KR20150048104A - Connector and flexible wiring board - Google Patents

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카즈마사 타케우치
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히타치가세이가부시끼가이샤
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Abstract

상대측 커넥터에 삽입되어 배선을 접속하기 위해 이용되는 삽입측 커넥터가 개시된다.
커넥터는, 가요성 기재와, 가요성 기재의 한쪽 면측에 배치된 배선 단자와, 가요성 기재의 상기 배선 단자와는 반대 면측에서 가요성 기재의 단부 상에 배치되며, 가요성 기재와 대향하는 대향면을 갖는, 수지를 포함하는 수지층을 구비한다.
수지층의 해당 커넥터의 선단측 단부는, 대향면으로부터 가요성 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖는다.
An insertion-side connector inserted into a mating connector and used for connecting wiring.
The connector includes a flexible substrate, a wiring terminal disposed on one side of the flexible substrate, and a flexible substrate disposed on an end of the flexible substrate opposite to the wiring terminal of the flexible substrate, And a resin layer containing a resin.
The front end of the connector of the resin layer has a surface forming a convex curved surface that curves from the opposite surface toward the flexible substrate.

Description

커넥터 및 플렉시블 배선판{CONNECTOR AND FLEXIBLE WIRING BOARD}CONNECTOR AND FLEXIBLE WIRING BOARD}

본 발명은, 커넥터 및 플렉시블 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a connector and a flexible wiring board.

종래, 편면(片面), 양면 또는 다층의 각종 프린트 배선판이, 산업 기기 또는 민생 기기 분야에서 널리 사용되고 있다. 전자 기기에서는 1매의 프린트 배선판만이 사용되고 있는 일은 적어, 예를 들면, 기능별로 나눠진 복수의 프린트 배선판이 사용되고 있다. 통상, 복수의 배선판 사이는 각종 커넥터로 접속된다.
2. Description of the Related Art Conventionally, various printed wiring boards of single-sided, double-sided or multi-layer have been widely used in the field of industrial equipment or consumer electronics. In an electronic device, only one printed wiring board is rarely used. For example, a plurality of printed wiring boards divided into functional units are used. Normally, a plurality of wiring boards are connected by various connectors.

플렉시블 배선판은, 폴리이미드 등의 베이스 재료, 도체 재료, 접착제 및 커버레이를 기본 재료로 하여 구성되며, 전자 기기의 경박단소화(輕薄短小化)에 따라, 최근 휴대 전화, 비디오 카메라 및 노트북 등에 조립되어 있다. 플렉시블 배선판은, 강성이 낮기 때문에, 일반적으로, 전자 부품의 탑재 부분, 및 커넥터 부분에 보강용 부재(보강판)가 붙여진 상태로 실장되어 있다(예를 들면 특허문헌 1).
The flexible wiring board is composed of a base material such as polyimide, a conductor material, an adhesive, and a coverlay as basic materials. Recently, the flexible wiring board has been assembled into a cellular phone, a video camera and a notebook computer . Generally, the flexible wiring board is mounted with a reinforcing member (reinforcing plate) attached to a mounting portion and a connector portion of an electronic component (for example, Patent Document 1).

플렉시블 배선판의 보강판으로서는, 폴리에스테르 필름, 스테인리스판 및 알루미늄판 등의 금속판, 세라믹, 및 글라스 클로스 기재 에폭시 수지 적층판 등이 사용되고 있다. 그러나 펀칭(打拔) 가공성, 내열성(耐熱性) 및 가공성이 뛰어난 두꺼운 폴리이미드 필름이, 커넥터의 보강판의 주류가 되어 있다. 보강판은, 기재의 한쪽 면에 배치된 배선 단자와 반대 면측의 기재 위에 접착제를 개재하여 붙여진다.(예를 들면 비 특허문헌 1을 참조).As the reinforcing plate of the flexible wiring board, a metal plate such as a polyester film, a stainless plate and an aluminum plate, a ceramic, and a glass cloth based epoxy resin laminated plate are used. However, the thick polyimide film excellent in punching workability, heat resistance (heat resistance) and workability is the mainstream of the reinforcing plate of the connector. The reinforcing plate is bonded to the substrate on the opposite surface side with the wiring terminal disposed on one side of the substrate with an adhesive interposed therebetween (for example, refer to Non-Patent Document 1).

특허문헌 1: 특개 2005-51177호 공보Patent Document 1: JP-A-2005-51177

비 특허문헌 1: 전자 재료, 2004년 10월호Non-Patent Document 1: Electronic Materials, October 2004

그러나 특허문헌 1 및 비 특허문헌 1에 기재되어 있는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 또는 폴리이미드 필름을 보강판으로 갖는 커넥터에서는, 상대측 커넥터에의 삽입이 원활하게 이루어지지 않는 경우가 있었다.
However, in the connector described in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1, in which a polyethylene terephthalate film or a polyimide film is used as a reinforcing plate, insertion into the mating connector may not be smoothly performed.

그래서 본 발명은, 매끄러운 삽입성을 갖는 커넥터 및 이를 구비한 플렉시블 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a connector having a smooth insertion property and a flexible wiring board having the connector.

본 발명은, 상대측 커넥터에 삽입되어 배선을 접속하기 위해 이용되는 삽입측 커넥터에 관한 것이다. 본 발명에 따른 커넥터는, 가요성 기재(可撓性基材)와, 가요성 기재의 한쪽 면측에 배치된 배선 단자와, 가요성 기재의 배선 단자와는 반대 면측에서 가요성 기재의 단부 상에 배치되며, 가요성 기재와 대향하는 대향면을 갖는, 수지를 포함하는 수지층을 구비하고 있다. 수지층의 해당 커넥터의 선단측 단부는, 대향면으로부터 가요성 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖고 있어도 된다.
The present invention relates to an insertion-side connector used for connecting a wiring inserted into a mating connector. A connector according to the present invention comprises a flexible substrate (flexible substrate), a wiring terminal disposed on one side of the flexible substrate, and a wiring terminal disposed on the end of the flexible substrate on the side opposite to the wiring terminal of the flexible substrate And a resin layer including a resin, the resin layer having a facing surface opposed to the flexible substrate. The front end of the connector of the resin layer may have a surface forming a convex curved surface that curves from the opposite surface toward the flexible substrate.

상기 수지층의 해당 커넥터의 선단측 단부가, 가요성 기재와 대향하는 대향면으로부터 가요성 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖고 있는 것으로부터, 해당 커넥터를 상대측 커넥터에 삽입할 때의 저항감이 감소하여, 충분히 매끄러운 삽입성이 얻어진다.
Since the front end of the connector of the resin layer has a surface forming a convex curved surface that curves toward the flexible substrate from the opposed surface opposed to the flexible substrate when the connector is inserted into the mating connector So that the insertability is sufficiently smooth.

상기 수지층은, 무기(無機) 필러를 더 포함하고 있어도 된다. 무기 필러는, 예를 들면 실리카 입자여도 된다. 상기 수지층에 있어서의 무기 필러의 함유량은, 상기 수지층의 체적에 대해 30∼70체적%여도 된다.
The resin layer may further include an inorganic (inorganic) filler. The inorganic filler may be, for example, silica particles. The content of the inorganic filler in the resin layer may be 30 to 70% by volume with respect to the volume of the resin layer.

가요성 기재는, 폴리에스테르 기재 또는 폴리이미드 기재여도 된다. 가요성 기재의 두께는, 75㎛ 이하여도 된다.
The flexible substrate may be a polyester substrate or a polyimide substrate. The thickness of the flexible substrate may be 75 mu m or less.

상기 수지층의 25℃에서의 초기 인장 탄성률은, 0.3∼3.0㎬이어도 된다. 상기 수지층의 두께는, 50∼500㎛이어도 된다.
The initial tensile modulus of elasticity of the resin layer at 25 캜 may be 0.3 to 3.0 kPa. The thickness of the resin layer may be 50 to 500 mu m.

본 발명은 또한, 상기 커넥터와, 회로용 가요성 기재와, 회로용 가요성 기재 위에 마련되며, 커넥터의 배선 단자에 접속된 회로를 구비하는 플렉시블 배선판에 관한 것이다. 커넥터의 가요성 기재와 회로용 가요성 기재가 동일한 1매의 기재여도 되고, 커넥터의 가요성 기재와 다른 회로용 가요성 기재가 연결되어 있어도 된다.The present invention also relates to a flexible wiring board comprising the connector, the flexible substrate for circuit, and the circuit provided on the flexible substrate for circuit and connected to the wiring terminal of the connector. The flexible substrate of the connector and the flexible substrate for the circuit may be the same substrate, and the flexible substrate of the connector may be connected to another flexible substrate for the circuit.

본 발명에 따르면, 매끄러운 삽입성을 갖는 커넥터 및 이를 구비한 플렉시블 배선판을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a connector having a smooth insertion property and a flexible wiring board having the same.

[도 1] 커넥터의 일 실시형태를 나타내는 모식도이다.
[도 2] 도 1에 나타내는 커넥터의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따른 단면도(端面圖)이다.
[도 3] 수지층 형상의 변형예를 나타내는 단면도(端面圖)이다.
[도 4] 커넥터의 다른 실시형태를 나타내는 단면도(端面圖)이다.
[도 5] 커넥터의 다른 실시형태를 나타내는 단면도(端面圖)이다.
[도 6] 커넥터의 다른 실시형태를 나타내는 단면도(端面圖)이다.
[도 7] 커넥터의 제조 방법의 일 실시형태를 나타내는 공정도이다.
[도 8] 커넥터의 내구성 시험 방법을 나타내는 개략 설명도이다.
[도 9] 커넥터의 단면(斷面)의 광학 현미경 사진이다.
[도 10] 수지층의 단면(斷面)의 주사형 전자 현미경 사진이다.
1 is a schematic view showing an embodiment of a connector.
2 is a sectional view of the connector shown in Fig. 1 taken along the line II-II '; Fig.
Fig. 3 is a cross-sectional view (end view) showing a modified example of the shape of the resin layer.
[Fig. 4] is a cross-sectional view (end view) showing another embodiment of the connector.
5 is a sectional view (end view) showing another embodiment of the connector.
6 is a cross-sectional view (end view) showing another embodiment of the connector.
7 is a process diagram showing one embodiment of a method for manufacturing a connector.
8 is a schematic explanatory view showing a durability test method of a connector.
9 is an optical microscope photograph of a cross section of a connector.
10 is a scanning electron micrograph of a cross section of the resin layer.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 상세히 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 기재되는 모든 구성은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 임의로 조합할 수 있다. 예를 들면, 본 명세서에 기재되는 수치 범위의 상한치 및 하한치, 및 실시예에 기재되는 수치로부터 임의로 선택되는 수치를 상한치 또는 하한치로서 이용하여, 각종 특성에 관한 수치 범위를 규정할 수 있다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. All the constitutions described in this specification can be arbitrarily combined within a range not deviating from the gist of the present invention. For example, a numerical range relating to various characteristics can be defined by using, as an upper limit value or a lower limit value, a numerical value arbitrarily selected from numerical values described in the upper and lower limits of the numerical range described in this specification, and numerical values described in the embodiment.

도 1은, 커넥터의 일 실시형태를 나타내는 모식도이다. 도 2는, 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따른 단면도이다. 도 1, 도 2에 나타내는 커넥터(10)는, 가요성 기재(2)와, 가요성 기재(2)의 한쪽 면측에 배치된 배선 단자(1)와, 가요성 기재(2)의 배선 단자(1)와는 반대 면측에서 가요성 기재(2)의 단부 위에 배치된 수지층(3)으로 구성된다. 가요성 기재(2)의 강성은, 수지층(3)과 접하고 있는 부분에서, 수지층(3)이 형성되어 있지 않은 때와 비교하여 높아져 있다. 커넥터(10)는, 상대측 커넥터에 삽입되어 배선을 접속하기 위해 이용되는 삽입측 커넥터이다. 커넥터(10)의 선단을 상대측 커넥터에 삽입함으로써, 예를 들면, 기계적, 또 전기(전자)적인 접속에 의해 전송 가능하게 되는 상태가 얻어진다. 커넥터(10)는, 필요에 따라 안전하게, 또 간단하게 탈착할 수 있다.
1 is a schematic view showing an embodiment of a connector. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II 'in Fig. The connector 10 shown in Figs. 1 and 2 includes a flexible substrate 2, a wiring terminal 1 disposed on one side of the flexible substrate 2, And a resin layer 3 disposed on the end of the flexible substrate 2 on the side opposite to the side of the substrate 1. The rigidity of the flexible base material 2 is higher at a portion in contact with the resin layer 3 as compared with the case where the resin layer 3 is not formed. The connector 10 is an insertion-side connector which is inserted into a mating connector and used for connecting wiring. By inserting the tip end of the connector 10 into the mating connector, a state can be obtained that can be transmitted, for example, by mechanical or electrical (electronic) connection. The connector 10 can be safely and easily removed as needed.

도 2에는, 회로용 가요성 기재(52) 및 회로용 가요성 기재(52) 상에 마련된 회로(51)가, 커넥터(10)와 함께 도시되어 있다. 회로(51)는, 커넥터(10)의 배선 단자(1)에 접속되어 있다. 커넥터(10), 회로용 가요성 기재(52) 및 회로(51)에 의해, 플렉시블 배선판(100)이 구성된다. 커넥터의 가요성 기재(2) 및 회로용 가요성 기재(52)는, 동일한 1매의 기재여도 되고, 서로 연결된 각각의 기재여도 된다.
2, a circuit 51 provided on a flexible substrate 52 for a circuit and a flexible substrate 52 for a circuit is shown together with the connector 10. The circuit 51 is connected to the wiring terminal 1 of the connector 10. The flexible wiring board 100 is constituted by the connector 10, the flexible substrate 52 for circuit, and the circuit 51. The flexible substrate 2 of the connector and the flexible substrate 52 for the circuit may be the same one substrate or each substrate connected to each other.

가요성 기재(2)는, 절곡(折曲) 가능한 유연성을 보여 주는 것이라면, 특별히 한정은 되지 않지만, 강인성의 점에서, 폴리에스테르 기재(폴리에스테르 필름) 또는 폴리이미드 기재(폴리이미드 필름)여도 되고, 강인성과 내열성의 점에서, 폴리이미드 기재(폴리이미드 필름)여도 된다. 가요성 기재(2)의 두께는, 절곡성의 점에서, 75㎛ 이하여도 된다. 가요성 기재(2)의 두께는, 10㎛ 이상이어도 된다.
The flexible base material 2 may be a polyester base material (polyester film) or a polyimide base material (polyimide film) from the viewpoint of toughness, although it is not particularly limited as long as it shows flexibility capable of bending , And may be a polyimide substrate (polyimide film) in view of toughness and heat resistance. The thickness of the flexible base material 2 may be 75 m or less in terms of bending property. The thickness of the flexible base material 2 may be 10 占 퐉 or more.

배선 단자(1)는, 예를 들면, 금속 등의 도체로 형성된 도체층이다. 배선 단자(1)의 두께는, 5∼40㎛이어도 된다.
The wiring terminal 1 is, for example, a conductor layer formed of a conductor such as a metal. The thickness of the wiring terminal 1 may be 5 to 40 mu m.

수지층(3)은, 통상, 경화성 수지 조성물의 경화물(硬化物)을 수지로 포함한다. 수지층(3)을 형성하기 위해 이용되는 경화성 수지 조성물의 상세에 대해서는 후술된다.
The resin layer 3 usually contains a cured product (cured product) of the curable resin composition as a resin. Details of the curable resin composition used for forming the resin layer 3 will be described later.

수지층(3)은, 가요성 기재(2)에 접하는 면의 반대측에 위치하는 표면으로서, 가요성 기재(2)와 대향하는 대향면(6)을 갖고 있다. 수지층(3)의 커넥터(10)의 선단측(상대측 커넥터에 삽입하는 부분인 쪽)의 단부(3a)는, 대향면(6)으로부터 가요성 기재(2)를 향해 만곡(彎曲)하여, 수지층(3)의 외측을 향해 볼록한 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면(7)을 갖는다. 수지층(3)의 단부(3a)의 표면(7)이 볼록 곡면을 형성함으로써, 상대측 커넥터에 삽입시의 저항이 감소하여, 매끄러운 삽입성이 얻어진다.
The resin layer 3 has a facing surface 6 facing the flexible substrate 2 as a surface located on the opposite side of the surface in contact with the flexible substrate 2. The end 3a of the resin layer 3 on the front end side (the portion to be inserted into the mating connector) of the connector 10 is curved from the opposing face 6 toward the flexible base 2, And a surface 7 forming a convex curved surface convex toward the outside of the resin layer 3. Since the surface 7 of the end 3a of the resin layer 3 forms a convex surface, resistance at the time of insertion into the mating connector decreases, and smooth insertion property is obtained.

본 실시형태에 따른 커넥터에서, 수지층(3)의 커넥터(10)의 선단과는 반대측의 단부도, 대향면(6)으로부터 가요성 기재(2)를 향해 만곡하여 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖고 있다. 단, 커넥터(10)의 선단과는 반대측의 단부의 표면은, 볼록 곡면을 형성하고 있지 않아도 된다. 또한, 커넥터(10)의 측방(側方)측의 수지층(3)의 단부가, 대향면(6)으로부터 가요성 기재(2)를 향해 만곡하여 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖고 있어도 된다.
In the connector according to the present embodiment, the end portion of the resin layer 3 opposite to the front end of the connector 10 is also curved from the opposing face 6 toward the flexible base 2 to form a convex curved surface Lt; / RTI > However, the surface of the end portion on the opposite side of the tip of the connector 10 does not need to form a convex surface. The end of the resin layer 3 on the side of the connector 10 may have a surface curving from the opposing face 6 toward the flexible base 2 to form a convex curved surface .

수지층(3)의 단부(3a)의 표면(가요성 기재(2)에 접하고 있지 않은 부분의 표면)은, 그 일부 또는 전체가 볼록 곡면을 형성하고 있으면 된다. 수지층(3)의 단부(3a)는, 도 2의 실시형태와 같이, 가요성 기재의 주면(主面)의 수선(垂線)을 따른 평면을 형성하는 표면을 갖고 있어도 된다. 도 3 (a), (b)는, 수지층 형상의 변형예를 나타내는 단면도이다. 도 3 (b)에 나타내는 실시형태의 경우, 수지층(3)의 단부(3a)의, 커넥터의 선단측의 측면 전체가, 볼록 곡면을 형성하고 있다.
The surface of the end 3a of the resin layer 3 (the surface of the portion not in contact with the flexible substrate 2) may have a convex surface in part or in whole. The end 3a of the resin layer 3 may have a surface that forms a plane along the normal line of the main surface of the flexible substrate as in the embodiment of Fig. 3 (a) and 3 (b) are cross-sectional views showing a modified example of the resin layer shape. In the embodiment shown in Fig. 3 (b), the entire side surface of the end portion of the connector at the end 3a of the resin layer 3 forms a convex surface.

수지층(3)의 두께는, 50∼500㎛, 70∼300㎛, 또는 75∼200㎛여도 된다. 수지층(3)의 두께가 이들 범위 내이면, 수지층의 형성이 용이하다. 또한, 수지층(3)이 간단하게는 굴곡하지 않기 때문에, 특히 우수한 커넥터의 형상 유지성이 얻어진다. 수지층(3)의 커넥터의 삽입 방향에 있어서의 길이는, 예를 들면, 3∼30㎜여도 된다. 수지층(3)은, 가요성 기재의 폭 방향 전체에 걸쳐 마련되어 있어도 되고, 필요한 강성이 얻어지는 범위에서, 폭 방향에 있어서의 일부 영역에만 마련되어 있어도 된다.
The thickness of the resin layer 3 may be 50 to 500 mu m, 70 to 300 mu m, or 75 to 200 mu m. If the thickness of the resin layer 3 is within these ranges, the formation of the resin layer is easy. In addition, since the resin layer 3 is not easily bent, excellent shape retention of the connector is obtained. The length of the resin layer 3 in the insertion direction of the connector may be, for example, 3 to 30 mm. The resin layer 3 may be provided over the entire width direction of the flexible substrate, or may be provided only in a part of the width direction within a range in which required rigidity is obtained.

수지층(3)의 25℃에서의 초기 인장 탄성률은, 0.3∼3.0㎬, 0.5∼2.5㎬, 또는 1.0∼2.2㎬이어도 된다. 수지층(3)의 초기 인장 탄성률이 이들 범위 내이면, 수지층(3)의 크랙이 발생하기 어렵고, 또 한층 더 뛰어난 삽입성이 얻어진다.
The initial tensile elastic modulus of the resin layer 3 at 25 캜 may be 0.3 to 3.0 kPa, 0.5 to 2.5 kPa, or 1.0 to 2.2 kPa. When the initial tensile modulus of elasticity of the resin layer 3 is within these ranges, cracking of the resin layer 3 is less likely to occur, and more excellent insertion property can be obtained.

수지층(3)의 25℃에서의 초기 인장 탄성률은, 직사각형 모양의 수지층에 대해 인장 속도 50㎜/분으로 인장 응력을 가했을 때에 얻어지는 응력-변위 곡선의 접선의 기울기의 최대치로부터 구할 수 있다. 직사각형 모양의 수지층은, 예를 들면, 후술하는 경화성 수지 조성물을 경화하여 형성되는 판 모양의 수지층으로부터 잘라내는 것에 의해, 준비할 수 있다. 초기 인장 탄성률의 측정 방법의 상세는, 후술하는 실시예에서 상세히 설명된다.
The initial tensile modulus at 25 deg. C of the resin layer 3 can be obtained from the maximum value of the slope of the tangent line of the stress-displacement curve obtained when the tensile stress is applied to the rectangular resin layer at a tensile speed of 50 mm / min. The rectangular resin layer can be prepared, for example, by cutting it from a plate-like resin layer formed by curing a curable resin composition described later. The details of the method of measuring the initial tensile modulus are described in detail in Examples described later.

상기 수치 범위 내의 초기 인장 탄성률은, 예를 들면, 수지에 더해 무기 필러를 더 함유하는 수지층에 의해 달성할 수 있다.
The initial tensile modulus in the above numerical range can be achieved, for example, by a resin layer containing an inorganic filler in addition to the resin.

수지층(3) 안의 무기 필러는, 1종의 입자로 구성되어 있어도 되고, 2종 이상의 입자의 조합으로 구성되어 있어도 된다. 무기 필러의 평균 입자경은, 1∼100㎛, 1∼50㎛, 1∼20㎛, 또는 1.5∼10㎛이어도 된다. 무기 필러는, 평균 입자경이 다른 복수 종의 필러의 혼합물이어도 된다. 이에 의해, 무기 필러에 의한 공간 충전율을 높일 수 있다.
The inorganic filler in the resin layer (3) may be composed of one kind of particles or a combination of two or more kinds of particles. The average particle diameter of the inorganic filler may be 1 to 100 占 퐉, 1 to 50 占 퐉, 1 to 20 占 퐉, or 1.5 to 10 占 퐉. The inorganic filler may be a mixture of plural kinds of fillers having different average particle diameters. Thereby, the space filling rate by the inorganic filler can be increased.

무기 필러의 평균 입자경은, 수지층(3)을 주사형 전자 현미경(Scanning Electron Microscope)에 의해, 예를 들면 배율 1000배로 관찰하여, 관찰된 복수의 무기 필러의 입자경(최대 직경)의 산술 평균이다. 평균 입자경을 구하기 위해 입자경이 측정되는 무기 필러의 수는, 예를 들면 50개 이상이다.
The average particle diameter of the inorganic filler is an arithmetic average of the particle diameters (maximum diameters) of the plurality of inorganic fillers observed by observing the resin layer 3 with a scanning electron microscope at, for example, a magnification of 1000 times . The number of inorganic fillers in which the particle size is measured to obtain the average particle size is, for example, 50 or more.

수지층(3)에 있어서의 무기 필러의 함유량은, 수지층의 강도와 초기 인장 탄성률의 점에서 수지층(3)의 체적에 대해 30∼70체적%, 40∼65체적%, 또는 50∼65체적%이어도 된다. 또한, 수지층(3)에 있어서의 무기 필러의 함유량은, 수지층의 강도와 초기 인장 탄성률의 점에서 수지층(3)의 질량에 대해 40∼85질량%, 45∼80질량%, 또는 50∼80질량%이어도 된다.
The content of the inorganic filler in the resin layer 3 is preferably 30 to 70% by volume, 40 to 65% by volume, or 50 to 65% by volume with respect to the volume of the resin layer 3 in terms of the strength of the resin layer and the initial tensile elastic modulus Volume%. The content of the inorganic filler in the resin layer 3 is preferably 40 to 85 mass%, 45 to 80 mass%, or 50 (mass%) based on the mass of the resin layer 3 in terms of the strength of the resin layer and the initial tensile modulus To 80% by mass.

무기 필러는, 실리카 입자를 포함하고 있어도 된다. 실리카 입자는 특별히 한정은 없어, 예를 들면, 구상(球狀) 실리카, 분쇄에 의해 미세화된 파쇄 실리카, 건식 실리카 또는 습식 실리카여도 된다.
The inorganic filler may contain silica particles. The silica particles are not particularly limited and may be, for example, spherical silica, crushed silica finely pulverized, dry silica or wet silica.

구상 실리카 입자를 선택한 경우, 수지층(3)의 표면이 평활해져, 매끄러운 삽입성이 얻어진다. 또한, 더 뛰어난 내마모성 및 내(耐)크랙성을 얻을 수도 있다.
When the spherical silica particles are selected, the surface of the resin layer 3 becomes smooth, and smooth insertion property is obtained. Further, excellent abrasion resistance and crack resistance can be obtained.

구상 실리카 입자는, 예를 들면 졸겔법에 의해 얻을 수 있다. 구상 실리카 입자의 평균 입자경은, 0.05∼50㎛, 0.1∼50㎛, 0.2∼30㎛, 또는 0.5∼20㎛이어도 된다.
The spherical silica particles can be obtained by, for example, a sol-gel method. The average particle diameter of the spherical silica particles may be 0.05 to 50 탆, 0.1 to 50 탆, 0.2 to 30 탆, or 0.5 to 20 탆.

구상 실리카 입자는, 거의 구에 가까운 형상(JIS Z2500:2000 참조)을 갖고 있으면 되고, 반드시 완전한 구 모양일 필요는 없다. 입자의 긴 지름(長徑)(DL)과 짧은 지름(短徑)(DS)의 비(DL)/(DS)(구상 계수 또는 진구도라고 하는 경우가 있다.)는, 1.0∼1.2이어도 된다.
The spherical silica particles need only have a nearly spherical shape (see JIS Z2500: 2000), and it is not always necessary to have a perfect spherical shape. The ratio DL / DS of the long diameter (DL) and the short diameter (DS) of the particles (sometimes referred to as spherical coefficient or sphericity) may be 1.0 to 1.2 .

구상 실리카 입자로서는, MSR-2212, MSR-SC3, MSR-SC4, MSR-3512, MSR-FC208(이상, 가부시키가이샤 타츠모리제 상품명), 엑세리카(가부시키가이샤 쿠야마제 상품명), SO-E1, SO-E2, SO-E3, SO-E5, SO-E6, SO-C1, SO-C2, SO-C3, SO-C5, SO-C6, SO-25R(이상, 아도마테크 가부시키가이샤제 상품명), FB-5D, FB-12D, FB-20D, FB-105, FB-940, FB-9454, FB-950, FB-105FC, FB-870FC, FB-875FC, FB-9454FC, FB-950FC, FB-105FD, FB-970FD, FB-975FD, FB-950FD, FB-300FD, FB-300FD, FB-400FD, FB-400FE, FB-7SDC, FB-5SDC, FB-3SDC(이상, 덴키가가쿠고교 가부시키가이샤제 상품명) 등을 들 수 있다.
Examples of the spherical silica particles include MSR-2212, MSR-SC3, MSR-SC4, MSR-3512 and MSR-FC208 (trade names, available from Tatsumori Kikai Co., SO-E2, SO-E3, SO-E5, SO-E6, SO-C1, SO-C2, SO-C3, SO-C5, SO- FB-950FC, FB-9504, FB-9504, FB-9504, FB-950, FB-5SDC, FB-3SDC (above, Denki Kagaku Co., Ltd., hereinafter referred to as " FB-5FDF " Trade name, manufactured by Takara Shuzo Co., Ltd.).

실리카 입자는 표면 처리되어 있어도 된다. 실리카 입자를 표면 처리하기 위해 이용되는 표면 처리제는, 예를 들면, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴록시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴록시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴록시프로필트리메톡시실란, n-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필 메틸디메톡시실란트리에톡시실란, n-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, n-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시시릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란의 염산염, 3-우레이드프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시시릴프로필)테트라술피드, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, 디메틸실란의 중축합물, 디페닐실란의 중축합물, 및 디메틸실란과 디페닐실란의 공중축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이다. 이들 중에서, 아크릴 수지와의 상용성의 점에서 N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란을 선택할 수 있다.
The silica particles may be surface-treated. The surface treatment agent used for surface treatment of the silica particles may be, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, , p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltri (Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, n-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane triethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminov Aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane , Hydrochloride salt of N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureide propyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3- (3-isocyanatopropyltriethoxysilane, polycondensation product of dimethylsilane, polycondensation product of diphenylsilane, and condensation product of dimethylsilane and diphenylsilane), And one kind or two or more kinds selected from the group consisting of Of these, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane can be selected from the viewpoint of compatibility with an acrylic resin.

수지층(3)은, 무기 필러로서, 흄드실리카를 포함하고 있어도 된다. 흄드실리카는, 수지층(3)을 형성하기 위해 이용되는 후술하는 액상 조성물의 인쇄성을 제어하기 위해 이용되는 경우가 있다. 흄드실리카의 시판품으로서는, 에어로질 50, 90G, 130, 200, 300 및 380 등의 친수성 실리카, 및, R972, R972CF, R972V, R974, R9765, R140, RX50, NAX50, NX90G, RX200, RX300, R812, R8200 및 R200H 등의 소수성 실리카(이상, 니뽄에어로질 가부시키가이샤 상품명)를 들 수 있다.
The resin layer 3 may contain fumed silica as an inorganic filler. The fumed silica may be used to control the printability of a liquid composition to be described later which is used for forming the resin layer 3. Examples of commercially available fumed silica include hydrophilic silica such as Aerosil 50, 90G, 130, 200, 300 and 380 and hydrophilic silica such as R972, R972CF, R972V, R974, R9765, R140, RX50, NAX50, NX90G, RX200, RX300, R812 , R8200 and R200H (trade names, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.).

도 4는, 커넥터의 다른 실시형태를 나타내는 단면도이다. 도 4에 나타내는 커넥터(10)의 가요성 기재(2)는, 플렉시블 기판(40)과, 플렉시블 기판(40)의 수지층(3)측의 주면 상에 마련된 커버 필름(41)으로 구성된다. 커버 필름(41)은, 예를 들면, 배선 단자(1)의 보호를 위한 필름 또는 솔더 레지스트로서 기능할 수 있다. 커버 필름(41)은, 플렉시블 기판(40)의 배선 단자(1)측의 주면 상에 마련되어 있어도 되고, 플렉시블 기판(40)의 양면 상에 마련되어 있어도 된다. 플렉시블 기판(40)으로서는, 가요성 기재(2)와 동일한 기재를 사용할 수 있다.
4 is a cross-sectional view showing another embodiment of the connector. The flexible substrate 2 of the connector 10 shown in Fig. 4 is composed of a flexible substrate 40 and a cover film 41 provided on the main surface of the flexible substrate 40 on the resin layer 3 side. The cover film 41 can serve as a film or a solder resist for protecting the wiring terminal 1, for example. The cover film 41 may be provided on the main surface of the flexible substrate 40 on the wiring terminal 1 side or may be provided on both surfaces of the flexible substrate 40. As the flexible substrate 40, the same substrate as the flexible substrate 2 can be used.

커버 필름(41)은, 각종 열경화성 또는 감광성 수지 필름 등을 이용하여 형성할 수 있다. 커버 필름(41)을 형성하기 위해 이용되는 수지 필름의 시판품으로서는, 예를 들면, 니카플렉스 CTSV, CISV, CISA, CKSE, CISG, CKSG(이상, 닛칸고교 가부시키가이샤제 상품명), 파이라룩스 PC1000(이상, 듀폰 가부시키가이샤제 상품명), 레이텍 FR-7025, FR-7038, FR-7050, FZ-2520G, FZ-2525G, FZ-2530G, FZ-2535G(이상, 히타치가세이 가부시키가이샤제 상품명)를 들 수 있다.
The cover film 41 can be formed using various thermosetting or photosensitive resin films. Examples of commercial products of the resin film used for forming the cover film 41 include Nikaflex CTSV, CISV, CISA, CKSE, CISG and CKSG (trade names, manufactured by Nikkan Kogyo Kabushiki Kaisha) FZ-2530G, FZ-2535G (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name, manufactured by DuPont Co., Ltd.), Latec FR-7025, FR-7038, FR-7050, FZ-2520G, FZ- Trade name).

도 5도 커넥터의 다른 실시형태를 나타내는 단면도이다. 도 5에 나타내는 커넥터의 가요성 기재(2)는, 플렉시블 기판(40)과, 플렉시블 기판(40)의 수지층(3)측의 주면 상에 차례로 마련된 비 배선 금속층(42) 및 커버 필름(41)으로 구성된다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 가요성 기재(2)가, 플렉시블 기판(40)과 플렉시블 기판(40)의 수지층(3)측의 주면 상에 마련된 비 배선 금속층(42)으로 구성되어, 커버 필름(41)을 갖고 있지 않아도 된다.
5 is a cross-sectional view showing another embodiment of the connector. 5 includes a flexible substrate 40 and a nonwiring metal layer 42 and a cover film 41 which are sequentially provided on the main surface on the side of the resin layer 3 of the flexible substrate 40 ). 6, the flexible substrate 2 is composed of the flexible substrate 40 and the non-wiring metal layer 42 provided on the main surface of the flexible substrate 40 on the resin layer 3 side, (41).

커넥터(10)는, 예를 들면, 가요성 기재(2)의 한쪽 면측에 배선 단자(1)를 마련하는 공정과, 가요성 기재(2)의 배선 단자(1)와는 반대측의 면측에 수지층(3)을 형성하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 배선 단자(1)는 수지층(3)을 형성하기 전에 마련되어도 되고, 수지층(3)을 형성한 후에 마련되어도 된다.
The connector 10 includes a step of providing the wiring terminal 1 on one side of the flexible substrate 2 and a step of forming the resin layer 2 on the side opposite to the wiring terminal 1 of the flexible substrate 2, (3). ≪ / RTI > The wiring terminals 1 may be provided before forming the resin layer 3 or after the resin layer 3 is formed.

수지층(3)은, 예를 들면, 경화성 수지 조성물 및 필요에 따라 무기 필러를 포함하는 액상 조성물(액상 잉크)을 가요성 기재에 바르는(塗工) 공정을 포함하는 방법에 의해 형성할 수 있다. 이러한 액상 조성물을 이용한 방법에 따르면, 간편한 공정으로 강직(剛直)한 수지층을 형성할 수 있다. 수지층의 두께는, 인쇄 등의 방법에 따라 용이하게 정밀하게 제어할 수 있다. 그 때문에, 두께 사양이 다른 제품을 효율적으로 제조할 수 있다. 또한, 인쇄 등의 방법에 의하면, 가요성 기재 위의 임의 위치에, 수작업에 따르는 일없이, 매우 효율적으로 수지층을 형성할 수 있다. 나아가, 내(耐)리플로우성도 뛰어난 수지층을 형성할 수 있다.
The resin layer 3 can be formed by a method including, for example, a step of applying a liquid composition (liquid ink) containing a curable resin composition and, if necessary, an inorganic filler, to a flexible substrate . According to the method using such a liquid composition, a rigid resin layer can be formed by a simple process. The thickness of the resin layer can be easily and precisely controlled by a method such as printing. Therefore, products having different thickness specifications can be efficiently produced. Further, according to the method such as printing, the resin layer can be formed very efficiently at any position on the flexible substrate, without depending on manual operation. Further, a resin layer having excellent resistance to reflow can be formed.

도 7은, 액상 조성물(5)을 이용하여 수지층(3)을 형성하는 방법의 일 실시형태를 나타내는 공정도이다. 우선, 경화성 수지 조성물을 포함하는 액상 조성물(5)과, 개구부(4a)를 갖는 메탈 마스크(4)를 준비한다(도 7(a) 참조). 액상 조성물(5)은, 경화성 수지 조성물이 용해 또는 분산하는 용제를 포함하고 있어도 된다.
Fig. 7 is a process chart showing one embodiment of a method of forming the resin layer 3 using the liquid composition 5. Fig. First, a liquid composition 5 containing a curable resin composition and a metal mask 4 having openings 4a are prepared (see Fig. 7 (a)). The liquid composition (5) may contain a solvent which dissolves or disperses the curable resin composition.

다음으로, 메탈 마스크(4)의 개구부(4a)에 액상 조성물(5)을 충전하고, 가요성 기재(2)에 인쇄한다(도 7(b) 참조). 액상 조성물을 도포하는 방법은, 메탈 마스크를 이용한 인쇄 외에, 스크린 인쇄, 바 코터 등으로 적절히 선택할 수 있다.
Next, the liquid composition 5 is filled in the opening 4a of the metal mask 4 and printed on the flexible substrate 2 (see Fig. 7 (b)). The method of applying the liquid composition can be appropriately selected from screen printing, bar coater, and the like in addition to printing using a metal mask.

도포된 액상 조성물(5)로부터, 필요에 따라 가열 등의 방법으로 용제가 제거되어, 미경화(未硬化) 수지층(3)이 형성된다(도 7(c) 참조). 미경화 수지층(3) 속의 경화성 수지 조성물을 경화하는 것에 의해, 경화성 수지 조성물의 경화물을 수지로서 포함하는 수지층(3)이 형성된다. 경화성 수지 조성물의 경화는, 예를 들면, 가열 또는 광조사에 의해 행할 수 있다. 메탈 마스크(4)는, 예를 들면, 경화성 수지 조성물의 도포 후, 떼어낼 수 있다. 액상 조성물의 도포 및 경화를 거친 방법에 의하면, 볼록 곡면이 형성된 단부를 갖는 수지층을 용이하게 형성시킬 수 있다.
The solvent is removed from the applied liquid composition 5 by a method such as heating if necessary to form an uncured resin layer 3 (see Fig. 7 (c)). By curing the curable resin composition in the uncured resin layer (3), a resin layer (3) containing the cured resin composition as a resin is formed. The curing of the curable resin composition can be performed, for example, by heating or light irradiation. The metal mask 4 can be removed, for example, after application of the curable resin composition. According to the method in which the liquid composition is applied and cured, a resin layer having an end portion having a convex curved surface can be easily formed.

용제 제거(건조) 및 경화 온도는, 50∼250℃, 80∼200℃, 또는 100∼190℃이어도 된다.
The solvent removal (drying) and curing temperature may be 50 to 250 캜, 80 to 200 캜, or 100 to 190 캜.

예를 들면, 가요성 기재(2)를 펀칭 가공하는 것에 의해, 수지층(3)을 가요성 기재(2)의 단부 상에 배치할 수 있다(도 7(d) 참조).
For example, the resin layer 3 can be disposed on the end portion of the flexible substrate 2 by punching the flexible substrate 2 (see Fig. 7 (d)).

액상 조성물(5)은, 예를 들면, 경화성 수지 조성물과, 상술한 무기 필러와, 용제를 함유하고 있어도 된다. 경화성 수지 조성물은, 액상 조성물(5) 중 용제 및 무기 필러 이외의 성분으로 구성되며, 예를 들면, 열 및/또는 광에 의해 경화하는 경화성 수지와, 열가소성 수지를 함유한다. 경화성 수지는, 예를 들면 1종 또는 2종 이상의 에폭시 수지를 포함한다. 열가소성 수지는, 예를 들면, 1종 또는 2종 이상의 아크릴 수지(아크릴 모노머의 중합체)를 포함한다.
The liquid composition (5) may contain, for example, a curable resin composition, the above-described inorganic filler, and a solvent. The curable resin composition is composed of components other than the solvent and the inorganic filler in the liquid composition (5), and contains, for example, a curable resin that is cured by heat and / or light and a thermoplastic resin. The curable resin includes, for example, one or more kinds of epoxy resins. The thermoplastic resin includes, for example, one or more kinds of acrylic resins (polymers of acrylic monomers).

에폭시 수지는, 예를 들면, 비스페놀 A, 노보락형 페놀 수지 및 오르토크레졸 노보락형 페놀 수지 등의 다가 페놀, 또는 1,4-부탄디올 등의 다가 알코올과 에피크로로히드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에테르, 프탈산 및 헥사히드로프탈산 등의 다염기산과 에피크로로히드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에스테르, 아미노기, 아미드기, 또는 복소환식 질소염기를 갖는 화합물의 N-글리시딜 유도체, 및 지환식 에폭시 수지로부터 선택된다. 아크릴 수지와의 높은 상용성을 갖는 것으로부터, 비페닐아랄킬형 에폭시 수지를 선택할 수 있다.
Examples of the epoxy resin include polyglycidyl esters obtained by reacting epichlorohydrin with polyhydric phenols such as bisphenol A, novolak type phenol resin and orthocresol novolak type phenol resin, or polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol Polyglycidyl esters obtained by reacting epichlorohydrin with polybasic acids such as diethyl ether, phthalic acid and hexahydrophthalic acid, N-glycidyl derivatives of compounds having an amino group, amide group or heterocyclic nitrogen group, Type epoxy resin. A biphenyl aralkyl type epoxy resin can be selected because it has high compatibility with an acrylic resin.

경화성 수지는, 에폭시 수지 경화제를 포함하고 있어도 된다. 경화제는, 예를 들면, 디시안디아미드, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 무수프탈산, 무수피로멜리트산, 및 페놀노보락 및 크레졸노보락 등의 다관능성 페놀(페놀 수지)로부터 선택할 수 있다.
The curable resin may contain an epoxy resin curing agent. The curing agent may be selected from polyfunctional phenols (phenol resins) such as dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, and phenol novolak and cresol novolac .

페놀 수지는, 페놀형, 비스페놀 A형, 크레졸노보락형, 또는 아미노트리아진 노보락형 페놀 수지를 포함하고 있어도 된다. 아크릴 수지와의 상용성의 점에서 크레졸노보락형 및 아미노트리아진 노보락형 페놀 수지 중 한쪽 또는 양쪽을 선택할 수 있다. 아미노트리아진 노보락형 페놀 수지는, 아래의 구조식 (I)으로 표현되는 구조 단위를 갖는다.
The phenol resin may include phenol type, bisphenol A type, cresol novolak type, or aminotriazine novolak type phenol resin. One or both of cresol novolak type and aminotriazine novolak type phenol resin can be selected from the viewpoint of compatibility with an acrylic resin. The aminotriazine novolak-type phenol resin has a structural unit represented by the following structural formula (I).

Figure pct00001
Figure pct00001

[식 (I) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, n은 1∼30의 정수를 나타낸다.]
[In the formula (I), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 to 30.]

경화성 수지는, 수지층의 내열성 향상을 목적으로, 고분자량 성분을 포함하고 있어도 된다. 단, 경화성 수지를 구성하는 성분의 분자량은, 통상, 3000 이하이다.
The curable resin may contain a high molecular weight component for the purpose of improving the heat resistance of the resin layer. However, the molecular weight of the component constituting the curable resin is usually 3,000 or less.

경화성 수지는, 경화 반응을 촉진시킬 목적에서, 촉진제를 포함하고 있어도 된다. 촉진제의 종류 및 배합량은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 이미다졸계 화합물, 유기인계 화합물, 제3급 아민, 제4급 암모늄염 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이 사용된다.
The curable resin may contain an accelerator for the purpose of accelerating the curing reaction. The kind and blending amount of the promoter are not particularly limited. For example, one or two or more selected from an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, and a quaternary ammonium salt.

아크릴 수지는, 일반적으로, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 2종 이상의 아크릴 모노머를 포함하는 중합성 모노머를 모노머 단위로서 포함하는 공중합체이다. 아크릴 수지는, 원하는 특성에 따라 시판 중인 아크릴 모노머로부터 여러 가지 조합을 선택하여, 저렴하게 제조할 수 있다. 아크릴 수지는, 저 비점(沸點)의 케톤계 용제에 대해 양호한 용해성을 갖는 것으로부터, 인쇄된 액상 조성물을 용이하게 건조할 수 있다는 점에서도 뛰어나다.
The acrylic resin is generally a copolymer containing, as a monomer unit, a polymerizable monomer comprising two or more kinds of acrylic monomers having an acryl group or a methacryl group. The acrylic resin can be produced inexpensively by selecting various combinations from commercially available acrylic monomers according to desired characteristics. Since the acrylic resin has good solubility in a ketone solvent having a low boiling point, the acrylic resin is excellent in that the printed liquid composition can be easily dried.

아크릴 수지를 제조하기 위해 이용되는 아크릴 모노머는, 특별히 한정되지 않는다. 아크릴 수지는, 예를 들면, 아크릴로니트릴, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산n-프로필, 아크릴산i-프로필, 아크릴산n-부틸, 아크릴산i-부틸, 아크릴산t-부틸, 아크릴산펜틸, 아크릴산n-헥실, 아크릴산2-에틸헥실, 아크릴산n-옥틸, 아크릴산도데실, 아크릴산옥타데실, 아크릴산부톡시에틸, 아크릴산페닐, 아크릴산벤질, 아크릴산나프틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보닐, 아크릴산노르보닐메틸, 아크릴산트리시클로[5.2.1.O2,6]데카-8-일(디시클로펜타닐아크릴레이트), 아크릴산트리시클로[5.2.1.O2,6]데카-4-메틸, 아크릴산아다만틸, 아크릴산이소보닐, 아크릴산노르보닐, 아크릴산트리시클로헥실[5.2.1.O2,6]데카-8-일, 아크릴산트리시클로헥실[5.2.1.O2,6]데카-4-메틸, 및 아크릴산아다만틸 등의 아크릴산에스테르, 및, 메타크릴산에틸, 메타크릴산n-프로필, 메타크릴산i-프로필, 메타크릴산n-부틸, 메타크릴산i-부틸, 메타크릴산t-부틸, 메타크릴산펜틸, 메타크릴산n-헥실, 메타크릴산2-에틸헥실, 메타크릴산n-옥틸, 메타크릴산도데실, 메타크릴산옥타데실, 메타크릴산부톡시에틸, 메타크릴산페닐, 메타크릴산나프틸, 메타크릴산시클로펜틸, 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산메틸시클로헥실, 메타크릴산트리시클로헥실, 메타크릴산노르보닐, 메타크릴산노르보닐메틸, 메타크릴산이소보닐, 메타크릴산보닐, 메타크릴산멘틸, 메타크릴산아다만틸, 메타크릴산트리시클로[5.2.1.O2,6]데카-8-일(디시클로펜타닐메타크릴레이트), 및 메타크릴산트리시클로[5.2.1.O2,6]데카-4-메틸 등의 메타크릴산에스테르로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 아크릴 모노머를 모노머 단위로 포함한다.
The acrylic monomer used for producing the acrylic resin is not particularly limited. The acrylic resin may be, for example, acrylonitrile, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, t-butyl acrylate, pentyl acrylate, , 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate, butoxyethyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, tricyclo [5.2.1.O 2,6] deca-8-yl (dicyclopentanyl acrylate) acrylate, tricyclo [5.2.1.O 2,6] deca-4-methyl acrylate, adamantyl acrylate, Isobornyl acrylate, tricyclohexyl acrylate [5.2.1.o 2,6 ] deca-8-yl, tricyclohexyl acrylate [5.2.1.o 2,6 ] deca-4-methyl, and acrylic acid Adamantyl and the like, and esters of acrylic acid such as ethyl methacrylate, methacrylic acid n- Propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, pentyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, N-hexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, octyldodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, naphthyl methacrylate, cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, Methylcyclohexyl methacrylate, tricyclohexyl methacrylate, m-methacrylic acid norbornyl, methacrylic acid norbornyl methyl, methacrylic acid isobornyl, methacrylic acid carbonyl, menthyl methacrylate, adamantyl methacrylate, methacrylic acid bicyclo [5.2.1.O 2,6] deca-8-yl (dicyclopentanyl methacrylate), and methacrylate, tricyclo [5.2.1.O 2,6] deca-4, such as methyl methacrylate And an ester of an acrylic monomer as a monomer unit.

본 실시형태에 따른 수지층의 내열성 및 접착성의 점에서, 아크릴 수지를 구성하는 아크릴 모노머는, 관능기를 갖는 모노머를 포함하고 있어도 된다. 관능기를 갖는 모노머는, 카르복실기, 히드록실기, 산무수물기, 아미노기, 아미드기 및 에폭시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기와, 적어도 하나의 중합성 탄소-탄소 2중 결합을 갖고 있어도 된다. 관능기를 갖는 모노머의 구체예로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 및 이타콘산 등의 카르복실기 함유 모노머, 아크릴산-2-히드록시에틸, 메타크릴산-2-히드록시에틸, 아크릴산-2-히드록시프로필, 메타크릴산-2-히드록시프로필, 및 N-메티롤메타크릴아미드, (o-, m-, p-)히드록시스티렌 등의 히드록실기 함유 모노머, 무수말레인산 등의 산무수물기 함유 모노머, 아크릴산디에틸아미노에틸, 및 메타크릴산디에틸아미노에틸 등의 아미노기 함유 모노머, 및 아크릴산글리시딜, α-에틸아크릴산글리시딜, α-n-프로필아크릴산글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-4,5-에폭시펜틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, 아크릴산-3-메틸-4-에폭시부틸, 메타크릴산-3-메틸-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-4-메틸-4,5-에폭시펜틸, 메타크릴산-4-메틸-4,5-에폭시펜틸, 아크릴산-5-메틸-5,6-에폭시헥실, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, α-에틸아크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-3-메틸-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3-메틸-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-4-메틸-4,5-에폭시펜틸, 메타크릴산-4-메틸-4,5-에폭시펜틸, 아크릴산-5-메틸, 6-에폭시헥실, 및 메타크릴산-5-메틸-5,6-에폭시헥실 등의 에폭시기 함유 모노머를 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
In view of heat resistance and adhesion of the resin layer according to the present embodiment, the acrylic monomer constituting the acrylic resin may include a monomer having a functional group. The monomer having a functional group may have at least one polymerizable carbon-carbon double bond and at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a hydroxyl group, an acid anhydride group, an amino group, an amide group and an epoxy group . Specific examples of the monomer having a functional group include monomers containing a carboxyl group such as acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid, monomers containing 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and N-methylol methacrylamide, (o-, m-, p-) hydroxystyrene, acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride, Diethylaminoethyl methacrylate, and other amino group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, acrylate-3,4-epoxybutyl acrylate Epoxybutyl acrylate, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl methacrylate, 6,7-epoxyheptyl methacrylate, 3-methyl-4-epoxyacrylate Butyl-3-methyl-3,4-epoxybutyl methacrylate, 4-methyl-4,5-epoxypentyl acrylate, ? -Methyl glycidyl methacrylate,? -Methyl glycidyl methacrylate,? -Methyl glycidyl methacrylate,? -Methyl glycidyl methacrylate,? -Methyl glycidyl methacrylate,? -Methyl glycidyl methacrylate, Methyl-3,4-epoxybutyl acrylate, 3-methyl-3,4-epoxybutyl methacrylate, and 4-methyl-4,5-epoxypentyl acrylate , Epoxy methacrylate-4-methyl-4,5-epoxypentyl, acrylate-5-methyl, 6-epoxyhexyl, and methacrylic acid-5-methyl-5,6-epoxyhexyl. have. These may be used alone or in combination of two or more.

아크릴 수지가 글리시딜기를 갖는 것에 의해, 수지층의 내열성이 더 높아진다. 그 때문에, 아크릴 수지는, 글리시딜메타크릴레이트 또는 글리시딜아크릴레이트를 모노머 단위로서 포함하고 있어도 된다. 아크릴 수지를 구성하는 모든 중합성 모노머의 양을 기준으로 하여, 글리시딜메타크릴레이트 또는 글리시딜아크릴레이트의 함유 비율은, 0.5∼10질량%, 1∼8질량%, 또는 2∼5질량%여도 된다.
When the acrylic resin has a glycidyl group, the heat resistance of the resin layer becomes higher. Therefore, the acrylic resin may contain glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate as a monomer unit. The content of glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate is preferably 0.5 to 10% by mass, 1 to 8% by mass, or 2 to 5% by mass based on the amount of all the polymerizable monomers constituting the acrylic resin %.

아크릴 수지는, 가요성 기재와 수지층의 접착성의 점에서, 알킬아크릴레이트를 모노머로서 포함하고 있어도 된다. 알킬아크릴레이트의 알킬기의 탄소 수는, 1∼12 또는 2∼10이어도 된다. 아크릴 수지를 구성하는 모든 중합성 모노머의 양을 기준으로 하여, 알킬아크릴레이트의 함유 비율은, 50∼99질량%, 60∼98질량%, 또는 70∼96질량%여도 된다. 알킬아크릴레이트는, 예를 들면, 에틸아크릴레이트 및 부틸아크릴레이트로부터 선택된다.
The acrylic resin may contain an alkyl acrylate as a monomer in view of adhesion between the flexible substrate and the resin layer. The number of carbon atoms of the alkyl group of the alkyl acrylate may be 1 to 12 or 2 to 10. The content of the alkyl acrylate may be from 50 to 99% by mass, from 60 to 98% by mass, or from 70 to 96% by mass, based on the amount of all the polymerizable monomers constituting the acrylic resin. The alkyl acrylates are selected, for example, from ethyl acrylate and butyl acrylate.

아크릴 수지는, 강인성 및 접착성의 관점에서, 아크릴로니트릴 또는 메타크릴로니트릴을 모노머 단위로서 포함하고 있어도 된다. 아크릴 수지를 구성하는 모든 중합성 모노머의 양을 기준으로 하여, 아크릴로니트릴 또는 메타크릴로니트릴의 함유 비율은, 0.5∼10질량%, 1∼8질량%, 또는 2∼5질량%여도 된다.
The acrylic resin may contain acrylonitrile or methacrylonitrile as a monomer unit from the viewpoint of toughness and adhesiveness. The content of acrylonitrile or methacrylonitrile may be 0.5 to 10% by mass, 1 to 8% by mass, or 2 to 5% by mass based on the amount of all the polymerizable monomers constituting the acrylic resin.

아크릴 수지는, 아크릴 모노머와 공중합하는 다른 모노머를 더 포함하고 있어도 된다. 다른 모노머는, 예를 들면, 4-비닐피리딘, 2-비닐피리딘, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, α-플루오로스티렌, α-클로르스티렌, α-브로모스티렌, 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 메틸스티렌, 메톡시스티렌, 및 스티렌 등의 방향족 비닐 화합물, 및 N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-프로필말레이미드, N-i-프로필말레이미드, N-부틸말레이미드, N-i-부틸말레이미드, N-t-부틸말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 및 N-페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드류로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이다.
The acrylic resin may further contain other monomers copolymerized with the acrylic monomer. Other monomers include, for example, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine,? -Methylstyrene,? -Ethylstyrene,? -Fluorostyrene,? -Chlorostyrene,? -Bromostyrene, fluorostyrene, Aromatic vinyl compounds such as styrene, bromostyrene, methylstyrene, methoxystyrene and styrene, and aromatic vinyl compounds such as N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, Substituted maleimides such as N-methylmaleimide, N-butylmaleimide, Nt-butylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide and N-phenylmaleimide At least one kind of compound.

아크릴 수지의 중량 평균 분자량은, 15만∼180만, 40만∼150만, 또는 50만∼140만이어도 된다. 아크릴 수지의 중량 평균 분자량이 15만 이상이면, 액상 조성물의 점도가 높아, 액상 조성물이 요변성을 발현할 수 있다. 아크릴 수지의 중량 평균 분자량이 180만 이하이면, 용제에의 용해성이 향상하여, 액상 조성물에 있어서의 고형분의 농도를 높이는 것이 용이해진다. 액상 조성물의 고형분의 농도가 높으면, 도포된 액상 조성물의 막 두께의 제어, 및 건조 수축에 따른 막 압력의 감소를 고려할 필요성이 낮아진다.
The weight average molecular weight of the acrylic resin may be 150,000 to 1,800,000, 400,000 to 1,500,000, or 500,000 to 1,400,000. When the weight average molecular weight of the acrylic resin is 150,000 or more, the viscosity of the liquid composition is high and the liquid composition can exhibit thixotropy. When the weight average molecular weight of the acrylic resin is 1.8 million or less, the solubility in a solvent is improved, and it becomes easy to increase the concentration of solid content in the liquid composition. If the concentration of the solid content of the liquid composition is high, there is less need to consider the control of the film thickness of the applied liquid composition and the reduction of the film pressure due to drying shrinkage.

아크릴 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 -50∼100℃, -45∼20℃, 또는 -40℃∼5℃이어도 된다. n종의 모노머로 구성되는 아크릴 수지의 Tg는, 이하의 계산식(FOX식)에 의해 산출할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin may be -50 to 100 占 폚, -45 to 20 占 폚, or -40 占 to 5 占 폚. The Tg of an acrylic resin composed of n kinds of monomers can be calculated by the following equation (FOX formula).

Tg(℃)={1/(W1/Tg1+W2/Tg2+…+Wi/Tgi+…+Wn/Tgn)}-273Tg (℃) = {1 / (W 1 / Tg 1 + W 2 / Tg 2 + ... + W i / Tg i + ... + W n / Tg n)} - 273

상기 FOX식에서, Tgi(K)는, 각 모노머의 호모폴리머의 유리 전이 온도를 나타내며, Wi는, 각 모노머의 질량 분율을 나타내고, W1+W2+…+Wi+...Wn=1이다.
In the FOX formula, Tg i (K) represents the glass transition temperature of the homopolymer of each monomer, W i represents the mass fraction of each monomer, and W 1 + W 2 + + W i + ... W n = 1.

예를 들면, 글리시딜메타크릴레이트를 5질량%, 아크릴로니트릴을 5질량%, 에틸아크릴레이트를 85질량%, 및 부틸아크릴레이트를 5질량%의 비율로 공중합하여 얻어지는 아크릴 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 이하와 같이 산출된다.For example, glass transition of an acrylic resin obtained by copolymerizing 5 mass% of glycidyl methacrylate, 5 mass% of acrylonitrile, 85 mass% of ethyl acrylate, and 5 mass% of butyl acrylate The temperature Tg is calculated as follows.

Tg={1/(0.05/319+0.05/498+0.85/251+0.05/219)}-273=-14.7℃
Tg = {1 / (0.05 / 319 + 0.05 / 498 + 0.85 / 251 + 0.05 / 219)} - 273 = -14.7 DEG C

열가소성 수지(예를 들면 아크릴 수지), 경화성 수지(예를 들면 에폭시 수지) 및 경화제(예를 들면 페놀 수지)의 합계 질량을 기준으로 하여, 열가소성 수지의 함유 비율은, 40∼90중량%, 50∼85중량%, 또는 60∼80중량%여도 된다. 이때 아크릴 수지의 글리시딜기 및 에폭시 수지의 에폭시기의 합계와, 페놀 수지의 수산기 양은, 실질적으로 당량이어도 된다.
Based on the total mass of the thermoplastic resin (for example, acrylic resin), the curable resin (for example, epoxy resin) and the curing agent (for example, phenol resin), the content ratio of the thermoplastic resin is 40 to 90 wt% To 85% by weight, or 60 to 80% by weight. At this time, the total amount of the glycidyl group of the acrylic resin and the epoxy group of the epoxy resin and the hydroxyl value of the phenol resin may be substantially equivalent.

액상 조성물(5)은, 예를 들면, 경화성 수지 조성물을 구성하는 각 성분과, 필요에 따라 용제를 혼합하여, 교반하는 방법에 의해, 조제할 수 있다. 액상 조성물(5)이 무기 필러를 포함하는 경우, 미리 표면 처리제를 포함하는 유기 용제 속에 무기 필러를 분산하여 얻은 슬러리를 이용해서 액상 조성물을 조제해도 된다. 또한, 경화성 수지를 포함하는 경화성 수지 조성물 성분의 혼합물을 미리 준비하여, 이 혼합물과, 무기 필러의 슬러리를 혼합해서, 액상 조성물을 얻을 수도 있다.
The liquid composition (5) can be prepared, for example, by mixing each component constituting the curable resin composition with a solvent, if necessary, and stirring. When the liquid composition 5 contains an inorganic filler, the liquid composition may be prepared using a slurry obtained by dispersing an inorganic filler in an organic solvent containing a surface treatment agent in advance. Further, a mixture of the components of the curable resin composition containing the curable resin may be prepared in advance, and the mixture may be mixed with a slurry of the inorganic filler to obtain a liquid composition.

경화성 수지 조성물 및 무기 필러를 용해 또는 분산하기 위해 이용되는 용제는, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤계 용제로부터 선택된다. 인쇄성의 관점에서, 시클로헥사논을 선택할 수 있다.
The solvent used for dissolving or dispersing the curable resin composition and the inorganic filler is selected from ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone. From the viewpoint of printability, cyclohexanone can be selected.

실시예Example

이하에서 실시예를 들어 본 발명에 대해 더 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to these.

제조예 1Production Example 1

시클로헥사논 129g에 N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란(KBM573, 신에츠실리콘 가부시키가이샤제 상품명) 3.0g을 용해한 후, 구상 실리카 입자로서 아도마파인 SO-25R(아도마테크 가부시키가이샤제 상품명) 300g을 교반하면서 첨가하여, 전량을 첨가한 후 실온에서 1시간 더 교반했다. 에폭시 수지로서 NC-3000H(니뽄가야쿠 가부시키가이샤제 상품명)의 시클로헥사논 용액(고형분 50질량%) 27.6g, 페놀 수지로서 LA-3018(다이닛뽕잉키 가부시키가이샤제 상품명)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르 용액(고형분 60질량%) 18.7g, 2-에틸-4-메틸이미다졸(2E4MZ, 시코쿠가세이 가부시키가이샤제 상품명) 0.42g을 첨가하고, 30분 더 교반한 후, 아크릴 수지로서 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로니트릴, 에틸아크릴레이트 및 부틸아크릴레이트 공중합체(중량 평균 분자량 61만, 에폭시 당량 2869)의 시클로헥사논 용액(고형분 24.9질량%) 301g을 첨가하고 볼 밀로 12시간 교반 혼합해서, 액상 조성물을 얻었다.
3.0 g of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM573, trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicones Co., Ltd.) was dissolved in 129 g of cyclohexanone, and then adomorphine SO-25R (manufactured by Admatech Co., Ltd.) was added with stirring, the whole amount was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. 27.6 g of a cyclohexanone solution (solid content 50% by mass) of NC-3000H (trade name, manufactured by Nippon Kayaku) as an epoxy resin, 27.6 g of LA-3018 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, 18.7 g of a methyl ether solution (solid content 60% by mass) and 0.42 g of 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ, trade name of Shikoku Chemicals) were added and stirred for 30 minutes, (Solid content: 24.9% by mass) of glycidyl methacrylate, acrylonitrile, ethyl acrylate and butyl acrylate copolymer (weight average molecular weight: 610,000, epoxy equivalent: 2869) Followed by stirring and mixing to obtain a liquid composition.

제조예 2∼7Production Examples 2 to 7

표 1 및 2에 나타나는 각 재료를, 표에 나타내는 배합비로 사용한 것 이외는 제조예 1과 동일하게 하여, 액상 조성물을 얻었다. 표 1 및 2에 나타나는 아크릴 수지 배합량, 에폭시 수지 배합량 및 페놀 수지 배합량은, 아크릴 수지, 에폭시 수지 및 페놀 수지의 합계량을 기준으로 하는 비율이다.
A liquid composition was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the respective materials shown in Tables 1 and 2 were used in the ratios shown in the tables. The mixing amounts of the acrylic resin, the epoxy resin, and the phenol resin shown in Tables 1 and 2 are based on the total amount of the acrylic resin, the epoxy resin and the phenol resin.

아크릴 수지의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌을 이용한 검량선(檢量線)으로부터 환산했다. 검량선은, 표준 폴리스티렌의 5 샘플 세트(PStQuick MP-H, PStQuick B [토소 가부시키가이샤제 상품명])를 이용해서 3차식으로 근사하여 작성했다. GPC 조건은, 이하에 나타낸다.The weight average molecular weight of the acrylic resin was converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The calibration curve was approximated by a cubic equation using 5 sample sets of standard polystyrene (PStQuick MP-H, PStQuick B [trade name, manufactured by TOSO CORPORATION]). GPC conditions are shown below.

장치: (펌프:L-2130형[가부시키가이샤 히타치하이테크놀로지제]),Apparatus: (pump: L-2130 model [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation]),

(검출기:L-2490형 RI[가부시키가이샤 히타치하이테크놀로지제]), (Detector: L-2490 type RI (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)),

(칼럼 오븐:L-2350[가부시키가이샤 히타치하이테크놀로지제]) (Column oven: L-2350 [manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation])

칼럼: Gelpack GL-A100M(히타치가세이고교 가부시키가이샤제 상품명)Column: Gelpack GL-A100M (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)

칼럼 사이즈: 10.7㎜I.D×300㎜Column size: 10.7 mm ID 300 mm

용리액: 테트라히드로퓨란Eluent: tetrahydrofuran

시료 농도: 10㎎/2㎖Sample concentration: 10 mg / 2 ml

주입량: 200㎕Injection amount: 200 μl

유량: 2.05㎖/분Flow rate: 2.05 ml / min

측정 온도: 25℃
Measuring temperature: 25 ° C

표 1 및 표 2에 나타내는 각 재료의 상세는 이하와 같다.Details of each material shown in Table 1 and Table 2 are as follows.

1. 아크릴 수지1. Acrylic resin

·GMA/AN/EA/BA:글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로니트릴, 에틸아크릴레이트 및 부틸아크릴레이트의 공중합체GMA / AN / EA / BA: Copolymer of glycidyl methacrylate, acrylonitrile, ethyl acrylate and butyl acrylate

2. 에폭시 수지2. Epoxy resin

·NC-3000H:비페닐아랄킬형 에폭시 수지(니뽄가야쿠 가부시키가이샤제 상품명, 에폭시 당량 290)NC-3000H: biphenyl aralkyl type epoxy resin (trade name, epoxy equivalent 290, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

3. 페놀 수지3. Phenolic resin

·LA-3018:아미노트리아진 노보락형 페놀 수지(다이닛뽕잉키 가부시키가이샤제 상품명, 수산기 당량 151, 질소 함유량 18%)LA-3018: Aminotriazine novolac phenol resin (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., hydroxyl equivalent: 151, nitrogen content: 18%)

4. 실리카 입자4. Silica particles

·F05-12:파쇄 실리카, 후쿠시마요교 가부시키가이샤제 상품명· F05-12: Fractured silica, product name of Fukushima Yoshinobu Co., Ltd.

·SO-25R:구상 실리카, 아도마테크 가부시키가이샤제 상품명· SO-25R: spherical silica, trade name made by ADOMATECH KK

5. 표면 처리제(실란 커플링제)5. Surface treatment agent (silane coupling agent)

·KBM573:N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 신에츠실리콘 가부시키가이샤제 상품명
KBM573: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, trade name of Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

(수지층의 기계 특성)(Mechanical Properties of Resin Layer)

이형 처리 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름에, 건조 후의 두께가 125㎛가 되도록 바 코터를 이용해서 액상 조성물을 도포했다. 도포된 액상 조성물을 130℃에서 10분간 가열에 의해 건조한 후, 185℃에서 30분간 가열에 의해 경화시켰다. 이형 처리 PET 필름을 벗기고 나서, 경화물을 폭 10㎜, 길이 100㎜로 펀칭하여, 시험편을 얻었다. 이 시험편을 EZ테스터(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼제 오토그래프 EZ-S)를 이용해서 인장 속도 50㎜/분으로 길이 방향으로 인장하는 인장 시험을 행하여, 응력-변위 곡선을 얻었다. 응력 부하를 개시하고 나서 동작 시작 초기에 있어서의, 응력-변위 곡선의 접선의 기울기의 최대치를 구해, 그 값으로부터 아래 식에 따라 초기 인장 탄성률을 구했다.A liquid composition was applied to a mold release PET (polyethylene terephthalate) film using a bar coater so that the thickness after drying was 125 占 퐉. The applied liquid composition was dried by heating at 130 캜 for 10 minutes and then cured by heating at 185 캜 for 30 minutes. After peeling the mold releasing PET film, the cured product was punched to a width of 10 mm and a length of 100 mm to obtain a test piece. This test piece was subjected to a tensile test in which the tensile strength was elongated in the longitudinal direction at a tensile speed of 50 mm / min using an EZ tester (Autograph EZ-S, Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.) to obtain a stress-displacement curve. The maximum value of the slope of the tangent line of the stress-displacement curve at the start of the operation after the start of the stress load was obtained, and the initial tensile elastic modulus was obtained from the value according to the following formula.

초기 인장 탄성률(Pa)=응력-변위 곡선의 접선의 기울기의 최대치(N/m)×[변위(m)/경화물의 단면적(㎡)]
Initial tensile modulus (Pa) = maximum value of tangent slope of stress-displacement curve (N / m) x [displacement (m) / cross-

실시예 1Example 1

폴리이미드 기재(두께 25㎛)/동박(銅箔)(두께 18㎛)의 적층체(에쓰파넥스, 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤제 상품명)의 동박을, 포토리소그래피에 의해 가공하여, 배선 단자의 패턴을 형성했다. 폴리이미드 기재의 배선 단자와는 반대측의 면에, 메탈 마스크를 이용해서 제조예 1의 액상 조성물을 인쇄했다. 인쇄된 액상 조성물을 130℃에서 10분 가열에 의해 건조한 후, 다시 185℃에서 60분 가열에 의해 경화하여, 폴리이미드 기재의 단부로부터의 길이 30㎜, 두께 75㎛의 수지층을 형성시켜서, 수지층을 갖는 커넥터의 시험편(폭 10㎜, 길이 100㎜)을 얻었다. 대략 직사각형의 주면을 갖는 수지층의 단부는, 폴리이미드 기재와 대향하는 대향면으로부터 폴리이미드 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하는 표면을 갖고 있었다.
A copper foil of a laminate of a polyimide base material (thickness 25 占 퐉) / copper foil (thickness 18 占 퐉) (Etspanex, trade name, manufactured by Shin-Etsu Tiga Kakuga) was processed by photolithography, Pattern. The liquid composition of Production Example 1 was printed on the surface opposite to the wiring terminal of the polyimide substrate using a metal mask. The printed liquid composition was dried by heating at 130 DEG C for 10 minutes and then cured by heating at 185 DEG C for 60 minutes to form a resin layer having a length of 30 mm and a thickness of 75 mu m from the end of the polyimide base material, A test piece (width 10 mm, length 100 mm) of a connector having a ground layer was obtained. The end of the resin layer having the substantially rectangular main surface had a surface forming a convex curved surface curved toward the polyimide substrate from the opposed surface opposed to the polyimide substrate.

실시예 2∼12Examples 2 to 12

각 제조예의 액상 조성물을 이용하여, 폴리이미드 기재의 두께, 또는 수지층의 두께를 표 3 및 표 4에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여, 수지층을 갖는 커넥터의 시험편을 제작했다. 어느 시험편에서도, 수지층의 단부가, 폴리이미드 기재와 대향하는 대향면으로부터 폴리이미드 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하는 표면을 갖고 있었다.
A connector having a resin layer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the polyimide base material or the thickness of the resin layer was changed as shown in Tables 3 and 4, A test piece was produced. In both test pieces, the end portion of the resin layer had a surface forming a convex curved surface curved toward the polyimide substrate from the opposed surface opposed to the polyimide substrate.

비교예 1Comparative Example 1

실시예와 동일하게, 폴리이미드 기재(두께 50㎛) 위에 배선 단자의 패턴을 형성했다. 폴리이미드 기재의 배선 단자와는 반대측의 면에 두께 30㎛의 접착 필름(하이본 10-850, 히타치가세이 가부시키가이샤제 상품명)을 개재하여 두께 75㎛의 폴리이미드 필름(유피렉스75S, 우베고산 가부시키가이샤 제품명)을 붙이고, 폭 10㎜, 길이 100㎜의 직사각형 모양으로 잘라내어, 비교용의 커넥터 시험편을 얻었다. 폴리이미드 기재에 붙여진 폴리이미드 필름의 단부는, 폴리이미드 기재와 대향하는 대향면과, 폴리이미드 기재의 수선을 따른 측면을 갖고 있으며, 대향면과 측면이 직각으로 만나고 있었다.
A wiring terminal pattern was formed on a polyimide substrate (thickness: 50 mu m) in the same manner as in Example. On the surface opposite to the wiring terminals of the polyimide base material, a polyimide film (a film of 75 mu m in thickness, 75 mu m in thickness) was formed through a 30 mu m-thick adhesive film (Hybond 10-850, trade name, manufactured by Hitachi, Manufactured by Takayama Kogyo Co., Ltd.), and cut into a rectangular shape having a width of 10 mm and a length of 100 mm to obtain a comparative connector test piece. The end portion of the polyimide film adhered to the polyimide substrate had a facing surface opposed to the polyimide substrate and a side surface along the repair line of the polyimide substrate.

(평가)(evaluation)

(절곡성)(Bending)

폭 10㎜의 시험편의 단부를 천칭(天秤)으로 밀어붙이는 것에 의해, 단부로부터 490mN(50gf)의 하중을 가했다. 하중이 가해졌을 때, 시험편이 굴곡하지 않았던 경우를 「A」, 시험편이 굴곡하거나, 수지층이 파단한 경우를 「C」로 판정했다.
A load of 490 mN (50 gf) was applied from the end portion by pushing the end portion of the test piece having a width of 10 mm with a balance. A "when the load was not applied," A "when the test piece was not bent, and" C "when the test piece was bent or the resin layer was broken.

(내(耐)리플로우성)(Resistance to reflow)

커넥터의 시험편을 2매의 철망 사이에 끼워, 1.2m/분의 속도로 이동시키면서, 기판 표면 온도의 최고 온도가 260℃로, 그 온도가 10초간 유지되는 가열 프로파일의 컨베이어형 리플로우 시험에 의해, 시험편을 3회 처리했다. 처리 후, 외관을 눈으로 관찰하여 폴리이미드 기재/수지층 사이의 팽창 및 벗겨짐의 유무를 확인했다. 팽창 및 벗겨짐이 발생하지 않았던 경우를 「A」, 팽창 및/또는 벗겨짐이 발생한 경우를 「C」로 판정했다.
A conveyor type reflow test of a heating profile in which a test piece of a connector was sandwiched between two pieces of wire netting and the temperature of the substrate surface temperature was maintained at 260 占 폚 for 10 seconds while moving at a speed of 1.2 m / , And the test piece was treated three times. After the treatment, the appearance was visually observed to confirm the swelling and peeling between the polyimide base / resin layers. A " when expansion and peeling did not occur, and " C " when expansion and / or peeling occurred.

(커넥터의 내구성 시험)(Durability test of connector)

도 8은, 커넥터의 내구성 시험 방법을 나타내는 개략 설명도이다. 디지털 마이크로미터(20)(가부시키가이샤 미츠토요제 MDC-25SB)의 측정 부분인 스핀들(21), 앤빌(22) 각각에 접착제로 고정된 두께 1㎜의 경면(鏡面) 마무리 알루미늄판(31, 32)을, 빼고 넣기(拔差) 내구성 평가용 지그로서 이용하였다. 대향하는 2매의 알루미늄판(31, 32)의 간극을, 디지털 마이크로미터(20)에 의해, 시험편의 두께와 같거나, -15㎛, 또는 +15㎛로 설정하여, 시험을 행했다. 알루미늄판에 대해 평행한 방향(A)에서 간극에 시험편(10)을 약 10㎜ 삽입한 후, 인발 조작을 최대 30회 반복했다. 시험편(10)의 이상을 눈으로 관찰하여, 벗겨짐, 균열, 굽힘 등의 이상이 발생할 때까지의 횟수를 기록했다.
8 is a schematic explanatory view showing a durability test method of a connector. Finished mirror-finished aluminum plates 31 and 31 having a thickness of 1 mm fixed to each of the spindle 21 and the anvil 22, which are measurement portions of the digital micrometer 20 (manufactured by Mitsutoyo MDC-25SB) 32) was used as a jig for evaluation of durability. The gap between the two opposing aluminum plates 31 and 32 was set by the digital micrometer 20 to be equal to the thickness of the test piece, or to -15 占 퐉 or +15 占 퐉. After inserting the test piece 10 in a gap of about 10 mm in the direction A parallel to the aluminum plate, the drawing operation was repeated 30 times at maximum. The abnormality of the test piece 10 was visually observed to record the number of times until an abnormality such as peeling, cracking, bending or the like occurred.

(폴리이미드 기재와 수지층의 접착성)(Adhesiveness between the polyimide substrate and the resin layer)

폴리이미드 필름(유피렉스50S, 우베고산 가부시키가이샤 제품명)에, 건조 후의 두께가 125㎛가 되도록, 액상 조성물을 바 코터를 이용해서 도포했다. 도포한 액상 조성물을 130℃에서 10분간 가열에 의해 건조한 후, 185℃에서 30분간 가열에 의해 경화시켜서, 접착성 평가용 시료를 얻었다. 시료의 수지층에, 커터 나이프에 의해 2㎜ 폭으로 10개, 이와 직각으로 교차하도록 2㎜ 폭으로 10개의 바둑판 눈의 자국을 넣었다. 그곳에 셀로테이프(등록상표)를 붙인 후, 이를 잡아떼어, 수지층의 벗겨짐 유무를 확인했다. 벗겨짐이 발생하지 않았던 경우를 「A」, 벗겨짐이 발생한 경우를 「C」로 판정했다.
The liquid composition was applied to a polyimide film (Epilex 50S, product of Ube Gosan Co., Ltd.) so that the thickness after drying was 125 占 퐉, using a bar coater. The applied liquid composition was dried by heating at 130 占 폚 for 10 minutes and then cured by heating at 185 占 폚 for 30 minutes to obtain a sample for evaluation of adhesion. In the resin layer of the sample, marks of 10 checkerboards were inserted in a width of 2 mm by a cutter knife and 10 in a width of 2 mm so as to cross at right angles. Cellotape (registered trademark) was attached thereon, and then it was peeled off to confirm whether or not the resin layer was peeled off. &Quot; A " when peeling did not occur, and " C " when peeling occurred.

(결과)(result)

평가 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다. 실시예에서는, 모든 폴리이미드 기재와 수지층이 양호하고, 내(耐)리플로우성도 문제없었다. 커넥터의 절곡성에 관하여, 모든 실시예에서도 490mN(50gf)의 하중에 대해 시험편이 굴곡하는 경우는 없었다.The evaluation results are shown in Tables 3 and 4. In the examples, all of the polyimide substrate and the resin layer were satisfactory, and resistance to reflow was not a problem. Regarding the bending property of the connector, in all the examples, the test piece was not bent with respect to a load of 490 mN (50 gf).

커넥터의 내구성 시험에 관하여, 실시예에서는 시험편의 매끄러운 빼고 넣기가 가능하여, 30회의 빼고 넣기를 행해도 이상의 발생은 관찰되지 않았다. 비교예의 경우, 시험편의 빼고 넣기 저항이 강해서, 간극이 시험편과 같거나(173㎛) 또는 -15㎛(158㎛)인 때, 30회 미만의 빼고 넣기 시점에서 이상의 발생이 관찰됐다.
With respect to the durability test of the connector, in the examples, the test piece can be smoothly pulled out, and even when pulling out 30 times, no occurrence of abnormality was observed. In the case of the comparative example, when the gap of the test piece was equal to (173 占 퐉) or -15 占 퐉 (158 占 퐉) due to a strong pulling-out resistance of the test piece,

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

도 9는, 실시예 1에서 제작한 커넥터의 단면의 현미경 사진이다. 현미경 관찰에서도, 수지층(3)의 단부가, 폴리이미드 기재와 대향하는 대향면으로부터 폴리이미드 기재(2)를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하는 표면을 갖고 있는 것이 확인됐다. 도 10은, 실시예 1에서 제작한 커넥터의 수지층의 주사형 현미경 사진(1만배)이다. 수지층 내에 구상 실리카 입자가 포함되어 있는 것이 확인됐다.9 is a photomicrograph of a section of the connector manufactured in Example 1. Fig. It was confirmed by microscopic observation that the end of the resin layer 3 had a surface forming a convex curved surface curved toward the polyimide substrate 2 from the opposed surface opposed to the polyimide substrate. 10 is a scanning micrograph (10,000 times) of the resin layer of the connector produced in Example 1. Fig. It has been confirmed that spherical silica particles are contained in the resin layer.

1...배선 단자 2...가요성 기재
3...수지층 3a...수지층(3)의 단부
4...메탈 마스크 4a...개구부
5...액상 조성물 6...대향면
7...볼록 곡면을 형성하는 표면 10...커넥터
20...디지털 마이크로미터 21...스핀들
22...앤빌 31, 32...알루미늄판
40...플렉시블 기판 41...커버 필름
42...비 배선 금속층 51...회로
52...회로용 가요성 기재 100...플렉시블 배선판
1 ... wiring terminal 2 ... flexible substrate
3 ... resin layer 3a ... end of the resin layer 3
4 ... metal mask 4a ... opening
5 ... liquid composition 6 ... facing face
7 ... surface 10 forming a convex surface ... connector
20 ... Digital micrometer 21 ... Spindle
22 ... anvil 31, 32 ... aluminum plate
40 ... flexible substrate 41 ... cover film
42 ... non-wiring metal layer 51 ... circuit
52 ... Flexible substrate for circuit 100 ... Flexible wiring board

Claims (9)

상대측 커넥터에 삽입되어 배선을 접속하기 위해 이용되는 삽입측 커넥터로서,
가요성 기재(可撓性基材)와,
상기 가요성 기재의 한쪽 면측에 배치된 배선 단자와,
상기 가요성 기재의 상기 배선 단자와는 반대 면측에서 상기 가요성 기재의 단부 상에 배치되고, 상기 가요성 기재와 대향하는 대향면을 갖는, 수지를 포함하는 수지층을 구비하며,
상기 수지층의 해당 커넥터의 선단측 단부가, 상기 대향면으로부터 상기 가요성 기재를 향해 만곡하는 볼록 곡면을 형성하고 있는 표면을 갖는 커넥터.
An insertion-side connector inserted into a mating connector and used for connecting wiring,
A flexible substrate (flexible substrate)
A wiring terminal disposed on one side of the flexible substrate,
And a resin layer including a resin, the resin layer being disposed on an end portion of the flexible substrate on the side opposite to the wiring terminal of the flexible substrate and having a facing surface facing the flexible substrate,
And the front end of the connector of the resin layer has a surface forming a convex curved surface that curves from the opposed surface toward the flexible substrate.
청구항 1에 있어서,
상기 수지층이, 무기 필러를 더 포함하는 커넥터.
The method according to claim 1,
Wherein the resin layer further comprises an inorganic filler.
청구항 2에 있어서,
상기 무기 필러가, 실리카 입자인 커넥터.
The method of claim 2,
Wherein the inorganic filler is silica particles.
청구항 2 또는 3에 있어서,
상기 수지층에 있어서의 상기 무기 필러의 함유량이, 상기 수지층의 체적에 대해 30∼70체적%인 커넥터.
The method according to claim 2 or 3,
Wherein the content of the inorganic filler in the resin layer is 30 to 70% by volume with respect to the volume of the resin layer.
청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가요성 기재가, 폴리에스테르 기재 또는 폴리이미드 기재인 커넥터.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the flexible substrate is a polyester substrate or a polyimide substrate.
청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가요성 기재의 두께가, 75㎛ 이하인 커넥터.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the thickness of the flexible substrate is 75 mu m or less.
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지층의 25℃에 있어서의 초기 인장 탄성률이, 0.3∼3.0㎬인 커넥터.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the resin layer has an initial tensile modulus at 25 占 폚 of 0.3 to 3.0 mm.
청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지층의 두께가, 50∼500㎛인 커넥터.
The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein a thickness of the resin layer is 50 to 500 mu m.
청구항 1 내지 8 중 어느 한 항에 기재된 커넥터와,
회로용 가요성 기재와,
상기 회로용 가요성 기재 위에 마련되며, 상기 커넥터의 배선 단자에 접속된 회로를 구비하고,
상기 커넥터의 가요성 기재와 상기 회로용 가요성 기재가 동일한 1매의 기재인, 또는, 상기 커넥터의 가요성 기재와 다른 상기 회로용 가요성 기재가 연결되어 있는, 플렉시블 배선판.
A connector comprising: the connector according to any one of claims 1 to 8;
A circuit flexible substrate,
A circuit provided on the flexible substrate for the circuit and connected to the wiring terminal of the connector,
Wherein the flexible substrate of the connector and the flexible substrate for circuit are the same substrate or the flexible substrate of the connector is connected to the flexible substrate for the circuit.
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