KR20150049005A - 마스크 조립체 - Google Patents

마스크 조립체 Download PDF

Info

Publication number
KR20150049005A
KR20150049005A KR1020130128914A KR20130128914A KR20150049005A KR 20150049005 A KR20150049005 A KR 20150049005A KR 1020130128914 A KR1020130128914 A KR 1020130128914A KR 20130128914 A KR20130128914 A KR 20130128914A KR 20150049005 A KR20150049005 A KR 20150049005A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
masks
division
magnet member
split
division masks
Prior art date
Application number
KR1020130128914A
Other languages
English (en)
Inventor
백대원
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020130128914A priority Critical patent/KR20150049005A/ko
Publication of KR20150049005A publication Critical patent/KR20150049005A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
    • H01L21/0334—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
    • H01L21/0337—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane characterised by the process involved to create the mask, e.g. lift-off masks, sidewalls, or to modify the mask, e.g. pre-treatment, post-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

마스크 조립체는 복수의 분할 마스크들, 분할 마스크들의 단부와 결합되어 분할 마스크들에 인장력을 작용시키는 프레임, 분할 마스크들의 상면에 배치되며, 분할 마스크들에 작용된 인장력에 의해 발생하는 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 자석 부재 및 분할 마스크들과 자석 부재 사이에 배치되어 자석 부재를 수납하며, 자석 부재로부터 분할 마스크들을 보호하는 보호 부재를 포함할 수 있다.

Description

마스크 조립체{MASK ASSEMBLY}
본 발명은 마스크 조립체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 자석 부재 및 보호 부재를 구비하여 분할 마스크의 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상 및 분할 마스크의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있는 마스크 조립체에 관한 것이다.
유기 발광 표시(organic light emitting display: OLED) 장치는 양극(anode)과 음극(cathode)으로부터 각기 제공되는 정공들과 전자들이 이들 전극들 사이에 위치하는 유기 발광층에서 결합하여 생성되는 광을 사용하여 영상, 문자 등의 정보를 나타낼 수 있는 표시 장치를 말한다. 상기 유기 발광 표시 장치는 고효율 발광을 얻기 위하여 상기 전극들 사이에 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층 및 정공 주입층 등과 같은 중간층을 추가적으로 포함한다.
일반적으로, 상기 전극들, 상기 유기 발광층 및 상기 중간층은 증착 패턴들을 구비하는 파인 메탈 마스크(fine metal mask FMM)를 포함하는 마스크 조립체를 사용하여 형성된다. 그러나, 상기 파인 메탈 마스크가 대면적화되는 경우, 상기 증착 패턴 형성을 위한 식각 오차가 커지고, 자중에 의한 중앙부의 처짐 현상도 심해지므로, 최근에는 상기 파인 메탈 마스크를 스틱(stick) 형상을 갖는 분할 마스크로 제작한 후, 상기 분할 마스크를 프레임에 결합시켜 사용하는 분할 마스크 타입의 마스크 조립체가 선호되고 있다.
이러한 분할 마스크 타입의 마스크 조립체의 제조 방법에 있어서, 상기 분할 마스크를 길이 방향으로 인장시켜 상기 프레임에 결합시키게 되는데, 상기 분할 마스크가 충분하게 인장되지 않은 상태로 상기 프레임에 결합되는 경우, 상기 분할 마스크에 웨이브 현상이 발생하게 된다. 상기 웨이브 현상은 이후의 증착 공정에서 상기 분할 마스크들과 기판 간의 밀착성을 저하시켜 정밀한 증착을 저해하는 문제점이 있다. 또한, 상기 분할 마스크를 충분하게 인장시킨 후 상기 프레임에 부착하더라도, 길이 방향으로만 인장력이 가해지므로, 분할 마스크의 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상 및 분할 마스크의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 없다는 문제점이 있다.
본 발명의 일 목적은 자석 부재 및 보호 부재를 구비하여 분할 마스크의 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상 및 분할 마스크의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있는 마스크 조립체를 제공하는 것이다.
다만, 본 발명의 목적이 전술한 목적들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
상술한 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체는, 복수의 분할 마스크들, 상기 분할 마스크들의 단부와 결합되어 상기 분할 마스크들의 길이 방향을 따라 인장력을 작용시키는 프레임, 상기 분할 마스크들의 길이 방향 또는 폭 방향을 따라 상기 분할 마스크들의 상면에 배치되며, 상기 길이 방향을 따라 작용된 상기 인장력에 의해 상기 폭 방향을 따라 발생하는 상기 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 자석 부재 그리고 상기 분할 마스크들과 상기 자석 부재 사이에 배치되어 상기 자석 부재를 수납하며, 상기 자석 부재로부터 상기 분할 마스크들을 보호하는 보호 부재를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상면 중에서 상기 웨이브 현상이 발생하는 영역에 선택적으로 배치되어 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 인장력은 상기 분할 마스크들의 길이 방향을 따라 작용될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상기 길이 방향을 따라 작용된 상기 인장력에 의해 상기 분할 마스크들의 폭 방향을 따라 발생하는 상기 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 길이 방향을 따라 상기 분할 마스크들의 외곽부에 연속적으로 배치되어 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 보호 부재는 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면을 둘러싸도록 배치되어 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되는 자석 부재와 상기 분할 마스크들 사이에 발생하는 손상을 감소시키거나 제거할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 영구 자석을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자석 부재는 전자석을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 분할 마스크들은 각기 스테인리스 스틸, 인바, 니켈, 코발트 및 이들의 합금 등으로 구성될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 분할 마스크들은 각기 파인 메탈 마스크(fine metal mask; FMM)를 포함할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체는 프레임을 통해 분할 마스크들에 작용된 인장력에 의해 발생하는 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 자석 부재 및 상기 분할 마스크들과 상기 자석 부재 사이에 배치되어 상기 자석 부재를 수납하는 보호 부재를 포함할 수 있다. 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 폭 방향 및/또는 길이 방향(즉, 상기 분할 마스크들의 외곽부)을 따라 상기 분할 마스크들의 상면 상에 배치되거나, 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치될 수 있다.
상기 자석 부재가 상기분할 마스크들의 폭 방향 및/또는 길이 방향(즉, 상기 분할 마스크들의 외곽부)을 따라 상기 분할 마스크들의 상면 상에 배치되는 경우, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상기 폭 방향 및/또는 상기 길이 방향(즉, 상기 분할 마스크들의 외곽부)을 따라 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다. 즉, 상기 분할 마스크들의 폭 방향 측 단부 및/또는 길이 방향 측 단부(즉, 상기 분할 마스크들의 외곽부)에 추가적인 인장 기구를 형성하지 않고도 상기 분할 마스크들의 상기 폭 방향 및/또는 상기 길이 방향(즉, 상기 분할 마스크들의 외곽부)을 따라 발생하는 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있으므로 상기 마스크 조립체의 제조 비용 증가 없이 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다.
상기 자석 부재가 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되는 경우, 상기 분할 마스크들의 상면 뿐만 아니라, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면에 발생하는 웨이브 현상도 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다.
또한, 상기 보호 부재에 의해 상기 자석 부재로부터 상기 분할 마스크들을 보호할 수 있으므로, 상기 분할 마스크들의 손상을 효과적으로 방지하여 보다 정밀한 증착 공정을 진행할 수 있다.
다만, 본 발명의 효과가 상술한 바에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다.
본 발명의 실시예들에 있어서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되는 것은 아니다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
제1, 제2, 제3 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기구성 요소들이 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 또는 제3 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 또는 제3 구성 요소로 명명될 수 있다.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 인접하는"과 "~에 직접 인접하는" 등도마찬가지로 해석되어야 한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다", "구비하다", "함유하다" 또는"가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 보다 상세하게 설명한다. 첨부 도면들에 있어서, 동일하거나 유사한 구성 요소들에 대해서는 동일하거나 유사한 참조 부호들을 사용한다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이고, 도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다.
도 1을 참조하면, 마스크 조립체(100)는 복수의 분할 마스크들(110), 프레임(120), 자석 부재(130), 보호 부재(140) 등을 포함할 수 있다.
복수의 분할 마스크들(110)은 각기 스테인리스 스틸, 인바, 니켈, 코발트 및 이들의 합금 등으로 구성될 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 분할 마스크들(110)은 각기 파인 메탈 마스크(fine metal mask; FMM)를 포함할 수 있다.
프레임(120)은 분할 마스크들(110)의 단부와 결합될 수 있다. 이 경우, 분할 마스크들(110)의 단부는 프레임(120)에 용접될 수 있다. 다만, 프레임(120)과 분할 마스크들(110)의 단부와의 결합 방법이 그에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 분할 마스크들(110)의 단부는 프레임(120)에 클램핑될 수도 있다. 이에 따라, 프레임(120)은 분할 마스크들(110)에 인장력을 작용시킬 수 있다. 이 경우, 상기 인장력은 분할 마스크들(110)의 길이 방향(즉, x 방향)을 따라 작용될 수 있다. 예를 들면, 프레임(120)은 분할 마스크들(110)의 단부와의 결합 시 변형이 작은 소재(예를 들면, 강성이 큰 금속)로 이루어질 수 있다. 이 경우, 프레임(120)은 중앙에 개구부를 구비하는 사각형 형상을 가지도록 제조될 수 있다.
자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 상면에 배치되어 분할마스크들(110)을 가압할 수 있다. 또한, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 길이 방향을 따라 작용된 상기 인장력에 의해 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 폭 방향(즉, y 방향)을 따라 분할 마스크들(110)의 상면에 배치될 수 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 길이 방향을 따라 작용된 상기 인장력에 의해 분할 마스크들(110)의 폭 방향을 따라 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있다. 즉, 분할 마스크들(110)의 폭 방향측 단부에 추가적인 인장 기구를 형성하지 않고도 분할 마스크들(110)의 폭 방향을 따라 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있으므로 마스크 조립체(100)의 제조 비용 증가 없이 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 도 1 및 도 2에 있어서, 자석 부재(130)가 분할 마스크들(110)의 폭 방향을 따라 분할 마스크들(110)의 상면에 배치되는 것으로 예시하고 있으나, 자석 부재(130)의 형성 위치가 그에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 상면 중에서 웨이브 현상이 발생하는 영역에만 선택적으로 배치될 수도 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 좁은 영역에 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다.
다른 예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 길이 방향을 따라 분할 마스크들(110)의 외곽부에 전체적으로 배치될 수 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 이에 대해서는 도 3 및 도 4를 참조하여 자세하게 후술하기로 한다.
또 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(130)는 분할마스크들(110)의 상면, 분할 마스크들(110)의 측면 및 분할 마스크들(110)의 하면 중에서 적어도 하나에 배치될 수 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 분할 마스크들(110)의 상면, 분할 마스크들(110)의 측면 및 분할 마스크들(110)의 하면 에 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 이에 대해서는 도 5 및 도 6을 참조하여 자세하게 후술하기로 한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(130)는 영구 자석을 포함할 수 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 발열에 대한 문제없이 자기력을 형성할 수 있는 장점이 있다. 다른 예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(130)는 전자석을 포함할 수 있다. 이 경우, 자석 부재(130)는 자기력의 세기를 보다 쉽게 제어할 수 있는 장점이 있다. 다만, 자석 부재(130)가 이에 한정되는 것은 아니다.
보호 부재(140)는 분할 마스크들(110)과 자석 부재(130) 사이에 배치되어 자석 부재(130)를 수납할 수 있다. 이 경우, 보호 부재(140)는 분할 마스크들(110)과 자석 부재(130)를 직접적으로 접촉시키지 않는 역할을 수행하므로, 자석 부재(130)로부터 분할 마스크들(110)을 보호할 수 있다. 예를 들면, 보호 부재(140)는 상면에 개구부를 구비하는 박스 형상을 가지도록 제조될 수 있다.
종래의 분할 마스크 타입의 마스크 조립체는 대체로 길이 방향으로만 인장력이 가해진 분할마스크를 프레임에 부착하여 사용하므로, 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 없다는 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 고려하여, 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체(100)는 프레임(120)을 통해 분할 마스크들(110)에 작용된 인장력에 의해 발생하는 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 자석 부재(130) 및 분할 마스크들(110)과 자석부재(130) 사이에 배치되어 자석 부재(130)를 수납하는 보호 부재(140)를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 인장력은 분할 마스크들(110)의 길이 방향을 따라 작용됨에 따라, 상기 인장력에 의해 분할 마스크들(110)의 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상을 자석 부재(130)를 사용하여 감소시키거나 제거할 수 있다. 즉, 분할 마스크들(110)의 폭 방향 측 단부에 추가적인 인장 기구를 형성하지 않고도 분할 마스크들(110)의 폭 방향을 따라 발생하는 분할마스크들(110)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있으므로 마스크 조립체(100)의 제조 비용 증가 없이 분할 마스크들(110)의 웨이브 현상을 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 또한, 보호 부재(140)에 의해 자석 부재(130)로부터 분할 마스크들(110)을 보호할 수 있으므로, 분할 마스크들(110)의 손상을 효과적으로 방지하여 보다 정밀한 증착 공정을 진행할 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이고, 도 4는 본 발명의 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다. 도 3 및 도 4에 예시한 마스크 조립체(200)는 자석 부재(230) 및 보호 부재(240)를 제외하면, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 마스크 조립체(100)와 실질적으로 동일하거나 유사한 구성을 가질 수 있다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 마스크 조립체(200)는 복수의 분할 마스크들(210), 프레임(220), 자석 부재(230), 보호 부재(240) 등을 포함할 수 있다.
복수의 분할 마스크들(210)은 각기 파인 메탈 마스크를 포함할 수 있다. 예를 들면, 분할 마스크들(210)은 각기 자성체(magnetic substance)로 이루어질 수 있다. 분할 마스크들(210)로 사용될 수 있는 자성체는 스테인리스 스틸, 인바, 니켈, 코발트 및 이들의 합금 등을 포함할 수 있다.
프레임(220)은 분할 마스크들(210)의 단부와 결합되어 분할 마스크들(210)의 길이 방향(즉, x 방향)을 따라 인장력을 작용시킬 수 있다. 이 경우, 분할 마스크들(210)의 단부는 프레임(220)에 용접될 수 있으며, 클램핑될 수도 있다. 예를 들면, 프레임(220)은 분할 마스크들(210)의 단부와의 결합 시 변형이 작은 소재(예를 들면, 강성이 큰 금속)로 이루어질 수 있다.
자석 부재(230)는 분할 마스크들(210)의 길이 방향을 따라 분할 마스크들(210)의 외곽부에 전체적으로 배치될 수 있다. 이 경우, 자석 부재(230)는 분할 마스크들(210)의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(230)는 영구 자석 또는 전자석을 포함할 수 있다.
도 3 및 도 4에 있어서, 하나의 자석 부재(230)가 분할 마스크들(210)의 외곽부에 전체적으로 배치되는 것으로 예시하고 있으나, 복수개의 자석부재(230)들이 분할 마스크들(210)의 외곽부에 연속적으로 배치될 수도 있다. 이 경우, 복수개의 자석 부재(230)들은 서로 소정 간격으로 이격되어 분할 마스크들(210)의 외곽부를 전체적으로 가압함에 따라 분할 마스크들(210)의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다.
보호 부재(240)는 분할 마스크들(210)과 자석 부재(230)를 직접적으로 접촉시키지 않도록 분할 마스크들(210)과 자석 부재(230) 사이에 배치되어 자석 부재(230)를 수납할 수 있다. 이 경우, 보호 부재(240)는 자석 부재(230)로부터 분할 마스크들(210)을 보호할 수 있다. 예를 들면, 보호 부재(240)는 상면에 개구부를 구비하는 박스 형상을 가지도록 제조될 수 있다.
종래의 분할 마스크 타입의 마스크 조립체는 대체로 길이 방향으로만 인장력이 가해진 분할 마스크를 프레임에 부착하여 사용하므로, 분할 마스크의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 없다는 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 고려하여, 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체(200)는 분할 마스크들(210)의 길이 방향을 따라 분할 마스크들(210)의 외곽부에 전체적으로 배치되는 자석 부재(230) 및 분할 마스크들(210)과 자석 부재(230) 사이에 배치되어 자석 부재(230)를 수납하는 보호 부재(240)를 포함할 수 있다. 이 경우, 자석 부재(230)는 분할 마스크들(210)의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 즉, 분할 마스크들(210)의 외곽부에 추가적인 인장 기구를 형성하지 않고도 분할 마스크들(210)의 외곽부를 따라 발생하는 분할 마스크들(210)의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 있으므로 마스크 조립체(200)의 제조 비용 증가 없이 분할 마스크들(210)의 웨이브 현상을 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 또한, 보호 부재(240)에 의해 자석 부재(230)로부터 분할 마스크들(210)을 보호할 수 있으므로, 분할 마스크들(110)의 손상을 효과적으로 방지하여 보다 정밀한 증착 공정을 진행할 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 사시도이고, 도 6은 본 발명의 또 다른 예시적인 실시예들에 따른 마스크 조립체를 나타내는 단면도이다. 도 5 및 도 6에 예시한 마스크 조립체(300)는 자석 부재(330) 및 보호 부재(340)를 제외하면, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 마스크 조립체(100)와 실질적으로 동일하거나 유사한 구성을 가질 수 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 마스크 조립체(300)는 복수의 분할 마스크들(310), 프레임(320), 자석 부재(330), 보호 부재(340) 등을 포함할 수 있다.
복수의 분할 마스크들(310)은 각기 자성체로 이루어질 수 있다. 분할 마스크들(310)로 사용될 수 있는 자성체는 스테인리스 스틸, 인바, 니켈, 코발트 및 이들의 합금 등을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 분할 마스크들(310)은 각기 파인 메탈 마스크를 포함할 수 있다.
프레임(320)은 분할 마스크들(310)의 단부와 용접되거나 클램핑되어 분할 마스크들(310)에 인장력을 작용시킬 수 있다. 이 경우, 상기 인장력은 분할 마스크들(310)의 길이 방향(즉, x 방향)을 따라 작용될 수 있다. 예를 들면, 프레임(320)은 분할 마스크들(310)의 단부와의 용접 또는 클림핑시 변형이 작은 소재(예를 들면, 강성이 큰 금속)로 이루어질 수 있다.
자석 부재(330)는 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되어 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면을 가압할 수 있다. 이에 따라, 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면에 발생하는 분할 마스크들(310)의 웨이브 현상을 전체적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 예시적인 실시예들에 있어서, 자석 부재(330)는 영구 자석 또는 전자석을 포함할 수 있다.
도 5 및 도 6에 있어서, 자석 부재(330)가 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면에 모두 배치되어 있는 것으로 예시하고 있으나, 자석 부재(330)는 분할 마스크들(310)의 웨이브 현상이 발생하는 영역에 기초하여 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면 중에서 적어도 하나에 배치될 수 있다.
보호 부재(340)는 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 이 경우, 보호 부재(340)는 분할 마스크들(310)과 자석 부재(330)를 직접적으로 접촉시키지 않는 역할을 수행하므로, 보호 부재(340)는 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되는 자석 부재(330)로부터 분할 마스크들(310)을 보호할 수 있다.
종래의 분할 마스크 타입의 마스크 조립체는 대체로 길이 방향으로만 인장력이 가해진 분할마스크를 프레임에 부착하여 사용하므로, 분할 마스크의 폭 방향을 따라 발생하는 웨이브 현상 및/또는 분할 마스크의 외곽부에 발생하는 웨이브 현상을 감소시키거나 제거할 수 없다는 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 고려하여, 도 5 및 도 6에 예시한 마스크 조립체(300)는 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한 마스크 조립체들(100, 200)과는 다르게 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 중에서 적어도 하나에 배치되어 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면을 가압해주는 자석 부재(330) 및 분할 마스크들(310)의 상면, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면을 둘러싸도록 배치되는 보호 부재(340)를 포함함에 따라, 분할 마스크들(310)의 상면뿐만 아니라, 분할 마스크들(310)의 측면 및 분할 마스크들(310)의 하면에 발생하는 웨이브 현상도 효과적으로 감소시키거나 제거할 수 있다. 또한, 보호 부재(340)에 의해 자석 부재(330)로부터 분할마스크들(310)을 보호할 수 있으므로, 분할 마스크들(310)의 손상을 효과적으로 방지하여 보다 정밀한 증착 공정을 진행할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시예들에 따른 마스크 조립체에 대하여 도면을 참조하여 설명하였지만, 상기 설명은 예시적인 것으로서 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 수정 및 변경될 수 있을 것이다.
본 발명은 마스크 조립체를 사용하여 제조되는 유기 발광 표시 장치를 구비한 전자 기기에 다양하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 컴퓨터, 노트북, 디지털 카메라, 비디오 캠코더, 휴대폰, 스마트폰, 스마트패드, 피엠피(PMP), 피디에이(PDA), MP3 플레이어, 차량용 네비게이션, 비디오폰, 감시 시스템, 추적 시스템, 동작 감지 시스템, 이미지 안정화 시스템 등에 적용될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 것이다.
100, 200, 300: 마스크 조립체
110, 210, 310: 분할 마스크들
120, 320, 320: 프레임
130, 230, 330: 자석 부재
140, 240, 340: 보호 부재

Claims (11)

  1. 복수의 분할 마스크들;
    상기 분할 마스크들의 단부와 결합되어 상기 분할 마스크들에 인장력을 작용시키는 프레임;
    상기 분할 마스크들의 상면에 배치되며, 상기 분할 마스크들에 작용된 상기 인장력에 의해 발생하는 상기 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 자석 부재; 및
    상기 분할 마스크들과 상기 자석 부재 사이에 배치되어 상기 자석 부재를 수납하며, 상기 자석 부재로부터 상기 분할 마스크들을 보호하는 보호 부재를 포함하는 마스크 조립체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상면 중에서 상기 웨이브 현상이 발생하는 영역에 선택적으로 배치되어 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 인장력은 상기 분할 마스크들의 길이 방향을 따라 작용되는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  4. 제3항에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상기 길이 방향을 따라 작용된 상기 인장력에 의해 상기 분할 마스크들의 폭 방향을 따라 발생하는 상기 분할 마스크들의 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 길이 방향을 따라 상기 분할 마스크들의 외곽부에 연속적으로 배치되어 상기 분할 마스크들의 상기 웨이브 현상을 감소시키거나 제거하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 자석 부재는 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  7. 제6항에 있어서, 상기 보호 부재는 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면을 둘러싸도록 배치되어 상기 분할 마스크들의 상면, 상기 분할 마스크들의 측면 및 상기 분할 마스크들의 하면 중에서 적어도 하나에 배치되는 자석 부재와 상기 분할 마스크들 사이에 발생하는 손상을 감소시키거나 제거하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  8. 제1항에 있어서, 상기 자석 부재는 영구 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  9. 제1항에 있어서, 상기 자석 부재는 전자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  10. 제1항에 있어서, 상기 분할 마스크들은 각기 스테인리스 스틸, 인바, 니켈, 코발트 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
  11. 제1항에 있어서, 상기 분할 마스크들은 각기 파인 메탈 마스크(fine metalmask; FMM)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 조립체.
KR1020130128914A 2013-10-29 2013-10-29 마스크 조립체 KR20150049005A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130128914A KR20150049005A (ko) 2013-10-29 2013-10-29 마스크 조립체

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130128914A KR20150049005A (ko) 2013-10-29 2013-10-29 마스크 조립체

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150049005A true KR20150049005A (ko) 2015-05-08

Family

ID=53387175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130128914A KR20150049005A (ko) 2013-10-29 2013-10-29 마스크 조립체

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20150049005A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180014639A (ko) * 2016-08-01 2018-02-09 주식회사 티지오테크 모판, 모판의 제조 방법 및 마스크의 제조 방법
US10381423B2 (en) 2016-05-12 2019-08-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly for electronic display device and method of manufacturing the same
US11527718B2 (en) 2018-03-29 2022-12-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly and organic light emitting display device manufactured using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10381423B2 (en) 2016-05-12 2019-08-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly for electronic display device and method of manufacturing the same
KR20180014639A (ko) * 2016-08-01 2018-02-09 주식회사 티지오테크 모판, 모판의 제조 방법 및 마스크의 제조 방법
US11527718B2 (en) 2018-03-29 2022-12-13 Samsung Display Co., Ltd. Mask assembly and organic light emitting display device manufactured using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10597768B2 (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask preparation body, method for producing vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element
US11355707B2 (en) Mask having shielding part within opening and manufacturing method thereof, evaporation method and display screen with active area surrounding functional component area
US8343278B2 (en) Mask assembly and deposition and apparatus for a flat panel display using the same
US7718006B2 (en) Mask holding structure, film forming method, electro-optic device manufacturing method, and electronic apparatus
TWI546996B (zh) 用於薄膜沉積之遮罩框架組件
KR102014479B1 (ko) 단위 마스크 스트립 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법
KR102002494B1 (ko) 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
US20150101536A1 (en) Mask assembly and deposition apparatus using the same for flat panel display
US7915073B2 (en) Method of manufacturing the organic electroluminescent display and organic electroluminescent display manufactured by the method
US8852346B2 (en) Mask frame assembly for thin layer deposition and organic light emitting display device
JP4915312B2 (ja) 蒸着用マスクの製造方法
CN102201550A (zh) 单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法
KR102072679B1 (ko) 박막 증착용 마스크 어셈블리 제조 방법
KR102660074B1 (ko) 마스크 조립체 및 마스크 프레임의 연마 방법
KR20120140473A (ko) 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
JP2005163111A (ja) 蒸着マスクおよびその製造方法
JP2004014513A (ja) 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
JP5895540B2 (ja) 蒸着マスク
US10741763B2 (en) Division mask with clamping portion
CN113015821B (zh) 掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置
KR20150049005A (ko) 마스크 조립체
JP5846279B2 (ja) メタルマスクとメタルマスク部材
JP5636863B2 (ja) メタルマスクとメタルマスク部材
KR102640219B1 (ko) 분할 마스크
KR102100296B1 (ko) 분할 마스크 조립체

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid