KR20140139283A - Preparing method for thin film touch screen panel - Google Patents

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KR20140139283A
KR20140139283A KR20130059756A KR20130059756A KR20140139283A KR 20140139283 A KR20140139283 A KR 20140139283A KR 20130059756 A KR20130059756 A KR 20130059756A KR 20130059756 A KR20130059756 A KR 20130059756A KR 20140139283 A KR20140139283 A KR 20140139283A
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a manufacturing method of a thin film touch screen panel. The manufacturing method of a thin film touch screen panel comprises the steps of: (S1) coating adhesive composition on one side of a support or a base film in a pattern spaced apart at predetermined intervals to form an adhesive layer; (S2) attaching the support and the base film through the adhesive layer; (S3) forming a transparent electrode laminate on the base film; and (S4) peeling the base film off the adhesive layer. Accordingly, the manufacturing method of a thin film touch screen panel enables the process of forming transparent electrode laminate accurately and stably and prevents degradation in flatness of the base film due to the evaporation of the adhesive.

Description

박막 터치 스크린 패널의 제조 방법 {Preparing method for thin film touch screen panel}[0001] The present invention relates to a thin film touch screen panel,

본 발명은 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a thin film touch screen panel.

터치 스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.The touch screen panel is an input device that allows a user to input a command by selecting an instruction displayed on a screen of a video display device or the like as a human hand or an object.

이를 위해, 터치 스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen panel is provided on the front face of the image display device and converts the contact position, which is in direct contact with a human hand or an object, into an electrical signal. Thus, the instruction content selected at the contact position is accepted as the input signal.

이와 같은 터치 스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen panel can be replaced with a separate input device connected to the image display device such as a keyboard and a mouse, and thus the use range thereof is gradually expanding.

터치 스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.The touch screen panel is known as a resistive film type, a light sensing type, and a capacitive type. Among the capacitive touch screen panels, a conductive sensing pattern is formed when a human hand or an object is contacted, The contact position is converted into an electrical signal by detecting a change in capacitance formed with another sensing pattern or a ground electrode or the like.

이와 같은 터치 스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치 스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or an organic light emitting display device and is often commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness characteristics.

또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치 스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In addition, in recent years, a flexible flat panel display has been developed, and in this case, the touch screen panel attached on the flexible flat panel display also needs a flexible characteristic.

단, 상기 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은 터치 센서를 구현하는 센싱패턴 등을 형성하기 위해 박막 성막, 패턴 형성 공정 등이 필요하므로, 고 내열성 및 내화학성 등의 특성이 요구된다. 이에 따라 내열성이 우수한 폴리이미드 등의 수지를 경화시켜 형성한 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하게 된다.However, since the capacitive touch screen panel requires a thin film formation process, a pattern formation process, and the like in order to form a sensing pattern for implementing a touch sensor, characteristics such as high heat resistance and chemical resistance are required. Thus, a transparent electrode laminate is formed on a base film formed by curing a resin such as polyimide excellent in heat resistance.

한편, 그러한 얇고 유연한 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려워 투명 전극 적층체를 형성하기가 어려운 문제가 있고, 이러한 문제점에 대한 대안은 아직 확립되지 않았다.On the other hand, such a thin and flexible base film can easily bend or twist, making handling difficult in the manufacturing process difficult to form a transparent electrode laminate, and an alternative to such a problem has not yet been established.

한국공개특허 제2012-133848호에는 플렉서블 터치 스크린 패널이 개시되어 있으나, 상기 문제점에 대한 대안을 제시하지 못하였다.
Korean Patent Laid-Open Publication No. 2012-133848 discloses a flexible touch screen panel, but fails to provide an alternative to the above problem.

한국공개특허 제2012-133848호Korea Patent Publication No. 2012-133848

본 발명은 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a thin film touch screen panel that allows the transparent electrode laminate forming process to proceed more precisely and stably.

본 발명은 점착제 중 용매 성분의 기화에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
Disclosed is a thin film touch screen panel manufacturing method capable of suppressing a decrease in smoothness of a base film due to vaporization of a solvent component in a pressure sensitive adhesive.

1. (S1) 지지체 또는 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포하여 점착층을 형성하는 단계; (S2) 상기 점착층을 통해 상기 지지체 및 기재 필름을 점착하는 단계; (S3) 상기 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계; 및 (S4) 상기 기재 필름을 상기 점착층으로부터 박리하는 단계를 포함하는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.1. (S1) applying a pressure-sensitive adhesive composition on a surface of a support or a base film in a pattern spaced apart by a predetermined distance to form a pressure-sensitive adhesive layer; (S2) adhering the support and the base film through the adhesive layer; (S3) forming a transparent electrode laminate on the base film; And (S4) peeling the base film from the adhesive layer.

2. 위 1에 있어서, 상기 점착제 조성물은 유리 전이 온도가 150 내지 400℃인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.2. The process for producing a thin film touch screen panel according to 1 above, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a glass transition temperature of 150 to 400 ° C.

3. 위 1에 있어서, 상기 점착제 조성물은 박리력이 1 내지 100g/cm2인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.3. The method of manufacturing a thin film touch screen panel according to 1 above, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a peel force of 1 to 100 g / cm 2 .

4. 위 1에 있어서, 상기 점착층은 점착제 조성물의 도포 이후에 150 내지 400℃에서 1 내지 30분간의 건조 공정을 거쳐 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.4. The method of manufacturing a thin film touch screen panel according to 1 above, wherein the adhesive layer is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition and drying at 150 to 400 ° C for 1 to 30 minutes.

5. 위 1에 있어서, 상기 기재 필름은 유리, 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰산(polyether sulfonate), 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 제조된 필름인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.5. The film of claim 1, wherein the substrate film is selected from the group consisting of glass, polyethylene ether phthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyether imide, Wherein the film is a film made of polyether sulfone, polyether sulfonate, polyimide or polyacrylate.

6. 위 1에 있어서, 상기 기재 필름의 두께는 1 내지 150㎛인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.6. The method of manufacturing a thin film touch screen panel according to 1 above, wherein the base film has a thickness of 1 to 150 mu m.

7. 위 1에 있어서, 상기 (S2)단계와 (S3)단계 사이에 지지체 및 기재 필름 사이에 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단하는 씰을 형성하는 단계를 더 포함하는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.7. The thin film touch screen panel of claim 1, further comprising a seal between the support and the substrate film between the step (S2) and the step (S3) ≪ / RTI >

8. 위 7에 있어서, 점착층은 점착제 조성물의 도포 이후에 1차 건조 및 2차 건조를 수행하여 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.8. The method of manufacturing a thin film touch screen panel according to 7 above, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by performing primary drying and secondary drying after application of the pressure-sensitive adhesive composition.

9. 위 8에 있어서, 상기 2차 건조는 150 내지 400℃에서 수행되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.9. The method of claim 8, wherein the secondary drying is performed at 150 to 400 < 0 > C.

10. 위 7에 있어서, 상기 씰은 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간이 진공인 상태에서 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
10. The method of manufacturing a thin film touch screen panel according to 7 above, wherein the seal is formed in a vacuum state in a space between the application regions of the adhesive composition.

본 발명은 기재 필름을 지지체에 접합하여 후속 공정을 수행함으로써 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.In the present invention, the transparent electrode laminate forming process can be performed more precisely and stably by bonding a base film to a support and performing a subsequent process.

본 발명은 점착제 중 용매 성분의 기화에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있다.
The present invention can suppress the decrease in smoothness of the base film due to the vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive.

도 1은 점착제 조성물을 지지체에 도포한 일 구현예를 나타낸 것이다.
도 2는 점착층을 통해 접합된 지지체 및 기재 필름의 단면도를 나타낸 것이다.
도 3은 지지체 및 기재 필름의 점착 이후에 씰을 형성한 일 구현예를 나타낸 것이다.
도 4는 지지체 및 기재 필름의 점착 이후에 씰을 형성한 일 구현예의 단면도를 나타낸 것이다.1 shows an embodiment in which a pressure-sensitive adhesive composition is applied to a support.
2 is a cross-sectional view of a substrate and a substrate film bonded together through an adhesive layer.
Figure 3 shows an embodiment in which a seal is formed after adhesion of the support and substrate film.
Figure 4 shows a cross-sectional view of an embodiment in which a seal is formed after adhesion of the support and substrate film.

본 발명은 (S1) 지지체 또는 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포하여 점착층을 형성하는 단계; (S2) 상기 점착층을 통해 상기 지지체 및 기재 필름을 점착하는 단계; (S3) 상기 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계; 및 (S4) 상기 기재 필름을 상기 점착층으로부터 박리하는 단계를 포함함으로써, 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하며, 점착제의 기화에 의한 기재 필름의 평활도 저하 문제를 억제할 수 있는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.(S1) applying a pressure-sensitive adhesive composition on a surface of a support or a substrate film in a pattern spaced apart at a predetermined interval to form a pressure-sensitive adhesive layer; (S2) adhering the support and the base film through the adhesive layer; (S3) forming a transparent electrode laminate on the base film; And (S4) separating the base film from the pressure-sensitive adhesive layer, so that the step of forming the transparent electrode layered body can be more precisely and stably carried out, and the problem of lowering the smoothness of the base film due to vaporization of the pressure- To a method of manufacturing a thin film touch screen panel.

이하 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

터치 스크린 패널은 무게를 줄이고 휴대성을 개선하기 위해 점차 박형화되고 있는데, 이러한 박막 터치 스크린 패널에 사용되는 박막 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려울 수 있다.Touch screen panels have become increasingly thinner in order to reduce weight and improve portability. Thin film substrate films used in such thin film touch screen panels can easily bend or twist, making handling during the manufacturing process difficult.

이에 따라 본 발명의 제조 방법은 기재 필름을 지지체에 점착하여 고정시킴으로써 취급성을 향상시켜, 후속 공정인 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.Accordingly, the manufacturing method of the present invention improves the handling property by adhering and fixing the base film to the support, so that the process of forming the transparent electrode laminate, which will be described later, can proceed more precisely and stably.

한편, 점착층을 이루는 점착제 중 용매 성분은 후술할 투명 전극 적층체 형성을 위한 증착 공정, 열처리 공정 등의 고온 공정에 의해 기화될 수 있는데, 그러한 경우에 기포가 발생하여 기재 필름의 평활도가 저하될 수 있다.On the other hand, the solvent component of the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer can be vaporized by a high-temperature process such as a vapor deposition process or a heat treatment process for forming a transparent electrode laminate described later. In such a case, bubbles are generated, .

그러나, 본 발명은 지지체 또는 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포하여 점착층을 형성함으로써 가스가 배출될 수 있는 배출구를 마련하게 되므로, 점착제 중 용매 성분이 후속 공정에 의해 기화되더라도 점착제 조성물이 도포되지 않은 부위를 통해 가스가 배출되어 상기 문제점을 해결할 수 있다.
However, in the present invention, the pressure sensitive adhesive composition is coated on one side of the support or base film in a pattern spaced apart by a predetermined distance to form an adhesive layer, thereby providing a discharge port through which the gas can be discharged. Even if vaporized, the gas is discharged through a portion to which the pressure-sensitive adhesive composition is not applied, so that the above problem can be solved.

이하 도면을 참조하여 본 발명의 일 구현예를 단계별로 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

먼저, 지지체(100) 또는 기재 필름(300)의 일면에 점착제 조성물을 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포하여 점착층(200)을 형성한다(S1).First, an adhesive layer 200 is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition on a surface of a support 100 or a base film 300 in a spaced-apart pattern (S1).

도 1에는 본 발명의 방법에 따라 점착제 조성물를 도포한 구현예가 도시되어 있고 도 2에는 점착층(200)을 형성하여 이를 통해 접합한 지지체(100) 및 기재 필름(300)의 단면도가 도시되어 있는데, 이와 같이 본 발명에 따른 점착제 조성물은 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포된다.FIG. 1 shows an embodiment in which a pressure-sensitive adhesive composition is applied according to the method of the present invention. FIG. 2 shows a cross-sectional view of a support 100 and a base film 300, Thus, the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is applied in a pattern spaced apart at a predetermined interval.

상기 점착층(200)이 형성되지 않은 부위는 점착제 중 용매 성분이 후속 공정에 의해 기화되었을 때 가스 배출구 역할을 한다.The portion where the pressure-sensitive adhesive layer 200 is not formed serves as a gas outlet when the solvent component in the pressure-sensitive adhesive is vaporized by a subsequent process.

본 발명에 따른 점착제 조성물이 도포되는 패턴의 형태는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 원형; 타원형; 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 팔각형, 십이각형 등의 다각형 등 일 수 있다.The form of the pattern to which the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is applied is not particularly limited, and examples thereof include a circular shape; Oval; A polygon such as a triangle, a rectangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, a twelve and the like.

상기 패턴 간의 소정의 간격은 우수한 점착력을 제공하면서 가스 배출 역할을 충분히 할 수 있도록 하는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 1 내지 100mm일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 50mm일 수 있다. The predetermined gap between the patterns is not particularly limited as long as it can provide a good adhesive force and sufficiently perform a gas discharging function, and may be, for example, 1 to 100 mm, and preferably 10 to 50 mm.

상기 패턴은 소정 간격으로 이격되어 형성되므로 적어도 두 개 이상의 패턴으로 형성되며, 다수의 가스 배출구를 마련하여 점착제 중 용매 성분의 기화에 의한 문제 해결 효과를 극대화하고 가스 배출 시간을 단축하여 공정 효율을 향상하기 위해 다수의 패턴으로 형성되는 것이 유리하다.Since the pattern is formed at a predetermined distance, it is formed of at least two patterns. By providing a plurality of gas outlets, it is possible to maximize the problem solving effect by vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive, It is advantageous to be formed in a plurality of patterns.

또한, 점착력 개선을 위해 도 1 하단에 도시된 바와 같이 점착제 조성물의 도포 이후에 도포 부위를 두르는 형태로 점착제 조성물을 추가로 더 도포할 수 있다.Further, as shown in the lower part of FIG. 1, the pressure-sensitive adhesive composition may further be applied in the form of covering the application site after application of the pressure-sensitive adhesive composition.

점착제 조성물을 도포하는 방법으로는 당분야에서 통상적으로 사용되는 방법이 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 푸어링, 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 드롭핑, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등의 방법이 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.As a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition, a method commonly used in the art can be applied without limitation. For example, methods such as fouling, spin coating, spray coating, dip coating, dropping, roll coating, and gravure coating may be applied, but are not limited thereto.

점착층(200)은 점착제 조성물의 도포 이후에 건조 공정을 거쳐서 형성될 수 있다.The adhesive layer 200 may be formed through a drying process after application of the pressure-sensitive adhesive composition.

건조 온도 및 시간은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 150 내지 400℃에서 1 내지 30분간 수행될 수 있다. 점착층(200)을 상기 조건에서 건조하는 경우에 충분한 점착력을 가지면서 후속 공정에서의 기포 발생을 최소화할 수 있다.The drying temperature and time are not particularly limited, and can be carried out, for example, at 150 to 400 ° C for 1 to 30 minutes. When the adhesive layer 200 is dried under the above conditions, it is possible to minimize the occurrence of bubbles in a subsequent process while having a sufficient adhesive force.

본 발명에 따른 점착제 조성물은 지지체(100) 또는 기재 필름(300)의 일면에 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포되므로 충분한 박리력을 제공할 수 있도록 박리력이 높은 것이 바람직하며, 예를 들면 박리력이 1 내지 100g/cm2일 수 있고, 바람직하게는 5 내지 50g/cm2일 수 있다. 박리력이 1 내지 100g/cm2인 경우에 충분한 박리력을 제공하면서 잔류물이나 기재 필름(300)의 손상 없이 박리가 이루어질 수 있다.Since the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is applied to a surface of the support 100 or the base film 300 at a predetermined interval, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition has a high peeling force so as to provide sufficient peeling force. For example, Can be 1 to 100 g / cm < 2 >, preferably 5 to 50 g / cm < 2 >. When the peel force is in the range of 1 to 100 g / cm < 2 >, peeling can be performed without damaging the residue or the base film 300 while providing sufficient peeling force.

또한, 점착제 중 용매 성분의 기화를 최소화하기 위해 점착제 조성물은 유리 전이 온도가 높은 것이 바람직하고, 예를 들면 150 내지 400℃일 수 있고, 바람직하게는 200 내지 370℃일 수 있다. 점착제 조성물의 유리 전이 온도가 150 내지 400℃인 경우 용매 성분의 기화를 최소화 할 수 있다.In order to minimize the vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive composition preferably has a high glass transition temperature, and may be, for example, 150 to 400 ° C, and preferably 200 to 370 ° C. When the pressure-sensitive adhesive composition has a glass transition temperature of 150 to 400 ° C, vaporization of the solvent component can be minimized.

고온의 후속 공정에 대한 내구성, 점착력, 공정 효율 등을 고려하여 바람직하게는 점착제 조성물의 유리 전이 온도는 점착제 조성물의 건조 공정 온도와 유사하거나 이보다 약간(예를 들면 0.01 내지 80℃) 더 높을 수 있다.The glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive composition may preferably be higher or slightly higher than the drying process temperature of the pressure-sensitive adhesive composition (for example, 0.01 to 80 ° C) in consideration of durability, adhesion, process efficiency, .

본 발명에 따른 점착제 조성물은 상기 조건을 만족하는 것이라면 특별히 한정되지 않고 당 분야에서 통상적으로 사용되는 폴리에스터 수지, 에폭시 수지, 실록산 수지 등을 포함하는 점착제 조성물을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions, and a pressure-sensitive adhesive composition comprising a polyester resin, an epoxy resin, a siloxane resin or the like which is commonly used in the art can be used.

지지체(100)로는 기재 필름(300)이 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 유리, 석영, Si 웨이퍼, 서스 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 유리가 사용될 수 있다.The support 100 may be used without any particular limitation as long as the base film 300 is provided with an appropriate strength so that the base film 300 can be easily bent or twisted during the process and hardly affected by heat or chemical treatment. For example, glass, quartz, Si wafer, SUSH and the like can be used, and preferably glass can be used.

기재 필름(300)은 투명 전극 적층체 형성 공정 및 열처리 공정 등의 고온에서 수행되는 공정에서 발생할 수 있는 변형을 최소화 할 수 있는 내열성이 우수한 것이라면 당분야에서 통상적으로 사용되는 기재 필름(300)이 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유리, 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰산(polyether sulfonate), 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 제조된 필름이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.If the base film 300 is excellent in heat resistance that can minimize deformation that may occur in a process performed at a high temperature such as a transparent electrode laminate forming process and a heat treatment process, the base film 300, which is commonly used in the art, For example, glass, polyethylene ether phthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyether imide, polyether, A film made of polyether sulfone, polyether sulfonate, polyimide or polyacrylate may be used, but is not limited thereto.

기재 필름(300)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1 내지 150㎛일 수 있다.The thickness of the base film 300 is not particularly limited, and may be, for example, 1 to 150 mu m.

이후에, 상기 점착층(200)을 통해 상기 지지체(100) 및 기재 필름(300)을 점착한다(S2).Thereafter, the support 100 and the base film 300 are adhered through the adhesive layer 200 (S2).

본 발명의 다른 측면에 있어서, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제조 방법은 지지체(100) 및 기재 필름(300)의 점착 이후에 지지체(100) 및 기재 필름(300) 사이에 씰(400)을 형성하여 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단시킬 수 있다.3, the manufacturing method of the present invention is characterized in that a seal (not shown) is formed between the support 100 and the base film 300 after adhesion of the support 100 and the base film 300 400 may be formed to block the space between the application regions of the pressure-sensitive adhesive composition and the exterior.

씰(400)을 형성하여 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단시킴으로써, 후속 공정의 수행 중에 점착제 조성물 도포 부위 사이의 에천트 등의 이물이 들어가는 것을 방지할 수 있어 제품의 불량률을 줄이고 공정 수율을 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 점착제 중 기화된 용매 성분은 추후 제조되는 전극층 및 기타 소자들의 오염을 야기할 수도 있는데, 씰(400)을 구비함으로써 기화된 용매 성분의 배출을 원천적으로 방지하여 이에 의한 설비 오염 등의 문제를 없앨 수 있다.By forming the seal 400 to block the space between the application areas of the pressure sensitive adhesive composition and the outside, it is possible to prevent foreign matter such as etchant from entering between the application areas of the pressure sensitive adhesive composition during the subsequent process, Can be further improved. In addition, the solvent component vaporized in the pressure-sensitive adhesive may cause contamination of the electrode layer and other components to be manufactured later. By providing the seal 400, the vaporized solvent component is prevented from being discharged, It can be eliminated.

도 3에는 본 발명에 따라 씰(400)을 형성한 여러 구현예가 도시되어 있고(지지체(100) 상에 기재 필름(300)이 점착된 상태이나 기재 필름(300)은 미도시함), 도 4에는 지지체(100) 및 기재 필름(300)의 점착 이후에 씰(400)을 형성한 경우의 단면도가 도시되어 있다.3 shows various embodiments in which the seal 400 is formed according to the present invention (the base film 300 is adhered on the support 100 or the base film 300 is not shown) Sectional view of a case where the seal 400 is formed after adhesion of the support 100 and the base film 300 is shown.

씰(400) 형성 부위는 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단시킬 수 있다면 특별히 한정되지 않으며, 도 3에 예시된 바와 같이 여러 부위에 서로 연결되거나 서로 분리되도록 형성될 수 있다.The portion where the seal 400 is formed is not particularly limited as long as it can block the space between the application regions of the pressure-sensitive adhesive composition and the outside, and may be connected to each other or separated from each other as illustrated in FIG.

씰(400)은 고온의 후속 공정을 거치면서도 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단시킬 수 있도록 내열성이 우수한 접착제를 씰(400)을 형성할 부위에 도포하고, 건조 및 경화하는 공정을 거쳐 형성될 수 있다. 접착제는 상기 조건을 만족시키는 것이라면 특별히 한정되지 않고 당 분야에서 통상적으로 사용되는 접착제일 수 있다.The seal 400 is applied to a portion where the seal 400 is to be formed, and then dried and cured, so that the adhesive 400 having excellent heat resistance can seal the space between the application portions of the pressure-sensitive adhesive composition and the outside while passing through a subsequent process at a high temperature . The adhesive is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions, and it may be an adhesive usually used in the art.

또한, 씰(400)을 형성하는 경우에, 후속 공정의 진행시 점착제 중 용매 성분이 기화되면 그 배출 경로가 차단되므로, 점착제 조성물의 도포 이후에 2단계의 건조 공정을 거쳐, 고온의 후속 공정을 거쳐도 점착제 중의 용매 성분의 기화를 최대한 억제될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, when the seal 400 is formed, since the discharge path is blocked when the solvent component in the pressure-sensitive adhesive is vaporized in the subsequent process, the pressure-sensitive adhesive composition is applied after the two-step drying process, It is preferable that the vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive is suppressed as much as possible.

1차 건조 공정은 전술한 온도 및 시간 범위에서 수행될 수 있다.The primary drying process can be carried out in the temperature and time range described above.

2차 건조 공정은 고온의 후속 공정을 거쳐도 점착제가 기화되지 않도록 하기 위해 고온에서 수행되는 것이 바람직하며, 예를 들면 150 내지 400℃에서 수행될 수 있고, 바람직하게는 200 내지 370℃일 수 있다.The secondary drying step is preferably carried out at a high temperature so as not to vaporize the pressure-sensitive adhesive even through a subsequent process at a high temperature, for example, at 150 to 400 ° C, preferably 200 to 370 ° C .

그러한 측면에서 2차 건조 시간은 1 내지 30분간 수행될 수 있고, 바람직하게는 5 내지 10분일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In this regard, the secondary drying time can be 1 to 30 minutes, preferably 5 to 10 minutes, but is not limited thereto.

또한, 본 발명에 따른 씰(400)은 점착력 개선 및 기재 필름(300)의 박리 용이성의 측면에서 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간이 진공인 상태에서 형성될 수 있다. 그러한 경우에 진공 흡착의 원리로 점착력이 더욱 개선되며, 기화된 용매 성분이 점착제가 도포되지 않은 부분에 채워져 기재 필름의 평활도 저하도 억제할 수 있다.In addition, the seal 400 according to the present invention can be formed in a vacuum state in a space between the application regions of the pressure-sensitive adhesive composition in terms of improvement in adhesion and easiness of peeling off the base film 300. In such a case, the adhesive force is further improved by the principle of vacuum adsorption, and the vaporized solvent component is filled in the portion not coated with the pressure-sensitive adhesive, so that the lowering of smoothness of the base film can be suppressed.

이후에 기재 필름(300)을 점착층(200)으로부터 박리할 때, 씰(400)을 제거하면 진공 상태인 내부에 공기가 유입되면서 보다 용이하게 기재 필름(300)을 점착층(200)으로부터 박리할 수 있다.When the base film 300 is peeled off from the adhesive layer 200, air is introduced into the inside of the vacuum state when the seal 400 is removed, so that the base film 300 can be more easily peeled off from the adhesive layer 200 can do.

다음으로, 상기 기재 필름(300) 상에 투명 전극 적층체를 형성한다(S3).Next, a transparent electrode laminate is formed on the base film 300 (S3).

투명 전극 적층체를 형성하는 방법은 당 분야에 공지된 다양한 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.The transparent electrode laminate can be formed by various methods known in the art without limitation.

투명 전극 적층체는 구체적인 용도에 따라서 다양한 구조로 형성될 수 있으며, 예를 들면 터치되는 지점의 위치 정보를 제공하는 제1 투명전극층과 제2 투명전극층, 상기 제1 투명전극층과 제2 투명전극층 사이에 개재되어 두 층을 전기적으로 분리시키는 절연층, 절연층에 형성되어 제1 투명전극층과 제2 투명전극층이 전기적으로 연결될 수 있도록 하는 콘택홀 등을 포함할 수 있다.The transparent electrode laminate may be formed in various structures depending on a specific use. For example, the transparent electrode laminate may include a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer for providing positional information of a touched point, a second transparent electrode layer between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer And a contact hole formed in the insulating layer so that the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer can be electrically connected to each other.

투명 전극 적층체가 형성되면, 상기 기재 필름(300)을 상기 점착층(200)으로부터 박리한다(S4).After the transparent electrode laminate is formed, the base film 300 is peeled from the adhesive layer 200 (S4).

상기 박리 공정은 점착층(200)에 레이저를 조사하여 수행되거나, 비-레이저 공정, 예를 들면 기재 필름(300)과 지지체(100)를 각각 지그에 물려 물리적 힘으로 분리하는 공정 또는 Air 투입에 의한 공정으로 수행될 수 있다. 바람직하게는 비-레이저 공정을 사용할 수 있다.The peeling process may be performed by irradiating the adhesive layer 200 with a laser, or may be performed by a non-laser process, for example, a process of separating the base film 300 and the support 100 by a physical force, . ≪ / RTI > Preferably, a non-laser process can be used.

지지체(100) 및 기재 필름(300) 사이에 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단하는 씰(400)을 형성한 경우에는, 박리 공정은 씰을 제거한 후에 수행된다.When a seal 400 is formed between the support 100 and the base film 300 to block the space between the adhesive application site and the exterior, the peeling process is performed after removing the seal.

씰을 제거하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 커터 등을 이용한 기계적 방법, 레이저 등을 이용한 광학적 방법, 에천트 등을 이용한 화학적 방법 등의 방법으로 수행될 수 있다.The method of removing the seal is not particularly limited and can be performed by a mechanical method using a cutter, an optical method using a laser, a chemical method using an etchant, or the like.

투명 전극 적층체가 형성된 기재 필름(300)은 디스플레이 패널부와 결합되어 터치 스크린 패널로서 사용될 수 있다.
The base film 300 on which the transparent electrode stacked body is formed may be combined with the display panel portion and used as a touch screen panel.

100: 지지체 200: 점착층
300: 기재 필름 400: 씰100: support 200: adhesive layer
300: base film 400: seal

Claims (10)

(S1) 지지체 또는 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 소정 간격으로 이격된 패턴으로 도포하여 점착층을 형성하는 단계;
(S2) 상기 점착층을 통해 상기 지지체 및 기재 필름을 점착하는 단계;
(S3) 상기 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계; 및
(S4) 상기 기재 필름을 상기 점착층으로부터 박리하는 단계
를 포함하는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
(S1) applying a pressure-sensitive adhesive composition on a surface of a support or a substrate film in a pattern spaced apart by a predetermined distance to form a pressure-sensitive adhesive layer;
(S2) adhering the support and the base film through the adhesive layer;
(S3) forming a transparent electrode laminate on the base film; And
(S4) peeling the base film from the adhesive layer
Wherein the thin film touch screen panel comprises a plurality of thin film touch panels.
청구항 1에 있어서, 상기 점착제 조성물은 유리 전이 온도가 150 내지 400℃인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a glass transition temperature of 150 to 400 ° C.
청구항 1에 있어서, 상기 점착제 조성물은 박리력이 1 내지 100g/cm2인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a peel force of 1 to 100 g / cm 2 .
청구항 1에 있어서, 상기 점착층은 점착제 조성물의 도포 이후에 150 내지 400℃에서 1 내지 30분간의 건조 공정을 거쳐 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
[2] The method of claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition and drying at 150 to 400 ° C for 1 to 30 minutes.
청구항 1에 있어서, 상기 기재 필름은 유리, 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰산(polyether sulfonate), 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 제조된 필름인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
[2] The method of claim 1, wherein the substrate film is formed of a material selected from the group consisting of glass, polyethylene ether phthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyether imide, Wherein the film is a film made of polyether sulfonate, polyimide, or polyacrylate.
청구항 1에 있어서, 상기 기재 필름의 두께는 1 내지 150㎛인 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the base film has a thickness of 1 to 150 μm.
청구항 1에 있어서, 상기 (S2)단계와 (S3)단계 사이에 지지체 및 기재 필름 사이에 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간과 외부를 차단하는 씰을 형성하는 단계를 더 포함하는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The manufacturing method of a thin film touch screen panel according to claim 1, further comprising a step of forming a seal between the support and the base film between the step (S2) and the step (S3) Way.
청구항 7에 있어서, 점착층은 점착제 조성물의 도포 이후에 1차 건조 및 2차 건조를 수행하여 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
8. The method according to claim 7, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by performing primary drying and secondary drying after application of the pressure-sensitive adhesive composition.
청구항 8에 있어서, 상기 2차 건조는 150 내지 400℃에서 수행되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method according to claim 8, wherein the secondary drying is performed at 150 to 400 ° C.
청구항 7에 있어서, 상기 씰은 점착제 조성물 도포 부위 사이의 공간이 진공인 상태에서 형성되는 박막 터치 스크린 패널의 제조 방법.The method according to claim 7, wherein the seal is formed in a vacuum state in a space between the application regions of the adhesive composition.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050056957A (en) * 2005-02-04 2005-06-16 니폰샤신인사츠가부시키가이샤 Touch panel with adhesive layer
JP2012022398A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Fujitsu Component Ltd Touch panel
KR20120133848A (en) 2011-06-01 2012-12-11 삼성디스플레이 주식회사 flexible touch screen panel
KR20130010869A (en) * 2011-07-19 2013-01-29 주식회사 엘지화학 Touch panel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050056957A (en) * 2005-02-04 2005-06-16 니폰샤신인사츠가부시키가이샤 Touch panel with adhesive layer
JP2012022398A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Fujitsu Component Ltd Touch panel
KR20120133848A (en) 2011-06-01 2012-12-11 삼성디스플레이 주식회사 flexible touch screen panel
KR20130010869A (en) * 2011-07-19 2013-01-29 주식회사 엘지화학 Touch panel

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