KR20140083470A - Shadow Moire Method using Sine Wave Grationg and Measuring Apparatus using the same - Google Patents

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KR20140083470A KR1020120153260A KR20120153260A KR20140083470A KR 20140083470 A KR20140083470 A KR 20140083470A KR 1020120153260 A KR1020120153260 A KR 1020120153260A KR 20120153260 A KR20120153260 A KR 20120153260A KR 20140083470 A KR20140083470 A KR 20140083470A
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Abstract

The present invention relates to a shadow moire method with sine wave grating and a measuring apparatus using the same and, more specifically, to a shadow moire method with sine wave grating which is used to measure the surface flatness or the shape of a structure of an object to be measured and to a measuring apparatus using the same. Talbot effect which arises in the existing shadow moire method is removed, thereby increasing vertical measurement areas. Measurement resolution is also increased in the present invention using a phase shift method that prevents structural errors.

Description

정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법 및 이를 이용한 측정 장치 {Shadow Moire Method using Sine Wave Grationg and Measuring Apparatus using the same}Technical Field [0001] The present invention relates to a shadow moiré method using a sinusoidal grating and a measurement apparatus using the shadow moire method.

본 발명은 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법 및 이를 이용한 측정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 측정대상이 되는 구조물의 표면형상이나 평탄도를 측정함에 있어서 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법 및 이를 이용한 측정 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a shadow moiré method using a sinusoidal grating and a measuring apparatus using the shadow moiré method. More particularly, the present invention relates to a shadow moiré method using a sinusoidal grating in measuring a surface shape and a flatness of a structure to be measured, .

도 1은 종래의 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치의 구성도이다. 도 1을 참조하면, 종래의 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치는 광원(110), 카메라(120), 격자(130)를 포함하도록 구성된다.
1 is a configuration diagram of a measuring apparatus using a conventional shadow moiré method. Referring to FIG. 1, a conventional shadow moiré measuring apparatus includes a light source 110, a camera 120, and a grating 130.

격자(130)는 측정대상이 되는 구조물(140) 앞에 장착된다.The grating 130 is mounted in front of the structure 140 to be measured.

광원(110)은 격자(130)와 구조물(140)에 빛을 조사한다.The light source 110 illuminates the grating 130 and the structure 140 with light.

카메라(120)는 광원(110)이 조사한 빛에 의하여 발생한 격자(130)와 격자(130)의 그림자에 의해 형성되는 모아레 패턴을 촬영한다.
The camera 120 photographs a moire pattern formed by the grating 130 generated by the light irradiated by the light source 110 and the shadow of the grating 130.

모아레 패턴으로부터 촬영되는 표면형상의 정보를 획득할 수 있다.
Information of the surface shape taken from the moire pattern can be obtained.

모아레 패턴(N)과 촬영되는 표면형상(z) 간의 관계식은 아래의 수학식 1과 같이 정의된다.
The relationship between the moire pattern N and the surface shape z to be photographed is defined by the following equation (1).

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서,

Figure pat00002
는 시편과 광원이 이루는 각이고,
Figure pat00003
는 카메라와 시편이 이루는 각이며, g는 격자의 피치이다. g,
Figure pat00004
또는
Figure pat00005
를 조정하면 원하는 해상도를 얻을 수 있다.
here,
Figure pat00002
Is the angle between the specimen and the light source,
Figure pat00003
Is the angle between the camera and the specimen, and g is the pitch of the grating. g,
Figure pat00004
or
Figure pat00005
The desired resolution can be obtained.

도 2는 종래의 섀도우모아레 방법에 이용되는 격자를 나타낸다. 도 2에 도시된 바와 같이, 일반적으로 격자(130)는 유리판에 크롬을 이용하여 검정색 패턴을 증착시킨 론치 격자(Ronchi Grating 혹은 Ronchi Ruling)이다.
Figure 2 shows a grating used in a conventional shadow moiré method. As shown in FIG. 2, generally, the grating 130 is a Ronchi grating (Ronchi Grating) in which a black pattern is deposited on a glass plate using chromium.

이러한 론치 격자는 섀도우모아레 방법을 이용한 측정해상도를 높이기 위해서는, 격자의 피치를 줄여야 한다.In order to increase the measurement resolution using the shadow moiré method, the Launch Grid has to reduce the pitch of the grating.

그러나, 이러한 격자의 피치를 줄이는 것은 필연적으로 빛의 회절효과에 의해 수직측정가능영역의 감소가 발생하는 문제점이 있다. 이는 탈봇거리(Talbot Distance) 효과에 의해서 설명된다.
However, reducing the pitch of such a lattice inevitably causes a problem that a vertically measurable area is reduced due to the diffraction effect of light. This is illustrated by the Talbot Distance effect.

즉, 탈봇거리의 1/4, 3/4 … 지점에서는 모아레 패턴의 컨트레스트(Contrast)가 격자의 회절효과에 의해 “0”이 된다.
That is, 1/4, 3/4 of Talbot distance ... At this point, the Contrast of the moire pattern becomes " 0 " due to the diffraction effect of the grating.

따라서, 종래의 섀도우모아레 방법을 이용한 측정은 이 컨트레스트가 “0”이 되는 지점을 피하여 부분적으로 응용하는 방식을 이용하는 한계점이 있다. 이러한 한계점은 Optical Engineering이 2005년 공개한 Changwoon Han and Bongtae Han의 “Contrast of shadow moire at high-order Talbot distances” 문헌에 자세히 기술되어 있다.
Therefore, measurement using the conventional shadow moiré method has a limitation in using a method of partially applying the control to avoid a point where the control becomes " 0 ". These limitations are described in Changwon Han and Bongtae Han, Optical Engineering 2005, "Contrast of shadow moire at high-order Talbot distances".

또한, 종래의 섀도우모아레 방법을 이용한 측정은 측정해상도를 높이기 위하여 위상이동법(Phase-shifting method)과 결합해서 사용하는 것이 일반적이다.In addition, the measurement using the conventional shadow moiré method is generally used in combination with a phase-shifting method in order to increase the measurement resolution.

이러한 위상이동법과 결한한 섀도우모아레 방법을 이용한 측정은 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 총 4개의 모아레 패턴을 생성하고, 생성된 모아레 패턴을 이미지처리하여 모아레 패턴이 가진 상세정보를 얻어내는 방법을 이용한다.The measurement using the shadow moiré method in conjunction with the phase shift method generates four moire patterns in total by shifting the phase of the moire pattern by 90 ° and processes the generated moire pattern to obtain detailed information of the moire pattern .

이를 수학식으로 나타내면 아래의 수학식 2와 같다.
This can be expressed by the following equation (2).

[수학식 2]&Quot; (2) "

Figure pat00006
Figure pat00006

여기서

Figure pat00007
는
Figure pat00008
이다.
here
Figure pat00007
The
Figure pat00008
to be.

이에 대해서는 Applied Optics이 2006년 공개한 Changwoon Han and Bongtae Han의 “Error Analysis of the phase-shifting technique when applied to shadow moire” 문헌에 자세히 기술되어 있다.
This is described in detail in Changwoon Han and Bongtae Han, Applied Optics, 2006, "Error Analysis of the Phase-shifting Technique When Applying Shadow Moire".

그러나, 위상이동법은 분광계에 의해서 얻어지는 정현파 형태의 무늬 패턴으로부터 상세정보를 얻기 위해서 고안된 방법으로 섀도우모아레 방법에 이를 적용하면 구조적인 측정오차가 발생하는 문제점이 있다.However, the phase shifting method has a problem that a structural measurement error occurs when applied to the shadow moiré method in a method designed to obtain detailed information from a sine wave pattern pattern obtained by a spectrometer.

이러한 구조적인 측정오차가 발생하는 이유는 론치 격자를 사용한 섀도우모아레 방법의 모아레 패턴이 정현파가 아니고 아래의 수학식 3과 같이 정의되기 때문이다.
The reason why such a structural measurement error occurs is that the moiré pattern of the shadow moiré method using the Ronchi grating is defined not as a sine wave but as shown in Equation 3 below.

[수학식 3]&Quot; (3) "

Figure pat00009
Figure pat00009

본 발명의 목적은 정현파격자를 이용하여 탈봇거리 효과 및 구조적 오차가 없도록 한 섀도우모아레 방법 및 이를 이용한 측정 장치를 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a shadow moiré method and a measurement apparatus using the shadow moiré method, in which a talbot distance effect and a structural error are eliminated by using a sinusoidal grating.

상기의 목적을 달성하기 위하여 섀도우모아레 방법을 이용하여 구조물을 측정하는 장치에 있어서, 상기 구조물 앞에 장착되는 정현파 격자; 빛을 상기 정현파 격자 및 구조물에 조사하는 광원; 상기 광원과 상기 정현파 격자에 의하여 상기 구조물에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 카메라; 및 상기 모아레 패턴을 분석하여 상기 구조물을 측정하는 측정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 장치가 제공된다.
In order to achieve the above object, there is provided an apparatus for measuring a structure using a shadow moiré method, the apparatus comprising: a sinusoidal grating mounted in front of the structure; A light source for irradiating the sinusoidal grating and the structure with light; A camera for photographing a moiré pattern formed on the structure by the light source and the sinusoidal grating; And a measurement unit for analyzing the moire pattern to measure the structure.

바람직하게는, 상기 광원은 자외선 광원이며, 수직 방향으로 조사되는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the light source is an ultraviolet light source and is irradiated in a vertical direction.

바람직하게는, 상기 측정부는 상기 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 4개의 모아레 패턴을 획득하고, 이를 이미지 처리하여 상기 구조물을 측정하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the measuring unit moves the phase of the moire pattern by 90 degrees to acquire four moire patterns, and performs image processing to measure the structure.

또한, 섀도우모아레 방법을 이용하여 구조물을 측정하는 방법에 있어서, 정현파 격자를 앞에 둔 상기 구조물에 빛을 조사하는 단계; 상기 빛과 상기 정현파 격자에 의하여 상기 구조물에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 단계; 및 상기 모아레 패턴을 분석하여 상기 구조물을 측정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법이 제공된다.
Also, there is provided a method of measuring a structure using a shadow moiré method, comprising the steps of: irradiating the structure with a sinusoidal grating in front of the structure; Photographing a moiré pattern formed on the structure by the light and the sinusoidal grating; And analyzing the moiré pattern to measure the structure. A shadow moiré method using a sinusoidal grating is provided.

바람직하게는, 상기 빛을 조사하는 단계는 수직 방향으로 자외선을 조사하는 단계인 것을 특징으로 한다.
Preferably, the step of irradiating the light is a step of irradiating ultraviolet rays in a vertical direction.

바람직하게는, 상기 측정하는 단계는 상기 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 4개의 모아레 패턴을 획득하고, 이를 이미지 처리하여 상기 구조물을 측정하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, in the measuring step, four moire patterns are obtained by moving the phase of the moire pattern by 90 degrees, and the structure is measured by image processing.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 정현파 격자를 이용하여 기존 섀도우모아레 방법에서 발생하는 탈봇거리 효과를 없애 수직측정가능영역을 개선한 효과가 있다.
The present invention has the effect of improving the vertical measurable area by eliminating the Talbot distance effect occurring in the existing shadow moiré method using a sinusoidal grating.

또한, 본 발명은 섀도우모아레 방법에 위상이동법을 적용함에 있어서 구조적 오차를 방지하여 측정해상도를 증가시키는 효과가 있다.
In addition, the present invention has an effect of preventing the structural error in applying the phase shifting method to the shadow moiré method, thereby increasing the measurement resolution.

도 1은 종래의 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치의 구성도.
도 2는 종래의 섀도우모아레 방법에 이용되는 격자를 나타낸 도면.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치의 구성도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법에 이용되는 격자를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정 방법의 순서도.1 is a configuration diagram of a measuring apparatus using a conventional shadow moiré method.
2 shows a grating used in a conventional shadow moiré method;
3 is a configuration diagram of a measurement device using a shadow moiré method according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 illustrates a grating used in a shadow moiré method according to one embodiment of the present invention.
5 is a flowchart of a measurement method using a shadow moiré method according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. It is to be understood that the terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention.

도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치의 구성도이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정장치는 측정대상이 되는 구조물(340) 앞에 장착되는 정현파 격자(330); 빛을 정현파 격자(330)와 구조물(340)에 조사하는 광원(310); 광원(310)과 정현파 격자(330)에 의하여 구조물(340)에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 카메라(320); 및 카메라(320)가 촬영한 모아레 패턴을 분석하여 구조물을 측정하는 측정부(350)를 포함하도록 구성된다.
3 is a configuration diagram of a measurement apparatus using a shadow moiré method according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, the measurement apparatus using the shadow moire method according to an embodiment of the present invention includes a sinusoidal grating 330 mounted in front of a structure 340 to be measured; A light source 310 for emitting light to the sinusoidal grating 330 and the structure 340; A camera 320 for photographing a moiré pattern formed on the structure 340 by the light source 310 and the sinusoidal grating 330; And a measuring unit 350 for analyzing the moire pattern photographed by the camera 320 and measuring the structure.

바람직하게는, 구조물(340)은 측정 대상이 되는 대상물체로, 측정장치는 구조물(340)의 표면 형상을 측정한다.
Preferably, the structure 340 is an object to be measured, and the measuring device measures the surface shape of the structure 340.

광원(310)은 정현파 격자(330)와 구조물(340)에 빛을 방출하여 그림자에 의한 음영을 구조물(340) 표면에 형성시킨다.
The light source 310 emits light to the sinusoidal grating 330 and the structure 340 to form shadow on the surface of the structure 340.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 광원(310)은 자외선(ultraviolet) 영역의 빛을 방출한다.
According to a preferred embodiment of the present invention, the light source 310 emits light in an ultraviolet region.

카메라(320)는 정현파 격자(330)와 정현파 격자(330)의 그림자에 의하여 형성되는 모아레 패턴을 촬영한다.
The camera 320 photographs a moire pattern formed by the shadows of the sinusoidal grating 330 and the sinusoidal grating 330.

바람직하게는, 광원(310)이 자외선을 조사하는 자외선 광원인 경우, 카메라(320)는 자외선 영역의 영상을 획득할 수 있는 자외선 카메라이다.
Preferably, when the light source 310 is an ultraviolet light source that emits ultraviolet light, the camera 320 is an ultraviolet camera capable of acquiring an image of an ultraviolet region.

정현파 격자(330)는 광원(310)에 의하여 윤곽을 가지는 구조물(340)의 표면상으로 격자의 형상이 투영되도록 구조물(340) 앞에 장착된다.
The sinusoidal grating 330 is mounted in front of the structure 340 such that the shape of the grating is projected onto the surface of the structure 340 having a contour by the light source 310.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법에 이용되는 격자를 나타낸 도면이다.
4 is a diagram illustrating a grating used in the shadow moiré method according to an embodiment of the present invention.

다시 도 3을 참조하면, 측정부(350)는 카메라(320)에 의해서 획득된 모아레 패턴을 분석하여 구조물(340)을 측정한다.
Referring again to FIG. 3, the measuring unit 350 analyzes the moire pattern obtained by the camera 320 to measure the structure 340.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 측정부(350)는 카메라(320)에 의해서 획득된 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 4개의 모아레 패턴을 획득하고, 이를 이미지 처리하여 구조물(340)을 측정한다.
According to a preferred embodiment of the present invention, the measuring unit 350 acquires four moire patterns by moving the phases of the moire patterns obtained by the camera 320 by 90 degrees, .

본 발명은 정현파 격자를 이용하여 회절에 의한 탈봇거리 효과 및 구조적 오차를 없앨 수 있는데, 이를 증명하면 아래와 같다.
The present invention can eliminate a talbot distance effect and a structural error by diffraction using a sinusoidal grating.

우선 λ의 파장을 갖는 빛이 피치 g의 임의 형태의 격자 무늬에 α의 각으로 조사 될 때, 격자로부터 z만큼 떨어진 거리에서의 빛의 전기장은 아래의 수학식 4와 같다.
First, when light having a wavelength of? Is irradiated to an arbitrary-shaped grating pattern of pitch g at an angle?, The electric field of light at a distance z from the grating is given by Equation 4 below.

[수학식 4]&Quot; (4) "

Figure pat00010

Figure pat00010

여기서,here,

Figure pat00011
로 정의되면, 격자 무늬의 패턴 I(x,0)은 아래 수학식 5와 같은 정현파 격자가 된다.
Figure pat00011
, The lattice pattern I (x, 0) becomes a sinusoidal lattice as shown in the following equation (5).

[수학식 5]&Quot; (5) "

Figure pat00012

Figure pat00012

여기서 수학식 4와 수학식 5를 이용하면, 정현파 격자를 갖는 섀도우모아레의 모아레 패?은 아래의 수학식 6과 같이 정리할 수 있다.
Using the equations (4) and (5), the moiré pattern of the shadow moiré having a sinusoidal grating can be summarized as Equation (6) below.

[수학식 6]&Quot; (6) "

Figure pat00013

Figure pat00013

따라서, 정현파 격자를 이용한 본 발명은 탈봇거리현상이 모아레 무늬에 나타나지 않고, 모아레 무늬가 정현파 형태로 정의되어 위상이동법을 적용하여도 구조적 오차가 발생하지 않는다.
Therefore, according to the present invention using a sinusoidal grating, the moire pattern is defined as a sinusoidal wave pattern and the structural error does not occur even when the phase shifting method is applied.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정 방법의 순서도이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정 방법은 정현파 격자를 앞에 둔 구조물에 빛을 조사하는 단계(S510); 빛과 격자에 의하여 구조물에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 단계(S520) 및 모아레 패턴을 분석하여 구조물을 측정하는 단계(S530)를 포함하도록 구성된다.
5 is a flowchart of a measurement method using a shadow moiré method according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, a method of measuring a shadow moiré method according to an exemplary embodiment of the present invention includes the steps of irradiating light to a structure having a sinusoidal grating (S510); A step S520 of photographing a moire pattern formed on the structure by light and a grating, and a step S530 of analyzing the moire pattern to measure the structure.

본 발명의 일 실시예에 따른 섀도우모아레 방법을 이용한 측정 방법은 각 단계별로 도 3 내지 도 4를 통해 설명된 바와 유사하여 자세한 설명은 생략한다.
The measurement method using the shadow moiré method according to an embodiment of the present invention is similar to that described with reference to FIG. 3 to FIG. 4 for each step, and a detailed description thereof will be omitted.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예 및 응용예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예 및 응용예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.

310 : 광원 320 : 카메라
330 : 정현파 격자 340 : 구조물
350 : 측정부310: light source 320: camera
330: Sinusoidal grating 340: Structure
350:

Claims (6)

섀도우모아레 방법을 이용하여 구조물을 측정하는 장치에 있어서,
상기 구조물 앞에 장착되는 정현파 격자;
빛을 상기 정현파 격자 및 구조물에 조사하는 광원;
상기 광원과 상기 정현파 격자에 의하여 상기 구조물에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 카메라; 및
상기 모아레 패턴을 분석하여 상기 구조물을 측정하는 측정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 측정 장치.
An apparatus for measuring a structure using a shadow moiré method,
A sine wave grid mounted in front of the structure;
A light source for irradiating the sinusoidal grating and the structure with light;
A camera for photographing a moiré pattern formed on the structure by the light source and the sinusoidal grating; And
And a measurement unit for analyzing the moire pattern to measure the structure.
제1항에 있어서,
상기 광원은 자외선 광원이며, 수직 방향으로 조사되는 것을 특징으로 하는 측정 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the light source is an ultraviolet light source and is irradiated in a vertical direction.
제1항에 있어서,
상기 측정부는 상기 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 4개의 모아레 패턴을 획득하고, 이를 이미지 처리하여 상기 구조물을 측정하는 것을 특징으로 하는 측정 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the measurement unit acquires four moire patterns by moving the phase of the moire pattern by 90 degrees, and performs image processing to measure the structure.
섀도우모아레 방법을 이용하여 구조물을 측정하는 방법에 있어서,
정현파 격자를 앞에 둔 상기 구조물에 빛을 조사하는 단계;
상기 빛과 상기 정현파 격자에 의하여 상기 구조물에 형성되는 모아레 패턴을 촬영하는 단계; 및
상기 모아레 패턴을 분석하여 상기 구조물을 측정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법.
A method of measuring a structure using a shadow moiré method,
Irradiating the structure with a sinusoidal grating in front of the light;
Photographing a moiré pattern formed on the structure by the light and the sinusoidal grating; And
And analyzing the moiré pattern to measure the structure. The shadow moiré method using a sinusoidal grating according to claim 1,
제4항에 있어서,
상기 빛을 조사하는 단계는 수직 방향으로 자외선을 조사하는 단계인 것을 특징으로 하는 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the step of irradiating the light is a step of irradiating ultraviolet rays in a vertical direction.
제4항에 있어서,
상기 측정하는 단계는 상기 모아레 패턴의 위상을 90°씩 이동시켜 4개의 모아레 패턴을 획득하고, 이를 이미지 처리하여 상기 구조물을 측정하는 것을 특징으로 하는 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the measuring step comprises moving the phase of the moiré pattern by 90 degrees to obtain four moire patterns, and processing the image to process the moiré pattern to measure the structure.
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