KR20140104581A - Method for preparing touch screen panel and touch screen panel prepared from the same - Google Patents

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KR20140104581A KR1020130017687A KR20130017687A KR20140104581A KR 20140104581 A KR20140104581 A KR 20140104581A KR 1020130017687 A KR1020130017687 A KR 1020130017687A KR 20130017687 A KR20130017687 A KR 20130017687A KR 20140104581 A KR20140104581 A KR 20140104581A
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    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Abstract

The present invention relates to a manufacturing method for a touchscreen panel. The method includes the steps of: forming photoresist patterns on a substrate; printing a conductive paste to fill the conductive paste between the photoresist patterns using a squeegee, blade, and a ceramic mold; and forming a conductive pattern by curing the conductive paste. The manufacturing method for a touchscreen panel can form a fine conductive pattern by forming patterns using photoresist elements, and printing the conductive paste using at least one of the squeegee, blade, and ceramic mold.

Description

터치스크린 패널의 제조방법 및 이로부터 제조된 터치스크린 패널{METHOD FOR PREPARING TOUCH SCREEN PANEL AND TOUCH SCREEN PANEL PREPARED FROM THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel,

본 발명은 터치스크린 패널의 제조방법 및 이로부터 제조된 터치스크린 패널에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하고, 스퀴지, 블레이드 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트를 인쇄함으로써, 미세 전도성 패턴을 형성할 수 있는 터치스크린 패널의 제조방법 및 이로부터 제조된 터치스크린 패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel and a touch screen panel manufactured therefrom. More particularly, the present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel capable of forming a micro conductive pattern by printing a conductive paste using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold, using a photoresist, And a touch screen panel manufactured from the same.

터치스크린 패널은 디스플레이 전면에 부착되어 사용자의 터치 입력을 수신하는 장치이다. 일반적으로, 터치스크린 패널은 투명한 플레이트 표면에 도전 라인을 형성하고, 도전 라인을 통하여 사용자의 터치 입력의 위치를 검출한다. 터치스크린 패널은 저항에 의한 전류의 변화를 감지하는 저항식 터치스크린 패널과 커패시턴스의 변화를 감지하는 정전식 터치스크린 패널로 구분된다. 정전식 터치스크린 패널은 저항식 터치스크린 패널에 비하여 터치감이 우수하여 점점 사용 분야가 증가하고 있다.The touch screen panel is attached to the front surface of the display to receive the user's touch input. Generally, the touch screen panel forms a conductive line on the transparent plate surface and detects the position of the user's touch input through the conductive line. The touch screen panel is divided into a resistive touch screen panel that senses changes in current due to resistance and a capacitive touch screen panel that detects changes in capacitance. The electrostatic touchscreen panel is getting more and more used because it has better touch feeling than the resistive touchscreen panel.

일반적인 정전식 터치스크린 패널은 투명한 플레이트 상에 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide)과 같은 투명 감지 전극의 상면을 터치하여 터치된 영역의 정전용량의 변동에 따라 위치 좌표를 찾는 방식으로 사용자의 터치 입력의 위치를 검출하고 있다. In general, the electrostatic touch screen panel touches the top surface of a transparent sensing electrode such as indium tin oxide (ITO) on a transparent plate to find a position coordinate according to a change in capacitance of a touched area. Position.

최근에는 터치스크린 패널의 고기능화 추세에 따라, 종래의 투명 감지 전극 재료인 인듐주석산화물보다 전기전도도가 높은 도전물질에 대한 요청이 대두되고 있다. 또한, 인듐주석산화물의 인듐은 희귀 원소 물질로서, 전 세계적으로 수급과 관련하여 가격 변동이 심화될 것으로 예측되고 있다. 이에 따라, 상기 투명 감지 전극을 전도성이 높은 금속 세선들의 금속 메쉬 구조로 대체하려는 노력들이 새롭게 시도되고 있다.In recent years, there has been a demand for a conductive material having higher electric conductivity than indium tin oxide, which is a conventional transparent sensing electrode material, in accordance with the trend of high-functioning touch screen panels. In addition, indium of indium tin oxide is a rare element material, and it is predicted that price fluctuation will be intensified with regard to supply and demand around the world. Accordingly, attempts have been made to replace the transparent sensing electrode with a metal mesh structure of metal wires having high conductivity.

하지만, 사용자의 터치가 이루어지는 윈도우 영역에 금속 세선들로 이루어진 메쉬 구조를 사용하게 되면, 금속 세선에서의 빛의 반사 문제, 금속 메쉬로 전극 패턴을 형성함으로써 채움비(fill ratio)에 따른 빛의 투과도 감소 문제가 있을 수 있다. 이로 인해, 터치스크린 패널의 패턴 시인성이 악화될 수 있다. 그럼에도 불구하고, 금속 세선을 사용하는 구조는 윈도우 영역과 배선 영역을 동일 재료로 동시에 형성할 수 있으므로, 제조 공정이 단순화되고 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.However, if a mesh structure made of metal thin wires is used in a window region where a user touches, a problem of reflection of light on a metal thin wire, a problem of reflection of light according to a fill ratio by forming an electrode pattern with a metal mesh There may be a reduction problem. As a result, the pattern visibility of the touch screen panel may deteriorate. Nevertheless, since the structure using the metal thin wires can simultaneously form the window region and the wiring region with the same material, the manufacturing process is simplified and the productivity can be improved.

이러한 금속 세선 구조를 형성하기 위하여, 통상적으로 전도성 페이스트를 사용하여 스크린 인쇄법, 패드 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 플렉소그래피법 등의 인쇄법으로 도전층 패턴(감지 전극)을 형성하는 방법이 사용되고 있으나, 이러한 인쇄법은 미세 패턴, 예를 들면, 50 ㎛ 이하의 갭을 가진 패턴의 구현이 어려울 수 있다.
In order to form such a fine metal line structure, a conductive layer pattern (sensing) is usually formed by a printing method such as a screen printing method, a pad printing method, an offset printing method, an inkjet printing method, a gravure printing method, Electrode) is used, but such a printing method may be difficult to realize a pattern having a fine pattern, for example, a gap of 50 탆 or less.

본 발명의 목적은 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하고, 스퀴지, 블레이드 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트를 인쇄함으로써, 미세 전도성 패턴을 형성할 수 있는 터치스크린 패널의 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a touch screen panel capable of forming a micro conductive pattern by printing a conductive paste using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold using a photoresist will be.

본 발명의 다른 목적은 상기 제조방법으로 제조된 터치스크린 패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a touch screen panel manufactured by the above manufacturing method.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

본 발명의 하나의 관점은 터치스크린 패널의 제조방법에 관한 것이다. 상기 제조방법은 기판 위에 포토레지스트 패턴을 형성하고; 스퀴지(squeegee), 블레이드(blade) 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트가 상기 포토레지스트 패턴 사이에 충진되도록 인쇄하고; 그리고 상기 전도성 페이스트를 경화하여 전도성 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel. The method includes forming a photoresist pattern on a substrate; Printing with conductive paste filled between the photoresist patterns using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold; And curing the conductive paste to form a conductive pattern.

구체예에서, 상기 전도성 페이스트는 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함할 수 있다.In an embodiment, the conductive paste may include conductive particles and a binder for fixing the conductive particles.

바람직하게는 상기 도전성 입자는 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 탄소나노튜브, 그래핀 및 전도성 고분자 중 1종 이상을 포함할 수 있다.Preferably, the conductive particles may include at least one of gold, silver, copper, aluminum, nickel, carbon nanotubes, graphene, and conductive polymers.

바람직하게는 상기 도전성 입자의 평균 입경은 1 nm 내지 5 ㎛일 수 있다.Preferably, the average particle diameter of the conductive particles may be 1 nm to 5 占 퐉.

바람직하게는 상기 바인더는 알킬계, 아민계, 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계 및 에틸렌계 수지 중 1종 이상을 포함할 수 있다.Preferably, the binder may include at least one of an alkyl-based resin, an amine-based resin, an acrylic-based resin, a urethane-based resin, a silicone-based resin, and an ethylene-based resin.

구체예에서, 상기 경화는 열 경화, 자외선 경화 또는 촉매 경화일 수 있다.In embodiments, the curing may be thermosetting, ultraviolet curing or catalytic curing.

구체예에서, 상기 전도성 페이스트 경화 후, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.In an embodiment, after the conductive paste curing, the step of removing the photoresist pattern may further include the step of removing the photoresist pattern.

본 발명의 다른 관점은 상기 제조방법으로부터 제조된 터치스크린 패널에 관한 것이다.
Another aspect of the present invention relates to a touch screen panel manufactured from the above manufacturing method.

본 발명은 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하고, 스퀴지, 블레이드 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트를 인쇄함으로써, 미세 전도성 패턴을 형성할 수 있는 터치스크린 패널의 제조방법 및 이로부터 제조된 터치스크린 패널을 제공하는 발명의 효과를 갖는다.
The present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel capable of forming a micro conductive pattern by printing a conductive paste using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold, using a photoresist to form a pattern, The present invention has the effect of providing a touch screen panel.

도 1은 일 실시예에 따른 터치스크린 패널 제조방법을 나타낸 공정도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따라 제조된 터치스크린 패널의 단면도이다.1 is a process diagram illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view of a touch screen panel manufactured according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널의 제조방법을 개략적으로 나타낸 공정도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 터치스크린 패널 제조방법은 기판(10) 위에 포토레지스트를 사용하여 포토레지스트 패턴(20)을 형성하고(s1 단계); 스퀴지(squeegee), 블레이드(blade) 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트(30)가 상기 포토레지스트 패턴(20) 사이(홈)에 충진되도록 인쇄하고(s2 단계); 그리고 상기 전도성 페이스트(30)를 경화하여 전도성 패턴(32)을 형성하는 단계(s3 단계)를 포함한다.1 is a process diagram schematically illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a method of manufacturing a touch screen panel according to the present invention includes forming a photoresist pattern 20 using a photoresist on a substrate 10 (step s1); The conductive paste 30 is printed so as to fill the space between the photoresist patterns 20 (step s2) using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold. And curing the conductive paste 30 to form the conductive pattern 32 (step s3).

본 발명의 명세서에서, “위”, “아래”의 기준은 도면을 기준으로 한 것이다.
In the specification of the present invention, the terms "above" and "below" are based on the drawings.

본 발명에 사용되는 기판(10)은 통상의 터치스크린 패널에 사용되는 기판을 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면, 유리, 폴리머, 반도체, 세라믹 등을 사용할 수 있다. 상기 폴리머의 구체적인 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타클레이트(PMMA) 등의 플라스틱 필름을 예시할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The substrate 10 used in the present invention may be any substrate used in a conventional touch screen panel. For example, glass, polymer, semiconductor, ceramic, or the like may be used. Specific examples of the polymer include, but are not limited to, plastic films such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), and polymethylmethacrylate (PMMA).

상기 기판(10)의 두께는 예를 들면, 0.001 내지 1 mm일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
The thickness of the substrate 10 may be, for example, 0.001 to 1 mm, but is not limited thereto.

상기 s1 단계에서, 상기 포토레지스트 패턴(20)은 통상의 포토레지스트 패턴 형성방법에 의해 형성된 것일 수 있으며, 예를 들면, 상기 기판(10)에 포토레지스트를 도포하여 포토레지스트 층을 형성하고, 이를 포토마스크를 사용하여 노광 및 현상(develop)함으로써 형성할 수 있다. 상기 포토레지스트 패턴(20)의 홈 부분은 상기 전도성 패턴(감지 전극, 32)의 배치를 반영하여 형성된다. 상기 포토레지스트 패턴(20)의 두께는 상기 전도성 패턴(32)의 두께와 동일할 수 있으며, 예를 들면, 1 내지 50 ㎛, 바람직하게는 1 내지 10 ㎛일 수 있다.
In step s1, the photoresist pattern 20 may be formed by a conventional photoresist pattern forming method. For example, a photoresist may be applied to the substrate 10 to form a photoresist layer, And can be formed by exposure and development using a photomask. The groove portion of the photoresist pattern 20 is formed to reflect the arrangement of the conductive pattern (sense electrode 32). The thickness of the photoresist pattern 20 may be the same as the thickness of the conductive pattern 32 and may be, for example, 1 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm.

상기 s2 단계에서, 상기 포토레지스트 패턴(20) 위에 전도성 페이스트(30)를 도포하고, 스퀴지(squeegee), 블레이드(blade) 및 세라믹몰드 중 하나 이상을 사용하여 간단하게 상기 포토레지스트 패턴(20) 사이(홈)에 상기 전도성 페이스트(30)가 충진될 수 있도록 전도성 페이스트(30)를 인쇄할 수 있다. 즉, 전도성 페이스트(30)가 도포된 상기 포토레지스트 패턴(20) 상에 상기 스퀴지(squeegee), 블레이드(blade) 및/또는 세라믹몰드가 그 상부를 접촉하며 지나가면, 상기 포트레지스트 패턴(20) 사이(홈)에 상기 전도성 패이스트(30)가 충진이 된다.In step s2, the conductive paste 30 is applied on the photoresist pattern 20, and the conductive paste 30 is simply applied between the photoresist patterns 20 using at least one of a squeegee, a blade, and a ceramic mold. The conductive paste 30 can be printed so that the conductive paste 30 can be filled in the grooves (grooves). That is, when the squeegee, the blade and / or the ceramic mold is passed over the photoresist pattern 20 on which the conductive paste 30 is applied, The conductive paste 30 is filled in the space (groove).

본 발명에 사용되는 전도성 페이스트(30)로는 통상의 터치스크린 패널에 사용되는 전도성 페이스트를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함하는 졸, 겔 또는 액상의 잉크일 수 있다.As the conductive paste 30 used in the present invention, a conductive paste used in a conventional touch screen panel may be used. For example, a sol, gel or liquid ink containing conductive particles and a binder for fixing the conductive particles may be used. Lt; / RTI >

상기 도전성 입자는 예를 들면, 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 탄소나노튜브, 그래핀, 전도성 고분자 등을 1종 이상, 바람직하게는 은, 구리, 탄소나노튜브, 그래핀, 이들의 혼합물을 포함할 수 있으며, 1 nm 내지 5 ㎛의 평균 입경을 갖는 것일 수 있다.The conductive particles may be at least one selected from, for example, gold, silver, copper, aluminum, nickel, carbon nanotubes, graphene, and conductive polymers, preferably silver, copper, carbon nanotubes, And may have an average particle diameter of 1 nm to 5 占 퐉.

상기 바인더는 예를 들면, 알킬계, 아민계, 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계, 에틸렌계 수지 등을 1종 이상 포함할 수 있다. 상기 바인더는 유기용매에 용해된 형태일 수 있으며, 상기 전도성 페이스트(30)는 바인더가 용해된 유기용매에 상기 도전성 입자가 분산되어 있는 졸, 겔, 또는 액상의 잉크 형태일 수 있다.The binder may include, for example, at least one of alkyl, amine, acrylic, urethane, silicone, and ethylene resins. The binder may be dissolved in an organic solvent, and the conductive paste 30 may be in the form of a sol, gel, or liquid ink in which the conductive particles are dispersed in an organic solvent in which the binder is dissolved.

상기 전도성 페이스트(30)에서, 상기 도전성 입자의 함량은 60 내지 80 중량%일 수 있고, 상기 바인더의 함량은 10 내지 20 중량%일 수 있으며 용매의 함유량은 10 내지 20 중량%일수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In the conductive paste 30, the content of the conductive particles may be 60 to 80% by weight, the content of the binder may be 10 to 20% by weight, and the content of the solvent may be 10 to 20% by weight. It does not.

상기 s3 단계에서, 상기 전도성 페이스트(30)를 건조 및 경화하여 전도성 페이스트의 용매를 제거하고, 상기 도전성 입자 및 바인더만 남김으로써, 전도성 패턴(32)을 형성할 수 있다. 구체예에서, 상기 경화는 열 경화, 자외선 경화 또는 촉매 경화일 수 있다.In step s3, the conductive paste (30) is dried and cured to remove the solvent of the conductive paste, leaving only the conductive particles and the binder, thereby forming the conductive pattern (32). In embodiments, the curing may be thermosetting, ultraviolet curing or catalytic curing.

상기 전도성 패턴(32)은 선폭이 1 내지 20 ㎛인 미세 패턴일 수 있고, 두께가 1 내지 50 ㎛, 바람직하게는 1 내지 10 ㎛일 수 있다. 상기 범위에서 미세 선폭 구현에 대한 장점이 있다.The conductive pattern 32 may be a fine pattern having a line width of 1 to 20 mu m and a thickness of 1 to 50 mu m, preferably 1 to 10 mu m. There is an advantage in implementing the fine line width in the above range.

상기 포토레지스트 패턴(20) 및 전도성 패턴(32)은 상기 기판(10)의 윈도우 영역에 형성되는 것일 수 있다. 본 명세서에서, "윈도우 영역"은 터치스크린 패널에서, 사용자가 기능을 구현하기 위해 터치하는 영역으로서, 투명 감지 전극이 위치하는 영역을 의미한다.The photoresist pattern 20 and the conductive pattern 32 may be formed in a window region of the substrate 10. In the present specification, the term "window region" refers to an area where a transparent sensing electrode is located in a touch screen panel, in which a user touches to implement a function.

또한, 도시되지는 않았지만, 상기 윈도우 영역의 외곽부에 위치하는 배선 영역에 배선 패턴층(미도시)이 형성될 수 있다. 본 명세서에서, "배선 영역"은 "윈도우 영역"에서 감지된 전하 등의 정전 신호를 외부의 칩으로 전달하는 영역으로서, 일반적으로 비투광성 금속 배선이 위치하는 영역을 의미한다. Further, although not shown, a wiring pattern layer (not shown) may be formed in a wiring region located in an outer portion of the window region. In this specification, the term "wiring region" refers to a region where an electrostatic signal such as a charge sensed in a "window region " is transmitted to an external chip, and generally refers to a region where a non-

일 실시예에서, 상기 배선 패턴층은 통상의 인쇄법 또는 상기 포토레지스트 패턴 및 스퀴지, 블레이드 및/또는 세라믹 몰드를 사용하는 인쇄방법을 적용하여 상기 배선 영역에 형성할 수 있다. 상기 배선 패턴층과 도전층 패턴(32)은 실질적으로 동일한 재료로 이루어질 수 있으며, 상기 배선 패턴층과 전도성 패턴(32)은 동시에 형성될 수도 있으나, 이에 제한되지 않는다.
In one embodiment, the wiring pattern layer may be formed in the wiring region by a conventional printing method or a printing method using the photoresist pattern, squeegee, blade, and / or ceramic mold. The wiring pattern layer and the conductive layer pattern 32 may be formed of substantially the same material, and the wiring pattern layer and the conductive pattern 32 may be formed simultaneously, but the present invention is not limited thereto.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따라 제조된 터치스크린 패널의 개략적인 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 다른 실시예에서, 본 발명의 제조방법은 상기 전도성 페이스트(30)를 경화하여 상기 전도성 패턴(32)을 형성한 후, 상기 포토레지스트 패턴(20)을 제거하는 단계를 더욱 포함하여, 포토레지스트 패턴(20)이 제거된 터치스크린 패널을 제조할 수 있다.2 is a schematic cross-sectional view of a touch screen panel manufactured according to another embodiment of the present invention. 2, in another embodiment, the manufacturing method of the present invention includes the steps of curing the conductive paste 30 to form the conductive pattern 32, and then removing the photoresist pattern 20 , The touch screen panel in which the photoresist pattern 20 is removed can be manufactured.

단, 상기 포토레지스트 패턴(20)이 투명한 것일 경우, 포토레지스트 패턴(20)을 제거하지 않고, 소자부와 라미네이션(lamination)하면, 소자부와 밀착 가능성이 높아지고, 버블 발생이 감소할 수 있다. 여기서, 상기 소자부는 통상적인 소자부일 수 있으며, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 유리(glass), 폴리메틸메타클레이트(PMMA) 등의 기판을 사용하여 형성된 것일 수 있다.
However, if the photoresist pattern 20 is transparent, lamination with the element portion without removing the photoresist pattern 20 increases the possibility of adhesion to the element portion, and the occurrence of bubbles can be reduced. Here, the element portion may be a conventional element portion, and may be formed using a substrate made of, for example, polyethylene terephthalate (PET), glass, polymethylmethacrylate (PMMA), or the like.

본 발명의 명세서에서, 상기 터치스크린 패널의 제조방법을 수행함에 있어서, 상기 제조방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.
In the specification of the present invention, in performing the manufacturing method of the touch screen panel, the processes of the manufacturing method may be performed differently from those described above without explicitly specifying a specific order in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, or may be performed in the opposite order.

본 발명의 터치스크린 패널은 상기 제조방법에 따라, 상기 포토레지스트 패턴(20)을 사용하여 상기 전도성 패턴(32)을 형성하므로, 예를 들어, 1 내지 20 ㎛의 미세한 선폭 및 1 내지 20 ㎛의 패턴(32) 간 미세 간격을 가질 수 있다.
The touch screen panel according to the present invention forms the conductive pattern 32 using the photoresist pattern 20 according to the above manufacturing method and therefore has a fine line width of 1 to 20 mu m and a fine line width of 1 to 20 mu m It is possible to have a fine gap between the patterns 32.

이상, 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following claims It can be understood that

Claims (8)

기판 위에 포토레지스트 패턴을 형성하고;
스퀴지(squeegee), 블레이드(blade) 및 세라믹 몰드 중 하나 이상을 사용하여 전도성 페이스트가 상기 포토레지스트 패턴 사이에 충진되도록 인쇄하고; 그리고
상기 전도성 페이스트를 경화하여 전도성 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 터치스크린 패널 제조방법.
Forming a photoresist pattern on the substrate;
Printing with conductive paste filled between the photoresist patterns using at least one of a squeegee, a blade and a ceramic mold; And
And curing the conductive paste to form a conductive pattern.
제1항에 있어서, 상기 전도성 페이스트는 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
The method of claim 1, wherein the conductive paste comprises conductive particles and a binder for fixing the conductive particles.
제2항에 있어서, 상기 도전성 입자는 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 탄소나노튜브, 그래핀 및 전도성 고분자 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
The method of claim 2, wherein the conductive particles comprise at least one of gold, silver, copper, aluminum, nickel, carbon nanotubes, graphene, and conductive polymers.
제2항에 있어서, 상기 도전성 입자의 평균 입경은 1 nm 내지 5 ㎛인 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
3. The method of claim 2, wherein the average particle diameter of the conductive particles is 1 nm to 5 占 퐉.
제2항에 있어서, 상기 바인더는 알킬계, 아민계, 아크릴계, 우레탄계, 실리콘계 및 에틸렌계 수지 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
The method of claim 2, wherein the binder comprises at least one of an alkyl-based, amine-based, acrylic-based, urethane-based, silicone-based, and ethylene-based resin.
제1항에 있어서, 상기 경화는 열 경화, 자외선 경화 또는 촉매 경화인 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
The method of claim 1, wherein the curing is thermosetting, ultraviolet curing or catalytic curing.
제1항에 있어서, 상기 전도성 페이스트 경화 후, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널 제조방법.
The method of claim 1, further comprising removing the photoresist pattern after curing the conductive paste.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 터치스크린 패널 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 터치스크린 패널.A touch screen panel as claimed in any one of the preceding claims, wherein the touch screen panel is manufactured by the method of any one of claims 1 to 7.
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