KR20150017248A - Device for removal of media and method the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 메디아 제거 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 입자유동가공기를 이용하여 경면 연마한 용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 메디아 제거 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for removing media, and more particularly, to an apparatus and a method for removing media remaining on the inner surface of a mirror-polished container using a particle flow processor.
입자유동가공은 기계 가공이나 화학적 연마로 가공이 어려운 기하학적 형상을 가진 용기, 엔진분사 장치, 노즐, 금형, 고압가스 센스, 고급 다이케스팅 모듈의 내경연마에 적용되고 있다.Particle flow machining has been applied to inner diameter grinding of containers with geometric shapes that are difficult to machine or chemically polish, engine injectors, nozzles, molds, high pressure gas sensing, and advanced die casting modules.
일반적으로 입자 유동가공 후 메디아를 제거하기 위해 콤프레샤 공기를 불어 넣어 제거하는데, 주입된 공기는 메디아와 접촉하여 소용돌이를 형성하여 가공된 경면에 2차 스크레치 원인을 제공한다. 또한, 콤프레샤 공기에 포함된 수분과 고압수는 알루미늄, 구리, 글이드캅, 베릴륨동, 티타늄, 탄탈륨, 니오븀, 몰리브덴 금속의 표면을 산화시킨다.Generally, after the particle flow machining, compressor air is blown away to remove the media, which in turn contacts the media to form a vortex to provide a secondary scratch cause on the finished mirror. In addition, the water and high-pressure water contained in the compressor air oxidizes the surfaces of aluminum, copper, gold cup, beryllium copper, titanium, tantalum, niobium and molybdenum metal.
메디아는 점탄성 폴리머와 연마입자의 혼합물로서 기계가공이나 화학적 연마로 가공이 어려운 기하학적 형상의 용기의 내경연마에 사용되는 물질이다.Media is a mixture of viscoelastic polymer and abrasive particles and is a substance used in the inner diameter polishing of a geometrically shaped container which is difficult to machine or mechanically polish.
브로잉 과정에서 발생된 스크레치와 표면 산화층을 제거하는 방법으로 화학적인 방법을 적용할 수 있으나, 2차로 발생한 스크레치를 제거하는 것은 한계가 있고, 화학적인 공정을 추가하면 이러한 표면 재질의 변화와 생산성 저하의 원인이 된다.The chemical method can be applied to remove the scratches and surface oxide layer generated in the blowing process. However, there is a limit to remove the scratches generated in the second step. When the chemical process is added, such surface material changes and productivity decrease .
본 발명의 목적은, 입자유동가공기로 가공한 경면 용기에 메디아 제거시 균일한 압력 또는 그 이하의 정저압력을 주어 소용돌이 현상으로 인한 스크레치를 방지하는 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a device for preventing a scratch due to a swirling phenomenon by applying a uniform pressure or a lower pressure at the time of media removal to a mirror container processed by a particle flow processor.
본 발명의 또 다른 목적은, 메디아 제거 과정에서 주변의 산소와 수분을 차단하여 내부의 경면 연마한 상태를 유지할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an apparatus capable of maintaining the polished state of the mirror by intercepting surrounding oxygen and moisture during the media removal process.
본 발명은 혼합물 챔버, 상기 혼합물 챔버에 퍼징하기 위한 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 혼합물 챔버에 연결되고 세정액을 상기 혼합물 챔버에 주입하는 액체 공급부, 상기 혼합물 챔버의 하단에 형성되어 액체 및 가스를 배출하는 배기부, 상기 배기부와 연결되고, 액체 및 가스를 분사하여 입자유동가공 처리된 금속용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 분사부를 포함하는 메디아 제거 장치를 제공한다.The present invention relates to a mixing chamber, a gas supply unit for supplying a gas for purging the mixture chamber, a liquid supply unit connected to the mixture chamber and injecting a cleaning liquid into the mixture chamber, And a jetting part connected to the exhaust part and jetting the liquid and the gas to remove the remaining media on the inner surface of the metal container processed by the particle flow process.
그리고, 상기 가스 공급부에 의해 상기 혼합물 챔버로 질소를 주입할 수 있으며, 상기 액체 공급부에 의해 상기 혼합물 챔버로 세정력 있는 솔벤트를 선택적으로 주입할 수 있다.Nitrogen can be injected into the mixture chamber by the gas supply unit, and the cleaning solvent can be selectively injected into the mixture chamber by the liquid supply unit.
또한, 상기 액체 공급부에 구비되어 상기 혼합물 챔버 내로 주입되는 액체의 양을 조절하는 제 1밸브, 상기 가스 공급부에 구비되어 상기 혼합물 챔버 내로 주입되는 가스의 양을 조절하는 제 2밸브를 더 포함하여 구성될 수 있다.The apparatus may further include a first valve disposed in the liquid supply unit to adjust an amount of liquid injected into the mixture chamber, and a second valve provided in the gas supply unit to adjust an amount of gas injected into the mixture chamber, .
또한, 상기 배기부 및 상기 분사부 사이에 구비되어 액체 및 가스가 상기 분사부로 배출되는 양을 조절할 수 있는 제 3밸브, 상기 분사부에 구비되어 액체 및 가스의 분사의 양 및 세기를 조절할 수 있는 제 4 및 5밸브를 더 포함하게 구성될 수 있다.A third valve provided between the exhaust part and the jet part and capable of adjusting the amount of liquid and gas discharged to the jet part; a second valve provided in the jet part to adjust the amount and intensity of jetting of liquid and gas; Fourth and fifth valves may be further included.
그리고 상기 제 1밸브 내지 상기 5밸브는 각각 독립적으로 제어될 수 있다.And the first valve to the five valves may be independently controlled.
나아가, 상기 가스 공급부 양 끝단에는 외부 가스가 유입되거나 상기 혼합물 챔버 내로 유입되는 가스를 공급하는 연결부, 상기 가스 공급부 중단에는 공급되는 가스를 측정하는 게이지가 구비되어 상기 혼합물 챔버에 주입되는 가스의 양을 확인할 수 있다.Further, at both ends of the gas supply part, there is provided a connection part for supplying a gas to be introduced into the mixture chamber or an external gas to be introduced into the mixture chamber, and a gauge for measuring a gas to be supplied to the gas supply part, Can be confirmed.
또한, 상기 분사부의 일단에는 상기 배기부와 벨로우즈를 통해 액체 및 가스가 들어오는 연결부가 구비되고, 타단에는 액체 및 가스가 외부로 분사될 수 있는 분사구가 구비되며, 상기 분사부 중단에는 공급되는 액체를 측정하는 분사 게이지가 구비되어 분사되는 액체의 양을 확인할 수 있는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, a connection portion through which the liquid and the gas are introduced through the exhaust portion and the bellows is provided at one end of the injection portion, and an injection port through which liquid and gas can be injected to the outside is provided at the other end, And an injection gauge is provided to measure the amount of liquid to be injected.
그리고 상기 혼합물 챔버의 하측에 설치되어 상기 혼합물 챔버를 지지하는 프레임을 더 포함할 수 있다.And a frame installed below the mixture chamber and supporting the mixture chamber.
또한, 상기 혼합물 챔버에 연결된 액체 공급부를 통해 세정액을 상기 혼합물 챔버에 주입하는 단계, 가스 공급부를 통해 상기 혼합물 챔버 내로 가스를 공급하는 단계, 상기 혼합물 챔버의 하단에 형성된 배기부를 통해 액체 및 가스를 배출하는 단계, 상기 배기부와 연결된 분사부를 통해 액체 및 가스를 분사하여 입자유동가공 후 금속용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 단계를 포함하는 메디아 제거 방법에 의해 달성되는 것도 가능하다.Injecting a cleaning liquid into the mixture chamber through a liquid supply portion connected to the mixture chamber; supplying gas into the mixture chamber through a gas supply portion; discharging liquid and gas through an exhaust portion formed at a lower end of the mixture chamber; And discharging the liquid and the gas through the jetting part connected to the exhaust part to remove the medium remaining on the inner surface of the metal container after the particle flow processing.
여기서 상기 액체 공급부에서 액체를 공급하는 단계 전, 상기 메디아 제거 장치 하단의 상기 분사구에 메디아의 제거가 필요한 용기를 연결하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include connecting a container requiring removal of median to the injection port at the lower end of the media removal device before the liquid supply part supplies the liquid.
또한, 가스를 공급하는 단계에서, 상기 가스 공급부에 가스를 공급하여 퍼징하고, 상기 가스 공급부의 게이지에서 제 2밸브를 통해 주입된 가스의 공급량을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include the step of supplying gas to the gas supply unit and purging the gas supply unit, and adjusting the supply amount of the gas injected through the second valve at the gauge of the gas supply unit.
또한, 가스를 공급하는 단계에서, 가스는 질소를 주입할 수 있으며, 가스 공급부의 게이지를 조절하는 단계에서 가스의 주입시 압력이 3 내지 5㎏/㎠인 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, in the step of supplying the gas, the gas may be injected with nitrogen, and in the step of adjusting the gauge of the gas supplying part, the pressure when injecting the gas may be 3 to 5 kg / cm 2.
또한, 액체를 공급하는 단계에서, 액체는 세정력 있는 솔벤트를 선택적으로 주입할 수 있으며, 세정력 있는 솔벤트를 주입시 혼합물 챔버의 10~60%의 용량을 주입하여 상기 혼합물 챔버가 데드 볼륨으로 유지될 수 있는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, in the step of supplying the liquid, the liquid can selectively inject the cleaning solvent, and when the cleaning solvent is injected, a capacity of 10 to 60% of the mixture chamber is injected so that the mixture chamber can be maintained at the dead volume And the like.
또한, 제 1밸브 내지 제 5밸브는 각각 독립적으로 제어될 수 있다.Further, the first to fifth valves may be independently controlled.
기타 실시 예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.
본 발명에 따른 메디아 제거 장치 및 방법에 의하면, 입자유동가공기로 가공한 경면에 메디아 제거시 적절한 압력으로 세정액과 질소를 분사하여, 소용돌이 현상에 따른 스크레치가 발생하는 종래의 메디아 제거방법의 문제점을 해결할 수 있다.According to the median removing apparatus and method according to the present invention, when the median is removed from the specular surface processed by the particle flow processor, the cleaning liquid and nitrogen are sprayed with a proper pressure to solve the problem of the conventional median removing method in which scratches are generated by the swirl phenomenon .
또한, 본 발명에 따른 불순물 제거 장치 및 방법에 의하면, 메디아 제거 과정에 공기와 수분을 차단하여 내부의 경면 연마한 상태를 유지할 수 있고, 추가 연마 공정이 필요하지 않으며, 이에 따른 공정 효율과 제조비용의 절감이 기대된다.In addition, according to the apparatus and method for removing impurities according to the present invention, it is possible to maintain the internal polished state by intercepting air and moisture during the media removal process, and further polishing process is not necessary, Is expected to be saved.
도 1은 종래 기술과 본 발명으로 메디아 제거시 차이점을 나타낸 것이다.
도 2는 본 실시예에 따른 메디아 제거 장치의 사시도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 메디아 제거 장치의 단면도이다.
도 4는 본 실시예에 따른 혼합물 챔버의 부분 단면도이다.
도 5는 본 실시예에 따른 추가적으로 프레임이 결합된 메디아 제거 장치의 단면도이다.
도 6은 본 실시예에 따른 메디아 제거 방법을 도시한 순서도이다.FIG. 1 shows the differences between the prior art and the present invention when media are removed.
2 is a perspective view of the median removing apparatus according to the present embodiment.
3 is a cross-sectional view of the median eliminating apparatus according to the present embodiment.
4 is a partial cross-sectional view of a mixing chamber according to this embodiment.
FIG. 5 is a cross-sectional view of an additional frame-coupled media removal device according to this embodiment.
6 is a flowchart showing a media removal method according to the present embodiment.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 메디아 제거 장치 및 방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 그러나 본 실시예의 이하에서 개시되는 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an apparatus and method for removing media according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the terminology or words of the present disclosure should not be construed as limited to conventional or preliminary, and that the inventor may properly define the concept of a term to describe its invention in its best possible manner And should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어서 이를 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 메디아 제거 장치(100)를 사용하여 입자유동가공 처리된 금속 용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 경우에 있어 종래 발명과의 차이점을 나타낸 것이다.1 is a view showing a difference from the prior art in the case of removing media remaining on the inner surface of a metal container subjected to particle flow processing using the median removing
도 1-1에서 살펴보면 잔류물인 메디아 입자들은 연마제가 포함되어 있어서 에어를 불어넣게 되면 용기 내부에서 자유롭게 이동하게 되고 이에 따라 내부 벽면을 긁거나 부딪치게 되어 용기의 손상을 발생하게 되지만, 도 1-2의 경우에는 세정에 주입되는 물질에 알코올이 첨가되어 액체 유동에 따라 용기의 내면이 보호되면서 잔류 메디아가 제거된다. 즉, 연마제 주위에 알코올이 감싸면서 연마제의 거친 부분이 직접 용기의 내면에 닿지 않아 손상을 최소화할 수 있으며 종래기술보다 더 약한 세기로 잔류 연마제가 용기 외부로 방출된다. 따라서, 종래 기술과 달리 본 발명은 용기 내면의 메디아가 소용돌이 효과를 일으키지 않기 때문에 표면의 스크레치 발생을 일으키지 않아 깨끗한 용기를 얻을 수 있게 된다.As shown in FIG. 1-1, when the air particles are contained in the abrasive media, the media particles move freely inside the container, thereby scratching or impacting the inner wall surface, In this case, alcohol is added to the material to be injected into the cleaning so that the inner surface of the container is protected according to the liquid flow, and the residual mediare is removed. That is, since the alcohol is wrapped around the abrasive, the rough portion of the abrasive does not directly touch the inner surface of the vessel, so that the damage can be minimized and the residual abrasive is discharged to the outside of the vessel at a lower strength than in the prior art. Therefore, unlike the prior art, the present invention does not cause the swirling effect of the media on the inner surface of the container, so that a clean container can be obtained without causing scratches on the surface.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 메디아 제거 장치(100)을 도시한 개략적 사시도이고 도 3는 본 발명의 단면도이다.FIG. 2 is a schematic perspective view showing a
도 2 및 도 3에 제시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 메디아 제거 장치(100)의 하부에는 분사부(170)이 배치된다. 그리고 메디아의 제거가 필요한 용기(미도시)를 분사구(175)에 연결한다.As shown in FIGS. 2 and 3, a
메디아는 점탄성 폴리머와 연마입자의 혼합물로서 기계가공이나 화학적 연마로 가공이 어려운 기하학적 형상의 용기의 내경연마에 사용되는 물질로서, 가공된 용기가 사용되기 위해선 용기를 연마한 후에 용기 내부에 남아 있는 메디아를 제거하여야 한다. 다만, 여기서 용기의 종류는 한정되지 않고 입자유동가공기에 따라 가공 처리된 다양한 형상의 용기가 메디아 제거 장치(100)로 세척이 가능하다.Media is a mixture of viscoelastic polymer and abrasive particles, which is used for polishing the inside diameter of a geometrically shaped container that is difficult to machine or chemically polish. In order to use the processed container, the media remaining in the container after polishing the container Should be removed. However, the type of the container is not limited to this, and various shapes of containers that have been processed according to the particle flow processor can be cleaned by the
본 실시예에 따른 메디아 제거 장치(100)는 혼합물이 형성될 수 있도록 공간을 제공하는 혼합물 챔버(110), 혼합물 챔버(110)에 구비되어 가스를 공급하는 가스 공급부(120), 혼합물 챔버(110)의 상단에 구비되고 액체를 주입하는 액체 공급부(130), 혼합물 챔버(110)의 하단에 형성되어 액체 및 가스를 배출하는 배기부(150) 및 배기부(150) 하단에 형성되어 액체를 분사할 수 있는 분사부(170)로 구성될 수 있다. 각각의 구성요소들은 서로 공간적으로 분리되어 있지만 밸브의 조절을 통해서 각 연결부위로 상호간의 물질의 교류가 가능하다.The median removing
도 4는 혼합물 챔버(110)를 구성하는 덮개부(111)와 몸체부(112)를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing the
이하에서는 도 2 내지 도 4를 참조하여, 메디아 제거 장치의 이러한 구성에 대하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, this configuration of the median elimination apparatus will be described in more detail with reference to FIG. 2 to FIG.
혼합물 챔버(110)는 가스 공급부(120), 액체 공급부(130) 및 배기부(150)를 연결하는 역할을 하며 이들 사이에 구비된다. 도 4에 따라 혼합물 챔버(110)은 크게 덮개부(111)와 몸체부(112)로 구성된다.The
덮개부(111)에는 가스 공급부(120)와 액체 공급부(130)가 연결되어 각 가스 및 액체가 주입되거나 배출될 수 있는 연결구가 마련될 수 있다. 몸체부(112)에 각 액체나 가스가 주입되고 혼합되거나 분리되어 있는 경우에 덮개부(111)는 액체가 외부로 흐르거나 가스가 공기 중으로 날라가지 않게 밀봉하는 역할을 할 수 있다.The
덮개부(111)와 몸체부(112) 사이에는 결합부위의 단차가 생길 수 있게 구성하거나 오링을 배치하여 밀봉할 수 있으며 이로 인해 혼합물 챔버(110)의 내부의 압력을 유지하고 외부에서 유입될 수 있는 산소를 차단하는 역할을 할 수 있다.The
몸체부(112)는 전체 기기가 고정되어 흔들림 없이 세정역할을 수행할 수 있도록 프레임(190)(도 5참조)과 연결될 수 있다. 따라서 몸체부(112) 외측에는 고정 가능한 홈이 형성되어 있는 연결단(115)을 배치하여 프레임(190)에 의해 지지될 수 있게 하고 이에 따라 메디아 제거 장치(100) 전체를 고정할 수 있다. 또한 덮개부(111)와 마찬가지로 몸체부(112) 하부에 액체 공급부(130)로 주입된 액체가 흘러 배기부(150)로 나갈 수 있도록 몸체부(112)와 배기부(150)를 연결하는 연결구가 마련될 수 있다. 몸체부(112) 하단은 굴곡을 형성하여 혼합물 챔버(110)로 유입된 물질이 자연스럽게 하부로 안내되도록 형성할 수 있다. The
가스 공급부(120)는 혼합물 챔버(110)의 상측 덮개부(111)에 고정되게 설치된다. 따라서, 덮개부의 연결구에 가스가 새어나가지 않도록 밀봉되게 설치되어 혼합물 챔버(110) 내부로 메디아 제거를 위한 가스를 주입하게 된다. The
가스 공급부(120)의 양 끝은 가스가 공급되는 부위와 혼합물 챔버(110)에 연결되는 부위인 가스 연결부로 구성되며 가스 공급부(120) 중간에는 혼합물 챔버(110)로 들어가는 가스량을 측정할 수 있는 가스 게이지(121)가 설치될 수 있다. 또한, 가스 게이지(121)를 통해 적절한 양의 가스가 주입될 수 있도록 가스량을 조절할 수 있는 제 2밸브(123)가 구비될 수 있다.Both ends of the
가스 공급부(120)에 공급되는 가스의 압력은 3 내지 5㎏/㎠로 하는 것이 바람직하며 이는 가스 게이지(121)를 통해 지나가는 가스의 압력을 측정하면서 제 2밸브(123)를 통하여 조절할 수 있다.The pressure of the gas supplied to the
가스 공급부(120)는 가스가 주입되는 장소에 따라 상황에 맞춰서 길이를 조절하여 설치될 수 있다. 가스의 종류로는 불활성 가스가 사용되며 바람직하게는 질소가 사용될 수 있다. 이러한 가스를 혼합물 챔버(110) 내에 넣고 퍼지하면 산소를 제거할 수 있다. 또한 이러한 가스는 수분을 함유하지 않기 때문에 다른 화학 반응이 일어나는 것을 막을 수 있다. 가스 공급부(120)에 들어가는 불활성 가스의 예로 헬륨, 아르곤, 네온 및 질소 등을 사용할 수 있다. The
구체적으로 가스 공급부(120)로 주입되는 이러한 불활성 가스의 경우 반응성이 상대적으로 매우 낮아 다른 물질과 화학 반응을 일으키기 어렵기 때문에 이를 이용하여 공기를 차단할 수 있다. 또한, 가연성 가스, 증기 및 산소들이 접촉해서 화학반응을 일으킬 수 있는 기회를 주기 않아 혼합물 챔버(110) 내에서 또는 메디아를 제거하기 위한 용기에서 안전하게 사용할 수 있게 된다.Specifically, in the case of such an inert gas injected into the
혼합물 챔버(110)의 덮개부(111)에는 혼합물 챔버(110) 내부로 액체를 주입할 수 있는 액체 공급부(130)가 구비된다. 여기서, 액체 공급부(130)의 양 끝에는 액체를 주입할 수 있는 주입구와 혼합물 챔버(110)의 덮개부(111)에 배치된 연결구와 연결 가능한 액체 연결부로 구성될 수 있다. 또한, 액체의 양을 조절할 수 있는 제 1밸브(131)를 포함하여 구성될 수 있다.The
액체 공급부(130)는 메디아 제거 단계에서 처음으로 주입되는 세정액을 혼합물 챔버(110)로 주입하는 역할 및 세정액의 양을 조절하는 역할을 한다.The
여기서 사용되는 액체의 경우, 입자유동가공기를 거쳐 가공 처리된 용기의 내부에 남아있는 잔류 메디아를 제거하기 위한 주 구성성분으로 바람직하게는 알코올이 사용될 수 있다. 그 이외에도 주입되는 액체는 산소를 포함하지 않는 세정력이 있는 여러 종류의 솔벤트를 사용할 수 있다. 세정 솔벤트는 솔벤트 중 용존 산소가 포함되지 않으면서 소독작용이 가능한 액체를 말하며 예를 들어, 톨루엔 및 글리콜 에테르와 같은 알코올 등을 들 수 있다.In the case of the liquid used here, an alcohol may be preferably used as a main component for removing residual media remaining in the interior of the processed vessel through the particle flow processor. In addition, the injected liquid can use various kinds of cleaning solvents that do not contain oxygen. The cleaning solvent refers to a liquid that does not contain dissolved oxygen in the solvent and can be sterilized, and includes, for example, alcohols such as toluene and glycol ethers.
액체 공급부(130)를 통해 혼합물 챔버(110) 내로 세정하기 위한 액체를 주입시 혼합물 챔버(110)의 10~60%의 용량을 주입하여 혼합물 챔버(110)가 데드 볼륨으로 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 데드 볼륨이란 혼합물 챔버(110) 내에 유체의 체류가 가능한 공간을 가질 수 있도록 하는 것이며 이를 통해 액체가 제 3밸브(151)를 통해 흘러내릴 수 있게 하는 것이 가능하다.Injecting a volume of 10 to 60% of the
기존의 경우에 메디아 제거가 필요한 용기 안에 공기를 분사하는 방식으로 세척하였기 때문에 메디아가 용기 내를 떠돌아 다니면서 스크레치가 발생되었지만 본 발명의 경우에 용기 내부에 액체를 불어 넣어 메디아를 제거하기 때문에 기존의 공기를 주입하는 것과 달리 유체의 성질에 따라 소용돌이 효과가 일어나지 않아 용기 내부에 스크레치의 발생을 거의 일으키지 않을 수 있다. 즉, 액체가 분사되어 용기를 세척하면서 용기 내면과 메디아사이에 일정한 간격을 형성하게 되어 잔류 메디아가 용기 내면에 직접적으로 부딪히는 것을 방지할 수 있어 내면을 상하지 않게 할 수 있다. 동시에, 알코올과 같은 세정 솔벤트의 경우에 용존 산소가 포함되지 않아 산화 반응을 거의 일으키지 않기 때문에 용기 내부에 산화물 발생을 억제하는 효과도 발생한다. 결국 용기가 산화적으로 부식되는 현상을 방지하여 상기와 같이 세정 처리된 용기의 경우 깨끗한 표면을 지속적으로 유지할 수 있는 효과가 발생하게 된다.In the conventional case, since the mediator is washed by spraying air into the container requiring the removal of the mediator, the mediator wipes the inside of the container and scratches. However, in the present invention, since the medium is removed by blowing the liquid into the container, The swirling effect does not occur depending on the nature of the fluid, so that the occurrence of scratches in the container may hardly occur. That is, since the liquid is sprayed and the container is washed, the interval between the inner surface of the container and the median is formed to prevent the remaining median from directly bumping into the inner surface of the container, so that the inner surface can be prevented from being damaged. At the same time, in the case of a cleaning solvent such as an alcohol, dissolved oxygen is not contained and almost no oxidation reaction occurs. As a result, it is possible to prevent the container from being oxidatively corroded and to maintain the clean surface continuously in the case of the cleaned container.
한편, 배기부(150)는 혼합물 챔버(110)의 하측에 설치되어 혼합물 챔버(110) 내에 있던 액체 또는 가스를 외부로 배출할 수 있는 연결 통로 역할을 제공한다.The
배기부(150)는 혼합물 챔버(110)의 몸체부(112) 하측에 배치된 연결구와 결합하도록 배기 연결부로 구성될 수 있으며 혼합물 챔버(110) 외부로 나갈 수 있는 액체 또는 가스의 양을 조절할 수 있는 제 3밸브(151)가 구비될 수 있다. 또한, 배기부(150)의 다른 측에는 분사부(170)와 연결될 수 있으며 그 사이에 가스 또는 액체의 누설이 발생하는 것을 방지하고 심한 변형이나 힘을 받지 않도록 벨로우즈(153)를 포함하여 구성할 수 있다.The
분사부(170)는 배기부(150)와 연결되고 액체를 분사하여 입자유동가공 후 금속용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 역할을 할 수 있도록 구성할 수 있다. The jetting
분사부(170)는 상기처럼 배기부(150)와 벨로우즈(153)를 통해 연결될 수 있으며 분사부(170)에도 분사되는 물질의 양을 조절할 수 있도록 제 4 및 5밸브(171, 173)를 포함하여 구성할 수 있다. 여기서, 제 4밸브(171)를 조절하여 하단에 남아있는 공기를 제거하는 사전 역할을 할 수 있어 이후 분사부(170)에서 순수한 세정액을 분사할 수 있다. 그리고 제 5밸브(173)를 통해 분사부(170)은 상기 밸브를 통해 분사되는 가스 또는 액체의 양을 조절하거나 분사의 세기를 각각 조절하는 경우에 분사압은 용기 내에 있는 잔류 메디아가 씻겨 나가 용기 외부로 방출될 수 있도록 적절한 강도를 조절하여 분사토록 하여야 한다.The
또한 분사의 세기는 잔류 메디아를 제거하는 필수적인 부분으로서 분사부(170) 내에 실시간으로 압력의 양을 확인할 수 있도록 게이지(미도시)를 포함하여 구성할 수 있다.In addition, the intensity of the jet can be configured to include a gauge (not shown) so that the amount of pressure can be confirmed in real time within the
따라서 분사부(170)로 세정액을 분사시, 혼합물 챔버(110) 하단의 제 5밸브(173)를 통해 압력을 상대적으로 높게 조절한 상태에서 용기 내로 정저압의 알코올을 분사하여 메디아를 제거하는 것이 바람직하다. Accordingly, when the rinse liquid is sprayed to the
그리고 순수한 세정액을 분사하기 위해서 내부에 남아있는 공기를 제 4밸브(171)를 조절하여 외부로 내보내는 공정을 수행하거나 내부 수분 등을 외부로 내보내기 위해 수분 등이 다 외부로 빠져나온 후 혼합물 챔버(110)에 있는 세정액이 조금씩 흘러나올 수 있도록 제 5밸브(173)를 조절하는 공정을 선행할 수 있다.In order to spray the pure cleaning liquid, the air remaining in the inside is adjusted by the
상기에 개시된 제 1밸브 내지 제 5밸브는 각각 독립적으로 제어될 수 있으므로 각각의 가스나 액체의 량을 적절하게 중간 중간 선택적으로 조절할 수 있다.Since the first to fifth valves described above can be controlled independently of each other, the amount of each gas or liquid can appropriately be adjusted to the middle, middle, or selectively.
도 5에 도시된 바에 따라, 메디아를 제거하기 위한 구성요소들을 안정하게 지지할 수 있는 프레임(190)을 더 포함하여 구성할 수 있다.As shown in FIG. 5, it may further comprise a
본 실시예에 따라 혼합물 챔버(110)의 몸체부(112) 외측면에 구비된 연결단(115)을 프레임(190)의 상단에 거치 시킨 후에 결합시킬 수 있다. 이에 따라 혼합물 챔버(110)을 지지하여 메디아 제거 장치(100)가 안정된 상태로 내경 연마된 용기를 세정할 수 있도록 한다. 또한, 분사부(170)도 프레임(190)에 고정하도록 하여 분사압에 의한 흔들림을 방지할 수도 있다. 프레임(190)을 고정시키는 방법은 상기에 제시된 것에 한정된 것은 아니며 혼합물 챔버(110) 및 각 구성요소의 다양한 위치에 고정시켜 지지하는 하는 것도 가능하다.The
도 6는 본 실시예에 따른 메디어 제거 방법을 도시한 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a method of removing a medium according to the present embodiment.
이하에서는 본 실시예에 따른 메디아 제거 방법에 대해 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, the media removal method according to the present embodiment will be described in detail.
우선, 잔류 메디아가 남아있어 이를 제거할 필요가 있는 용기를 메디아 제거 장치(100) 하단의 분사구(175)와 연결하는 단계(S10)를 수행한다. 이는 우선적으로 해야 하는 필수적인 단계는 아니지만 용기를 우선 고정시키고 다음의 단계를 수행하는 것이 바람직하다. 다만, 여러 단계를 수행하는 내용에 따라 용기를 분사부(170)에 연결하는 순서는 다양하게 변경하여 실시할 수 있을 것이다.First, a step (S10) of connecting the container, which is required to remove the residual medium, to the
메디아 잔류물의 제거가 필요한 용기를 분사구(175)에 고정시킨 후에, 액체 공급부(130)에서 세정액을 공급하는 단계(S20)를 수행할 수 있다. 이때 배기부(150) 하단과 벨로우즈(153) 상단에 위치한 제 3밸브(151)를 잠그는 과정을 미리 수행하여 혼합물 챔버(110)내로 들어온 세정액이 바로 배출되지 않도록 하는 것이 바람직하고, 액체 공급부(130)의 제 1밸브(131)를 열고 세정액을 주입하는 단계를 수행할 수 있다. After the container requiring the removal of the mediast residues is fixed to the
주입되는 세정액은 용존 산소를 포함하지 않는 세정 솔벤트를 사용할 수 있다. 세정 솔벤트는 솔벤트 중 용존 산소가 포함되지 않으면서 소독작용이 가능한 액체를 말하며 예를 들어, 톨루엔 및 글리콜 에테르와 같은 알코올 등을 들 수 있다. 상기 주입되는 세정 솔벤트 중에 선택적으로 혼합물 챔버(110)에 주입할 수 있다. 상기와 같은 액체를 주입하는 경우에 혼합물 챔버(110)의 10~60%의 용량을 주입하여 혼합물 챔버(110)가 데드 볼륨으로 유지될 수 있도록 한다. 이는 액체가 배기부(150)로 잘 흘러들러갈 수 있도록 하기 위함이다.The cleaning liquid to be injected may be a cleaning solvent that does not contain dissolved oxygen. The cleaning solvent refers to a liquid that does not contain dissolved oxygen in the solvent and can be sterilized, and includes, for example, alcohols such as toluene and glycol ethers. And may be selectively injected into the
그리고, 혼합물 챔버(110) 내로 가스 공급부(120)을 통해 가스를 공급하는 단계(S30)를 진행한다. 이 단계에서 가스 공급부(120)에 가스를 공급하여 퍼징하고, 가스 공급량을 조절하는 단계를 더 수행할 수 있다.Then, the process of supplying gas through the
구체적으로, 가스 공급부(120)의 제 2밸브(123)를 열고 가스를 주입하고 퍼징하는 단계가 진행되고, 이후에 액체 공급부의 제 1밸브(131)를 잠그고 가스 공급부(120)의 가스 게이지(121)를 통해 가스의 공급량을 조절하는 단계를 수행할 수 있다.More specifically, the step of opening the
가스를 공급하는 단계에서, 가스는 불활성 가스 중 어느 하나를 선택할 수 있으며 바람직하게는 질소를 사용하여 퍼지하는 방법을 들 수 있다. 다른 물질과 반응성이 거의 없는 불활성 가스를 이용하여 혼합물 챔버(110) 내부를 퍼지함에 따라 혼합물 챔버(110) 내부 및 메디아 제거가 필요한 용기내로 수분이나 산소를 포함되지 않도록 할 수 있기 때문에 이러한 불활성 가스는 산화물의 발생에 따라 생기는 용기 내부의 손상을 억제하는 용도로 주로 사용된다.In the step of supplying the gas, the gas may be any one of inert gas, and preferably, nitrogen is used for purging. Since inert gas having little reactivity with other substances can be used to purge the interior of the
그리고, 혼합물 챔버(110)의 하단에 형성된 배기부(150)를 통해 액체 공급부(130)와 가스 공급부(120)를 통해 주입된 액체 및 가스를 배출하는 단계(S40)를 진행할 수 있다.Then, the liquid and gas injected through the
액체가 배기부(150)에서 분사부(170)로 진행하게 한 후, 분사부(170)의 밸브 열어 액체를 조금씩 흘러내리게 하는 단계를 수행할 수 있다. 여기서 흘러내리는 액체는 상기의 세정 솔벤트이고 궁극적으로 용기 내에 있는 잔류 메디아를 씻어내기 위한 구성성분에 해당한다.The liquid may flow from the
이후, 순수한 액체가 흘러내리는 것을 확인한 후 세척액을 분사하여 메디아를 제거하는 단계(S50)가 진행된다.After confirming that the pure liquid flows down, a step S50 is performed in which the mediator is removed by spraying the cleaning liquid.
배기부(150)와 분사부(170)의 공정 과정을 구체적으로 살펴보면, 우선 배기부(150) 하단과 벨로우즈 상단에 위치한 제 3밸브(151)를 조금 열고 세정액을 하단 라인에 채우기 위해 우측에 배치된 제 4 및 5밸브(171, 173)를 열 수 있다. 이후, 제 4밸브(171)를 조절하여 하단 라인에 남아있는 공기를 제거하는 공정을 거친다. 하단 라인에 공기가 제거되면 제 4밸브(171)를 잠그는 과정이 이루어 질 수 있다. 즉 제 4밸브(171)는 하단의 공기를 제거하기 위한 주목적으로 사용된다. 그리고 배기부(150)의 제 3밸브(151)를 열리게 한 상태에서, 메디아 제거 장치(100) 내부에 남아있던 수분 등과 같은 이물질이 세정액에 의해 밀려나와 전부 외부로 흘러나오게 하여야 한다. 이후 세정액이 외부로 조금씩 흐르는 것을 확인하면 분사부(170)의 제 5밸브(173)를 조절하여 정저압의 액체를 입자유동가공 후 금속용기 내면에 분사하여 잔류하는 메디아를 제거하는 과정을 수행할 수 있다.The
메디아 제거과정에 있어서, 비중 차이에 의해 세정액과 가스(바람직하게는 알코올과 질소) 중 먼저 세정액이 메디아 잔류물을 밀어내고 그 이후 가스는 경면 연마한 용기 내 잔류하는 세정액를 불어내고 건조하는 역할을 수행하게 된다. 이 공정에서 사용되는 세정액 및 가스는 산소나 용존 산소가 없어서 산화를 방지할 수 있는 장점이 있다.In the media removal process, the cleaning liquid and the gas (preferably alcohol and nitrogen) among the cleaning liquid and the gas first push out the median residue due to the specific gravity difference, and then the gas blows and dries the remaining cleaning liquid in the mirror polished container . The cleaning liquid and gas used in this process are advantageous in that they are free from oxygen and dissolved oxygen and thus can prevent oxidation.
이와 같은 전 공정에 따라 혼합물 챔버 내부에 있는 세정액 및 가스를 외부로 분사시킴으로서 하나의 세정공정이 마무리 하게 된다.According to this preliminary process, one cleaning process is completed by ejecting the cleaning liquid and gas inside the mixture chamber to the outside.
상기에 기재된 제 1밸브 내지 제 5밸브는 각각 독립적으로 제어될 수 있어 각각의 가스나 액체의 량을 적절하게 조절할 수 있다.The first to fifth valves described above can be controlled independently of each other, so that the amount of each gas or liquid can be appropriately adjusted.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징들이 변경되지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것으로 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, . Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.
100 : 메디아 제거 장치 110 : 혼합물 챔버
120 : 가스 공급부 130 : 액체 공급부
150 : 배기부 170 : 분사부
190 : 프레임 제 1밸브 : 131
제 2밸브 : 123 제 3밸브 : 151
제 4밸브 : 171 제 5밸브 : 173100: Median removing device 110: Mixing chamber
120: gas supply unit 130: liquid supply unit
150: exhaust part 170:
190: frame first valve: 131
Second valve: 123 Third valve: 151
Fourth valve: 171 fifth valve: 173
Claims (13)
상기 혼합물 챔버에 퍼징하기 위한 가스를 공급하는 가스 공급부;
상기 혼합물 챔버에 연결되고 세정액을 상기 혼합물 챔버에 주입하는 액체 공급부;
상기 혼합물 챔버의 하단에 형성되어 액체 및 가스를 배출하는 배기부; 및
상기 배기부와 연결되고, 액체 및 가스를 분사하여 입자유동가공 처리된 금속용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 분사부를 포함하는 메디아 제거 장치.A mixture chamber;
A gas supply unit for supplying a gas for purging the mixture chamber;
A liquid supply connected to the mixture chamber and injecting a cleaning liquid into the mixture chamber;
An exhaust unit formed at a lower end of the mixture chamber to discharge liquid and gas; And
And a jetting portion connected to the discharge portion and jetting the liquid and the gas to remove the remaining media on the inner surface of the metal container processed by the particle flow processing.
상기 가스 공급부에 의해 상기 혼합물 챔버로 질소를 주입하는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치.The method according to claim 1,
And nitrogen is injected into the mixture chamber by the gas supply unit.
상기 액체 공급부에 의해 상기 혼합물 챔버로 세정력 있는 솔벤트를 선택적으로 주입하는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치.The method according to claim 1,
And selectively injecting the cleaning solvent into the mixing chamber by the liquid supply unit.
상기 액체 공급부에 구비되어 상기 혼합물 챔버 내로 주입되는 액체의 양을 조절하는 제 1밸브; 및
상기 가스 공급부에 구비되어 상기 혼합물 챔버 내로 주입되는 가스의 양을 조절하는 제 2밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치.The method according to claim 1,
A first valve provided in the liquid supply portion to adjust an amount of liquid injected into the mixture chamber; And
Further comprising a second valve disposed in the gas supply unit to adjust an amount of gas injected into the mixture chamber.
상기 배기부 및 상기 분사부 사이에 구비되어 액체 및 가스가 상기 분사부로 배출되는 양을 조절할 수 있는 제 3밸브; 및
상기 분사부에 구비되어 액체 및 가스의 분사의 양 및 세기를 조절할 수 있는 제 4 및 5밸브를 더 포함하며,
상기 제 1밸브 내지 상기 5밸브는 각각 독립적으로 제어가 되는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치.5. The method of claim 4,
A third valve disposed between the exhaust part and the jet part to adjust the amount of liquid and gas discharged to the jet part; And
Further comprising fourth and fifth valves provided in the jetting section, the fourth and fifth valves being capable of adjusting the amount and intensity of jetting of liquid and gas,
Wherein the first valve and the five valves are controlled independently of each other.
상기 가스 공급부 양 끝단에는 외부 가스가 유입되거나 상기 혼합물 챔버 내로 유입되는 가스를 공급하는 연결부를 구비하고,
상기 가스 공급부 중단에는 공급되는 가스를 측정하는 게이지가 구비되어 상기 혼합물 챔버에 주입되는 가스의 양을 확인할 수 있는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치. 6. The method of claim 5,
And both ends of the gas supply part are provided with a connection part for supplying a gas into which the external gas flows or which flows into the mixture chamber,
Wherein a gas gauge for measuring a gas to be supplied is provided at the gas supply unit stop, so that the amount of gas injected into the mixture chamber can be confirmed.
상기 분사부의 일단에는 상기 배기부와 벨로우즈를 통해 액체 및 가스가 들어오는 연결부가 구비되고, 타단에는 액체 및 가스가 외부로 분사될 수 있는 분사구가 구비되며;
상기 분사부 중단에는 공급되는 액체를 측정하는 분사 게이지가 구비되어 분사되는 액체의 양을 확인할 수 있는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 장치. The method according to claim 6,
A connection portion through which the liquid and the gas are introduced through the exhaust portion and the bellows is provided at one end of the injection portion and an injection port through which liquid and gas are injected to the outside is provided at the other end;
Wherein the jetting unit is provided with a jetting gauge for measuring the amount of liquid to be jetted, so that the amount of jetted liquid can be confirmed.
상기 혼합물 챔버의 하측에 설치되어 상기 혼합물 챔버를 지지하는 프레임을 더 포함하는 메디아 제거 장치.The method according to claim 1,
And a frame installed below the mixture chamber and supporting the mixture chamber.
가스 공급부를 통해 상기 혼합물 챔버 내로 가스를 공급하는 단계;
상기 혼합물 챔버의 하단에 형성된 배기부를 통해 액체 및 가스를 배출하는 단계;
상기 배기부와 연결된 분사부를 통해 액체 및 가스를 분사하여 입자유동가공 후 금속용기 내면에 잔류하는 메디아를 제거하는 단계를 포함하는 메디아 제거 방법.Injecting a cleaning liquid into the mixing chamber through a liquid supply connected to the mixing chamber;
Supplying gas into the mixing chamber through a gas supply;
Discharging liquid and gas through an exhaust part formed at a lower end of the mixture chamber;
And spraying the liquid and the gas through the spraying part connected to the discharge part to remove the media remaining on the inner surface of the metal container after the particle flow processing.
상기 메디아 제거 장치 하단의 상기 분사구에 메디아의 제거가 필요한 용기를 연결하는 단계를 더 포함하는 메디아 제거 방법.10. The method of claim 9, further comprising:
Further comprising the step of connecting a container requiring removal of the medium to the injection port at the lower end of the median removing device.
상기 가스 공급부에 가스를 공급하여 퍼징하고,
상기 가스 공급부의 게이지를 확인하며 제 2밸브로 주입된 가스의 공급량을 조절하는 단계를 더 포함하며,
가스는 질소를 주입할 수 있는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 방법.9. The method of claim 9, wherein in the step of supplying the gas
Supplying gas to the gas supply unit and purging the gas,
Further comprising the steps of: determining a gauge of the gas supply and adjusting the supply of gas injected into the second valve,
Wherein the gas is capable of injecting nitrogen.
가스의 주입 압력이 3 내지 5㎏/㎠인 것을 특징으로 하는 메디아 제거 방법.11. The method of claim 11, wherein the step of adjusting the gauge of the gas supply
Wherein the gas injection pressure is 3 to 5 kg / cm < 2 >.
액체는 세정력 있는 솔벤트를 선택적으로 주입할 수 있으며, 상기 세정력 있는 솔벤트를 주입시 상기 혼합물 챔버 내에 10~60%의 용량을 주입하여 상기 혼합물 챔버가 데드 볼륨으로 유지될 수 있고,
제 1밸브 내지 제 5밸브는 각각 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 메디아 제거 방법.9. The method of claim 9, wherein in the step of supplying the liquid
The liquid may selectively inject a cleaning solvent, and when the cleaning solvent is injected, the mixture chamber may be maintained at a dead volume by injecting a volume of 10-60% in the mixture chamber,
Wherein the first to fifth valves are independently controlled.
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