KR20150041378A - 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20150041378A
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박홍식
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    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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    • C23F1/14—Aqueous compositions
    • C23F1/16—Acidic compositions
    • C23F1/18—Acidic compositions for etching copper or alloys thereof

Abstract

약액 공급 장치는, 기판 처리 공정 챔버와 연결되며 상기 기판 처리 공정 챔버로 약액을 순환시키기 위해 상기 약액을 저장하는 약액 탱크, 상기 약액 탱크 내에 구비되며 상기 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기를 갖는 유체 분사부, 및 상기 약액 탱크의 측벽에 구비되며 상기 분무기에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출하기 위한 배기부를 포함한다.

Description

약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{CHEMICAL LIQUID SUPPLY DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME}
본 발명은 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 금속을 식각하기 위한 식각액을 공급하기 위한 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근, 대면적이 용이하고 박형 및 경량화가 가능한 평판 표시 장치(flat panel display, FPD)가 표시장치로서 널리 이용되고 있다. 이러한 평판 표시 장치로는 액정 표시(LCD) 장치, 유기 발광 표시(OLED) 장치 등이 사용되고 있다.
이러한 평판 표시 장치는 복수개의 도전 패턴들을 포함하며, 이러한 도전 패턴은 구리와 같은 금속을 식각하여 형성할 수 있다. 그러나, 구리 배선의 두께는 증가하고 습식 식각 공정에서 유리 기판(glass) 1매당 식각액(etchant) 내의 구리 이온 농도가 증가되므로 식각액의 누적처리매수가 감소하게 된다. 또한, 최근 환경 안전에 대한 관심과 우려가 높아지면서 환경 안정 규제 물질의 수가 늘어나고, 이에 따라 식각액으로 사용할 수 있는 소재의 폭도 줄어들고 있다. 따라서, 설비적인 관점에서 식각액의 누적처리매수를 증가시킬 수 있는 새로운 방법이 요구되고 있다.
본 발명의 일 목적은 식각액의 누적처리매수를 향상시킬 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 상술한 약액 공급 장치를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 데 있다.
다만, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 상기 언급된 과제에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
상술한 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는, 기판 처리 공정 챔버와 연결되며 상기 기판 처리 공정 챔버로 약액을 순환시키기 위해 상기 약액을 저장하는 약액 탱크, 상기 약액 탱크 내에 구비되며 상기 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기를 갖는 유체 분사부, 및 상기 약액 탱크의 측벽에 구비되며 상기 분무기에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출하기 위한 배기부를 포함한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 기체를 공급하기 위한 제1 공급관을 포함할 수 있다. 상기 기체는 공기를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 상기 약액 탱크 내의 상기 약액을 공급하기 위한 제2 공급관을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 수증기는 상기 약액 내의 탈이온수가 휘발되어 발생될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액은 금속을 식각하기 위한 식각액을 포함할 수 있다. 상기 식각액은 과황산염을 포함할 수 있다. 상기 금속은 구리를 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 위한 공정 챔버, 상기 공정 챔버 내에 배치되며 상기 기판 상에 약액을 분사하기 위한 분사 노즐을 구비하는 약액 분사부, 및 상기 공정 챔버 및 상기 분사 노즐과 연결되며 상기 공정 챔버로 상기 약액을 순환시키기 위한 약액 공급부를 포함한다. 상기 약액 공급부는, 상기 공정 챔버 및 상기 약액 분사부에 연결되며 상기 공정 챔버로 순환시키기 위하여 상기 약액을 저장하는 약액 탱크, 상기 약액 탱크 내에 구비되며 상기 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기를 갖는 유체 분사부, 및 상기 약액 탱크의 측벽에 구비되며 상기 분무기에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출하기 위한 배기부를 포함한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판 처리 장치는 상기 공정 챔버 내에 배치되며 상기 기판을 이송시키는 이송 롤러들을 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 기체 및 상기 약액 탱크 내의 상기 약액 중 적어도 하나를 공급하기 위한 공급관을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 수증기는 상기 약액 내의 탈이온수가 휘발되어 발생될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액은 상기 기판 상에 형성된 금속을 식각하기 위한 식각액을 포함할 수 있다. 상기 식각액은 과황산염을 포함할 수 있다. 상기 금속은 구리를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 유체 분사부를 통해 약액 탱크 내에 저장된 식각액 중에서 탈이온수를 휘발시키고 배기부를 통해 상기 휘발된 탈이온수를 배출하여 상기 식각액 중에서 탈이온수의 성분 함량(%)을 일정한 성분 이하로 유지시킬 수 있다.
따라서, 상기 약액 공급 장치는 상기 유체 분사부 및 상기 배기부를 포함하는 구성을 가짐으로써, 상기 식각액 내의 탈이온수의 휘발량을 증가시키고 이를 배출시킴으로써 상대적으로 상기 식각액 내의 주산화제의 성분 함량(%)을 감소 및 억제시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 식각액의 누적처리매수를 향상시켜 재료비를 절감시키고 상기 식각액의 교환 주기를 감소시켜 공정 관리를 용이하게 할 수 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 블록도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 공정 챔버를 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 1의 약액 공급 장치를 나타내는 단면도이다.
본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고 동일한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 블록도이다. 도2는 도 1의 공정 챔버를 나타내는 단면도이다. 도 3은 도 1의 약액 공급 장치를 나타내는 단면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 기판(S)을 처리하기 위한 공정 챔버(30a, 30b, 30c), 기판(S) 상에 약액(E)을 분사하기 위한 약액 분사부(320), 및 상기 공정 챔버로 약액(E)을 순환시키기 위한 약액 공급부(60)를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 다수개의 공정 챔버들(30a, 30b, 30c)은 식각 설비 내에 기판(S) 상에 형성된 금속을 식각하기 위한 공간들을 제공할 수 있다. 상기 식각 설비에는, 기판(S)을 로딩하기 위한 로딩부(20), 이송 롤러들이나 컨베이어와 같은 이송 모듈을 통해 로딩부(20)와 연결되는 다수개의 식각 공정 챔버들(30a, 30b, 30c), 상기 공정 챔버에 연결된 세정 공정 챔버(40) 및 기판(S)을 언로딩하기 위한 언로딩부(50)가 순차적으로 배열될 수 있다.
예를 들면, 상기 식각 설비는 순차적으로 배열된 제1 식각 공정 챔버(30a), 제2 식각 공정 챔버(30b) 및 제3 식각 공정 챔버(30b)를 포함할 수 있다. 기판들(S)이 제1 내지 제3 식각 공정 챔버들(30a, 30b, 30c) 내에 각각 로딩된 후, 식각액을 이용한 습식 식각 공정들이 기판들(S) 상에 동시에 수행될 수 있다. 이후, 기판들(S)은 세정 공정 챔버(40) 내에서 세정된 후 언로딩부(50)로 이송될 수 있다. 그러나, 상기 식각 설비는 이에 한정되지 않으며, 상기 식각 설비는 식각액을 이용한 습식 식각 공정을 수행할 수 있는 다양한 형태의 공정 챔버들을 가질 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 있어서, 약액 공급부(60)는 제1 내지 제3 식각 공정 챔버들(30a, 30b, 30c)에 각각 연결되어, 상기 공정 챔버들로 식각액을 순환시킬 수 있다.
예를 들면, 약액 공급부(60)는 제1 약액 공급 장치(100a) 및 제2 약액 공급 장치(100b)를 포함할 수 있다. 제1 약액 공급 장치(100a)가 사용되어 제1 내지 제3 식각 공정 챔버들(30a, 30b, 30c)로 상기 식각액을 공급하고 수집할때, 제2 약액 공급 장치(100b)는 작동되지 않을 수 있다. 제2 약액 공급 장치(100b)가 사용되어 제1 내지 제3 식각 공정 챔버들(30a, 30b, 30c)로 상기 식각액을 공급하고 수집할때, 제1 약액 공급 장치(100a)는 작동되지 않을 수 있다. 본 실시예에 있어서, 상기 약액 공급 장치들의 개수는 2이지만, 이에 한정되지 않는다.
따라서, 상기 두 개의 약액 공급 장치들 중 어느 하나의 약액 공급 장치가 사용되어 기판의 한계 누적매수까지 상기 식각 공정 챔버들 내에서 식각 공정을 수행한 후에 식각액을 교체 및 정비를 위하여 작동이 중지될 수 있다. 이에 따라, 상기 약액 공급 장치들 중 어느 하나의 식각액을 교체하기 위해 정지될 때, 다른 약액 공급 장치를 사용하여 식각 공정을 계속하여 수행함으로써 수율을 향상시킬 수 있다.
구체적으로, 약액 공급부(60)는 제1 약액 공급관(32a)을 통해 제1 식각 공정 챔버(30a) 내의 제1 약액 분사부(320a)로 약액을 공급할 수 있다. 약액 공급부(60)는 제2 약액 공급관(32b)를 통해 제2 식각 공정 챔버(30b)의 제2 약액 분사부(320b)로 약액을 공급할 수 있다. 약액 공급부(60)는 제3 약액 공급관(32c)을 통해 제3 식각 공정 챔버(30b)의 제3 약액 분사부(320c)로 약액을 공급할 수 있다.
약액 공급부(60)는 제1 약액 배출관(34a)을 통해 제1 식각 공정 챔버(30a)로부터 상기 약액을 수집할 수 있다. 약액 공급부(60)는 제2 약액 배출관(34b)를 통해 제2 식각 공정 챔버(30b)로부터 상기 약액을 수집할 수 있다. 약액 공급부(60)는 제3 약액 배출관(34c)을 통해 제3 식각 공정 챔버(30b)로부터 상기 약액을 수집할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 기판 처리 장치(10)는 공정 챔버(300) 내에 배치되며 기판(G)을 이송시키는 이송 롤러들(310)을 더 포함할 수 있다.
공정 챔버(300)의 일측벽에는 기판(G)의 유입 통로인 입구(302)가 형성되고, 이와 마주보는 공정 챔버(300)의 타측벽에는 기판(G)의 유출 통로인 출구(304)가 형성될 수 있다. 또한, 공정 챔버(300)의 상부벽에는 유입구(306)가 형성되어 약액 분사부(320)로 약액을 공급할 수 있다. 공정 챔버(300)의 하부벽에는 배출구(306)가 형성되어 약액 분사부(320)로부터 기판(G) 상에 공급된 약액을 외부로 배출할 수 있다.
예를 들면, 금속막(L)이 형성된 기판(G)은 공정 챔버(300)의 일측벽에 형성된 입구(302)를 통해 공정 챔버(300) 내로 반입될 수 있다. 기판(G)은 이송 롤러들(310) 상부에 놓여지고, 이송 롤러들(310)이 회전함에 따라 일방향으로 이송될 수 있다.
약액 분사부(320)는 공정 챔버(300) 내에 배치되며, 기판(G) 상에 약액을 분사하기 위한 다수개의 분사 노즐들(322)을 포함할 수 있다. 분사 노즐(322)은 유입구(306)를 통해 약액 공급관(32)과 연결될 수 있다. 약액 공급관(32a)을 통해 약액이 약액 분사부(320)로 공급되고, 약액 분사부(320)의 분사 노즐들(322)은 기판(G) 상에 약액을 분사하여 식각 공정을 수행할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액은 금속을 식각하기 위한 식각액을 포함할 수 있다. 상기 금속은 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 기판(G) 상에 형성된 구리막을 식각하여 게이트 라인 또는 데이터 라인과 같은 도전성 라인을 형성할 수 있다. 상기 식각액은 주산화제, 보조 산화제, 탈이온수(deionized water) 등을 포함할 수 있다. 상기 주산화제는 과황산암모늄(ammonium persulfate, APS)와 같은 과황산염을 포함할 수 있다.
약액 분사부(320)로부터 기판(G) 상에 분사된 식각액(E)은 일차적으로 공정 챔버(300)의 하부에 구비된 약액 배스(bath)에 수집될 수 있다. 상기 약액 배스는 약액 배출관(34)을 통해 약액 공급부(60)에 연결되고 상기 약액 배스에 수집된 약액은 약액 배출관(34)을 통해 약액 공급부(60)로 배출될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 약액 공급 장치(100)는 기판 처리 챔버(300)와 연결되는 약액 탱크(110), 약액 탱크(110) 내에 구비되는 유체 분사부(120) 및 약액 탱크(110)의 측벽에 구비되는 배기부를 포함할 수 있다.
약액 탱크(110)는 약액 배출관(34)을 통해 공정 챔버(300)의 하부 배스와 연결되어 공정 챔버(300)로부터 기판(G) 상에 분사된 약액을 수집하고 저장할 수 있다. 또한, 약액 탱크(110)는 약액 공급관(32)을 통해 약액 분사부(320)의 분사 노즐(322)과 연결되어 약액 분사부(320)에 약액을 공급할 수 있다. 따라서, 약액 탱크(110)는 기판 처리 공정 챔버(300)로 약액을 순환시킬 수 있다.
유체 분사부(120)는 약액 탱크(110) 내에 저장된 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기(122)를 구비할 수 있다. 유체 분사부(120)는 분무기(122)에 유체를 공급하는 유체 공급부(130)를 더 포함할 수 있다. 유체 공급부(130)는 분무기(122)에 연결되며 기체를 공급하기 위한 제1 공급관(132) 및 분무기(122)에 연결되며 약액 탱크(110) 내의 상기 약액을 공급하기 위한 제2 공급관(124) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
예를 들면, 다수개의 분무기들(122)은 제1 공급관(132)을 통해 약액 탱크(110)에 저장된 약액 상에 기체를 분무하거나 제2 공급관(134)을 통해 약액 탱크(110) 내의 약액을 분무할 수 있다. 이에 따라, 유체 분사부(120)의 분무기(122)는 약액 탱크(110) 내에 수집된 약액으로부터 휘발된 수증기를 발생시키고, 이렇게 발생된 수증기는 약액 탱크(110)의 상부에 모이게 된다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액은 주산화제로 과황산암모늄을 포함하는 식각액(E)이고, 상기 수증기는 식각액(E) 내의 탈이온수가 휘발되어 발생된 기체일 수 있다. 식각액(E)은 과산화수소를 포함하지 않는 비과수계 식각액일 수 있다.
상기 배기부는 약액 탱크(110)의 상부 측벽에 구비되며, 분무기(122)에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출할 수 있다. 상기 배기부는 약액 탱크(110)의 상부 측벽에 구비된 배출구(112) 및 배출구(112)에 연결된 펌프(114)를 포함할 수 있다. 상기 배기구는 배출구(112)에 연되어 상기 수증기를 수집하는 수증기 탱크(도시되지 않음)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 상기 배기부는 약액 탱크(110)의 상부에 모여있는 휘발된 수증기를 약액 탱크(110)로부터 배출할 수 있다. 이에 따라, 약액 탱크(110) 내에 저장된 식각액(E) 중에서 탈이온수를 휘발시키고 배출함으로써, 약액 탱크(110)로부터 순환되는 식각액(E) 중에서 탈이온수의 성분 함량(%)의 증가를 방지할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 약액 공급 장치(100)는 기판 처리 챔버(300)로 식각액(E)을 순환시켜 기판(G) 상에 식각 공정을 수행할 수 있다. 순환되는 식각액(E)을 이용하여 기판 처리 챔버(300) 내에서 식각 공정들을 반복적으로 수행할 수 있다. 기판(G)의 누적매수가 증가함에 따라, 식각액(E)의 조성 변화가 발생할 수 있다.
예를 들면, 식각액(E) 중에서 주산화제(APS)의 성분 함량은 총 중량에 대하여 5% 내지 15%의 범위 이내에 있을 수 있다. 기판(G)의 누적매수가 증가함에 따라, 주산화제(APS)의 성분 함량은 상대적으로 감소되고 탈이온수의 성분 함량은 증가되어 식각 특성(skew, taper angle)이 저하될 수 있다. 약액 경시에 따라 식각액(E)의 성분이 변화되면, 약액 공급 장치(100)의 동작을 정지하고 식각액(E)을 교체하게 된다.
예시적인 실시예들에 있어서, 약액 공급 장치(100)는 유체 분사부(120)를 통해 약액 탱크(110) 내에 저장된 식각액(E) 중에서 탈이온수를 휘발시키고 상기 배기부를 통해 상기 휘발된 탈이온수를 배출하여 식각액(E) 중에서 탈이온수의 성분 함량(%)을 일정한 성분 이하로 유지시킬 수 있다.
따라서, 약액 공급 장치(100)는 유체 분사부(120) 및 상기 배기부를 포함하는 구성을 가짐으로써, 식각액(E) 내의 탈이온수의 휘발량을 증가시키고 이를 배출시킴으로써 식각액(E) 내의 주산화제(APS)의 성분 함량(%)을 감소 및 억제시킬 수 있다. 이에 따라, 식각액(E)에 대한 누적처리매수를 향상시켜 재료비를 절감시키고 식각액(E)의 교환 주기를 감소시켜 공정 관리를 용이하게 할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10 : 기판 처리 장치 20 : 로딩부
30, 30a, 30b, 30c, 300 : 공정 챔버
32, 32a, 32b : 약액 공급관 34, 34a, 34b : 약액 배출관
40 : 세정 공정 챔버 50 : 언로딩부
60 : 약액 공급부
100, 100a, 100b : 약액 공급 장치 110 : 약액 탱크
112 : 배출구 114 : 펌프
120 : 유체 분사부 122 : 분무기
130 : 유체 공급부 132 : 제1 공급관
134 : 제2 공급관 302 : 입구
304 : 출구 306 : 유입구
308 : 배출구 310 : 이송 롤러
320 : 약액 분사부 322 : 분사 노즐

Claims (15)

  1. 기판 처리 공정 챔버와 연결되며, 상기 기판 처리 공정 챔버로 약액을 순환시키기 위해 상기 약액을 저장하는 약액 탱크
    상기 약액 탱크 내에 구비되며, 상기 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기를 갖는 유체 분사부 및
    상기 약액 탱크의 측벽에 구비되며, 상기 분무기에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출하기 위한 배기부를 포함하는 약액 공급 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 기체를 공급하기 위한 제1 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 기체는 공기를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 상기 약액 탱크 내의 상기 약액을 공급하기 위한 제2 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 수증기는 상기 약액 내의 탈이온수(deionized water)가 휘발되어 발생되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 약액은 금속을 식각하기 위한 식각액을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 식각액은 과황산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 금속은 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
  9. 기판을 처리하는 위한 공정 챔버
    상기 공정 챔버 내에 배치되며, 상기 기판 상에 약액을 분사하기 위한 분사 노즐을 구비하는 약액 분사부 및
    상기 공정 챔버 및 상기 분사 노즐과 연결되며 상기 공정 챔버로 상기 약액을 순환시키기 위한 약액 공급부를 포함하고,
    상기 약액 공급부는
    상기 공정 챔버 및 상기 약액 분사부에 연결되며, 상기 공정 챔버로순환시키기 위하여 상기 약액을 저장하는 약액 탱크
    상기 약액 탱크 내에 구비되며, 상기 약액에 유체를 분무하기 위한 적어도 하나의 분무기를 갖는 유체 분사부 및
    상기 약액 탱크의 측벽에 구비되며, 상기 분무기에 의해 상기 약액으로부터 휘발된 수증기를 배출하기 위한 배기부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 공정 챔버 내에 배치되며 상기 기판을 이송시키는 이송 롤러들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 유체 분사부는 상기 분무기에 연결되며 기체 및 상기 약액 탱크 내의 상기 약액 중 적어도 하나를 공급하기 위한 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 제 9 항에 있어서, 상기 수증기는 상기 약액 내의 탈이온수가 휘발되어 발생되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 약액은 상기 기판 상에 형성된 금속을 식각하기 위한 식각액을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 식각액은 과황산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 금속은 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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