KR20140138072A - Distributor - Google Patents
Distributor Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140138072A KR20140138072A KR20140062169A KR20140062169A KR20140138072A KR 20140138072 A KR20140138072 A KR 20140138072A KR 20140062169 A KR20140062169 A KR 20140062169A KR 20140062169 A KR20140062169 A KR 20140062169A KR 20140138072 A KR20140138072 A KR 20140138072A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- dispersion plate
- present
- long side
- coating apparatus
- cutting line
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 유기 발광 다이오드 표시 패널의 제조분야에 관한 것으로서, 특히 분산판 및 당해 분산판을 구비하는 코팅장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE
최근 유기 발광 다이오드(OLED) 기술이 점점 사람들의 주목을 받고 있는데, 이는 자체 발광의 원리에 따라 가볍고 휴대가 편리한 디스플레이 혹은 조명장치를 쉽게 제작할 수 있기 때문이다. 유기 발광 다이오드는 양극 및 음극을 구비하는 것 외에, 또한 양 전극 사이에 포함되는 복수 층의 유기 화합물을 구비한다. 상기 복수 층의 유기화합물은 각자 상이한 기능을 구비하는데, 일부는 전자와 홀을 전송하기 위한 것이고, 일부는 광자를 여기 시키기 위한 것이다. Recently, organic light emitting diode (OLED) technology is attracting much attention because it can easily manufacture light or portable display or lighting device according to the principle of self light emission. The organic light emitting diode includes not only an anode and a cathode, but also a plurality of organic compounds contained between both electrodes. The multiple layers of organic compounds each have different functions, some for transmitting electrons and holes, and some for exciting photons.
박막 코팅은 평판 디스플레이 제조 공정에서 매우 중요한 공정으로서 공정상의 각 파라미터에 대한 제어는 매우 엄격하다. 코팅의 균일도가 바로 그 중의 하나이며 코팅장치 내의 기체의 분포 역시 코팅의 균일도에 영향을 미친다. Thin film coating is a very important process in the flat panel display manufacturing process, and control over each parameter in the process is very strict. The uniformity of the coating is one of them, and the distribution of the gas in the coating apparatus also affects the uniformity of the coating.
종래의 기술에 따른 코팅장치에 있어서, 분산판은 상부전극장치에 구비되며 도 1에 도시된 바와 같이 종래의 기술에 따른 상부전극장치는 3 층식 구조이고, 최상단은 상부전극(2)이며, 최상단의 중심에는 가스 유입공(gas inlet)(3)이 구비되고, 3 층식 구조 중 상측의 두 개 층은 각각 분산판(11, 12)이며, 최하단의 한 개 층은 샤워(shower)판(4)이다. In the coating apparatus according to the related art, the dispersion plate is provided in the upper electrode device, and as shown in FIG. 1, the upper electrode device according to the conventional technique has a three-layer structure, the uppermost electrode is the
그 중, 분산판(11, 12)은 금속재질의 평판으로 설계되며 또한 수백 개 혹은 수천 개의 기공(10)을 구비한다. 기체가 다음 층에 분산되는 시간에 영향을 주지 않기 위하여 상기 분산판(11, 12)의 두께는 일반적으로 10 mm를 초과하지 않으며 또한, 금속 혹은 세라믹 재질의 고정부재를 이용하여 분산판(11, 12)을 상부전극장치의 측벽에 고정시킨다. 이러한 설계는 플라즈마 강화 퇴적설비의 상부전극에도 대량으로 적용될 수 있으며 공정온도는 대략 400 ℃로 제어한다. 이러한 고온상태에서 분산판(11, 12)은 자체가 열을 균일하게 받지 못하는 상황하에서 변형이 발생할 수 있는바, 변형 상황은 도 2 에 도시된 바와 같다. 또한, 고정위치(분산판과 상부전극장치의 측벽의 고정위치)에서 변형이 발생할 가능성도 매우 높다. 이렇게 되면 2층 분산판 간의 간격이 변화됨으로써 기체의 분포에 영향을 주게 되며 더 나아가서는 박막의 불균일을 초래하게 된다. Among them, the
종래의 기술에 따른 문제점에 대하여, 본 발명의 목적은 코팅장치에 사용되는 분산판을 제공함으로써 종래의 기술에 따른 코팅장치에서 분산판이 변형하기 쉽고 또한 변형 후 기체의 분포에 영향을 미치며 나아가서 박막의 막 두께의 균일도에 영향을 미치게 되는 기술과제를 해결하고자 한다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a dispersion plate for use in a coating apparatus in which a dispersion plate is easily deformed in a coating apparatus according to the prior art and affects the distribution of the gas after deformation, And solves the technical problem that affects the uniformity of the film thickness.
본 발명의 다른 목적은 본 발명에 따른 분산판을 구비하는 코팅장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a coating apparatus having a dispersion plate according to the present invention.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기와 같은 기술방안을 제시한다. In order to achieve the above object, the present invention provides the following technical solutions.
코팅장치에 사용되는 분산판에 있어서, 기체를 통과시키는 복수 개의 기공이 균일하게 설치되어 있는 유효영역, 및 상기 유효영역의 외주에 위치하고 코팅하려는 기판의 무효영역의 위치와 서로 대응되며 복수 개의 절단선을 구비하고 상기 분산판과 외부장치를 연결시키는 무효영역을 포함하고, 상기 분산판은 긴 변과 짧은 변을 구비하고 상기 긴 변과 짧은 변에는 모두 복수 개의 절단선이 구비되며, 상기 절단선은 물리적 가공을 통하여 분산판의 가장자리에서 분산판의 일부를 제거함으로써 형성된다. A dispersion plate for use in a coating apparatus, comprising: an effective area in which a plurality of pores for passing a gas are uniformly disposed; and a plurality of cutting lines corresponding to positions of ineffective areas of a substrate to be coated, And an ineffective area for connecting the dispersion plate and the external device, wherein the dispersion plate has a long side and a short side, and a plurality of cutting lines are provided on both the long side and the short side, Is formed by removing a portion of the dispersing plate at the edge of the dispersing plate through physical processing.
본 발명에 따른 분산판에 있어서, 상기 긴 변에 위치한 절단선의 길이는 3 ~ 5 mm 이고 너비는 0.5 ~ 1 mm 이며 개수는 3 ~ 5 개인 것이 바람직하며, 상기 짧은 변에 위치한 절단선의 길이는 1 ~ 2 mm 이고 너비는 0.5 ~ 1 mm 이며 개수는 2 ~ 3 개인 것이 바람직하다. In the dispersion plate according to the present invention, the length of the cutting line located on the long side is 3 to 5 mm, the width is 0.5 to 1 mm, the number is preferably 3 to 5, and the length of the cutting line located on the short side is 1 To 2 mm and a width of 0.5 to 1 mm, preferably 2 to 3 in number.
본 발명에 따른 분산판에 있어서, 상기 짧은 변에 위치한 절단선은 상기 긴 변에 위치한 절단선에 수직되며 또한 상기 긴 변에 평행되는 것이 바람직하다. In the dispersion plate according to the present invention, it is preferable that the cutting line located on the short side is perpendicular to the cutting line located on the long side and parallel to the long side.
본 발명에 따른 분산판에 있어서, 각개의 상기 절단선의 연장선은 상기 분산판의 기하학적 중심에서 교차되는 것이 바람직하다. In the dispersion plate according to the present invention, it is preferable that the extension line of each of the cut lines cross at the geometric center of the dispersion plate.
본 발명에 따른 분산판에 있어서, 상기 절단선은 상기 긴 변에 균일하게 분포되고 상기 절단선은 상기 짧은 변에 균일하게 분포되는 것이 바람직하다. In the dispersion plate according to the present invention, it is preferable that the cutting lines are uniformly distributed on the long sides and the cutting lines are uniformly distributed on the short sides.
본 발명에 따른 분산판에 있어서, 상기 긴 변의 중부에 위치한 절단선의 간격이 상기 긴 변의 양단부에 위치한 절단선의 간격보다 작은 것이 바람직하다. In the dispersion plate according to the present invention, it is preferable that the interval of the cut lines located in the middle of the long side is smaller than the interval of the cut lines located at both ends of the long side.
본 발명에 따른 코팅장치에 있어서, 본 발명에 따른 분산판을 구비한다. In the coating apparatus according to the present invention, a dispersion plate according to the present invention is provided.
본 발명에 따른 코팅장치에 있어서, 상기 코팅장치는 적어도 2 층의 분산판을 구비하는 것이 바람직하다. In the coating apparatus according to the present invention, it is preferable that the coating apparatus has at least two dispersing plates.
본 발명에 따른 코팅장치에 있어서, 상기 분산판의 두께가 10 mm 미만인 것이 바람직하다. In the coating apparatus according to the present invention, it is preferable that the thickness of the dispersion plate is less than 10 mm.
본 발명의 유리한 효과는 하기와 같다. Advantageous effects of the present invention are as follows.
본 발명에 따른 분산판 및 당해 분산판을 구비하는 코팅장치에 의하면, 절단선은 분산판이 변형 시 방향성을 구비하도록 할 수 있는바, 절단선은 변형방향을 기존의 수직방향으로의 변형이 아닌 수평으로 조정할 수 있음으로써 분산판의 변형을 감소시키고 기체의 분포를 개선시키며 상부전극장치 내의 기체 분포의 안정성을 향상시키며 더 나아가 코팅장치의 막 두께의 균일도를 향상시킬 수 있다. According to the coating apparatus having the dispersing plate and the dispersing plate according to the present invention, the cutting line can make the dispersing plate to have the directionality at the time of deformation, and the cutting line is not deformed in the conventional vertical direction, , It is possible to reduce the deformation of the dispersion plate, improve the distribution of the gas, improve the stability of the gas distribution in the upper electrode device, and further improve the uniformity of the film thickness of the coating apparatus.
도 1 은 통상적인 코팅장치의 상부전극장치의 단면도이다.
도 2 는 종래의 기술에 따른 분산판 변형 및 그 기체 분포 변화를 나타낸 도이다.
도 3 은 본 발명의 제1 실시예에 따른 분산판을 나타낸 도이다.
도 4 는 본 발명의 제2 실시예에 따른 분산판을 나타낸 도이다.
도 5 는 본 발명의 실시예에 따른 분산판의 기류방향을 나타낸 도이다. 1 is a cross-sectional view of a top electrode device of a conventional coating apparatus.
2 is a view showing a dispersion plate deformation and a gas distribution change according to a conventional technique.
3 is a view showing a dispersion plate according to the first embodiment of the present invention.
4 is a view showing a dispersion plate according to a second embodiment of the present invention.
5 is a view showing the air flow direction of the dispersion plate according to the embodiment of the present invention.
본 발명의 특징과 이점을 반영하는 대표적인 실시예는 하기 설명을 통하여 구체적으로 서술하기로 한다. 본 발명의 상이한 실시예는 본 발명의 범 주 내에서 각종 변화를 가질 수 있고 또한 실시예에 관한 설명 및 도면은 실질상 설명을 위한 것일 뿐 본 발명을 한정하고자 하는 것이 아님을 이해해야 할 것이다. Exemplary embodiments reflecting the features and advantages of the present invention will be described concretely through the following description. It should be understood that the different embodiments of the present invention may have various changes within the scope of the present invention, and that the description and drawings of the embodiments are for the purpose of illustration only and are not intended to limit the present invention.
본 발명의 실시예에 따른 코팅장치는 본 발명의 각 실시예에 따른 분산판을 구비한다. 본 발명의 각 실시예에 따른 분산판은 모두 본 발명의 실시예에 따른 코팅장치에 적용될 수 있다. 하기 본 발명의 실시예에 따른 코팅 장치 및 본 발명의 2 개의 실시예에 따른 분산판에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다. A coating apparatus according to an embodiment of the present invention includes a dispersion plate according to each embodiment of the present invention. The dispersion plate according to each embodiment of the present invention can be applied to the coating apparatus according to the embodiment of the present invention. A coating apparatus according to an embodiment of the present invention and a dispersion plate according to two embodiments of the present invention will be described in detail.
본 발명의 실시예에 따른 코팅장치에 있어서 분산판 외의 기타 부품은 모두 종래의 기술에 따른 코팅장치 중의 대응되는 부품과 동일할 수 있다. In the coating apparatus according to the embodiment of the present invention, all the other components other than the dispersion plate may be the same as the corresponding components in the coating apparatus according to the conventional technology.
마찬가지로, 분산판도 상부전극장치에 설치되고, 도 1 에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 코팅장치의 상부전극장치는 다층식의 구조일 수 있으며, 그 분산판은 예를 들면 2~5 층의 구조로서 적어도 2 층의 구조를 가진다. 1, the upper electrode device of the coating apparatus according to the embodiment of the present invention may have a multi-layer structure, and the dispersion plate may have a thickness of, for example, 2 to 5 Layer structure of at least two layers.
도 1 에 도시된 바와 같이, 2 층 분산판(11, 12)을 예로 하면, 상부전극장치의 최상단은 상부전극(2)이고, 그 중심에는 가스 유입공(gas inlet)(3)이 구비되며, 3 층식 구조 중 상측의 두 개 층은 각각 분산판(11, 12)이고, 최하단의 한 개 층은 샤워판(4)이다. As shown in FIG. 1, in the case of the two-
본 발명의 각 실시예에 따른 분산판은 모두 금속재질의 평판으로 설계되고 또한 수 백 개 혹은 수천 개의 기공(10)을 구비한다. 기체가 다음 층에 분산되는 시간에 영향을 주지 않기 위하여 분산판의 두께는 일반적으로 10 mm를 초과하지 않으며 도 1 내지 도 3 에 도시된 바와 같이 금속 혹은 세라믹 재질의 고정부재(17)를 이용하여 분산판을 상부전극장치의 측벽에 고정시킨다. The dispersion plates according to each embodiment of the present invention are all designed as flat plates of metal and also have several hundreds or thousands of
하기 본 발명에 따른 분산판의 2개 실시예에 대하여 각각 설명한다. Two embodiments of the dispersion plate according to the present invention will be described below.
본 발명의 제1 실시예에 따른 분산판은 하기와 같다. The dispersion plate according to the first embodiment of the present invention is as follows.
도 3 에 도시된 바와 같이, 분산판(1)은 유효영역 및 무효영역을 구비하며 그 중, 유효영역에는 기체를 통과시키는 복수 개의 기공(10)이 균일하게 설치되어 있고, 무효영역은 유효영역의 외주에 위치하며, 분산판(1)의 무효영역은 코팅하려는 기판의 무효영역의 위치와 서로 대응되고, 무효영역은 분산판(1)과 외부장치(예를 들면, 상부전극장치의 측벽)를 연결시키는데 사용될 수 있으며, 분산판(1)의 무효영역에 절단선(15, 16)을 구비한다. 구체적으로, 분산판(1) 주변의 코팅하려는 유리기판 무효영역에 대응되는 위치 즉, 유리 기판 가장자리와 10mm 떨어진 거리범위 내에 절단선(15, 16)을 구비한다. 분산판(1)에 대하여 물리적 가공을 진행하여 분산판(1)의 긴 변과 짧은 변에서 각각 일부 분산판을 제거함으로써 절단선(15, 16)을 형성할 수 있다. 또한, 기타 방법을 통하여 절단선(15, 16)을 형성할 수 있고, 또한 분산판(1)을 형성할 시 절단선(15, 16)을 일체로 형성할 수도 있다. As shown in FIG. 3, the dispersing
도 3에서 분산판(1)의 좌우방향의 변은 긴 변이고 상하방향의 변은 짧은 변이며, 긴 변에 절단선(16)이 형성되어 있고 짧은 변에 절단선(15)이 형성되어 있다. 분산판(1)의 긴 변에 구비되는 절단선(16)의 길이는 3~5mm 일 수 있고 너비는 0.5~1mm 일 수 있으며 절단선의 개수는 3~5 개 일 수 있다. 분산판(1)의 짧은 변에 구비되는 절단선(15)의 길이는 1~2mm 일 수 있고 너비는 0.5~1mm 일 수 있으며 절단선의 개수는 2~3개 일 수 있다. 즉, 긴 변의 절단선(16)의 길이는 일반적으로 짧은 변의 절단선(15)의 길이보다 크고, 너비는 일반적으로 동일하다. 3, the left and right sides of the dispersing
도 1 에 도시된 바와 같이 분산판(1)은 직사각형이고, 본 실시예에서 긴 변의 절단선(16)은 모두 서로 평행되고 또한 짧은 변의 절단선(15)도 서로 평행된다. 즉, 긴 변의 절단선(16)은 모두 긴 변에 수직되고 또한 짧은 변에 평행되며, 짧은 변의 절단선(15)은 모두 짧은 변에 수직되고 또한 긴 변에 평행된다. 따라서, 짧은 변에 구비되는 절단선(15)은 긴 변에 구비되는 절단선(16)에 수직되고 또한 상기 긴 변에 평행된다. 하지만, 본 발명은 이에 한하지 않으며, 하기 제2 실시예와 같이 각 절단선은 서로 평행되지 않을 수도 있다. As shown in Fig. 1, the
본 발명의 제2 실시예에 따른 분산판은 하기와 같다. The dispersion plate according to the second embodiment of the present invention is as follows.
본 실시예에서, 분산판(1)의 절단선(15, 16)의 위치, 규격 및 그 형성은 모두 제1 실시예와 동일하다. 제1 실시예에 따른 분산판(1)과 다른 점이라면, 절단선(15, 16)의 연장된 방향이 다르다. 본 실시예에서, 긴 변에 위치한 절단선(16) 및 짧은 변에 위치한 절단선(15)을 포함하는 각 절단선의 연장선은 모두 분산판(1)의 기하학적 중심에서 교차된다. 즉, 본 실시예에서 절단선(15, 16)은 방사형상의 분포를 나타낸다. In this embodiment, the position, size, and formation of the
상기 2 개의 실시예에서, 절단선(15, 16)은 균일한 분포일 수도 있고 또는 불균일한 분포일 수도 있다. 불균일한 분포일 경우, 중간은 빽빽하고 양단부는 성긴 분포가 바람직하다. 즉, 상기 긴(짧은) 변 중부에 구비되는 절단선 간격이 긴 변 양단부에 구비되는 절단선의 간격보다 작게 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 긴 변에 왼쪽에서 오른쪽으로의 순서에 따라 A, B, C, D, E, F, G, H 8 개의 절단선이 있고 긴 변의 중점이 D 와 E 사이에 있을 경우, 거리 DE<거리 EF<거리 FG<거리 GH,거리 DE<거리 CD<거리 BC<거리 AB 일 수 있다. 또한, 좌우로 대칭되게 분포할 수 있다. In the above two embodiments, the cutting lines 15,16 may be uniform or non-uniform. In the case of a nonuniform distribution, the middle is dense and the both ends are preferably coarse. That is, it is preferable that the interval of the cutting line provided at the middle portion of the long (short) side is smaller than the interval of the cutting lines provided at both ends of the long side. For example, if there are 8 cutting lines A, B, C, D, E, F, G, H according to the order from left to right on the long side and the midpoint of the long side lies between D and E, <Distance EF <distance FG <distance GH, distance DE <distance CD <distance BC <distance AB. It can also be distributed symmetrically to the left and right.
본 발명의 각 실시예에 따른 분산판에 있어서, 절단선(15, 16)의 설치는 고정부재(17)를 통하여 분산판(1)을 상부전극장치의 측벽에 고정시키는데 영향을 미치지 않는다. 도 5 에 도시된 바와 같이, 절단선(15, 16)은 분산판(1)이 변형시 방향성을 구비하도록 할 수 있는 바, 절단선(15, 16)은 분산판(1)의 변형방향을 기존의 수직방향으로의 변형이 아닌 수평으로 조정할 수 있음으로써 분산판 간격의 변화를 초래하지 않고 기체의 분포에도 영향을 미치지 않는다. 이로써 분산판의 변형을 감소시키고 기체의 분포를 개선시키며 상부전극장치 내의 기체 분포의 안정성을 증가시켜 나아가서 코팅장치의 막 두께의 균일도를 향상시킬 수 있다. In the dispersing plate according to each embodiment of the present invention, the installation of the
본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명에 첨부되는 청구항에 의해 개시되는 본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않는 상황하에서 진행하는 수정 및 수식이 모두 본 발명의 청구항의 보호범위에 속함을 인식해야 한다. It will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. .
Claims (3)
기체를 통과시키는 복수 개의 기공이 균일하게 설치되어 있는 유효영역, 및
상기 유효영역의 외주에 위치하고 코팅하려는 기판의 무효영역의 위치와 서로 대응되며 복수 개의 절단선을 구비하고 상기 분산판과 외부장치를 연결시키는 무효영역을 포함하고,
상기 분산판은 긴 변과 짧은 변을 구비하고 상기 긴 변과 짧은 변에는 모두 복수 개의 상기 절단선이 구비되며,
상기 절단선은 물리적 가공을 통하여 분산판의 가장자리에서 분산판의 일부를 제거함으로써 형성된 것임을 특징으로 하는 분산판.
In the dispersion plate used in the coating apparatus,
An effective region in which a plurality of pores passing through the gas are uniformly provided, and
And an invalid region which is located on the outer periphery of the effective region and corresponds to the position of the ineffective region of the substrate to be coated and has a plurality of cutting lines and connects the dispersing plate to the external device,
Wherein the dispersion plate has a long side and a short side, and a plurality of the cutting lines are provided on the long side and the short side,
Wherein the cutting line is formed by removing a part of the dispersing plate at an edge of the dispersing plate through physical processing.
상기 긴 변에 위치한 절단선의 길이는 3 ~ 5 mm 이고 너비는 0.5 ~ 1 mm 이며 개수는 3 ~ 5 개이며,
상기 짧은 변에 위치한 절단선의 길이는 1 ~ 2 mm 이고 너비는 0.5 ~ 1 mm이며 개수는 2 ~ 3 개인 것을 특징으로 하는 분산판.
The method according to claim 1,
The length of the cutting line on the long side is 3 to 5 mm, the width is 0.5 to 1 mm, the number is 3 to 5,
Wherein the length of the cutting line located on the shorter side is 1 to 2 mm, the width is 0.5 to 1 mm, and the number of the cutting line is 2 to 3.
상기 긴 변의 중부에 위치한 절단선의 간격이 상기 긴 변의 양단부에 위치한 절단선의 간격보다 작은 것을 특징으로 하는 분산판. The method according to claim 1,
And the interval of the cut lines located at the center of the long side is smaller than the interval of the cut lines located at both ends of the long side.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310199717.9 | 2013-05-24 | ||
CN201310199717.9A CN103266310B (en) | 2013-05-24 | 2013-05-24 | Dispersing plate and film coating device provided with same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140138072A true KR20140138072A (en) | 2014-12-03 |
Family
ID=49009970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR20140062169A KR20140138072A (en) | 2013-05-24 | 2014-05-23 | Distributor |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5860920B2 (en) |
KR (1) | KR20140138072A (en) |
CN (1) | CN103266310B (en) |
TW (1) | TWI556487B (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60044531D1 (en) * | 1999-06-25 | 2010-07-22 | Vahid Saadat | TISSUE TREATMENT DEVICE |
TWI584703B (en) * | 2014-08-22 | 2017-05-21 | 友達光電股份有限公司 | Display module substrate and manufacturing method thereof |
CN109262743B (en) * | 2018-10-16 | 2020-11-03 | 苏州京浜光电科技股份有限公司 | Low-warpage processing technology of ultrathin resin optical filter |
CN112530774B (en) * | 2019-09-17 | 2024-04-05 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | Plasma processing apparatus |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4540250B2 (en) * | 2001-04-25 | 2010-09-08 | 信越化学工業株式会社 | Electrode plate for plasma device |
JP4698251B2 (en) * | 2004-02-24 | 2011-06-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Movable or flexible shower head mounting |
WO2006017136A2 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Applied Materials, Inc. | Plasma uniformity control by gas diffuser curvature |
DE602006011140D1 (en) * | 2005-04-05 | 2010-01-28 | Krosaki Harima Corp | GAS SHOW ERPLATE FOR A PLASMA PROCESSING DEVICE |
US20060269409A1 (en) * | 2005-05-27 | 2006-11-30 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Gas turbine moving blade having a platform, a method of forming the moving blade, a sealing plate, and a gas turbine having these elements |
JP4863074B2 (en) * | 2006-12-05 | 2012-01-25 | 三菱マテリアル株式会社 | Silicon electrode plate for plasma etching with excellent crack resistance |
WO2009069211A1 (en) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Shimadzu Corporation | Plasma process electrode and plasma process device |
CN201148466Y (en) * | 2007-12-04 | 2008-11-12 | 郭铭书 | Film coating apparatus of dispersed plate having dispersed gas |
US20100037823A1 (en) * | 2008-08-18 | 2010-02-18 | Applied Materials, Inc. | Showerhead and shadow frame |
JP2010171244A (en) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | Plasma processing apparatus |
CN102041484A (en) * | 2009-10-20 | 2011-05-04 | 财团法人工业技术研究院 | Gas distribution plate and device |
TWI436831B (en) * | 2009-12-10 | 2014-05-11 | Orbotech Lt Solar Llc | A showerhead assembly for vacuum processing apparatus |
KR101306315B1 (en) * | 2011-01-11 | 2013-09-09 | 주식회사 디엠에스 | Apparatus for chemical vapor deposition |
-
2013
- 2013-05-24 CN CN201310199717.9A patent/CN103266310B/en active Active
- 2013-06-20 TW TW102121918A patent/TWI556487B/en not_active IP Right Cessation
-
2014
- 2014-04-24 JP JP2014090000A patent/JP5860920B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-05-23 KR KR20140062169A patent/KR20140138072A/en not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014227606A (en) | 2014-12-08 |
CN103266310A (en) | 2013-08-28 |
JP5860920B2 (en) | 2016-02-16 |
CN103266310B (en) | 2015-05-20 |
TWI556487B (en) | 2016-11-01 |
TW201342683A (en) | 2013-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102443783B (en) | Gas distribution plate assembly for large area plasma enhanced chemical vapor deposition | |
EP3270415B1 (en) | Display backplate and manufacturing method therefor, and display device | |
KR20140138072A (en) | Distributor | |
US10217939B1 (en) | Substrate and evaporation device used for manufacturing organic light emitting display panel | |
KR200491450Y1 (en) | Gas diffuser hole design for improving edge uniformity | |
US20210336147A1 (en) | Mask | |
CN103981485B (en) | Mask plate and manufacture method thereof | |
JP2020522607A (en) | Deposition mask plate, deposition mask plate set, deposition system and alignment test method | |
JP6186447B2 (en) | OLED lighting device manufacturing method and apparatus | |
US20140326177A1 (en) | Mask and a method for manufacturing the same | |
JP2014529011A (en) | Mask structure, apparatus and method for depositing a layer on a rectangular substrate | |
TWI715525B (en) | Gas confiner assembly and processing chamber using the same | |
WO2019033856A1 (en) | Mask plate, oled display substrate, display device, and manufacturing methods | |
EP3041026B1 (en) | Gas intake device and magnetron sputtering apparatus therewith | |
US20200212342A1 (en) | Organic light emitting diode substrate and manufacturing method thereof | |
CN108710242A (en) | A kind of display panel and display device | |
WO2020140804A1 (en) | Display substrate, display device and manufacturing method for display substrate | |
US20140335688A1 (en) | Mask assembly and thin film deposition method using the same | |
CN215163107U (en) | Atomic layer deposition equipment | |
US20150021166A1 (en) | Sputtering apparatus and method | |
JP2007327097A (en) | Plasma treatment apparatus | |
US20200239998A1 (en) | Vapor deposition structure of display panel | |
CN110592528A (en) | Mask plate structure and preparation method thereof | |
WO2018201529A1 (en) | Dry etching equipment and dry etching equipment electrode | |
WO2019119608A1 (en) | Etching apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal |