KR20150035420A - Curable resin composition, dry film, cured product, and display member - Google Patents

Curable resin composition, dry film, cured product, and display member Download PDF

Info

Publication number
KR20150035420A
KR20150035420A KR20140127563A KR20140127563A KR20150035420A KR 20150035420 A KR20150035420 A KR 20150035420A KR 20140127563 A KR20140127563 A KR 20140127563A KR 20140127563 A KR20140127563 A KR 20140127563A KR 20150035420 A KR20150035420 A KR 20150035420A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin composition
group
curable resin
manufactured
resin
Prior art date
Application number
KR20140127563A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101587360B1 (en
Inventor
치호 우에타
Original Assignee
다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2014072820A external-priority patent/JP5722484B2/en
Application filed by 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 filed Critical 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
Publication of KR20150035420A publication Critical patent/KR20150035420A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101587360B1 publication Critical patent/KR101587360B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

The present invention provides a curable resin composition which can maintain high light shielding property, increase insulation property, and have excellent photocurable property. The present invention relates to a curable resin composition comprising: (A) a near-infrared ray absorbent; (B) a coloring material having the minimum absorption value in 380 to 500 nm and the maximum absorption value in 500 to 780 nm in a visible ray region of 380 to 780 nm; (C) a thermosetting resin composition; and additionally (F) a photosensitive (meth)acrylate compound, to a dry film using the same, to a cured product thereof, and to a display member.

Description

경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 디스플레이 부재{CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, CURED PRODUCT, AND DISPLAY MEMBER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a curable resin composition, a dry film, a cured product and a display member,

본 발명은 경화성 수지 조성물(이하, 간단히 「조성물」이라고도 함), 드라이 필름, 경화물 및 디스플레이 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition (hereinafter simply referred to as " composition "), a dry film, a cured product and a display member.

휴대 전화나 디스플레이 등의 액정 표시부를 갖는 제품에 있어서, 표시 영역을 둘러싸서 터치 패널을 숨기는, 소위 베젤(프레임 영역)을 형성하는 재료에는, 높은 차광성, 즉 고OD값(OD 3 이상)을 구비할 것이 요구되기 때문에, 종래부터 일반적으로 카본 블랙계의 안료를 함유하는 흑색의 수지 조성물이 사용되고 있었다(특허문헌 1, 2, 3). 그러나, 카본 블랙계 안료는, 고OD값을 달성함에 있어서, 고농도로 첨가한 조성물은 절연성이 떨어지는 경향이 있기 때문에, 예를 들어, 터치 패널의 구성 방식에 따라서는 커버 유리에 도포한 베젤 부분에 직접 도전막을 성막하는 용도에는 적합하지 않다. 또한, 감광 재료의 관점에서는, 카본 블랙계 안료는, 자외 영역에서부터 적외 영역까지의 넓은 파장 범위에서 흡수를 나타내기 때문에 광경화 시의 노광이 안료에 의해 흡수되어, 광경화가 충분히 진행되지 않게 된다는 문제가 있었다.In a product having a liquid crystal display portion such as a cellular phone or a display, a material for forming a so-called bezel (frame region) that surrounds the display region to hide the touch panel has high light shielding property, that is, high OD value A black resin composition containing a carbon black pigment has conventionally been used (Patent Documents 1, 2, and 3). However, in the case of a carbon black-based pigment, in order to achieve a high OD value, a composition added at a high concentration tends to have poor insulating properties. Therefore, for example, depending on the construction method of the touch panel, It is not suitable for use for directly forming a conductive film. From the viewpoint of the photosensitive material, since the carbon black pigment exhibits absorption in a wide wavelength range from the ultraviolet region to the infrared region, the problem that the exposure at the time of photo-curing is absorbed by the pigment, .

또한, 특허문헌 4에는, 특정한 티타늄 블랙 입자를 주성분으로 하는 안료를 함유하는 흑색 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다. 그러나, 티타늄 블랙은 고농도 첨가에 의해 저점도 조성물 중에서 침강이 일어나기 쉽기 때문에, 그 단독으로 고OD값을 얻고 싶어도 첨가량에 한계가 있었다.Patent Document 4 discloses a black photosensitive resin composition containing a pigment containing a specific titanium black particle as a main component. However, since titanium black is likely to precipitate in a low viscosity composition due to the addition of a high concentration, there is a limit to the addition amount even if it is desired to obtain a high OD value alone.

상술한 바와 같이, 흑색을 갖는 수지 조성물에 대해서는, 지금까지 다양하게 제안되어 오고 있지만, 최근의 기술 발전에 수반하여, 높은 차광성을 유지하면서, 높은 절연성을 구비하고, 특히 광경화 특성도 부여할 수 있는 재료의 실현이 요구되고 있다.As described above, various resin compositions having black have been proposed so far. However, along with recent technological development, it has been desired to provide a black resin composition having high light-shielding property, high insulating property, It is required to realize a material that can be used.

일본 특허 공개 평04-190362호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Application Laid-Open No. H04-190362 (claims) 일본 특허 공표 제2010-519592호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-519592 (claims and the like) WO2012/133148 A1(특허 청구 범위 등)WO2012 / 133148 A1 (claims) 일본 특허 공개 제2002-275343호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-275343 (claims)

본 발명의 목적은, 높은 차광성을 유지하면서 절연성을 높이고, 특히 양호한 광경화성도 구비할 수 있는 경화성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a curable resin composition which can increase insulation while maintaining high light shielding property, and can provide particularly good photo curability.

본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 조성물 중에, 근적외선 흡수제와, 특정 파장 범위에 최대 흡수값과 최소 흡수값을 갖는 색재를 배합함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있음을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the above problems can be solved by combining a near infrared absorber and a coloring material having a maximum absorption value and a minimum absorption value in a specific wavelength range to complete the present invention It came.

즉, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, (A) 근적외선 흡수제, (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재, 및 (C) 열경화성 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다. 본 발명의 경화성 수지 조성물은 (D) 알칼리 가용성 수지, 및 (E) 광중합 개시제를 더 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 더 함유하는 것도 바람직하다.That is, the curable resin composition of the present invention is a curable resin composition comprising: (A) a near infrared absorbing agent; (B) a colorant having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm; (C) a thermosetting component. The curable resin composition of the present invention preferably further contains (D) an alkali-soluble resin and (E) a photopolymerization initiator. It is also preferable that the curable resin composition of the present invention further contains (F) a photosensitive (meth) acrylate compound.

또한, 본 발명의 다른 경화성 수지 조성물은, (A) 근적외선 흡수제, (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재, 및 (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.(B) a colorant having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm, and (F) a photosensitive (meth) acrylate compound.

본 발명의 경화성 수지 조성물에서는, 상기 (A) 근적외선 흡수제의 최대 흡수 파장이 500 내지 1000nm인 것이 바람직하다. 또한, 상기 (A) 근적외선 흡수제로서는, 금속 착체 색소 및 축합 다환계 색소 중에서 선택되는 적어도 1종을 적절하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 흑색을 나타내는 것이 바람직하고, 절연막 형성용으로서 적절하게 사용할 수 있다.In the curable resin composition of the present invention, it is preferable that the maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing agent (A) is 500 to 1000 nm. As the near infrared absorbing agent (A), at least one selected from metal complex dyes and condensed polycyclic dyes can be suitably used. The curable resin composition of the present invention preferably exhibits black color and can be suitably used for forming an insulating film.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 색조 조정을 위하여 감광성, 분산성에 영향이 없는 범위에서 (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재 이외의 색재를 사용할 수도 있다.The curable resin composition of the present invention has a minimum absorption value at 380 to 500 nm in the visible light region (380 to 780 nm) and a maximum absorption at 500 to 780 nm (B) It is also possible to use a coloring material other than a coloring material having a value.

또한, 본 발명의 드라이 필름은, 상기 본 발명의 경화성 수지 조성물을 캐리어 필름 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 것이다.Further, the dry film of the present invention is obtained by applying the curable resin composition of the present invention on a carrier film and drying it.

또한, 본 발명의 경화물은, 상기 본 발명의 경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 건조 도막, 또는 상기 경화성 수지 조성물을 캐리어 필름 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 드라이 필름이 기재에 라미네이트되어 이루어지는 도막을 경화시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The cured product of the present invention can be obtained by applying a dry film obtained by applying and drying the curable resin composition of the present invention onto a substrate or by applying the curable resin composition onto a carrier film and drying the dried film to laminate on the substrate And curing the resulting coating film.

또한, 본 발명의 차광용 부재는, 상기 본 발명의 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.Further, the light-shielding member of the present invention is characterized by comprising the cured product of the present invention.

또한, 본 발명의 디스플레이용 부재는, 상기 본 발명의 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.Further, the display member of the present invention is characterized by comprising the cured product of the present invention.

본 발명에 따르면, 높은 차광성을 유지하면서 절연성을 높이고, 특히 양호한 광경화성도 구비할 수 있는 경화성 수지 조성물을 실현하는 것이 가능하게 되었다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it becomes possible to realize a curable resin composition capable of maintaining high light-shielding property while improving the insulating property, and particularly having good photo-curability.

이하, 본 발명의 실시 형태를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, (A) 근적외선 흡수제, 및 (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재와 함께, (C) 열경화성 성분 또는 (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 필수 성분으로서 함유하는 점에 특징을 갖는다.The curable resin composition of the present invention is a curable resin composition comprising (A) a near infrared absorbing agent, and (B) a colorant having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm (C) a thermosetting component or (F) a photosensitive (meth) acrylate compound as an essential component.

(A) 근적외선 흡수제, 및 (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재와 함께, (C) 열경화성 성분을 필수 성분으로서 함유하는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 경화성 수지 조성물에 의하면, 높은 차광성 및 열경화성과 절연성을 얻을 수 있다. 또한, (A) 근적외선 흡수제, 및 (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재와 함께, (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 필수 성분으로서 함유하는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 경화성 수지 조성물에 의하면, 높은 차광성 및 광경화성과 절연성을 얻을 수 있다.(C) a thermosetting component as an essential component, together with a colorant having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm at a visible light region of 380 to 780 nm; The curable resin composition according to the second embodiment of the present invention can obtain a high light shielding property, a thermosetting property and an insulating property. (A) a near-infrared absorbing agent, and (B) a coloring material having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm, (F) According to the curable resin composition of the first embodiment of the present invention containing an acrylate compound as an essential component, high light shielding property, photo-curability and insulating property can be obtained.

즉, 본 발명에 따르면, 수지 조성물 중에, (A) 근적외선 흡수제 및 (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재(이하, 「(B) 특정 색재」라고도 함)를 함유시킴으로써, 고농도로 색재를 첨가해도 양호한 차광성 및 감광성을, 침강 등의 분산성의 문제를 발생시키지 않고 실현하는 것이 가능하게 되었다. 본 발명의 조성물은, 특히 가시광 영역에서, OD값이 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 3 내지 5, 특히 바람직하게는 5 내지 7이다. 본 발명의 경화성 수지 조성물은 상기 배합으로 함으로써, 적합하게는 흑색을 나타내는 것이다.That is, according to the present invention, there is provided a resin composition comprising (A) a near infrared absorber and (B) a coloring material having a minimum absorption value in the range of 380 to 500 nm and a maximum absorption value in the range of 500 to 780 nm (Also referred to as "(B) specific coloring material"), it is possible to realize good light-shielding property and photosensitivity without causing problems of dispersion such as sedimentation even when a coloring material is added at a high concentration. The composition of the present invention has an OD value of preferably at least 3, more preferably from 3 to 5, particularly preferably from 5 to 7, particularly in the visible light region. The curable resin composition of the present invention preferably exhibits black when it is blended.

또한, 특히, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 의하면, 카본 블랙계 안료를 첨가한 경우에 유사한 색조를 얻을 수 있다. 상술한 바와 같이, 카본 블랙계 안료의 배합에 의해 고OD값을 얻고자 하면, 저항값 및 감광성이 저하되는 문제가 있는데, 상기 (A), (B) 성분을 병용하는 본 발명에 따르면, 고OD값 및 저항값을 모두 달성할 수 있는 것이다. 본 발명은 보다 높은 OD값, 차폐성이 요구되는 터치 패널 부재에 있어서 유용하다.In particular, according to the curable resin composition of the present invention, a similar color tone can be obtained when a carbon black pigment is added. As described above, there is a problem that the resistance value and the photosensitivity are lowered when a high OD value is obtained by blending the carbon black pigment. According to the present invention using the components (A) and (B) Both the OD value and the resistance value can be achieved. The present invention is useful for a touch panel member requiring a higher OD value and shielding property.

[(A) 근적외선 흡수제][(A) Near infrared ray absorbent]

본 발명에 사용하는 (A) 근적외선 흡수제로서는, 500 내지 1000nm에 흡수 극대를 갖는 색소를 사용할 수 있고, 적합하게는, 최대 흡수 파장이 700 내지 1000nm, 보다 적합하게는, 800 내지 1000nm인 것을 사용한다. 색소로서는, 금속 착체 색소 및 축합 다환계 색소를 사용할 수 있고, 구체적으로는 예를 들어, 프탈로시아닌계 색소, 포르피린계 색소, 시아닌계 색소, 쿼터릴렌계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 아조계, 아미늄계, 안트라퀴논계, 디이모늄계, 나프탈로시아닌계 색소, 니켈 착체 색소, 구리 이온계 색소, 디티올 금속 착체, 복소환계 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 복소환계 화합물, 쿼터릴렌계 색소, 프탈로시아닌, 나프탈로시아닌계 색소 등의 가시광 영역에도 흡수가 있는 것이 바람직하다. 제품으로서는, SDO-C8, SDO-C33(이상, 아리모토 가가꾸 고교사 제조), 루모겐(Lumogen) IR 765, 루모겐 IR 788(이상, 바스프(BASF) 재팬사 제조) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 파장 범위 내에 흡수 극대가 있으며, 광을 효율적으로 흡수해서 증감 작용을 갖는 금속 착체를 갖는 색소가 바람직하다. 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.As the near infrared absorbing agent (A) used in the present invention, a dye having an absorption maximum at 500 to 1000 nm can be used, and a dye having a maximum absorption wavelength of 700 to 1000 nm, more preferably 800 to 1000 nm is used . As the dye, metal complex dyes and condensed polycyclic dyes can be used. Specific examples thereof include phthalocyanine dyes, porphyrin dyes, cyanine dyes, quaternary dyes, squarylium dyes, azo dyes, , Anthraquinone type, diimonium type, naphthalocyanine type dye, nickel complex dye, copper ion dye, dithiol metal complex, heterocyclic compound and the like. Among them, it is preferable that absorption occurs in a visible light region such as a heterocyclic compound, a quaternary dye, a phthalocyanine, or a naphthalocyanine dye. Examples of the products include SDO-C8 and SDO-C33 (manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.), Lumogen IR 765 and Lumogen IR 788 (manufactured by BASF Japan) . A dye having an absorption maximum within the wavelength range and having a metal complex which absorbs light efficiently and has a sensitizing action is preferable. One or more of these may be used.

(A) 근적외선 흡수제의 함유율로서는, 경화성 수지 조성물(고형분) 중에 0.001 내지 50질량%가 바람직하고, 0.005 내지 30질량%가 보다 바람직하고, 0.005 내지 20질량%가 더욱 바람직하다. (A) 근적외선 흡수제를 상기 범위로 (B) 특정 색재와 병용함으로써, 특히 가시광 영역에서 원하는 높은 OD값을 얻을 수 있다. 또한, 요구되는 가시 파장 부분의 흡수를 보다 높게 할 수 있다.The content of the near infrared absorbing agent (A) in the curable resin composition (solid content) is preferably from 0.001 to 50 mass%, more preferably from 0.005 to 30 mass%, and even more preferably from 0.005 to 20 mass%. (A) By using a near infrared absorbing agent in combination with (B) a specific coloring material in the above range, a desired high OD value can be obtained particularly in a visible light region. In addition, absorption of a required visible wavelength portion can be further increased.

[(B) 특정 색재][(B) Specific coloring material]

본 발명에 사용하는 (B) 특정 색재로서는, 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재이면 된다. 색재에는, 유기 색재와 무기 색재가 있는데, 본 발명에서는, 적합하게는 유기 색재를 사용한다. 본 발명에 사용하는 (B) 특정 색재로서는, 안료나 염료가 있는데, 여기에서는 천연으로 존재하는 것 이외의 화학적으로 합성된 것을 말하며, 유기(합성) 염료에는, 안트라퀴논계 합성 염료, 아조계 합성 염료, 메틴계 합성 염료, 퀴놀린계 합성 염료, 페릴렌계 합성 염료, 아진계 합성 염료로 이루어지는 군의 공지 관용의 유기(합성) 염료가 있는데, 특히 단독으로 차광성이 우수한 것으로서 구체적으로는 예를 들어, 페나진 골격을 갖는 화합물을 포함하는 니그로신을 들 수 있다. 특히 컬러 인덱스(COLOR INDEX) C.I.No. 액시드 블랙(Acid Black) 2, 솔벤트 블랙(Solvent Black) 5, 솔벤트 블랙 7, 솔벤트 블랙 22, 솔벤트 블랙 27, 솔벤트 블랙 29, 솔벤트 블랙 34 등이 있고, 특히 골격에 크롬, 코발트, 니켈, 구리, 철 등의 금속이 착염화되어 있는 금속 착염 염료가 착색력이나 내열 특성의 면에서 바람직하다. 유기 안료로서는, 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 공지 관용의 유기 안료 등을 들 수 있고, 그 중에서도 광경화성, 착색성 및 가시광 영역의 차폐성이 우수한 프탈로시아닌계, 디옥사진계, 페릴렌계가 바람직하다. 구체적으로 예를 들어, 프탈로시아닌계라면 피그먼트 블루(Pigment Blue) 15:3, 15:4, 15:6, 페릴렌계라면 루모겐 블랙(Lumogen Black) FK4280, 루모겐 블랙 FK4281, 옥사진계라면 피그먼트 바이올렛(Pigment Violet) 23, 37이 바람직하고, 이들 중의 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 적절히 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 무기 색재로서는, 사삼산화코발트, 티타늄 블랙 등을 들 수 있고, 이들 중의 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 적절히 혼합하여 사용할 수 있다.The specific coloring material (B) to be used in the present invention may be any coloring material having a minimum absorption value in the range of 380 to 500 nm and a maximum absorption value in the range of 500 to 780 nm in the visible light region of 380 to 780 nm. The coloring material includes an organic coloring material and an inorganic coloring material. In the present invention, an organic coloring material is preferably used. Examples of the specific coloring material (B) used in the present invention include pigments and dyes, which are chemically synthesized in addition to those present naturally, and organic (synthetic) dyes include anthraquinone-based synthetic dyes, There are known organic (synthetic) dyes for known dyes of the group consisting of dyes, methine dyes, quinoline dyes, perylene dyes, and azine dyes, and these dyes are excellent in light shielding properties. Specifically, , A nigrosine including a compound having a phenazine skeleton. In particular, the color index (COLOR INDEX) C.I. Acid Black 2, Solvent Black 5, Solvent Black 7, Solvent Black 22, Solvent Black 27, Solvent Black 29 and Solvent Black 34, and in particular, there are chromium, cobalt, nickel, copper , Iron, and the like are preferred from the viewpoint of tinting strength and heat resistance. Organic pigments include organic pigments for publicly known pigments having a minimum absorption value in the range of 380 to 500 nm and a maximum absorption value in the range of 500 to 780 nm in the visible light region of 380 to 780 nm. Among them, photocuring properties, coloring properties, A phthalocyanine type, a dioxazine type, and a perylene type which are excellent in the shielding property of the region are preferable. Specifically, for example, in the case of the phthalocyanine type, Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6, perylene-based Lumogen Black FK 4280, Lumogen Black FK 4281, Pigment Violet 23, and Pigment Violet 37 are preferred, and one of these may be used singly or two or more of them may be appropriately mixed. Examples of the inorganic colorant include cobalt tetraoxide and titanium black. One of them may be used singly or two or more of them may be appropriately mixed.

본 발명자는 예의 연구한 결과, 다음의 점을 알아내었다. 즉, 색재에는, 안료나 염료가 있는데, 여기에서는 천연으로 존재하는 것 이외의 화학적으로 합성된 것을 말하며, 이것들은 천연으로 존재하는 것에 비해 채도와 흡수 파장 및 착색성, 조성물로서의 상용 특성의 선택지가 다양하게 있기 때문에, 고OD값의 감광성 조성물이 밸런스 좋게 생기는 것을 알아내었다.As a result of intensive studies, the present inventor has found the following points. That is, the coloring materials include pigments and dyes. Herein, they are chemically synthesized other than those present naturally. They have various choices of saturation, absorption wavelength and coloring property, and commercial properties as a composition , It is found that the photosensitive composition having a high OD value is produced in a balanced manner.

또한, 특히, 본 발명에 사용하는 (B) 특정 색재라면, 우수한 착색력에 의해, 카본 블랙 정도의 적은 첨가량으로 고OD값을 달성하여, 목적으로 하는 흡수 특성을 갖기 때문에, 우수한 광경화성을 얻을 수 있음을 발견하였다. 또한, 본 발명에서 사용하는 (B) 특정 색재 중에서도, 특히 유기 염료는 우수한 광경화성과 착색성, 및 분산성의 밸런스가 이루어져 있어, 차폐용 경화성 수지 조성물에 적합한 것을 알아내었다.Particularly, in the case of the specific coloring material (B) used in the present invention, a high OD value is attained with a small addition amount of carbon black by an excellent tinting strength, and the desired absorption property is obtained, . Among the specific coloring materials (B) used in the present invention, especially organic dyes have been found to be suitable for a curable resin composition for shielding because they have excellent balance of light curability, coloring property and dispersibility.

따라서, (B) 특정 색재 중에서도, 적은 첨가량으로 높은 OD값을 얻을 수 있는 점에서 유기 염료가 바람직하다. 그 중에서도, 보다 높은 OD값을 얻을 수 있는 점에서, 아닐린·니트로벤젠을 축합한 페나진 골격을 갖는 니그로신 화합물이 보다 바람직하다. 이것은, 아닐린 또는 아닐린의 염산염과 니트로벤젠에 염산을 첨가하여, 구리 또는 철 등의 촉매 하에서의 탈수, 탈암모니아, 산화·환원 축합 반응(Redox Condensation)으로 얻어지는 흑색 축합 혼합물이며, 축합되는 조건에 의해 다양한 페나진 골격을 갖는 화합물을 포함하는 다성분체를 말한다. 니그로신은, 반응 시간, 투입 원료 및 투입비에 따라, 다양한 서로 다른 화합물의 혼합물로서 생성되는 것이며, 하기 화학식 (I) 또는 (II)로 표현되는 트리페나진옥사진, 하기 화학식 (III) 내지 (VI)으로 표현되는 페나진아진 등의 아진계 화합물, 및 이들에 알킬 치환기를 도입한 화합물의 혼합물이라고 추측되고 있다.Therefore, among the specific colorants (B), an organic dye is preferable in that a high OD value can be obtained with a small addition amount. Among them, a nigrosine compound having a phenazine skeleton condensed with aniline-nitrobenzene is more preferable in that a higher OD value can be obtained. This is a black condensate mixture obtained by dehydration, deammonia, or oxidation-reduction condensation reaction (Redox Condensation) in which hydrochloric acid of aniline or aniline and hydrochloric acid are added to nitrobenzene under a catalyst such as copper or iron, Phenazine skeleton. ≪ / RTI > Nigrosine is produced as a mixture of various different compounds depending on the reaction time, the feedstock and the feed ratio, and is a tripenaxane photograph represented by the following formula (I) or (II) , And azine compounds such as phenazineazine, which are represented by the following formula, and compounds in which alkyl substituents are introduced into them.

Figure pat00001
Figure pat00001

본 발명에서의 유기 염료의 원료가 되는 니그로신은, 컬러 인덱스 C.I. 예를 들어, 액시드 블랙 2, C.I.솔벤트 블랙 5, 솔벤트 블랙 7로서 기재되어 있는 흑색 아진계 축합 혼합물을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 이하에 나타내는 화학 구조식을 포함하는 솔벤트 블랙 5 및 솔벤트 블랙 7의 금속 착염 염료가 보다 바람직하다.Nigrosine as a raw material of the organic dyes in the present invention is a color index C.I. For example, a black azine condensation mixture described as Acid Black 2, CI Solvent Black 5, and Solvent Black 7 can be used. Among them, a metal complex dye of Solvent Black 5 and Solvent Black 7 containing the following chemical structural formula is more preferable.

(솔벤트 블랙 5)(Solvent Black 5)

Figure pat00002
Figure pat00002

(솔벤트 블랙 7)(Solvent black 7)

Figure pat00003
Figure pat00003

본 발명에 사용하는 (B) 특정 색재의 배합량은, 조성물(고형분) 중에 0.05 내지 80질량%가 바람직하고, 0.1 내지 70질량%가 보다 바람직하고, 0.5 내지 50질량%가 더욱 바람직하다. (B) 특정 색재의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 특히 가시광 영역에서 원하는 높은 OD값을 얻을 수 있다.The blending amount of the specific coloring material (B) used in the present invention is preferably from 0.05 to 80 mass%, more preferably from 0.1 to 70 mass%, and even more preferably from 0.5 to 50 mass%, in the composition (solid content). By setting the blending amount of the specific coloring material (B) within the above range, a desired high OD value can be obtained particularly in the visible light region.

[(C) 열경화성 성분][(C) Thermosetting component]

본 발명에 사용하는 (C) 열경화성 성분은, 조성물에 내열성을 부여하기 위하여 함유시키는 것이며, 특히 적합하게는, 분자 중에 2개 이상의 환상 에테르기 및 환상 티오에테르기(이하, 환상 (티오)에테르기로 간단히 함) 중 적어도 어느 1종을 갖는 (C) 열경화성 성분을 사용한다. 열경화성 성분을 사용하면 내열성뿐만 아니라, 하지와의 밀착성이 향상되는 것으로 확인되었다. 여기서, 본 발명의 제2 실시 형태에서는, (C) 열경화성 성분이 필수적인데, 본 발명의 제1 실시 형태에서도, (C) 열경화성 성분을 배합하는 것이 바람직하고, 이에 의해, 광경화성과 열경화성을 겸비한 경화성 수지 조성물을 얻을 수 있다.The thermosetting component (C) used in the present invention is contained in order to impart heat resistance to the composition. Particularly preferably, the thermosetting component (C) used in the present invention contains two or more cyclic ether groups and cyclic thioether groups (C) a thermosetting component having at least any one of the following components: It was confirmed that the use of the thermosetting component improves not only the heat resistance but also the adhesion to the base. Here, in the second embodiment of the present invention, the thermosetting component (C) is essential. In the first embodiment of the present invention, it is also preferable that the thermosetting component (C) is blended, whereby the thermosetting component A curable resin composition can be obtained.

이러한 분자 중에 2개 이상의 환상 (티오)에테르기를 갖는 (C) 열경화성 성분은, 분자 중에 3, 4 또는 5원환의 환상 에테르기 또는 환상 티오에테르기 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 2개 이상 갖는 화합물이며, 예를 들어, 분자 내에 적어도 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물, 즉 다관능 에폭시 화합물, 분자 내에 적어도 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 화합물, 즉 다관능 옥세탄 화합물, 분자 내에 2개 이상의 티오에테르기를 갖는 화합물, 즉 에피술피드 수지 등을 들 수 있다.The thermosetting component (C) having at least two cyclic (thio) ether groups in the molecule is a compound having at least two or more cyclic ether groups or cyclic thioether groups of 3, 4 or 5-membered rings in the molecule, For example, a compound having at least two epoxy groups in the molecule, that is, a polyfunctional epoxy compound, a compound having at least two oxetanyl groups in the molecule, that is, a polyfunctional oxetane compound, a compound having two or more thioether groups Compounds, i.e., episulfide resins, and the like.

다관능 에폭시 화합물로서는, 예를 들어, 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 828, 에피코트 834, 에피코트 1001, 에피코트 1004, DIC사 제조의 에피클론 840, 에피클론 850, 에피클론 1050, 에피클론 2055, 도또 가세이사 제조의 에포토토 YD-011, YD-013, YD-127, YD-128, 다우 케미컬사 제조의 D.E.R. 317, D.E.R. 331, D.E.R. 661, D.E.R. 664, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미에폭시 ESA-011, ESA-014, ELA-115, ELA-128, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R. 330, A.E.R. 331, A.E.R. 661, A.E.R. 664 등(모두 상품명)의 비스페놀 A형 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 YL903, DIC사 제조의 에피클론 152, 에피클론 165, 도또 가세이사 제조의 에포토토 YDB-400, YDB-500, 다우 케미컬사 제조의 D.E.R. 542, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미에폭시 ESB-400, ESB-700, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R. 711, A.E.R. 714 등(모두 상품명)의 브롬화 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 152, 에피코트 154, 다우 케미컬사 제조의 D.E.N. 431, D.E.N. 438, DIC사 제조의 에피클론 N-730, 에피클론 N-770, 에피클론 N-865, 도또 가세이사 제조의 에포토토 YDCN-701, YDCN-704, 니혼 가야꾸사 제조의 EPPN-201, EOCN-1025, EOCN-1020, EOCN-104S, RE-306, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미에폭시 ESCN-195X, ESCN-220, 아사히 가세이 고교사 제조의 A.E.R. ECN-235, ECN-299 등(모두 상품명)의 노볼락형 에폭시 수지; DIC사 제조의 에피클론 830, 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 807, 도또 가세이사 제조의 에포토토 YDF-170, YDF-175, YDF-2004 등(모두 상품명)의 비스페놀 F형 에폭시 수지; 도또 가세이사 제조의 에포토토 ST-2004, ST-2007, ST-3000(상품명) 등의 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 604, 도또 가세이사 제조의 에포토토 YH-434, 스미또모 가가꾸 고교사 제조의 스미에폭시 ELM-120 등(모두 상품명)의 글리시딜아민형 에폭시 수지; 히단토인형 에폭시 수지; 다이셀 가가꾸 고교사 제조의 셀록사이드 2021 등(모두 상품명)의 지환식 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 YL-933, 다우 케미컬사 제조의 T.E.N., EPPN-501, EPPN-502 등(모두 상품명)의 트리히드록시페닐메탄형 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 YL-6056, YX-4000, YL-6121(모두 상품명) 등의 비크실레놀형 또는 비페놀형 에폭시 수지 또는 그들의 혼합물; 니혼 가야꾸사 제조 EBPS-200, 아사히 덴까 고교사 제조 EPX-30, DIC사 제조의 EXA-1514(상품명) 등의 비스페놀 S형 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 157S(상품명) 등의 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지; 미쯔비시 가가꾸사 제조의 에피코트 YL-931 등(모두 상품명)의 테트라페닐올에탄형 에폭시 수지; 닛산 가가꾸 고교사 제조의 TEPIC 등(모두 상품명)의 복소환식 에폭시 수지; 니혼 유시사 제조의 브렌마 DGT 등의 디글리시딜프탈레이트 수지; 도또 가세이사 제조의 ZX-1063 등의 테트라글리시딜크실레노일에탄 수지; 신니혼제철 가가꾸사 제조의 ESN-190, ESN-360, DIC사 제조의 HP-4032, EXA-4750, EXA-4700 등의 나프탈렌기 함유 에폭시 수지; DIC사 제조의 HP-7200, HP-7200H 등의 디시클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지; 니혼 유시사 제조의 CP-50S, CP-50M 등의 글리시딜메타크릴레이트 공중합계 에폭시 수지; 또한, 시클로헥실말레이미드와 글리시딜메타크릴레이트의 공중합 에폭시 수지; 에폭시 변성의 폴리부타디엔 고무 유도체(예를 들어, 다이셀 가가꾸 고교사 제조 PB-3600 등), CTBN 변성 에폭시 수지(예를 들어, 도또 가세이사 제조의 YR-102, YR-450 등), 니혼 가야꾸사 제조의 NC3000 등의 비페닐 골격 함유 에폭시 수지 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이 에폭시 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 특히 노볼락형 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지 또는 그들의 혼합물이 바람직하다.Examples of the polyfunctional epoxy compound include Epikote 828, Epikote 834, Epikote 1001, Epikote 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Epiklon 840 manufactured by DIC Corporation, Epiclon 850, Epiclon 1050, Epiclon YD-013, YD-127, YD-128 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., DER 317, D.E.R. 331, D.E.R. 661, D.E.R. 664, SUMI EPOXY ESA-011, ESA-014, ELA-115, ELA-128 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., A.E.R. 330, A.E.R. 331, A.E.R. 661, A.E.R. 664 (all trade names), bisphenol A type epoxy resin; Epikoton YL903 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Epiclon 152 manufactured by DIC Corporation, Epiclon 165, Epototo YDB-400 manufactured by Dotato Kasei Co., Ltd., YDB-500 manufactured by Dow Chemical Co., and D.E.R. 542, SUMI EPOXY ESB-400, ESB-700 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., and A.E.R. 711, A.E.R. 714 (all trade names), brominated epoxy resin; Epikote 152, Epikote 154, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and D.E.N. 431, D.E.N. Epoclon N-770, Epiclon N-865, Epotto YDCN-701 and YDCN-704 manufactured by Dotagasei Co., Ltd., EPPN-201 manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd., EOCN -1025, EOCN-1020, EOCN-104S, RE-306, SUMI EPOXY ESCN-195X, ESCN-220 manufactured by Sumitomo Chemical Co., ECN-235, ECN-299 and the like (all trade names); Bisphenol F type epoxy resins such as Epiclon 830 manufactured by DIC Corporation, Epikote 807 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and Epototo YDF-170, YDF-175 and YDF-2004 manufactured by Toto Kasei Co., Hydrogenated bisphenol A type epoxy resins such as Epitoto ST-2004, ST-2007, and ST-3000 (trade name) manufactured by Toyobo Co., Ltd.; Epikote 604 manufactured by Mitsubishi Kagaku Co., Ltd., Epototo YH-434 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., Sumi Epoxy ELM-120 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (all trade names), glycidylamine type epoxy resin; Hidanto dolphin epoxy resin; Alicyclic epoxy resins such as Celloxide 2021 (all trade names) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.; YL-933 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, T.E.N., EPPN-501 and EPPN-502 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. (all trade names), trihydroxyphenylmethane type epoxy resin; Biscylenol-type or biphenol-type epoxy resins such as YL-6056, YX-4000, and YL-6121 (all trade names) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation or a mixture thereof; Bisphenol S type epoxy resin such as EBPS-200 manufactured by Nihon Kayakazai, EPX-30 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., and EXA-1514 (trade name) manufactured by DIC Corporation; Bisphenol A novolak type epoxy resins such as Epikote 157S (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; Tetraphenylol ethane type epoxy resin such as Epikote YL-931 (all trade names) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; A heterocyclic epoxy resin such as TEPIC manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. (all trade names); Diglycidyl phthalate resins such as Blenda DGT manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd.; Tetraglycidylcylenoyl ethane resins such as ZX-1063 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.; ESN-190, ESN-360 manufactured by Shin-Nippon Steel Chemical Co., Ltd., HP-4032, EXA-4750 and EXA-4700 manufactured by DIC Corporation; An epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton such as HP-7200 and HP-7200H manufactured by DIC; Glycidyl methacrylate copolymer-based epoxy resins such as CP-50S and CP-50M manufactured by Nihon Yucca; Further, copolymerized epoxy resin of cyclohexylmaleimide and glycidyl methacrylate; Epoxy-modified polybutadiene rubber derivatives (e.g., PB-3600 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), CTBN-modified epoxy resins (such as YR-102 and YR-450 manufactured by Toyobo Co., And biphenyl skeleton-containing epoxy resins such as NC3000 manufactured by Kayaku Co., Ltd., but are not limited thereto. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, novolak type epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins and mixtures thereof are particularly preferable.

다관능 옥세탄 화합물로서는, 비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에테르, 1,4-비스[(3-메틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트나 그것들의 올리고머 또는 공중합체 등의 다관능 옥세탄류 외에, 옥세탄 알코올과 노볼락 수지, 폴리(p-히드록시스티렌), 카르도형 비스페놀류, 칼릭스아렌류, 칼릭스레조르신아렌류, 또는 실세스퀴옥산 등의 수산기를 갖는 수지와의 에테르화물 등을 들 수 있다. 그 밖에, 옥세탄환을 갖는 불포화 단량체와 알킬(메트)아크릴레이트와의 공중합체 등도 들 수 있다.Examples of the polyfunctional oxetane compound include bis [(3-methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ether, bis [ Methyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, , Poly (p-hydroxystyrene), cardo type bisphenols, calixarene, calix resorcinarene, or a mixture of oxalic alcohol and novolak resin, poly And ether compounds with a hydroxyl group-containing resin such as sesquioxane. Other examples include copolymers of an unsaturated monomer having an oxetane ring and an alkyl (meth) acrylate.

분자 중에 2개 이상의 환상 티오에테르기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어, 재팬 에폭시 레진사 제조의 비스페놀 A형 에피술피드 수지 YL7000 등을 들 수 있다. 또한, 동일한 합성 방법을 사용하여, 노볼락형 에폭시 수지의 에폭시기의 산소 원자를 황 원자로 치환한 에피술피드 수지 등도 사용할 수 있다.Examples of the compound having two or more cyclic thioether groups in the molecule include bisphenol A type episulfide resin YL7000 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and the like. An episulfide resin in which the oxygen atom of the epoxy group of the novolac epoxy resin is substituted with a sulfur atom can also be used by using the same synthetic method.

(C) 열경화성 성분의 배합량은, 수지 성분 100질량부에 대하여 적합하게는 0.6 내지 2.8당량, 보다 적합하게는 0.8 내지 2.5당량이 되는 범위로 한다. (C) 열경화성 성분의 배합량을 상기 범위로 함으로써, 조성물에 양호한 내열성을 부여할 수 있다.The blending amount of the thermosetting component (C) is in the range of 0.6 to 2.8 equivalents, more preferably 0.8 to 2.5 equivalents, per 100 parts by mass of the resin component. By setting the blending amount of the thermosetting component (C) within the above range, good heat resistance can be imparted to the composition.

[(D) 알칼리 가용성 수지][(D) Alkali-soluble resin]

본 발명의 조성물에는, 수지 성분으로서, (D) 알칼리 가용성 수지를 배합할 수 있다. (D) 알칼리 가용 수지로서는, 카르복실기 함유 수지 또는 페놀 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 카르복실기 함유 수지를 사용하면, 현상성의 면에서 보다 바람직하다.In the composition of the present invention, (D) an alkali-soluble resin may be blended as a resin component. As the alkali-soluble resin (D), it is preferable to use a carboxyl group-containing resin or a phenol resin. In particular, the use of a carboxyl group-containing resin is more preferable in view of developability.

카르복실기 함유 수지로서는, 분자 중에 카르복실기를 갖고, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않거나(비감광성의) 또는 이것을 갖는(감광성의), 종래 공지된 각종 카르복실기 함유 수지를 사용할 수 있다.As the carboxyl group-containing resin, various conventionally known carboxyl group-containing resins having a carboxyl group in the molecule and not having an ethylenically unsaturated double bond (non-photosensitive) or having (photosensitive) thereon can be used.

본 발명에서는, 특히, 분자 중에 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않는 비감광성 카르복실기 함유 수지가, 유연성의 향상, 경화 수축의 저감 및 밀착성의 향상의 면에서 바람직하다.In the present invention, a non-photosensitive carboxyl group-containing resin having no ethylenically unsaturated double bond in the molecule is particularly preferred in view of improvement in flexibility, reduction in curing shrinkage, and improvement in adhesion.

비감광성 카르복실기 함유 수지의 구체예로서는, 이하와 같은 화합물(올리고머 및 중합체 중 어느 것이어도 좋다)을 들 수 있다.Specific examples of the non-photosensitive carboxyl group-containing resin include the following compounds (any of oligomers and polymers).

(1) 지방족 디이소시아네이트, 분지 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등의 카르복실기를 함유하는, 디알코올 화합물, 폴리카르보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥시드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(1) a dialcohol compound containing a diisocyanate such as an aliphatic diisocyanate, a branched aliphatic diisocyanate, an alicyclic diisocyanate, or an aromatic diisocyanate and a carboxyl group such as dimethylolpropionic acid or dimethylolbutanoic acid, a polycarbonate-based polyol Containing carboxyl groups in a diol compound such as a polyether polyol, a polyester polyol, a polyolefin polyol, a bisphenol A-based alkylene oxide adduct diol, a compound having a phenolic hydroxyl group and an alcoholic hydroxyl group Urethane resin.

(2) 디이소시아네이트와, 카르복실기 함유 디알코올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 우레탄 수지.(2) A urethane resin containing a carboxyl group by the reaction of a diisocyanate and a carboxyl group-containing dialcohol compound with a middle part.

(3) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 스티렌, α-메틸스티렌, 저급 알킬(메트)아크릴레이트, 이소부틸렌 등의 불포화기 함유 화합물과의 공중합에 의해 얻어지는 카르복실기 함유 수지.(3) A carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid with an unsaturated group-containing compound such as styrene,? -Methylstyrene, lower alkyl (meth) acrylate or isobutylene.

(4) 2관능 에폭시 수지 또는 2관능 옥세탄 수지에 아디프산, 프탈산, 헥사히드로프탈산 등의 디카르복실산을 반응시켜, 발생한 수산기에 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산 등의 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 폴리에스테르 수지.(4) reacting a bifunctional epoxy resin or a bifunctional oxetane resin with a dicarboxylic acid such as adipic acid, phthalic acid or hexahydrophthalic acid to react the resulting hydroxyl group with phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride or hexahydrophthalic anhydride A carboxyl group-containing polyester resin to which a dibasic acid anhydride is added.

(5) 에폭시 수지 또는 옥세탄 수지를 개환시켜, 생성된 수산기에 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 수지.(5) A carboxyl group-containing resin obtained by ring-opening an epoxy resin or an oxetane resin, and reacting the resulting hydroxyl group with a polybasic acid anhydride.

(6) 1 분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물, 즉 폴리페놀 화합물을, 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드 등의 알킬렌옥시드와 반응시켜서 얻어지는 폴리 알코올 수지 등의 반응 생성물에, 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 수지.(6) A polybasic acid anhydride is reacted with a reaction product such as a polyalcohol resin obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in one molecule, that is, a polyphenol compound, with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide Containing carboxyl group.

또한, 본 명세서에서, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 그들의 혼합물을 의미한다.Further, in the present specification, (meth) acrylate means acrylates, methacrylates and mixtures thereof.

비감광성 카르복실기 함유 수지로서는, 이 중, 염소를 함유하고 있지 않은 것보다, 상기 (1), (2), (6)을 사용하는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 방향환을 갖고, 서멀 사이클이 우수한 점에서, 경화 수축과 아울러, 모든 특성에 있어서 밸런스가 좋은 상기 (6)을 사용하는 것이 바람직하다.As the non-photosensitive carboxyl group-containing resin, the above-mentioned (1), (2), and (6) are preferably used rather than chlorine-free resin. Above all, it is preferable to use the above-mentioned (6), which has an aromatic ring and is excellent in thermal cycle, and has good balance of curing shrinkage and all characteristics.

또한, 감광성 카르복실기 함유 수지의 구체예로서는, 이하와 같은 화합물(올리고머 및 중합체 중 어느 것이어도 좋다)을 들 수 있다. 또한, 카르복실기 함유 수지에서의 에틸렌성 불포화 이중 결합은, 아크릴산 또는 메타크릴산 또는 그들의 유도체 유래인 것이 바람직하다.Specific examples of the photosensitive carboxyl group-containing resin include the following compounds (any of oligomers and polymers). The ethylenically unsaturated double bond in the carboxyl group-containing resin is preferably derived from acrylic acid or methacrylic acid or a derivative thereof.

(7) 지방족 디이소시아네이트, 분지 지방족 디이소시아네이트, 지환식 디이소시아네이트, 방향족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트와, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등의 카르복실기를 함유하는, 디알코올 화합물, 폴리카르보네이트계 폴리올, 폴리에테르계 폴리올, 폴리에스테르계 폴리올, 폴리올레핀계 폴리올, 아크릴계 폴리올, 비스페놀 A계 알킬렌옥시드 부가체 디올, 페놀성 히드록실기 및 알코올성 히드록실기를 갖는 화합물 등의 디올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(7) a dialcohol compound containing a diisocyanate such as an aliphatic diisocyanate, a branched aliphatic diisocyanate, an alicyclic diisocyanate and an aromatic diisocyanate and a carboxyl group such as dimethylolpropionic acid or dimethylolbutanoic acid, a polycarbonate-based polyol , A polyether-based polyol, a polyester-based polyol, a polyolefin-based polyol, an acrylic-based polyol, a bisphenol A-based alkylene oxide adducted diol, a compound having a phenolic hydroxyl group and an alcoholic hydroxyl group By weight of a carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.

(8) 디이소시아네이트와, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비크실레놀형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지 등의 2관능 에폭시 수지의 (메트)아크릴레이트 또는 그의 부분 산 무수물 변성물과, 카르복실기 함유 디알코올 화합물의 중부가 반응에 의한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(8) a bifunctional epoxy resin such as a bisphenol A type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin, a beccylenol type epoxy resin and a biphenol type epoxy resin (Meth) acrylate or a partial acid anhydride thereof, and a carboxyl group-containing dialcohol compound.

(9) 상술한 (7) 또는 (8)의 수지의 합성 중에, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 1개의 수산기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가하여, 말단 (메트)아크릴화한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(9) In the synthesis of the resin of the above-mentioned (7) or (8), a compound having one hydroxyl group and at least one (meth) acryloyl group in the molecule such as hydroxyalkyl (meth) (Meth) acrylated carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.

(10) 상술한 (8) 또는 (9)의 수지의 합성 중에, 이소포론디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 등몰 반응물 등, 분자 내에 1개의 이소시아네이트기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 첨가해서 말단 (메트)아크릴화한 카르복실기 함유 감광성 우레탄 수지.(10) In the synthesis of the resin of the above-mentioned (8) or (9), one isocyanate group and one or more (meth) acryloyl groups in the molecule, such as equimolar reactants of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate, (Meth) acrylate obtained by adding a compound having a carboxyl group to a carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.

(11) 2관능 또는 그 이상의 다관능 (고형) 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시켜, 측쇄에 존재하는 수산기에 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(11) A photosensitive resin containing a carboxyl group in which a dibasic acid anhydride is added to a hydroxyl group present in a side chain by reacting a bifunctional or higher polyfunctional (solid) epoxy resin with (meth) acrylic acid.

(12) 2관능 (고형) 에폭시 수지의 수산기를 추가로 에피클로로히드린으로 에폭시화한 다관능 에폭시 수지에 (메트)아크릴산을 반응시켜, 발생한 수산기에 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 감광성 수지.(12) A method for producing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing photosensitive resin (a), which is obtained by reacting a polyfunctional epoxy resin obtained by epoxidizing a hydroxyl group of a bifunctional (epoxy) epoxy resin with epichlorohydrin, .

(13) 2관능 옥세탄 수지에 아디프산, 프탈산, 헥사히드로프탈산 등의 디카르복실산을 반응시켜, 발생한 1급의 수산기에 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산 등의 2염기산 무수물을 부가시킨 카르복실기 함유 폴리에스테르 감광성 수지.(13) A process for producing a bifunctional oxetane resin, which comprises reacting a bifunctional oxetane resin with a dicarboxylic acid such as adipic acid, phthalic acid, or hexahydrophthalic acid, reacting the generated primary hydroxyl group with a dibasic acid such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride or hexahydrophthalic anhydride A carboxyl group-containing polyester photosensitive resin to which an acid anhydride is added.

(14) 1 분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물, 즉 폴리페놀 화합물을, 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드 등의 알킬렌옥시드와 반응시켜서 얻어지는 폴리 알코올 수지 등의 반응 생성물에, (메트)아크릴산 등의 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시켜 얻어지는 반응 생성물에, 다염기산 무수물을 재차 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(14) A reaction product of a polyalcohol resin obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in a molecule, that is, a polyphenol compound with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide, Containing monocarboxylic acid, which is obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting an unsaturated group-containing monocarboxylic acid with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid.

(15) 1 분자 중에 복수의 페놀성 수산기를 갖는 화합물과 에틸렌카르보네이트, 프로필렌카르보네이트 등의 환상 카르보네이트 화합물을 반응시켜서 얻어지는 반응 생성물에, 불포화기 함유 모노카르복실산을 반응시켜 얻어지는 반응 생성물에, 다염기산 무수물을 반응시켜서 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(15) A reaction product obtained by reacting a reaction product obtained by reacting a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups in a molecule with a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate or propylene carbonate, with a monocarboxylic acid containing an unsaturated group A photosensitive resin containing a carboxyl group obtained by reacting a reaction product with a polybasic acid anhydride.

(16) 상술한 (7) 내지 (15)의 수지에, 1 분자 내에 1개의 에폭시기와 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 추가로 부가하여 이루어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.(16) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further adding a compound having one epoxy group and at least one (meth) acryloyl group in one molecule to the resin of the above-mentioned (7) to (15).

이들 감광성 카르복실기 함유 수지는, (7) 내지 (16)으로서 설명한 것 이외의 것도 사용할 수 있고, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 혼합하여 사용해도 된다. 특히 카르복실기 함유 수지 중에서, 방향환을 갖고 있는 수지가 해상성이 우수하므로 바람직하다.These photosensitive carboxyl group-containing resins other than those described in (7) to (16) may be used either singly or in combination. Of the carboxyl group-containing resins in particular, resins having an aromatic ring are preferred because of their excellent resolution.

그 중에서도, 카르복실기 함유 수지 (14), (15)와 같은, 페놀 화합물을 출발 원료로 해서 합성되는 카르복실기 함유 수지는, 염소를 함유하고 있지 않은 점에서, 절연성이 우수하기 때문에, 적절하게 사용할 수 있다.Among them, a carboxyl group-containing resin synthesized using a phenol compound as a starting material, such as the carboxyl group-containing resins (14) and (15), can be suitably used because it has excellent insulating properties .

상술한 카르복실기 함유 수지는, 감광성, 비감광성을 막론하고, 이하를 말할 수 있다. 즉, 백본·중합체의 측쇄에 다수의 카르복실기를 갖기 때문에, 희알칼리 수용액에 의한 현상이 가능해진다.The above-mentioned carboxyl group-containing resin, whether photosensitive or non-photosensitive, can be mentioned as follows. That is, since a large number of carboxyl groups are present in the side chain of the backbone polymer, development with a dilute alkaline aqueous solution becomes possible.

또한, 카르복실기 함유 수지의 산가는 40 내지 200mgKOH/g의 범위가 적당하며, 보다 바람직하게는 45 내지 120mgKOH/g의 범위이다. 카르복실기 함유 수지의 산가가 40mgKOH/g 미만이면 알칼리 현상이 곤란해지고, 한편, 200mgKOH/g을 초과하면 현상액에 의한 노광부의 용해가 진행되기 때문에, 필요 이상으로 라인이 가늘어지거나, 경우에 따라서는, 노광부와 미노광부의 구별 없이 현상액으로 용해 박리되어버려, 정상적인 레지스트 패턴의 묘화가 곤란해지므로 바람직하지 않다.The acid value of the carboxyl group-containing resin is suitably in the range of 40 to 200 mg KOH / g, more preferably in the range of 45 to 120 mg KOH / g. If the acid value of the carboxyl group-containing resin is less than 40 mgKOH / g, the alkali development becomes difficult. On the other hand, when the acid value exceeds 200 mgKOH / g, dissolution of the exposed portion by the developer proceeds, The resist is dissolved and peeled off as a developing solution without distinction between the light portion and the unexposed portion, which makes it difficult to draw a normal resist pattern.

또한, 상술한 카르복실기 함유 수지의 중량 평균 분자량은 수지 골격에 따라 상이하지만, 일반적으로 2,000 내지 150,000, 나아가 5,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 2,000 미만이면 무점착 성능이 떨어지는 경우가 있고, 노광 후의 도막의 내현상성이 얻어지지 않고, 해상성이 크게 떨어지는 경우가 있다. 한편, 중량 평균 분자량이 150,000을 초과하면, 현상성이 현저하게 나빠지는 경우가 있다.The weight-average molecular weight of the above-mentioned carboxyl group-containing resin varies depending on the resin skeleton, but is generally in the range of 2,000 to 150,000, more preferably 5,000 to 100,000. If the weight-average molecular weight is less than 2,000, the tack free performance may deteriorate, and the developability of the coated film after exposure may not be obtained, and the resolution may be significantly lowered. On the other hand, if the weight average molecular weight exceeds 150,000, the developability may be remarkably deteriorated.

이러한 카르복실기 함유 수지의 배합량은, 경화성 수지 조성물 중에 20 내지 60질량%, 바람직하게는 30 내지 50질량%의 범위가 적당하다. 카르복실기 함유 수지의 배합량이 20질량%보다 적은 경우, 피막 강도가 저하되는 경우가 있으므로 바람직하지 않다. 한편, 60질량%보다 많은 경우, 경화성 수지 조성물의 점성이 높아지거나, 캐리어 필름에 대한 도포성 등이 저하되므로 바람직하지 않다.The amount of such a carboxyl group-containing resin is suitably in the range of 20 to 60 mass%, preferably 30 to 50 mass%, in the curable resin composition. If the blending amount of the carboxyl group-containing resin is less than 20% by mass, the film strength may be lowered, which is not preferable. On the other hand, if it is more than 60% by mass, the viscosity of the curable resin composition becomes high or the coatability to the carrier film becomes low, which is not preferable.

또한, 본 발명에서는, 알칼리 가용성 수지로서, 감광성 카르복실기 함유 수지, 및 감광성을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지 중 어느 한쪽을 사용하는 것이나, 이들을 혼합하여 사용하는 것도 가능하지만, 감광성 카르복실기 함유 수지와 감광성을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지는 혼합하여 사용되는 것이 바람직하고, 그의 함유 비율은, (감광성 카르복실기 함유 수지:감광성을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지)가 고형분 질량 기준으로 (1:9) 내지 (9:1), 바람직하게는 (2:8) 내지 (8:2), 더욱 바람직하게는 (5:5) 내지 (7:3)의 범위가 된다. 이 범위로 함으로써, 특히, 노광량의 증대를 피하면서, 해상성 및 밀착성의 양쪽에 있어서 우수한 수지 조성물의 경화물 및 이것을 갖는 프린트 배선판을 얻는 것이 가능하게 된다.In the present invention, either the photosensitive resin containing a photosensitive carboxyl group or the resin containing a carboxyl group having no photosensitive property may be used as the alkali-soluble resin, or a mixture thereof may be used. However, the photosensitive resin containing a photosensitive carboxyl group- (Containing a photosensitive carboxyl group: a carboxyl group-containing resin having no photosensitivity) is preferably used in a ratio of (1: 9) to (9: 1) Is in the range of (2: 8) to (8: 2), more preferably in the range of (5: 5) to (7: 3). Within this range, it is possible to obtain a cured product of a resin composition and a printed wiring board having the cured product, both of which are excellent in both resolution and adhesion, while avoiding an increase in exposure dose.

감광성 카르복실기 함유 수지 및 감광성을 갖지 않는 카르복실기 함유 수지는 상술한 것 이외의 것도 사용할 수 있고, 각각 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 혼합하여 사용해도 된다. 카르복실기 함유 수지 중에서도, 특히, 방향환을 갖고 있는 수지는 굴절률이 높고, 해상성이 우수하므로 바람직하고, 추가로 노볼락 구조를 갖고 있는 것이 해상성, PCT 내성 및 크랙 내성의 면에서 우수하여 바람직하다.The photosensitive carboxyl group-containing resin and the photosensitive group-containing carboxyl group-containing resin other than those described above may be used alone or in combination of two or more. Among the carboxyl group-containing resins, resins having an aromatic ring are particularly preferable because they have a high refractive index and excellent resolution, and further, they have a novolak structure because they are excellent in terms of resolution, PCT resistance and crack resistance .

페놀 수지로서는, 페놀성 수산기를 갖는 화합물, 예를 들어, 비페닐 골격 또는 페닐렌 골격 또는 그 양쪽의 골격을 갖는 화합물, 또는 페놀성 수산기 함유 화합물, 예를 들어, 페놀, 오르토크레졸, 파라크레졸, 메타크레졸, 2,3-크실레놀, 2,4-크실레놀, 2,5-크실레놀, 2,6-크실레놀, 3,4-크실레놀, 3,5-크실레놀, 카테콜, 레조르시놀, 히드로퀴논, 메틸히드로퀴논, 2,6-디메틸히드로퀴논, 트리메틸히드로퀴논, 피로갈롤, 플로로글루시놀 등을 사용하여 합성한, 다양한 골격을 갖는 페놀 수지를 사용해도 된다.As the phenol resin, a compound having a phenolic hydroxyl group, for example, a compound having a skeleton of a biphenyl skeleton or a phenylene skeleton or both, or a compound containing a phenolic hydroxyl group, such as phenol, orthocresol, Xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol , Phenol resins having various skeletons synthesized by using catechol, resorcinol, hydroquinone, methylhydroquinone, 2,6-dimethylhydroquinone, trimethylhydroquinone, pyrogallol, and fluoroglucinol may be used.

예를 들어, 페놀 노볼락 수지, 알킬페놀 노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 자일록(Xylok)형 페놀 수지, 테르펜 변성 페놀 수지, 폴리비닐페놀류, 비스페놀 F, 비스페놀 S형 페놀 수지, 폴리-p-히드록시스티렌, 나프톨과 알데히드류의 축합물, 디히드록시나프탈렌과 알데히드류의 축합물 등 공지 관용의 페놀 수지를 사용할 수 있다.Examples thereof include phenol novolak resins, alkylphenol novolac resins, bisphenol A novolak resins, dicyclopentadiene type phenol resins, xylok type phenol resins, terpene modified phenol resins, polyvinyl phenols, bisphenol F, Phenol resins such as bisphenol S type phenol resin, poly-p-hydroxystyrene, condensates of naphthol and aldehydes, condensation products of dihydroxynaphthalene and aldehydes, and the like can be used.

이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These may be used alone or in combination of two or more.

이와 같은 페놀 수지의 시판품으로서는, HF1H60(메이와 가세이사 제조), 페놀라이트 TD-2090, 페놀라이트 TD-2131(다이니폰인쇄사 제조), 베스몰 CZ-256-A(DIC사 제조), 쇼놀 BRG-555, 쇼놀 BRG-556(쇼와 덴꼬사 제조), CGR-951(마루젠 석유사 제조), 또는 폴리비닐페놀의 CST70, CST90, S-1P, S-2P(마루젠 석유사 제조) 등을 들 수 있다. 이 페놀 수지는 단독으로, 또는 2종류 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of such phenol resins include HF1H60 (manufactured by Meiwa Kasei Co.), phenolite TD-2090, phenolite TD-2131 (manufactured by Dainippon Printing Co.), Bethmol CZ-256-A CST90, S-1P, S-2P (manufactured by Maruzen Kogyo Co., Ltd.) of polyvinyl phenol, etc., . These phenolic resins may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서는, (D) 알칼리 가용성 수지로서, 카르복실기 함유 수지 및 페놀 수지 중 어느 한쪽, 또는 이들의 혼합물을 사용해도 된다.In the present invention, any one of the carboxyl group-containing resin and the phenol resin, or a mixture thereof may be used as the (D) alkali-soluble resin.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서, (D) 알칼리 가용성 수지로서 에틸렌성 불포화기를 포함하지 않는 재료를 사용하는 경우에는, 분자 중에 1개 이상, 바람직하게는 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물, 즉, 광중합성 단량체·올리고머 등의 광중합성 화합물을 병용할 필요가 있다. 광중합성 화합물은, 활성 에너지선 조사에 의해 광경화하고, (D) 알칼리 가용성 수지의 알칼리 수용액에 대한 용해를 조장하는 것이다. 이밖에, 카르복실기 함유 수지를 사용하는 경우에도, 광경화를 더욱 촉진할 목적으로, 광중합성 화합물을 병용할 수 있다.In the curable resin composition of the present invention, when a material that does not contain an ethylenic unsaturated group is used as the alkali-soluble resin (D), a compound having at least one, preferably at least two ethylenically unsaturated groups in the molecule That is, a photopolymerizable compound such as a photopolymerizable monomer and an oligomer must be used in combination. The photopolymerizable compound is photo-cured by irradiation with active energy rays, and (D) dissolves the alkali-soluble resin in an aqueous alkali solution. In addition, even when a carboxyl group-containing resin is used, a photopolymerizable compound can be used in combination for the purpose of further promoting photo-curing.

어느 경우든, 1종류 또는 복수 종류의 광중합성 화합물을 사용할 수 있다.In either case, one kind or plural kinds of photopolymerizable compounds can be used.

[(E) 광중합 개시제][(E) Photopolymerization initiator]

본 발명의 조성물에는, (E) 광중합 개시제를 함유시킬 수 있다. (E) 광중합 개시제로서는, 벤조페논계, 아세토페논계, 아미노아세토페논계, 벤조인에테르계, 벤질케탈계, 아실포스핀옥시드계, 옥심에테르계, 옥심에스테르계, 티타노센계 등의 공지 관용의 화합물을 들 수 있다.The composition of the present invention may contain (E) a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator (E) include photopolymerization initiators such as benzophenone, acetophenone, aminoacetophenone, benzoin ether, benzyl ketal, acylphosphine oxide, oxime ether, oxime ester and titanocene Compounds.

(E) 광중합 개시제로서는, 이하에 나타내는 일반식 (I)로 표시되는 구조 부분을 포함하는 옥심에스테르계, 일반식 (II)로 표시되는 구조 부분을 포함하는 α-아미노아세토페논계, 일반식 (III)으로 표현되는 구조 부분을 포함하는 아실포스핀옥시드계, 및 일반식 (IV)로 표현되는 티타노센계로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 함유하는 것이 바람직하다.Examples of the photopolymerization initiator (E) as the photopolymerization initiator include oxime ester-based photopolymerization initiators including structural moieties represented by the following general formula (I),? -Amino acetophenone based moieties represented by the general formula (II) (III), and a titanocene-based compound represented by the general formula (IV). In the present invention,

Figure pat00004
Figure pat00004

일반식 (I) 중, R1은 수소 원자, 페닐기, 알킬기, 시클로알킬기, 알카노일기 또는 벤조일기를 나타낸다. R2는 페닐기, 알킬기, 시클로알킬기, 알카노일기 또는 벤조일기를 나타낸다.In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkanoyl group or a benzoyl group. R 2 represents a phenyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkanoyl group or a benzoyl group.

R1 및 R2에 의해 표현되는 페닐기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, 예를 들어, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기, 할로겐 원자 등을 들 수 있다.The phenyl group represented by R 1 and R 2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a halogen atom and the like.

R1 및 R2에 의해 표현되는 알킬기로서는, 탄소수 1 내지 20의 알킬기가 바람직하고, 알킬쇄 중에 1개 이상의 산소 원자를 포함하고 있을 수도 있다. 또한, 1개 이상의 수산기로 치환되어 있을 수도 있다.The alkyl group represented by R 1 and R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may contain at least one oxygen atom in the alkyl chain. It may also be substituted with one or more hydroxyl groups.

R1 및 R2에 의해 표현되는 시클로알킬기로서는, 탄소수 5 내지 8의 시클로알킬기가 바람직하다.As the cycloalkyl group represented by R 1 and R 2 , a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms is preferable.

R1 및 R2에 의해 표현되는 알카노일기로서는, 탄소수 2 내지 20의 알카노일기가 바람직하다.As the alkanoyl group represented by R 1 and R 2 , an alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable.

R1 및 R2에 의해 표현되는 벤조일기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, 예를 들어, 탄소수가 1 내지 6인 알킬기, 페닐기 등을 들 수 있다.The benzoyl group represented by R 1 and R 2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, and the like.

일반식 (II) 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 아릴알킬기를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내거나, 또는 2개가 결합하여 환상 알킬에테르기를 형성할 수도 있다.In the formula (II), R 3 and R 4 each independently represent an alkyl group or an arylalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Or two of them may combine to form a cyclic alkyl ether group.

일반식 (III) 중, R7 및 R8은 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 시클로헥실기, 시클로펜틸기, 아릴기, 또는 할로겐 원자, 알킬기 또는 알콕시기로 치환된 아릴기, 또는 탄소수 1 내지 20의 카르보닐기(단, 양쪽이 탄소수 1 내지 20의 카르보닐기인 경우를 제외함)를 나타낸다.In the general formula (III), R 7 and R 8 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, an aryl group, or an aryl group substituted with a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, Represents a carbonyl group having 1 to 20 carbon atoms (provided that both are a carbonyl group having 1 to 20 carbon atoms).

일반식 (IV) 중, R9 및 R10은 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 아릴기, 할로겐화 아릴기, 복소환 함유 할로겐화 아릴기를 나타낸다.In the general formula (IV), R 9 and R 10 each independently represent a halogen atom, an aryl group, a halogenated aryl group or a heterocyclic ring-containing halogenated aryl group.

일반식 (I)로 표시되는 구조 부분을 포함하는 옥심에스테르계 광중합 개시제로서는, 1,2-옥탄디온-1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심), 하기식 (I-1)로 표현되는 화합물, 2-(아세틸옥시이미노메틸)티옥산텐-9-온, 및 하기 일반식 (I-2)로 표현되는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the oxime ester-based photopolymerization initiator containing the structural moiety represented by the general formula (I) include 1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], A compound represented by the following formula (I-1), a compound represented by the following formula (I-1), 2- (Acetyloxyiminomethyl) thioxanthen-9-one, and compounds represented by the following general formula (I-2).

Figure pat00005
Figure pat00005

일반식 (I-2) 중, R11은 일반식 (I)에서의 R1과 동일한 의미이며, R12 및 R14는 각각 독립적으로, 일반식 (I)에서의 R2와 동일한 의미이다. R13은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 벤질기, 벤조일기, 탄소수 2 내지 12의 알카노일기, 탄소수 2 내지 12의 알콕시카르보닐기(알콕실기를 구성하는 알킬기의 탄소수가 2 이상인 경우, 알킬기는 1개 이상의 수산기로 치환되어 있을 수도 있고, 알킬쇄의 중간에 1개 이상의 산소 원자를 가질 수도 있다) 또는 페녹시카르본기를 나타낸다.In the general formula (I-2), R 11 is the same as R 1 in the general formula (I), and R 12 and R 14 are each independently the same as R 2 in the general formula (I). R 13 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms When the number of carbon atoms in the alkyl group constituting the actual group is 2 or more, the alkyl group may be substituted with at least one hydroxyl group or may have at least one oxygen atom in the middle of the alkyl chain) or a phenoxycarb group.

이들 중에서도, 상기 식 (I-2)로 표현되는 화합물이 바람직하다.Among them, the compound represented by the above formula (I-2) is preferable.

이러한 옥심 에스테르계 광중합 개시제는, 예를 들어, 다이렉트 이미징용의 노광에 대하여, 본 발명의 조성물의 감도를 높게 할 수 있어, 해상성이 우수하기 때문에 바람직하다.Such an oxime ester-based photopolymerization initiator is preferable because, for example, the sensitivity of the composition of the present invention can be increased with respect to exposure for direct imaging, and the resolution is excellent.

특히, 노광이 단독 파장의 h선(405nm)인 경우, 옥심에스테르계 광중합 개시제는 2량체인 것이 바람직하다.In particular, when the exposure is an h-line (405 nm) of a single wavelength, the oxime ester-based photopolymerization initiator is preferably a dimer.

2량체의 옥심에스테르계 광중합 개시제로서는, 하기 일반식 (I-3)으로 표현되는 화합물인 것이 보다 바람직하다.As the oxime ester-based photopolymerization initiator of the dimer, it is more preferable to be a compound represented by the following general formula (I-3).

Figure pat00006
Figure pat00006

일반식 (I-3) 중, R23은 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 페닐기, 나프틸기를 나타낸다.In the general formula (I-3), R 23 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group or a naphthyl group.

R21, R22는 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 할로겐기, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 피리딜기, 벤조푸릴기, 벤조티에닐기를 나타낸다.R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen group, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a pyridyl group, a benzofuryl group or a benzothienyl group.

Ar은 단결합, 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기, 비닐렌기, 페닐렌기, 비페닐렌기, 피리딜렌기, 나프틸렌기, 안트릴렌기, 티에닐렌기, 푸릴렌기, 2,5-피롤-디일기, 4,4'-스틸벤-디일기, 4,2'-스티렌-디일기를 나타낸다.Ar is a single bond or a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a vinylene group, a phenylene group, a biphenylene group, a pyridylene group, a naphthylene group, an anthrylene group, a thienylene group, a furylene group, A 4,4'-stilbene-diyl group, and a 4,2'-styrene-diyl group.

n은 0 내지 1의 정수를 나타낸다.and n represents an integer of 0 to 1.

R23에 의해 표현되는 알킬기로서는, 탄소수 1 내지 17의 알킬기가 바람직하다.As the alkyl group represented by R 23 , an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms is preferable.

R23에 의해 표현되는 알콕시기로서는, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기가 바람직하다.As the alkoxy group represented by R 23 , an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.

R23에 의해 표현되는 페닐기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, 예를 들어, 알킬기(바람직하게는 탄소수 1 내지 17), 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1 내지 8), 아미노기, 알킬아미노기(바람직하게는 알킬기의 탄소수 1 내지 8) 및 디알킬아미노기(바람직하게는 알킬기의 탄소수 1 내지 8) 등을 들 수 있다.The phenyl group represented by R 23 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (preferably having 1 to 17 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 8 carbon atoms), an amino group, (Preferably 1 to 8 carbon atoms of the alkyl group) and a dialkylamino group (preferably 1 to 8 carbon atoms of the alkyl group).

R23에 의해 표현되는 나프틸기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, R23에 의해 표현되는 페닐기가 가질 수 있는 상기 치환기와 마찬가지의 기를 들 수 있다.Naphthyl group represented by R 23 as may be have a substituent, the substituent may be a group of the same as those of the substituent in a phenyl group may have to be represented by R 23.

R21 및 R22에 의해 표현되는 알킬기로서는, 탄소수 1 내지 17의 알킬기가 바람직하다.As the alkyl group represented by R 21 and R 22 , an alkyl group having 1 to 17 carbon atoms is preferable.

R21 및 R22에 의해 표현되는 알콕시기로서는, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기가 바람직하다.As the alkoxy group represented by R 21 and R 22 , an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms is preferable.

R21 및 R22에 의해 표현되는 페닐기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, 예를 들어, 알킬기(바람직하게는 탄소수 1 내지 17), 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1 내지 8), 아미노기, 알킬아미노기(바람직하게는 알킬기의 탄소수 1 내지 8) 및 디알킬아미노기(바람직하게는 알킬기의 탄소수 1 내지 8) 등을 들 수 있다.The phenyl group represented by R 21 and R 22 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (preferably having 1 to 17 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 8 carbon atoms) , An alkylamino group (preferably having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group) and a dialkylamino group (preferably having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group).

R21 및 R22에 의해 표현되는 나프틸기는 치환기를 갖고 있을 수도 있고, 해당 치환기로서는, R21 및 R22에 의해 표현되는 페닐기가 가질 수 있는 상기 치환기와 마찬가지의 기를 들 수 있다.R may be have a naphthyl group substituents represented by 21 and R 22, may be the substituent, R 21 and R 22 to a group of the same as those of the substituent in a phenyl group may have to be represented by.

또한, 일반식 (I-3) 중, R21, R23이 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이며, R22가 메틸기 또는 페닐기이며, Ar이 단결합이나 페닐렌기, 나프틸렌기 또는 티에닐렌기이며, n이 0인 것이 바람직하다. 일반식 (I-3)으로 표현되는 화합물 중에서도, 하기 구조식으로 표시되는 것이 보다 바람직하다.R 21 and R 23 are each independently a methyl group or an ethyl group, R 22 is a methyl group or a phenyl group, Ar is a single bond, a phenylene group, a naphthylene group or a thienylene group, n is preferably 0. Of the compounds represented by the general formula (I-3), those represented by the following structural formulas are more preferable.

Figure pat00007
Figure pat00007

이러한 옥심에스테르계 광중합 개시제를 사용하는 경우, 노광에 대한 감도를 향상시키기 위해서, 일반식 (II)로 표시되는 구조 부분을 포함하는 α-아미노아세토페논계 광중합 개시제 등과 병용하는 것이 바람직하다.When such an oxime ester-based photopolymerization initiator is used, it is preferably used in combination with an? -Amino acetophenone-based photopolymerization initiator or the like containing the structural moiety represented by the general formula (II) in order to improve the sensitivity to exposure.

일반식 (II)로 표시되는 구조 부분을 포함하는 α-아미노아세토페논계 광중합 개시제로서는, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, N,N-디메틸아미노아세토페논 등을 들 수 있다.Examples of the? -Amino acetophenone-based photopolymerization initiator containing the structural moiety represented by the general formula (II) include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinoprofenon- 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2- -Morpholinyl) phenyl] -1-butanone, N, N-dimethylaminoacetophenone, and the like.

일반식 (III)으로 표현되는 구조 부분을 포함하는 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥시드 등을 들 수 있다.Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator containing the structural moiety represented by the general formula (III) include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, and the like.

일반식 (IV)로 표현되는 티타노센계 광중합 개시제로서는, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄을 들 수 있다.Examples of the titanocene photopolymerization initiator represented by the general formula (IV) include bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro- -Yl) -phenyl) titanium. ≪ / RTI >

이러한 (E) 광중합 개시제의 배합율은, 수지 성분 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 100질량부, 보다 바람직하게는 0.5 내지 80질량부의 비율이다. (E) 광중합 개시제의 배합율이, 수지 성분 100질량부에 대하여 0.01질량부 미만이면 광경화성이 부족하여, 도막이 박리하거나, 내약품성 등의 도막 특성이 저하되는 경우가 있어서 바람직하지 않다. 한편, (E) 광중합 개시제의 배합율이, 수지 성분 100질량부에 대하여 100질량부를 초과하면, (E) 광중합 개시제의 광흡수에 의해, 심부 경화성이 저하되는 경우가 있어서 바람직하지 않다.The blending ratio of the (E) photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 100 parts by mass, more preferably 0.5 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin component. If the blending ratio of the (E) photopolymerization initiator is less than 0.01 part by mass based on 100 parts by mass of the resin component, the photocuring property is insufficient and the coating film may peel off or the coating film properties such as chemical resistance may deteriorate. On the other hand, when the blending ratio of the (E) photopolymerization initiator is more than 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin component, the deep curing property may be lowered due to the light absorption of the (E) photopolymerization initiator.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는, 상술한 화합물 이외의 광중합 개시제나, 광개시 보조제 및 증감제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 벤조인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 티오크산톤 화합물, 케탈 화합물, 벤조페논 화합물, 크산톤 화합물, 및 3급 아민 화합물 등을 들 수 있다.The curable resin composition of the present invention may contain a photopolymerization initiator other than the above-mentioned compounds, a photoinitiator, and a sensitizer, and examples thereof include benzoin compounds, anthraquinone compounds, thioxanthone compounds, ketal compounds, Benzophenone compounds, xanthone compounds, and tertiary amine compounds.

벤조인 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르이다. 아세토페논 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논이다. 안트라퀴논 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논이다. 티오크산톤 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤이다. 케탈 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈이다. 벤조페논 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 벤조페논, 4-벤조일디페닐술피드, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 4-벤조일-4'-에틸디페닐술피드, 4-벤조일-4'-프로필디페닐술피드이다.Specific examples of the benzoin compound are, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Concrete examples of the acetophenone compound are, for example, acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone . Specific examples of the anthraquinone compound are, for example, 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone and 1-chloro anthraquinone. Specific examples of the thioxanthone compound include, for example, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone to be. Specific examples of the ketal compound include, for example, acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal. Specific examples of the benzophenone compound include, for example, benzophenone, 4-benzoyldiphenylsulfide, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 4-benzoyl- Benzoyl-4'-propyldiphenylsulfide.

3급 아민 화합물의 구체예를 들면, 예를 들어, 에탄올아민 화합물, 디알킬아미노벤젠 구조를 갖는 화합물, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논(니혼 소다사 제조 닛소큐어 MABP), 4,4'-디에틸아미노벤조페논(호도가야 가가꾸사 제조 EAB) 등의 디알킬아미노벤조페논, 7-(디에틸아미노)-4-메틸-2H-1-벤조피란-2-온(7-(디에틸아미노)-4-메틸쿠마린) 등의 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물, 4-디메틸아미노벤조산에틸(니혼 가야꾸사 제조 카야큐어 EPA), 2-디메틸아미노벤조산에틸(인터내셔널 바이오-신세틱스사 제조 퀀타큐어(Quantacure) DMB), 4-디메틸아미노벤조산(n-부톡시)에틸(인터내셔널 바이오-신세틱스사 제조 퀀타큐어 BEA), p-디메틸아미노벤조산이소아밀에틸에스테르(니혼 가야꾸사 제조 카야큐어 DMBI), 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실(반 다이크(Van Dyk)사 제조 에솔롤(Esolol) 507), 4,4'-디에틸아미노벤조페논(호도가야 가가꾸사 제조 EAB)이다.Specific examples of the tertiary amine compound include, for example, an ethanolamine compound, a compound having a dialkylaminobenzene structure, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Nissokyure MABP manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) Dialkylaminobenzophenone such as 4,4'-diethylaminobenzophenone (EAB manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 7- (diethylamino) -4-methyl-2H-1-benzopyran- Dimethylaminobenzoate (Kaya Cure EPA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), ethyl 2-dimethylaminobenzoate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (International Bio-Synthesis (Quantacure DMB manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 4-dimethylaminobenzoic acid (n-butoxy) ethyl (Quantacure BEA manufactured by International Bio-Synthesis Inc.), p-dimethylaminobenzoic acid isoamylethyl ester Kayacure DMBI), 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate (manufactured by Van Dyk) Esolol 507), and 4,4'-diethylaminobenzophenone (EAB manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.).

3급 아민 화합물로서는, 디알킬아미노벤젠 구조를 갖는 화합물이 바람직하고, 그 중에서도, 디알킬아미노벤조페논 화합물, 최대 흡수 파장이 350 내지 410nm에 있는 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물이 특히 바람직하다. 디알킬아미노벤조페논 화합물로서는, 4,4'-디에틸아미노벤조페논이, 독성도 낮아 바람직하다. 최대 흡수 파장이 350 내지 410nm에 있는 디알킬아미노기 함유 쿠마린 화합물은, 최대 흡수 파장이 자외선 영역에 있기 때문에, 착색제를 사용하여, 착색제 자체의 색을 반영한 착색막을 제공하는 것이 가능하게 된다. 특히, 7-(디에틸아미노)-4-메틸-2H-1-벤조피란-2-온이, 파장 400 내지 410nm의 레이저광에 대하여 우수한 증감 효과를 나타내므로 바람직하다.As the tertiary amine compound, a compound having a dialkylaminobenzene structure is preferable, and a dialkylaminobenzophenone compound and a dialkylamino group-containing coumarin compound having a maximum absorption wavelength of 350 to 410 nm are particularly preferable. As the dialkylaminobenzophenone compound, 4,4'-diethylaminobenzophenone is preferable because it has low toxicity. A coumarin compound having a dialkylamino group having a maximum absorption wavelength of 350 to 410 nm can provide a colored film reflecting the color of the coloring agent itself using a coloring agent since the maximum absorption wavelength is in the ultraviolet region. Particularly, 7- (diethylamino) -4-methyl-2H-1-benzopyran-2-one is preferable because it exhibits an excellent increase / decrease effect with respect to a laser beam having a wavelength of 400 to 410 nm.

[(F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물][(F) Photosensitive (meth) acrylate compound]

본 발명에 사용하는 (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물은, 활성 에너지선 조사에 의해 광경화하고, 수지 성분을 알칼리 수용액에 불용화하거나 또는 불용화를 돕는 것이다. 이러한 화합물로서는, 관용 공지된 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 카르보네이트(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수 있고, 구체적으로는, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트 등의 히드록시알킬아크릴레이트류; 에틸렌글리콜, 메톡시테트라에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜의 디아크릴레이트류; N,N-디메틸아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드 등의 아크릴아미드류; N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필아크릴레이트 등의 아미노알킬아크릴레이트류; 헥산디올, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리스-히드록시에틸이소시아누레이트 등의 다가 알코올 또는 이들의 에틸렌옥시드 부가물, 프로필렌옥시드 부가물, 또는 ε-카프로락톤 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 페녹시아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 및 이들 페놀류의 에틸렌옥시드 부가물 또는 프로필렌옥시드 부가물 등의 다가 아크릴레이트류; 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 글리시딜에테르의 다가 아크릴레이트류; 상기에 한하지 않고, 폴리에테르폴리올, 폴리카르보네이트디올, 수산기 말단 폴리부타디엔, 폴리에스테르폴리올 등의 폴리올을 직접 아크릴레이트화, 또는 디이소시아네이트를 통해 우레탄아크릴레이트화한 아크릴레이트류 및 멜라민아크릴레이트, 나노실리카 변성 아크릴레이트나 이소시아네이트아크릴레이트 등의 기능성 아크릴레이트, 및 상기 아크릴레이트에 대응하는 각 메타크릴레이트류 중 적어도 어느 1종 등을 들 수 있다.The photosensitive (meth) acrylate compound (F) used in the present invention is photo-cured by irradiation with active energy rays to insolubilize or insolubilize the resin component in an aqueous alkali solution. Examples of such compounds include polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, carbonate (meth) acrylate and epoxy Specific examples thereof include hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; Diacrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol and propylene glycol; Acrylamides such as N, N-dimethyl acrylamide, N-methylol acrylamide and N, N-dimethylaminopropylacrylamide; Aminoalkyl acrylates such as N, N-dimethylaminoethyl acrylate and N, N-dimethylaminopropyl acrylate; Polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylol propane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and tris-hydroxyethylisocyanurate, or ethylene oxide adducts thereof, propylene oxide adducts, or? -Caprolactone adducts Polyhydric acrylates such as water; Phenoxy acrylate, bisphenol A diacrylate, and polyhydric acrylates such as ethylene oxide adducts or propylene oxide adducts of these phenols; Polyhydric acrylates of glycidyl ethers such as glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether and triglycidyl isocyanurate; The present invention is not limited to the above, and may be exemplified by acrylates obtained by directly acrylating a polyol such as a polyether polyol, a polycarbonate diol, a hydroxyl-terminated polybutadiene, or a polyester polyol, or acrylates and melamine acrylates obtained by urethane acrylating through a diisocyanate , Functional acrylates such as nano silica-modified acrylate and isocyanate acrylate, and at least one of the respective methacrylates corresponding to the acrylate.

또한, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 다관능 에폭시 수지에, 아크릴산을 반응시킨 에폭시아크릴레이트 수지나, 그 에폭시아크릴레이트 수지의 수산기에, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등의 히드록시아크릴레이트와 이소포론디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트의 하프 우레탄 화합물을 더 반응시킨 에폭시우레탄아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 에폭시아크릴레이트계 수지는 지촉 건조성을 저하시키지 않고, 광경화성을 향상시킬 수 있다.In addition, epoxy acrylate resins obtained by reacting polyfunctional epoxy resins such as cresol novolak type epoxy resins with acrylic acid, or epoxy acrylate resins obtained by reacting hydroxy acrylates such as pentaerythritol triacrylate with isophorone And an epoxy urethane acrylate compound obtained by further reacting a half urethane compound of diisocyanate such as diisocyanate. Such an epoxy acrylate resin can improve photo-curability without deteriorating the touch-dry composition.

(F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물의 배합량은, 수지 성분 100질량부에 대하여 적합하게는 1 내지 150질량부, 보다 적합하게는 5 내지 120질량부의 비율이다. (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 양호한 광경화성을 얻을 수 있어 바람직하다.The blending amount of the photosensitive (meth) acrylate compound (F) is preferably 1 to 150 parts by mass, more preferably 5 to 120 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component. When the amount of the photosensitive (meth) acrylate compound (F) is within the above range, good photosetting property can be obtained, which is preferable.

[다른 색재][Other color]

본 발명의 조성물은, 색조 조정 등을 위해, (B) 특정 색재에 더하여, (B) 특정 색재 이외의 공지 관용의 색재를 더 사용할 수 있고, 유기 안료, 무기 안료, 유기 염료, 천연 염료, 기타 색소 중 어느 것이어도 좋다. 구체적으로는 예를 들어, 흑색 착색제, 적색 착색제, 청색 착색제, 황색 착색제, 녹색 착색제, 자색 착색제, 오렌지색 착색제, 갈색 착색제, 백색 착색제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 흑색 착색제, 청색 착색제, 청색감이 있는 녹색 착색제 및 자색 착색제가, OD값을 높게 하기 때문에 바람직하다.The composition of the present invention may further contain a known coloring material other than the specific coloring material (B) in addition to the specific coloring material (B) for color tone adjustment or the like, and may further contain an organic pigment, an inorganic pigment, Any of the pigments may be used. Specific examples include black coloring agents, red coloring agents, blue coloring agents, yellow coloring agents, green coloring agents, purple coloring agents, orange coloring agents, brown coloring agents and white coloring agents. Among them, a black coloring agent, a blue coloring agent, a green coloring agent with a blue color, and a purple coloring agent are preferable because the OD value is increased.

(흑색 착색제)(Black coloring agent)

흑색 착색제로서는, C.I.피그먼트 블랙 6, 7, 9, 18 등의 카본 블랙계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 8, 10 등의 흑연계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 11, 12, 27, 피그먼트 브라운(Pigment Brown) 35 등의 산화철계의 안료; 예를 들어, 도다 고교사 제조 KN-370의 산화철, C.I.피그먼트 블랙 20 등의 안트라퀴논계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 13, 25, 29 등의 산화코발트계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 15, 28 등의 산화구리계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 14, 26 등의 망간계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 23 등의 산화안티몬계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 30 등의 산화니켈계의 안료, C.I.피그먼트 블랙 31, 32, 바스프 재팬사 제조 루모겐 블랙 FK4280의 페릴렌계의 안료((B) 특정 색재에 해당하는 것을 제외함), 피그먼트 블랙 1의 아닐린계의 안료 및 황화몰리브덴이나 황화비스무트도 적합한 안료로서 예시할 수 있다. 이 안료는 단독으로, 또는 적절히 조합하여 사용된다.Examples of the black colorant include carbon black based pigments such as CI Pigment Black 6, 7, 9 and 18, black pigments such as CI Pigment Black 8 and 10, CI Pigment Black 11, 12 and 27, Pigment Brown (Pigment Brown) 35; For example, pigments of anthraquinone pigments such as iron oxide of CI Pigment Black 20, pigments of cobalt oxide such as CI Pigment Black 13, 25, 29, CI Pigment Black 15, 28, and the like, manganese-based pigments such as CI Pigment Black 14 and 26, antimony oxide pigments such as CI Pigment Black 23, nickel oxide pigments such as CI Pigment Black 30, CI Pigment Black 31 and 32, and Rumogen Black FK4280 manufactured by BASF Japan Ltd. (except those corresponding to the specific colorant (B)), aniline pigments of Pigment Black 1 and molybdenum sulfide and bismuth sulfide Can be exemplified as suitable pigments. These pigments may be used alone or in appropriate combination.

(적색 착색제)(Red colorant)

적색 착색제로서는, 모노아조계, 디스아조계, 아조레이크계, 벤즈이미다졸론계, 페릴렌계, 디케토피롤로피롤계, 축합 아조계, 안트라퀴논계, 퀴나크리돈계 등이 있고, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다.Examples of the red colorant include monoazo, disazo, azo lake, benzimidazolone, perylene, diketopyrrolopyrrole, condensed azo, anthraquinone, and quinacridone. A color index number as shown below is given.

모노아조계: 피그먼트 레드(Pigment Red) 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114, 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269;Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 112, 114 , 146, 147, 151, 170, 184, 187, 188, 193, 210, 245, 253, 258, 266, 267, 268, 269;

디스아조계: 피그먼트 레드 37, 38, 41;Disazo system: Pigment Red 37, 38, 41;

모노아조레이크계: 피그먼트 레드 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53:1, 53:2, 57:1, 58:4, 63:1, 63:2, 64:1, 68;48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 53: 2, 57: 1, 58: 4, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 68;

벤즈이미다졸론계: 피그먼트 레드 171, 175, 176, 185, 208;Benzimidazolone series: Pigment Red 171, 175, 176, 185, 208;

페릴렌계: 솔벤트 레드(Solvent Red) 135, 179, 피그먼트 레드 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224;Perylene system: Solvent Red 135, 179, Pigment Red 123, 149, 166, 178, 179, 190, 194, 224;

디케토피롤로피롤계: 피그먼트 레드 254, 255, 264, 270, 272;Diketopyrrolopyrrole-based pigments: Pigment Red 254, 255, 264, 270, 272;

축합 아조계: 피그먼트 레드 144, 166, 214, 220, 221, 242;Condensation azo pigments: Pigment Red 144, 166, 214, 220, 221, 242;

안트라퀴논계: 피그먼트 레드 168, 177, 216, 솔벤트 레드 149, 150, 52, 207;Anthraquinone system: Pigment Red 168, 177, 216, Solvent Red 149, 150, 52, 207;

퀴나크리돈계: 피그먼트 레드 122, 202, 206, 207, 209Quinacridone system: Pigment Red 122, 202, 206, 207, 209

(청색 착색제)(Blue coloring agent)

청색 착색제로서는, 프탈로시아닌계((B) 특정 색재에 해당하는 것을 제외함), 안트라퀴논계, 디옥사진계((B) 특정 색재에 해당하는 것을 제외함), 코발트계 등의, 안료계는 피그먼트(Pigment), 염료계는 솔벤트(Solvent)로 분류되어 있는 화합물 등이 있고, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다. 또한, 이것들 이외에도 금속 치환 또는 비치환된 프탈로시아닌 화합물((B) 특정 색재에 해당하는 것을 제외함)도 사용할 수 있다.Examples of the blue colorant include pigments such as phthalocyanine type pigments (except those corresponding to the specific coloring material (B)), anthraquinone type pigments, dioxazine type pigments (excluding those corresponding to the specific coloring material (B) (Pigment), and the dye system is classified as a solvent. Specific examples include those having the following color index numbers. In addition to these, metal-substituted or unsubstituted phthalocyanine compounds (excluding those corresponding to the specific coloring material (B)) may also be used.

안료계: 피그먼트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 60;Pigment system: Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 60;

염료계: 솔벤트 블루(Solvent Blue) 35, 45, 63, 67, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 104, 122, 136Dye system: Solvent Blue 35, 45, 63, 67, 68, 70, 83, 87, 94, 97, 104, 122, 136

(황색 착색제)(Yellow colorant)

황색 착색제로서는, 모노아조계, 디스아조계, 축합 아조계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 안트라퀴논계 등이 있고, 구체적으로는 이하의 착색제를 들 수 있다.Examples of the yellow colorant include a monoazo system, a disazo system, a condensed azo system, a benzimidazolone system, an isoindolinone system, and an anthraquinone system, and specific examples include the following colorants.

모노아조계: 피그먼트 옐로우(Pigment Yellow) 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62:1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 101, 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183;Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 61, 62, 62: 1, 65, 73, 74, 75, 97, 100, 101 , 104, 105, 111, 116, 167, 168, 169, 182, 183;

디스아조계: 피그먼트 옐로우 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198;Disazo system: Pigment Yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 63, 81, 83, 87, 126, 127, 152, 170, 172, 174, 176, 188, 198;

축합 아조계: 피그먼트 옐로우 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180;Condensation azo system: Pigment Yellow 93, 94, 95, 128, 155, 166, 180;

벤즈이미다졸론계: 피그먼트 옐로우 120, 151, 154, 156, 175, 181;Benzimidazolone type: Pigment Yellow 120, 151, 154, 156, 175, 181;

이소인돌리논계: 피그먼트 옐로우 109, 110, 139, 179, 185;Isoindolinone: Pigment Yellow 109, 110, 139, 179, 185;

안트라퀴논계: 솔벤트 옐로우(Solvent Yellow) 163, 피그먼트 옐로우 24, 108, 193, 147, 199, 202;Anthraquinone-based solvents: Solvent Yellow 163, Pigment Yellow 24, 108, 193, 147, 199, 202;

(녹색 착색제)(Green colorant)

녹색 착색제로서는, 프탈로시아닌계((B) 특정 색재에 해당하는 것을 제외함), 안트라퀴논계가 있고, 구체적으로는, 피그먼트 그린(Pigment Green) 7, 36, 솔벤트 그린(Solvent Green) 3, 5, 20, 28 등을 사용할 수 있다. 상기 이외에도 금속 치환 또는 비치환된 프탈로시아닌 화합물도 사용할 수 있다.Examples of the green colorant include a phthalocyanine series (except those corresponding to the specific colorant (B)) and anthraquinone series, and specifically, Pigment Green 7, 36, Solvent Green 3, , 20, 28, etc. can be used. In addition to the above, metal substituted or unsubstituted phthalocyanine compounds may also be used.

(자색 착색제)(Purple coloring agent)

자색 착색제로서는, 구체적으로는, 피그먼트 바이올렛 19, 29, 32, 36, 38, 42; 솔벤트 바이올렛(Solvent Violet) 13, 36; 피그먼트 블랙 1, 피그먼트 블랙 7, 피그먼트 브라운 25 등을 들 수 있다.Specific examples of the purple colorant include Pigment Violet 19, 29, 32, 36, 38, 42; Solvent Violet 13, 36; Pigment Black 1, Pigment Black 7, Pigment Brown 25, and the like.

(오렌지색 착색제)(Orange colorant)

오렌지색 착색제로서는, 구체적으로는, 피그먼트 오렌지(Pigment Orange) 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73 등을 들 수 있다.Specific examples of the orange colorant include Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64 , 71, 73, and the like.

(갈색 착색제)(browning)

갈색 착색제로서는, 구체적으로는, 피그먼트 브라운 23, 25 등을 들 수 있다.Specific examples of the brown colorant include Pigment Brown 23, 25 and the like.

(백색 착색제)(White colorant)

백색 착색제로서는, 피그먼트 화이트(Pigment white) 4로 나타내는 산화아연, 피그먼트 화이트 6으로 나타내는 산화티타늄, 피그먼트 화이트 7로 나타내는 황화아연을 들 수 있고, 착색력과 무독성의 점에서 특히 산화티타늄이 바람직하고, 예를 들어, 후지 티타늄 고교사 제조 TR-600, TR-700, TR-750, TR-840, 이시하라 산교사 제조 R-550, R-580, R-630, R-820, CR-50, CR-60, CR-90, 티탄 고교사 제조 KR-270, KR-310, KR-380 등의 루틸형 산화티타늄, 후지 티타늄 고교사 제조 TA-100, TA-200, TA-300, TA-500, 이시하라 산교사 제조 A100, A220, 티탄 고교사 제조 KA-15, KA-20, KA-35, KA-90 등의 아나타제형 산화티타늄을 들 수 있다. 백색 착색제는 소량, 예를 들어, 조성물 중에 0.1 내지 3질량%가 되도록 첨가하면 은폐성을 높이는 효과를 기대할 수 있는 경우가 있다.Examples of the white colorant include zinc oxide represented by Pigment white 4, titanium oxide represented by Pigment White 6, and zinc sulfide represented by Pigment White 7, and titanium oxide is particularly preferred from the viewpoint of tinting power and non-toxicity R-550, R-580, R-630, R-820 and CR-50 manufactured by Fuji Titanium Kogyo Co., Ltd., TR-600, TR-700, TR- TA-100, TA-200, TA-300, and TA-300 manufactured by Fuji Titanium Corporation, such as CR-60, CR-90, KR-270, KR- 500, anatase type titanium oxide such as KA-15, KA-20, KA-35 and KA-90 manufactured by Titan Kogyo Co., When the white colorant is added in a small amount, for example, in an amount of 0.1 to 3% by mass in the composition, an effect of increasing the hiding power can be expected.

(B) 특정 색재 이외의 색재로서는, 상기 중 적어도 어느 1종을 사용할 수 있는데, 흑색 착색제, 청색 착색제, 녹색 착색제 및 자색 착색제 중 적어도 어느 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 이에 의해, 높은 OD값을 얻을 수 있으면서 미묘한 색상감을 조정하는 장점이 얻어진다. 또한, 그 중에서도, 500 내지 900nm, 특히 500 내지 800nm에 최대 흡수 파장을 갖고, 380 내지 500nm의 흡수가 그것보다 낮은 것을 포함하는 것이 OD값이나 광경화성에 영향이 없기 때문에 바람직하다. 상기 중, (B) 특정 색재 이외의 색재로서, 구체적으로 예를 들어, 티타늄 블랙, 사삼산화코발트, 또는 흑색을 나타내는 합성 무기 안료인 것을 포함하는 것이 바람직하고, 이에 의해, OD값이나 광경화성을 유지하면서 내열성을 향상시킬 수 있다.As the coloring material other than the specific coloring material (B), at least one of the above-mentioned coloring materials may be used, and it preferably contains at least one of a black coloring agent, a blue coloring agent, a green coloring agent and a purple coloring agent, And a subtle color feeling can be adjusted. Among them, it is preferable that it has a maximum absorption wavelength in the range of 500 to 900 nm, particularly 500 to 800 nm, and the absorption in the range of 380 to 500 nm is lower than the OD value and the photocurability. As the coloring material other than the specific coloring material (B) among the above, it is preferable to specifically include, for example, titanium black, cobalt trioxide, or a synthetic inorganic pigment showing black color, whereby OD value and photo- And the heat resistance can be improved while keeping it.

(B) 특정 색재 이외의 색재의 배합량은 본 발명에 사용하는 (B) 특정 색재와의 비율로, (B):(B) 이외의 색재가 99:1 내지 10:90의 범위가 바람직하고, 99:1 내지 30:70의 범위가 보다 바람직하고, 99:1 내지 50:50의 범위가 더욱 바람직하고, 99:1 내지 51:49의 범위가 특히 바람직하다. (B) 특정 색재 이외의 색재의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 특히 OD값과 광경화성 및 내광성에 있어서, 밸런스가 좋은 경화성 수지 조성물을 얻을 수 있다.The amount of the coloring material other than the specific coloring material (B) is preferably in the range of 99: 1 to 10: 90, and the coloring material other than the (B) :( B) More preferably in the range of 99: 1 to 30:70, further preferably in the range of 99: 1 to 50:50, and particularly preferably in the range of 99: 1 to 51:49. By setting the blending amount of the coloring material other than the specific coloring material (B) within the above range, it is possible to obtain a curable resin composition having a good balance in OD value, photo-curability and light resistance.

[열경화 촉매][Thermal curing catalyst]

본 발명의 경화성 수지 조성물에서는, 열경화 촉매를 더 함유하는 것이 바람직하다. 열경화 촉매로서는, 예를 들어, 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N,N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N,N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N,N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산디히드라지드, 세박산디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 시판되고 있는 것으로서는, 예를 들어, 시꼬꾸 가세이 고교사 제조의 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ(모두 이미다졸계 화합물의 상품명), 산-아프로사 제조의 U-CAT3503N, U-CAT3502T(모두 디메틸아민의 블록 이소시아네이트 화합물의 상품명), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002(모두 2환식 아미딘 화합물 및 그의 염) 등을 들 수 있다. 또한, 이것들에 한정되지는 않고, 에폭시 수지나 옥세탄 화합물의 열경화 촉매, 또는 에폭시기 및/또는 옥세타닐기와 카르복실기의 반응을 촉진하는 것이라면 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 구아나민, 아세토구아나민, 벤조구아나민, 멜라민, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진, 2-비닐-2,4-디아미노-S-트리아진, 2-비닐-4,6-디아미노-S-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2,4-디아미노-6-메타크릴로일옥시에틸-S-트리아진·이소시아누르산 부가물 등의 S-트리아진 유도체를 사용할 수도 있고, 바람직하게는, 이들 밀착성 부여제로서도 기능하는 화합물을 열경화 촉매와 병용한다.The curable resin composition of the present invention preferably further contains a thermosetting catalyst. As the thermosetting catalyst, for example, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, Imidazole derivatives such as 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine and 4- Compounds, hydrazine compounds such as adipic acid dihydrazide and sebacic acid dihydrazide; And phosphorus compounds such as triphenylphosphine. 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (all trade names of imidazole compounds) manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., U- CAT3503N, U-CAT3502T (all of the block isocyanate compounds of dimethylamine), DBU, DBN, U-CATSA102 and U-CAT5002 (both bicyclic amidine compounds and salts thereof). However, the present invention is not limited thereto, and any of them may be used as long as it accelerates a reaction between a thermosetting catalyst of an epoxy resin or an oxetane compound or a carboxyl group with an epoxy group and / or an oxetanyl group, Can be used. Further, it is also possible to use at least one selected from the group consisting of guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, Azine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine isocyanuric acid And S-triazine derivatives such as adducts may be used. Preferably, a compound that also functions as such an adhesion-imparting agent is used in combination with a thermosetting catalyst.

열경화 촉매의 배합량은 통상 사용되는 비율로 충분해서, 예를 들어, 수지 성분, 또는 (C) 열경화성 성분 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 20질량부, 보다 바람직하게는 0.5 내지 15.0질량부이다.The blending amount of the thermosetting catalyst is usually sufficient. For example, it is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 15.0 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component or (C) to be.

[기타 배합 성분][Other ingredients]

또한, 본 발명의 조성물에는, 경화물의 밀착성, 기계적 강도, 선팽창 계수 등의 특성을 향상시킬 목적으로, 무기 충전재를 더 배합할 수 있다. 이러한 무기 충전재로서는, 예를 들어, 황산바륨, 티타늄산바륨, 산화규소분, 미분상 산화규소, 무정형 실리카, 탈크, 클레이, 탄산마그네슘, 탄산칼슘, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 운모분 등의 공지 관용의 무기 충전제를 사용할 수 있다.Further, an inorganic filler may be further added to the composition of the present invention for the purpose of improving properties such as adhesion, mechanical strength and linear expansion coefficient of a cured product. Examples of such an inorganic filler include known inorganic fillers such as barium sulfate, barium titanate, silicon oxide, fine powdery silicon oxide, amorphous silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, Of inorganic fillers can be used.

본 발명의 조성물에는, 필요에 따라, 히드로퀴논, 히드로퀴논모노메틸에테르, t-부틸카테콜, 피로갈롤, 페노티아진 등의 공지 관용의 중합 금지제, 미분 실리카, 유기 벤토나이트, 몬모릴로나이트 등의 공지 관용의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및 레벨링제 중 적어도 어느 1종, 이소시아네이트계, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계 등의 실란 커플링제, 산화 방지제, 광중합 증감제, 광안정제, 분산제, 경화 촉진제, 난연제, 난연 보조제 등과 같은 공지 관용의 첨가제류를 더 배합할 수 있다.The composition of the present invention may contain, if necessary, a conventionally known polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butyl catechol, pyrogallol, phenothiazine and the like, a known tolerance such as fine silica, organic bentonite and montmorillonite A silane coupling agent such as an isocyanate-based, imidazole-based, thiazole-based or triazole-based silane coupling agent, an antioxidant, a photopolymerization sensitizer, a light stabilizer, a dispersant, Additives such as a curing accelerator, a flame retardant, a flame retardant, and the like can be further blended.

본 발명의 조성물은, 조성물의 제조나 점도 조정을 위해 사용되는 유기 용제를 함유할 수도 있다. 유기 용제로서는, 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(DPM), 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 탄산프로필렌 등의 에스테르류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등을 사용할 수 있다. 이 유기 용제는 단독으로, 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The composition of the present invention may contain an organic solvent used for preparation of the composition and viscosity adjustment. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Methylcellosolve, butylcellosolve, carbitol, methylcarbitol, butylcarbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether (DPM), dipropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol Glycol ethers such as monomethyl ether; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate and propylene carbonate; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum ether such as petroleum ether, petroleum naphtha, and solvent naphtha may be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 배합 성분을 포함하는 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 조성물로서도 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있고, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있는 것이, 고OD값을 얻을 수 있는 감광성 조성물이라는 점에서 바람직하고, 또한, 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하다. 흑색도를 나타내는 기준인 측색계에 의한 그의 경화물의 L*값이 SCI 방식으로 30 이하인 것이 바람직하다. 또한, a*값이 -5 내지 5, b*값이 -5 내지 5가 바람직하다. 보다 바람직하게는, a*값이 -2 내지 2, b*값이 -2 내지 2이다.The curable resin composition of the present invention containing the above-mentioned compounding ingredients has a maximum absorption value at 500 to 780 nm and a minimum absorption value at 380 to 500 nm in the visible light region of 380 to 780 nm as the composition, It is preferable that the photosensitive composition exhibits a black color. It is preferable that the L * value of the cured product thereof measured by a colorimetric system, which is a reference indicating blackness, is 30 or less in SCI system. The a * value is preferably -5 to 5, and the b * value is preferably -5 to 5. More preferably, the a * value is -2 to 2 and the b * value is -2 to 2.

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 고OD값을 가짐과 함께 높은 절연성을 갖는 것이므로, 절연막 형성용의 재료로서 유용하다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 차광용 부재에도 유용하다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 고OD값을 가짐과 함께 감광성도 우수한 것으로 할 수 있으므로, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용함으로써 고품질의 디스플레이용 부재를 얻을 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 그 밖에, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크, 포토마스크 제작 재료, 인쇄용 프루프 제작 재료, 에칭 레지스트, 솔더 레지스트, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽, 유전체 패턴, 전극(도체 회로) 패턴, 전자 부품의 배선 패턴, 도전 페이스트, 도전 필름, 블랙 매트릭스 등의 차폐 화상 등의 제작에 사용되고, 특히 본 발명의 경화성 수지 조성물은, 컬러 액정 표시 장치 등에 사용하는 컬러 필터의 표시 특성 향상을 위해, 착색 패턴의 간격부, 주변 부분, 및 TFT의 외광측 등에 차광 화상(블랙 매트릭스를 포함함)을 설치하기 위해서나, 터치 패널용 차광막에 적절하게 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 표시 장치, 무기 EL을 구비한 EL 표시 장치, CRT 표시 장치, 터치 패널을 구비한 표시 장치의 주변부에 설치된 흑색의 테두리(베젤 형성)나 적색, 청색, 녹색의 착색 화소간의 격자상이나 스트라이프상의 흑색 부분, 더욱 바람직하게는 TFT 차광을 위한 도트상이나 선상의 흑색 패턴 등의 블랙 매트릭스로서 적절하게 사용된다.Since the curable resin composition of the present invention has a high OD value and a high dielectric constant, it is useful as a material for forming an insulating film. The curable resin composition of the present invention is also useful for light-shielding members. Further, since the curable resin composition of the present invention has high OD value and excellent photosensitivity, a high quality display member can be obtained by using the curable resin composition of the present invention. The curable resin composition of the present invention can be applied to various applications such as printing ink, ink jet ink, photomask producing material, printing proof fabrication material, etching resist, solder resist, barrier rib of a plasma display panel (PDP) A wiring pattern of an electronic component, a conductive paste, a conductive film, a shielded image such as a black matrix, and the like. Particularly, the curable resin composition of the present invention is used for improving the display characteristics of a color filter used for a color liquid crystal display device or the like Shielding film for a touch panel, for providing a light-shielding image (including a black matrix) on a color pattern spacing, a peripheral portion, and an external light side of a TFT, or for a light-shielding film for a touch panel. Particularly preferably, a black frame (bezel formation) provided on the periphery of a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device with inorganic EL, a CRT display device, and a display device including a touch panel, Is preferably used as a black matrix such as a lattice image between green coloring pixels or a black portion on a stripe, more preferably a dot image for TFT shielding or a black pattern on a line.

본 발명의 조성물은, 캐리어 필름(지지체) 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 드라이 필름의 형태로 할 수 있다. 드라이 필름화시에는, 본 발명의 조성물을 상기 유기 용제에 의해 희석하여 적절한 점도로 조정하고, 콤마 코터, 블레이드 코터, 립 코터, 로드 코터, 스퀴즈 코터, 리버스 코터, 트랜스퍼 롤 코터, 그라비아 코터, 스프레이 코터 등으로 캐리어 필름 상에 균일한 두께로 도포하고, 통상 50 내지 130℃의 온도에서 1 내지 30분간 건조하여, 건조 도막으로 할 수 있다. 도포막 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로, 건조 후의 막 두께로 0.1 내지 100㎛, 적합하게는 0.5 내지 50㎛의 범위에서 적절히 선택된다.The composition of the present invention may be in the form of a dry film obtained by coating and drying on a carrier film (support). In the case of dry film formation, the composition of the present invention is diluted with the above-mentioned organic solvent and adjusted to an appropriate viscosity, and the composition is applied to a substrate by using a comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, transfer roll coater, Coater or the like to a uniform thickness on the carrier film and dried at a temperature of usually 50 to 130 DEG C for 1 to 30 minutes to obtain a dried coating film. The thickness of the coating film is not particularly limited, but is generally appropriately selected in the range of 0.1 to 100 占 퐉, preferably 0.5 to 50 占 퐉 in the film thickness after drying.

캐리어 필름으로서는, 플라스틱 필름이 사용되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리스티렌 필름 등의 플라스틱 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 캐리어 필름의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 0.1 내지 150㎛의 범위에서 적절히 선택된다.As the carrier film, a plastic film is used, and it is preferable to use a plastic film such as a polyester film such as polyethylene terephthalate, a polyimide film, a polyamideimide film, a polypropylene film, and a polystyrene film. The thickness of the carrier film is not particularly limited, but is generally appropriately selected in the range of 0.1 to 150 mu m.

이 경우, 캐리어 필름 상에 도막을 성막한 후, 도막의 표면에 티끌이 부착되는 것을 방지하는 등의 목적으로, 도막의 표면에 박리 가능한 커버 필름을 추가로 적층하는 것이 바람직하다. 박리 가능한 커버 필름으로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리테트라플루오로에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 표면 처리한 종이 등을 사용할 수 있고, 커버 필름을 박리할 때에, 도막과 커버 필름의 접착력이 도막과 캐리어 필름의 접착력보다 작은 것이면 된다.In this case, it is preferable to further laminate a peelable cover film on the surface of the coating film for the purpose of preventing the adhesion of dust to the surface of the coating film after forming the coating film on the carrier film. As the peelable cover film, for example, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, a surface-treated paper and the like can be used. When the cover film is peeled off, May be smaller than the adhesion force of the carrier film.

또한, 본 발명의 조성물을 상기 유기 용제를 사용하여 도포 방법에 적합한 점도로 조정한 후, 기재 상에, 딥 코팅법, 플로우 코팅법, 롤 코팅법, 바 코터법, 스크린 인쇄법, 커튼 코팅법, 다이 코터법 등의 방법에 의해 도포하고, 약 50℃ 내지 90℃의 온도에서 조성물 중에 포함되는 유기 용제를 휘발 건조(가건조)시킴으로써, 무점착성의 건조 도막을 형성할 수 있다. 또한, 본 발명의 조성물을 캐리어 필름 상에 도포하고, 건조시켜서 필름으로서 권취한 드라이 필름의 경우, 이것을, 라미네이터 등에 의해 조성물의 도막이 기재와 접촉하도록 기재 상에 접합한 후, 캐리어 필름을 박리함으로써, 기재 상에 도막의 층을 형성할 수 있다.After the composition of the present invention is adjusted to a viscosity suitable for the application method using the above-mentioned organic solvent, a dip coating method, a flow coating method, a roll coating method, a bar coater method, a screen printing method, , A die coater method and the like, and the organic solvent contained in the composition is volatilized and dried (dried) at a temperature of about 50 캜 to 90 캜 to form a dry film without tackiness. When the composition of the present invention is coated on a carrier film, and the film is dried and wound as a film, it is laminated on a substrate so that the coating film of the composition comes into contact with the substrate with a laminator or the like, A layer of a coating film can be formed on a substrate.

이 도막을, 예를 들어, 활성 에너지선 조사에 의해 광경화시키거나, 또는 100℃ 내지 250℃의 온도로 가열하여 열경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다.The coating film is cured by, for example, irradiation of active energy rays, or by heating at a temperature of 100 to 250 DEG C to thermally cure the cured product.

상기 기재로서는, 미리 회로 형성된 프린트 배선판이나 플렉시블 프린트 배선판 외에, 종이 페놀, 종이 에폭시, 유리 천 에폭시, 유리 폴리이미드, 유리 천/부직포 에폭시, 유리 천/종이 에폭시, 합성 섬유 에폭시, 불소 수지·폴리에틸렌·폴리페닐렌에테르·시아네이트에스테르 수지 등을 사용한 고주파 회로용 동장 적층판 등의 재질을 사용한 것으로, 모든 그레이드(FR-4 등)의 동장 적층판, 기타, 폴리이미드 필름, PET 필름, 유리 기판, 세라믹 기판, 웨이퍼판 등을 들 수 있다.As the above substrate, it is possible to use a substrate such as paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth / nonwoven epoxy, glass cloth / paper epoxy, synthetic fiber epoxy, fluororesin, polyethylene (FR-4 or the like), other polyimide film, PET film, glass substrate, ceramic substrate, or the like using a material such as a copper clad laminate for a high frequency circuit using a polyphenylene ether, a cyanate ester resin, , A wafer plate, and the like.

본 발명의 조성물을 도포한 후에 행하는 휘발 건조는, 열풍 순환식 건조로, IR로, 핫 플레이트, 컨백션 오븐 등, 증기에 의한 공기 가열 방식의 열원을 구비한 것을 사용하여 건조기 내의 열풍을 향류 접촉시키는 방법, 및 노즐로부터 지지체에 분사하는 방법을 사용하여 행할 수 있다.The volatile drying performed after application of the composition of the present invention can be carried out by using hot air circulating drying furnace, IR, a hot plate, a convection oven, or the like, , And a method of spraying onto a support from a nozzle can be used.

활성 에너지선 조사에 사용되는 노광기로서는, 고압 수은등 램프, 초고압 수은등 램프, 메탈 할라이드 램프, 수은 쇼트 아크램프 등을 탑재하고, 350 내지 450nm의 범위에서 자외선을 조사하는 장치이면 되고, 직접 묘화 장치(예를 들어, 컴퓨터로부터의 CAD 데이터에 의해 직접 활성 에너지선을 조사해서 화상을 그리는 다이렉트 이미징 장치)도 또한 사용할 수 있다. 직묘기의 광원으로서는, 최대 파장이 350 내지 410nm의 범위에 있는 광을 사용하고 있는 것이면 된다. 화상 형성을 위한 노광량은 막 두께 등에 따라 상이하지만, 일반적으로는 20 내지 1000mJ/cm2, 바람직하게는 20 내지 800mJ/cm2의 범위 내로 할 수 있다.Examples of the exposure apparatus used for irradiation with active energy rays include a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a mercury short arc lamp, etc., and irradiating ultraviolet rays in the range of 350 to 450 nm. A direct imaging device that draws an image by directly irradiating an active energy ray by CAD data from a computer) can also be used. As a light source of a direct game, any light source having a maximum wavelength in the range of 350 to 410 nm may be used. Light exposure for image formation film varies, depending upon the thickness, but in general can be within the 20 to 1000mJ / cm 2, preferably in the range of 20 to a range of 800mJ / cm 2.

또한, 현상 방법으로서는, 디핑법, 샤워법, 스프레이법, 브러시법 등에 의할 수 있고, 현상액으로서는, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 규산나트륨, 암모니아, 아민류 등의 알칼리 수용액을 사용할 수 있다.Examples of the developing method include a dipping method, a shower method, a spraying method, a brushing method and the like. As the developing solution, an alkali aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, Can be used.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을, 실시예를 사용하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

하기 표 1, 2 중에 나타내는 배합에 따라, 각 성분을 배합, 교반하고, 3축 롤로 분산시켜서 각각 조성물을 제조하였다. 또한, 표 1, 2 중의 배합량은 질량부를 나타낸다.The components were mixed, stirred, and dispersed in a three-roll mill according to the formulation shown in Tables 1 and 2 below to prepare compositions, respectively. The blending amounts in Tables 1 and 2 represent parts by mass.

[합성예 1][Synthesis Example 1]

디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 700g에 오르토크레졸 노볼락형 에폭시 수지(DIC사 제조, 에피클론(EPICLON) N-695, 연화점 95℃, 에폭시 당량 214, 평균 관능기수 7.6) 1070g(글리시딜기수(방향환 총수): 5.0몰), 아크릴산 360g(5.0몰) 및 히드로퀴논 1.5g을 투입하고, 100℃로 가열 교반하여 균일 용해하였다.To 700 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added 1070 g of an orthocresol novolac epoxy resin (EPICLON N-695, manufactured by DIC Corporation, softening point 95 캜, epoxy equivalent 214, average functional group number 7.6) (glycidyl group number (The total number of aromatic rings): 5.0 moles), 360 g (5.0 mols) of acrylic acid and 1.5 g of hydroquinone were charged and stirred at 100 DEG C to dissolve uniformly.

계속해서, 트리페닐포스핀 4.3g을 투입하고, 110℃로 가열하여 2시간 반응시킨 후, 트리페닐포스핀 1.6g을 더 추가하여, 120℃로 승온해서 12시간 더 반응을 행하였다. 얻어진 반응액에, 방향족계 탄화수소(솔벳소 150) 562g, 테트라히드로 무수 프탈산 684g(4.5몰)을 투입하고, 110℃에서 4시간 반응을 행하였다. 추가로, 얻어진 반응액에 글리시딜메타크릴레이트 142.0g(1.0몰)을 투입하고, 115℃에서 4시간 반응을 행하여, 감광성의 카르복실기 함유 수지 용액을 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 수지 용액의 고형분은 65%, 고형분의 산가는 87mgKOH/g이었다.Subsequently, 4.3 g of triphenylphosphine was added, and the mixture was heated to 110 DEG C and reacted for 2 hours. Then, 1.6 g of triphenylphosphine was further added, the temperature was raised to 120 DEG C and the reaction was further performed for 12 hours. To the obtained reaction solution, 562 g of aromatic hydrocarbon (Solvesso 150) and 684 g (4.5 mol) of tetrahydrophthalic anhydride were added and reacted at 110 DEG C for 4 hours. Further, 142.0 g (1.0 mol) of glycidyl methacrylate was added to the obtained reaction solution, and the reaction was carried out at 115 캜 for 4 hours to obtain a photosensitive resin solution containing a carboxyl group. The resin solution thus obtained had a solid content of 65% and an acid value of solid content of 87 mgKOH / g.

Figure pat00008
Figure pat00008

* 1) 아크릴 올리고머(미쯔비시 매터리얼사 제조, MRX-401)* 1) Acrylic oligomer (MRX-401 manufactured by Mitsubishi Materials Corporation)

* 2) 라로머(Laromer) LR8863(바스프 재팬사 제조)* 2) Laromer LR8863 (BASF Japan)

* 3) HO(미쯔비시 레이온사 제조)* 3) HO (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)

* 4) N870(DIC사 제조, 변성 노볼락 에폭시 수지)* 4) N870 (modified novolac epoxy resin, manufactured by DIC Corporation)

* 5) 1001(재팬 에폭시 레진사 제조, 비스페놀 에폭시 수지)* 5) 1001 (bisphenol epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)

* 6) HF-1(메이와 가세이사 제조, 페놀 수지)* 6) HF-1 (phenol resin, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)

* 7) 828(재팬 에폭시 레진사 제조, 비스페놀 에폭시 수지)* 7) 828 (bisphenol epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)

* 8) NC3000H(니혼 가야꾸사 제조, 에폭시 수지)* 8) NC3000H (epoxy resin, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

* 9) S.B.7(오리엔트 가가꾸 고교사 제조, 유기 염료)* 9) S.B.7 (organic dye manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.)

(최대 흡수값 595nm, 최소 흡수값 408nm)(Maximum absorption value: 595 nm, minimum absorption value: 408 nm)

Figure pat00009
Figure pat00009

* 10) P.V.37(바스프 재팬사 제조, 유기 안료 크로모프탈 바이올렛(CTROMOPHTAL VIOLET) D5700)* 10) P. V.37 (CTROMOPHTAL VIOLET D5700, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)

* 11) 사삼산화코발트(합성 무기 안료)* 11) Cobalt trioxide (synthetic inorganic pigment)

* 12) BYK-LPD20950(빅 케미·재팬사 제조)* 12) BYK-LPD20950 (manufactured by Big Chem Japan)

* 13) BYK-354(빅 케미·재팬사 제조)* 13) BYK-354 (manufactured by Big Chem Japan)

* 14) 폴리플로우 No.99C(교에샤 가가꾸사 제조, 아크릴 중합체계 소포제)* 14) Polyflow No. 99C (Acrylic Polymerization System Defoamer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

* 15) 루모겐 S0795(바스프 재팬사 제조)* 15) Lumogen S0795 (manufactured by BASF Japan)

* 16) 카본 블랙(무기 안료)* 16) Carbon black (inorganic pigment)

* 17) 화합물(A)* 17) Compound (A)

Figure pat00010
Figure pat00010

* 18) 화합물(B) (2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온)* 18) Compound (B) (2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)

* 19) SDO-C33(아리모토 가가꾸 고교사 제조, 복소환계 화합물)* 19) SDO-C33 (heterocyclic compound manufactured by Arimoto Chemical Co., Ltd.)

* 20) SIR-132(미쯔이 가가꾸사 제조)* 20) SIR-132 (manufactured by Mitsui Chemical Industry Co., Ltd.)

* 21) YKR-5010(야마모토카세이사 제조)* 21) YKR-5010 (manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.)

* 22) 루모겐IR765(바스프 재팬사 제조)* 22) Lumogen IR765 (manufactured by BASF Japan)

* 23) IRG-022(니혼 가야꾸사 제조)* 23) IRG-022 (manufactured by Nihon Kaya Co., Ltd.)

* 24) 아에로실(AEROSIL) 380(니혼 에어로실사 제조, 친수성 퓸드 실리카)* 24) AEROSIL 380 (manufactured by Nihon Aerosil Co., hydrophilic fumed silica)

Figure pat00011
Figure pat00011

얻어진 각 실시예 및 비교예의 조성물에 대해서, 이하에 따라 평가를 행하였다. 그 결과를 하기 표 3, 4에 나타내었다.The compositions of each of the obtained examples and comparative examples were evaluated as follows. The results are shown in Tables 3 and 4.

(OD값(광학 농도))(OD value (optical density))

실시예 1 및 비교예 3, 4는 열풍 순환식 건조로에서 160℃ 30분으로, 실시예 2 및 비교예 1, 2는 80W 3 등의 고압 수은등 UV 컨베이어로에서 1000mJ/cm2로, 실시예 3 내지 9 및 비교예 5 내지 8은 열풍 순환식 건조로에서 80℃에서 10분 건조시켜서 건조 도막을 형성하고, 계속해서, 오크제작소사 제조 메탈 할라이드 램프를 탑재한 노광기에 의해 감도 7단이 되는 노광량으로 노광하였다. 그 후, 1wt% Na2CO3 수용액에 의해 스프레이압 0.1MPa로 1분간 현상하고, 계속해서, 열풍 순환식 건조로를 사용하여 150℃에서 60분간 열경화 처리를 실시함으로써, 유리 상에 두께 10㎛의 경화 도막을 제작하고, 투과 농도계(엑스-라이트(X-Rite)사 361T)로 측정을 행하였다. 이 장치는, 400 내지 900nm의 전체 파장을 검출하여, OD값을 산출한다. OD값은, 투과광량(T)으로부터, 하기식에 기초하여 산출하였다. OD값이 높을수록, 도막의 차광성이 높아 바람직하다. 조성물은 OD 3 이상이 되도록 조정하였다.Example 1 and Comparative Examples 3 and 4 were carried out in a hot air circulating type drying furnace at 160 ° C for 30 minutes and in Example 2 and Comparative Examples 1 and 2 at a pressure of 1000 mJ / cm 2 in a high pressure mercury lamp UV conveyor such as 80W 3, To 9 and Comparative Examples 5 to 8 were dried in a hot air circulating type drying furnace at 80 DEG C for 10 minutes to form a dry film and subsequently exposed to light having an exposure amount of 7 stages by means of an exposure machine equipped with a metal halide lamp manufactured by OAK INDUSTRIES, Lt; / RTI > Thereafter, the substrate was developed with a 1 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution at a spray pressure of 0.1 MPa for 1 minute, and then subjected to a heat curing treatment at 150 ° C for 60 minutes using a hot air circulation type drying furnace, , And measurement was carried out with a transmission densitometer (X-Rite Corp. 361T). This apparatus detects the entire wavelength of 400 to 900 nm and calculates an OD value. The OD value was calculated from the amount of transmitted light (T) based on the following equation. The higher the OD value, the better the light shielding property of the coating film is. The composition was adjusted to OD 3 or higher.

OD값=-Log10(T/100)OD value = -Log 10 (T / 100)

(표면 저항값)(Surface resistance value)

각 조성물을 각각 세정한 유리 상에, 스크린 인쇄로 건조한 후 10㎛가 되도록 전체면 도포하고, 실시예 1 및 비교예 3, 4는 열풍 순환식 건조로에서 160℃ 30분으로, 실시예 2 및 비교예 1, 2는 80W 3 등의 고압 수은등 UV 컨베이어로에서 1000mJ/cm2로, 실시예 3 내지 9 및 비교예 5 내지 8은 열풍 순환식 건조로에서 80℃에서 10분 건조시켜서, 각각 건조 도막을 형성하고, 계속해서, 오크제작소사 제조 메탈 할라이드 램프를 탑재한 노광기에 의해 감도 7단이 되는 노광량으로 노광하였다. 그 후, 1wt% Na2CO3 수용액에 의해 스프레이압 0.1MPa로 1분간 현상하고, 계속해서, 열풍 순환식 건조로를 사용하여 150℃에서 60분간 열경화 처리를 실시함으로써, 경화 도막을 얻었다. 각 실시예 및 비교예의 경화성 수지 조성물의 표면 저항값을 JIS K6911에 준거하여 측정하였다.Each of the compositions was dried on a glass screen by screen printing and then applied on the entire surface to a thickness of 10 μm. Example 1 and Comparative Examples 3 and 4 were carried out in a hot-air circulating type drying oven at 160 ° C. for 30 minutes, Examples 1 and 2 were dried at 80 mW / cm 2 in a high-pressure mercury lamp UV conveyor such as 80 W 3, at 1000 mJ / cm 2 , and in Examples 3 to 9 and Comparative Examples 5 to 8, Followed by exposure at an exposure dose of 7 stages in sensitivity by an exposure machine equipped with a metal halide lamp manufactured by OAK INDUSTRIES, LTD. Thereafter, the film was developed with a 1 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution at a spray pressure of 0.1 MPa for 1 minute, and then subjected to a heat curing treatment at 150 ° C for 60 minutes using a hot air circulation type drying furnace to obtain a cured coating film. The surface resistance values of the curable resin compositions of each of the examples and comparative examples were measured in accordance with JIS K6911.

(분광 측색계)(Spectral side colorimeter)

상기 표면 저항값 평가에서 얻어진 경화 도막에 대해서, 분광 측색계(코니카 미놀타사 제조, CM-2600d)를 사용하여, 도막 상의 L*a*b* 표색계의 값을 JIS Z 8729에 따라서 측정하고, 명도를 나타내는 지수인 L*a*b*값을 흑색도의 지표로 해서 평가하였다. 이 L*값이 작을수록, 또한 a*, b*값이 모두 0에 가까울수록 흑색도가 우수한 것을 의미한다.The value of the L * a * b * colorimetric system on the coating film was measured according to JIS Z 8729 using a spectroscopic colorimetric system (CM-2600d, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) for the cured coating film obtained in the evaluation of the surface resistance value, Was evaluated as an index of blackness. ≪ tb > < TABLE > The smaller the L * value and the closer to 0 all the a * and b * values are, the better the blackness is.

(감도)(Sensitivity)

실시예 3 내지 9 및 비교예 5 내지 8의 경화성 수지 조성물을, 세정한 유리 상에 스크린 인쇄로 건조한 후 10㎛가 되도록 전체면 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 80℃에서 10분간 건조시켰다. 이 도막 상에 코닥사 제조의 스텝 태블릿(21단)을 대고, 오크제작소사 제조 메탈 할라이드 램프를 탑재한 노광기로 300mJ/cm2의 노광량으로 노광하고, 1wt% Na2CO3 수용액에 의해 스프레이압 0.1MPa로 1분간 현상한 후에 있어서의 잔존 단수를 조사하였다. 잔존 단수가 많을수록, 감도가 양호하여 바람직하다.The curable resin compositions of Examples 3 to 9 and Comparative Examples 5 to 8 were dried by screen printing on cleaned glass and then applied to the entire surface to a thickness of 10 탆 and dried in a hot air circulation type drying oven at 80 캜 for 10 minutes. A step tablet (21 steps) manufactured by Kodak Co., Ltd. was placed on this coating film and exposed with an exposure amount of 300 mJ / cm 2 using an exposure machine equipped with a metal halide lamp manufactured by Orkmanufacturing Co., Ltd., and sprayed with a 1 wt% Na 2 CO 3 aqueous solution And the remaining number of steps after development at 0.1 MPa for 1 minute was examined. The greater the number of the remaining monomers, the better the sensitivity is.

(φ100㎛ 패터닝)(patterning of? 100 탆)

실시예 3 내지 9 및 비교예 5 내지 8의 경화성 수지 조성물을, 각각 세정한 유리 상에, 스크린 인쇄로 건조 후 10㎛가 되도록 전체면 도포하고, 열풍 순환식 건조로에서 80℃에서 10분간 건조시켰다. 이 도막 상에 φ100㎛를 개구시키는 네거티브 필름을 대고, 오크제작소사 제조의 메탈 할라이드 램프를 탑재한 노광기에 의해 감도 7단이 되는 노광량으로 노광하고, 1wt% Na2CO3 수용액에 의해 스프레이압 0.1MPa로 1분간 현상한 후에 있어서의 개구 정밀도에 의해 평가하였다. 평가 기준은 이하와 같다.The curable resin compositions of Examples 3 to 9 and Comparative Examples 5 to 8 were applied on a cleaned glass surface by screen printing to cover the whole surface to a thickness of 10 μm and dried in a hot air circulating type drying oven at 80 ° C for 10 minutes . Place the negative film to the opening φ100㎛ on this coating film, exposure sensitivity in the exposure amount that is 7 by the exposure device equipped with a metal halide lamp of oak production Sosa prepared, and 1wt% Na 2 CO 3 aqueous solution by the spray pressure 0.1 MPa for 1 minute. The evaluation criteria are as follows.

○: 샤프한 해상도.○: Sharp resolution.

△: 샤프하지 않지만 네거티브 치수의 φ가 얻어진다.[Delta]: φ of a negative dimension is obtained although it is not sharp.

×: 할레이션, 언더컷에 의해 해상성이 얻어지지 않는다.X: Resolution is not obtained due to halation or undercut.

Figure pat00012
Figure pat00012

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 표 중의 결과로부터, 각 실시예의 조성물에서는, 각 비교예와 비교하여 높은 OD값이 얻어지고, 흑색도가 우수한 것임을 확인할 수 있었다. 또한, 각 실시예의 조성물에서는, 표면 저항값에 대해서도 양호한 성능이 얻어지고 있고, 경시에 의한 침강의 문제도 발생하지 않았다. 특히, 광경화성과 열경화성을 겸비하는 조성물의 경우에는, 양호한 감도 및 패터닝성이 얻어지는 것도 확인되었다. 이에 대해, (B) 특정 색재를 포함하지 않는 비교예에서는, 높은 OD값은 얻어지지 않고, 색조가 대폭 상이한 것으로 되었다.From the results in the above table, it was confirmed that a high OD value was obtained in the compositions of the respective Examples as compared with Comparative Examples, and that the blackness was excellent. In the compositions of the respective examples, good performance was also obtained with respect to the surface resistance value, and the problem of sedimentation with time did not occur. Particularly, in the case of a composition having both photo-curability and thermosetting property, it was also confirmed that good sensitivity and patternability were obtained. On the other hand, in the comparative example (B) containing no specific coloring material, a high OD value was not obtained and the color tone was greatly different.

Claims (12)

(A) 근적외선 흡수제, (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재, 및 (C) 열경화성 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.(B) a coloring material having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm, and (C) a thermosetting component . 제1항에 있어서, (D) 알칼리 가용성 수지, 및 (E) 광중합 개시제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 1, further comprising (D) an alkali-soluble resin, and (E) a photopolymerization initiator. 제2항에 있어서, (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 2, further comprising (F) a photosensitive (meth) acrylate compound. (A) 근적외선 흡수제, (B) 가시광 영역 380 내지 780nm에 있어서, 380 내지 500nm에 최소 흡수값이 있고, 500 내지 780nm에 최대 흡수값이 있는 색재, 및 (F) 감광성 (메트)아크릴레이트 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.(B) a colorant having a minimum absorption value at 380 to 500 nm and a maximum absorption value at 500 to 780 nm in a visible light region of 380 to 780 nm, and (F) a colorant having a maximum absorption value at 500 to 780 nm, By weight of the curable resin composition. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 (A) 근적외선 흡수제의 최대 흡수 파장이 500 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the maximum absorption wavelength of the near infrared absorbing agent (A) is 500 to 1000 nm. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 (A) 근적외선 흡수제가 금속 착체 색소 및 축합 다환계 색소 중에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein (A) the near infrared absorbing agent is at least one selected from metal complex dyes and condensed polycyclic dyes. 제1항 또는 제4항에 있어서, 흑색을 나타내는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, which exhibits black color. 제1항 또는 제4항에 있어서, 절연막 형성용인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to claim 1 or 4, which is for forming an insulating film. 제1항 또는 제4항에 기재된 경화성 수지 조성물을 캐리어 필름 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 드라이 필름.A dry film obtained by applying the curable resin composition according to any one of claims 1 to 4 on a carrier film and drying it. 제1항 또는 제4항에 기재된 경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 건조 도막, 또는 상기 경화성 수지 조성물을 캐리어 필름 상에 도포, 건조시켜서 얻어지는 드라이 필름이 기재에 라미네이트되어 이루어지는 도막을 경화시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 경화물.A dry film obtained by applying the curable resin composition according to any one of claims 1 to 4 on a substrate and drying the film or a dry film obtained by applying the curable resin composition onto a carrier film and drying the film, By weight. 제10항에 기재된 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 차광용 부재.A light-shielding member comprising the cured product according to claim 10. 제10항에 기재된 경화물을 구비하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 부재.A member for a display, comprising the cured product according to claim 10.
KR1020140127563A 2013-09-27 2014-09-24 Curable resin composition, dry film, cured product, and display member KR101587360B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013202397 2013-09-27
JPJP-P-2013-202397 2013-09-27
JP2014072820A JP5722484B2 (en) 2013-09-27 2014-03-31 Curable resin composition, dry film, cured product, and display member
JPJP-P-2014-072820 2014-03-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150035420A true KR20150035420A (en) 2015-04-06
KR101587360B1 KR101587360B1 (en) 2016-01-20

Family

ID=53030358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140127563A KR101587360B1 (en) 2013-09-27 2014-09-24 Curable resin composition, dry film, cured product, and display member

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101587360B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6723788B2 (en) * 2016-03-31 2020-07-15 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
JP6946443B2 (en) * 2017-09-15 2021-10-06 富士フイルム株式会社 Compositions, films, laminates, infrared transmission filters, solid-state image sensors and infrared sensors

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04190362A (en) 1990-11-26 1992-07-08 Idemitsu Kosan Co Ltd Resist for forming light shading film, method for producing said resist, and light shading film formed of said resist
JP2002138203A (en) * 2000-11-01 2002-05-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Resin composition for screening near infrared rays and laminate for screening near infrared rays
JP2002275343A (en) 2001-03-22 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Black photosensitive resin composition, black coating film and black matrix base plate
JP2009258613A (en) * 2008-03-26 2009-11-05 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive resin composition, cured material thereof and printed wiring board having solder-resist layer made of cured material thereof
JP2010519592A (en) 2007-02-21 2010-06-03 エルジー・ケム・リミテッド Photosensitive resin composition for black matrix, black matrix formed thereby, and liquid crystal display device including the same
WO2012133148A1 (en) 2011-03-25 2012-10-04 東レ株式会社 Black resin composition, resin black matrix substrate, and touch panel
JP2013050562A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Tamura Seisakusho Co Ltd Black curable resin composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04190362A (en) 1990-11-26 1992-07-08 Idemitsu Kosan Co Ltd Resist for forming light shading film, method for producing said resist, and light shading film formed of said resist
JP2002138203A (en) * 2000-11-01 2002-05-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Resin composition for screening near infrared rays and laminate for screening near infrared rays
JP2002275343A (en) 2001-03-22 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Black photosensitive resin composition, black coating film and black matrix base plate
JP2010519592A (en) 2007-02-21 2010-06-03 エルジー・ケム・リミテッド Photosensitive resin composition for black matrix, black matrix formed thereby, and liquid crystal display device including the same
JP2009258613A (en) * 2008-03-26 2009-11-05 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive resin composition, cured material thereof and printed wiring board having solder-resist layer made of cured material thereof
WO2012133148A1 (en) 2011-03-25 2012-10-04 東レ株式会社 Black resin composition, resin black matrix substrate, and touch panel
JP2013050562A (en) * 2011-08-31 2013-03-14 Tamura Seisakusho Co Ltd Black curable resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
KR101587360B1 (en) 2016-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9282644B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product thereof, and printed wiring board
TWI417662B (en) A photosensitive resin composition and a hardened product thereof
KR101442393B1 (en) Photosensitive resin composition, cured product thereof and printed wiring board having solder resist layer made from the cured product
JP5722483B2 (en) Curable resin composition, dry film, cured product, and display member
KR101405818B1 (en) Composition, dry film, cured product, and printed wiring board
TWI689780B (en) Curable composition, dry film, cured product, printed wiring board and method of manufacturing printed wiring board
KR20140111603A (en) Photocurable resin composition, dry film and cured product thereof, and printed wiring board having hardened coating film formed by using same
KR101827942B1 (en) Photocurable resin composition
KR101612569B1 (en) Curable resin composition, cured article thereof, and printed circuit board
KR101693053B1 (en) Flame-retardant photocurable resin composition, dry film and cured product of the same, and printed wiring board using the composition, dry film or cured product
KR101587360B1 (en) Curable resin composition, dry film, cured product, and display member
KR101619614B1 (en) Curable resin composition, dry film, cured product, and display member
JP5433209B2 (en) Photocurable resin composition, dry film and cured product thereof, and printed wiring board using them
KR20200137946A (en) Alkaline developing photosensitive resin composition, dry film, cured product and printed wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190107

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200103

Year of fee payment: 5