KR20110080857A - Unit for transferring a substrate and apparatus for processing a substrate including the same - Google Patents

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KR20110080857A
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Abstract

PURPOSE: A unit for transferring a substrate and an apparatus for processing a substrate including the same are provided to suppress the contamination of a substrate due to a pollution source in a post process by cleaning a blade. CONSTITUTION: In a unit for transferring a substrate and an apparatus for processing a substrate including the same, a blade(110) supports a substrate while the substrate is wetted by a liquid medicine A cover unit(120) surrounds a blade and blocks the liquid medicine which is dispersed from the substrate. A first driving unit is connected to a blade and loads/unloads the substrate.

Description

기판 이송 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{Unit for transferring a substrate and apparatus for processing a substrate including the same}Substrate transfer unit and substrate processing apparatus including the same {Unit for transferring a substrate and apparatus for processing a substrate including the same}

본 발명은 기판 이송 유닛 및 기판 이송 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 기판의 젖음 상태를 유지하면서 기판을 이송하는 기판 이송 유닛 및 상기 기판 이송 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus including a substrate transfer unit and a substrate transfer unit. More specifically, the present invention relates to a substrate transfer unit for transferring a substrate while keeping the substrate wet and a substrate processing apparatus including the substrate transfer unit.

일반적으로 식각액을 이용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 식각 공정, 세정액을 이용하여 기판 상에 잔류하는 불순물을 제거하는 세정 공정 등에서 사용된 세정액 등과 같은 약액으로 처리된 기판에 이소프로필알코올(IPA)과 질소(N2)와의 혼합가스를 제공하여 기판을 건조한다. 그러나, 기판 상에 형성된 패턴이 미세화됨에 따라, 상기 기판 건조시 상기 패턴 사이의 약액을 건조하기가 어렵다. 따라서, 상기 패턴 사이의 약액을 효과적으로 건조하기 위해 초임계 유체를 이용한 건조 기술이 제안된다. 상기 초임계 유체를 이용한 건조 기술은 약액 처리된 기판을 압력 용기 내에 반입하고, 액체 이산화탄소를 장치 내에 도입하여 기판 표면의 약액을 치환하고, 압력을 상승시켜 액체 이산화탄소를 초임계 상태로 상변화시켜서 초임계 건조 처리를 진행한 후 감압한다.In general, isopropyl alcohol (IPA) and the like on a substrate treated with a chemical liquid, such as an etching process for forming a pattern on the substrate using an etching solution, a cleaning process for removing impurities remaining on the substrate using the cleaning solution, and the like. The substrate is dried by providing a mixed gas with nitrogen (N 2). However, as the pattern formed on the substrate becomes finer, it is difficult to dry the chemical liquid between the patterns when the substrate is dried. Therefore, a drying technique using a supercritical fluid for effectively drying the chemical liquid between the patterns is proposed. In the drying technique using the supercritical fluid, the chemically treated substrate is introduced into a pressure vessel, the liquid carbon dioxide is introduced into the device to replace the chemical liquid on the substrate surface, and the pressure is increased to change the liquid carbon dioxide into a supercritical state. After the critical drying process is performed, the pressure is reduced.

이때, 기판을 압력 용기 내에 이송하는 이송 도중 또는 상기 초임계 유체로 기판을 건조하기 전 상기 약액이 자연 건조될 경우 기판 상에 형성된 패턴이 기울어지는 리닝 현상이나, 기판 상에 얼룩이 발생할 수 있다. 따라서, 상기 건조 공정을 진행하기 직전까지 상기 기판을 젖음 상태로 유지할 필요가 있다. 상기 기판 상에 잔류하는 약액이 기판 반송 중 비산하여 기판 이송 유닛의 불량을 야기하는 문제가 발생할 수 있다.In this case, during the transfer of the substrate into the pressure vessel or when the chemical liquid is naturally dried before the substrate is dried with the supercritical fluid, a lining phenomenon in which the pattern formed on the substrate is inclined may be inclined, or stain may occur on the substrate. Therefore, it is necessary to keep the substrate in the wet state until just before the drying process. A problem may occur that the chemical liquid remaining on the substrate is scattered during substrate transfer and causes a defect of the substrate transfer unit.

본 발명은 기판 이송 중 기판으로부터 비산하는 약액을 차단할 수 있는 기판 이송 유닛을 제공한다.The present invention provides a substrate transfer unit capable of blocking the chemical liquid scattering from the substrate during substrate transfer.

본 발명은 기판 이송 중 기판으로부터 비산하는 약액을 차단할 수 있는 기판 이송 유닛을 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a substrate processing apparatus including a substrate transfer unit capable of blocking chemical liquid scattering from the substrate during substrate transfer.

본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 유닛은 약액으로 젖음 상태의 기판을 지지하는 블레이드, 상기 블레이드를 둘러싸며 상기 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 차단하는 커버부 및 상기 블레이드와 연결되며 상기 커버부에 대하여 상기 기판을 로딩/언로딩시키는 제1 구동부를 포함한다. 여기서, 상기 커버부는 상기 블레이드가 수평 이동하여 상기 커버부로부터 유출입하도록 개구가 형성될 수 있다.Substrate transfer unit according to an embodiment of the present invention is a blade for supporting the substrate in the wet state with a chemical liquid, a cover portion surrounding the blade and blocking the chemical liquid scattered from the substrate and connected to the blade and the cover portion And a first driver for loading / unloading the substrate. Here, the cover portion may be formed with an opening so that the blade is horizontally moved to flow in and out from the cover portion.

본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 유닛은 상기 커버부의 상부에는 상기 기판의 건조를 억제하는 건조 방지액을 상기 기판을 향하여 공급하는 건조 방지액 공급부를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer unit according to the exemplary embodiment of the present invention may further include a drying prevention liquid supply unit configured to supply a drying prevention liquid that suppresses drying of the substrate toward the substrate, on the upper portion of the cover part.

본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 유닛은 상기 커버부의 하부에는 상기 기판으로부터 비산된 상기 약액을 드레인시키는 드레인부를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer unit according to the exemplary embodiment of the present invention may further include a drain part at the lower portion of the cover part to drain the chemical liquid scattered from the substrate.

본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 유닛은 상기 블레이드 및 상기 커버부를 전체적으로 수평 이동 및 회전 이동시키는 제2 구동부를 더 포함할 수 있다.The substrate transfer unit according to the embodiment of the present invention may further include a second driving unit which horizontally moves and rotates the blade and the cover as a whole.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 세정하는 기판 세정 유닛, 상기 기판 세정 유닛에 인접하게 배치되며, 상기 기판을 건조시키는 기판 건조 유닛 및 상기 기판 세정 유닛 및 상기 기판 건조 유닛 사이에 배치되며, 상기 기판 세정 유닛 및 상기 기판 건조 유닛 사이에 상기 기판을 이송하는 기판 이송 유닛을 포함하고, 상기 기판 이송 유닛은 약액으로 젖음 상태의 상기 기판을 지지하는 블레이드, 상기 블레이드를 둘러싸며 상기 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 회수하는 커버부 및 상기 블레이드와 연결되어 상기 블레이드를 구동하는 제1 구동부를 포함한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention is disposed adjacent to the substrate cleaning unit for cleaning the substrate, the substrate cleaning unit, and disposed between the substrate drying unit for drying the substrate and the substrate cleaning unit and the substrate drying unit. And a substrate transfer unit for transferring the substrate between the substrate cleaning unit and the substrate drying unit, wherein the substrate transfer unit surrounds the blade and surrounds the blade supporting the substrate in a wet state with a chemical solution. And a cover part for recovering the flying liquid and a first driving part connected to the blade to drive the blade.

본 발명의 기판 이송 유닛은 기판 이송 중 비산되는 약액을 차단하는 커버부를 포함함으로써, 상기 비산되는 약액이 인접하는 부재에 비산되어 상기 부재의 손상이 억제될 수 있다. 나아가, 상기 커버부 상에 장착된 건조 방지액 공급부는 상기 건조 방지액을 기판 이송중 기판 상에 공급함으로써, 기판 이송중 기판의 건조를 억제할 수 있다. 나아가, 상기 건조 방지액 공급부는 상기 블레이드 상에 오염원을 제거하기 위하여 상기 블레이드를 세정함으로써 후속하는 공정에서 상기 오염원에 의하여 기판의 오염을 억제할 수 있다.The substrate transfer unit of the present invention includes a cover portion for blocking the chemical liquid scattered during substrate transfer, the scattered chemical liquid can be scattered to the adjacent member can be suppressed damage to the member. Furthermore, the drying prevention liquid supplying part mounted on the cover part can suppress the drying of the substrate during substrate transfer by supplying the drying prevention liquid onto the substrate during substrate transfer. Further, the anti-drying liquid supply unit may suppress the contamination of the substrate by the contamination source in a subsequent process by cleaning the blade to remove the contamination source on the blade.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 블록도이다.1 is a cross-sectional view for describing a substrate transfer unit according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a block diagram illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 유닛 및 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.Hereinafter, a substrate transfer unit and a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view for describing a substrate transfer unit according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 유닛(100)은 기판(10)을 이송하는 동안 상기 기판(10)으로부터 비산하는 유체 즉 상기 린스액과 젖음 용액을 차단하는 구성을 가질 수 있다.Referring to FIG. 1, the substrate transfer unit 100 according to an embodiment of the present invention blocks a fluid splashing from the substrate 10, that is, the rinse liquid and the wet solution while transferring the substrate 10. Can have

예를 들면, 상기 기판 이송 유닛(100)은 블레이드(110), 커버부(120) 및 제1 구동부(145)를 포함한다.For example, the substrate transfer unit 100 may include a blade 110, a cover 120, and a first driver 145.

상기 블레이드(110)는 기판(10)을 지지한다. 상기 블레이드는 예를 들면, 기판의 하면과 접촉하여 기판(10)을 지지한다. 한편, 상기 블레이드(110)에는 기판(10)을 진공 흡착하기 위하여 진공 펌프(미도시)와 연결된 진공홀이 형성될 수 있다. 한편, 상기 블레이드(110)에는 상기 기판(10)의 이송 중 상기 기판(10)이 상기 블레이드로부터 이탈되는 것을 억제하기 위하여 상기 블레이드의 상면으로부터 돌출되어 상기 기판의 측벽을 둘러싸는 돌출부(115)가 형성될 수 있다. 또한, 상기 블레이드(110)는 상기 기판(10)을 안정적으로 지지하기 위하여 한 쌍의 블레이드들을 포함할 수 있다. 상기 기판은 자연 건조를 방지하기 위하여 약액으로 덮여져 있다.The blade 110 supports the substrate 10. The blade supports, for example, the substrate 10 in contact with the bottom surface of the substrate. On the other hand, the blade 110 may be formed with a vacuum hole connected to a vacuum pump (not shown) in order to vacuum suction the substrate 10. On the other hand, the blade 110 has a protrusion 115 protruding from the upper surface of the blade to surround the side wall of the substrate in order to suppress the departure of the substrate 10 from the blade during the transfer of the substrate 10 Can be formed. In addition, the blade 110 may include a pair of blades to stably support the substrate 10. The substrate is covered with a chemical liquid to prevent natural drying.

상기 커버부(120)는 상기 블레이드(110)를 전체적으로 감싸도록 배치된다. 상기 블레이드(110) 상에 배치된 기판(10)이 반송되는 동안 상기 기판(10) 상에 잔류하는 젖음 용액과 같은 약액이 비산되는 경우, 상기 커버부(120)는 상기 비산되는 상기 약액을 차단할 수 있다. 따라서, 상기 비산되는 약액이 상기 기판 이송 유닛(100)으로 비산하여 상기 기판 이송 유닛(100)의 오염이 억제될 수 있다. 결과적으로, 상기 기판(10)으로부터 비산된 약액은 상기 커버부(120)에 의하여 한정된 공간 내에 수용될 수 있다.The cover part 120 is disposed to surround the blade 110 as a whole. When the chemical liquid such as the wetting solution remaining on the substrate 10 is scattered while the substrate 10 disposed on the blade 110 is transported, the cover part 120 may block the chemical liquid scattered. Can be. Therefore, the scattered chemical liquid may be scattered to the substrate transfer unit 100 so that contamination of the substrate transfer unit 100 may be suppressed. As a result, the chemical liquid scattered from the substrate 10 may be accommodated in the space defined by the cover part 120.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 커버부(120)는 상기 블레이드(110)를 수용할 수 있는 수용 공간(123)이 형성된 박스 형상을 가질 수 있다. 상기 커버부(120)가 박스 형상을 가질 경우, 상기 블레이드(110)가 기판(10)을 지지한 상태에서 상기 커버부(120) 내부로 인입되거나 상기 커버부(120)로부터 인출될 수 있도록 개구(125)가 형성될 수 있다. 따라서, 상기 블레이드(110)는 상기 개구(125)로부터 인출되어 상기 기판(10)을 로딩한 후 상기 커버부(120) 내부로 인입될 수 있다. 또한, 상기 블레이드(110)는 상기 기판(10)을 이송한 후 목표 위치에서 상기 커버부(120)의 개구(125)를 통하여 인출되어 상기 기판(10)을 언로딩할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the cover portion 120 may have a box shape in which an accommodation space 123 for accommodating the blade 110 is formed. When the cover part 120 has a box shape, the blade 110 is inserted into the cover part 120 in the state in which the blade 10 supports the substrate 10 or is opened to be withdrawn from the cover part 120. 125 may be formed. Therefore, the blade 110 may be drawn out from the opening 125 to load the substrate 10 and then introduced into the cover part 120. In addition, the blade 110 may be drawn out through the opening 125 of the cover part 120 at the target position after transferring the substrate 10 to unload the substrate 10.

상기 제1 구동부(130)는 상기 블레이드(110)와 연결되어 상기 블레이드(110)를 수평 방향으로 구동시킬 수 있다. 일 예로서, 상기 제1 구동부(130)는 상기 개구(125)를 통하여 상기 블레이드(110)를 상기 커버부(120)로부터 이탈시켜, 캐리어(미도시) 등에 수용된 상기 기판(10)을 로딩하여 상기 개구(125)를 통하여 상기 커버부(120) 내부로 상기 기판(10)을 인입시킨다. 예를 들면, 상기 제1 구동부(130)는 공압 또는 유압 실린더를 포함할 수 있다.The first driver 130 may be connected to the blade 110 to drive the blade 110 in a horizontal direction. For example, the first driving unit 130 is separated from the cover unit 120 through the opening 125 to load the substrate 10 accommodated in a carrier (not shown). The substrate 10 is introduced into the cover part 120 through the opening 125. For example, the first driver 130 may include a pneumatic or hydraulic cylinder.

한편, 상기 제1 구동부(130)는 상기 블레이드(110)를 승강 운동하도록 상기 블레이드(110)를 구동할 수 있다. 상기 제1 구동부(130)는 상기 개구(125)보다 아래에 위치한 상기 블레이드(110)를 상기 개구(125)의 높이까지 상승시킨 후 상기 블레이드(110)를 수평 이동시킨다. 이어서, 상기 블레이드(110)가 상기 캐리어로부터 상기 기판(10)을 로딩한 후 상기 제1 구동부(130)는 상기 블레이드(110)를 상기 개구(125)를 통하여 커버부(120) 내부인 수용 공간(123)으로 인입시킨 후 상기 블레이드(110)를 하강시킬 수 있다.On the other hand, the first drive unit 130 may drive the blade 110 to move up and down the blade 110. The first driving unit 130 raises the blade 110 positioned below the opening 125 to the height of the opening 125 and then horizontally moves the blade 110. Subsequently, after the blade 110 loads the substrate 10 from the carrier, the first driving unit 130 opens the blade 110 through the opening 125 to accommodate the interior of the cover 120. After entering into 123, the blade 110 can be lowered.

상기 기판 이송 유닛(100)은 상기 기판(10) 상으로 건조 방지 용액을 공급하여 기판(10)의 건조를 방지하는 건조 방지액 공급부(140)를 더 포함할 수 있다. 일 예로서 상기 건조 방지액 공급부(140)는 상기 건조 방지액을 저장하는 저장 탱크(145), 상기 커버부(120) 상부의 내벽에 배치되며 상기 건조 방지액을 기판(10) 상에 분사하는 노즐(141, 142) 및 상기 저장 탱크(145) 및 상기 노즐(141, 142)을 연결시켜 상기 건조 방지액이 흐르는 유로를 제공하는 공급 라인(143)을 포함할 수 있다. 상기 노즐(141, 142)은 지지부재(미도시)를 이용하여 상기 커버부(120)의 상부 내벽에 체결될 수 있다. 상기 건조 방지액 공급부(140)는 기판 이송 유닛(100)이 기판(10)을 이송하는 도중 상기 기판(10) 상에 상기 건조 방지액을 공급함으로써, 기판(10)의 이송 중 기판(10)의 건조를 억제할 수 있다. 한편, 상기 건조 방지액 공급부(140)는 상기 기판 이송 유닛(100)이 기판 이송을 완료한 완료 상태 또는 기판 이송 공정전 대기 상태에서 상기 블레이드(110) 상에 부착된 파티클 등과 같은 오염원을 제거할 수 있다. 따라서 상기 블레이드(110) 상에 잔류하는 오염원이 기판 이송 유닛(100)에 포함된 부재에 부착되어 상기 부재가 손상되는 것이 억제될 수 있다.The substrate transfer unit 100 may further include a drying prevention liquid supply unit 140 supplying a drying prevention solution onto the substrate 10 to prevent drying of the substrate 10. As an example, the anti-drying liquid supply unit 140 is disposed on an inner wall of the storage tank 145 and the cover 120 to store the anti-drying liquid and sprays the anti-drying liquid onto the substrate 10. A supply line 143 may be provided to connect nozzles 141 and 142, the storage tank 145, and the nozzles 141 and 142 to provide a flow path through which the drying prevention liquid flows. The nozzles 141 and 142 may be fastened to the upper inner wall of the cover part 120 using a support member (not shown). The drying preventing liquid supply unit 140 supplies the drying preventing liquid onto the substrate 10 while the substrate transfer unit 100 transfers the substrate 10, thereby transferring the substrate 10 during the transfer of the substrate 10. Drying can be suppressed. On the other hand, the drying prevention liquid supply unit 140 is to remove the contamination source such as particles attached on the blade 110 in the completion state of the substrate transfer unit 100 completed the substrate transfer or standby state before the substrate transfer process. Can be. Therefore, the contamination source remaining on the blade 110 is attached to the member included in the substrate transfer unit 100 can be suppressed that the member is damaged.

상기 기판 이송 유닛(100)은 상기 커버부(120)의 하부에 배치되며 상기 기판(10)으로부터 비산된 약액이 상기 커버부(120)의 하부를 통하여 배출시키는 드레인부(150)를 더 포함할 수 있다. 상기 드레인부(150)는 상기 비산된 약액을 저장하는 회수 탱크(155)를 포함할 수 있다.The substrate transfer unit 100 may further include a drain part 150 disposed below the cover part 120 and discharging the chemical liquid scattered from the substrate 10 through the lower part of the cover part 120. Can be. The drain unit 150 may include a recovery tank 155 for storing the scattered chemical liquid.

상기 드레인부(150)는 예를 들면, 중력에 의하여 자유 낙하는 자연 드레인 방식으로 상기 비산된 약액을 드레인시킬 수 있다. 이와 다르게, 상기 드레인부(150)는 상기 커버부(120)와 연결되어 진공 펌프(미도시)를 이용하여 상기 커버부(120)의 내부에 수용된 상기 약액을 드레인시킬 수 있다.The drain unit 150 may drain the scattered chemical liquid in a natural drain method, for example, free fall by gravity. Alternatively, the drain part 150 may be connected to the cover part 120 to drain the chemical liquid contained in the cover part 120 using a vacuum pump (not shown).

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 기판 이송 유닛(100)은 상기 커버부(120) 및 상기 블레이드(110)와 연결되어 상기 블레이드(110) 및 상기 커버부(120)를 전체적으로 이동시키는 제2 구동부(160)를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the substrate transfer unit 100 is connected to the cover portion 120 and the blade 110, the second to move the blade 110 and the cover portion 120 as a whole The driving unit 160 may further include.

상기 제2 구동부(160)는 상기 기판(10)을 지지한 상기 블레이드(110) 및 상기 커버부(120)를 전체적으로 회전시킬 수 있다. 또한, 상기 제2 구동부(160)는 상기 블레이드(110) 및 상기 커버부(120)를 전체적으로 수평 및 승강 운동시킬 수 있다. 따라서, 제2 구동부(160)는 상기 기판을 정해진 목표 위치로 이동시킬 수 있다.The second driver 160 may rotate the blade 110 and the cover part 120 that support the substrate 10 as a whole. In addition, the second driving unit 160 may move the blade 110 and the cover unit 120 horizontally and as a whole. Accordingly, the second driver 160 may move the substrate to a predetermined target position.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 블록도이다.2 is a block diagram illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(30)는 상기 기판(10) 상의 이물질을 제거하기 위한 세정 공정을 수행하기 위하여 사용될 수 있다. 특히, 기판(10)을 식각하는 식각 공정 이후 식각액 또는 식각 부산물을 제거하기 위한 세정 공정이 수행될 수 있다. 그러나, 상기 기판 처리 장치(30)가 세정 공정만을 수행하기 위하여 사용되는 것은 아니며, 다양한 케미컬들을 이용한 기판 처리 공정에 사용될 수도 있다. 예를 들면, 상기 기판(10) 상의 막 또는 이물질을 제거하기 위한 스트립 공정 및 상기 스트립 공정 이후 수행되는 세정 공정을 모두 수행할 수도 있다.1 and 2, the substrate processing apparatus 30 according to an embodiment of the present invention may be used to perform a cleaning process for removing foreign matter on the substrate 10. In particular, after the etching process of etching the substrate 10, a cleaning process for removing an etching solution or an etching byproduct may be performed. However, the substrate processing apparatus 30 is not used to perform only the cleaning process, but may be used in a substrate processing process using various chemicals. For example, both a strip process for removing a film or foreign matter on the substrate 10 and a cleaning process performed after the strip process may be performed.

상기 기판 처리 장치(30)는 상기 기판(10)의 세정하기 위한 기판 세정 유닛(200), 상기 기판(10)을 건조하기 위한 기판 건조 유닛(300) 및 상기 기판을 이송하기 위한 기판 이송 유닛(101)을 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus 30 may include a substrate cleaning unit 200 for cleaning the substrate 10, a substrate drying unit 300 for drying the substrate 10, and a substrate transfer unit for transferring the substrate ( 101).

일 예로서, 상기 기판 세정 유닛(200)은 복수의 기판(10)을 동시에 처리할 수 있는 복수의 세정 블록(210)을 포함할 수 있다. 그러나, 기판 세정 유닛 또한, 기판 건조 유닛(300)을 복수의 기판을 동시에 건조시킬 수 있는 복수의 건조 블록(310)을 포함할 수 있다. 상기 기판 세정 유닛(200) 및 기판 건조 유닛(300)에 포함된 블록들의 개수는 기판을 처리하는 공정 조건에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 도시된 바에 의하면, 기판 세정 유닛(200), 기판 이송 유닛(101) 및 기판 건조 유닛(300)이 트랙 형태로 배치되고 있으나, 이와 다르게 클러스터 형태로 배치될 수도 있다.As an example, the substrate cleaning unit 200 may include a plurality of cleaning blocks 210 capable of simultaneously processing the plurality of substrates 10. However, the substrate cleaning unit may also include a plurality of drying blocks 310 that allow the substrate drying unit 300 to dry the plurality of substrates at the same time. The number of blocks included in the substrate cleaning unit 200 and the substrate drying unit 300 may be variously changed according to the process conditions for processing the substrate. As illustrated, the substrate cleaning unit 200, the substrate transfer unit 101, and the substrate drying unit 300 are arranged in a track form, but may be arranged in a cluster form.

상기 기판 건조 유닛은(300)은 초임계 유체를 이용하여 상기 세정된 기판 상의 세정액을 건조시킨다. 상기 기판 건조 유닛(300)은 상기 처리된 기판이 수용되는 압력 용기(미도시)와 상기 압력 용기(미도시) 내부로 상기 기판을 건조시키기 위한 초임계 유체를 공급하는 초임계 유체 공급부(미도시)를 포함할 수 있다.The substrate drying unit 300 dries the cleaning liquid on the cleaned substrate using a supercritical fluid. The substrate drying unit 300 includes a pressure vessel (not shown) in which the processed substrate is accommodated, and a supercritical fluid supply unit (not shown) for supplying a supercritical fluid for drying the substrate into the pressure vessel (not shown). ) May be included.

상세히 도시되지는 않았으나, 상기 초임계 유체 공급부는 상기 초임계 유체로서 사용되는 이산화탄소를 액화시키기 위한 응축기와 상기 액화된 이산화탄소로부터 초임계 유체를 형성하기 위한 압축 펌프와 상기 초임계 유체를 저장하기 위한 탱크 등을 포함할 수 있다.Although not shown in detail, the supercritical fluid supply includes a condenser for liquefying carbon dioxide used as the supercritical fluid, a compression pump for forming a supercritical fluid from the liquefied carbon dioxide, and a tank for storing the supercritical fluid. And the like.

상기 기판 이송 유닛(101)은 상기 기판 세정 유닛(200) 및 상기 기판 건조 유닛(300)에 인접하여 배치된다. 상기 기판 이송 유닛(101)은 상기 기판 세정 유닛(200) 및 상기 기판 건조 유닛(300) 사이에 상기 기판을 이송한다.The substrate transfer unit 101 is disposed adjacent to the substrate cleaning unit 200 and the substrate drying unit 300. The substrate transfer unit 101 transfers the substrate between the substrate cleaning unit 200 and the substrate drying unit 300.

상기 기판 이송 유닛(101)은 기판을 이송하는 이송 로봇(100)을 포함한다. 상기 이송 로봇(100)은 블레이드(110), 커버부(110) 및 제1 구동부(120)를 포함한다. 상기 기판 이송 유닛(101)이 상기 기판을 이송하는 도중 상기 기판(10)으로부터 비산되는 약액의 차단하는 커버부(110)를 포함함으로써, 비산되는 약액이 상기 기판 이송 유닛(101) 주위를 오염시키는 것이 억제될 수 있다.The substrate transfer unit 101 includes a transfer robot 100 for transferring a substrate. The transfer robot 100 includes a blade 110, a cover 110, and a first driver 120. The substrate transfer unit 101 includes a cover portion 110 for blocking the chemical liquid scattered from the substrate 10 while the substrate transfer unit 101 transfers the substrate, thereby causing the chemical liquid to scatter around the substrate transfer unit 101. Can be suppressed.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판 이송 유닛(101)은 상기 기판(10) 상의 유체 즉 탈이온수 또는 순수가 상기 기판(10)의 이송 도중에 자연 건조되는 현상을 방지하기 위하여 상기 기판(10) 상으로 건조 방지액이 공급될 수 있다. 상기 건조 방지액의 예로는 기판(10) 상의 탈이온수 또는 순수의 표면 장력을 감소시킬 수 있는 액체가 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(2) 상으로는 이소프로필 알콜, 이소프로필 알콜 수용액 또는 계면 활성제 및 물의 혼합 용액 등과 같은 건조 방지액이 공급될 수 있으며, 이에 따라 상기 기판 이송 도중 기판 표면이 젖음 상태로 유지될 수 있다.According to one embodiment of the invention, the substrate transfer unit 101 is the substrate 10 in order to prevent the phenomenon that the fluid on the substrate 10, that is, deionized water or pure water is naturally dried during the transfer of the substrate 10 ) May be supplied to the drying prevention liquid. As an example of the anti-drying liquid, a liquid capable of reducing the surface tension of deionized water or pure water on the substrate 10 may be used. For example, an anti-drying liquid such as isopropyl alcohol, an isopropyl alcohol aqueous solution or a mixture of a surfactant and water, and the like may be supplied onto the substrate 2, so that the substrate surface may be kept wet during the substrate transfer. Can be.

또한, 상기 기판 처리 장치(30)는 로드 포트(400), 인터페이스 유닛(500), 스테이지 유닛(600) 등을 더 포함할 수 있다. 상기 로드 포트(400)는 다수의 기판들을 수납하기 위한 용기(20)를 지지할 수 있으며, 상기 인터페이스 유닛(500)은 상기 용기(20) 내에 수납된 기판들을 기판 세정 유닛(200)으로 이송하고, 기판 건조 유닛(300)에서 건조된 기판들을 다시 용기(20) 내로 이송하기 위한 인터페이스 로봇(510)과 인터페이스 챔버(520)를 포함할 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus 30 may further include a load port 400, an interface unit 500, a stage unit 600, and the like. The load port 400 may support a container 20 for accommodating a plurality of substrates, and the interface unit 500 transfers the substrates stored in the container 20 to the substrate cleaning unit 200. The interface robot 510 and the interface chamber 520 may be included to transfer the substrates dried in the substrate drying unit 300 back into the container 20.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

10 : 기판 20 : 용기
30 : 기판 처리 장치 100 : 기판 이송 유닛
110 : 블레이드 120 : 커버부
130 : 제1 구동부 140 : 건조 방지액 공급부
200 : 기판 세정 유닛 300 : 기판 건조 유닛
400 : 로드 포트 500 : 인터페이스 모듈10 substrate 20 container
30: substrate processing apparatus 100: substrate transfer unit
110: blade 120: cover part
130: first drive unit 140: drying prevention liquid supply unit
200: substrate cleaning unit 300: substrate drying unit
400: load port 500: interface module

Claims (6)

약액으로 젖음 상태의 기판을 지지하는 블레이드;
상기 블레이드를 둘러싸며 상기 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 차단하는 커버부; 및
상기 블레이드와 연결되며 상기 커버부에 대하여 상기 기판을 로딩/언로딩시키는 제1 구동부를 포함하는 기판 이송 유닛.A blade for supporting the substrate wet with chemical liquid;
A cover part surrounding the blade and blocking the chemical liquid scattered from the substrate; And
And a first driving part connected to the blade and configured to load / unload the substrate with respect to the cover part. 제1항에 있어서, 상기 커버부는 상기 블레이드가 수평 이동하여 상기 커버부로부터 유출입하도록 개구가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 유닛.The substrate transfer unit of claim 1, wherein the cover part has an opening formed to allow the blade to move horizontally to flow in and out of the cover part. 제1항에 있어서, 상기 커버부의 상부에는 상기 기판의 건조를 억제하는 건조 방지액을 상기 기판을 향하여 공급하는 건조 방지액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 유닛.The substrate transfer unit of claim 1, further comprising a drying prevention liquid supply part configured to supply a drying prevention liquid that suppresses drying of the substrate toward the substrate, in an upper portion of the cover part. 제1항에 있어서, 상기 커버부의 하부에는 상기 기판으로부터 비산된 상기 약액을 드레인시키는 드레인부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 유닛.The substrate transfer unit of claim 1, further comprising a drain portion at a lower portion of the cover portion to drain the chemical liquid scattered from the substrate. 제1항에 있어서, 상기 블레이드 및 상기 커버부를 전체적으로 수평 이동 및 회전 이동시키는 제2 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 유닛.The substrate transfer unit of claim 1, further comprising a second driving unit which horizontally moves and rotates the blade and the cover unit as a whole. 기판을 세정하는 기판 세정 유닛;
상기 기판 세정 유닛에 인접하게 배치되며, 상기 기판을 건조시키는 기판 건조 유닛; 및
상기 기판 세정 유닛 및 상기 기판 건조 유닛 사이에 배치되며, 상기 기판 세정 유닛 및 상기 기판 건조 유닛 사이에 상기 기판을 이송하는 기판 이송 유닛을 포함하고,
상기 기판 이송 유닛은
약액으로 젖음 상태의 상기 기판을 지지하는 블레이드;
상기 블레이드를 둘러싸며 상기 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 회수하는 커버부; 및
상기 블레이드와 연결되어 상기 블레이드를 구동하는 제1 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.A substrate cleaning unit for cleaning the substrate;
A substrate drying unit disposed adjacent to the substrate cleaning unit and drying the substrate; And
A substrate transfer unit disposed between the substrate cleaning unit and the substrate drying unit and transferring the substrate between the substrate cleaning unit and the substrate drying unit,
The substrate transfer unit
A blade supporting the substrate in a wet state with a chemical solution;
A cover part surrounding the blade and recovering the chemical liquid scattered from the substrate; And
And a first driver connected to the blade to drive the blade.
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JP2021073706A (en) * 2018-09-12 2021-05-13 セメス カンパニー，リミテッド Apparatus for treating substrate
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