KR20140084788A - 터치패널 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1 투명기판과, 상기 제1 투명기판 일면에 형성되는 베젤부 및 상기 제1 투명기판의 타면에 형성되는 전극부를 포함하며, 상기 베젤부 및 상기 전극부는 은염 유제층이 노광/현상되어 형성한다.

Description

터치패널 및 그 제조방법{Touch Panel And Method For Manufacturing The Same}
본 발명은 본 발명은 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.
하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.
또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치패널(Touch screen)이 개발되었다.
터치패널은 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.
터치패널의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW Type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치패널과 정전용량방식 터치패널이다.
이러한 터치패널은 통상 터치패널 구조의 최외곽에 구비되는 윈도우 글라스(window glass)에 전극 배선을 가리거나 장식 패턴이 형성될 수 있는 블랙 또는 화이트 등의 색을 갖는 베젤부가 형성된다.
베젤부가 형성되는 종래 터치패널의 구체적인 일 예로는 한국공개특허 제2010-0134226호에 개시된 터치패널을 들 수 있다.
하지만, 종래 터치패널은 윈도우 글라스에 상기한 베젤부가 형성하기 위한 베젤부 인쇄시 잉크별 점도차이, 인쇄진행시 시간이 경과할 수록 잉크 점도 변화 등으로 인하여 인쇄의 불균일성이 발생되는 문제가 있다.
한국공개특허 제2010-0134226호
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 본 발명의 하나의 관점은 베젤부가 균일하게 형성되는 터치패널 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널은 제1 투명기판과, 상기 제1 투명기판 일면에 형성되는 베젤부 및 상기 제1 투명기판의 타면에 형성되는 전극부를 포함하며, 상기 베젤부 및 상기 전극부는 은염 유제층이 노광/현상되어 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제1 투명기판은 유리 또는 필름으로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제1 투명기판은 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되고, 상기 베젤부는 상기 제1 투명기판 일면의 비활성 영역에 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제1 전극부는 상기 제1 투명기판 타면의 상기 활성 영역에 형성되는 제1 전극 및 상기 제1 투명기판 타면의 상기 비활성 영역에 형성되어 상기 전극과 연결되는 제1 전극배선을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 은염 유제층에 포함되는 은염은 무기 은염 또는 유기 은염으로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제1 투명기판의 타면방향에 위치되는 제2 투명기판; 및 상기 제2 투명기판의 일면 또는 타면에 형성되는 제2 전극부를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제1 투명기판 및 상기 제2 투명기판 사이에 형성되는 절연층을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서, 상기 제2 투명기판은 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되고, 상기 제2 전극부는 상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 상기 활성 영역에 형성되는 제2 전극 및 상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 상기 비활성 영역에 형성되어 상기 제2 전극과 연결되는 제2 전극배선을 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은 (a) 제1 투명기판의 양면에 은염 유제층을 도포하는 단계 및 (b) 상기 은염 유제층을 노광/현상하여 상기 제1 투명기판 일면에 베젤부를 형성하고, 타면에 제1 전극부를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 제1 투명기판을 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획하여, 상기 제1 투명기판의 일면의 비활성 영역에 상기 베젤부를 형성시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 제1 전극부가 제1 전극 및 제1 전극배선을 포함하여, 상기 제1 투명기판 타면의 활성 영역에 상기 제1 전극을 형성시키고, 비활성 영역에 상기 제1 전극과 연결되도록 상기 제1 전극배선을 형성시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 베젤부 및 상기 제1 전극부를 동시에 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (a)단계는 제2 투명기판의 일면 또는 타면에 상기 은염 유제층을 도포하는 것을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 은염 유체층을 노광/현상하여 상기 제2 투명기판의 일면 또는 타면에 제2 전극부를 더 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 베젤부와 상기 제1 전극부 및 상기 제2 전극부를 동시에 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 제1 투명기판 및 상기 제2 투명기판은 유리 또는 필름으로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 은염 유제층에 포함되는 은염은 무기 은염 또는 유기 은염으로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에서, 상기 (b)단계는 상기 제2 전극부가 제2 전극 및 제2 전극배선을 포함하되, 상기 제2 투명기판을 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획하여, 상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 활성 영역에 상기 제2 전극을 형성시키고, 비활성 영역에 상기 제2 전극과 연결되도록 상기 제2 전극배선을 형성시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널은, 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되는 투명기판과, 상기 투명기판 일면의 상기 비활성 영역에 형성되는 베젤부 및 상기 베젤부의 일면 및 상기 투명기판의 일면의 상기 비활성 영역에 형성되는 전극부를 포함하며, 상기 베젤부 및 상기 전극부는 은염 유제층이 노광/현상되어 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널은, 상기 베젤부 및 상기 전극부의 사이에 위치되어 상기 베젤부를 덮도록 형성되는 오버코트층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따르면, 은염을 사용하여 베젤부를 형성시킴으로서 베벨부를 균일하게 형성할 수 있다.
아울러, 본 발명에 따르면, 은염을 사용하여 베젤부와 전극부를 동시에 형성할 수 어 제조공정이 단순해지고, 제조시간이 단축될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널을 나타낸 단면도;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서 투명기판을 나타낸 평면도;
도 3 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도;
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널을 나타낸 단면도;
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널에서 투명기판을 나타낸 평면도;
도 8 내지 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도;
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치패널에 포함되는 투명기판을 나타낸 평면도;
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치패널의 단면도; 및
도 14는 도 13에 도시된 A 영역의 확대 단면도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, "일면", "타면" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널을 나타낸 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에서 투명기판을 나타낸 평면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널은 활성 영역(11)과 상기 활성 영역(11)의 테두리인 비활성 영역(12)으로 구획되는 제1 투명기판(10)과, 상기 제1 투명기판(10) 일면의 상기 비활성 영역(12)에 형성되는 베젤부(30)를 포함한다.
먼저, 제1 투명기판(10)은 터치 위치 검출을 위한 제1 전극부(40)가 형성되는 영역을 제공하는 역할을 수행할 수 있다. 제1 투명기판(10)은 이러한 제1 전극부(40)를 지지할 수 있는 지지력과 화상표시장치에서 제공되는 화상을 사용자가 인식할 수 있도록 하는 투명성을 갖추어야 한다.
전술한 지지력과 투명성을 고려할 때, 제1 투명기판(10)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 제1 투명기판(10)은 도 2에 도시된 바와 같이 활성 영역(11)과 이 활성 영역(11)의 테두리 영역인 비활성 영역(12)으로 구획될 수 있다. 활성 영역(11)은 사용자에 의한 터치작용이 이루어지는 영역이며, 사용자가 기기의 동작 장면을 시각적으로 확인하는 화면 영역이다. 그리고 비활성 영역(12)은 제1 투명기판(10)에 형성되는 후술할 베젤부(30)에 의해 가려져 외부로 노출되지 않는 영역이다.
베젤부(30)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 제1 투명기판(10) 일면의 비활성 영역(12)에 형성된다. 베젤부(30)는 제1 투명기판(10)의 비활성 영역(12)에 대응하는 영역에서 배치되는 제1 전극배선(42)을 가리는 역할을 수행할 수 있다. 그리고 베젤부(30)는 필요에 따라 제조사 로고와 같은 장식 패턴이 형성될 수도 있다.
또한, 베젤부(30)는 은염 유제층(20)이 노광 및 현상되어 형성될 수 있다.
여기서, 은염 유제층(20)은 은염과 바인더를 포함하며, 용매나 염료 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다.
그리고, 은염으로는, 할로겐화 은(silver halide) 등과 같은 무기 은염이나 아세트산은과 같은 유기 은염일 수 있다.
바인더는, 예컨대 젤라틴, 폴리비닐알코올 (PVA), 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 전분 등의 다당류, 셀룰로오스 및 그 유도체, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐아민, 키토산, 폴리리신, 폴리아크릴산, 폴리알긴산, 폴리히알루론산, 카르복시셀룰로오스 등이 사용될 수 있다.
용매는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 물, 유기 용매(예를 들어, 메탄올 등의 알코올류, 아세톤 등의 케톤류, 포름아미드 등의 아미드류, 디메틸술폭사이드 등의 술폭사이드류, 아세트산에틸 등의 에스테르류, 에테르류 등), 이온성 액체, 및 이들의 혼합 용매를 사용할 수 있다.
그 밖의 첨가제로는, 특별히 제한은 없고, 공지된 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
은염 유제층(20)이 노광 및 현상되어 형성된 베젤부(30)는 은염 유제층(20)의 노광 및 현상으로 생성된 은 입자가 검은색 또는 검은 색에 가까운 어두운 색을 띰에 따라 전체적으로 어두운 색을 띠게 된다. 따라서, 은염 유제층(20)은 종래 터치패널의 베젤부(30)로 형성되었던 컬러 잉크층의 역할을 수행할 수 있다.
제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10)의 타면에 형성될 수 있다. 이때, 제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10)의 타면의 활성 영역(11)에 형성되는 제1 전극(41) 및 비활성 영역(12)에 형성되어 제1 전극(41)의 테두리와 연결되는 제1 전극배선(42)을 포함하여 이루어질 수 있다.
여기서, 제1 전극(41) 및 제1 전극배선(42)은 베젤부(30)와 동일한 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 베젤부(30)와 제1 전극(41) 및 제1 전극배선(42)은 동시에 형성될 수 있어, 제조공정이 단순해지고, 제조시간이 단축될 수 있다.
한편, 제1 전극(41)은 메시패턴(mesh pattern)으로 형성될 수 있다. 이때, 제1 전극(41)은 예를 들어 선폭이 7㎛ 이하로 형성되고, 피치가 900㎛이하로 형성되어 시각적으로 패턴이 보이지 않도록 시인성을 개선할 수 있다. 하지만, 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 전극(41)의 선폭 및 피치가 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널은 터치패널의 최외측에 구비되는 윈도우 글라스(window glass)(미도시)를 배치할 수 있다. 이때, 윈도우 글래스는 제1 투명기판(10)의 일면에 위치될 수 있다. 여기서, 윈도우 글래스는 베젤부(30)가 형성된 제1 투명기판(10)의 일면과 접착제를 통해 접착될 수 있지만, 본 발명이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에 관하여 첨부도면을 참조하여 설명하기로 한다. 도 3 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도이다.
도 3을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은, (a) 제1 투명기판(10)을 준비한 후 상기 제1 투명기판(10)의 양면에 은염 유제층(20)을 도포하는 단계 및 (b) 상기 은염 유제층(20)을 노광/현상하여 상기 제1 투명기판(10) 일면의 비활성 영역(12)에 베젤부(30)를 형성하고, 타면에 제1 전극부(40)를 형성하는 단계를 포함한다.
도 4를 참고하면, (a)단계는 제1 투명기판(10)을 준비하고, 제1 투명기판(10)의 양면에 은염 유제층(20)을 도포하는 단계이다.
제1 투명기판(10)은 투명성을 갖는 전술한 재질로 이루어질 수 있다. 제1 투명기판(10)은 활성 영역(11)과 비활성 영역(12)으로 구획될 수 있다(도 2 참조).
은염 유제층(20)은 은염과 바인더를 포함하며, 용매나 염료 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다. 은염으로는, 할로겐화 은(silver halide) 등과 같은 무기 은염이나 아세트산은과 같은 유기 은염일 수 있다.
도 5 및 도 6을 참고하면, (b)단계는 은염 유제층(20)을 노광 및 현상하여 베젤부(30) 및 제1 전극부(40)를 형성하는 단계이다.
은염 유제층(20)을 노광하는 구체적인 방법으로는, 포토마스크를 이용한 면 노광 또는 레이저 빔에 의한 주사 노광 등의 방법이 사용될 수 있다. 또는 렌즈를 사용한 굴절식 노광, 반사경을 사용한 반사식 노광, 콘택트 노광, 프록시미티 노광, 축소 투영 노광, 반사 투영 노광 등의 다양한 방법이 사용될 수 있다.
현상 처리는 은염 유제층(20)이 상기한 바와 같이 노광된 후 추가로 실시된다. 현상 처리는 은염 사진 필름이나 인화지, 인쇄 제판용 필름, 포토마스크용 에멀션 마스크 등에 사용되는 통상적인 현상 처리 기술이 사용될 수 있다.
보다 상세히, 일례로 포토마스크를 이용하여 은염 유체층(20)을 선택적으로 노광하면 도 4에 도시된 바와 같이 빛이 조사된 부위가 선택적으로 경화되어 선택적으로 경화부(21)가 형성된다. 이때, 경화되지 않은 부위인 비경화부(22)를 제거제를 통해 제거하면 도 5에 도시된 바와 같이 경화부(21)만 제1 투명기판(10)에 남게되어 베젤부(30) 및 제1 전극부(40)를 형성시킬 수 있다.
하지만, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니며 다른 예로 포토마스크(20)를 이용하여 노광시 빛이 조사되지 않은 부위만을 경화시켜 베젤부(30) 및 제1 전극부(40)를 형성시킬 수 있다. 또한, 본 발명은 또 다른 예로 포토마스크를 통해 은염유체층(20) 중에서 베젤부(30) 및 제1 전극부(40)가 형성되는 부분을 노광하여 경화시키고, 고정액을 통해 경화된 부분 중 제1 전극부(40)가 형성될 부분만 전류가 통전되도록 할 수 있다. 이때, 경화되지 않은 부분은 제거하지 않을 수 있다.
한편, 은염 유제층(20)을 노광 및 현상하여 형성되는 베젤부(30)는 제1 투명기판(10) 일면의 비활성 영역(12)에서 형성되고, 제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10)의 타면에 형성된다. 여기서, 제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10) 타면의 활성 영역(11)에 형성되는 제1 전극(41) 및 비활성 영역(12)에 형성되는 제1 전극배선(42)을 포함할 수 있다. 이때, 제1 전극배선(42)은 제1 전극(41)의 테두리에 연결되도록 형성되어 제1 전극(41)으로 부터 전기적 신호를 전달받을 수 있다.
이때, 터치패널의 최외측에 윈도우 글라스(window glass)를 배치할 수 있다. 이때, 윈도우 글라스는 제1 투명기판(10)의 일면에 접착제를 통해 접착될 수 있지만, 본 발명의 윈도우 글라스를 제1 투명기판(10)에 접착시키는 방법이 여기에 한정되는 것은 아니다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널을 나타낸 단면도이고, 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널에서 투명기판을 나타낸 평면도이다.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널은 활성 영역(11)과 상기 활성 영역(11)의 테두리인 비활성 영역(12,52)으로 구획되는 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)과, 상기 제1 투명기판(10) 일면의 상기 비활성 영역(12,52)에 형성되는 베젤부(30)를 포함한다.
먼저, 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)은 도 7에 도시된 바와 같이 활성 영역(11,51)과 이 활성 영역(11,51)의 테두리 영역인 비활성 영역(12,52)으로 구획될 수 있다. 활성 영역(11,51)은 사용자에 의한 터치작용이 이루어지는 영역이며, 사용자가 기기의 동작 장면을 시각적으로 확인하는 화면 영역이다. 그리고 비활성 영역(12,52)은 제1 투명기판(10)에 형성되는 후술할 베젤부(30)에 의해 가려져 외부로 노출되지 않는 영역이다.
베젤부(30)는 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이 제1 투명기판(10) 일면의 비활성 영역(12,52)에 형성된다. 베젤부(30)는 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)의 비활성 영역(12,52)에 대응하는 영역에서 배치되는 제1 전극배선(42) 및 제2 전극배선(62)을 가리는 역할을 수행할 수 있다. 그리고 베젤부(30)는 필요에 따라 제조사 로고와 같은 장식 패턴이 형성될 수도 있다.
본 발명의 다른 실시예의 터치패널에 포함되는 베젤부(30)는 은염 유제층(20)이 노광 및 현상되어 형성된다.
은염 유제층(20)은 은염과 바인더를 포함하며, 용매나 염료 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다.
은염으로는, 할로겐화 은(silver halide) 등과 같은 무기 은염이나 아세트산은과 같은 유기 은염일 수 있다.
은염 유제층(20)이 노광 및 현상되어 형성된 베젤부(30)는 은염 유제층(20)의 노광 및 현상으로 생성된 은 입자가 검은색 또는 검은 색에 가까운 어두운 색을 띰에 따라 전체적으로 어두운 색을 띠게 된다. 따라서, 은염 유제층(20)은 종래 터치패널의 베젤부(30)로 형성되었던 컬러 잉크층의 역할을 수행할 수 있다.
제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)는 제1 투명기판(10)의 타면에 형성될 수 있다. 이때, 제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)는 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)의 타면의 활성 영역(11,51)에 형성되는 제1 전극(41) 및 제2 전극(61) 및 비활성 영역(12,52)에 형성되어 제1 전극(41)의 테두리와 연결되는 제1 전극배선(42) 및 제2 전극배선(62)을 포함하여 이루어질 수 있다.
여기서, 제1,2 전극(41,61) 및 제1,2 전극배선(42,62)은 베젤부(30)와 동일한 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 베젤부(30)와 제1,2 전극(41,61) 및 제1,2 전극배선(42,62)은 동시에 형성될 수 있어, 제조공정이 단순해지고, 제조시간이 단축될 수 있다.
한편, 제1,2 전극(41,61)은 메시패턴(mesh pattern)으로 형성될 수 있다. 이때, 제1,2 전극(41,61)은 예를 들어 선폭이 7㎛ 이하로 형성되고, 피치가 900㎛이하로 형성되어 시각적으로 패턴이 보이지 않도록 시인성을 개선할 수 있다. 하지만, 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1,2 전극(41,61)의 선폭 및 피치가 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널은, 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50) 사이에 형성되는 절연층(70)을 더 포함할 수 있다.
여기서, 절연층(70)은 프린팅(Printing), CVD(Chemical Vaper Deposition) 또는 스퍼터링(Sputtering) 등을 통해서 에폭시(Epoxy) 또는 아크릴릭(Acrylic) 계열의 수지, SiOx 박막, 또는 SiNx 박막 등으로 형성할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널은 터치패널의 최외측에 구비되는 윈도우 글라스(window glass)(미도시)를 배치할 수 있다. 이때, 윈도우 글래스는 제1 투명기판(10)의 일면에 위치될 수 있다. 여기서, 윈도우 글래스는 베젤부(30)가 형성된 제1 투명기판(10)의 일면과 접착제를 통해 접착될 수 있지만, 본 발명이 여기에 반드시 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널의 제조방법에 관하여 첨부도면을 참조하여 설명하기로 한다. 도 8 내지 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 나타낸 단면도이다.
도 8 내지 도 11을 참고하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은, (a) 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)을 준비한 후 상기 제1 투명기판(10)의 양면 및 상기 제2 투명기판(50)의 일면 또는 타면에 은염 유제층(20)을 도포하는 단계 및 (b) 상기 은염 유제층(20)을 노광/현상하여 상기 제1 투명기판(10) 일면의 비활성 영역(12,52)에 베젤부(30)를 형성하고, 타면에 제1 전극부(40)를 형성하며, 상기 제2 투명기판(50)의 일면 또는 타면에 제2 전극부를 형성하는 단계를 포함한다.
도 8을 참고하면, (a)단계는 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)을 준비하고, 제1 투명기판(10)의 양면 및 제2 투명기판(50)의 일면 또는 타면에 은염 유제층(20)을 도포하는 단계이다.
제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)은 투명성을 갖는 전술한 재질로 이루어질 수 있다. 제1 투명기판(10)은 활성 영역(11,51)과 비활성 영역(12,52)으로 구획될 수 있다(도 7 참조).
은염 유제층(20)은 은염과 바인더를 포함하며, 용매나 염료 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다. 은염으로는, 할로겐화 은(silver halide) 등과 같은 무기 은염이나 아세트산은과 같은 유기 은염일 수 있다.
도 9 및 도 10을 참고하면, (b)단계는 은염 유제층(20)을 노광 및 현상하여 베젤부(30)와 제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)를 형성하는 단계이다.
은염 유제층(20)을 노광하는 구체적인 방법으로는, 포토마스크를 이용한 면 노광 또는 레이저 빔에 의한 주사 노광 등의 방법이 사용될 수 있다. 또는 렌즈를 사용한 굴절식 노광, 반사경을 사용한 반사식 노광, 콘택트 노광, 프록시미티 노광, 축소 투영 노광, 반사 투영 노광 등의 다양한 방법이 사용될 수 있다.
현상 처리는 은염 유제층(20)이 상기한 바와 같이 노광된 후 추가로 실시된다. 현상 처리는 은염 사진 필름이나 인화지, 인쇄 제판용 필름, 포토마스크용 에멀션 마스크 등에 사용되는 통상적인 현상 처리 기술이 사용될 수 있다.
보다 상세히, 일례로 포토마스크를 이용하여 은염 유체층(20)을 선택적으로 노광하면 도 9에 도시된 바와 같이 빛이 조사된 부위가 선택적으로 경화되어 선택적으로 경화부(21)가 형성된다. 이때, 경화되지 않은 부위인 비경화부(22)를 제거제를 통해 제거하면 도 10에 도시된 바와 같이 경화부(21)만 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50)에 남게되어 베젤부(30) 및 제1 전극부(40)를 형성시킬 수 있다.
하지만, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니며 다른 예로 포토마스크(20)를 이용하여 노광시 빛이 조사되지 않은 부위만을 경화시켜 베젤부(30)와 제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)를 형성시킬 수 있다. 또한, 본 발명은 또 다른 예로 포토마스크를 통해 은염유체층(20) 중에서 베젤부(30)와 제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)가 형성되는 부분을 노광하여 경화시키고, 고정액을 통해 경화된 부분 중 제1 전극부(40) 및 제2 전극부(60)가 형성될 부분만 전류가 통전되도록 할 수 있다. 이때, 경화되지 않은 부분은 제거하지 않을 수 있다.
한편, 은염 유제층(20)을 노광 및 현상하여 형성되는 베젤부(30)는 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50) 일면의 비활성 영역(12,52)에서 형성되고, 제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10)의 타면에 형성되며, 제2 전극부(60)는 제2 투명기판(50)의 일면 또는 타면에 형성된다.
여기서, 제1 전극부(40)는 제1 투명기판(10) 타면의 활성 영역(11,51)에 형성되는 제1 전극(41) 및 비활성 영역(12,52)에 형성되는 제1 전극배선(42)을 포함할 수 있다. 아울러, 제2 전극부(60)는 제2 투명기판(50) 타면의 활성 영역(11,51)에 형성되는 제2 전극(61) 및 비활성 영역(12,52)에 형성되는 제2 전극배선(62)을 포함할 수 있다.
그리고, 제1,2 전극배선(42,62)은 제1,2 전극(41,61)의 테두리에 연결되도록 형성되어 제1,2 전극(41,61)으로 부터 전기적 신호를 전달받을 수 있다.
한편, 도 11을 참고하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은, (c) 제1 투명기판(10) 및 제2 투명기판(50) 사이에 절연층(70)을 형성시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 절연층(70)은 프린팅(Printing), CVD(Chemical Vaper Deposition) 또는 스퍼터링(Sputtering) 등을 통해서 에폭시(Epoxy) 또는 아크릴릭(Acrylic) 계열의 수지, SiOx 박막, 또는 SiNx 박막 등으로 형성할 수 있다.
이때, 터치패널의 최외측에 윈도우 글라스(window glass)를 배치할 수 있다. 이때, 윈도우 글라스는 제1 투명기판(10)의 일면에 접착제를 통해 접착될 수 있지만, 본 발명의 윈도우 글라스를 제1 투명기판(10)에 접착시키는 방법이 여기에 한정되는 것은 아니다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치패널에 포함되는 투명기판을 나타낸 평면도이고, 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치패널의 단면도이며, 도 14는 도 13에 도시된 A 영역의 확대 단면도이다.
이하, 도 12 내지 도 14를 참조하여 본 발명의 또 다른 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 12 내지 도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널은 활성 영역(101)과 상기 활성 영역(101)의 테두리인 비활성 영역(102)으로 구획되는 투명기판(100)과, 상기 투명기판(100) 일면의 상기 비활성 영역(102)에 형성되는 베젤부(110) 및 상기 베젤부(110)의 일면 및 상기 투명기판(100)의 일면의 상기 비활성 영역에 형성되는 전극부(130)를 포함한다.
투명기판(100)은 터치 위치 검출을 위한 전극부(130)가 형성되는 영역을 제공하는 역할을 수행할 수 있다. 투명기판(100)은 이러한 전극부(130)를 지지할 수 있는 지지력과 화상표시장치에서 제공되는 화상을 사용자가 인식할 수 있도록 하는 투명성을 갖추어야 한다.
전술한 지지력과 투명성을 고려할 때, 투명기판(100)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
투명기판(100)은 터치패널의 최외측에 구비되는 윈도우 글라스(window glass)일 수 있다. 투명기판(100)이 윈도우 글라스인 경우, 윈도우 글라스에 전술한 전극부(130)가 직접 형성될 수 있으므로 터치패널의 제조공정은 별도의 투명기판(100)에 전극부(130)를 형성한 후 윈도우 글라스에 부착하게 되는 공정을 생략할 수 있고, 터치패널은 그 전체적인 두께가 줄어들 수 있다.
한편, 투명기판(100)은 도 12에 도시된 바와 같이 활성 영역(101)과 이 활성 영역(101)의 테두리 영역인 비활성 영역(102)으로 구획될 수 있다. 활성 영역(101)은 사용자에 의한 터치작용이 이루어지는 영역이며, 사용자가 기기의 동작 장면을 시각적으로 확인하는 화면 영역이다. 그리고 비활성 영역(102)은 투명기판(100)에 형성되는 후술할 베젤부(110)에 의해 가려져 외부로 노출되지 않는 영역이다.
베젤부(110)는 도 13에 도시된 바와 같이 투명기판(100) 일면의 비활성 영역(102)에 형성된다. 베젤부(110)는, 투명기판(100)의 비활성 영역(102)에 대응하는 영역에서 배치되는 전극 배선(132)을 가리는 역할을 수행할 수 있다. 그리고 베젤부(110)는 필요에 따라 제조사 로고와 같은 장식 패턴이 형성될 수도 있다.
전극부(130)는 투명기판(100)의 일면에 형성될 수 있다. 이때, 전극부(130)는 투명기판(100)의 일면의 활성 영역(101)에 형성되는 전극(131) 및 비활성 영역(102)인 베젤부(110)의 일면에 형성되어 전극(131)의 테두리와 연결되는 전극배선(132)을 포함하여 이루어질 수 있다.
여기서, 전극(131) 및 전극배선(132)을 포함하는 전극부(130)은 베젤부(110)와 동일한 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 베젤부(110)와 전극부(130)가 동시에 형성될 수 있어, 제조공정이 단순해지고, 제조시간이 단축될 수 있다.
본 실시예의 터치패널에 포함되는 베젤부(110) 및 전극부(130)는 은염 유제층이 노광 및 현상되어 형성된다.
은염 유제층은 은염과 바인더를 포함하며, 용매나 염료 등의 첨가제를 더 함유할 수 있다.
은염으로는, 할로겐화 은(silver halide) 등과 같은 무기 은염이나 아세트산은과 같은 유기 은염일 수 있다.
바인더는, 예컨대 젤라틴, 폴리비닐알코올 (PVA), 폴리비닐피롤리돈 (PVP), 전분 등의 다당류, 셀룰로오스 및 그 유도체, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐아민, 키토산, 폴리리신, 폴리아크릴산, 폴리알긴산, 폴리히알루론산, 카르복시셀룰로오스 등이 사용될 수 있다.
용매는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어, 물, 유기 용매(예를 들어, 메탄올 등의 알코올류, 아세톤 등의 케톤류, 포름아미드 등의 아미드류, 디메틸술폭사이드 등의 술폭사이드류, 아세트산에틸 등의 에스테르류, 에테르류 등), 이온성 액체, 및 이들의 혼합 용매를 사용할 수 있다.
그 밖의 첨가제로는, 특별히 제한은 없고, 공지된 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
은염 유제층이 노광 및 현상되어 형성된 베젤부(110) 및 전극부(130)는 은염 유제층의 노광 및 현상으로 생성된 은 입자가 검은색 또는 검은 색에 가까운 어두운 색을 띰에 따라 전체적으로 어두운 색을 띠게 된다. 따라서, 은염 유제층은 종래 터치패널의 베젤부로 형성되었던 컬러 잉크층의 역할을 수행할 수 있다.
은염 유제층은 투명기판(100)의 일면에 도포된 후 노광 및 현상 처리되며, 이러한 과정을 거쳐 형성된 베젤부(110)는 도 14에 도시된 바와 같이 베젤부(110)의 폭 방향 양측에 완만한 경사면을 갖게 된다.
본 실시예에 따른 터치패널의 투명기판(100)은 일면의 활성 영역(101)에 전술한 베젤부(110) 및 전극부(130)의 전극(131)이 형성될 수 있다.
이때, 본 실시예에 따른 터치패널은 베젤부(110)의 폭 방향 양측이 전술한 바와 같이 완만한 경사면으로 이루어지기 때문에 투명기판(100) 일면 전체에 코팅되는 전극부(130)의 밀착력이 우수하다. 따라서, 본 실시예에 따른 터치패널은 패터닝된 전극부(130)의 단선 불량이 발생하지 않는다.
본 실시예에 따른 터치패널은 전술한 구성에 더하여 오버코트층(120)을 더 포함할 수 있다.
오버코트층(120)은 베젤부(110)를 덮도록 투명기판(100)에 형성되는 것으로, 베젤부(110)를 외부환경으로부터 보호하는 역할을 수행할 수 있다.
오버코트층(120)은 도 13에 도시된 바와 같이 베젤부(110)만을 덮는 형태로 존재할 수 있다. 또는 베젤부(110)를 포함한 투명기판(100) 전면을 덮는 형태로 존재할 수도 있다
오버코트층(120)이 베젤부(110)에 적층 형성됨에 따라 오버코트층(120)의 폭 방향 양측은 베젤부(110)의 폭 방향 양측의 완만한 경사면에 대응하는 완만한 경사면으로 이루어지게 된다. 따라서, 본 실시예가 오버코트층(120)을 더 포함하는 경우에도 상기한 전극부(130)의 밀착력이나 접착층의 접착성은 양호하다.
한편, 은염 유제층이 노광/현상되어 형성된 베젤부(110)는 금속 은을 포함하는 것이므로 전기전도성을 가질 수 있다. 이 경우 전술한 바와 같이 투명기판(100)의 일면에 직접 전극부(130)가 형성되는 경우에는, 그리고 투명기판(100)의 비활성 영역(102)에 대응하는 위치에 전극부(130)의 전극 배선(131)이 배치되는 경우에는 베젤부(110)와 전극부(130) 또는 베젤부(110)와 전극 배선(131) 간 전기적으로 연결됨으로써 전극부(130) 내에서 또는 전극 배선(131)들 사이에서 단락되는 문제가 발생할 수 있다.
따라서, 이러한 단락이 발생하지 않도록 오버코트층(120)은 절연성 물질로 이루어질 수 있다. 오버코트층(120)은 유기 수지 절연성 물질로서 예컨대 아크릴이나 폴리이미드 등을 포함할 수 있으며, 또는 무기 절연성 물질로서 예컨대 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 질소 함유 실리콘 산화물, 산소 함유 실리콘 질화물 등을 포함할 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명은 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
10: 제1 투명기판 11,52: 활성 영역
12,52: 비활성 영역 20: 은염 유체층
21: 경화부 22: 비경화부
30: 베젤부 40: 제1 전극부
41: 제1 전극 42: 제1 전극배선
50: 제2 투명기판 60: 제2 전극부
61: 제2 전극 62: 제2 전극배선
70: 절연층
100: 투명기판 101: 활성 영역
102: 비활성 영역 110: 베젤부
120: 오버코트층 130: 전극부
131: 전극 132: 전극배선

Claims (20)

  1. 제1 투명기판;
    상기 제1 투명기판 일면에 형성되는 베젤부; 및
    상기 제1 투명기판의 타면에 형성되는 전극부를 포함하며,
    상기 베젤부 및 상기 전극부는 은염 유제층이 노광/현상되어 형성되는 터치패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 투명기판은 유리 또는 필름으로 이루어지는 터치패널.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 투명기판은 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되고,
    상기 베젤부는 상기 제1 투명기판 일면의 비활성 영역에 형성되는 터치패널.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 전극부는
    상기 제1 투명기판 타면의 상기 활성 영역에 형성되는 제1 전극; 및
    상기 제1 투명기판 타면의 상기 비활성 영역에 형성되어 상기 전극과 연결되는 제1 전극배선을 포함하는 터치패널.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 은염 유제층에 포함되는 은염은 무기 은염 또는 유기 은염으로 이루어지는 터치패널.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 투명기판의 타면방향에 위치되는 제2 투명기판; 및
    상기 제2 투명기판의 일면 또는 타면에 형성되는 제2 전극부를 더 포함하는 터치패널.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 제1 투명기판 및 상기 제2 투명기판 사이에 형성되는 절연층을 더 포함하는 터치패널.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 제2 투명기판은 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되고,
    상기 제2 전극부는
    상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 상기 활성 영역에 형성되는 제2 전극; 및
    상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 상기 비활성 영역에 형성되어 상기 제2 전극과 연결되는 제2 전극배선을 포함하는 터치패널.
  9. (a) 제1 투명기판의 양면에 은염 유제층을 도포하는 단계; 및
    (b) 상기 은염 유제층을 노광/현상하여 상기 제1 투명기판 일면에 베젤부를 형성하고, 타면에 제1 전극부를 형성하는 단계를 포함하는 터치패널의 제조방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 제1 투명기판을 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획하여,
    상기 제1 투명기판의 일면의 비활성 영역에 상기 베젤부를 형성시키는 터치패널의 제조방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 제1 전극부가 제1 전극 및 제1 전극배선을 포함하여,
    상기 제1 투명기판 타면의 활성 영역에 상기 제1 전극을 형성시키고, 비활성 영역에 상기 제1 전극과 연결되도록 상기 제1 전극배선을 형성시키는 터치패널의 제조방법.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 베젤부 및 상기 제1 전극부를 동시에 형성하는 터치패널의 제조방법.
  13. 청구항 9에 있어서,
    상기 (a)단계는
    제2 투명기판의 일면 또는 타면에 상기 은염 유제층을 도포하는 것을 더 포함하는 터치패널의 제조방법.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 은염 유체층을 노광/현상하여 상기 제2 투명기판의 일면 또는 타면에 제2 전극부를 더 형성하는 터치패널의 제조방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 베젤부와 상기 제1 전극부 및 상기 제2 전극부를 동시에 형성하는 터치패널의 제조방법.
  16. 청구항 13에 있어서,
    상기 제1 투명기판 및 상기 제2 투명기판은 유리 또는 필름으로 이루어지는 터치패널의 제조방법.
  17. 청구항 13에 있어서,
    상기 은염 유제층에 포함되는 은염은 무기 은염 또는 유기 은염으로 이루어지는 터치패널의 제조방법.
  18. 청구항 14에 있어서,
    상기 (b)단계는
    상기 제2 전극부가 제2 전극 및 제2 전극배선을 포함하되,
    상기 제2 투명기판을 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획하여,
    상기 제2 투명기판 일면 또는 타면의 활성 영역에 상기 제2 전극을 형성시키고, 비활성 영역에 상기 제2 전극과 연결되도록 상기 제2 전극배선을 형성시키는 터치패널의 제조방법.
  19. 활성 영역과 상기 활성 영역의 테두리인 비활성 영역으로 구획되는 투명기판;
    상기 투명기판 일면의 상기 비활성 영역에 형성되는 베젤부; 및
    상기 베젤부의 일면 및 상기 투명기판의 일면의 상기 비활성 영역에 형성되는 전극부를 포함하며,
    상기 베젤부 및 상기 전극부는 은염 유제층이 노광/현상되어 형성되는 터치패널.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 베젤부 및 상기 전극부의 사이에 위치되어 상기 베젤부를 덮도록 형성되는 오버코트층을 더 포함하는 터치패널.
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