated by the heat generated in the heating unit 440.

즉, 제2견시창(432)이 회전가능하게 마련되는 것을 통해 제2견시창(432)에서 증착물질(900)이 묻은 부분은 가열유닛(440)측으로 근접하게 회전시켜 증착물질(900)을 증발시키며, 증착물질(900)이 묻지 않은 부분을 통해 증착물질분사노즐(320)을 계속 모니터링할 수 있다.That is, the second siltation window 432 is rotatably provided so that the portion of the second siltation window 432 on which the deposition material 900 is adhered is rotated close to the heating unit 440 side, And the deposition material injection nozzle 320 can be continuously monitored through the portion where the deposition material 900 is not deposited.

이에 의해, 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있으며, 이를 통해, 기판(800) 불량을 방지하여 생산성과 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As a result, it is possible to determine whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged or not, thereby preventing defects of the substrate 800, thereby improving productivity and efficiency.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 리플렉터(460)는 가열유닛(440)을 감싸도록 마련되어 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 외부로 유출되는 것을 방지한다.Referring to FIGS. 2 to 4, the reflector 460 is provided to surround the heating unit 440 to prevent heat radiated from the heating unit 440 from flowing out.

여기서, 리플렉터(460)는 스테인레스 스틸 재질로 마련될 수 있으며, 가열유닛(440)으로부터 발산되어 리플렉터(460)로 이동되는 열이 제2견시창(432)측으로 전달되도록, 열을 반사시킨다.Here, the reflector 460 may be made of stainless steel and reflects heat so that the heat emitted from the heating unit 440 and transferred to the reflector 460 is transmitted to the second viewing window 432 side.

이에 의해, 제2견시창(432)에 묻어 있는 증착물질(900)의 증발이 용이하고 원활하게 진행될 수 있는 효과가 있다.Thereby, evaporation of the deposition material 900 on the second saw window 432 can be easily and smoothly performed.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 쿨링플레이트(470)는 하우징(410)과 견시창(430) 사이에 배치될 수 있다. 2 to 4, the cooling plate 470 may be disposed between the housing 410 and the window 430.

전술한 하우징(410) 내부에는 셔터유닛(450)을 구동하기 위한 모터 등의 구동유닛(451)과, 제2견시창(432)을 회전시키기 위한 모터 등의 구동유닛(434)이 설치될 수 있고, 하우징(410)과 공정챔버(200) 사이는 진공과 대기를 구분하기 위해 오링 등으로 실링(sealing) 처리가 될 수 있다.A driving unit 451 such as a motor for driving the shutter unit 450 and a driving unit 434 such as a motor for rotating the second viewing window 432 may be installed in the housing 410 And a sealing process may be performed between the housing 410 and the process chamber 200 using an O-ring or the like to separate the vacuum and the atmosphere.

여기서, 이러한 오링 등의 실링 부재는 고무재질로 마련될 수 있는데, 가열유닛(440)으로부터 발생된 열이 오링 등으로 전달되면 고무재질이 변성되어 실링 역할을 하지 못하게 될 수 있다.Here, the sealing member such as the O-ring may be made of a rubber material. If the heat generated from the heating unit 440 is transmitted to the O-ring or the like, the rubber material may be denatured and the sealing member may not function.

따라서, 하우징(410)과 견시창(430) 사이에 쿨링플레이트(470)를 배치하여 가열유닛(440)으로부터 발생된 열이 하우징(410)으로 전달되는 것을 방지하며, 이에 의해, 실링 부재의 열변형을 방지할 수 있는 효과가 있다.A cooling plate 470 is disposed between the housing 410 and the window 430 to prevent heat generated from the heating unit 440 from being transmitted to the housing 410, There is an effect that deformation can be prevented.

그리고, 쿨링플레이트(470)는 수냉식(水冷式) 또는 공냉식(空冷式)으로 마련될 수 있다. The cooling plate 470 may be water-cooled or air-cooled.

즉, 쿨링플레이트(470) 내부에 물 또는 공기가 흐르는 파이프가 배치되고, 파이프를 통해 물 또는 공기가 쿨링플레이트(470)의 내부를 흐르면서 쿨링플레이트(470)를 식히게 된다.That is, a pipe through which water or air flows is disposed inside the cooling plate 470, and the cooling plate 470 is cooled as water or air flows through the inside of the cooling plate 470 through the pipe.

다만, 전술한 방식은 하나의 예시일 뿐이며, 물 또는 공기를 이용하여 쿨링플레이트(470)를 냉각시킬 수 있는 다양한 구조의 방식이 적용될 수 있다.However, the above-described method is merely an example, and various schemes for cooling the cooling plate 470 using water or air can be applied.

한편, 실링 부재가 내열성으로 마련되는 경우에는 쿨링플레이트(470)를 설치되지 않을 수도 있고, 또는 쿨링플레이트(470)가 스테인테스 스틸 재질로 마련되어 가열유닛(440)으로부터 발생된 열이 하우징(410)측으로 전달되지 못하도록 열전달의 방지 역할을 하도록 마련될 수도 있다.When the sealing member is heat-resistant, the cooling plate 470 may not be provided. Alternatively, the cooling plate 470 may be made of stainless steel to prevent heat generated from the heating unit 440 from flowing into the housing 410. [ So as not to be transmitted to the side of the heat transfer plate.

도 5를 참조하면, 견시창쉴드(500)는 견시창(430)에 결합되어 증착물질(900)이 견시창(430)에 묻는 것을 방지하도록 마련된다.5, the silencer 500 is coupled to the silk screen 430 to prevent the silk screen material 430 from being deposited on the silk screen 430.

즉, 증착물질(900)이 견시창(430)의 측면으로부터 유입될 수 있는 가능성을 차단하기 위해, 견시창쉴드(500)는 견시창(430)을 둘러싸도록 마련된다.That is, in order to block the possibility that the evaporation material 900 may flow into the side of the ingress window 430, the intrusion window shield 500 is provided to surround the ingress window 430.

이하, 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치(100)에서 공정챔버(200) 내부의 증착물질소스유닛(300)을 모니터링하여 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있는 작용 및 효과에 대해 설명한다.In the thin film deposition apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention, the evaporation material source unit 300 in the process chamber 200 is monitored to determine whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged or not And effects will be described.

도 1을 참조하면, 모니터링유닛(400)은 증착물질소스유닛(300)을 모니터링하도록 마련되는데, 카메라유닛(420)이 견시창(430)을 통해 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 모니터링하게 된다.1, the monitoring unit 400 is provided to monitor the deposition material source unit 300. The camera unit 420 monitors whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged through the window 430, .

여기서, 도 2 내지 도 4를 참조하면, 견시창(430)은 제1견시창(431)과 제2견시창(432)으로 구성될 수 있고, 제2견시창의 일측(432a)에는 셔터유닛(450)이 설치될 수 있는데, 셔터유닛(450)이 개방되면, 카메라유닛(420)은 제1견시창(431)과 제2견시창(432)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링한다.2 to 4, the viewing window 430 may be composed of a first viewing window 431 and a second viewing window 432, and on one side 432a of the second viewing window, When the shutter unit 450 is opened, the camera unit 420 monitors the deposition material injection nozzle 320 through the first and second prism windows 431 and 432, do.

그리고, 셔터유닛(450)의 개방 후 제2견시창의 일측(432a)에 증착물질(900)이 묻게 되면, 제2견시창(432)이 회전축(433)을 중심으로 회전하게 되며, 증착물질(900)이 묻지 않은 제2견시창의 타측(432b)이 제1견시창(431)에 근접하게 된다.When the deposition material 900 is deposited on one side 432a of the second prism window after the shutter unit 450 is opened, the second prism window 432 rotates around the rotation axis 433, The other side 432b of the second side window without touching the first side window 900 comes close to the first side window 431. [

즉, 카메라유닛(420)은 제1견시창(431)과 제2견시창의 타측(432b)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하게 된다. That is, the camera unit 420 monitors the deposition material injection nozzle 320 through the first and second silencer windows 431 and 432b.

그리고, 증착물질(900)이 묻어 있는 제2견시창의 일측(432a)은 가열유닛(440)에 근접하게 배치되며, 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 제2견시창의 일측(432a)에 묻어 있는 증착물질(900)을 가열하여 증발시키므로, 제2견시창의 일측(432a)에 묻어 있는 증착물질(900)은 제거될 수 있게 된다.One side 432a of the second viewing window on which the deposition material 900 is placed is disposed close to the heating unit 440 and the heat radiated from the heating unit 440 is transmitted to one side 432a of the second window, The evaporation material 900 on the one side 432a of the second window is heated and evaporated.

이후, 제2견시창의 타측(432b)에 증착물질(900)이 묻게 되면, 다시 제2견시창(432)을 회전하며, 증착물질(900)이 제거된 제2견시창의 일측(432a)이 제1견시창(431)에 근접하게 배치되어, 카메라유닛(420)은 제1견시창(431)과 제2견시창의 일측(432a)을 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하게 된다.Thereafter, when the deposition material 900 is deposited on the second side 432b of the second side window, the second side window 432 is rotated again, and one side 432a of the second side window, from which the deposition material 900 is removed, The camera unit 420 monitors the deposition material spray nozzle 320 through the first silk screen 431 and one side 432a of the second silk screen window 431 .

그리고, 제2견시창의 타측(432b)은 가열유닛(440)에 근접하게 배치되므로, 제2견시창의 타측(432b)에 묻어 있는 증착물질(900)이 증발될 수 있게 된다.Since the other side 432b of the second side window is disposed close to the heating unit 440, the deposition material 900 deposited on the other side 432b of the second side window can be evaporated.

즉, 제2견시창(432)을 회전시키면서 카메라유닛(420)은 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하여 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있으며, 이를 통해, 기판(800) 불량을 방지하여 생산성과 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.That is, the camera unit 420 monitors the deposition material injection nozzle 320 while rotating the second saw window 432 to determine whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged, It is possible to prevent defects and to improve the productivity and the efficiency.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 박막 증착 장치(100)에서 모니터링유닛의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic sectional view of the monitoring unit in the thin film deposition apparatus 100 according to the second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 제2실시예에 따른 박막 증착 장치(100)에서 공정챔버(200) 내부의 증착물질소스유닛(300)을 모니터링하여 증착물질분사노즐(320)의 막힘 여부를 파악할 수 있는 작용 및 효과에 대해 설명하되, 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치(100)에서 설명한 내용과 공통되는 부분은 전술한 설명으로 대체한다.In the thin film deposition apparatus 100 according to the second embodiment of the present invention, the evaporation material source unit 300 in the process chamber 200 is monitored to determine whether the deposition material injection nozzle 320 is clogged And effects of the thin film deposition apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention are replaced with the above description.

도 6을 참조하면, 모니터링유닛(400)은 증착물질소스유닛(300)측을 향하도록 배치되는 하우징(410)과, 하우징(410) 내부에 설치되며 증착물질분사노즐(320)을 모니터링하는 카메라유닛(420)과, 카메라유닛(420)의 전면부에 배치되어 하우징(410)에 결합되되 내측홈(436)이 형성되는 견시창(430)을 포함하여 구성될 수 있다. 6, the monitoring unit 400 includes a housing 410 disposed to face the deposition material source unit 300 side, a camera 410 installed in the housing 410 and monitoring the deposition material injection nozzle 320, Unit 420 and a viewing window 430 which is disposed on the front surface of the camera unit 420 and is coupled to the housing 410 and has an inner groove 436 formed therein.

전술한 바와 같이, 전면부는 카메라유닛(420)의 렌즈가 향하는 방향을 의미할 수 있다.As described above, the front portion can refer to the direction in which the lens of the camera unit 420 faces.

여기서, 가열유닛(440)은 견시창(430)에 형성된 내측홈(436)에 삽입되어 설치될 수 있다. 그리고, 카메라유닛(420)은 견시창(430)의 중심부를 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링할 수 있다.Here, the heating unit 440 may be installed in the inner groove 436 formed in the window 430. The camera unit 420 can monitor the deposition material injection nozzle 320 through the center of the window 430.

여기서, 가열유닛(440)이 견시창(430)에 직접 열을 제공하면, 가열유닛(440)으로부터 제공된 열이 전도에 의해 견시창(430)의 중심부로 전달되며, 견시창(430)의 중심부에 묻어 있는 증착물질(900)을 증발시켜 제거한다.Here, when the heating unit 440 directly supplies heat to the window 430, the heat provided from the heating unit 440 is transmitted to the central portion of the window 430 by conduction, The evaporation material 900 is evaporated and removed.

즉, 견시창(430)에 증착물질(900)이 묻게 되더라도, 견시창(430)에 형성된 내측홈(436)에 삽입되어 있는 가열유닛(440)으로부터 전도되는 열이 견시창(430)의 중심부에 전달되면, 견시창(430)의 중심부에 묻어 있는 증착물질(900)이 증발되며, 이에 의해, 카메라유닛(420)은 계속해서 증착물질분사노즐(320)을 모니터링할 수 있게 된다.That is, even if the deposition material 900 is deposited on the viewing window 430, the heat conducted from the heating unit 440 inserted in the inner groove 436 formed in the viewing window 430 is transmitted to the center of the viewing window 430 The evaporation material 900 buried in the center of the window 430 is evaporated so that the camera unit 420 can monitor the evaporation material injection nozzle 320 continuously.

도 6을 참조하면, 가열유닛(440)이 삽입된 내측홈(436)은 세라믹 몰딩되게 마련될 수 있다. Referring to FIG. 6, the inner groove 436 into which the heating unit 440 is inserted may be ceramic-molded.

즉, 세라믹 몰딩에 의해 내측홈(436)에 가열유닛(440)이 삽입된 후 가열유닛(440)의 변형이 방지되고, 또한, 열 전도도를 높여 열효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.That is, after the heating unit 440 is inserted into the inner groove 436 by the ceramic molding, deformation of the heating unit 440 is prevented, and the thermal conductivity is improved to improve the thermal efficiency.

그리고, 도 6을 참조하면, 삽입배치반사판(600)은 가열유닛(440)이 삽입된 내측홈(436)에 배치되며, 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 견시창(430)으로 반사되도록 마련된다. 6, the insertion placement reflector 600 is disposed in the inner groove 436 into which the heating unit 440 is inserted so that the heat emitted from the heating unit 440 is reflected to the viewing window 430 .

즉, 내측홈(436)에 삽입된 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열은 견시창(430)의 중심부에도 전달되지만, 견시창(430)의 중심부 이외의 부분으로도 전달된다.That is, the heat emitted from the heating unit 440 inserted into the inner groove 436 is transmitted to the central portion of the viewing window 430, but also to the portion other than the central portion of the viewing window 430.

여기서, 삽입배치반사판(600)은, 가열유닛(440)으로부터 발산된 후 견시창(430)의 중심부 이외의 부분으로 전달되는 열을 반사하며, 반사된 열이 견시창(430)의 중심부로 전도되도록 마련된다.The inserted placement reflector 600 reflects the heat that is emitted from the heating unit 440 and then transmitted to a portion other than the central portion of the sight window 430 and the reflected heat is transmitted to the center of the viewing window 430 .

그리고, 도 6을 참조하면, 사이배치반사판(700)은 하우징(410)과 견시창(430) 사이에 배치되며, 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 견시창(430)으로 반사되도록 마련된다. 6, the interposed reflector 700 is disposed between the housing 410 and the window 430, and the heat emitted from the heating unit 440 is reflected by the viewing window 430 .

특히, 견시창(430)의 증착물질(900)이 묻어있는 부분 중에서 견시창(430)의 중심부로 열을 반사시키는데, 사이배치판사판을 통해 반사되는 열은 견시창(430)의 중심부로 복사를 통해 전달될 수 있으며, 견시창(430)의 중심부에 묻어 있는 증착물질(900)을 증발시킨다. Particularly, heat is reflected from the portion of the silk screen 430 where the deposition material 900 is embedded to the center of the silk screen 430. The heat reflected through the silk screen 430 is transferred to the center of the silk screen 430 And the evaporation material 900 buried in the center of the window 430 is evaporated.

그리고, 카메라유닛(420)이 견시창(430)의 중심부를 통해 증착물질분사노즐(320)을 모니터링할 수 있게 된다.Then, the camera unit 420 can monitor the deposition material injection nozzle 320 through the center of the window 430.

여기서, 사이배치반사판(700)은 기울기가 조절가능하도록 마련될 수 있는데, 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 견시창(430)의 중심부로 전달되도록 사이배치반사판(700)의 기울기를 적절히 조절할 수 있다.Here, the interposed reflector 700 may be provided so that the inclination of the interposed reflector 700 is adjustable, and the inclination of the interposed reflector 700 is appropriately adjusted so that heat emitted from the heating unit 440 is transmitted to the central portion of the in- .

한편, 하우징(410)은 인바(Invar) 또는 스테인레스 스틸로 마련되어 견시창(430)에 결합될 수 있다.Meanwhile, the housing 410 may be made of invar or stainless steel and coupled to the window 430.

즉, 전술한 바와 같이, 가열유닛(440)으로부터 발산되는 열이 하우징(410)에 결합되어 있는 실링부재를 변성시킬 가능성이 있다. 이를 방지하기 위해, 하우징(410)이 인바(Invar) 또는 스테인레스 스틸의 금속으로 마련되어 메탈 실링을 하게 된다.That is, as described above, there is a possibility that the heat emitted from the heating unit 440 may denature the sealing member coupled to the housing 410. In order to prevent this, the housing 410 is made of Invar or stainless steel and metal-sealed.

그리고, 인바(Invar) 또는 스테인레스 스틸의 금속은 견시창(430)에 브레이징(Brazing)방식에 의해 결합될 수 있다.The metal of Invar or stainless steel may be coupled to the window 430 by a brazing method.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100 : 박막 증착 장치 200 : 공정챔버
300 : 증착물질소스유닛 310 : 증착물질공급유닛
320 : 증착물질분사노즐 400 : 모니터링유닛
410 : 하우징 420 : 카메라유닛
430 : 견시창 431 : 제1견시창
432 : 제2견시창 433 : 회전축
436 : 내측홈 440 : 가열유닛
450 : 셔터유닛 460 : 리플렉터
470 : 쿨링플레이트 500 : 견시창쉴드
600 : 삽입배치반사판 700 : 사이배치반사판
800 : 기판 900 : 증착물질100: thin film deposition apparatus 200: process chamber
300: evaporation material source unit 310: evaporation material supply unit
320: deposition material injection nozzle 400: monitoring unit
410: housing 420: camera unit
430: Sash window 431: 1st Sash window
432: second saw window 433: rotating shaft
436: inner groove 440: heating unit
450: shutter unit 460: reflector
470: Cooling plate 500: Shield window shield
600: Insertion placement reflector 700: Between placement reflector
800: substrate 900: deposition material

Claims (16)

기판에 대한 증착 공정이 진행되는 공정챔버;
상기 공정챔버 내부에 배치되어 상기 기판을 향해 증착물질을 분사하는 증착물질소스유닛; 및
상기 증착물질소스유닛으로부터 이격되고 상기 증착물질소스유닛을 향하도록 배치되어 상기 증착물질소스유닛을 모니터링하는 모니터링유닛을 포함하는 박막 증착 장치.A process chamber in which a deposition process is performed on a substrate;
A deposition material source unit disposed inside the process chamber and for spraying a deposition material toward the substrate; And
And a monitoring unit spaced from the deposition source unit and arranged to face the deposition source unit to monitor the deposition source unit. 제1항에 있어서,
상기 모니터링유닛은, 상기 모니터링유닛에 묻게 되는 상기 증착물질을 가열하도록 가열유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.The method according to claim 1,
Wherein the monitoring unit includes a heating unit for heating the deposition material to be buried in the monitoring unit. 제2항에 있어서,
상기 증착물질소스유닛은,
상기 증착물질을 공급하는 증착물질공급유닛; 및
상기 증착물질공급유닛에 결합되며, 상기 기판을 향하도록 배치되어 상기 기판에 상기 증착물질을 분사하는 증착물질분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the deposition material source unit comprises:
A deposition material supply unit for supplying the deposition material; And
And a deposition material spraying nozzle coupled to the deposition material supply unit and disposed to face the substrate to spray the deposition material onto the substrate. 제3항에 있어서,
상기 모니터링유닛은,
상기 증착물질소스유닛측을 향하도록 배치되는 하우징;
상기 하우징 내부에 설치되며, 상기 증착물질분사노즐을 모니터링하는 카메라유닛; 및
상기 카메라유닛의 전면부에 배치되어 상기 하우징에 결합되는 견시창(見視窓)을 더 포함하며,
상기 가열유닛은, 상기 견시창의 표면에 묻어 있는 상기 증착물질을 증발시키도록 상기 견시창으로부터 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.The method of claim 3,
The monitoring unit comprises:
A housing disposed to face the deposition material source unit side;
A camera unit installed in the housing for monitoring the deposition material spray nozzle; And
Further comprising a sight window disposed at a front portion of the camera unit and coupled to the housing,
Wherein the heating unit is disposed to be spaced apart from the crucible so as to evaporate the deposition material on the surface of the crucible. 제4항에 있어서,
상기 견시창은,
상기 하우징에 고정결합되는 제1견시창; 및
상기 제1견시창으로부터 이격되어 회전가능하게 배치되는 제2견시창을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.5. The method of claim 4,
The above-
A first viewing window fixedly coupled to the housing; And
And a second saw window rotatably disposed apart from the first saw window. 제5항에 있어서,
상기 제2견시창의 일측에 배치되는 셔터유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.6. The method of claim 5,
Further comprising a shutter unit disposed on one side of the second prism window. 제6항에 있어서,
상기 제2견시창의 타측에는, 상기 가열유닛이 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.The method according to claim 6,
And the heating unit is disposed apart from the other side of the second optical window. 제7항에 있어서,
상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 외부로 유출되는 것을 방지하기 위해, 상기 가열유닛을 감싸도록 마련되는 리플렉터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.8. The method of claim 7,
Further comprising a reflector provided to surround the heating unit to prevent heat radiated from the heating unit from flowing out to the outside. 제4항에 있어서,
상기 하우징과 상기 견시창 사이에 배치되는 쿨링플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.5. The method of claim 4,
And a cooling plate disposed between the housing and the window glass. 제9항에 있어서,
상기 쿨링플레이트는 수냉식(水冷式) 또는 공냉식(空冷式)으로 마련되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the cooling plate is provided by a water-cooling type (water-cooling type) or air-cooling type (air-cooling type). 제4항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 견시창에 결합되어 상기 증착물질이 상기 견시창에 묻는 것을 방지하도록 마련되는 견시창쉴드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.11. The method according to any one of claims 4 to 10,
Further comprising a silent screen shield coupled to the silk screen to prevent the deposition material from being deposited on the silk screen. 제3항에 있어서,
상기 모니터링유닛은,
상기 증착물질소스유닛측을 향하도록 배치되는 하우징;
상기 하우징 내부에 설치되며, 상기 증착물질분사노즐을 모니터링하는 카메라유닛; 및
상기 카메라유닛의 전면부에 배치되어 상기 하우징에 결합되되 내측홈이 형성되는 견시창(見視窓)을 더 포함하며,
상기 가열유닛은 상기 견시창에 형성된 상기 내측홈에 삽입되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.The method of claim 3,
The monitoring unit comprises:
A housing disposed to face the deposition material source unit side;
A camera unit installed in the housing for monitoring the deposition material spray nozzle; And
Further comprising a sight window disposed at a front portion of the camera unit and coupled to the housing, wherein an inner groove is formed,
Wherein the heating unit is inserted into the inner groove formed in the window. 제12항에 있어서,
상기 가열유닛이 삽입된 상기 내측홈이 세라믹 몰딩되도록 마련되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.13. The method of claim 12,
And the inner groove into which the heating unit is inserted is ceramic-molded. 제12항에 있어서,
상기 가열유닛이 삽입된 상기 내측홈에 배치되며, 상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 상기 견시창으로 반사되도록 마련되는 삽입배치반사판을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.13. The method of claim 12,
And an insertion placement reflector disposed in the inner groove into which the heating unit is inserted and arranged so that heat emitted from the heating unit is reflected by the window. 제12항에 있어서,
상기 하우징과 상기 견시창 사이에 배치되며, 상기 가열유닛으로부터 발산되는 열이 상기 견시창으로 반사되도록 마련되는 사이배치반사판을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.13. The method of claim 12,
And an interposed reflector disposed between the housing and the window glass to reflect heat emitted from the heating unit to the window. 제4항에 있어서,
상기 하우징은 인바(Invar) 또는 스테인레스 스틸로 마련되어 상기 견시창에 결합되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the housing is formed of Invar or stainless steel and is coupled to the window.
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