KR20150032087A - Metal mask and method for manufacturing metal mask - Google Patents

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이충호
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a metal mask capable of minimizing the manufacturing time, improving the reliability, and being easily manufactured, and a method to manufacture the same. The present invention relates to a metal mask containing a plurality of pattern openings, and a method to manufacture a metal mask comprising: a step of providing a treated object manufactured by a metal mask; and a step of radiating a plurality of laser beams to form a plurality of the pattern openings by the treated object by dividing one laser beam into the laser beams.

Description

금속 마스크 및 금속 마스크 제조 방법{METAL MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING METAL MASK}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a metal mask,

본 발명은 금속 마스크 및 금속 마스크 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 유기층을 증착할 때 이용되는 금속 마스크 및 금속 마스크 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a metal mask and a metal mask manufacturing method, and more particularly, to a metal mask and a metal mask manufacturing method used for depositing an organic layer on a substrate.

표시 장치는 이미지를 표시하는 장치로서, 최근 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display)가 주목 받고 있다.BACKGROUND ART [0002] A display device is an apparatus for displaying an image. Recently, an organic light emitting diode (OLED) display has attracted attention.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광 특성을 가지며, 액정 표시 장치(liquid crystal display device)와 달리 별도의 광원을 필요로 하지 않으므로 두께와 무게를 줄일 수 있다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 낮은 소비 전력, 높은 휘도 및 높은 반응 속도 등의 고품위 특성을 나타낸다.The OLED display has a self-emission characteristic, and unlike a liquid crystal display device, a separate light source is not required, so that the thickness and weight can be reduced. Further, the organic light emitting display device exhibits high-quality characteristics such as low power consumption, high luminance, and high reaction speed.

일반적으로 유기 발광 표시 장치는 기판, 제1 전극, 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되는 유기 발광층을 포함한다.Generally, an organic light emitting display includes a substrate, a first electrode, a second electrode, and an organic light emitting layer disposed between the first electrode and the second electrode.

최근, 유기 발광층을 기판의 제1 전극 상에 증착할 때, 금속 마스크의 패턴 개구부를 통해 제1 전극 상에 유기 발광층을 형성하고 있다.In recent years, when the organic light emitting layer is deposited on the first electrode of the substrate, the organic light emitting layer is formed on the first electrode through the pattern opening of the metal mask.

종래에는 습식 식각을 이용해 피처리체에 패턴 개구부를 형성하여 금속 마스크를 제조하거나, 레이저를 이용해 피처리체에 패턴 개구부를 형성하여 금속 마스크를 제조하였다.Conventionally, a metal mask is prepared by forming a pattern opening in an object to be processed by wet etching or by forming a pattern opening in an object to be processed by using a laser.

그런데, 습식 식각을 이용해 피처리체에 패턴 개구부를 형성할 경우, 패턴 개구부의 측면 형상이 습식 식각 고유의 식각비에 따라 특정 형태로 형성됨으로써, 패턴 개구부를 통하는 유기 물질이 넓은 증착 각도를 가지기 어려운 문제점이 있었다. 특히, 유기 발광 표시 장치가 대면적으로 형성될 경우, 상술한 문제점에 의해 기판의 테두리 부분에 형성되는 유기 발광층에 증착 불량이 발생된다.However, when the pattern opening is formed in the object to be processed by wet etching, the side surface shape of the pattern opening is formed in a specific form according to the wet etching inherent etching ratio, so that the organic material passing through the pattern opening hardly has a wide deposition angle . In particular, when the organic light emitting display device is formed in a large area, defective deposition occurs in the organic light emitting layer formed at the edge of the substrate due to the above-described problems.

또한, 레이저를 이용해 피처리체에 패턴 개구부를 형성할 경우, 하나의 레이저 빔을 이용해 피처리체에 복수의 패턴 개구부를 형성함으로써, 전체적인 제조 시간이 증가하는 문제점이 있었다.Further, when a pattern opening is formed in the object to be processed by using a laser, a plurality of pattern openings are formed in the object to be processed by using one laser beam, thereby increasing the overall manufacturing time.

본 발명의 일 실시예는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제조 시간이 최소화되는 동시에 제조 용이성 및 제조 신뢰성이 향상된 금속 마스크 및 금속 마스크 제조 방법을 제공하고자 한다.An embodiment of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a metal mask and a metal mask in which manufacturing time is minimized and manufacturing easiness and manufacturing reliability are improved.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 측면은 복수의 패턴 개구부를 포함하는 금속 마스크를 제조하는 금속 마스크 제조 장치에 있어서, 상기 금속 마스크로 제조되는 피처리체가 안착되는 안착부, 하나의 레이저 빔(laser beam)을 발생하는 레이저 소스, 및 상기 레이저 소스와 상기 피처리체 사이에 위치하여 상기 하나의 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분기하며, 상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 빔 분기 광학계를 포함하는 금속 마스크 제조 장치를 제공한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a metal mask manufacturing apparatus for manufacturing a metal mask including a plurality of pattern openings, the apparatus comprising: a seating part on which a workpiece made of the metal mask is seated; A laser source for generating a laser beam, and a plurality of laser beams, which are located between the laser source and the object to be processed, for branching the one laser beam into a plurality of laser beams, and forming the plurality of pattern openings with the object to be processed And a beam splitting optical system for irradiating the plurality of laser beams.

상기 빔 분기 광학계는, 상기 하나의 레이저 빔이 입사되며, 상기 하나의 레이저 빔을 상기 복수의 레이저 빔으로 분기하는 DOE 렌즈, 상기 DOE 렌즈를 통과한 상기 복수의 레이저 빔의 경로 내에 위치하며, 상기 복수의 레이저 빔이 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하도록 상기 복수의 레이저 빔의 조사 각도를 변경하는 갈바노 스캐너, 및 상기 갈바노 스캐너와 상기 피처리체 사이에 위치하며, 상기 복수의 레이저 빔의 초점을 제어하는 포커싱 렌즈를 포함할 수 있다.Wherein the beam splitting optical system includes a DOE lens into which the one laser beam is incident and which divides the one laser beam into the plurality of laser beams, A galvano scanner for changing an irradiation angle of the plurality of laser beams so that a plurality of laser beams form the plurality of pattern openings; and a galvano scanner, which is located between the galvano scanner and the object to be processed, And a focusing lens for controlling the focusing lens.

상기 빔 분기 광학계는, 상기 DOE 렌즈와 상기 갈바노 스캐너 사이에 위치하며, 상기 복수의 레이저 빔 중 선택된 개수를 제외한 나머지 레이저 빔을 차단하는 빔 차단 마스크를 더 포함할 수 있다.The beam splitting optical system may further include a beam blocking mask positioned between the DOE lens and the galvano scanner and blocking the remaining laser beams except for the selected number of the plurality of laser beams.

상기 복수의 패턴 개구부 각각의 계단식으로 형성된 측면을 포함하며, 상기 빔 분기 광학계는 상기 복수의 레이저 빔을 상기 피처리체에 복수번 조사하여 상기 계단식으로 형성된 측면을 포함하는 상기 복수의 패턴 개구부 각각을 형성할 수 있다.Wherein the beam splitting optical system irradiates the object with the plurality of laser beams a plurality of times to form each of the plurality of pattern openings including the stepwise formed side faces, can do.

상기 복수의 레이저 빔 각각은 행렬 형태로 배치될 수 있다.Each of the plurality of laser beams may be arranged in a matrix form.

또한, 본 발명의 제2 측면은 복수의 패턴 개구부를 포함하는 금속 마스크를 제조하는 금속 마스크 제조 방법에 있어서, 상기 금속 마스크로 제조되는 피처리체를 제공하는 단계, 하나의 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분기하여 상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계를 포함하는 금속 마스크 제조 방법을 제공한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a metal mask for manufacturing a metal mask including a plurality of pattern openings, the method comprising: providing a workpiece made of the metal mask; And irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed.

상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는 상기 복수의 레이저 빔을 상기 피처리체에 복수번 조사하여 상기 복수의 패턴 개구부 각각이 계단식으로 형성된 측면을 포함하도록 수행할 수 있다.Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed includes irradiating the object to be processed with the plurality of laser beams a plurality of times so that each of the plurality of pattern openings includes a side surface formed stepwise Can be performed.

상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는, 상기 피처리체로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 피처리체에 각각이 제1 폭을 가지는 복수의 제1 함몰부를 형성하는 단계, 상기 복수의 제1 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제1 함몰부 각각의 저부에 상기 제1 폭 대비 좁은 제2 폭을 가지는 복수의 제2 함몰부 각각을 형성하는 단계, 상기 복수의 제2 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제2 함몰부 각각의 저부에 상기 제2 폭 대비 좁은 제3 폭을 가지는 복수의 제3 함몰부 각각을 형성하는 단계, 상기 복수의 제3 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제3 함몰부 각각의 저부에 상기 제3 폭 대비 좁은 제4 폭을 가지는 복수의 제4 함몰부 각각을 형성하는 단계, 및 상기 복수의 제4 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제4 함몰부 각각의 저부에 상기 제4 폭 대비 좁은 제5 폭을 가지는 복수의 관통부 각각을 형성하여 상기 복수의 제1 함몰부, 상기 복수의 제2 함몰부, 상기 복수의 제3 함몰부, 상기 복수의 제4 함몰부, 상기 복수의 관통부에 의해 형성되는 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed comprises irradiating the object to be processed with the plurality of laser beams to irradiate the object to be processed with a plurality of first Forming a plurality of second depressions each having a second width narrower than the first width by irradiating the plurality of laser beams to the plurality of first depressions, And irradiating the plurality of laser beams with the plurality of second depressions to form a plurality of third depressions at the bottom of each of the plurality of second depressions having a third width narrower than the second width, And a plurality of third concave portions having a fourth width smaller than the third width by irradiating the plurality of laser beams with the plurality of third concave portions, And forming a plurality of through holes each having a fifth width narrower than the fourth width at the bottom of each of the plurality of fourth depressions by irradiating the plurality of laser beams to the plurality of fourth depressions, And forming the plurality of pattern openings formed by the plurality of first depressions, the plurality of second depressions, the plurality of third depressions, the plurality of fourth depressions, and the plurality of through portions .

상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는, 상기 복수의 관통부가 형성된 상기 피처리체를 세정하는 단계, 및 상기 복수의 관통부 각각이 상기 제4 폭과 상기 제5 폭 사이의 제6 폭을 가지도록, 상기 복수의 관통부 각각의 테두리에 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계를 더 포함할 수 있다.Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed further comprises the steps of cleaning the object to be processed provided with the plurality of through portions, And irradiating the plurality of laser beams to a rim of each of the plurality of through portions so as to have a sixth width between the fifth widths.

또한, 본 발명의 제3 측면은 상기 금속 마스크 제조 방법에 의해 제조된 금속 마스크를 제공한다.In addition, the third aspect of the present invention provides a metal mask produced by the method of manufacturing a metal mask.

상기 복수의 패턴 개구부 각각은 계단식으로 형성된 측면을 포함할 수 있다.Each of the plurality of pattern openings may include a side surface formed in a stepped manner.

상술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 제조 시간이 최소화되는 동시에 제조 용이성 및 제조 신뢰성이 향상된 금속 마스크 및 금속 마스크 제조 방법이 제공된다.According to one of some embodiments of the above-described object of the present invention, there is provided a method of manufacturing a metal mask and a metal mask in which manufacturing time is minimized while manufacturing ease and manufacturing reliability are improved.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 빔 분기 광학계를 나타낸 블럭도이다.
도 3은 도 1에 도시된 빔 분기 광학계를 통과한 레이저 빔의 배치 형태를 나타낸 사진이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크를 나타낸 사진이다.1 is a view showing an apparatus for manufacturing a metal mask according to a first embodiment of the present invention.
2 is a block diagram showing the beam splitting optical system shown in FIG.
3 is a photograph showing the arrangement of the laser beam passing through the beam splitting optical system shown in FIG.
4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a metal mask according to a second embodiment of the present invention.
5 and 6 are cross-sectional views illustrating a method for fabricating a metal mask according to a second embodiment of the present invention.
7 is a photograph showing a metal mask according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted.

또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In addition, since the sizes and thicknesses of the respective components shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "~상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.Also, throughout the specification, when an element is referred to as "including" an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise. Also, throughout the specification, the term "on " means to be located above or below a target portion, and does not necessarily mean that the target portion is located on the image side with respect to the gravitational direction.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치를 설명한다.Hereinafter, a metal mask manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an apparatus for manufacturing a metal mask according to a first embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치(1000)는 레이저 빔(LB)을 이용하여 판 형태인 피처리체(10)에 패턴 개구부를 형성함으로써, 피처리체(10)로부터 금속 마스크를 형성하며, 안착부(100), 레이저 소스(200), 빔 분기 광학계(300)를 포함한다.1, the apparatus 1000 for fabricating a metal mask according to the first embodiment of the present invention forms a pattern opening in an object to be processed 10 in the form of a plate using a laser beam LB, A laser source 200, and a beam splitting optical system 300. The beam splitting optical system 300 includes a beam splitting optical system 300,

안착부(100)는 금속 마스크로 제조되는 피처리체(10)가 안착되는 부분이며, 피처리체(10)에 레이저 빔(LB)이 조사될 때, 선택된 방향으로 이동할 수 있다. 일례로, 안착부(100)는 도 1에서 좌측, 우측, 상측, 하측 등의 방향으로 이동할 수 있다.The mounting part 100 is a part where the object to be processed 10 made of a metal mask is seated and can move in a selected direction when the laser beam LB is irradiated on the object to be processed 10. For example, the seat 100 can be moved in the left, right, upper, lower, and other directions in Fig.

레이저 소스(200)는 하나의 레이저 빔(LB)을 발생하며, 빔 분기 광학계(300) 하나의 레이저 빔(LB)을 조사한다. 레이저 소스(200)로부터 발생된 레이저 빔(LB)은 펄스 레이저일 수 있다.The laser source 200 generates one laser beam LB and irradiates one laser beam LB of the beam splitting optical system 300. [ The laser beam LB generated from the laser source 200 may be a pulsed laser.

빔 분기 광학계(300)는 레이저 소스(200)와 피처리체(10)가 안착된 안착부(100) 사이에 위치하며, 레이저 소스(200)로부터 발생된 하나의 레이저 빔(LB)을 복수의 레이저 빔(LB)으로 분기한다. 빔 분기 광학계(300)를 통과하면서 분기된 복수의 레이저 빔(LB)은 피처리체(10)에 조사되며, 피처리체(10)로 조사된 복수의 레이저 빔(LB)은 복수의 패턴 개구부를 동시에 형성한다.The beam branching optical system 300 is disposed between the laser source 200 and the seating part 100 on which the object to be processed 10 is placed and is capable of irradiating one laser beam LB generated from the laser source 200 to a plurality of lasers And branches to the beam LB. A plurality of laser beams LB branched while passing through the beam branching optical system 300 are irradiated to the subject 10 and a plurality of laser beams LB irradiated to the subject 10 are simultaneously irradiated with a plurality of pattern openings .

도 2는 도 1에 도시된 빔 분기 광학계를 나타낸 블럭도이다.2 is a block diagram showing the beam splitting optical system shown in FIG.

도 2에 도시된 바와 같이, 빔 분기 광학계(300)는 레이저 소스(200)로부터 발생된 하나의 레이저 빔(LB)을 복수의 레이저 빔(LB)으로 분기하여 피처리체(10)로 복수의 패턴 개구부를 형성하는 복수의 레이저 빔(LB)을 조사하며, DOE 렌즈(310), 제1 릴레이(320), 빔 차단 마스크(330), 제2 릴레이(340), 갈바노 스캐너(350), 포커싱 렌즈(360)를 포함한다.2, the beam branching optical system 300 divides one laser beam LB generated from the laser source 200 into a plurality of laser beams LB, A first relay 320, a beam-blocking mask 330, a second relay 340, a galvanometer scanner 350, a focusing lens 350, and a focusing lens 350. The DOE lens 310, the first relay 320, And a lens 360.

DOE 렌즈(310)는 회절 렌즈(diffractive optical element lens, DOE lens)이며, 공지된 다양한 형태로 구성될 수 있다. DOE 렌즈(310)는 레이저 소스(200)와 대향하고 있으며, 레이저 소스(200)로부터 입사된 하나의 레이저 빔(LB)을 복수의 레이저 빔(LB)으로 분기한다.The DOE lens 310 is a diffractive optical element lens (DOE lens), and can be configured in various known shapes. The DOE lens 310 is opposed to the laser source 200 and branches one laser beam LB incident from the laser source 200 to a plurality of laser beams LB.

제1 릴레이(320)는 DOE 렌즈(310)와 빔 차단 마스크(330) 사이에 위치하며, DOE 렌즈(310)를 통과한 복수의 레이저 빔(LB) 각각의 수차를 조절하는 광학 렌즈이다. 제1 릴레이(320)는 공지된 다양한 형태로 구성될 수 있다.The first relay 320 is an optical lens positioned between the DOE lens 310 and the beam blocking mask 330 and controlling the aberration of each of the plurality of laser beams LB passing through the DOE lens 310. The first relay 320 may be configured in various known ways.

빔 차단 마스크(330)는 DOE 렌즈(310)를 통과한 복수의 레이저 빔(LB)의 경로 내에 위치하며, DOE 렌즈(310)와 갈바노 스캐너(350) 사이인 제1 릴레이(320)와 제2 릴레이(340) 사이에 위치하고 있다. 빔 차단 마스크(330)는 DOE 렌즈(310)를 통과하면서 분기된 복수의 레이저 빔(LB) 중 선택된 개수를 제외한 나머지 레이저 빔(LB)을 차단한다. 빔 차단 마스크(330)는 행렬 형태로 배치된 복수의 빔 투과부 또는 중앙 영역에 형성된 하나의 빔 투과부를 포함할 수 있다. 일례로, 레이저 소스(200)로부터 발생된 하나의 레이저 빔(LB)은 DOE 렌즈(310)를 통과하면서 5개의 레이저 빔(LB)으로부터 분기될 수 있으며, 이 5개의 레이저 빔(LB)은 빔 차단 마스크(330)를 통과하면서 2개의 레이저 빔(LB)이 차단된 3개의 레이저 빔(LB)으로 선택될 수 있다.The beam blocking mask 330 is disposed within the path of the plurality of laser beams LB passing through the DOE lens 310 and includes a first relay 320 between the DOE lens 310 and the galvanometer scanner 350, 2 relay (340). The beam blocking mask 330 blocks the remaining laser beams LB excluding the selected number of the plurality of laser beams LB branched while passing through the DOE lens 310. The beam blocking mask 330 may include a plurality of beam transmitting portions arranged in a matrix or one beam transmitting portion formed in the central region. For example, one laser beam LB generated from the laser source 200 may be branched from five laser beams LB while passing through the DOE lens 310, and these five laser beams LB, The two laser beams LB can be selected as the three laser beams LB that pass through the blocking mask 330 and are blocked.

제2 릴레이(340)는 빔 차단 마스크(330)와 갈바노 스캐너(350) 사이에 위치하며, 빔 차단 마스크(330)를 통과한 복수의 레이저 빔(LB) 각각의 수차를 조절하는 광학 렌즈이다. 제2 릴레이(340)는 공지된 다양한 형태로 구성될 수 있다.The second relay 340 is an optical lens positioned between the beam blocking mask 330 and the galvano scanner 350 and controlling the aberration of each of the plurality of laser beams LB passing through the beam blocking mask 330 . The second relay 340 may be configured in various known ways.

갈바노 스캐너(350)는 DOE 렌즈(310)를 통과한 복수의 레이저 빔(LB)의 경로 내에 위치하며, 포커싱 렌즈(360)와 제2 릴레이(340) 사이에 위치하고 있다. 갈바노 스캐너(350)는 복수의 레이저 빔(LB)이 피처리체(10)에 복수의 패턴 개구부를 형성하도록 복수의 레이저 빔의 조사 각도를 변경할 수 있다. 갈바노 스캐너(350)는 공지된 다양한 형태로 구성될 수 있다.The Galvano scanner 350 is located in the path of the plurality of laser beams LB passing through the DOE lens 310 and is positioned between the focusing lens 360 and the second relay 340. The galvano scanner 350 can change the irradiation angle of the plurality of laser beams so that the plurality of laser beams LB form a plurality of pattern openings in the subject 10. [ The galvano scanner 350 may be configured in various known formats.

포커싱 렌즈(360)는 갈바노 스캐너(350)와 피처리체(10) 사이에 위치하며, 복수의 레이저 빔(LB)의 초점을 제어한다. 일례로, 포커싱 렌즈(360)는 복수의 광학 렌즈를 포함할 수 있으며, 갈바노 스캐너(350)에 의해 조사 각도가 변경된 복수의 레이저 빔(LB) 각각의 초점을 피처리체(10)에 맞출 수 있다. 이로 인해, 포커싱 렌즈(360)를 통과한 복수의 레이저 빔(LB)이 피처리체(10)에 초점이 맞춰짐으로써, 복수의 레이저 빔(LB)에 의해 피처리체(10)에 복수의 패턴 개구부가 형성된다.The focusing lens 360 is positioned between the galvanometer scanner 350 and the object to be processed 10 and controls the focus of the plurality of laser beams LB. For example, the focusing lens 360 may include a plurality of optical lenses, and the focus of each of the plurality of laser beams LB whose irradiation angle is changed by the galvanometer scanner 350 may be adjusted to the subject 10 have. The plurality of laser beams LB having passed through the focusing lens 360 are focused on the subject 10 so that the plurality of pattern openings 30 are formed in the subject 10 by the plurality of laser beams LB, .

도 3은 도 1에 도시된 빔 분기 광학계를 통과한 레이저 빔의 배치 형태를 나타낸 사진이다.3 is a photograph showing the arrangement of the laser beam passing through the beam splitting optical system shown in FIG.

도 3에 도시된 바와 같이, 레이저 소스(200)로부터 발생된 하나의 레이저 빔(LB)은 빔 분기 광학계(300)를 통과한 후 복수의 레이저 빔(LB)으로 분기되며, 분기된 복수의 레이저 빔(LB) 각각은 행렬 형태로 배치되어 피처리체(10)에 조사된다.3, one laser beam LB generated from the laser source 200 passes through the beam splitting optical system 300 and then branches to a plurality of laser beams LB, and a plurality of branched laser beams LB Each of the beams LB is arranged in a matrix form and irradiated onto the object to be processed 10.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치(1000)는 레이저 소스(200)로부터 발생된 하나의 레이저 빔(LB)을 복수의 레이저 빔(LB)으로 분기하여 피처리체(10)에 조사함으로써, 행렬 형태로 배치된 복수의 레이저 빔(LB)을 이용해 피처리체(10)에 복수의 패턴 개구부를 동시에 형성해 피처리체(10)로부터 금속 마스크를 제조한다.The apparatus 1000 for fabricating a metal mask according to the first embodiment of the present invention divides one laser beam LB generated from the laser source 200 into a plurality of laser beams LB, , A plurality of pattern openings are simultaneously formed in the object to be processed 10 using a plurality of laser beams LB arranged in a matrix form to manufacture a metal mask from the object to be processed 10.

이로 인해, 전체적인 금속 마스크의 제조 시간이 최소화되는 동시에 제조 용이성이 향상된 금속 마스크 제조 장치(1000)가 제공된다.Thereby, a metal mask manufacturing apparatus 1000 is provided in which the manufacturing time of the entire metal mask is minimized and the manufacturing easiness is improved.

상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치(1000)의 빔 분기 광학계(300)는 복수의 레이저 빔(LB)을 피처리체(10)에 복수번 조사하여 피처리체(10)에 계단식으로 형성된 측면을 포함하는 복수의 패턴 개구부를 형성한다. 이로 인해 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치(1000)를 이용해 제조된 금속 마스크는 계단식으로 형성된 측면을 포함하는 복수의 패턴 개구부를 포함한다. 이를 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법에서 보다 자세히 설명한다.The beam branching optical system 300 of the apparatus 1000 for fabricating a metal mask according to the first embodiment of the present invention irradiates a plurality of laser beams LB to the subject 10 a plurality of times to irradiate the subject 10 Thereby forming a plurality of pattern openings including the stepwise formed side faces. Thus, the metal mask manufactured using the apparatus 1000 for fabricating a metal mask according to the first embodiment of the present invention includes a plurality of pattern openings including stepwise formed side faces. This will be described in more detail in the method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention.

이하, 도 4 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a metal mask according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법은 상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치를 이용해 수행할 수 있다.The method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention can be performed using the apparatus for manufacturing a metal mask according to the first embodiment of the present invention described above.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법을 나타낸 순서도이다. 도 5 및 도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a metal mask according to a second embodiment of the present invention. 5 and 6 are cross-sectional views illustrating a method for fabricating a metal mask according to a second embodiment of the present invention.

우선, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 금속 마스크(MM)로 제조되는 피처리체(10)를 제공한다(S100).First, as shown in FIGS. 4 and 5, an object to be processed 10 made of a metal mask MM is provided (S100).

구체적으로, 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 금속 마스크(MM)로 제조되는 판 형태의 피처리체(10)를 상술한 금속 마스크 제조 장치의 안착부에 안착시킨다.Specifically, as shown in Fig. 5 (a), the plate-shaped object 10 to be manufactured from the metal mask MM is placed on the seating portion of the above-described metal mask producing apparatus.

다음, 도 5 또는 도 6에 도시된 바와 같이, 피처리체(10)로 복수의 패턴 개구부(POA)를 형성하는 복수의 레이저 빔을 조사한다(S200).Next, as shown in FIG. 5 or 6, a plurality of laser beams for forming a plurality of pattern openings POA are irradiated to the subject 10 (S200).

구체적으로, 도 5의 (c) 또는 도 6의 (d)에 도시된 바와 같이, 빔 분기 광학계에 의해 분기된 복수의 레이저 빔을 피처리체(10)에 복수번 조사하여 복수의 패턴 개구부(POA) 각각이 계단식으로 형성된 측면을 포함하도록 피처리체(10)로 복수의 패턴 개구부(POA)를 형성하는 복수의 레이저 빔을 조사한다.Specifically, as shown in FIG. 5C or FIG. 6D, a plurality of laser beams branched by the beam branching optical system are irradiated to the subject 10 a plurality of times to form a plurality of pattern openings POA Irradiating a plurality of laser beams forming a plurality of pattern openings (POA) with the object to be processed 10 so as to include the stepwise formed side faces.

일례로, 우선, 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 피처리체(10)로 복수의 레이저 빔을 조사하여 피처리체에 각각이 제1 폭(W1)을 가지는 복수의 제1 함몰부(GR1)를 형성한다. For example, as shown in FIG. 5A, a plurality of laser beams are irradiated onto a subject to be processed 10, and a plurality of first depressions (hereinafter, referred to as " first depressions " GR1).

다음, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 복수의 제1 함몰부(GR1)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제1 함몰부(GR1) 각각의 저부에 제1 폭(W1) 대비 좁은 제2 폭(W2)을 가지는 복수의 제2 함몰부(GR2) 각각을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5B, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of first depressions GR1 to form first widths W1 (W1) at the bottom of each of the plurality of first depressions GR1 And a plurality of second depressions GR2 having a second width W2 narrower than the first depressions GR2.

다음, 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이, 복수의 제2 함몰부(GR2)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제2 함몰부(GR2) 각각의 저부에 제2 폭(W2) 대비 좁은 제3 폭(W3)을 가지는 복수의 제3 함몰부(GR3) 각각을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5C, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of second depressions GR2 to form second widths W2 (W2) at the bottom of each of the plurality of second depressions GR2 And a plurality of third depressions GR3 each having a third width W3 that is narrower than the third depressions GR3.

다음, 복수의 제3 함몰부(GR3)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제3 함몰부 각각의 저부에 제3 폭(W3) 대비 좁은 제4 폭(W4)을 가지는 복수의 제4 함몰부(GR4) 각각을 형성한다. Next, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of third depressions (GR3) to form a plurality of fourth (W4) narrower fourth widths (W4) at the bottom of each of the plurality of third depressions, Thereby forming depressions GR4.

다음, 복수의 제4 함몰부(GR4)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제4 함몰부(GR4) 각각의 저부에 제4 폭(W4) 대비 좁은 제5 폭(W5)을 가지는 복수의 관통부(OA) 각각을 형성한다. Next, a plurality of laser beams are irradiated again with a plurality of fourth depressions GR4 to form a plurality of fourth depressions GR4 each having a fifth width W5 narrower than the fourth width W4 at the bottom of each of the plurality of fourth depressions GR4 Respectively.

상술한 일례로 인해, 복수의 제1 함몰부(GR1), 복수의 제2 함몰부(GR2), 복수의 제3 함몰부(GR3), 복수의 제4 함몰부(GR4), 복수의 관통부(OA)를 포함하는 복수의 패턴 개구부(POA)를 포함하는 금속 마스크(MM)가 제조된다.For example, a plurality of first depressions GR1, a plurality of second depressions GR2, a plurality of third depressions GR3, a plurality of fourth depressions GR4, A metal mask (MM) including a plurality of pattern openings (POA) including a plurality of pattern openings (OA) is manufactured.

한편, 본 발명의 제2 실시예에서, 복수의 제1 함몰부(GR1), 복수의 제2 함몰부(GR2), 복수의 제3 함몰부(GR3), 복수의 제4 함몰부(GR4), 복수의 관통부(OA)를 형성하여 복수의 패턴 개구부(POA)를 형성하나, 본 발명의 다른 실시예에서는 5개 이상의 함몰부 및 관통부를 형성하여 패턴 개구부를 형성할 수 있다.In the second embodiment of the present invention, a plurality of first depressions GR1, a plurality of second depressions GR2, a plurality of third depressions GR3, a plurality of fourth depressions GR4, A plurality of through-holes OA are formed to form a plurality of pattern apertures POA. In another embodiment of the present invention, however, at least five depressions and perforations may be formed to form the pattern apertures.

다른 예로, 우선, 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 피처리체(10)로 복수의 레이저 빔을 조사하여 피처리체에 각각이 제1 폭(W1)을 가지는 복수의 제1 함몰부(GR1)를 형성한다. As another example, first, as shown in Fig. 6A, a plurality of laser beams are irradiated onto the subject 10 to form a plurality of first depressions (hereinafter referred to as " GR1).

다음, 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이, 복수의 제1 함몰부(GR1)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제1 함몰부(GR1) 각각의 저부에 제1 폭(W1) 대비 좁은 제2 폭(W2)을 가지는 복수의 제2 함몰부(GR2) 각각을 형성한다. Next, as shown in FIG. 6B, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of first depressions GR1 to form first depressions GR1 at the bottom of each of the plurality of first depressions GR1, And a plurality of second depressions GR2 having a second width W2 narrower than the first depressions GR2.

다음, 도 6의 (c)에 도시된 바와 같이, 복수의 제2 함몰부(GR2)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제2 함몰부(GR2) 각각의 저부에 제2 폭(W2) 대비 좁은 제3 폭(W3)을 가지는 복수의 제3 함몰부(GR3) 각각을 형성한다. Next, as shown in Fig. 6C, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of second depressions GR2 to form second widths W2 (W2) at the bottom of each of the plurality of second depressions GR2 And a plurality of third depressions GR3 each having a third width W3 that is narrower than the third depressions GR3.

다음, 복수의 제3 함몰부(GR3)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제3 함몰부 각각의 저부에 제3 폭(W3) 대비 좁은 제4 폭(W4)을 가지는 복수의 제4 함몰부(GR4) 각각을 형성한다. Next, a plurality of laser beams are irradiated again to the plurality of third depressions (GR3) to form a plurality of fourth (W4) narrower fourth widths (W4) at the bottom of each of the plurality of third depressions, Thereby forming depressions GR4.

다음, 복수의 제4 함몰부(GR4)로 복수의 레이저 빔을 다시 조사하여 복수의 제4 함몰부(GR4) 각각의 저부에 제4 폭(W4) 대비 좁은 제5 폭(W5)을 가지는 복수의 제1 관통부(OA1) 각각을 형성한다. 이때, 제1 관통부(OA1)의 관통 면적은 최초 설계된 패턴 개구부(POA)의 관통 면적 대비 좁게 형성한다.Next, a plurality of laser beams are irradiated again with a plurality of fourth depressions GR4 to form a plurality of fourth depressions GR4 each having a fifth width W5 narrower than the fourth width W4 at the bottom of each of the plurality of fourth depressions GR4 The first through-holes OA1 are formed. At this time, the penetration area of the first penetration OA1 is narrower than the penetration area of the initially designed pattern opening POA.

다음, 복수의 제1 관통부(OA1)가 형성된 피처리체(10)를 세정한다.Next, the object to be processed 10 on which the plurality of first through holes OA1 are formed is cleaned.

다음, 복수의 제1 관통부(OA1) 각각이 제4 폭(W4)과 제5 폭(W5) 사이의 제6 폭(W6)을 가지는 복수의 제2 관통부(OA2)로 형성되도록, 복수의 제1 관통부(OA1) 각각의 테두리에 복수의 레이저 빔을 조사하여 복수의 제1 관통부(OA1)로부터 복수의 제2 관통부(OA2)를 형성한다. 이때, 제2 관통부(OA2)가 제1 관통부(OA1)의 세정 후 다시 형성됨으로써, 제2 관통부(OA2)의 관통 면적은 최초 설계된 패턴 개구부(POA)의 관통 면적과 일치한다.Next, a plurality of first through holes OA1 are formed so as to have a plurality of second through holes OA2 each having a sixth width W6 between the fourth width W4 and the fifth width W5, A plurality of second penetrating portions OA2 are formed from a plurality of first penetrating portions OA1 by irradiating a plurality of laser beams to the rim of each of the first penetrating portions OA1. At this time, the second penetrating portion OA2 is formed again after the first penetrating portion OA1 is cleaned, so that the penetration area of the second penetrating portion OA2 coincides with the penetration area of the initially designed pattern opening portion POA.

상술한 다른 예로 인해, 복수의 제1 함몰부(GR1), 복수의 제2 함몰부(GR2), 복수의 제3 함몰부(GR3), 복수의 제4 함몰부(GR4), 복수의 제2 관통부(OA2)를 포함하는 복수의 패턴 개구부(POA)를 포함하는 금속 마스크(MM)가 제조된다.The second depressed portion GR2, the third depressed portion GR3, the plurality of fourth depressed portions GR4, the plurality of second depressed portions GR2, A metal mask (MM) including a plurality of pattern openings (POA) including a penetration portion (OA2) is manufactured.

이상과 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법은 하나의 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분기하여 피처리체(10)에 조사함으로써, 피처리체(10)에 동시에 복수의 패턴 개구부(POA)를 형성하여 금속 마스크(MM)를 제조한다. 즉, 금속 마스크(MM)의 제조 시간이 최소화되는 동시에 제조 용이성이 향상된 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법이 제공된다.As described above, in the method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention, a single laser beam is branched into a plurality of laser beams to irradiate the object to be processed 10, (POA) to form a metal mask (MM). That is, a method for fabricating a metal mask according to a second embodiment of the present invention is provided in which the manufacturing time of the metal mask (MM) is minimized while the ease of manufacture is improved.

또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법은 복수의 레이저 빔을 피처리체(10)로 장시간 조사하여 패턴 개구부(POA)를 형성하는 것이 아니라, 짧은 시간 동안 복수번 조사하여 패턴 개구부(POA)를 형성함으로써, 복수의 레이저 빔에 의해 피처리체(10)가 열팽창되는 것이 억제된다. 이로 인해, 패턴 개구부(POA) 형성 공정 중 피처리체(10)가 열팽창되어 최초 설계된 패턴 개구부(POA)의 면적이 변형되는 것이 억제된다. 즉, 전체적인 금속 마스크(MM)의 제조 신뢰성이 향상된 금속 마스크 제조 방법이 제공된다.In the method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention, a plurality of laser beams are irradiated a plurality of times for a short time to form a pattern opening (POA) (POA) is formed, the object to be processed 10 is prevented from being thermally expanded by the plurality of laser beams. This suppresses the deformation of the area of the initially designed pattern opening (POA) due to the thermal expansion of the subject (10) during the process of forming the pattern opening (POA). That is, there is provided a method of manufacturing a metal mask in which manufacturing reliability of the entire metal mask (MM) is improved.

또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법은 복수의 레이저 빔을 피처리체(10)로 복수번 조사하여 패턴 개구부(POA)를 형성할 때, 최초 형성된 제1 관통부(OA1)를 세정한 후 제1 관통부(OA1)를 다시 제2 관통부(OA2)로 형성함으로써, 정밀한 제2 관통부(OA2)를 가지는 패턴 개구부(POA)를 포함하는 금속 마스크(MM)를 제조할 수 있다. 즉, 전체적인 금속 마스크(MM)의 제조 신뢰성이 향상된 금속 마스크 제조 방법이 제공된다.In the method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention, when the pattern opening (POA) is formed by irradiating a plurality of laser beams to the workpiece 10 a plurality of times, the first through- And then the first penetrating portion OA1 is again formed of the second penetrating portion OA2 to manufacture the metal mask MM including the pattern opening portion POA having the precise second penetrating portion OA2 . That is, there is provided a method of manufacturing a metal mask in which manufacturing reliability of the entire metal mask (MM) is improved.

이하, 도 7을 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크를 설명한다. 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크는 상술한 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법에 의해 제조된다.Hereinafter, a metal mask according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. A metal mask according to a third embodiment of the present invention is manufactured by the metal mask manufacturing method according to the second embodiment of the present invention described above.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크를 나타낸 사진이다. 도 7의 (a)는 금속 마스크(MM)의 전면을 나타낸 사진이며, 도 7의 (b)는 금속 마스크(MM)의 배면을 나타낸 사진이다.7 is a photograph showing a metal mask according to a third embodiment of the present invention. FIG. 7A is a photograph showing a front surface of a metal mask MM, and FIG. 7B is a photograph showing a back surface of a metal mask MM.

도 7, 도 5의 (c), 및 도 6의 (d) 각각에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크(MM)는 상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 금속 마스크 제조 장치를 이용한 본 발명의 제2 실시예에 따른 금속 마스크 제조 방법에 의해 제조된다. 금속 마스크(MM)의 복수의 패턴 개구부(POA) 각각은 계단식으로 형성된 측면을 포함한다.As shown in FIGS. 7, 5C and 6D, the metal mask MM according to the third embodiment of the present invention is a metal mask according to the first embodiment of the present invention, Is manufactured by the method of manufacturing a metal mask according to the second embodiment of the present invention using a mask manufacturing apparatus. Each of the plurality of pattern openings (POA) of the metal mask (MM) includes a stepwise formed side surface.

이상과 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 금속 마스크(MM)는 복수의 패턴 개구부(POA) 각각의 측면이 계단식으로 형성됨으로써, 증착원으로부터 증발되어 패턴 개구부(POA)를 통하는 유기 물질이 넓은 증착 각도를 가지더라도, 패턴 개구부(POA)의 측면에 의한 쉐도우(shadow) 없이 유기 물질을 용이하게 패턴 개구부(POA)를 통해 기판에 증착시킨다. 즉, 유기 발광 표시 장치가 대면적으로 형성되더라도 증착원으로부터 증발된 유기 물질을 용이하게 기판으로 관통시키는 패턴 개구부(POA)를 포함하는 금속 마스크(MM)가 제공된다.As described above, in the metal mask MM according to the third embodiment of the present invention, since the side surfaces of each of the plurality of pattern openings POA are formed stepwise, the organic material evaporated from the evaporation source and passing through the pattern opening POA The organic material is easily deposited on the substrate through the pattern opening (POA) without a shadow due to the side surface of the pattern opening (POA), even if it has a wide deposition angle. That is, there is provided a metal mask (MM) including a pattern opening (POA) that allows organic materials evaporated from an evaporation source to easily pass through to a substrate even if the organic light emitting display is formed in a large area.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.

피처리체(10), 안착부(100), 레이저 소스(200), 빔 분기 광학계(300)The object to be processed 10, the mounting part 100, the laser source 200, the beam branching optical system 300,

Claims (6)

복수의 패턴 개구부를 포함하는 금속 마스크를 제조하는 금속 마스크 제조 방법에 있어서,
상기 금속 마스크로 제조되는 피처리체를 제공하는 단계; 및
하나의 레이저 빔을 복수의 레이저 빔으로 분기하여 상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계
를 포함하는 금속 마스크 제조 방법.A method of manufacturing a metal mask for manufacturing a metal mask including a plurality of pattern openings,
Providing an object to be processed made of the metal mask; And
Dividing one laser beam into a plurality of laser beams and irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed
≪ / RTI > 제1항에서,
상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는 상기 복수의 레이저 빔을 상기 피처리체에 복수번 조사하여 상기 복수의 패턴 개구부 각각이 계단식으로 형성된 측면을 포함하도록 수행하는 금속 마스크 제조 방법.The method of claim 1,
Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed includes irradiating the object to be processed with the plurality of laser beams a plurality of times so that each of the plurality of pattern openings includes a side surface formed stepwise Wherein the metal mask is formed on the substrate. 제1항에서,
상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는,
상기 피처리체로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 피처리체에 각각이 제1 폭을 가지는 복수의 제1 함몰부를 형성하는 단계;
상기 복수의 제1 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제1 함몰부 각각의 저부에 상기 제1 폭 대비 좁은 제2 폭을 가지는 복수의 제2 함몰부 각각을 형성하는 단계;
상기 복수의 제2 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제2 함몰부 각각의 저부에 상기 제2 폭 대비 좁은 제3 폭을 가지는 복수의 제3 함몰부 각각을 형성하는 단계;
상기 복수의 제3 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제3 함몰부 각각의 저부에 상기 제3 폭 대비 좁은 제4 폭을 가지는 복수의 제4 함몰부 각각을 형성하는 단계; 및
상기 복수의 제4 함몰부로 상기 복수의 레이저 빔을 조사하여 상기 복수의 제4 함몰부 각각의 저부에 상기 제4 폭 대비 좁은 제5 폭을 가지는 복수의 관통부 각각을 형성하여 상기 복수의 제1 함몰부, 상기 복수의 제2 함몰부, 상기 복수의 제3 함몰부, 상기 복수의 제4 함몰부, 상기 복수의 관통부에 의해 형성되는 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 단계
를 포함하는 금속 마스크 제조 방법.The method of claim 1,
Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed comprises:
Irradiating the plurality of laser beams with the object to form a plurality of first depressions each having a first width in the object to be processed;
Forming a plurality of second depressions each having a second width narrower than the first width by irradiating the plurality of laser beams with the plurality of first depressions to form a plurality of second depressions at a bottom of each of the plurality of first depressions;
Forming a plurality of third depressions at a bottom of each of the plurality of second depressions by irradiating the plurality of laser beams to the plurality of second depressions with a third width narrower than the second width;
Forming a plurality of fourth depressions each having a fourth width narrower than the third width by irradiating the plurality of laser beams with the plurality of third depressions, respectively, at the bottom of each of the plurality of third depressions; And
The plurality of laser beams are irradiated to the plurality of fourth depressions to form a plurality of through portions each having a fifth width narrower than the fourth width at the bottom of each of the plurality of fourth depressions, Forming the plurality of pattern openings formed by the depressions, the plurality of second depressions, the plurality of third depressions, the plurality of fourth depressions, and the plurality of penetrations;
≪ / RTI > 제3항에서,
상기 피처리체로 상기 복수의 패턴 개구부를 형성하는 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계는,
상기 복수의 관통부가 형성된 상기 피처리체를 세정하는 단계; 및
상기 복수의 관통부 각각이 상기 제4 폭과 상기 제5 폭 사이의 제6 폭을 가지도록, 상기 복수의 관통부 각각의 테두리에 상기 복수의 레이저 빔을 조사하는 단계를 더 포함하는 금속 마스크 제조 방법.4. The method of claim 3,
Wherein the step of irradiating the plurality of laser beams forming the plurality of pattern openings with the object to be processed comprises:
Cleaning the object to be processed having the plurality of through portions; And
Further comprising the step of irradiating the plurality of laser beams to a rim of each of the plurality of penetrations so that each of the plurality of penetrations has a sixth width between the fourth width and the fifth width. Way. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 금속 마스크 제조 방법에 의해 제조된 금속 마스크.A metal mask produced by the method of manufacturing a metal mask according to any one of claims 1 to 4. 제5항에서,
상기 복수의 패턴 개구부 각각은 계단식으로 형성된 측면을 포함하는 금속 마스크.The method of claim 5,
Wherein each of the plurality of pattern openings comprises a stepped side.
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US11597995B2 (en) 2020-03-13 2023-03-07 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing mask and method of manufacturing display device

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