JP2010164823A - Antireflection laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反射防止積層体に関し、特に、液晶表示装置等の表示装置の表示面の光の反射を防止するために表示面上に設けられる反射防止積層体に関する。 The present invention relates to an antireflection laminate, and more particularly, to an antireflection laminate provided on a display surface in order to prevent reflection of light on a display surface of a display device such as a liquid crystal display device.
液晶表示装置等の表示装置の表示面においては、室内の蛍光管などの外部光源から照射された光の反射が大きいと、表示装置の視認性及び美観が損なわれることがある。例えば、表示面の表面で反射した光と、表示装置内の複数の層中の界面で反射した光とが干渉することにより、干渉縞によるムラが発生し視認性及び美観を損ねることがある。従って、表示装置の視認性及び美観の向上のため、表示装置の最外層の表示面に、そのような反射や干渉を低減する層を表示面に設けることが、従来より行なわれている。 On the display surface of a display device such as a liquid crystal display device, if the reflection of light emitted from an external light source such as an indoor fluorescent tube is large, the visibility and aesthetics of the display device may be impaired. For example, interference between light reflected from the surface of the display surface and light reflected from interfaces in a plurality of layers in the display device may cause unevenness due to interference fringes and impair visibility and aesthetics. Therefore, in order to improve the visibility and aesthetics of the display device, it has been conventionally performed to provide such a layer for reducing reflection and interference on the display surface of the outermost layer of the display device.
かかる層としては、透明基材フィルムと、その上に設けられた防眩層との積層体が種々提案されている。例えば、特許文献１には、かかる防眩層として、粒子径０．５〜２．０μｍ透光性微粒子を含む層を用い、微粒子が防眩層表面から０．１〜０．３μｍ突出した防眩フィルムが開示されている。このような防眩フィルムは、微粒子による反射方向の散乱により干渉等を低減させるものであるが、入射光の波長による防眩性能にばらつきがあるという問題があり、また反射防止性能が未だ不十分である。 As such a layer, various laminates of a transparent substrate film and an antiglare layer provided thereon have been proposed. For example, in Patent Document 1, a layer containing translucent fine particles having a particle diameter of 0.5 to 2.0 μm is used as the antiglare layer, and the fine particles protrude from the antiglare layer surface by 0.1 to 0.3 μm. A dazzling film is disclosed. Such an antiglare film reduces interference by scattering in the reflection direction by fine particles, but there is a problem that the antiglare performance varies depending on the wavelength of incident light, and the antireflection performance is still insufficient. It is.
本発明の目的は、反射率が低く、かつ入射光の波長による反射防止性能のばらつきが少ない反射防止積層体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an antireflection laminate having a low reflectance and a small variation in antireflection performance depending on the wavelength of incident light.
本発明者は上記課題を解決するため検討した結果、反射方向の散乱を起こし得ず、従って反射防止効果が得られるとも考えられていなかった、可視光の波長に対して小さい所定範囲の大きさの微粒子を、特定の態様で含んだ積層体が、意外にも従来の防眩フィルムよりも良好な性能を有することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、下記〔１〕〜〔３〕が提供される。
As a result of studies to solve the above problems, the present inventor has not been able to cause scattering in the reflection direction, and therefore has not been considered to have an antireflection effect. Surprisingly, it was found that a laminate containing the fine particles in a specific embodiment has better performance than a conventional antiglare film, and the present invention has been completed.
That is, according to the present invention, the following [1] to [3] are provided.
〔１〕 基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを含む反射防止積層体であって、
前記反射防止層は、数平均粒子径が２００〜６００ｎｍの微粒子と、バインダーとを含み、
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有し、
前記平坦領域から前記微粒子が前記凸部として突出している高さは、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％である、反射防止積層体。
〔２〕 前記反射防止層において、（（前記反射防止層の単位面積に含まれる前記微粒子の数）／（前記単位面積に１層の前記微粒子を格子配列した場合の前記微粒子の数））×１００（％）で表される粒子割合が、２５〜８０％である、〔１〕に記載の反射防止積層体。
〔３〕 〔１〕〜〔２〕に記載の反射防止積層体の製造方法であって、
前記微粒子、前記バインダー及び溶媒を含む反射防止層材料を調製し、
前記反射防止層材料を、前記基材フィルム上に塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る
ことを含む製造方法。
[1] An antireflection laminate including a base film and an antireflection layer provided on the base film,
The antireflection layer includes fine particles having a number average particle diameter of 200 to 600 nm and a binder,
The antireflection layer, when observed from the normal direction of the surface, has a flat region where fine particles do not exist, and a convex region formed by protruding fine particles,
The height at which the fine particles protrude from the flat region as the convex portion is 40 to 80% of the particle diameter of the fine particles.
[2] In the antireflection layer, ((number of the fine particles contained in a unit area of the antireflection layer) / (number of fine particles when one layer of the fine particles is arranged in the unit area)) × The antireflection laminate according to [1], wherein a particle ratio represented by 100 (%) is 25 to 80%.
[3] A method for producing an antireflection laminate according to [1] to [2],
Prepare an antireflection layer material containing the fine particles, the binder and a solvent,
The antireflection layer material is applied onto the base film to form a coating film,
A production method comprising volatilizing a solvent in the coating film to obtain an antireflection layer.
本発明の反射防止積層体は、反射率が低く、かつ入射光の波長による反射防止性能のばらつきが少ないため、液晶表示装置等の各種の表示装置の表示面等における反射防止フィルムとして有用である。 The antireflection laminate of the present invention is useful as an antireflection film on display surfaces of various display devices such as liquid crystal display devices because of low reflectance and less variation in antireflection performance due to the wavelength of incident light. .
本発明の反射防止積層体は、基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた反射防止層とを有する。 The antireflection laminate of the present invention has a base film and an antireflection layer provided on the base film.
前記基材フィルムを構成する材料としては、各種の透明樹脂を用いることができる。かかる透明樹脂とは、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０%以上の樹脂である。例えば、脂環式構造を有する樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。 Various transparent resins can be used as the material constituting the base film. Such a transparent resin is a resin having a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more. For example, resin having alicyclic structure, polyester resin, cellulose resin, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polymethyl methacrylate resin, etc. It is done.
基材フィルムは、透明樹脂の他に、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定は無いが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。 The base film may contain other compounding agents in addition to the transparent resin. The compounding agent is not particularly limited, but inorganic fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; resins such as lubricants and plasticizers Modifiers; colorants such as dyes and pigments; antistatic agents and the like. These compounding agents can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, and is usually 0 to 100 parts by weight of the transparent resin. 5 parts by weight, preferably 0 to 3 parts by weight.
基材フィルムは、単層であっても複数の層からなる積層体であってもよい。基材フィルムの厚みは、合計の厚みとして、好ましくは２０〜３００μｍである。 The base film may be a single layer or a laminate composed of a plurality of layers. The thickness of the base film is preferably 20 to 300 μm as the total thickness.
基材フィルムの、反射防止層を設ける側の表面には、反射防止層を設けるのに先立ち、表面改質処理をすることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。また、基材表面に凹凸構造を有していてもよい。 Prior to providing the antireflection layer, the surface of the base film on the side where the antireflection layer is provided can be subjected to surface modification treatment. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment. Moreover, you may have an uneven | corrugated structure on the base-material surface.
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましい。 Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferable.
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後十分に水で洗浄する方法が挙げられる。浸漬した状態で振とうすると短時間で処理できるが、処理しすぎると表面が溶解したり、透明性が低下したりするので、適宜条件を調整することが好ましい。 Examples of the chemical treatment include a method of immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. When shaken in an immersed state, the treatment can be performed in a short time. However, if the treatment is carried out excessively, the surface is dissolved or the transparency is lowered.
本発明の反射防止積層体が有する反射防止層は、微粒子と、バインダーとを含む。
前記微粒子は、その数平均粒子径が２００〜６００ｎｍであり、好ましくは３００〜５００ｎｍである。かかる粒子径の微粒子を用いることにより、良好な反射防止効果を得ることができる。
The antireflection layer of the antireflection laminate of the present invention contains fine particles and a binder.
The fine particles have a number average particle diameter of 200 to 600 nm, preferably 300 to 500 nm. By using fine particles having such a particle size, a good antireflection effect can be obtained.
本発明において、微粒子の粒径はなるべく均一であることが好ましい。具体的にはＣＶ値（標準偏差／平均粒径）が２０％以内であることが好ましい。
本発明において、前記微粒子の形状は、球形であることが好ましい。球形であることにより、微粒子の製造が容易となり、且つ良好な反射防止効果を得ることができる。ここで、球形であるとは、完全な球形のみならず、歪んだ球形であってもよく、その場合の長径と短径との比は１：１〜１．３：１の範囲とすることができる。
In the present invention, the particle diameter of the fine particles is preferably as uniform as possible. Specifically, the CV value (standard deviation / average particle diameter) is preferably within 20%.
In the present invention, the fine particles preferably have a spherical shape. Due to the spherical shape, it is easy to produce fine particles and a good antireflection effect can be obtained. Here, the spherical shape may be not only a perfect spherical shape but also a distorted spherical shape, and the ratio of the major axis to the minor axis in that case should be in the range of 1: 1 to 1.3: 1. Can do.
前記微粒子を構成する材料は、特に限定されず、各種の有機又は無機の材料を用いることができる。前記有機材料としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂等を挙げることができる。また前記無機材料としては、二酸化珪素、酸化アンチモン（Ｖ）（Ｓｂ２Ｏ５）、ジルコニア、酸化アルミニウム、ＰＴＯ、酸化チタン等を挙げることができる。 The material constituting the fine particles is not particularly limited, and various organic or inorganic materials can be used. Examples of the organic material include acrylic resin and styrene resin. Examples of the inorganic material include silicon dioxide, antimony (V) (Sb 2 O 5 ), zirconia, aluminum oxide, PTO, and titanium oxide.
本発明において、反射防止層を形成する方法は、特に限定されないが、特に好ましい方法としては、
工程(i)：微粒子、バインダー材料及び溶媒を含む反射防止層材料を調製する工程。
工程(ii)：工程(i)で得た反射防止層材料を、基材フィルム上に塗布して塗膜を形成する工程。
工程(iii)：工程(ii)で得た塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る工程。
を含む製造方法を挙げることができる。
In the present invention, the method for forming the antireflection layer is not particularly limited, but as a particularly preferred method,
Step (i): A step of preparing an antireflection layer material containing fine particles, a binder material and a solvent.
Step (ii): A step of forming a coating film by applying the antireflection layer material obtained in step (i) onto a base film.
Step (iii): A step of obtaining an antireflection layer by volatilizing the solvent in the coating film obtained in step (ii).
Can be mentioned.
前記工程(i)において、バインダー材料とは、反射防止層のバインダーを構成しうる材料であり、バインダーを構成する樹脂、又は後の工程において重合することによりバインダーを構成しうる重合性モノマー、及びこれらの混合物を用いることができる。バインダーを構成する樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は電離放射線硬化型樹脂が好ましい。 In the step (i), the binder material is a material that can constitute the binder of the antireflection layer, a resin that constitutes the binder, or a polymerizable monomer that can constitute the binder by polymerization in a subsequent step, and Mixtures of these can be used. Examples of the resin constituting the binder include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and an ionizing radiation curable resin, and a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin is preferable from the viewpoint of film strength and workability.
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が挙げられる。また、これらの熱硬化性樹脂には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を必要に応じて加えてもよい。 Thermosetting resins include phenolic resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicone resin, polysiloxane Resin. Moreover, you may add hardening agents, such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier, etc. to these thermosetting resins as needed.
電離放射線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーおよび／またはモノマーが、電離放射線の照射により硬化する樹脂である。電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。
紫外線または電子線により硬化する樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー、又は光重合性モノマーと光重合開始剤や光増感剤を含有するもの、また、電子線硬化型樹脂としては、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものが挙げられる。
The ionizing radiation curable resin is a resin in which a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule is cured by irradiation with ionizing radiation. Ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking molecules, and usually ultraviolet rays or electron beams are used.
There is no restriction | limiting in particular as resin hardened | cured with an ultraviolet-ray or an electron beam, It can select suitably from what is used conventionally and can use it. Examples of the ultraviolet curable resin include a photopolymerizable prepolymer or a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator or a photosensitizer, and examples of the electron beam curable resin include a photopolymerizable prepolymer or a photopolymer. The thing containing a polymerizable monomer is mentioned.
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリアクリレート、ポリメチロールプロパントリメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ヘキサンジオールメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等が挙げられる。
本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート若しくはジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートを用いることが好ましい。
Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more. Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane triacrylate, polymethylolpropane trimethacrylate, hexanediol acrylate, hexanediol methacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol di Methacrylate etc. It is.
In the present invention, it is preferable to use urethane acrylate as the prepolymer and dipentaerythritol hexaacrylate or dipentaerythritol hexamethacrylate as the monomer.
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を単独又は混合して用いることができる。 Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, tetramethylchuram monosulfide, thioxanthones, and the like. As the photosensitizer, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, or the like can be used alone or in combination.
反射防止層材料における、前記微粒子と前記バインダーとの割合、ならびに溶媒と固形分（微粒子及びバインダー等の、溶媒を揮発した後に残留する溶媒以外の成分）との割合は、後述する所定の形態を有する反射防止層が得られるよう適宜調整することができるが、バインダーに対する粒子割合が３０〜７０％であることが特に好ましい。また、溶媒と固形分との割合は粒子粒径の突出高さとの関係および塗工方式に応じて適宜調整しうる。例えば、マイクログラビアコータにより塗工する場合、おおむね固形分割合を重量比で０．１〜１０％に調整すると塗工しやすい。 In the antireflection layer material, the ratio between the fine particles and the binder, and the ratio between the solvent and the solid content (components other than the solvent such as the fine particles and the binder remaining after volatilizing the solvent) are in a predetermined form described later. Although it can adjust suitably so that the anti-reflective layer which it has may be obtained, it is especially preferable that the particle ratio with respect to a binder is 30 to 70%. Further, the ratio of the solvent and the solid content can be appropriately adjusted according to the relationship between the protrusion height of the particle diameter and the coating method. For example, when coating with a micro gravure coater, it is easy to apply if the solid content ratio is adjusted to 0.1 to 10% by weight.
使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。 Solvents used include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; glycols such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; aromatics such as toluene and xylene Hydrocarbons; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; and combinations of two or more of these; Can be mentioned.
反射防止層材料は、上記成分に加え、必要に応じて任意成分を含むことができる。具体的には例えば、バインダー材料の重合のための重合開始剤、架橋のための架橋剤、レベリングのためのレベリング剤等を含むことができる。レベリング剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が挙げられ、具体的にはアリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類など）；含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）；アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤；その他の光重合開始剤がある。また、光重合開始剤はアミン類などの光増感剤と組み合わせても使用できる。
光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部である。
The antireflection layer material can contain an optional component as required in addition to the above components. Specifically, for example, a polymerization initiator for polymerization of the binder material, a crosslinking agent for crosslinking, a leveling agent for leveling, and the like can be included. Examples of the leveling agent include a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant. Fluorosurfactants include non-ionic perfluoroalkylsulfonic acid amide group-containing nonions such as Fluorard FC-431 manufactured by 3M, MegaFac F-171, F-172, F-173, F Perfluoroalkyl group-containing oligomers such as -176PF, F-470, and F-471. Examples of the silicone surfactant include polydimethylsiloxane in which the side chain or the end of the main chain is modified with various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol. Examples of the polymerization initiator include known photopolymerization initiators. Specifically, aryl ketone photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers). , Benzyldimethyl ketals, benzoylbenzoates, α-acyloxime esters, etc.); sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.); acylphosphine oxide photopolymerization initiators; other photopolymerizations There is an initiator. The photopolymerization initiator can also be used in combination with a photosensitizer such as amines.
Content of a photoinitiator is 0.01-20 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation hardening resin, Preferably it is 0.1-10 weight part.
前記工程(ii)における反射防止層材料の塗布は、ダイコータ、マイクログラビアコータ、グラビアコータ、スプレーコータ等により行なうことができる。 Application of the antireflection layer material in the step (ii) can be performed by a die coater, a micro gravure coater, a gravure coater, a spray coater or the like.
前記工程(iii)における溶媒の揮発は、加熱、乾燥等の任意の方法により行なうことができる。また、バインダー材料が重合性のモノマーである場合や、ポリマーを架橋させる場合は、溶媒の揮発と同時又は前若しくは後に、加熱、エネルギー線照射等により重合及び／又は架橋の反応を行い、バインダー材料を硬化させることができる。 The volatilization of the solvent in the step (iii) can be performed by any method such as heating and drying. In addition, when the binder material is a polymerizable monomer or when the polymer is crosslinked, the binder material is subjected to polymerization and / or crosslinking reaction by heating, energy ray irradiation or the like at the same time or before or after the volatilization of the solvent. Can be cured.
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有する。 The antireflection layer has a flat region where fine particles do not exist and a convex region formed by protruding fine particles when observed from the normal direction of the surface.
ここで、反射防止層を「その面の法線方向」から観察するとは、反射防止層の、基材フィルムと反対側の面を、反射防止層の法線方向から観察することを意味する。 Here, observing the antireflection layer from the “normal direction of the surface” means observing the surface of the antireflection layer opposite to the base film from the normal direction of the antireflection layer.
この特徴を、図１を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる反射防止積層体を、その面に垂直な面で切断した断面を概略的に示す縦断面図である。なお、以下の反射防止積層体の構造に関する説明においては、別に断らない限り、反射防止積層体を、図１に示すように、その反射防止機能を有する面である反射防止層側を水平に上に向けた状態で説明する。従って、反射防止層を上側から観察することにより、反射防止層の面の法線方向から観察することとなる。 This feature will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing a cross section of an antireflection laminate according to an embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the plane. In the following description of the structure of the antireflection laminate, unless otherwise specified, the antireflection laminate is horizontally placed on the antireflection layer side, which is the surface having the antireflection function, as shown in FIG. It will be described in the state of facing. Therefore, by observing the antireflection layer from above, it is observed from the normal direction of the surface of the antireflection layer.
図１において、反射防止積層体１０は、基材フィルム１１と、その上面に設けられた反射防止層１２とを有し、反射防止層１２は、バインダー１７と、微粒子１５とを有している。反射防止層１２を上側から観察すると、領域１６は、微粒子が突出することにより形成された凸部により占められる凸部領域となり、その他の領域は、微粒子が存在しない平坦領域となる。
In FIG. 1, the
微粒子１５の粒径は矢印Ｈ２１で示され、平坦部分の厚さは矢印Ｈ２３で示され、平坦領域から微粒子１５が凸部として突出している高さは、矢印Ｈ２２で示される。本発明の反射防止積層体においては、（Ｈ２２／Ｈ２１）×１００で求められる値が４０〜８０（％）となる。このような突出の割合を有することにより、反射防止層表面において反射防止効果が得られる。
The particle diameter of the
本発明では、反射防止層に含まれる微粒子の数は特に限定されないが、特に、反射防止層の単位面積に含まれる前記微粒子の数（以下において、「現実粒子数」という場合がある。）と、前記単位面積に１層の前記微粒子を格子配列した場合の前記微粒子の数（以下において「理想粒子数」という場合がある。）との比が、（現実粒子数／理想粒子数）×１００（％）で表される粒子割合として、２５〜８０％であることが特に好ましい。 In the present invention, the number of fine particles contained in the antireflection layer is not particularly limited, but in particular, the number of fine particles contained in the unit area of the antireflection layer (hereinafter, sometimes referred to as “real particle number”). The ratio of the number of fine particles in the case where one layer of the fine particles is arranged in the unit area (hereinafter sometimes referred to as “the number of ideal particles”) is (the number of actual particles / the number of ideal particles) × 100 The particle ratio represented by (%) is particularly preferably 25 to 80%.
ここで微粒子の格子配列とは、図２に示すように、微粒子を縦横に隙間無く並べた配列である。微粒子の粒子径にばらつきがある場合は、その数平均粒子径と同一の粒子径を有するものを単位面積に格子配列した場合の微粒子の数を、理想粒子数とすることができる。 Here, the lattice arrangement of fine particles is an arrangement in which fine particles are arranged vertically and horizontally with no gaps, as shown in FIG. When there is variation in the particle diameter of the fine particles, the number of fine particles when the particles having the same particle diameter as the number average particle diameter are arranged in a unit area can be used as the ideal particle number.
理想粒子数は、その数平均粒子径から容易に計算することができる。現実粒子数は、得られた反射防止層を観察して求めることができる。または、反射防止層の形成に用いた反射防止層材料中の各成分の含有割合から計算することもできる。 The ideal number of particles can be easily calculated from the number average particle size. The actual number of particles can be obtained by observing the obtained antireflection layer. Or it can also calculate from the content rate of each component in the antireflection layer material used for formation of an antireflection layer.
本発明において、反射防止層の厚みは、微粒子の粒子径及び突出の割合に応じた所望の厚みとすることができる。 In the present invention, the thickness of the antireflection layer can be set to a desired thickness according to the particle diameter and the ratio of protrusion of the fine particles.
本発明の反射防止積層体は、基材フィルム及び反射防止層のうちの反射防止層側の表面において、反射防止効果を有する。即ち、反射防止層側の面に入射した光の反射率が低い。反射率の具体的な値としては、好ましくは０〜１．５％、より好ましくは０〜１％とすることができる。ここで反射率の測定は、分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて入射角５°で測定した値である。 The antireflection laminate of the present invention has an antireflection effect on the surface on the antireflection layer side of the base film and the antireflection layer. That is, the reflectance of light incident on the surface on the antireflection layer side is low. The specific value of the reflectance is preferably 0 to 1.5%, more preferably 0 to 1%. Here, the reflectance is a value measured at an incident angle of 5 ° using a spectrophotometer (ultraviolet visible near infrared photometer V-550, manufactured by JASCO Corporation).
このような反射防止効果が得られる理由は、特に限定されないが、特定の凸部を有することにより、フィルムの厚み方向の屈折率が連続的に光の波長に比べて短い周期で変化するためであると考えられる。本発明の反射防止積層体においては、従来技術における粒子とバインダーとを含む反射防止層を有する防眩フィルムに比べて、粒子とバインダーとの屈折率の差について特段の制限が無いため、屈折率差にかかわらず、その他の所望の条件において有利な微粒子及びバインダーを適宜選択して構成することができる。従って、例えば、製造コストが低い材料を選択することにより、製造コストを低減することが可能となる。また、フィルムの物性を、反射防止以外の目的、例えば表示装置の保護に適した物性に調整、そのような目的に適った物性を兼ね備えるフィルムとすることも容易に行なうことができる。 The reason why such an antireflection effect is obtained is not particularly limited, but by having a specific convex portion, the refractive index in the thickness direction of the film continuously changes in a shorter period than the wavelength of light. It is believed that there is. In the antireflection laminate of the present invention, since there is no particular limitation on the difference in refractive index between the particles and the binder as compared with the antiglare film having the antireflection layer containing the particles and the binder in the prior art, the refractive index Regardless of the difference, fine particles and a binder that are advantageous under other desired conditions can be appropriately selected and constituted. Therefore, for example, by selecting a material with a low manufacturing cost, the manufacturing cost can be reduced. Further, the physical properties of the film can be easily adjusted to physical properties suitable for purposes other than antireflection, for example, protection of a display device, and a film having physical properties suitable for such purposes can be easily performed.
本発明の反射防止積層体は、より好ましくは、波長３５０〜８００ｎｍにおいて測定波長間隔１ｎｍで測定した反射率の最大値と最小値との差が、好ましくは０．６以内、より好ましくは０．３以内とすることができる。かかる反射率の差が少ない反射防止積層体は、粒子の突出している高さを、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％にすることにより得ることができる。かかる反射率の差が少ない反射防止積層体とすることにより、外観における色つきなどを防止し、より良好な外観を得ることができる。 In the antireflection laminate of the present invention, more preferably, the difference between the maximum value and the minimum value of the reflectance measured at a wavelength interval of 1 nm at a wavelength of 350 to 800 nm is preferably within 0.6, more preferably 0.00. It can be within 3. Such an antireflection laminate having a small difference in reflectance can be obtained by setting the height at which the particles protrude to 40 to 80% of the particle diameter of the fine particles. By setting it as the antireflection laminated body with such a small difference in reflectance, coloring in the appearance can be prevented and a better appearance can be obtained.
本発明の反射防止積層体の用途は、特に限定されないが、液晶表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、陰極管表示装置、フィールドエミッション表示装置、電子ペーパー、タッチパネル等の表示装置の表示面の部材として好ましく用いることができる。本発明の反射防止積層体は、これらの表示装置に貼付して用いることもでき、また、従来の表示装置の最外層に位置する偏光板保護フィルム、前面板などの部材を置換するものとしてこれらの表示装置に組み込み用いることもできる。 The use of the antireflection laminate of the present invention is not particularly limited, but a display surface of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an electroluminescence display device, a cathode tube display device, a field emission display device, electronic paper, or a touch panel It can be preferably used as a member. The antireflection laminate of the present invention can also be used by sticking to these display devices, and these are used to replace members such as a polarizing plate protective film and a front plate located in the outermost layer of a conventional display device. It can also be incorporated in a display device.
以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下において、成分の量比に関する「部」及び「％」は、別に断らない限り重量部を表す。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. In addition, this invention is not limited to the following Example. In the following, “parts” and “%” relating to the quantity ratio of the components represent parts by weight unless otherwise specified.
＜製造例１：基材フィルムの作製＞
２種３層の多層共押出装置を使用して、最表層を構成するためのポリメチルメタクリレート樹脂（スミペックスＨＴ２０Ｙ、住友化学社製）、及び中間層を構成するための耐熱性の高いポリメチルメタクリレート樹脂（スミペックスＭＨ、住友化学社製）をそれぞれ、２０ｋｇ／ｈｒ、１０ｋｇ／ｈｒの押出量でＴ型ダイスより吐出させ、冷却し、基材フィルムを得た。得られた基材フィルムの各層の厚さは、最表層４０μｍ、中間層４０μｍ、及び最裏層４０μｍ、であり、総厚は１２０μｍであった。また、屈折率は１．４９であった。
<Production Example 1: Production of base film>
Polymethylmethacrylate resin (SUMIPEX HT20Y, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) for forming the outermost layer using a multi-layer coextrusion apparatus of 2 types and 3 layers, and polymethylmethacrylate having high heat resistance for forming the intermediate layer Resin (SUMIPEX MH, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was discharged from a T-type die at an extrusion rate of 20 kg / hr and 10 kg / hr, respectively, and cooled to obtain a base film. The thickness of each layer of the obtained base film was an outermost layer of 40 μm, an intermediate layer of 40 μm, and an outermost layer of 40 μm, and the total thickness was 120 μm. The refractive index was 1.49.
＜実施例１＞
（１−１：反射防止層材料の調製）
バインダー材料（商品名「ＵＶ７０００Ｂ」、日本合成化学工業社製）１００部と、微粒子（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、数平均粒子径５００ｎｍ、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％） ２２０部と、溶媒（メチルイソブチルケトン）７９３０部と重合開始剤（ｉｒｕｇａｃｕｒｅ９０７ ｃｉｂａ社製）２部を混合し、反射防止層材料を調製した。
<Example 1>
(1-1: Preparation of antireflection layer material)
100 parts of binder material (trade name “UV7000B”, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), fine particles (SiO 2 , manufactured by CI Kasei Co., Ltd., number average particle diameter 500 nm, ratio of major axis to minor axis 1.2 or less, CV value 10 %) 220 parts, 7930 parts of a solvent (methyl isobutyl ketone) and 2 parts of a polymerization initiator (made by Irugacure 907 ciba) were mixed to prepare an antireflection layer material.
（１−２：反射防止積層体の作製及び評価）
製造例１で得た基材フィルムをＡ４サイズに裁断し、その面上に、上記（１−１）で得た反射防止層材料５ｍｌをバーコータで塗布して塗膜を形成し、塗膜をオーブンで７０℃１分間乾燥後、紫外線（ピーク照度１００ｍＷ／ｃｍ２、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ２）をあて塗膜を硬化させ、反射防止層を形成し、基材−反射防止層の層構成を有する反射防止積層体を作製した。形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４００ｎｍであり、即ち数平均粒子径の８０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
(1-2: Production and evaluation of antireflection laminate)
The base film obtained in Production Example 1 is cut into A4 size, and 5 ml of the antireflection layer material obtained in (1-1) above is applied on the surface with a bar coater to form a coating film. After drying in an oven at 70 ° C. for 1 minute, the coating film is cured by applying ultraviolet rays (peak illuminance 100 mW / cm 2 , integrated light quantity 200 mJ / cm 2 ) to form an antireflection layer, and the layer structure of the substrate-antireflection layer An antireflection laminate having the same was produced. When the formed antireflection layer was observed from the normal direction of the surface, there were a flat region where fine particles did not exist and a convex region formed by protruding fine particles. When the longitudinal section of the antireflection layer is observed, the height at which the fine particles having a particle diameter of 500 nm, which is the number average particle diameter, protrude from the flat region as a convex portion is 400 nm, that is, 80% of the number average particle diameter. It was. In the antireflection layer, the ratio of the number of actual particles to the number of ideal particles was 30%.
得られた反射防止積層体について、分光光度計（紫外可視近赤外光光度計Ｖ−５５０、日本分光社製）を用いて、波長４３０〜７００ｎｍにおける入射角５°での反射率を測定し（測定波長間隔は１ｎｍ）、前記波長領域における反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。 About the obtained antireflection laminate, the reflectance at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 430 to 700 nm was measured using a spectrophotometer (ultraviolet visible near infrared photometer V-550, manufactured by JASCO Corporation). (Measurement wavelength interval is 1 nm), the reflectance in the wavelength region was measured. Table 1 shows the maximum and minimum values of the measured reflectance.
＜実施例２＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子の量を３９５部、溶媒の量を１２１５０部に変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４００ｎｍであり、即ち数平均粒子径の８０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は５０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
<Example 2>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that in the step (1-1), the amount of fine particles in the antireflection layer material was changed to 395 parts and the amount of the solvent was changed to 12150 parts.
When the formed antireflection layer was observed from the normal direction of the surface, there were a flat region where fine particles did not exist and a convex region formed by protruding fine particles. When the longitudinal section of the antireflection layer is observed, the height at which the fine particles having a particle diameter of 500 nm, which is the number average particle diameter, protrude from the flat region as a convex portion is 400 nm, that is, 80% of the number average particle diameter. It was. In the antireflection layer, the ratio of the actual number of particles to the ideal number of particles was 50%.
The reflectance of the obtained antireflection layer was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the maximum and minimum values of the measured reflectance.
＜実施例３＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子の量を３６５部、溶媒の量を４２８０部に変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である５００ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは２５０ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
<Example 3>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that in the step (1-1), the amount of fine particles in the antireflection layer material was changed to 365 parts and the amount of solvent was changed to 4280 parts.
When the formed antireflection layer was observed from the normal direction of the surface, there were a flat region where fine particles did not exist and a convex region formed by protruding fine particles. When the longitudinal section of the antireflection layer is observed, the height at which the fine particles having a particle diameter of 500 nm, which is the number average particle diameter, protrude from the flat region as a convex portion is 250 nm, that is, 50% of the number average particle diameter. It was. In the antireflection layer, the ratio of the number of actual particles to the number of ideal particles was 30%.
The reflectance of the obtained antireflection layer was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the maximum and minimum values of the measured reflectance.
＜比較例１＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子を、数平均粒子径１５０ｎｍのもの（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％）に変え、反射防止層材料中の微粒子の量を６９．３部、溶媒の量を５８３０部に変更し、工程（１−２）において塗膜の厚さを変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である１５０ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは７５ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
<Comparative Example 1>
In the step (1-1), the fine particles in the antireflection layer material are those having a number average particle diameter of 150 nm (SiO 2 , manufactured by C-I Kasei Co., Ltd., ratio of major axis to minor axis is 1.2 or less, CV value is 10%). In the same manner as in Example 1 except that the amount of fine particles in the antireflection layer material was changed to 69.3 parts, the amount of solvent was changed to 5830 parts, and the thickness of the coating film was changed in step (1-2). To prepare an antireflection laminate.
When the formed antireflection layer was observed from the normal direction of the surface, there were a flat region where fine particles did not exist and a convex region formed by protruding fine particles. When the longitudinal section of the antireflection layer is observed, the height at which the fine particles having a particle diameter of 150 nm, which is the number average particle diameter, protrude from the flat region as a convex portion is 75 nm, that is, 50% of the number average particle diameter. It was. In the antireflection layer, the ratio of the number of actual particles to the number of ideal particles was 30%.
The reflectance of the obtained antireflection layer was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the maximum and minimum values of the measured reflectance.
＜比較例２＞
工程（１−１）において、反射防止層材料中の微粒子を、数平均粒子径８０ｎｍのもの（ＳｉＯ２、シーアイ化成社製、短径に対する長径の比率１．２以下、ＣＶ値１０％）に変え、反射防止層材料中の微粒子の量を３４．４部、溶媒の量を８９１５部に変更し、工程（１−２）において塗膜の厚さを変更した他は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を作製した。
形成された反射防止層をその面の法線方向から観察すると、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とが存在していた。反射防止層の縦断面を観察すると、数平均粒子径である８０ｎｍの粒子径を有する微粒子が平坦領域から凸部として突出している高さは４０ｎｍであり、即ち数平均粒子径の５０％であった。反射防止層において、理想粒子数に対する現実粒子数の粒子割合は３０％であった。
得られた反射防止層について、実施例１と同様に反射率を測定した。測定された反射率の最大値及び最小値を、表１に示す。
<Comparative example 2>
In the step (1-1), the fine particles in the antireflection layer material are those having a number average particle diameter of 80 nm (SiO 2 , manufactured by CI Kasei Co., Ltd., the ratio of the major axis to the minor axis is 1.2 or less, CV value 10%). In the same manner as in Example 1 except that the amount of fine particles in the antireflection layer material was changed to 34.4 parts, the amount of solvent was changed to 8915 parts, and the thickness of the coating film was changed in step (1-2). To prepare an antireflection laminate.
When the formed antireflection layer was observed from the normal direction of the surface, there were a flat region where fine particles did not exist and a convex region formed by protruding fine particles. When the longitudinal section of the antireflection layer is observed, the height at which the fine particles having a particle diameter of 80 nm, which is the number average particle diameter, protrude from the flat region as a convex portion is 40 nm, that is, 50% of the number average particle diameter. It was. In the antireflection layer, the ratio of the number of actual particles to the number of ideal particles was 30%.
The reflectance of the obtained antireflection layer was measured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the maximum and minimum values of the measured reflectance.
表１の結果から明らかな通り、数平均粒子径及びその突出している高さの割合が本発明の規定の範囲内である実施例１〜３においては、それらのいずれかが本発明の規定の範囲外である比較例１〜２に比べて、反射率が低く且つ波長４３０〜７００ｎｍの領域において均一であることが分かる。 As is apparent from the results in Table 1, in Examples 1 to 3, in which the number average particle diameter and the ratio of the protruding height are within the specified range of the present invention, any of them is defined by the present invention. It can be seen that the reflectance is low and uniform in the wavelength region of 430 to 700 nm compared to Comparative Examples 1 and 2 which are out of the range.
１０ 反射防止積層体
１１ 基材フィルム
１２ 反射防止層
１５ 微粒子
１６ 凸部領域
１７ バインダー
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記反射防止層は、数平均粒子径が２００〜６００ｎｍの微粒子と、バインダーとを含み、
前記反射防止層は、その面の法線方向から観察した場合において、微粒子が存在しない平坦領域と、微粒子が突出することにより形成された凸部領域とを有し、
前記平坦領域から前記微粒子が前記凸部として突出している高さは、前記微粒子の粒子径の４０〜８０％である、反射防止積層体。 An antireflection laminate comprising a base film and an antireflection layer provided on the base film,
The antireflection layer includes fine particles having a number average particle diameter of 200 to 600 nm and a binder,
The antireflection layer, when observed from the normal direction of the surface, has a flat region where fine particles do not exist, and a convex region formed by protruding fine particles,
The height at which the fine particles protrude from the flat region as the convex portion is 40 to 80% of the particle diameter of the fine particles.
前記微粒子、前記バインダー及び溶媒を含む反射防止層材料を調製し、
前記反射防止層材料を、前記基材フィルム上に塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜中の溶媒を揮発させて反射防止層を得る
ことを含む製造方法。 It is a manufacturing method of the reflection preventing laminated body according to claim 1 or 2,
Prepare an antireflection layer material containing the fine particles, the binder and a solvent,
The antireflection layer material is applied onto the base film to form a coating film,
A production method comprising volatilizing a solvent in the coating film to obtain an antireflection layer.
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