KR20140148344A - 안구를 치료하기 위한 낮은 파면 에러를 갖는 디바이스들, 시스템들 및 방법들 - Google Patents

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Abstract

안과 수술을 수행하는 장치로서, 상기 장치는 광빔(light beam)을 생성하도록 구성된 광 소스와, 상기 광 소스와 광학적으로 통신하는 포커싱 렌즈 - 상기 포커싱 렌즈는 상기 광빔을 포커싱된 광빔으로 포커싱하도록 구성되며 - 와, 치료될 안구와 접촉하도록 구성된 접촉 글라스 요소 - 상기 접촉 글라스 요소는 포커싱된 광빔에 대해 적어도 90%의 전송비(transmission ratio)를 가지고, 상기 포커싱된 광빔이 상기 접촉 글라스 요소를 통과할 때 기껏해야 상기 포커싱된 광빔에 약
Figure pat00044
/2의 파면 에러(wavefront error)를 도입하도록 구성되며, 상기 포커싱 렌즈는 상기 포커싱된 광빔이 상기 안구의 각막(cornea) 내에 포커스 영역(region of focus)을 가지게 하도록 구성되고, 포커싱된 영역은 15 μm 또는 그 미만의 직경을 가지고 - 와, 그리고 상기 각막 내에 절개부(incision)를 형성하도록 상기 안구의 각막 내에 치료 영역 위에 15 μm또는 그 미만의 직경을 갖는 포커스 영역을 가진 상기 포커싱된 광빔을 반복적으로 그리고 연속적으로 가하도록(direct) 구성된 광학적 수단을 포함하여 구성되고, 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 대해 1.500 내지 1.550의 범위의 굴절률(index of refraction)을 가진 물질을 포함한다.

Description

안구를 치료하기 위한 낮은 파면 에러를 갖는 디바이스들, 시스템들 및 방법들{LOW WAVEFRONT ERROR DEVICES, SYSTEMS, AND METHODS FOR TREATING AN EYE}
본 발명은 안구의 의료적 치료를 수행하는 기법들에 관한 것이다.
본 발명은 특히, 안과 수술을 위한 개선된 안압계 렌즈(applanation lens) 또는 안압계 플레이트에 관한 것이다.
펄스 레이저 방사가 예컨대, 각막(cornea)을 절개(incision)하기 위해 또는 각막으로부터 조직(tissue)을 절제(ablating)하기 위해 안과 수술에 사용된다. 빔(beam)을 비추는 레이저 방사는 각막 조직에서 광파괴적인(photodisruptive) 프로세스를 초래하며, 상기 광파괴적인 프로세스는 결과적으로 조직이 분리되게 하거나 또는 조직 물질이 제거되게 한다. 이러한 각막의 치료는 예컨대, 안구의 결함있는 비전(vision)의 상태들을 감소시키거나 또는 완전히 치료하기 위한 굴절(refractive) 프로세스의 범위 내에서 일어나며, 이러한 프로세스의 과정(course)에서, 각막은 재형상화(reshaped)되며, 이 수단에 의해 각막의 굴절 특성들이 변경된다.
각막 수술의 지배적인(dominant) 굴절 프로세스는 이른바 LASIK(laser in-situ keratomileusis) 프로세스이다. 이 경우, 작은 커버가 (이른바 초정밀 각막 절삭기(microkeratome) 내의 진동 절단 블레이드에 의해)기계적으로 또는 (레이저 방사 예컨대, 이른바 펨토초 레이저 시스템들에 의해)광학적으로 각막으로부터 잘라내지며, 상기 커버는 자신의 엣지의 부분에 의해 각막에 여전히 부착되어 있다. 후속적으로, - 통상적으로 플랩(flap)으로 지정되기도 하는 - 이 커버는 일 측에 폴딩되며, 그 결과 그 밑에 위치된 스토로마(stroma)에 접근가능해진다. 그 다음, 스트로마 조직(stromatous tissue)은 특별한 환자에 대해 확정된 절개 프로파일에 따라 레이저 방사로 절개된다. 그 다음, 이 커버는 다시 폴딩되고, 그 결과 손상부(wound)는 상대적으로 빠르게 치유될 수 있고, 개선된 시각적 캐패시티(improved visual capacity)가 극히 짧은 시간 내에 획득된다.
종래의 펨토초 레이저 초정밀 각막 절삭기는 펨토초 레이저 소스, 치료 영역에 걸쳐 상기 펨토초 레이저 소스의 레이저 빔을 연속적으로 편향(deflect)시키는 스캐너, 포커싱 옵틱들, 및 안구의 각막 상에 배치되는 안압계 플레이트 또는 안압계 렌즈를 포함한다.
펨토초 초정밀 각막 절삭기가 이용될 때, 각막 내의 LASIK 절개는 각막의 스트로마 내의 복수의 광마이크로파괴(photomicrodisruption)들의 거의 평면적인 병치(juxtaposition)에 의해 생성된다. 광마이크로파괴들은, 펨토초 레이저 소스에 의해 생성되는 매우 높은 강도(I > 1011 W/cm2)의 펨토초 레이저 빔의 결과로 발생되며 경로-폴딩 미러들, 확대 망원경( expanding telescope), 고속 스캐너 및 충분히 높은 수치적 개구율(NA > 0.20)을 가진 고 정밀 짧은-포커스-길이의 포커싱 오브젝티브(focusing objective)를 갖는 적절하게 치수화된 광학 빔 경로에 의해 각막으로 가이드되는 펨토초 레이저 펄스들에 의해 생성된다.
이러한 펨토초 펄스들을 이용하여 정밀한 LASIK 절개를 획득하기 위해, 각막의 조직에서 펨토초 펄스의 포커스 영역의 공간적인 위치는 공간의 세 방향 모두에서 약 5μm의 정밀도로 결정되어야 한다. 펨토초 레이저 방사의 연속적인 펄스의 포커스 영역의 사이즈 및 포커스 영역의 위치는 또한, 펨토초 레이저 시스템을 이용하여 신뢰성있고 고품질의 LASIL 절개를 획득하기 위해, 동일한 크기의 정도(order)의 정밀도 즉, 약 5μm 내에서 미리 결정된 값들 및 포지션들을 획득해야만 한다.
양호한 치료 성공을 위해, 소정의 플루언스(fluence) 즉, 에너지 밀도 F(F = E/A; A~dF 2; 표면 단위 당 에너지)에서 가능한 낮은 레이저 에너지 E로 신뢰성있는 레이저로-유도된 광학 파괴(LIOB)를 획득하기 위해 가능한 작은 포커스 영역의 직경 d가 요구된다. 이 경우, 레이저로-유도된 광학 파괴에 대한 임계(threshold, Fth)는 낮은 레이저-펄스 에너지에서 이미 신뢰성있게 초과된다. 그 결과, 과도하게 에너지가 넘치고 파워풀한 펨토초 레이저 펄스들에 의한 각막 및 홍채(iris)에 대한 손상이 회피될 수 있다.
레이저로-유도된 광학 파괴에 대해, 약 1 J/cm2 내지 약 3 J/cm2의 플루언스가 요구된다. 추가적으로, 정밀하게 동일한 깊이(depth)(포커스 영역의 직경 dF)에 위치된 작고, 가깝게 인접한 광마이크로파괴들은 펨토초 LASIK 프로세스의 경우, 가장 양질의 절개 즉, 가장 낮은 거칠기(roughness)를 제공한다. 이에 관하여, LIOB 임계의 초과가 필요하다:
Figure pat00001
플루언스가 포커스 직경의 제곱(square)에 역 비례함을 알게 될 것이며, 결과적으로, 포커스 영역의 보다 작은 직경의 경우, 플루언스는 레이저로-유도된 광학 파괴에 대한 임계 Fth보다 커지게 될 것인바, 또한 낮은 레이저-펄스 에너지 E에서 커지게 될 것이다.
이론적으로는, 펨토초 레이저 펄스는 최대(at best) 에어리 함수(Airy function)의 직경 dA의 크기의 정도(order)의 값으로 포커싱될 수 있다. 이는 다음과 같이 여겨진다:
Figure pat00002
이로부터 최대로는, 이상적인 레이저 품질 dF
Figure pat00003
dA 은 다음과 같다:
Figure pat00004
여기서, f는 포커싱 오브젝티브의 포커스 길이이고,
Figure pat00005
는 펨토초 레이저 방사의 파장이며, 그리고 D는 포커싱 렌즈 상의 레이저 빔의 구경(aperture) 또는 직경이다.
그러나, 이는 (기본 모드(fundamental mode) 또는 평면파에서) 거의 완벽한 레이저 빔 및 포커스 길이 f의 수차가 없는(aberration-free) 오브젝티브에 의한 회절이 제한된 포커싱을 전제한다.
그러므로, 펨토초 레이저 방사가 횡단하는 전체 광학 빔 경로의 구조적 요소들의 광질에 따라 엄격한 요구사항(demand)들이 만들어져야 한다. 치료 위치(site) - 즉, 눈 또는 더 정확하게는 각막 - 으로의 경로(way) 상에서 펨토초 펄스들의 에너지 손실을 최소화하는 높은 전체 전송(high total transmission)에 더하여, 이는 특히 사용되는 광학 컴포넌트들의 수차가 없을 시 엄격한 요구사항들을 만들어 낸다. 추가적으로, 가능한 낮은 레이저 방사의 파면(wavefront)의 변형성이 요구된다. 이는 전형적으로는, 펨토초 레이저 빔의 평면성(planarity), 동질성(homogeneity) 및 왜곡이 없는 광학 가이드(distortion-free optical guidance)에 의해 파장의 분수(fraction)의 형태, 예컨대,
Figure pat00006
/n로 표시된다. 펨토초 레이저-빔 경로의 가장 비싸고 가장 정교한 광학 컴포넌트들 - 예컨대, 확대 망원경 및 포커싱 오브젝티브 - 이 이러한 수차로부터의 높은 자유도를 갖도록 특정된다는 점은 언급할 필요도 없는 일이다. 그러나, 빔 경로에 사용되는 경로-폴딩 미러들 및 또한 스캐너에 사용되는 편향 미러들은 또한, 펨토초 레이저 펄스의 파면의 높은 평면성 및 낮은 변형성에 관한 요건들을 만족해야만 한다.
임의의(arbitrary) 광학 요소들에 의해 변형된 파면은 다른 광학 요소에 의해 쉽게 정정될 수 없고, 변형된 파면의 경우, 또한 고품질 포커싱 옵틱들로 얻을 수 없는 요구되는 최적의 (즉, '샤프한(sharp)') 포커싱을 할 수 없게 한다.
펨토초 LASIK 프로세스의 과정에서, 이른바 석션링 홀딩 디바이스(suction-ring holding device)들이 통상적으로 환자의 안구와의 인터페이스의 방식으로 사용되는 바, 상기 석션링 홀딩 디바이스들은 감소된 압력에 의해 환자의 안구 상으로 석션에 의해 부착된다. 그 결과, 안구는 각막과 접촉하도록 되는 접촉 글라스 - 예컨대, 이른바 안압계 플레이트 또는 렌즈 - 를 포함하는 장치와 결합된다. 그 결과, 안구는 펨토초 레이저 빔의 포커싱 오브젝티브에 대해 소정 포지션에 위치된다.
접촉 글라스가 기준 평면을 구성하는 바, 이 기준 평면에 대하여 펨토초 레이저 빔들의 포커스의 포지션이 지향(oriented)될 수 있음이 추가로 관찰된다. 이 배향(orientation)은 특히, ±10μm보다 적은 대응하는 깊이 정밀도를 갖는 바람직한 깊이 - 예컨대, 약 120μm - 로 정밀하게 LASIK 절개를 구현할 수 있게 하기 위해, Z-방향(Z-direction), 즉 각막에서의 접촉 글라스의 다른 측 상의 포커스의 깊이의 위치에 대해 중요하다.
사용되는 접촉 글라스는 구형 또는 평면 디자인으로 이루어질 수 있다. 평면 안압계 플레이트의 형태를 취하는 접촉 글라스는 펨토초 레이저 빔의 포커스의 균일한 깊이의 유지(maintenance)를 돕지만, 각막 곡률의 안압계에 의해, 이는 구형으로 구부러진 안압계 렌즈들의 형태를 취하는 접촉 글라스보다 안압을 뚜렷이 심각하게 증가시키는 바, 즉, 약 100 mm Hg (0.133 bar)보다 크게 증가시키며, 상기 구형으로 구부러진 안압계 렌즈들은 비록 예컨대, Z-축으로의 포커싱 오브젝티브의 포커스 길이의 빠른 시프트에 의해 포커스의 균일한 깊이를 제어하는 데 많은 노력을 수반하지만, 각막의 다소 자연스러운 굴곡을 시뮬레이션한다.
종래 기술은 275 nm 내지 2500 nm의 파장 범위 내에서 90%보다 높은 전송을 갖는 안압계 렌즈를 기술하며, 여기서 접촉 렌즈는 상기 접촉 렌즈의 곡률이 각막의 곡률에 대응함을 보여준다. LASIK 치료 동안, 포커스 포인트는 곡률 효과들을 보상하기 위해 Z-방향으로 시프트된다.
본 발명의 목적은 LASIK 절개의 품질을 향상시키는 것이다.
본 목적은 광학적 안구-접촉 요소에 의해 달성되는 바, 상기 광학적 안구-접촉 요소는 적어도 부분적으로 반투명(translucent)하고, 상기 광학적 안구-접촉 글라스 요소는 횡단 광빔에서 기껏해야 약
Figure pat00007
/2, 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00008
/4, 가장 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00009
/10의 파면 에러가 생기게 한다. 상기 광학적 안구-접촉 글라스 요소는 이른바 안압계 플레이트 또는 안압계 렌즈일 수 있다. 상기 광학적 안구-접촉 글라스 요소는 횡단 광빔에서 기껏해야 약
Figure pat00010
/2, 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00011
/4, 가장 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00012
/10의 파면 에러가 생기게 하는 물질 또는 물질들로 구성될 수 있다. 안구-접촉 글라스 요소는 광빔 통과(passing)에 대해 약 1.500 내지 약 1.550의 범위, 실시예들에 따르면 약 1.500 내지 약 1.515의 범위의 굴절률(index of refraction)을 갖는 물질을 포함한다.
이러한 굴절률을 갖는 물질은 상품명 ZEONEX 하에서 이용가능하다. 바람직하게는, 상기 안구-접촉 글라스 요소는 이러한 물질로 구성된다. 이는 상대적으로 저렴하고, 생체적합적(biocompatible)이며, 그리고 양호하게 멸균되어(sterilizable) 있다. 이러한 굴절률을 갖는 물질은 고광질(high optical quality) 및 높은 컨투어 샤프니스(contour sharpness)로 피팅된 양호한 공차를 제공한다. 이러한 특징들은 안구-접촉 글라스 요소를 통과하는 광빔에 대해 기껏해야
Figure pat00013
/10의 매우 적은 파면 에러를 도입하는 상기 안구-접촉 글라스 요소를 획득하는 것을 도와준다.
펨토초 레이저 초정밀 각막 절삭기로 신뢰성있는 절개를 획득하기 위해, 엄격한 요구사항들이 펨토초 레이저 방사가 횡단하는 펨토초 레이저 소스의 빔 품질, 포커싱 옵틱들의 빔 품질 및 확대 옵틱들의 빔 품질에 따라 만들어지게 된다. 그러나, 이 기술분야의 숙련자는 광학 품질 검사에 광학 빔 경로의 마지막의 그러나 사소하지 않은 요소 즉, 안구-접촉 요소를 지금까지 포함시키지 않았다. 이 상대적으로 단순한 요소는 펨토초 레이저 펄스의 통과의 과정에서 펨토초 레이저 방사의 포커스능력(focusability)이 상당히 악화되는 방식으로 - 정교한 수단으로 이전에 유지된 - 파면 품질을 여전히 저해할 수 있으며, 특정한 상황들 하에서는, 어떤 레이저로-유도된 광학 파괴 및/또는 어떤 플라즈마도 각막에 발생되지 않으며, 이러한 경우, LASIK 절개는 결론적으로 성공적이지 못하거나, 저조한(poorer) 품질로만 성공하게 되거나 또는 상당히 높은 펨토초-펄스 에너지로 생성되어야만 한다.
광학적 접촉 요소는 상기 광학적 접촉 요소를 횡단하는 광빔의 약 1000 nm내지 약 1200 nm의 파장 범위 내에서 기껏해야 약
Figure pat00014
/2, 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00015
/4, 가장 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00016
/10의 파면 에러가 생기게 한다. 전형적인 펨토초 레이저 소스는 예컨대, 약 1035 nm ± 10 nm의 파장을 갖는 레이저 펄스들을 생성한다. 일 실시예에서, 광학적 안구-접촉 요소는 적어도 이 범위 내에서 낮은 파면 에러를 보여야만 하며, 대략 두배의 파면 에러가 약 520 nm의 파장에서 발생되는 것이 가능하다. 일부 실시예들에서, 광학적 접촉 요소는 상기 광학적 접촉 요소를 횡단하는 광빔의 약 340 nm 내지 약 360 nm를 포함하여 약 300 nm내지 약 1900 nm의 파장 범위 내에서 기껏해야 약
Figure pat00017
/2, 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00018
/4, 가장 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00019
/10의 낮은 파면 에러를 보인다. 일부 예들에서, 약 340 nm내지 약 360 nm을 포함하여 약 300 nm내지 약 1900 nm 사이의 파장을 가지는 광빔을 생성하도로 구성된 광 소스는 안구를 치료할 시 광학적 접촉 요소와 함께 사용하기 위해 제공된다. 일부 실시예들에서, 펨토초 레이저 또는 아토초(attosecond) 레이저가 광 소스로서 이용된다.
광학적 안구-접촉 요소는 약 1.515 내지 약 1.550, 가장 바람직하게는 약 1.370의 굴절률
Figure pat00020
을 보일 수 있다. 각막의 굴절률
Figure pat00021
은 약 1.370에 달하며, 만일 광학적 안구-접촉 요소의 굴절률이 유사한 굴절률을 보이면, 광학적 안구-접촉 요소로부터 각막으로의 전이(transition)에서, 광빔 또는 레이저 빔의 품질 및/또는 강도는 감소되지 않는다.
반사 손실(The reflection loss) R은 다음과 같이 컴퓨팅된다:
Figure pat00022
Figure pat00023
Figure pat00024
Figure pat00025
일 때, 이는 거의 어떤 반사 손실도 발생하지 않는다는 사실을 따른다.
광학적 안구-접촉 요소는 생체적합적일 수 있다. 생체적합적 물질들은 안구에 어떠한 부정적인 영향도 끼치지 않는다. 광학적 안구-접촉 요소는 사용시, 안구와 접촉하도록 되는 영역 상에서 생체적합 층(biocompatible layer)을 보일 수 있다. 생체적합 층은 예컨대, 단백질을 나타낼 수 있다.
광학적 접촉 요소는 펨토초 레이저 펄스들에 관련하여 높은 안정성을 보일 수 있다. 이는 특히, 레이저 펄스들의 고 에너지 밀도를 고려해볼 때 중요하다. 높은 방사 강도들(높은 손상 임계)과 관련하여 - 예컨대, 펨토초 레이저 펄스들과 관련하여 - 높은 안정성은 예컨대, 광학적 안구-접촉 요소의 높은 전송에 의해 획득될 수 있다. 광학적 안구-접촉 요소는 약 300 nm 내지 약 1900 nm 사이의 파장 범위 내에서 약 90%보다 큰 전송을 보일 수 있다. 광학적 안구-접촉 요소는 예컨대, BK7 타입의 글라스를 보일 수 있다. 예컨대, 10 mm의 두께를 가진 BK7 타입의 글라스는 약 300 nm 내지 약 1900 nm 사이의 파장 범위 내에서 약 90%보다 큰 전송을 보일 수 있고, 글라스의 두께가 얇은 경우일수록 높은 전송이 발생된다. 광학적 안구-접촉 요소는 또한, 석영 글라스(quartz glass)(용융된 실리카(fused silica))를 보일 수 있다. 일부 구현들에서, 안구-접촉 요소는 ZEONEX 690R과 같은 사이클릭 올레핀 폴리머(cyclic olefin polymer)들을 포함하는 폴리머를 포함한다. 일부 실시예들에서, 안구-접촉 요소는 약 300 nm 내지 560 nm 사이의 파장들, 약 340 nm 내지 약 360 nm 사이의 자외선 파장들 및 약 1700 nm 내지 약 1900 nm 사이의 파장들을 포함하여, 약 300nm 내지 약 1900nm 사이의 파장들에서 사용하기 위해 구성된다.
광학적 안구-접촉 요소는 광학 플라스틱을 보일 수 있다. 그 결과, 광학적 안구-접촉 요소는 높은 품질에도 불구하고 상대적으로 저렴해진다.
본 발명의 추가의 양상은 상기에 기술된 펨토초 레이저 소스 및 안구-접촉 요소를 포함하는 펨토초 레이저 시스템에 관한 것이다. 펨토초 레이저 시스템은 환자의 안구 상의 치료 위치에 펨토초 레이저 빔을 포지셔닝하기 위한 적어도 하나의 편향 미러 및 펨토초 레이저 빔을 포커싱하기 위한 포커싱 옵틱들과 함께 스캐너를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 또한, 실제로(practically) 안과 수술을 수행하기 위한 장치 및 안과 수술을 수행하는 방법에 관하여 구현된다.
이제, 본 발명은 첨부 도면들을 참조하여 보다 상세하게 기술될 것이다.
도 1은 펨토초 초정밀 각막 절삭기의 매우 간략화된 개략도이다.
도 2는 종래의 광학적 안구-접촉 요소의 경우의 포커스 영역들의 위치 및 직경을 도시한다.
도 3은 본 발명에 따른 광학적 안구-접촉 요소의 경우의 포커스 영역들의 위치 및 직경을 도시한다.
도 1은 낮은 파면 에러를 갖는 펨토초 레이저 빔(11)을 생성하는 펨토초 레이저 소스(10)를 가진 펨토초 초정밀 각막 절삭기를 도시한다. 펨토초 레이저 빔(11)은 광학적 스캐너의 제1 편향 미러(12) 및 제2 편향 미러(14)에 의해 편향되어서, 환자의 안구(18)의 각막(6) 상의 치료 영역 내의 임의의 포인트에 도달될 수 있다. 제1 편향 미러(12) 및 제2 편향 미러(14)에 의해 편향된 펨토초 레이저 빔(11)은 포커싱 옵틱들(16)에 의해 포커스되고 본 발명에 따른 광학적 접촉 요소(4b)에 진입한다. 본 발명에 따른 광학적 안구-접촉 요소(4b)는 각막(6)을 평평하게 만든다(applanate). 그 결과, 포커싱 옵틱들(16)과 각막(6) 사이에 소정 간격이 유지될 수 있다. 광학적 접촉 요소로부터 펨토초 레이저 빔(11)의 출현(emergence) 시, 레이저로-유도된 광학적 파괴가 대략 펨토초 레이저 빔(11)의 포커스 영역, 즉 대략 포커싱 오브젝티브(16)의 포커스 길이의 평면에서 유발된다. 각막(6) 내의 치료 영역 위에 연속적으로 가해지는 복수의 펨토초 레이저 빔들(11)에 의해, 평면 절개가 안구(18)의 각막(6) 내부에서 유발된다. 광학적 접촉 글라스 요소(4b)는 치료될 각막(6)의 영역을 커버하는 바, 즉 상기 광학적 접촉 글라스 요소는 일부 실시예들에 따르면, 전형적으로 원형을 가지며, 이의 직경은 대략 각막의 직경에 대응하거나 또는 적어도 각막 영역 - 이 각막 영역 하에서 치료가 수행된다 - 의 직경에 대응한다. 상기 접촉 글라스 요소의 두께는 전형적으로 1 내지 8 mm의 범위 내에 있고, 일반적으로는 대략 3mm이다.
도 2는 종래의 안구-접촉 요소(4a)의 경우의 파(wave)의 진행을 도시한다. 매우 고품질의 펨토초 레이저 빔(1)이 양질의 포커싱 렌즈(2)를 향해 가해지는 바, 예컨대 상기 포커싱 렌즈는
Figure pat00026
/10의 파면 에러가 생기게 한다. 포커싱 렌즈(2)는 입사 펨토초 레이저 빔(1)을 여전히 고품질을 보이는 포커싱된 펨토초 레이저 빔(3)으로 모이게 한다(bundle). 본 발명의 맥락 내에서, 고품질의 레이저 빔은 적은 파면 에러를 뜻한다. 포커싱된 펨토초 레이저 빔은 종래의 안구-접촉 요소(4a), 예컨대, 안압계 플레이트 또는 안압계 렌즈를 타격한다(strike). 종래의 안구-접촉 요소들은 예컨대, 2.2
Figure pat00027
의 파면 에러가 생기게 한다. 종래의 안구-접촉 요소의 낮은 광학적 품질에 의해, 파면 에러(7a)가 유발된다. 그러므로, 포커싱된 펨토초 레이저 빔(3)으로부터 비롯된 포커스 영역들(5a)의 직경은 에어리 함수에 기초하여 획득될 수 있는 이론적 직경보다 현저하게 크다. 더욱이, 종래의 안구-접촉 요소 내에 유발되는 파면 에러들에 의해, 포커스 영역들(5a)은 다양한 그리고/또는 비-균일한 포커스 깊이들 ha에 위치된다.
포커스 영역들(5a)의 상대적으로 큰 직경에 의해, 높은 레이저-펄스 에너지가 각막 내의 절개를 위한 레이저로 유발된 광학적 파괴를 획득하기 위해 요구된다. 더욱이, 치료의 최적의 결과 - 즉, 절개의 품질 - 가 달성되지 못하는 바, 그 이유는 포커스 영역들(5a)이 다양한 그리고/또는 비-균일한 포커스 깊이들 ha에 위치되고, 그러므로 큰 거칠기를 갖는 펨토초 레이저 절개가 유발되기 때문이다.
도 3은 본 발명에 따른 광학적 안구-접촉 요소의 경우의 파면 에러를 도시한다. 도 3은 도 2와 유사하며, 도면들에서 유사한 컴포넌트들 및 요소들은 동일한 도면 부호들로 라벨링된다.
고품질의, 즉, 낮은 파면 에러를 갖는 펨토초 레이저 빔(1)은 약
Figure pat00028
/10의 파면 에러가 생기게 하는 포커싱 렌즈(2)에 의해 낮은 파면 에러를 갖는 포커싱된 펨토초 레이저 빔(3)으로 모아진다. 포커싱된 펨토초 레이저 빔(3)은 기껏해야 약
Figure pat00029
/2, 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00030
/4, 가장 바람직하게는 기껏해야 약
Figure pat00031
/10의 파면 에러가 생기게 하는 광학적 안구-접촉 요소(4b)를 횡단한다. 본 발명에 따른 광학적 안구-접촉 요소(4b)에 의해 야기되는 낮은 파면 에러에 의해, 파면들(7b)은 또한, 고품질을 가진다. 그러므로, 포커싱된 펨토초 레이저 빔(3)으로부터 비롯된 각막 내의 포커스 영역들은 거의 에어리 함수로부터 비롯된 최소 직경을 보인다. 더욱이, 포커스 영역들은 각막(6) 내에 거의 일정한 깊이 hb에 위치되고, 절개의 거칠기는 경미하다.
시뮬레이션들은 1035 nm ± 2.5 nm의 파장을 갖는 펨토초 레이저 빔의 경우 및 2.20
Figure pat00032
의 파면 에러가 생기게 하는 종래의 광학적 안구-접촉 요소의 경우, 30 μm 이상의 포커스 영역의 반경이 유발됨을 보여주었다. 공기 중에서, 포커스 영역들의 중심은 광학적 안구-접촉 요소와 공기 사이의 경계면으로부터 220 μm의 거리에 위치될 수 있다. 종래의 광학적 안구-접촉 요소의 경우, 1.41
Figure pat00033
의 포커스 평면에서의 파면 에러 PV(peak-valley)가 유발된다.
동일한 조건들 하에서, 0.00
Figure pat00034
의 파면 에러가 생기게 하는 이상적인 광학적 안구-접촉 요소의 경우, 포커스 영역에 대해 15 μm이상의 반경이 유발된다. 공기중에서, 포커스 영역의 중심은 광학적 안구-접촉 요소와 공기 사이의 경계면으로부터 380 μm 거리에 위치될 수 있다. 오직 0.62
Figure pat00035
의 레이저 빔의 파면 에러 PV가 포커스 영역에 유발된다.
상기 시뮬레이션에서, 본 발명에 다른 안구-접촉 요소(4b)는 7 mm의 두께를 보였고, 물질 BK7을 이용한 평면-평행 플레이트(plane-parallel plate)로 형성되었다. 입력 빔은 가우시안 평면파(Gaussian plane wave)를 이용한 15 mm의 직경을 가졌다. 치료의 필드(field)는 6 mm의 직경을 가졌다. 포커싱 오브젝티브는 두 개의 발산 렌즈(diverging lens)들 및 하나의 포커싱 렌즈를 포함했다. 어떠한 제조 공차 및 어떠한 포커싱 오브젝티브들의 비구면(aspherical surface)들도 고려되지 않았다. 공기중에서 오브젝티브의 포커스 길이는 마지막 주요 평면(principal plane)으로부터 시작하여 38mm로 고정되었다.
시뮬레이션은 단지 광학적 접촉 요소의 파면 품질 영향의 대략적인 데몬스트레이션을 나타낸다. 정밀한 포커싱 오브젝티브를 갖는 실제 시스템들에서, 즉, 단순한 본 시물레이션의 경우에서와 같이 세 개의 렌즈들을 갖는 단순한 오브젝티브를 갖는 것이 아닌 실제 시스템들에서, 광학적 접촉 요소의 평균 파면 품질의 영향은 분명히 더 클 것인 바, 그 이유는 dF
Figure pat00036
5μm의 포커스 직경들은 사실상 최적의 광학 디바이스들로 획득되기 때문이다. 비-최적화된 안압계 플레이트의 영향의 결과는
Figure pat00037
μm의 포커스 직경으로 뚜렷이 좋지 못할(poorer) 것이다. 양호한 파면 에러 정정을 갖는 광학적 접촉 요소의 사용이 이루어지는 경우, 약 10 mm 내지 12 mm의 - 실제로는 보다 큰 - 스캔 필드는 또한, 저조한 파면 에러 정정을 갖는 광학적 접촉 요소에 비교해 차이들을 증가시키는 강한 경향을 가진다.
본 발명은, 포커스 영역들의 직경이 거의 최소의 이론적으로 가능한 값을 보이며, 그 결과, 매우 낮은 펨토초 펄스 에너지가 레이저로-유도된 광학적 돌파(breakthrough)를 생성하기 위해 요구된다는 장점을 가진다. 더욱이, 본 발명에 따른 광학적 안구-접촉 요소는 고품질의 절개들을 가능하게 하는 바, 그 이유는 포커스 영역들이 광학적 안구-접촉 요소로부터 소정 거리에 위치되기 때문이다.
본 발명은 또한 첨부된 특허 청구 범위에 기술된다. 모든 청구항들의 구성은 결합될 수 있으며, 특히 종속항들 중 하나 이상은 이들이 인용하는 청구항에 결합될 수 있다.

Claims (21)

  1. 안과 수술(ophthalmic surgery)을 수행하기 위한 장치로서,
    광빔(light beam)을 생성하도록 구성된 광 소스와;
    상기 광 소스와 광학적으로 통신하는 포커싱 렌즈 - 상기 포커싱 렌즈는 상기 광빔을 포커싱된 광빔으로 포커싱하도록 구성되며 - 와;
    치료될 안구와 접촉하도록 구성된 접촉 글라스 요소 - 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 대해 적어도 90%의 전송비(transmission ratio)를 가지고, 상기 포커싱된 광빔이 상기 접촉 글라스 요소를 통과할 때 상기 포커싱된 광빔에 기껏해야 약
    Figure pat00038
    /2의 파면 에러(wavefront error)를 도입하도록 구성되며, 상기 포커싱 렌즈는 상기 포커싱된 광빔이 상기 안구의 각막(cornea) 내에 포커스 영역(region of focus)을 가지게 하도록 구성되고, 포커싱된 영역은 15 μm 또는 그 미만의 직경을 가지고 - 와; 그리고
    상기 각막 내에 절개부(incision)를 형성하기 위해 상기 안구의 각막 내에 치료 영역 위에 15 μm 또는 그 미만의 직경을 갖는 포커스 영역을 가진 포커싱된 광빔을 반복적으로 그리고 연속적으로 가하도록(direct) 구성된 광학적 수단을 포함하여 구성되고, 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 대해 1.500 내지 1.550의 범위의 굴절률(index of refraction)을 가진 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 렌즈인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 상기 안구를 평평하게 만들도록(applanate) 구성된 안압계 플레이트(applanation plate)인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 플레이트는 평면-평행 플레이트(plane-parallel plate)인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 대략 7mm 또는 그 미만의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 대략 1 mm 또는 이를 초과하는 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 포커싱 렌즈는 상기 광빔에 기껏해야
    Figure pat00039
    /10의 파면 에러를 도입하는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 광학적 수단은 평면 절개부(planar incision)를 생성하도록 구성된 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 광학적 수단은 상기 포커스 영역이 상기 치료 영역에서 실질적으로 일정한 깊이를 가지도록 레이저 빔을 포커싱하도록 구성된 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 광학적 수단은 상기 절개부가 실질적으로 일정한 깊이를 가지게 하도록 구성된 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 생성된 광빔은 300 nm 내지 1900 nm 사이의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 광빔을 생성하는 상기 광 소스는 펄스 레이저 소스(pulsed laser source)이며, 특히 펨토초(femtosecond) 레이저인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 상기 광빔이 상기 접촉 글라스 요소를 통과할 때 상기 광빔에 기껏해야
    Figure pat00040
    /4의 파면 에러를 도입하도록 구성된 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 상기 광빔이 상기 접촉 글라스 요소를 통과할 때 상기 광빔에 기껏해야
    Figure pat00041
    /10의 파면 에러를 도입하도록 구성된 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하기 위한 장치.
  15. 안과 수술을 수행하는 방법으로서,
    광빔을 생성하는 단계와;
    상기 광빔을 포커싱된 광빔으로 포커싱하는 단계와;
    접촉 글라스 요소를 제공하는 단계 및 치료될 안구에 상기 접촉 글라스 요소를 적용하는 단계와, 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 대해 적어도 90%의 전송비(transmission ratio)를 가지고, 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 대해 1.500 내지 1.550의 범위의 굴절률(index of refraction)을 가진 물질을 포함하며;
    상기 접촉 글라스 요소를 통해 그리고 상기 안구에 상기 포커싱된 광빔을 가하는 단계와, 상기 접촉 글라스 요소는 상기 포커싱된 광빔에 기껏해야 약
    Figure pat00042
    /2의 파면 에러를 도입하고, 상기 포커싱된 광빔은 상기 안구의 각막 내에 포커스 영역을 가지며, 상기 포커스 영역은 15 μm 또는 그 미만의 직경을 가지고; 그리고
    상기 각막에 절개부를 형성하기 위해 상기 안구의 각막 내의 치료 영역 위로 15 μm 또는 그 미만의 직경을 갖는 상기 포커스 영역을 가진 상기 포커싱된 광빔을 연속적으로 가하도록 상기 가하는 단계를 반복하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하는 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 렌즈인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하는 방법.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 상기 안구를 평평하게 만들도록 구성된 안압계 플레이트인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하는 방법.
  18. 제15항에 있어서,
    광빔은 펨토초 범위 내의 펄스화된 지속 기간(pulsed duration)들을 갖는 펄스 광빔인 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하는 방법.
  19. 제15항에 있어서,
    상기 포커싱 렌즈는 상기 광빔에 기껏해야 약
    Figure pat00043
    /10의 파면 에러를 도입하는 것을 특징으로 하는 안과 수술을 수행하는 방법.
  20. 안구에 접촉하도록 구성된 접촉 글라스 요소로서,
    상기 접촉 글라스 요소는 1.500 내지 1.550 범위의 굴절률을 갖는 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 접촉 글라스 요소.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 접촉 글라스 요소는 렌즈, 또는 안구를 평평하게 만들도록 구성된 안압계 플레이트인 것을 특징으로 하는 접촉 글라스 요소.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9629747B2 (en) 2014-09-17 2017-04-25 Iantech, Inc. Devices and methods for cutting lenticular tissue
KR102564232B1 (ko) 2014-09-17 2023-08-08 칼 짜이스 메디텍 캐터랙트 테크놀로지 인크. 수정체 조직의 제거를 위한 장치 및 방법
US10624785B2 (en) 2016-01-30 2020-04-21 Carl Zeiss Meditec Cataract Technology Inc. Devices and methods for ocular surgery
AU2017232627B2 (en) * 2016-03-17 2021-07-29 Carl Zeiss Meditec Cataract Technology Inc. Devices and methods for cutting lenticular tissue
US10156723B2 (en) * 2016-05-12 2018-12-18 Google Llc Display pre-distortion methods and apparatus for head-mounted displays
ES2939887T3 (es) 2016-10-26 2023-04-27 Zeiss Carl Meditec Inc Dispositivo para cortar un cristalino en un ojo
CN107065182A (zh) * 2017-03-08 2017-08-18 上海乐蜗信息科技有限公司 一种虚拟现实光学透镜及虚拟现实设备
CN107242904B (zh) * 2017-07-19 2023-06-20 重庆半岛医疗科技有限公司 一种光束均化的治疗装置
EP3723676B1 (en) 2017-12-14 2023-07-05 Carl Zeiss Meditec Cataract Technology Inc. Devices for ocular surgery
EP3517067A1 (en) * 2018-01-24 2019-07-31 Koninklijke Philips N.V. Light-based skin treatment device
DE102020125552A1 (de) * 2020-09-30 2022-03-31 Schwind Eye-Tech-Solutions Gmbh Verfahren zum Bereitstellen von Steuerdaten für einen augenchirurgischen Laser einer Behandlungsvorrichtung

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007510478A (ja) * 2003-11-14 2007-04-26 カール ツァイス メディテック アクチエンゲゼルシャフト レーザ治療器具をオブジェクトに接続するアダプター
WO2012041347A1 (de) * 2010-09-30 2012-04-05 Wavelight Gmbh Schnittstelleneinheit zur positionierung eines bestrahlungsobjekts gegenüber einer strahlungsquelle

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6325792B1 (en) * 1991-11-06 2001-12-04 Casimir A. Swinger Ophthalmic surgical laser and method
US6899707B2 (en) * 2001-01-29 2005-05-31 Intralase Corp. Applanation lens and method for ophthalmic surgical applications
US7167622B2 (en) * 2004-04-08 2007-01-23 Omniguide, Inc. Photonic crystal fibers and medical systems including photonic crystal fibers
RU2282425C1 (ru) * 2005-03-28 2006-08-27 Эрнест Витальевич Бойко Способ рефракционной лазерной термокератопластики и устройство для его осуществления
EP1837696B1 (de) * 2006-03-20 2016-10-12 WaveLight GmbH Optisches Abbildungssystem und Verfahren zum Steuern sowie Verwendung eines solchen
EP1889588B1 (de) * 2006-07-04 2011-06-29 WaveLight GmbH Verbessertes Augenkontaktelement
US20120130357A1 (en) * 2006-07-04 2012-05-24 Wavelight Ag Low Wavefront Error Devices, Systems, and Methods for Treating an Eye
ES2336611T3 (es) * 2007-03-14 2010-04-14 Wavelight Ag Aparato para el acoplamiento de un elemento al ojo.
JP5785182B2 (ja) * 2009-12-07 2015-09-24 バーフェリヒト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 眼科レーザ手術用装置及び眼科レーザ手術のための機器の作動方法
ES2536085T3 (es) * 2010-10-26 2015-05-20 Alcon Research, Ltd Lente de contacto quirúrgica oftalmoscópica

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007510478A (ja) * 2003-11-14 2007-04-26 カール ツァイス メディテック アクチエンゲゼルシャフト レーザ治療器具をオブジェクトに接続するアダプター
WO2012041347A1 (de) * 2010-09-30 2012-04-05 Wavelight Gmbh Schnittstelleneinheit zur positionierung eines bestrahlungsobjekts gegenüber einer strahlungsquelle

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AU2014203353B2 (en) 2015-11-19
KR101645603B1 (ko) 2016-08-05
AU2014203353A1 (en) 2015-01-22
EP2815730A1 (en) 2014-12-24
RU2014124946A (ru) 2015-12-27
MX356146B (es) 2018-05-15
CN104224436A (zh) 2014-12-24

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