KR20140108745A - Retroreflective sheet using cube corner of transformed structure having uv isolation function and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 재귀반사 시트에 관한 것으로, 특히, 기존의 PMMA를 대신하여 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하되, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제를 첨가하여 그 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a retroreflective sheet, and more particularly, to a retroreflective sheet, in which a UV curable resin is coated on a base film in place of conventional PMMA, and a UV curable resin is added to a UV curable resin at a predetermined ratio, To a base film, and a method of manufacturing the same.
기존의 재귀반사 시트는 내후성을 강화하기 위하여 점착제를 이용하여 PMMA(Polymethly Methacrylate) 필름을 베이스 필름에 부착하고 있다. 그러나 이러한 PMMA 필름은 연성이 좋지 않고 점착 물질에 따른 커팅성이 보장되지 않는다.
Conventional retroreflective sheeting has a PMMA (Polymethly Methacrylate) film attached to the base film using an adhesive to enhance weather resistance. However, such a PMMA film has poor ductility and does not guarantee cutability depending on the adhesive material.
도 1은 종래 기술에 따른 PMMA의 접착 과정을 설명하기 위한 도면을 나타낸다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view for explaining a bonding process of PMMA according to the prior art.
도 1에 도시한 바와 같이, PC 필름의 표면에 점착제를 코팅하고 PMMA 필름을 라미네이팅하는 공정을 거치고 있다. 이러한 공정은 최종 제품화 과정 중 PC 필름보다 PMMA 필름에 대한 접착성이 낮아 글자 컷팅시 Burr를 일으킬 가능성이 높다.As shown in Fig. 1, a process of coating a pressure-sensitive adhesive on the surface of the PC film and laminating the PMMA film is undergoing. This process is likely to induce a burr during letter cutting because the adhesion to the PMMA film is lower than that of the PC film during the final commercialization process.
이러한 이유 때문에 내후성 강화를 위한 보호 역할의 필름 선택에 있어 그 한계성이 있다.
For this reason, there are limitations in choosing a film to serve as a protection against weathering.
따라서 이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 기존의 PMMA를 대신하여 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하되, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제를 첨가하여 그 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of coating a base film with a UV curable resin in place of a conventional PMMA in which a UV curable resin is added in a predetermined ratio to a UV curable resin, A retroreflective sheet having a UV blocking function for coating the base film with the added UV curable resin, and a method for producing the same.
본 발명의 다른 목적은 기존의 PMMA를 대신하여 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하되, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제와 광 개시제를 첨가하여 그 UV 흡수제와 광 개지세가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method of coating a UV curable resin on a base film in place of a conventional PMMA in which a UV absorber and a photoinitiator are added to a UV curable resin at predetermined ratios and UV curing A retroreflective sheet having a UV blocking function for coating a resin on a base film, and a manufacturing method thereof.
그러나 본 발명의 목적은 상기에 언급된 사항으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
However, the objects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명의 한 관점에 따른 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트는 저면에 다수 개의 마이크로 프리즘들이 규칙적으로 형성되는 베이스 필름; 및 기 설정된 비율로 UV 안정제 또는 UV 흡수제가 첨가되어 상기 다수 개의 마이크로 프리즘들이 형성되어 있는 상기 베이스 필름의 반대쪽 일면에 코팅되는 UV 경화 수지를 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a retroreflective sheet having a UV shielding function, including: a base film on which a plurality of microprisms are regularly formed on a bottom surface; And a UV curable resin coated on one side of the base film on which the plurality of micro-prisms are formed by adding a UV stabilizer or UV absorber at a predetermined ratio.
바람직하게, 상기 UV 흡수제는 자외선을 흡수할 수 있는 흡수범위가 300 ~385nm인 benzotriazole계를 사용하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the UV absorber is a benzotriazole system having an absorption range of 300 to 385 nm capable of absorbing ultraviolet light.
바람직하게, 상기 UV 흡수제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 1 중량% 이하의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the UV absorber is added at a predetermined ratio of 1 wt% or less with respect to the UV curable resin.
바람직하게, 상기 UV 경화 수지는 기 설정된 비율로 상기 UV 흡수제와 기 설정된 광 개시제가 첨가되어 상기 베이스 필름의 일면에 코팅되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the UV curable resin is coated on one side of the base film to which the UV absorbent and a predetermined photoinitiator are added at a predetermined ratio.
바람직하게, 상기 광 개시제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 0.1 ~ 5 중량% 범위 이내의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the photoinitiator is added in a predetermined ratio within a range of 0.1 to 5% by weight relative to the UV curable resin.
바람직하게, 조사되는 상기 UV의 파장 영역 대역은 상기 광 개시제의 흡수 파장 영역 대역과 일치되도록 하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the wavelength region zone of the UV to be irradiated coincides with the absorption wavelength region zone of the photoinitiator.
본 발명의 다른 한 관점에 따른 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법은 UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 안정제 또는 UV 흡수제를 첨가하는 단계; 상기 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 PC 필름에 도포하는 단계; 및 특정 파장의 UV를 조사하여 상기 PC 필름에 도포된 UV 경화 수지를 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a retroreflective sheeting having a UV shielding function, comprising the steps of: adding a UV stabilizer or a UV absorber to a UV curable resin at a predetermined ratio; Applying a UV curable resin to the PC film with the UV absorber added thereto; And irradiating UV of a specific wavelength to cure the UV cured resin applied to the PC film.
바람직하게, 상기 UV 흡수제는 자외선을 흡수할 수 있는 흡수범위가 300 ~385nm인 benzotriazole계를 사용하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the UV absorber is a benzotriazole system having an absorption range of 300 to 385 nm capable of absorbing ultraviolet light.
바람직하게, 상기 UV 흡수제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 1 중량% 이하의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the UV absorber is added at a predetermined ratio of 1 wt% or less with respect to the UV curable resin.
바람직하게, 상기 첨가하는 단계는 상기 UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 상기 UV 안정제 또는 UV 흡수제와 기 설정된 광 개시제가 첨가되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the adding step is characterized in that the UV stabilizer or the UV absorber and the predetermined photoinitiator are added to the UV curable resin in a predetermined ratio.
바람직하게, 상기 광 개시제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 0.1 ~ 5 중량% 범위 이내의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the photoinitiator is added in a predetermined ratio within a range of 0.1 to 5% by weight relative to the UV curable resin.
바람직하게, 조사되는 상기 UV의 파장 영역 대역은 상기 광 개시제의 흡수 파장 영역 대역과 일치되도록 하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the wavelength region zone of the UV to be irradiated coincides with the absorption wavelength region zone of the photoinitiator.
이를 통해, 본 발명은 기존의 PMMA를 대신하여 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하되, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제를 첨가하여 그 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 함으로써, 가격이 비싼 PMMA 필름을 대체하는 것이 가능하여 제품의 원가를 절감할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the present invention provides a method of coating a UV curable resin on a base film in place of conventional PMMA, wherein a UV curable resin is added to the UV curable resin in a predetermined ratio to coat the base cured resin with the UV curable resin It is possible to replace expensive PMMA film, thereby reducing the cost of the product.
또한, 본 발명은 고가의 PMMA 필름을 부착하는 대신에 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하기 때문에 공정을 단순화할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of simplifying the process because the base film is coated with the UV curable resin to which the UV absorber is added in place of attaching the expensive PMMA film.
또한, 본 발명은 고가의 PMMA 필름을 부착하는 대신에 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하기 때문에 제품의 두께를 낮출 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect of reducing the thickness of a product because a base film is coated with a UV curable resin to which a UV absorber is added, instead of attaching an expensive PMMA film.
또한, 본 발명은 고가의 PMMA 필름을 부착하는 대신에 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하기 때문에 피착제의 제거로 커팅성을 개선할 수 있는 효과가 있다.
In addition, since the UV curable resin to which the UV absorber is added is coated on the base film instead of attaching the expensive PMMA film, the present invention has an effect of improving the cutting property by removing the adherend.
도 1은 종래 기술에 따른 PMMA의 접착 과정을 설명하기 위한 도면을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 경화 수지 코팅 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법을 나타내는 제1 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법을 나타내는 제2 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view for explaining a bonding process of PMMA according to the prior art.
2 is a view showing a retroreflective sheet having a UV blocking function according to an embodiment of the present invention.
3 is a view for explaining a UV curable resin coating process according to an embodiment of the present invention.
4 is a first view showing a method of manufacturing a retroreflective sheet according to an embodiment of the present invention.
5 is a second view showing a method of manufacturing a retroreflective sheet according to an embodiment of the present invention.
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트 및 그 제조 방법을 첨부한 도 2 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 본 발명에 따른 동작 및 작용을 이해하는데 필요한 부분을 중심으로 상세히 설명한다.Hereinafter, a retroreflective sheet having a UV shielding function and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 5 attached hereto. The present invention will be described in detail with reference to the portions necessary for understanding the operation and operation according to the present invention.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 동일한 명칭의 구성 요소에 대하여 도면에 따라 다른 참조부호를 부여할 수도 있으며, 서로 다른 도면임에도 불구하고 동일한 참조부호를 부여할 수도 있다. 그러나, 이와 같은 경우라 하더라도 해당 구성 요소가 실시예에 따라 서로 다른 기능을 갖는다는 것을 의미하거나, 서로 다른 실시예에서 동일한 기능을 갖는다는 것을 의미하는 것은 아니며, 각각의 구성 요소의 기능은 해당 실시예에서의 각각의 구성요소에 대한 설명에 기초하여 판단하여야 할 것이다.In describing the constituent elements of the present invention, the same reference numerals may be given to constituent elements having the same name, and the same reference numerals may be given thereto even though they are different from each other. However, even in such a case, it does not mean that the corresponding component has different functions according to the embodiment, or does not mean that the different components have the same function. It should be judged based on the description of each component in the example.
특히, 본 발명에서는 재귀반사 시트의 내후성을 강화하기 위하여 PMMA 필름을 부착하는 대신에 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하되, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제를 첨가하여 그 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 하는 방안을 제안한다.In particular, in the present invention, in order to enhance the weather resistance of the retroreflective sheeting, a UV curable resin is coated on a base film instead of attaching a PMMA film, and a UV absorber is added to the UV curable resin at a predetermined ratio, A method of coating a UV curable resin on a base film is proposed.
또한, 본 발명에서는 UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 흡수제와 광 개시제를 첨가하여 그 UV 흡수제와 광 개시제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 코팅하도록 한다.Further, in the present invention, a UV absorber and a photoinitiator are added to the UV curable resin at a predetermined ratio, and the UV curable resin to which the UV absorbent and the photoinitiator are added is coated on the base film.
이때, 재귀반사 시트에는 유리구슬(glass bead)을 사용한 재귀반사 시트와 마이크로프리즘(microprism)을 사용한 재귀반사 시트가 있다. 마이크로프리즘 방식에는 유리구슬 대신에 삼각뿔 모양의 렌즈가 유리구슬과 똑같은 역할을 하며, 입사된 빛은 프리즘 내부의 경사면에서 차례로 굴절되어 광원과 평행한 빛으로 되돌아 나온다.At this time, the retroreflective sheet includes a retroreflective sheet using a glass bead and a retroreflective sheet using a microprism. In the micro prism system, instead of glass beads, a triangular pyramid lens acts like a glass bead, and the incident light is refracted in turn on the inclined plane inside the prism and returned to the light parallel to the light source.
일정 면적의 반사소재에 광원으로부터 일정양의 조도를 줄 경우 반사되는 빛의 세기 즉 재귀반사율(Retroreflectivity: cd/lx· m2)에 따라 재귀반사 시트는 일반반사 시트(Engineering grade reflective sheet), 고휘도반사 시트(High intensity reflective sheet), 초고휘도반사 시트(Diamond grade reflective sheet)로 분류할 수 있다.When a certain amount of light from a light source is applied to a reflective material of a certain area, the retroreflective sheet may be classified into an engineering grade reflective sheet, a high-luminance reflective sheet, and a reflective sheet depending on the intensity of the reflected light, ie, the retroreflectivity (cd / High intensity reflective sheet, and diamond grade reflective sheet.
일반 유리구슬을 사용한 재귀반사 시트에 비해 뛰어난 휘도와 측면 휘도를 가지는 마이크로프리즘 기반의 도로표지용 재귀반사 시트를 제조할 수 있기 때문에 가시거리가 보다 길어지고 안전 확보에 보다 유리하여 안전한 도로 교통 환경을 만들기에도 일조할 수 있다. 뿐만 아니라, 사용 수명기한 역시 연장됨으로 도로교통표지판의 유지보수가 이전보다 편리해지고 저렴하게 하는 부가적인 면도 있다.It is possible to manufacture a retroreflective sheet for micro-prism-based road marking having superior brightness and lateral brightness compared with a retroreflective sheet using ordinary glass beads, so that the visual distance is longer and the safety is more secured. It can also help to make. In addition, since the service life is extended, there is an additional advantage that the maintenance of the road traffic sign becomes more convenient and less expensive than before.
이러한 재귀반사 시트는 내후성을 강화하기 위하여 점착제를 이용하여 PMMA(Polymethly Methacrylate) 필름을 베이스 필름에 부착하고 있으나 연성이 좋지 않고 점착 물질에 따른 커팅성이 보장되지 않는다.In order to enhance the weather resistance, the retroreflective sheet has a PMMA (polymethly methacrylate) film adhered to the base film by using an adhesive, but the ductility is poor and the cutting property according to the adhesive material is not guaranteed.
따라서 본 발명에서는 기존의 PMMA 필름을 대체할 수 있는 방법으로 UV 안정제 또는 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 베이스 필름에 UV 코팅시키고자 한다.Accordingly, in the present invention, a UV curing resin to which a UV stabilizer or a UV absorber is added is UV-coated on a base film as a substitute for a conventional PMMA film.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트를 나타내는 도면이다.2 is a view showing a retroreflective sheet having a UV blocking function according to an embodiment of the present invention.
도 2에 도시한 바와 같이, UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트는 마이크로 프리즘(110), PC 필름 또는 베이스 필름(120), 및 UV 경화 수지(130) 등을 포함하여 구성될 수 있다.2, the retroreflective sheet having the UV shielding function may be configured to include a
PC 필름(120)은 그 저면에 미세한 마이크로 프리즘(prism)들(110)이 다수 개 형성될 수 있다. 이러한 미세한 마이크로 프리즘에 입사되는 빛은 광원을 향하여 재귀반사를 이루게 하는데, 마이크로 프리즘을 보호하기 위하여 보호 필름이 더 부착될 수 있다.The
UV 경화 수지(110)는 UV 안정제 또는 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 기존 방식처럼 점착제를 사용하지 않고 PC 필름(110)에 도포 또는 UV(Ultra Violet) 코팅될 수 있다. 이때, UV 경화 수지는 poly urethane 계열이 사용될 수 있다.The UV
여기서 UV 코팅은 자외선 에너지에 의해 도막을 경화시키는 방법을 일컫는다. 이러한 UV 코팅은 자외선에 의존하기 때문에 소재의 변형없이 높은 에너지를 순간적으로 조사하여 아주 강한 도막을 형성시킬 수 있는 장점이 있다.Here, UV coating refers to a method of curing a coating film by ultraviolet energy. Such a UV coating is advantageous in that it can form a very strong coating film by irradiating high energy instantly without deformation of the material because it depends on ultraviolet rays.
특히, UV 코팅은 열 에너지에 의존하는 열 경화 방식에 비해 다음와 같은 장점들이 있는데, 예컨대, 1)내용제성이 약한 PC 필름에 대한 공정 안정성이 높고, 2)표면 강도가 높아지며, 3)제품에 대한 열 변형이 적으며, 4)두께를 낮출 수 있다.In particular, the UV coating has the following advantages over the thermosetting-dependent thermal curing system, for example: 1) high process stability for PC films with poor solvent resistance; 2) high surface strength; and 3) Less thermal deformation, and 4) reduced thickness.
이때, UV 안정제는 UV 흡수제(UV absorbers), ??처(Quenchers) 등으로 분류된다.At this time, the UV stabilizer is classified into UV absorbers, Quenchers, and the like.
특히, UV 흡수제는 benzophenone계(자외선 흡수범위 300~380nm), benzotriazole계(흡수범위 300 ~385nm), salicylic acid계(흡수범위 260~340nm), acrylonitrile계(흡수범위 290~400nm)와 유기 니켈 화합물과 mono benzoic acid계 등이 있다.Particularly, the UV absorber is a benzophenone (ultraviolet absorption range 300 to 380 nm), a benzotriazole series (absorption range 300 to 385 nm), a salicylic acid series (absorption range 260 to 340 nm), an acrylonitrile series And mono benzoic acid.
본 발명에서는 UV 흡수제로 benzotriazole계(흡수범위 300 ~385nm)를 사용하도록 하여 UV A(400~320nm), 및 UV B(320~280)를 효과적으로 흡수시키고자 한다.In the present invention, a benzotriazole system (absorption range 300 to 385 nm) is used as a UV absorber to effectively absorb UV A (400 to 320 nm) and UV B (320 to 280).
또한, 이러한 UV 흡수제는 UV 경화 수지(110)에 1 중량% 이하로 첨가될 수 있다.In addition, such a UV absorber may be added to the UV
이처럼 본 발명은 베이스 PC 필름에 UV 흡수제가 기 설정된 비율로 첨가된 UV 경화 수지를 UV 코팅함으로써 UV A, UA B로부터 PC 필름을 보호하는 기능을 부여한다.Thus, the present invention provides the function of protecting the PC film from UV A, UA B by UV coating UV cured resin added to the base PC film at a predetermined ratio of UV absorber.
또한, UV 경화 수지에는 광 개시제(photo initiator)가 선택적으로 첨가될 수도 있다.In addition, a photo initiator may be optionally added to the UV curable resin.
여기서, 광 개시제는 UV 경화 수지에 첨가 되어, 자외선 램프로부터 에너지를 흡수하여 중합(polymerization) 반응을 시작하게 하는 물질을 일컫는다. 이러한 광 개시제는 UV 경화 수지의 종류에 따라 다르지만 0.1 ~ 5 중량% 범위 내에서 들어 있으면서 모노머, 올리고머, 자유기가 광 중합하는데 필요한 에너지를 가해서 이 물질들이 경화된 후의 고분자 물질로 바뀌게 광 중합을 개시시키는 역할을 한다.
Herein, the photoinitiator refers to a material which is added to a UV curable resin and which absorbs energy from an ultraviolet lamp to initiate a polymerization reaction. Such photoinitiators vary in accordance with the type of the UV curable resin, but they start photopolymerization in the range of 0.1 to 5 wt% by adding energy required for photopolymerization of monomers, oligomers and free radicals to convert them into a polymer material after curing It plays a role.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 경화 수지 코팅 과정을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법을 나타내는 제1 도면이다.FIG. 3 is a view for explaining a UV curable resin coating process according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a first view showing a method of manufacturing a retroreflective sheet according to an embodiment of the present invention.
도 3 내지 4에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법은 UV 경화 수지에 UV 흡수제를 첨가하는 단계(S410), UV 경화 수지를 PC 필름에 도포하는 단계(S420), 및 도포된 UV 경화 수지를 경화시키는 단계(S430)를 포함할 수 있다.As shown in FIGS. 3 to 4, the method of manufacturing a retroreflective sheet according to the present invention includes a step S410 of adding a UV absorber to a UV curable resin, a step S420 of applying a UV curable resin to a PC film, and And curing the coated UV cured resin (S430).
S410 단계에서, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 안정제 또는 UV 흡수제를 첨가할 수 있다. 여기서 UV 흡수제는 benzotriazole계(흡수범위 300 ~385nm)를 사용하고, 그 첨가되는 비율은 1 중량% 이하로 첨가되는 것이 바람직하다.In step S410, a UV stabilizer or UV absorber may be added to the UV curable resin in a predetermined ratio. It is preferable that the UV absorber is benzotriazole-based (absorption range 300 to 385 nm), and the added amount thereof is 1% by weight or less.
S420 단계에서, UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 PC 필름에 도포 또는 코팅할 수 있다. 이때, UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지는 PC 필름의 일면에 도포될 수 있는데, 마이크로 프리즘이 형성된 반대쪽 면에 도포될 수 있다.In step S420, the UV curable resin to which the UV absorber is added may be coated or coated on the PC film. At this time, the UV curable resin to which the UV absorber is added can be applied to one side of the PC film, which can be applied to the opposite side of the microprism.
여기서 사용되는 도포 방법으로는 예컨대, 바코트법, 스크린 인쇄법, 리버스 코트법, 그라비어 코트법, 롤 코트법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법 등이 될 수 있다.The coating method used here may be, for example, a bar coating method, a screen printing method, a reverse coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a spin coating method, a spray coating method and the like.
S430 단계에서, 특정 파장의 UV를 조사하여 도포된 UV 경화 수지를 경화시킬 수 있다.
In step S430, the applied UV curable resin can be cured by irradiating UV of a specific wavelength.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법을 나타내는 제2 도면이다.5 is a second view showing a method of manufacturing a retroreflective sheet according to an embodiment of the present invention.
도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 재귀반사 시트의 제조 방법은 UV 경화 수지에 UV 흡수제와 광 개시제를 첨가하는 단계(S510), UV 경화 수지를 PC 필름에 도포하는 단계(S520), 및 도포된 UV 경화 수지를 경화시키는 단계(S530)를 포함할 수 있다.5, the method of manufacturing a retroreflective sheet according to the present invention includes the steps of adding a UV absorber and a photoinitiator to a UV curable resin (S510), applying a UV curable resin to a PC film (S520) And curing the applied UV curable resin (S530).
S510 단계에서, UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 UV 안정제 또는 UV 흡수제와 광 개시제를 첨가할 수 있다. 여기서 UV 흡수제는 benzotriazole계(흡수범위 300 ~385nm)를 사용하고, 그 첨가되는 비율은 1 중량% 이하로 첨가되며, 광 개시제는 0.1 ~ 5 중량% 범위 이내로 첨가되는 것이 바람직하다.In step S510, a UV stabilizer or a UV absorber and a photoinitiator may be added to the UV curable resin in a predetermined ratio. It is preferable that the UV absorber is benzotriazole based (absorption range 300 to 385 nm), the added ratio is 1 wt% or less, and the photoinitiator is added in the range of 0.1 to 5 wt%.
S520 단계에서, UV 흡수제와 광 개시제가 첨가된 UV 경화 수지를 PC 필름에 도포 또는 코팅할 수 있다. 이때, UV 흡수제와 광 개시제가 첨가된 UV 경화 수지는 PC 필름의 일면에 도포될 수 있는데, 마이크로 프리즘이 형성된 반대쪽 면에 도포될 수 있다.In step S520, a UV curable resin to which a UV absorber and a photoinitiator are added may be applied or coated on the PC film. At this time, the UV curable resin to which the UV absorber and the photoinitiator are added can be applied to one side of the PC film, and it can be applied to the opposite side where the microprism is formed.
여기서 사용되는 도포 방법으로는 예컨대, 바코트법, 스크린 인쇄법, 리버스 코트법, 그라비어 코트법, 롤 코트법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법 등이 될 수 있다.The coating method used here may be, for example, a bar coating method, a screen printing method, a reverse coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a spin coating method, a spray coating method and the like.
S530 단계에서, 특정 파장의 UV를 조사하여 도포된 UV 경화 수지를 경화시킬 수 있다. 이때, 광 개시제의 흡수 파장에 따라 조사되는 UV의 파장이 달라질 수 있는데, 광 개시제의 흡수 파장 영역 대역과 UV의 파장 영역 대역이 일치되도록 한다.
In step S530, the applied UV curable resin can be cured by irradiating UV of a specific wavelength. At this time, the wavelength of the UV light to be irradiated may be changed according to the absorption wavelength of the photoinitiator, so that the absorption band of the photoinitiator and the band band of the UV band match.
이상에서 설명한 실시예들은 그 일 예로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or essential characteristics thereof. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas falling within the scope of the same shall be construed as falling within the scope of the present invention.
110: 마이크로 프리즘
120: 베이스 필름
120: UV 경화 수지110: micro prism
120: base film
120: UV curing resin
Claims (12)
기 설정된 비율로 UV 안정제 또는 UV 흡수제가 첨가되어 상기 다수 개의 마이크로 프리즘들이 형성되어 있는 상기 베이스 필름의 반대쪽 일면에 코팅되는 UV 경화 수지;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
A base film on which a plurality of micro-prisms are regularly formed on a bottom surface; And
A UV curable resin coated on one side of the base film on which the plurality of microprisms are formed by adding a UV stabilizer or a UV absorber in a predetermined ratio;
The retroreflective sheet according to claim 1,
상기 UV 흡수제는 자외선을 흡수할 수 있는 흡수범위가 300 ~385nm인 benzotriazole계를 사용하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the UV absorber is a benzotriazole system having an absorption range of 300 to 385 nm capable of absorbing ultraviolet light.
상기 UV 흡수제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 1 중량% 이하의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the UV absorber is added at a predetermined ratio of 1 wt% or less with respect to the UV curable resin.
상기 UV 경화 수지는,
기 설정된 비율로 상기 UV 흡수제와 기 설정된 광 개시제가 첨가되어 상기 베이스 필름의 일면에 코팅되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
The method according to claim 1,
The UV-
Wherein the UV absorber and the predetermined photoinitiator are added in a predetermined ratio to be coated on one surface of the base film.
상기 광 개시제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 0.1 ~ 5 중량% 범위 이내의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
5. The method of claim 4,
Wherein the photoinitiator is added in a predetermined ratio within a range of 0.1 to 5 wt% with respect to the UV curable resin.
조사되는 상기 UV의 파장 영역 대역은 상기 기 설정된 광 개시제의 흡수 파장 영역 대역과 일치되도록 하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트.
5. The method of claim 4,
Wherein the wavelength region band of the UV to be irradiated matches the absorption wavelength region band of the predetermined photoinitiator.
상기 UV 흡수제가 첨가된 UV 경화 수지를 PC 필름에 도포하는 단계; 및
특정 파장의 UV를 조사하여 상기 PC 필름에 도포된 UV 경화 수지를 경화시키는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.
Adding a UV stabilizer or UV absorber to the UV curable resin in a predetermined ratio;
Applying a UV curable resin to the PC film with the UV absorber added thereto; And
Irradiating UV of a specific wavelength to cure the UV cured resin applied to the PC film;
The method of manufacturing a retroreflective sheet according to claim 1,
상기 UV 흡수제는 자외선을 흡수할 수 있는 흡수범위가 300 ~385nm인 benzotriazole계를 사용하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the UV absorber is a benzotriazole system having an absorption range of 300 to 385 nm capable of absorbing ultraviolet light.
상기 UV 흡수제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 1 중량% 이하의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the UV absorber is added at a predetermined ratio of 1 wt% or less with respect to the UV curable resin.
상기 첨가하는 단계는,
상기 UV 경화 수지에 기 설정된 비율로 상기 UV 안정제 또는 UV 흡수제와 기 설정된 광 개시제가 첨가되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the adding comprises:
Wherein the UV stabilizer or the UV absorber and the predetermined photoinitiator are added to the UV curable resin in a predetermined ratio.
상기 광 개시제는 상기 UV 경화 수지에 대비하여 0.1 ~ 5 중량% 범위 이내의 기 설정된 비율로 첨가되는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the photoinitiator is added in a predetermined ratio within a range of 0.1 to 5 wt% with respect to the UV curable resin.
조사되는 상기 UV의 파장 영역 대역은 상기 광 개시제의 흡수 파장 영역 대역과 일치되도록 하는 것을 특징으로 하는 UV 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the wavelength band of the UV to be irradiated is made to coincide with the band of the absorption wavelength band of the photoinitiator.
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