KR20140044976A - Substrate transfer module - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판처리시스템에 관한 것으로서, 기판처리를 위한 피이송체의 지지 및 이송을 가이드하는 피이송체지지부를 구비한 기판이송모듈에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다. A flat panel display is typically a liquid crystal display, a plasma display panel, or an organic light emitting diode.
이 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자보다 낮은 소비 전력, 고휘도, 경량성 등의 특성이 있으며, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어 초박형으로 만들 수 있는 점 등의 장점을 지니고 있는바, 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.Of these, organic light emitting devices have advantages such as fast response speed, lower power consumption than conventional liquid crystal display devices, high brightness and light weight, and the advantage of being able to be made ultra thin by not requiring a separate back light device And has been attracting attention as a next-generation display device.
한편, 평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는, 증발증착법(Evaporation)과, 이온 플레이팅법(Ion-plating) 및 스퍼터링법(Sputtering)과 같은 물리증착법(PVD)과, 가스반응에 의한 화학기상증착법(CVD) 등이 있다. 이 중에서, 유기발광소자의 유기물층, 무기물층 등과 같은 박막형성에 증발증착법이 사용될 수 있다.As a general method of forming a thin film on a substrate of a flat panel display device, there are evaporation, physical vapor deposition (PVD) such as ion plating and sputtering, And chemical vapor deposition (CVD). Among them, a vapor deposition method can be used for forming a thin film such as an organic material layer, an inorganic material layer, etc. of an organic light emitting device.
상기와 같은 기판처리방법들에 있어서, 기판처리 종류에 따라 하나 이상의 개구가 형성된 마스크를 기판에 밀착시켜 기판처리를 수행할 수 있다. In the above-described substrate processing methods, the substrate treatment may be performed by bringing a mask having one or more openings into close contact with the substrate according to the substrate treatment type.
여기서 상기 마스크는 기판에 소정의 패턴으로 기판처리를 수행하거나 기판의 처짐을 방지하기 위한 구성으로서 다양한 구성을 가진다.Here, the mask has a variety of configurations as a configuration for performing a substrate treatment in a predetermined pattern on the substrate or to prevent sagging of the substrate.
한편 마스크를 기판에 밀착시킨 상태에서 기판처리를 수행하는 기판처리시스템은 마스크 및 마스크홀더 사이로의 기판도입과정, 마스크 및 기판의 얼라인과정, 얼라인 후 마스크, 기판 및 마스크홀더의 밀착과정을 거친 후, 기판처리가 수행될 수 있다.On the other hand, a substrate processing system that performs substrate processing while the mask is in close contact with the substrate has undergone a substrate introduction process between the mask and the mask holder, alignment of the mask and the substrate, and alignment of the mask, the substrate and the mask holder after alignment. Subsequently, substrate processing can be performed.
여기서 증발증착법을 이용하는 경우 증착물질이 증발되는 증발원이 진공챔버의 하측에 설치되고 기판의 기판처리면이 증착원을 향하여, 즉 하측으로 배치되는바 기판과 밀착되는 마스크 또한 기판의 하측에서 밀착된다.In the case of using the evaporation deposition method, an evaporation source for evaporation of the deposition material is installed under the vacuum chamber, and a substrate processing surface of the substrate is disposed toward the deposition source, that is, downwardly, and a mask in close contact with the substrate is also in close contact with the substrate.
따라서 상기 마스크 및 기판의 얼라인과정과 관련하여, 정밀한 얼라인을 통하여 기판처리의 신뢰성을 확보할 필요가 있으며, 얼라인 및 기판 및 마스크의 밀착과정을 보다 정밀하고 신속하게 수행함으로써 기판의 생산성을 높일 필요가 있다.Therefore, in relation to the alignment process of the mask and the substrate, it is necessary to secure the reliability of substrate processing through precise alignment, and to increase the productivity of the substrate by performing the alignment and adhesion of the substrate and mask more precisely and quickly. Need to increase
더 나아가 기판과 마스크는 정밀한 이동을 통하여 얼라인이 요구되는바, 마스크의 상하이동시 보다 정밀한 상하이동이 필요하다.Furthermore, since the substrate and the mask are required to be aligned through precise movement, more precise Shanghai-dong is required during the mask movement.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점 및 필요성을 인식하여, 밀폐된 진공챔버 내에서 피이송체을 지지함과 아울러 상하 이동되도록 설치된 피이송체지지부가 진공압에 따른 진공챔버의 변형에 영향을 받지 않고 정밀한 상하 이동을 구현할 수 있는 기판이송모듈을 제공하는 데 있다.The object of the present invention is to recognize the above problems and necessity, to support the object to be transported in the sealed vacuum chamber and to be moved up and down, without being affected by the deformation of the vacuum chamber according to the vacuum pressure It is to provide a substrate transfer module that can implement a precise vertical movement.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 밀폐된 내부공간을 형성하는 진공챔버와; 피이송체를 지지하며, 상기 진공챔버 내에 상하 이동이 가능하게 설치되는 한 쌍의 피이송체지지부들과; 상기 진공챔버와 결합되어 상기 한 쌍의 피이송체지지부들의 상하 이동을 구동하는 승하강구동부와; 일단이 상기 진공챔버의 천정에 결합되고 타단이 상기 진공챔버의 내측 바닥에 결합되어 상기 피이송체지지부들의 상하 이동을 가이드하는 복수의 가이드부재들과; 일단이 상기 가이드부재의 상단 및 하단 중 어느 하나에 결합되고 타단이 상기 진공챔버에 결합되어 상기 진공챔버 내의 진공압에 의하여 상기 진공챔버가 변형될 때 그 변형을 흡수하는 변형흡수결합부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈을 개시한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a vacuum chamber, A pair of to-be-carried bodies supporting the object to be conveyed and installed in the vacuum chamber so as to be movable up and down; A lifting and lowering drive unit coupled to the vacuum chamber to drive vertical movement of the pair of carrier objects; A plurality of guide members having one end coupled to the ceiling of the vacuum chamber and the other end coupled to the inner bottom of the vacuum chamber to guide vertical movement of the object to be conveyed; One end is coupled to any one of the top and bottom of the guide member and the other end is coupled to the vacuum chamber includes a deformation absorbing coupling member for absorbing the deformation when the vacuum chamber is deformed by the vacuum pressure in the vacuum chamber A substrate transfer module is disclosed.
상기 가이드부재는 봉 형상을 가지며, 상기 봉 형상의 가이드부재들 각각은 상기 피이송체지지부의 상하이동을 가이드할 수 있다.The guide member may have a rod shape, and each of the rod-shaped guide members may guide shanghaidong of the carrier body.
상기 피이송체는 상측에서 보았을 때 실질적으로 직사각형의 형상을 가지며, 상기 가이드부재들의 각 위치가 직사각형의 꼭지점에 대응되어 설치될 수 있다.The object to be transported has a substantially rectangular shape when viewed from above, and each position of the guide members may be installed corresponding to a vertex of the rectangle.
상기 피이송체지지부는 피이송체의 저면을 지지하는 복수의 가이드롤러들과, 상기 가이드롤러들이 회전가능하게 설치되는 프레임부재를 포함할 수 있다.The object to be transported may include a plurality of guide rollers supporting the bottom of the object to be transported, and a frame member to which the guide rollers are rotatably installed.
상기 프레임부재는 상기 가이드부재가 상하로 관통하여 삽입되는 가이드공이 형성된 가이드블록을 포함할 수 있다.The frame member may include a guide block having a guide hole through which the guide member penetrates up and down.
상기 한 쌍의 피이송체지지부의 프레임부재들은 하나 이상의 연결부재를 통하여 서로 연결되며, 상기 승하강구동부는 상기 연결부재를 상하로 이동시킴으로써 상기 피이송체지지부를 상하 이동을 구동할 수 있다.The frame members of the pair of object carriers are connected to each other through one or more connection members, and the elevating driver may drive the object carriers up and down by moving the connection member up and down.
상기 변형흡수결합부재는 상기 진공챔버가 변형되면서 상기 진공챔버의 변위량이 큰 쪽에 노치가 형성된 실린더부재를 포함할 수 있다.The deformation absorbing coupling member may include a cylinder member having a notch formed at a larger displacement amount of the vacuum chamber while the vacuum chamber is deformed.
상기 노치는 상기 진공챔버의 평면중심을 향하여 형성될 수 있다.The notch may be formed toward the planar center of the vacuum chamber.
상기 노치는 상기 실린더부재에서 횡방향으로 일부가 절개된 절개홈일 수 있다.The notch may be a cutting groove in which a portion of the notch is cut in the transverse direction.
상기 실린더부재는 상기 가이드부재가 삽입되는 끝단에서 길이방향으로 형성된 절개부가 형성되고, 상기 가이드부재가 삽입된 후 상기 절개부가 형성된 부분에 조임부재에 의하여 원주방향으로 조임력이 가해질 수 있다.The cylinder member may have a cutout formed in the longitudinal direction at the end at which the guide member is inserted, and a tightening force may be applied in the circumferential direction by a tightening member to the portion where the cutout is formed after the guide member is inserted.
상기 조임부재는 상기 절개부에 의하여 절개된 부분을 나사결합시켜 상기 절개부가 형성된 부분에 조임력이 가해질 수 있다.The tightening member may be screwed to the portion cut by the cut portion to apply a tightening force to the portion formed with the cut portion.
상기 실린더부재는 상기 진공챔버에 결합되는 끝단에 플랜지부가 형성되고 상기 플랜지부는 하나 이상의 나사에 의하여 상기 진공챔버에 결합될 수 있다.The cylinder member may have a flange portion formed at an end coupled to the vacuum chamber, and the flange portion may be coupled to the vacuum chamber by one or more screws.
상기 진공챔버 내로의 피이송체의 도입 또는 배출 시 상기 한 쌍의 피이송체지지부들은 각각 상기 피이송체의 양단을 지지하여 그 선형이동을 가이드할 수 있다.When introducing or discharging the object to be transferred into the vacuum chamber, the pair of object carriers may respectively support both ends of the object to guide its linear movement.
상기 진공챔버는 기판이 도입되는 제1게이트 및 마스크가 도입되는 하나 이상의 제2게이트가 서로 대향되어 형성되며, 기판이송모듈은 상기 진공챔버에 설치되어 상기 제1게이트를 통하여 도입된 기판을 지지하는 기판지지조립체와; 상기 진공챔버에 설치되어 상기 마스크를 지지하여 상하로 이동시키는 마스크지지부와; 상기 마스크 및 마스크홀더 사이에 기판을 도입하기 위하여 마스크홀더가 결합된 상태로 상기 진공챔버로 도입된 상기 마스크로부터 상기 마스크홀더를 분리하는 마스크홀더분리부와; 상기 마스크지지부에 지지된 마스크와 상기 기판지지조립체에 지지된 기판과의 상대 이동에 의하여 기판 및 마스크를 얼라인하는 얼라이너부를 포함할 수 있다.The vacuum chamber is formed by opposing a first gate into which a substrate is introduced and one or more second gates into which a mask is introduced, and a substrate transfer module installed in the vacuum chamber to support a substrate introduced through the first gate. A substrate support assembly; A mask support part installed in the vacuum chamber to support the mask and move up and down; A mask holder separator for separating the mask holder from the mask introduced into the vacuum chamber while the mask holder is coupled to introduce a substrate between the mask and the mask holder; It may include an aligner portion for aligning the substrate and the mask by a relative movement between the mask supported on the mask support portion and the substrate supported on the substrate support assembly.
상기 제2게이트를 통하여 도입되는 마스크는 마스크홀더와 결합된 상태로 도입될 수 있다.The mask introduced through the second gate may be introduced in a state coupled with the mask holder.
상기 제2게이트는 마스크홀더가 결합된 마스크가 도입되는 도입게이트와, 상기 도입게이트의 상측 또는 하측에 형성되어 마스크, 기판 및 마스크홀더가 밀착된 후 배출되는 배출게이트를 포함할 수 있다.The second gate may include an introduction gate through which a mask combined with a mask holder is introduced, and an emission gate formed on an upper side or a lower side of the introduction gate and discharged after the mask, substrate, and mask holder are in close contact with each other.
본 발명은 또한 상기와 같은 구성을 가지는 기판이송모듈에 사용되는 변형흡수결합부재로서, 일단이 상기 가이드부재의 상단 및 하단 중 어느 하나에 결합되고 타단이 상기 진공챔버에 결합되어 상기 진공챔버 내의 진공압에 의하여 상기 진공챔버가 변형될 때 그 변형을 흡수하는 것을 특징으로 하는 변형흡수결합부재를 개시한다.The present invention also provides a deformation absorption coupling member used in the substrate transfer module having the above configuration, one end is coupled to any one of the top and bottom of the guide member and the other end is coupled to the vacuum chamber to Disclosed is a deformation absorbing and engaging member characterized by absorbing deformation when the vacuum chamber is deformed by pneumatic pressure.
본 발명에 따른 기판이송모듈은 피이송체를 지지하는 피이송체지지부가 진공챔버의 변형을 흡수하는 변형흡수결합부재와 결합됨으로써 그 상하방향 이동에 있어서 진공압에 따른 진공챔버의 변형에 영향을 받지 않고 진공챔버 내에서 피이송체지지부의 정밀한 상하 이동을 구현할 수 있는 이점이 있다.The substrate transfer module according to the present invention is coupled to the deformation absorbing coupling member for absorbing the deformation of the vacuum chamber to support the object to be transferred, thereby affecting the deformation of the vacuum chamber according to the vacuum pressure in the vertical movement thereof. There is an advantage in that it is possible to implement a precise vertical movement of the carrier body in the vacuum chamber without receiving.
구체적으로 본 발명에 따른 기판이송모듈은 진공챔버의 변형으로 인하여 변형흡수결합부재에 가해지는 휨모멘트를 변형흡수결합부재의 노치의 변형으로 흡수하여 가이드부재에 전달되는 것을 방지함으로써 진공챔버의 변형이 가이드부재의 변형으로 전달되는 것을 방지하여 피이송체지지부의 상하 이동을 정밀하게 가이드할 수 있는 이점이 있다.Specifically, the substrate transfer module according to the present invention prevents the bending moment applied to the deformation absorbing coupling member due to the deformation of the vacuum chamber to absorb the deformation of the notch of the deformation absorbing coupling member and prevents the deformation of the vacuum chamber from being transferred to the guide member. There is an advantage that can be accurately guided the vertical movement of the carrier to be transferred by preventing the transfer to the guide member deformation.
특히 진공챔버 내에 상하 이동되도록 설치된 피이송체지지부가 피이송체의 도입 또는 배출 시 상하 이동에 의하여 피이송체를 지지하는바, 종래의 기판이송모듈의 경우 진공챔버의 변형이 가이드부재에 전달되어 피이송체를 정확하게 지지할 수 없게 되는 문제점이 있으나, 본 발명은 변형흡수결합부재를 포함함으로써 진공챔버의 변형이 가이드부재에 전달되는 것을 차단하여 피이송체를 정확하게 지지할 수 있는 이점이 있다.In particular, the carrier support portion installed to move up and down in the vacuum chamber supports the object to be transported by vertical movement when the object is introduced or discharged. In the case of the conventional substrate transfer module, the deformation of the vacuum chamber is transmitted to the guide member. Although there is a problem in that it is impossible to accurately support the object to be transported, the present invention has the advantage that the deformation of the vacuum chamber can be prevented from being transmitted to the guide member by including the deformation absorbing coupling member to accurately support the object to be transported.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판처리를 위한 기판처리모듈(미도시)의 전방에 설치되어 기판처리가 수행될 기판을 마스크 및 마스크홀더 사이에 밀착시키는 밀착과정, 밀착과정 후 기판처리모듈에 전달하는 배출과정, 기판처리모듈에서 기판처리 후 기판이 타 모듈로 전달되고 남은 마스크홀더가 결합된 마스크를 다시 전달받는 도입과정, 다시 밀착과정부터 반복하여 수행함으로써 기판 및 마스크의 정밀한 얼라인의 수행이 가능하여 기판처리의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is installed in front of a substrate processing module (not shown) for substrate processing to adhere the substrate to be subjected to the substrate processing between the mask and the mask holder in close contact with the substrate processing module after the close contact process The process of discharging the substrate, processing the substrate from the substrate processing module, introducing the mask to the other module and receiving the mask with the remaining mask holder combined again, and performing the alignment again and again by repeatedly performing the close contact process. This can be advantageously possible to improve the reliability of substrate processing.
더 나아가 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크의 도입과정부터 기판밀착 후 배출과정을 반복적으로 수행하는 모듈로서 구성됨으로써 마스크 및 기판의 얼라인을 보다 신속하게 수행하여 기판처리의 속도를 향상시켜 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.Furthermore, the substrate transfer module according to the present invention is configured as a module which repeatedly performs the discharge process after the mask is closely adhered to the substrate from the introduction process of the mask, so that the alignment of the mask and the substrate can be performed more quickly, thereby improving the productivity of the substrate processing. There is an advantage that can be improved.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 기판처리가 수행되는 기판처리시스템에 있어서, 마스크 및 기판의 얼라인, 또는 마스크로부터 기판을 분리하기 위하여 기판을 가장자리부분을 지지하는 기판지지조립체를 구비함으로써 보다 효율적이고 안정적으로 마스크 및 기판에 대한 얼라인, 또는 마스크로부터 기판의 분리를 수행될 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is a substrate processing system in which the substrate treatment is performed in a state in which the mask is in close contact with the substrate, the alignment of the mask and the substrate, or to support the edge of the substrate to separate the substrate from the mask By providing the substrate support assembly, there is an advantage that the alignment of the mask and the substrate or the separation of the substrate from the mask can be performed more efficiently and stably.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 진공챔버 중 게이트가 형성된 내벽에 설치되어 기판의 가장자리를 지지하는 기판지지조립체가 협소한 공간 내에서 구동이 가능하여 진공챔버의 크기를 증가시키지 않고 기판의 가장자리를 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is installed on the inner wall in which the gate is formed in the vacuum chamber, so that the substrate support assembly supporting the edge of the substrate can be driven in a narrow space, thereby increasing the edge of the substrate without increasing the size of the vacuum chamber. There is an advantage that can be stably supported.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 기판처리가 수행되는 기판처리시스템에 있어서, 마스크 및 기판의 얼라인을 위하여 기판을 마스크를 관통하여 기판의 중앙부분을 지지하는 기판지지조립체를 구비함으로써 마스크 및 기판에 대한 얼라인이 보다 효율적으로 수행될 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is a substrate processing system in which the substrate processing is performed in a state in which the mask is in close contact with the substrate, the substrate for supporting the center portion of the substrate through the mask for the alignment of the mask and the substrate Having a support assembly has the advantage that alignment to the mask and substrate can be performed more efficiently.
특히 기판처리의 대상인 기판의 크기가 증가, 즉 대면적화되면서 기판의 자중에 의하여 기판의 중앙부분에서 그 처짐량이 증가하며, 기판처짐의 증가로 인하여 기판 및 마스크의 얼라인시 미스얼라인의 요인으로 작용하는 문제점이 있는데, 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판의 중앙부분을 지지하는 기판지지조립체를 구비함으로써 마스크 및 기판에 대한 얼라인이 보다 효율적으로 수행될 수 있는 이점이 있다.In particular, as the size of the substrate to be processed is increased, that is, the area becomes large, the amount of deflection increases at the center of the substrate due to the weight of the substrate. There is a problem that works, the substrate transfer module according to the present invention has an advantage that the alignment of the mask and the substrate can be performed more efficiently by having a substrate support assembly for supporting the central portion of the substrate.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판을 지지하는 리프트핀이 마스크 중 개구되지 않은 부분에 형성된 관통공을 관통하여 상하 이동하도록 설치됨으로써 기판의 유효영역의 면적에 영향을 주지 않고 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is installed so that the lift pin for supporting the substrate moves up and down through the through hole formed in the unopened portion of the mask to stably support the substrate without affecting the area of the effective area of the substrate. There is an advantage to this.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 기판처리가 수행되는 기판처리시스템에 있어서, 마스크 및 마스크홀더가 결합된 상태에서 마스크로부터 마스크홀더가 자동으로 분리되도록 하는 마스크홀더분리부를 구비함으로써 마스크 및 마스크 홀더 사이에 기판을 도입하는 기판도입과정을 원활하고 신속하게 수행할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is a substrate processing system in which the substrate processing is performed in a state in which the mask is in close contact with the substrate, the mask holder separation to automatically separate the mask holder from the mask in a state where the mask and the mask holder is coupled The provision of the part has the advantage of smoothly and quickly performing the substrate introduction process for introducing the substrate between the mask and the mask holder.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크 및 마스크홀더가 결합된 상태에 마스크로부터 마스크홀더가 걸림에 의하여 자동으로 분리하고, 기판 및 마스크홀더가 결합된 후 마스크홀더의 걸림을 해제하는 마스크홀더분리부를 구비함으로써 마스크 및 마스크 홀더 사이에 기판을 도입하는 기판도입과정을 원활하고 신속하게 수행할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention automatically removes the mask holder from the mask by the mask holder in a state in which the mask and the mask holder are coupled, and a mask holder separation unit for releasing the mask holder after the substrate and the mask holder are coupled. In this case, the substrate introduction process of introducing the substrate between the mask and the mask holder can be performed smoothly and quickly.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 기판처리가 수행되는 기판처리시스템에 있어서, 마스크 및 기판의 얼라인을 위하여 리프트핀이 마스크를 관통하여 기판을 지지하는 기판지지조립체를 구비함으로써 마스크 및 기판에 대한 얼라인이 보다 효율적으로 수행될 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is a substrate processing assembly in which a substrate treatment is performed in a state in which the mask is in close contact with the substrate, the substrate supporting assembly in which the lift pin passes through the mask to support the mask and the substrate. By having the advantage that the alignment of the mask and the substrate can be performed more efficiently.
또한 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판을 지지하는 리프트핀이 마스크 중 개구되지 않은 부분에 형성된 관통공을 관통하여 상하 이동하도록 설치됨으로써 기판처리 후 기판의 유효영역의 면적에 영향을 주지 않고 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate transfer module according to the present invention is installed so that the lift pin for supporting the substrate moves up and down through the through-hole formed in the unopened portion of the mask so that the substrate does not affect the area of the effective area of the substrate after the substrate treatment. There is an advantage that can be stably supported.
즉, 본 발명에 따른 기판이송모듈은 리프트핀에 의하여 기판을 지지할 때 기판처리면 중 기판처리 후 버려지는 무효영역 중 하나인 마스크에 의하여 밀착되는 부분에 대응되어 마스크에 관통공을 형성하고, 리프트핀이 관통공을 관통하여 기판을 지지함으로써 리프트핀 지지에 따른 기판의 유효영역의 면적을 줄이지 않아 기판처리의 생산성을 현저히 높일 수 있는 이점이 있다.That is, the substrate transfer module according to the present invention forms through-holes in the mask in correspondence with a portion of the substrate processing surface that is in close contact with the mask, which is one of the invalid areas discarded after the substrate treatment when supporting the substrate by the lift pin. Since the lift pin penetrates the through hole to support the substrate, the lift pin does not reduce the area of the effective area of the substrate due to the lift pin support, thereby significantly increasing the productivity of the substrate processing.
더 나아가 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판을 지지하는 리프트핀이 마스크 중 개구되지 않은 부분에 형성된 관통공을 관통하여 상하 이동하는 이동부분의 외경 만을 감소시킴으로써 기판지지를 위한 충분한 강성 확보와 함께 기판 및 마스크 얼라인을 위한 관통공의 내경을 최소화함으로써 기판의 유효영역의 면적을 감소시키지 않고 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.Furthermore, the substrate transfer module according to the present invention reduces the outer diameter of the moving part that vertically moves through the through hole formed in the unopened portion of the mask by the lift pin supporting the substrate, thereby ensuring sufficient rigidity for supporting the substrate. And minimizing the inner diameter of the through-holes for the mask alignment, thereby stably supporting the substrate without reducing the area of the effective area of the substrate.
보다 구체적으로 설명하면, 마스크에 리프트핀이 관통하는 관통공이 형성되는 경우 마스크 중 기판을 지지하는 부분이 관통공의 내경보다 더 큰 폭으로 형성되어야 하는데, 마스크를 관통하는 리프트핀의 외경을 감소시키는 경우 관통공의 내경의 감소가 가능하여 결과적으로 기판을 지지하는 부분의 폭의 감소가 가능하여, 결과적으로 기판처리면 중 마스크에 의하여 밀착되는 무효영역의 면적을 감소시킴으로써 기판의 유효영역의 면적을 감소시키지 않고 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.In more detail, when the through-hole through which the lift pin passes is formed in the mask, a portion of the mask supporting the substrate should be formed to have a width larger than the inner diameter of the through-hole, which reduces the outer diameter of the lift pin through the mask. In this case, it is possible to reduce the inner diameter of the through-hole, and consequently to reduce the width of the portion supporting the substrate. Consequently, the area of the effective area of the substrate can be reduced by reducing the area of the ineffective area that is closely adhered by the mask. There is an advantage that the substrate can be stably supported without reducing.
도 1은 본 발명에 따른 기판이송모듈을 보여주는 종단면도로서, 기판이 이송되는 이송방향과 수직인 방향에서 본 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 각각 기판이 이송되는 방향에서 본 도 1의 기판이송모듈의 종단면도들로서, 진공챔버가 변형되기 전 후의 모습을 보여주는 도면들이다.
도 3a 및 도 3b는 각각 도 1의 기판이송모듈의 구성들 일부를 보여주는 평면도들로서, 도 3a는 도 1의 기판처리장치의 피이송체지지부 및 마스크지지부 등을 보여주는 평면도이며, 도 3b는 도 1의 기판처리장치의 기판지지조립체를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 1의 기판이송모듈의 변형흡수결합부재의 일예를 보여주는 사시도이다.
도 5a 및 도 5b는 기판이 이송되는 방향에서 본 도 1의 기판이송모듈의 변형예들에 대한 종단면도들이다.
도 6은 도 5b에서 F부분을 확대한 확대단면도이다.
도 7는 도 1의 기판이송모듈에 사용되는 마스크의 일예를 보여주는 평면도이다.
도 8a 및 도 8b는 도 1의 기판이송모듈에서 마스크홀더가 작동하는 과정을 보여주는 도면들로서, 도 8a는 마스크홀더가 록킹부재에 걸림된 상태를, 도 8b는 마스크홀더가 록킹부재에 걸림 해제된 상태를 보여주는 일부단면도이며, 도 8c는 도 1의 기판이송모듈에서 마스크홀더가 작동하는 과정을 보여주는 일부평면도이다.
도 9a 및 도 9b는 각각 도 1의 기판이송모듈에서 리프트핀이 마스크를 관통하여 기판을 지지하는 상태를 보여주는 일부단면도들로서, 도 9a는 기판을 단순 지지한 상태를, 도 9b는 기판 및 마스크를 얼라인 한 상태를 보여주는 일부단면도들이다.
도 10a 및 도 10b는 도 1의 제1 내지 제2기판외곽지지조립체들에 의하여 기판이 지지된 상태를 보여주는 일부단면도들이다.
도 11 및 도 12는 도 1의 제1기판외곽지지조립체의 작동을 보여주는 평면도 및 측단면도들이다.
도 13은 본 발명에 따른 기판이송방법의 기판이송방법을 보여주는 흐름도이다.
도 14는 도 13의 얼라인방법을 보여주는 개념도들이다.1 is a longitudinal cross-sectional view showing a substrate transfer module according to the present invention, a cross-sectional view seen in a direction perpendicular to the transfer direction in which the substrate is transferred.
2A and 2B are longitudinal cross-sectional views of the substrate transfer module of FIG. 1 as viewed from a direction in which the substrate is transferred, respectively, illustrating the state before and after the vacuum chamber is deformed.
3A and 3B are plan views illustrating some of the components of the substrate transfer module of FIG. 1, and FIG. 3A is a plan view illustrating a carrier and a mask support part of the substrate processing apparatus of FIG. 1, and FIG. 3B is FIG. 1. A plan view showing a substrate support assembly of the substrate processing apparatus of FIG.
Figure 4 is a perspective view showing an example of the deformation absorbing coupling member of the substrate transfer module of FIG.
5A and 5B are longitudinal cross-sectional views of modified examples of the substrate transfer module of FIG. 1 as viewed in a direction in which the substrate is transferred.
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view enlarging the portion F in FIG. 5B.
7 is a plan view illustrating an example of a mask used in the substrate transfer module of FIG. 1.
8A and 8B are views illustrating a process in which the mask holder is operated in the substrate transfer module of FIG. 1. FIG. 8A shows a state in which the mask holder is locked to the locking member, and FIG. 8B shows a state in which the mask holder is released from the locking member. 8 is a partial cross-sectional view illustrating a process of operating a mask holder in the substrate transfer module of FIG. 1.
9A and 9B are partial cross-sectional views illustrating a state in which a lift pin passes through a mask to support a substrate in the substrate transfer module of FIG. 1, and FIG. 9A illustrates a state in which the substrate is simply supported, and FIG. 9B illustrates a substrate and a mask. Here are some cross-sectional views that show the alignment.
10A and 10B are partial cross-sectional views illustrating a state in which a substrate is supported by the first to second substrate outer support assemblies of FIG. 1.
11 and 12 are plan and side cross-sectional views showing the operation of the first substrate outer support assembly of FIG.
13 is a flowchart showing a substrate transfer method of the substrate transfer method according to the present invention.
14 is a conceptual diagram illustrating an alignment method of FIG. 13.
본 발명에 따른 기판이송모듈에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The substrate transfer module according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명에 따른 기판이송모듈은 도 1 내지 도 3b에 도시된 바와 같이, 밀폐된 내부공간(S)을 형성하는 진공챔버(100)와; 피이송체를 지지함과 아울러 진공챔버(100) 내에 상하 이동이 가능하게 설치되는 한 쌍의 피이송체지지부(210)들과; 진공챔버(100)에 설치되어 한 쌍의 피이송체지지부(210)들의 상하방향이동을 구동하는 승하강구동부(220)와; 진공챔버(100)에 결합되어 피이송체지지부(210)들의 상하 이동을 가이드하는 가이드부재(230)를 포함한다.Substrate transfer module according to the present invention, as shown in Figure 1 to 3b, the
상기 진공챔버(100)는 외부와 격리된 내부공간(S)을 형성할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하며, 일예로서, 상측으로 개구된 챔버본체(110)와, 챔버본체(110)와 탈착가능하게 결합되는 상부리드(120)로 구성될 수 있다.The
그리고 상기 챔버본체(110)는 실질적으로 직육면체의 형상을 가지며 기판(10)의 도입 및 배출방식에 따라서 제1게이트(111) 및 하나 이상의 제2게이트(112)가 서로 대향되어 형성되는 등 다양하게 형성될 수 있다.In addition, the
상기 제1게이트(111)는 로봇(도 10a 및 도 10b에서 40) 등에 의하여 기판(10)이 도입, 경우에 따라서는 배출되는 게이트로서 기판(10)이 통과될 수 있는 형태이면 어떠한 구조도 가능하다.The
상기 제2게이트(112)는 마스크(20) 및 마스크홀더(30)가 결합된 상태로 도입되거나 배출되는 게이트로서, 하나 또는 2개로 형성될 수 있다. The
먼저 상기 제2게이트(112)가 하나로 형성된 경우에는 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)의 도입, 마스크(20), 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)의 배출이 모두 이루어질 수 있다.First, when the
한편 상기 제2게이트(112)는 2개로 형성될 수 있는바, 도입게이트(112) 및 배출게이트(113)가 상하로 형성될 수 있다.Meanwhile, the
즉, 상기 도입게이트(112)는 마스크(20)의 도입, 특히 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)의 도입, 배출게이트(113)는 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)의 배출이 이루어질 수 있다. 여기서 상기 마스크(20) 및 마스크홀더(30)는 진공챔버(100) 내로의 도입이 별도로 이루어질 수 있음은 물론이다.That is, the
그리고 상기 도입게이트(112)는 본 발명의 실시예와 같이, 배출게이트(113)의 상측에 형성되거나, 하측에 형성될 수 있다.The
상기 챔버본체(110)는 후술하는 승하강구동부(220) 등의 설치를 위하여 지면으로부터 이격되어 설치될 수 있도록 프레임부재(160) 등에 의하여 지지되어 설치될 수 있다.The
상기 상부리드(120)는 챔버본체(110)의 상측에 형성된 개구를 복개하여 외부와 격리된 내부공간(S)을 형성하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The
한편 상기 진공챔버(100)는 내부공간(S) 내의 소정의 진공압의 압력제어 및 배기 등을 위하여 진공펌프와 연결될 수 있다.Meanwhile, the
한편 후술하는 피이송체지지부(210)에 의하여 지지되는 피이송체는 피이송체지지부(210)가 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.On the other hand, any object may be used as long as the object to be supported by the
상기 피이송체는 기판(10) 자체, 기판(10)이 안착된 트레이(미도시) 등이 될 수 있다. 특히 본 실시예에서는 피이송체는 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20), 또는 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20) 등이 될 수 있다.The object to be transported may be a
상기 기판(10)은 LCD패널용 유리기판, 태양전지용 실리콘 기판, OLED패널 기판 등 기판처리의 대상은 모두 될 수 있으며 제조편의상 평면형상이 직사각형을 이루는 것이 바람직하다.The
아울러, 상기 기판(10)은 제1게이트(111)를 통하여 도입될 때 로봇, 가이드레일 등에 의하여 직접 이송되거나, 기판트레이(미도시)에 안착되어 이송되는 등 다양한 형태로 이송될 수 있다.In addition, when the
상기 마스크(20)는 후술하는 마스크홀더(30)에 의하여 기판(10)에 밀착됨으로써 기판표면에 소정 패턴으로 기판처리가 이루어지도록 하거나, 기판(10)의 처짐을 방지하기 위하여 기판(10)을 지지하는 등 다양한 기능을 가질 수 있다.The
예로서, 상기 마스크(20)는 도 7에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 개구(24)가 형성된 패턴형성부(21) 및 패턴형성부(21)와 결합되는 외곽프레임(22)으로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 마스크(20)는 외곽프레임(22) 만으로 구성되고 패턴형성부(21)는 구비하지 않을 수 있다.For example, as shown in FIG. 7, the
상기 패턴형성부(21)는 기판표면에 패턴화된 기판처리가 가능하도록 패턴화된 하나 이상의 개구(24)가 형성되는 구성으로서 증착될 부분으로 이루어진 패턴 또는 기판(10)을 지지하여 기판 처짐을 방지하는 등 다양한 목적으로 설치되며 시트부재, 띠형부재 등으로 다양하게 구성될 수 있다.The
상기 패턴형성부(21)에 형성되는 개구(24)는 기판표면에 소정패턴의 기판처리를 위하여 그에 상응하는 패턴으로 형성되거나, 도 7에 도시된 바와 같이, 직사각형의 패턴을 형성하도록 격자형상을 가지는 등 다양한 구조로 이루어질 수 있다.The openings 24 formed in the
특히 상기 패턴형성부(21)는 기판표면 중 기판처리 후 절단되는 부분에 대응되는 위치에서 개구되지 않은 부분을 가지는 것이 바람직하다.In particular, the
상기 외곽프레임(22)은 시트 등과 같이 얇은 부재의 패턴형성부(21)를 지지하는 부재로서, 충분한 구조를 가지도록 구성됨이 바람직하다. 여기서 외곽프레임(22)은 패턴형성부(21)와 일체로 형성될 수 있음은 물론이다.The
상기 마스크홀더(30)는 마스크(20)를 기판(10)에 밀착시켜 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서, 자석 등을 구비하여, 철과 같이 자석에 반응하는 재질로 이루어진 마스크(20)를 자력으로 기판(10)에 밀착시키도록 구성될 수 있다.The
한편 상기 마스크홀더(30)는 다양한 구성이 가능하며, 가장자리 외측으로 돌출되도록 형성된 복수의 탭(31)을 구비할 수 있다.The
상기 탭(31)은 마스크(20) 및 마스크홀더(30) 사이에 기판(10)이 위치될 수 있도록 후술하는 마스크홀더분리부(360)에 의하여 탭(31)을 지지하여 마스크(20) 하강시 및 마스크홀더(30)와 마스크(20)를 상호 분리시키는데 사용될 수 있다. 이때 상기 기판이송모듈은 마스크홀더분리부(360)를 더 포함한다.The
상기 마스크홀더분리부(360)는 기판(10)이 마스크홀더(30) 및 마스크(20) 사이로 도입되도록 마스크(20) 및 마스크홀더(30)를 상호 분리하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The
일예로서, 상기 마스크홀더분리부(360)는 도 1 및 도 2, 도 8a 내지 도 8c에 도시된 바와 같이, 마스크홀더(30)에 선택적으로 걸림 또는 걸림 해제되는 복수의 록킹부재(361)들과, 각 록킹부재(361)들에 대응되어 록킹부재(361)의 걸림 및 걸림 해제를 구동하는 복수의 작동구동부(362)들을 포함하여 구성될 수 있다.As an example, the mask
상기 록킹부재(361)는 마스크홀더(30)에 선택적으로 걸림 또는 걸림 해제되는 부재로서, "회전에 의하여" 마스크홀더(30)에 선택적으로 걸림 또는 걸림 해제되며, 이때 작동구동부(362)는 록킹부재(361)를 회전시키도록 회전모터 등으로 구성될 수The locking
한편 상기 마스크홀더(30)는 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인과정, 밀착 후 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인검사를 위하여 카메라장치가 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 이미지를 획득할 수 있도록 복수의 개구부(미도시)들이 형성됨이 바람직하다. On the other hand, the
한편 상기 피이송체는 상측에서 보았을 때 실질적으로 직사각형의 형상을 가질 수 있다. 이때 상기 마스크(20), 마스크홀더(30), 진공챔버(100) 등은 상측에서 보았을 때 평면형상이 실질적으로 직사각형의 형상을 가질 수 있다.Meanwhile, the object to be conveyed may have a substantially rectangular shape when viewed from above. In this case, the
상기 한 쌍의 피이송체지지부(210)는 피이송체의 도입, 배출 등을 위하여 상하 이동에 의하여 피이송체를 지지하기 위한 구성으로서, 피이송체의 양단을 지지함과 아울러 수평방향 선형이동을 가이드하도록 진공챔버(100) 내에 설치되는 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.The pair of to-
일예로서, 상기 피이송체지지부(210)는 진공챔버(100)에 설치되어 마스크(20)의 도입 및 배출 시 마스크(20)를 피이송체로 하여 지지하도록 구성될 수 있다.For example, the object to be transported 210 may be installed in the
그리고 상기 피이송체지지부(210)는 피이송체인, 마스크(20)의 양단을 직접 또는 간접으로 지지함과 아울러 수평방향 선형 이동을 가이드하도록 진공챔버(100)에 한 쌍으로 설치되는 등 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 피이송체인 마스크(20)는 피이송체지지부(210)에 직접 지지되거나, 별도의 이송트레이(미도시)에 적재된 상태로 피이송체지지부(210)에 간접으로 지지될 수 있다.In addition, the object to be transported 210 may be installed in a pair in the
상기 피이송체지지부(210)는 예로서, 도 2 및 도 3a에 도시된 바와 같이, 마스크(20)의 저면을 지지하는 복수의 가이드롤러(212)들과, 가이드롤러(212)들이 회전가능하게 설치되는 프레임부재(211)를 포함할 수 있다.The object to be transported 210 is, for example, as shown in Figures 2 and 3a, a plurality of guide rollers for supporting the bottom of the
상기 가이드롤러(212)는 피이송체의 저면을 지지함과 아울러 회전에 의하여 피이송체를 이송하는 구성으로서, 진공챔버(100)의 내부 또는 외부에 설치된 회전모터와 베벨기어 등과 연결되어 회전구동될 수 있다.The
그리고 상기 가이드롤러(212)는 피이송체의 이송방향을 따라서 복수 개로 설치될 수 있으며 일부는 아이들롤러로서 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.The
상기 프레임부재(211)는 가이드롤러(212)가 설치됨으로써 피이송체의 지지 및 수평 이동을 구동하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The
한편 상기 피이송체지지부(210)는 도 1 내지 도 3a에 도시된 바와 같이, 연결부재(213)에 후술하는 가이드부재(230)가 상하로 관통하여 삽입되는 가이드공(213a)이 형성됨으로써 승하강구동부(220)의 상하구동 및 가이드부재(230)의 가이드에 의하여 진공챔버(100) 내에서 상하로 승하강된다.Meanwhile, as shown in FIGS. 1 to 3A, the object to be transported 210 is moved up and down by forming a guide hole 213a through which the
그리고 상기 피이송체지지부(210)는 그 구성에 따라서 다양한 구조로 승하강될 수 있으며, 예로서, 프레임부재(211)는 대향되는 피이송체지지부(210)의 프레임부재(211)와 하나 이상의 연결부재(213)와 연결되고, 승하강구동부(220)는 연결부재(213)를 상하로 이동시킴으로써 한 쌍의 피이송체지지부(210)의 상하방향이동을 구동할 수 있다.In addition, the object to be conveyed
상기 연결부재(213)는 서로 대향되는 한 쌍의 피이송체지지부(210)를 연결하여 구속함으로써 후술하는 승하강구동부(220)의 상하구동에 의하여 한 쌍의 피이송체지지부(210)들은 서로 연동된 상하 이동이 가능해진다.The
특히 상기 연결부재(213)는 한 쌍의 피이송체지지부(210)를 서로 구속하기 위한 부재로서 각 프레임부재(211)의 끝단을 연결하도록 한 쌍으로 구성될 수 있다.In particular, the connecting
한편 상기 한 쌍의 피이송체지지부(210)의 상하 이동과 관련하여, 연결부재(213)는 가이드부재(230)가 상하로 관통하여 삽입되는 가이드공(213a)이 형성됨으로써 가이드부재(230)와의 결합에 의하여 프레임부재(211), 더 나아가 피이송체지지부(210)가 지지하고 있는 피이송체의 정밀한 상하 이동이 구현된다.On the other hand, in connection with the vertical movement of the pair of the
상기 승하강구동부(220)는 진공챔버(100)에 설치되어 한 쌍의 피이송체지지부(210)들의 상하방향 이동을 구동하는 구성으로서 스크류잭, 유압실린더 등 그 구동방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The elevating
일예로서, 상기 승하강구동부(220)는 진공챔버(100)의 하측에 설치되고 승하강부재(221)가 프레임부재(211), 특히 연결부재(213)와 연결되어 승하강부재(221)가 상하로 이동됨으로써 한 쌍의 피이송체지지부(210)를 상하로 승하강구동한다.As an example, the elevating
상기 승하강구동부(220)는 복수 개로 설치되는 예로 설명하였으나 승하강구동부(220)는 하나로 구성되고 벨트 및 풀리 등의 조합에 의하여 한 쌍의 피이송체지지부(210)를 서로 연동하여 상하 이동을 구동할 수 있다.The elevating
상기 가이드부재(230)는 일단이 진공챔버(100)의 천정에 결합되고 타단이 진공챔버(100)의 내측 바닥에 결합되어 피이송체지지부(210)들의 상하이동을 가이드하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.One end of the
그리고 상기 가이드부재(230)는 진공챔버(100) 내에 복수 개로 설치되어 피이송체지지부(210)들과 결합됨으로써 피이송체지지부(210)의 상하 이동을 가이드하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.In addition, the
일예로서, 상기 가이드부재(230)는 봉 형상을 가질 수 있으며, 이때 피이송체지지부(210)들, 특히 가이드블록(213)은 봉 형상의 가이드부재(230)가 삽입되어 피이송체지지부(210)의 상하 이동방향이 가이드될 수 있다.As an example, the
또한 상기 가이드부재(230)들은 직사각형의 피이송체의 양단을 지지하는 이송가이드부(210)의 안정적이 상하이동을 가이드하기 위하여, 4개로 설치되어 각 위치가 직사각형의 꼭지점에 대응되어 설치될 수 있다.In addition, the
한편 상기 한 쌍의 피이송체지지부(210)의 상하이동을 가이드하는 가이드부재(230)는 진공챔버(100)의 천정 및 내측 바닥에 연결되는바, 진공챔버(100) 내부의 진공압으로 인하여 진공챔버(100)에 변형이 있는 경우 그 변형으로 인하여 가이드부재(230)도 변형되어 피이송체지지부(210)의 이동이 원활하지 못하거나 불안정한 상하이동의 요인으로 작용하여 마스크(20) 및 기판(10)의 정렬이 흐트러져 기판처리의 불량을 야기할 수 있다.On the other hand, the
따라서 본 발명에 따른 기판이송모듈은 도 2a 및 도 2b 및 도 4에 도시된 바와 같이, 일단이 가이드부재(230)들 각각의 상단 및 하단 중 적어도 어느 하나에 결합되고 타단이 진공챔버(100)에 결합되어 진공챔버(100) 내의 진공압에 의하여 진공챔버(100)가 변형될 때 그 변형을 흡수하는 변형흡수결합부재(500)를 추가로 포함함을 특징으로 한다.Therefore, the substrate transfer module according to the present invention, as shown in Figures 2a and 2b and 4, one end is coupled to at least one of the top and bottom of each of the
상기 변형흡수결합부재(500)는 가이드부재(230)들 각각의 상단 및 하단 중 어느 하나-실시예에서는 상단-에 설치되어 진공챔버(100)와 결합됨으로써 진공챔버(100)의 변형에도 불구하고 그 변형이 가이드부재(230)들에 전달되는 것을 방지하여 피이송체지지부(210)의 보다 정밀한 상하이동을 구현할 수 있다.The strain absorbing and
일예로서, 상기 변형흡수결합부재(500)는 가이드부재(230)의 끝단이 결합되며, 진공챔버(100)가 변형, 특히 천정이 변형될 때 그 변형을 흡수하는 노치(511)가 형성된 실린더부재(510)를 포함할 수 있다.As an example, the deformation absorbing
상기 노치(511)는 도 2a 및 도 2b 및 도 4에 도시된 바와 같이, 실린더부재(510)에 미리 형성되어 진공챔버(100)의 변형시 실린더부재(510)에 가해지는 휨모멘트에 의하여 노치(511)가 형성된 부분에서 변형되어 휨모멘트를 흡수함으로써 진공챔버(100)의 변형이 가이드부재(230)에 전달되는 것을 방지한다.As shown in FIGS. 2A, 2B, and 4, the
한편 상기 노치(211)는 실린더부재(510)에 다양하게 형성될 수 있으며, 실린더부재(510)의 횡방향으로 일부가 절개되어 형성될 수 있다.The
그리고 상기 진공챔버(100)의 변형시 외곽쪽에서 평면 중심을 기준으로 변형량이 커지는바, 노치(211)는 실린더부재(510)의 외주면 중 진공챔버(100)의 평면중심을 향하는 부분에 형성될 수 있다.In addition, when the
한편 상기 실린더부재(510)는 가이드부재(230)와의 결합을 위하여 가이드부재(230)가 삽입되는 끝단에서 길이방향으로 형성된 절개부(513)가 형성되고, 가이드부재(230)가 삽입된 후 가이드부재(230)를 향하는 방향으로 조임력을 가하는 조입부재가 설치될 수 있다.On the other hand, the
상기 절개부(513)는 끝단에서 길이방향으로 일부가 절개됨으로써 조임부재의 조임력에 의하여 가이드부재(230)를 향하는 쪽으로 변형을 유도하여 가이드부재(230)와 보다 견고하게 고정결합될 수 있다.The
상기 조임부재는 가이드부재(230)에 대한 실린더부재(510)의 조임력을 부여하기 위한 구성으로서, 실린더부재(510)를 원주방향으로 감싸 실린더부재(510)에 대한 조임력을 발생시키는 클램핑부재, 절개부(513)에 의하여 절개된 부분을 나사결합시키는 실린더부재(510) 중 절개부에(513) 의하여 절개된 부분에서 면접하는 방향으로 결합시키는 볼트(515)로 구성되는 등 다양하게 구성될 수 있다.The tightening member is a configuration for imparting a tightening force of the
한편 상기 실린더부재(510)는 진공챔버(100)에 결합되는 끝단에 플랜지부(512)가 형성되며, 플랜지부(512)는 하나 이상의 나사(516)에 의하여 진공챔버(100)에 결합되거나, 용접에 의하여 진공챔버(100)의 천정에 결합되는 등 다양한 형태로 결합될 수 있다.Meanwhile, the
상기와 같이 본 발명에 따른 기판이송모듈은 변형흡수결합부재(500)를 추가로 구비함으로써 내부공간(S)의 진공압에 따른 진공챔버(100)의 변형에도 불구하고 피이송체의 지지를 위한 피이송체지지부(210)들의 상하 이동을 가이드하는 가이드부재(230)에 영향을 주는 것을 방지하여 피이송체지지부(210)의 정밀한 상하 이동을 유지할 수 있다.As described above, the substrate transfer module according to the present invention further includes a deformation absorbing
특히 상기와 같은 구성을 가지는 변형흡수결합부재(500)는 내부공간(S)의 진공압에 따른 진공챔버(100)와, 피이송체의 지지를 위한 피이송체지지부(210)들의 상하 이동을 가이드하는 가이드부재(230)를 구비한 모듈이면 모두 적용이 가능함을 물론이며, 변형흡수결합부재(500)가 적용가능한 모듈은 본 발명에서 기판이송모듈로서 포괄적으로 정의한다.In particular, the deformation-absorbing
한편 상기 가이드부재(230)는 도 2a 및 도 2b의 예와는 달리, 도 5a에 도시된 바와 같이, 상단 및 하단 중 어느 하나가 각각 진공챔버(100)의 천정 및 바닥 이외에 진공챔버(100)의 측벽에 결합될 수 있다.Unlike the example of FIGS. 2A and 2B, the
이때, 상기 가이드부재(230)의 양단 중 적어도 어느 하나는 변형흡수결합부재(500)가 개재되어 진공챔버(100)에 결합된다.At this time, at least one of both ends of the
그리고 상기 진공챔버(100)는 변형흡수결합부재(500)와의 결합을 위하여 결합브라켓(610)이 측벽에 설치될 수 있다.In addition, the
상기 결합브라켓(610)은 가이드부재(230) 및 변형흡수결합부재(500)가 상하방향으로 설치됨을 고려하여 진공챔버(100)의 측벽으로부터 내측으로 연장되도록 설치되고, 그 저면에 변형흡수결합부재(500)가 결합되도록 한다.The
한편 상기 진공챔버(100)는 처리공간(S) 내의 진공압 형성으로 인하여 그 측벽 또한 변형이 발생되는 바 진공챔버(100)의 측벽의 변형이 가이드부재(230) 등에 전달되는 것을 방지하기 위하여, 도 5b에 도시된 바와 같이, 그 측벽의 벽면과 간격을 두고 측벽의 가장자리에서 결합된 보조부재(620)가 추가로 설치될 수 있다.On the other hand, the
이때 상기 가이드부재(230)는 일단이 진공챔버(100)의 천정 또는 보조부재(620)에 결합되고, 타단은 진공챔버(100)의 천정 또는 보조부재(620)에 결합될 수 있으며, 가이드부재(230)의 양단 중 적어도 어느 하나는 변형흡수결합부재(500)가 개재되어 진공챔버(100)에 결합될 수 있다.In this case, one end of the
상기 보조부재(620)는 플레이트 형상을 가지며, 진공챔버(100)의 측벽의 변형에도 불구하고 그 변형이 전달되지 않도록 그 측벽의 벽면과 간격을 두고 설치된다.The
특히 상기 보조부재(620)는 진공압에 따른 변형에도 불구하고 실질적으로 그 변형이 거의 없는 측벽의 가장자리에서 결합됨으로써 진공챔버(100)의 측벽의 변형에도 불구하고 그 변형이 전달되지 않게 된다.In particular, the
한편 상기 보조부재(620)는 다양한 방식에 의하여 진공챔버(100)의 측벽에 결합될 수 있다.Meanwhile, the
상기 보조부재(620)는, 예로서, 도 6에 도시된 바와 같이, 진공챔버(100)의 측벽에 형성된 관통공(119)을 통하여 측벽의 내면으로부터 돌출되도록 설치된 고정부재(630)의 끝단에 나사(631) 등에 의하여 결합될 수 있다.For example, as shown in FIG. 6, the
상기 고정부재(630)는 보조부재(620)가 진공챔버(100)의 측벽 내면과 간격을 두고 설치될 수 있도록 진공챔버(100)에 결합되는 부재로서, 진공챔버(100)의 외부로부터 진공챔버(100)의 내부로 관통하여 설치될 수 있다.The fixing
그리고 상기 고정부재(630)는 진공챔버(100)의 처리공간(S)의 밀봉을 위하여 실링부재(640)가 개재되어 진공챔버(100)의 측벽 외면과 밀착되는 플렌지부분(632)을 가지며, 플렌지부분(632)는 나사(622) 등에 의하여 진공챔버(100)의 측벽에 고정결합될 수 있다.In addition, the fixing
이때 상기 고정부재(630)가 관통하는 관통공(119)의 내경은 진공챔버(100)의 측벽이 진공압에 의하여 변형될 때 그 변형에 대한 영향을 최소화하기 위하여, 고정부재(630)의 외경보다 크게 형성됨이 바람직하다.At this time, the inner diameter of the through-
또한 상기 플렌지부분(632)이 진공챔버(100)의 측벽 외면에서 일부 요입되어 설치될 수 있는데 이 경우에도 플렌지부분(632)이 삽입되는 홈의 내경이 플렌지부분(632)의 외경보다 크게 형성됨이 바람직하다.In addition, the
한편 상기 보조부재(620)는 중량을 감소시키고 진공챔버(100)의 외부에 설치된 구성과 내부에 설치된 구성 간의 연결에 간섭을 배제하기 위하여 하나 이상의 개구부가 형성됨이 바람직하다.On the other hand, the
예로서, 상기 보조부재(620)는 중앙부분에 개구부가 크게 형성되어 전체적으로 직사각형의 형상을 가지는 링형상을 가지는 등 다양한 형상을 가질 수 있다.For example, the
한편 상기와 같은 구성을 가지는 기판이송모듈은 진공챔버(100)의 내부공간(S)에서의 얼라인공정, 증착, 식각 등의 기판처리 등의 공정에 따라서 다양하게 활용될 수 있다.On the other hand, the substrate transfer module having the configuration described above may be used in various ways depending on the substrate processing such as the alignment process, deposition, etching in the interior space (S) of the
일예로서, 상기와 같은 구성을 가지는 기판이송모듈은 도 1 내지 도 3b에 도시된 바와 같이, 기판처리 전에 마스크(20)와 기판(10)의 얼라인 및 밀착과정을 수행하는 얼라인공정을 수행하는데 활용될 수 있다.As an example, the substrate transfer module having the configuration as described above may perform an alignment process for performing alignment and adhesion of the
@이때 상기 기판이송모듈은 진공챔버(100)에 설치되어 마스크(20)를 지지하여 상하로 이동시키는 마스크지지부(320)와; 진공챔버(100)에 설치되어 제1게이트(111)를 통하여 도입된 기판(10)을 지지하는 기판지지조립체(410, 420, 430)와; 마스크지지부(320)에 지지된 마스크(20)와 기판지지조립체(410, 420, 430)에 지지된 기판(10)과의 상대 이동에 의하여 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인하는 얼라이너부(330)를 더 포함할 수 있다.At this time, the substrate transfer module is installed in the
상기 마스크지지부(320)는 마스크(20)의 상하 이동 및 얼라인을 위하여 마스크(20)를 저면 쪽에서 지지하는 구성으로서 어떠한 구성도 가능하다.The
일예로서, 상기 마스크지지부(320)는 도 2 및 도 3a에 도시된 바와 같이, 마스크(20)의 저면 중 적어도 일부를 지지하는 지지부재(321)와, 지지부재(321)를 상하로 이동시켜 지지되는 마스크(20)를 상하로 이동시키는 상하이동부(322)를 포함하여 구성될 수 있다.For example, as shown in FIGS. 2 and 3A, the
상기 지지부재(321)는 마스크(20)의 적어도 일부를 지지하여 마스크(20) 전체를 안정적으로 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The
예로서, 상기 지지부재(321)는 도 2 및 도 3a에 도시된 바와 같이, 후술하는 리프트핀(411)의 상하 이동이 가능하도록 상하로 관통형성된 하나 이상의 개구부, 홈 등이 형성될 수 있다. 여기서 상기 지지부재(321)는 마스크(20)를 안정적으로 지지하는 것을 전제로 하나 이상의 개구부, 홈 등이 형성될 수 있음은 물론이다.For example, the
한편 상기 지지부재(321)의 상면에는 마스크(20)와의 정확한 위치 정렬을 위하여 마스크(20)의 저면에 형성된 홈 또는 돌출부에 대응되어 돌출부 또는 홈 형태로 하나 이상의 위치정렬부가 형성될 수 있다.On the other hand, the upper surface of the
상기 상하이동부(322)는 지지부재(321)를 상하로 이동시킬 수 있는 구성이면 스크류잭, 유압실린더 등 어떠한 구성도 가능하다.The shandong
한편 상기 마스크지지부(320)는 마스크(20)의 도입 및 배출 시 마스크(20)를 지지하는 피이송체지지부(210)와 함께 작동과정에 따라서 다양한 형태로 마스크(20)를 지지할 수 있다.Meanwhile, the
예를 들면 상기 피이송체지지부(210)는 마스크(20)의 도입 및 배출 시에만 마스크(20)를 지지하고, 그 나머지 경우에는 마스크지지부(320)가 마스크(20)를 지지할 수 있다.For example, the object to be transferred 210 may support the
또한 상기 피이송체지지부(210)는 마스크(20)의 도입 및 얼라인 전까지 마스크(20)를 지지하고, 마스크지지부(320)에 의하여 지지된 후 마스크(20)의 배출 시에 다시 마스크(20)를 지지할 수 있다.In addition, the object to be transferred 210 supports the
상기 기판지지조립체(410, 420, 430)는 제1게이트(111)를 통하여 도입된 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The
일예로서, 상기 기판지지조립체(410, 420, 430)는 진공챔버(100)에 설치되어 기판(10)의 중앙부분을 지지하는 기판중앙지지조립체(410)와; 진공챔버(100)에 설치되어 기판(10)의 이동방향을 기준으로 전방 및 후방 가장자리를 각각 지지하는 한 쌍의 제1기판외곽지지조립체(420)들과; 진공챔버(100)에 설치되어 기판(10)의 양측 가장자리를 지지하는 한 쌍의 제2기판외곽지지조립체(430)들 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.For example, the
상기 기판중앙지지조립체(410)는 진공챔버(100)에 설치되어 제1게이트(111)를 통하여 도입된 기판(10)의 중앙부분을 지지하여 기판(10)의 처짐을 방지하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다. The substrate
일예로서, 상기 기판중앙지지조립체(410)는 도 1 내지 도 3b, 도 9a 및 도 9b, 및 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 마스크(20)를 상하로 관통하여 상하 이동 가능하도록 설치되는 복수의 리프트핀(411)들과, 복수의 리프트핀(411)들을 상하로 선형구동하는 선형구동부(412)를 포함할 수 있다. 여기서 상기 리프트핀(411)들은 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 밀착된 마스크(20)가 진공챔버(100) 외부로 배출될 때 그 이동에 간섭되지 않도록 그 끝단은 마스크(20)보다 하측에 위치된다.As an example, the substrate
상기 복수의 리프트핀(411)들은 그 끝단에서 기판(10)을 지지하는 구성으로서, 로드 형상을 가질 수 있다.The plurality of lift pins 411 are configured to support the
그리고 상기 복수의 리프트핀(411)들이 설치되는 숫자 및 배치는 기판(10)을 안정적으로 지지할 수 있도록 적절하게 선택 및 설계될 수 있다.In addition, the number and arrangement in which the plurality of lift pins 411 are installed may be appropriately selected and designed to stably support the
한편 상기 기판(10)의 기판처리면 중 리프트핀(411)에 의하여 지지되는 부분은 기판(10)의 유효영역으로 사용될 수 없는 바 기판처리 후의 기판(10)의 유효영역을 최대화하기 위하여 리프트핀(411)에 의하여 지지되는 부분이 효율적으로 설정될 필요가 있다.Meanwhile, a portion of the substrate processing surface of the
따라서 상기 리프트핀(411)이 지지되는 부분은 기판(10)의 유효영역이 아닌부분, 기판표면 중 마스크(20)에 의하여 지지되는 부분-마스크(20)의 개구되지 않은 부분-에서, 기판처리 후 절단될 부분 등이 활용되는 것이 바람직하다.Therefore, the portion where the lift pins 411 are supported is a portion of the substrate that is not an effective region of the
즉, 상기 마스크(20)의 패턴형성부(21)에서 개구되지 않은 부분에서 리프트핀(411)이 관통하여 상하 이동이 가능하도록 하나 이상의 관통공(23)이 형성되고, 리프트핀(411)들 각각은 해당 관통공(23)을 관통하여 상하 이동되도록 설치됨이 바람직하다.That is, one or more through-
한편 상기 얼라이너부(330)에 의하여 마스크(20)가 기판(10)과의 상대 이동에 의하여 얼라인을 수행할 때 리프트핀(411)은 도 9a 및 도 9b, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 기판(10)을 지지한 상태를 유지하는바, 리프트핀(411)이 삽입된 관통공(23)의 내경의 크기가 리프트핀(411)의 외경보다 충분한 크기로 형성되어야 한다.Meanwhile, when the
즉, 상기 관통공(23)은 리프트핀(411)이 기판(10)의 평면방향으로 수평 이동이 가능하도록 그 내주면이 리프트핀(411)의 외주면과 수평 이동간격을 가지도록 형성되어야 한다.That is, the through
여기서 상기 수평 이동간격은 도 9a에 도시된 바와 같이, 실험적으로 리프트핀(411)의 중심이 관통공(23)의 중심에 위치되었을 때 리프트핀(411)의 외주면과 관통공(23)의 내주면과의 간격이 2㎜~5㎜인 것이 바람직하다.Here, as shown in FIG. 9A, the horizontal movement interval is the outer circumferential surface of the
그런데 기판처리의 생산성을 고려할 때 관통공(23)의 내경을 충분한 크기로 확보하기 위하여 마스크(20)의 중 개구되지 않은 부분의 크기를 증가시키는 경우 기판(10)의 유효영역의 면적을 줄여 기판처리의 생산성을 저하시킬 수 있다.However, in consideration of the productivity of substrate processing, when increasing the size of the non-opened portion of the
따라서 상기 마스크(20)의 패턴형성부(21)는 관통공(23)이 형성되는 부분만 그 폭을 확장시켜 형성될 수 있다.Therefore, the
또 다른 방안으로서, 상기 리프트핀(411)은 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 기판(10)을 지지하는 끝단부로부터 마스크(20), 즉 패턴형성부(21) 중 개구되지 않은 부분을 관통하여 상하 이동하는 이동부분(411b)의 외경이 선형구동부와 연결된 연결부분(411a)보다 작게 구성될 수 있다.As another method, the
여기서 상기 리프트핀(411) 중 이동부분(411b)의 외경만을 줄이는 이유는 리프트핀(411)의 외경감소로 인하여 충분한 강성의 확보가 어려워 기판(10)을 안정적으로 지지하는데 한계가 있기 때문이다.The reason for reducing only the outer diameter of the moving
따라서 상기 리프트핀(411)은 마스크(20) 중 개구되지 않은 부분을 관통하여 상하 이동하는 이동부분(411b)의 외경만을 감소시킴으로써 기판(10) 지지를 위한 충분한 강성 확보와 함께 기판(10) 및 마스크(20) 얼라인을 위한 관통공(23)의 내경을 최소화함으로써 기판(10)의 유효영역의 면적에 영향을 주지 않고 기판(10)을 안정적으로 지지할 수 있게 된다.Accordingly, the
상기 선형구동부(412)는 리프트핀(411)들의 상하 이동을 구동하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The
일예로서, 상기 선형구동부(412)는 리프트핀(411)들이 고정 결합되는 리프트플레이트(413)와, 리프트플레이트(413)를 상하로 이동시켜 리프트핀(411)들을 상하구동하는 상하구동부(414)를 포함할 수 있다.For example, the
상기 리프트플레이트(413)는 복수의 리프트핀(411)들의 하단이 고정 결합됨으로써 서로 연동하여 상하 이동을 구동하기 위한 구성으로서, 진공챔버(100) 내 또는 외부에 설치되는 등 다양한 구성이 가능하다.The
상기 상하구동부(414)는 리프트플레이트(413)를 상하로 구동하여 복수의 리프트핀(411)들을 상하로 이동시키는 구성으로서 스크류잭, 유압실린더 등 다양한 구성이 가능하다.The
상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 도 1 내지 3b, 도 9a 내지 도 10b에 도시된 바와 같이, 직사각형의 기판(10)의 가장자리 중 기판이송을 기준으로 전방 및 후방 가장자리를 지지하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.As illustrated in FIGS. 1 to 3b and 9a to 10b, the first substrate
예로서, 상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 진공챔버(100)의 측벽에 설치되는 지지브라켓(423)과; 선형 이동 및 회전 이동 중 적어도 어느 하나에 의하여 기판(10)의 전방 또는 후방 가장자리를 지지하도록 지지브라켓(423)에 선형 이동이 가능하게 설치된 하나 이상의 지지부재(421)와; 지지부재(421)를 기판(10)의 가장자리로 전진 또는 후퇴하는 선형 이동을 구동하는 선형구동부를 포함할 수 있다.For example, the first substrate
상기 지지브라켓(423)은 후술하는 선형구동부의 전부 또는 일부를 지지하기 위한 구성으로서 선형구동부의 구조에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The
상기 지지부재(421)는 선형 이동에 의하여 기판(10)의 가장자리를 지지하기 위한 구성으로서, 복수 개로 설치되고, 기판(10)을 가장자리에서 지지함을 고려하여 'L'자 형상을 가지는 것이 바람직하다.The
상기 선형구동부는 지지부재(421)의 선형 이동을 구동하기 위한 구성으로서 그 구동방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The linear driving unit is a configuration for driving the linear movement of the
예로서, 상기 선형구동부는 복수의 지지부재(421)들이 결합됨과 아울러, 지지브라켓(423)에 선형 이동 가능하게 설치된 구동부재(422)와; 기판(10)의 측방에 대응되는 측벽의 외면에 결합되어 구동력을 발생시키는 구동원(424)과; 지지브라켓(423)에 설치되어 구동원(424)으로부터 구동력을 전달받아 구동부재(422)의 선형 이동으로 전환시키는 선형전환부를 포함할 수 있다.For example, the linear driving part includes a driving
상기 구동부재(422)는 기판(10)의 가장자리를 지지하는 복수의 지지부재(421)들을 한번에 선형구동하기 위한 구성으로서, 복수의 지지부재(421)들이 결합될 수 있는 구성이면 플레이트 등 다양한 구성들이 가능하다.The driving
또한 상기 구동부재(422)는 지지브라켓(423)에 설치된 가이드레일을 따라서 선형 이동되도록 설치되는 등 지지브라켓(423)에 선형 이동이 가능하도록 결합된다.In addition, the driving
상기 구동원(424)은 기판(10)의 측방에 대응되는 진공챔버(100)의 측벽의 외면에 결합되어 구동부재(422)의 선형 이동을 위한 구동력을 발생시키기 위한 구성으로서, 회전 구동력을 발생시키는 회전모터, 선형 구동력을 발생시키는 유압실린더 등 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 구동원(424)은 진공챔버(100)의 측벽 이외에 진공챔버(100)의 천정에 결합될 수도 있음은 물론이다.The driving
상기 선형전환부는 구동원(424)의 구동력을 구동부재(422)의 선형 이동으로 전환하기 위한 구성으로서, 구동원(424)이 발생시키는 구동력에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The linear switching unit is configured to convert the driving force of the driving
예를 들면, 상기 구동원(424)이 발생시키는 구동력은 회전력일 때, 선형전환부는 회전력을 선형 이동으로 전환시키도록 구성될 수 있다.For example, when the driving force generated by the driving
구체적으로 상기 선형전환부는 도 11a 및 도 12b에 도시된 바와 같이, 회전력을 발생시키는 구동원(424)의 회전구동에 의하여 스크류잭과 같은 선형 이동장치에 의하여 구동부재(422)의 이동방향과 수직방향으로 선형 이동되는 구동블록(426)과; 일단이 구동블록(426)에 힌지 결합되고 타단이 구동부재(422)와 힌지 결합되어 구동부재(422)의 선형 이동방향으로 이동방향을 전환시키는 링크부재(425)를 포함할 수 있다.Specifically, as shown in FIGS. 11A and 12B, the linear switching unit is perpendicular to the moving direction of the driving
또 다른 예로서, 상기 선형전환부는 랙과 피니언 조합, 또는 캠 및 탄성부재 조합 등 다양하게 구성될 수 있다.As another example, the linear conversion unit may be configured in various ways, such as a rack and pinion combination, or a cam and elastic member combination.
한편 상기 구동원(424)은 구동부재(422)의 선형 이동방향과 수직인 선형구동방향으로 선형구동할 때, 선형전환부는 선형구동방향을 구동부재(422)의 선형 이동방향으로 이동방향을 전환시키도록 구성될 수 있다.Meanwhile, when the driving
상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 상기와 같은 선형전환부의 구성에 의하여 지지부재(421)의 선형구동이 가능하여 게이트 부근, 즉 기판(10)의 이동방향을 기준으로 전방 및 후방 가장자리의 지지가 가능하여 기판(10)을 보다 안정적으로 지지할 수 있는 이점이 있다.The first substrate
한편 상기와 같은 구성을 가지는 상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 본 발명에 따른 기판이송모듈의 구성 이외에 진공챔버(100) 내에 도입되는 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로 응용될 수 있음은 물론이다.Meanwhile, the first substrate
또한 상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 본 실시예에서는 선형 이동에 의하여 기판(10)을 지지하는 것으로 설명하였으나, 도 8a 내지 도 8c에 도시된 마스크홀더분리부(360)과 유사하게 회전 이동에 의하여 기판(10)을 지지하도록 구성될 수 있음은 물론이다.In addition, the first substrate
더 나아가 상기 제1기판외곽지지조립체(420)는 기판(10)을 지지하는 부분이 상하로 이동가능하게 구성, 즉 선형 이동 및 회전 이동의 조합에 의하여 기판(10)을 지지하도록 구성될 수 있음은 물론이다.Furthermore, the first substrate
상기 제2기판외곽지지조립체(430)는 진공챔버(100)에 설치되어 기판(10)의 양측 가장자리를 지지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 제2기판외곽지지조립체(430)가 기판(10)을 지지하는 원리는 제1기판외곽지지조립체(420)The second substrate
구체적으로, 상기 제2기판외곽지지조립체(430)는 한 쌍의 제1기판외곽지지조립체(420)들에 의하여 기판(10)의 전방 및 후방 가장자리가 지지될 때 선형 이동 및 회전 이동 중 적어도 어느 하나에 의하여 기판(10)의 양측 가장자리들을 지지하도록 구성된다.Specifically, the second substrate
일예로서, 상기 제2기판외곽지지조립체(430)는 도 1 내지 도 3b, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 진공챔버(100)의 측벽에 설치되는 지지브라켓(433)과; 선형 이동에 의하여 기판의 측방 가장자리를 지지하도록 지지브라켓(433)에 선형 이동이 가능하게 설치된 하나 이상의 지지부재(431)와; 지지부재(431)를 기판(10)의 측방 가장자리로 전진 또는 후퇴하는 선형 이동을 구동하는 선형구동부(434)를 포함하여 구성될 수 있다.As an example, the second substrate
한편 상기 제1기판외곽지지조립체(420) 및 제2기판외곽지지조립체(430)는 각각 하나 이상의 지지부재(421, 431) 및 선형구동부(434)를 하나의 기판리프팅유닛으로 하여 하나 이상으로 설치될 수 있다.Meanwhile, the first substrate
예를 들면, 상기 제2기판외곽지지조립체(430)는 도 1, 도 2 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 3개의 기판리프팅유닛이 설치될 수 있다.For example, the second substrate
상기 얼라이너부(330)는 마스크지지부(320)에 지지된 마스크(20)를 기판(10)에 대하여 서로 평행하게 상대 이동시켜 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The
일예로서, 상기 얼라이너부(330)는 마스크지지부(320)에 설치되어 마스크(20)를 기판(10)에 대하여 평면방향(예를 들면, X1, X2, Y, 또는 X, Y, θ 등)으로 상대 이동, 즉 마스크지지부(320)를 상대 이동시켜 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인을 수행하도록 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.As an example, the
여기서 상기 진공챔버(100)는 얼라이너부(330)에 의한 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인을 위하여 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 이미지를 획득하기 위한 복수의 카메라장치(미도시)가 설치된다.Here, the
상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 기판이송모듈에 의한 기판이송방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the substrate transfer method by the substrate transfer module according to the present invention having the configuration as described above in detail as follows.
본 발명에 따른 기판이송방법은 도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)가 진공챔버(100) 내로 도입되는 마스크도입단계(S10)와; 마스크도입단계(S10) 후에 마스크(20) 및 마스크홀더(30)를 분리하는 마스크홀더분리단계(S20)와; 마스크홀더분리단계(S20) 후에 마스크(20)와 마스크홀더(30) 사이에 기판(10)을 도입하는 기판도입단계(S30)와; 기판도입단계(S30) 후에 마스크(20) 및 기판(10)을 상대 이동시켜 얼라인하는 얼라인단계(S40)와; 얼라인단계(S40) 후에 마스크(20), 기판(10) 및 마스크홀더(30)를 밀착시키는 밀착단계(S50)와; 밀착단계(S50) 후에 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)를 진공챔버(100)로부터 배출하는 마스크배출단계(S60)를 포함한다.13 and 14, the substrate transfer method according to the present invention includes a mask introduction step (S10) in which the
상기 마스크도입단계(S10)는 마스크(20)가 진공챔버(100) 내로 도입되는 단계로서, 도 13 및 도 14a에 도시된 바와 같이, 마스크(20)가 제2게이트(112)로 도입될 때 피이송체지지부(210)는 상측으로 이동하여 마스크(20)를 지지하여 도입한다. 여기서 마스크(20)는 마스크홀더(30)와 결합된 상태로 도시하였으나 별도로 도입될 수 있음은 물론이다.The mask introduction step S10 is a step in which the
한편 상기 마스크홀더분리단계(S20)는 마스크도입단계(S10) 후에 마스크(20) 및 마스크홀더(30)를 상호 분리하는 단계이다.Meanwhile, the mask holder separation step S20 is a step of separating the
상기 마스크홀더분리단계(S20)는 마스크(20) 및 마스크홀더(30)의 분리방법에 따라서 다양하게 수행될 수 있다.The mask holder separation step S20 may be variously performed according to a separation method of the
예로서, 상기 마스크홀더분리단계(S20)는 도 14b에 도시된 바와 같이, 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)가 하강하고, 마스크(20)가 하강하면서 마스크홀더(30)가 마스크홀더분리부(360)에 의하여 직접 또는 탭(31)이 지지되어 마스크(20)로부터 분리되어 수행될 수 있다.For example, in the mask holder separation step S20, as shown in FIG. 14B, the
여기서 상기 마스크(20)는 마스크(20)가 마스크홀더(30)와 분리되어 충분한 간격을 가질 때까지 추가하강하는 것이 바람직하다.Here, the
한편 상기 마스크(20)의 하강은 마스크(20)의 지지형태에 따라서 다양하게 이루어질 수 있다.On the other hand, the lowering of the
먼저 상기 마스크(20)는 피이송체지지부(210)에 지지되어 도입된 후 마스크지지부(320)에 의하여 지지되고 피이송체지지부(210)는 하측, 특히 배출게이트(113)와 같은 마스크(20)의 배출위치로 이동한다.First, the
여기서 물론 상기 피이송체지지부(210)는 도입게이트(112) 및 배출게이트(113)에 대응되어 상부 피이송체지지부 및 하부 피이송체지지부로 설치되며, 상부 피이송체지지부는 마스크(20)가 마스크지지부(320)에 지지되어 하부 피이송체지지부로 전달되도록 이동될 때 간섭되는 것을 방지하기 위하여 폭방향으로 이동 가능하게 설치된다. 여기서 상기 상부 피이송체지지부 및 하부 피이송체지지부는 도입게이트(112) 및 배출게이트(113)에 각각에 대응되어 상하방향이 없는 고정된 상태를 유지한다.Here, of course, the
그리고 상기 마스크지지부(320)는 하강에 의하여 지지하고 있는 마스크(20)를 하강하여 앞서 설명한 바와 같이, 마스크홀더(30)를 분리한다.The
상기 마스크(20)의 하강의 다른 방식으로서, 피이송체지지부(210)에 지지되어 도입된 후 피이송체지지부(210) 자체의 하강에 의하여 마스크(20) 또한 같이 하강될 수 있다.As another method of lowering the
한편 상기 마스크홀더(30)의 분리위치는 제2게이트(112), 특히 마스크(20) 마스크홀더(30)와 거의 동일한 위치 또는 마스크(20) 도입시 마스크홀더(30)와의 간섭을 방지하기 위하여 약간 낮게 위치될 수 있다.On the other hand, the separation position of the
한편 상기 마스크홀더분리단계(S20)는 마스크(20)의 하강에 의하여 마스크홀더(30)가 분리되는 대신에, 별도의 마스크홀더분리장치를 구비하여 마스크홀더(30)를 들어올려 마스크(20)로부터 분리할 수 있다. 여기서 상기 마스크홀더분리장치는 후술하는 얼라인단계(S40) 후에 마스크홀더(30)를 하강시켜 마스크(20)에 다시 밀착시킬 수 있다.Meanwhile, in the mask holder separation step S20, instead of the
상기 기판도입단계(S30)는 마스크홀더분리단계(S20) 후에 마스크(20)와 마스크홀더(30) 사이에 기판(10)을 도입하는 단계로서, 도 14b에 도시된 바와 같이, 로봇(도 10a 및 도 10b에서 40) 등에 의하여 기판(10)이 제1게이트(111)를 통하여 도입되어 수행되며 로봇(40) 및 기판지지조립체(410, 420. 430) 사이의 기판전달에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.The substrate introduction step (S30) is a step of introducing the
특히 상기 기판도입단계(S30)는 로봇(40)에 의하여 제1게이트(111)를 통하여 기판(10)이 도입되는 기판인입단계와; 하나 이상의 기판지지조립체(410, 420. 430)에 의하여 기판(10)이 지지되는 기판지지단계를 포함할 수 있다.In particular, the substrate introduction step (S30) includes a substrate introduction step in which the
상기 기판인입단계는 로봇(40)에 의하여 제1게이트(111)를 통하여 기판(10)이 도입되는 단계로서, 로봇(40)은 수평 이동에 의하여 기판(10)을 진공챔버(100) 내로 도입한 후 상승하고, 기판지지단계 후에 하강한 후 진공챔버(100) 외부로 수평 이동되어 수행될 수 있다.The substrate introduction step is a step in which the
또한 상기 로봇(40)은 수평 이동에 의하여 기판(10)을 진공챔버(100) 내로 도입한 후 하강하고, 기판지지단계 후에 진공챔버(100) 외부로 수평 이동되어 수행될 수 있다. In addition, the
이때 상기 로봇(40)은 외부로 수평 이동되기 전에 상승한 후 진공챔버(100) 외부로 수평 이동될 수도 있다. 여기서 물론 상기 하나 이상의 기판지지조립체(410, 420. 430)에 의하여 기판(10)이 충분히 상측으로 이동된 후에 로봇(40)이 외부로 수평 이동되기 전에 상승한 후 진공챔버(100) 외부로 수평 이동될 수 있음은 물론이다.In this case, the
한편 상기 기판지지단계는 하나 이상의 기판지지조립체(410, 420. 430)에 의하여 기판(10)이 지지되는 단계로서, 기판인입단계 후에, 기판지지조립체(410, 420. 430)에 의하여 기판(10)이 지지되어 수행된다.The substrate supporting step is a step in which the
상기 기판지지단계의 구체적인 예로서, 도 14b 및 도 14c에 도시된 바와 같이, 로봇(40)이 상승한 후에 기판중앙지지조립체(410)에 의하여 제1 및 제2기판외곽지지조립체(420, 430)들에 의하여 양측방, 전방 및 후방 가장자리부분의 지지에 의하여 기판(10)이 지지된 후, 로봇(40)은 하강 후 진공챔버(100) 외부로 후퇴한다.As a specific example of the substrate supporting step, as shown in FIGS. 14B and 14C, after the
여기서 상기 로봇(40)은 기판지지조립체(410, 420. 430)와의 기판전달시 타 부재와의 간섭을 고려하여 적절한 형상을 가질 수 있다.The
상기 로봇(40)으로부터 기판지지조립체(410, 420. 430)로의 기판전달에 관하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The substrate transfer from the
먼저 상기 로봇(40)은 기판(10)을 암과 같은 지지부에 기판(10)을 지지한 상태로 진공챔버(100) 내로 진입한다.First, the
상기 로봇(40)의 진입 후 기판지지조립체(410, 420. 430)는 기판(10)의 지지를 위하여 상승, 수평 이동 등 그 구성 및 위치에 따라서 기판지지를 위하여 이동한다.After the
예를 들면, 앞서 설명한 제1 및 제2기판외곽지지조립체(420, 430)는 도 3b, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 이동에 의하여 기판(10)의 양측방, 전방 및 후방 가장자리부분을 지지하며, 기판중앙지지조립체(410)는 리프트핀(411)이 상승하여 기판(10)의 중앙부분을 지지한다.For example, the first and second substrate
이때 상기 제1 및 제2기판외곽지지조립체(420, 430) 및 기판중앙지지조립체(410)는 동시에 또는 순차적으로 구동될 수 있다.In this case, the first and second substrate
한편 상기 제1 및 제2기판외곽지지조립체(420, 430) 및 기판중앙지지조립체(410)에 의하여 기판(10)이 지지되면, 로봇(40)은 진공챔버(100) 외부로 후퇴한다.Meanwhile, when the
상기 얼라인단계(S40)는 도 14c에 도시된 바와 같이, 기판도입단계(S30) 후에 마스크(20) 및 기판(10)을 상대 이동시켜 얼라인하는 단계로서 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인방식에 따라서 다양한 방식에 의하여 수행될 수 있다.The alignment step S40 is a step of aligning and moving the
즉, 상기 얼라인단계(S40)는 로봇(40)의 후퇴 후 얼라이너부(330)가 마스크(20) 및 기판(10)을 상대 이동시킴으로써 얼라인을 수행한다. 여기서 상기 마스크(20)는 얼라인단계(S40)의 수행을 위하여 마스크지지부(320)에 의하여 지지된 상태에 있다.That is, in the alignment step S40, the
상기 얼라인단계(S40)는 앞서 설명한 바와 같이, 카메라장치가 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 이미지를 획득하여 마스크(20) 및 기판(10)의 편차를 계산하고, 마스크지지부(320)에 지지된 마스크(20)를 기판(10)에 대하여 평면방향(예를 들면, X1, X2, Y, 또는 X, Y, θ 등)으로 상대 이동, 즉 마스크지지부(320)를 상대 이동시켜 기판(10)과 마스크(20)의 얼라인이 수행된다.In the alignment step S40, as described above, the camera apparatus obtains an image of the
한편 상기 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인시 기판(10)에 대한 마스크(20)의 수평방향으로의 상대 이동이 이루어지는바 리프트핀(411)들이 관통하는 관통공(23)의 내경은 충분한 크기를 가짐으로써 기판(10)에 대한 마스크(20)의 수평방향으로의 상대 이동이 방해받지 않는다.Meanwhile, when the
상기 밀착단계(S50)는 얼라인단계(S40) 후에 마스크(20)를 상승시켜 마스크(20), 기판(10) 및 마스크홀더(30) 순으로 밀착시키는 단계로서, 마스크홀더(30)와의 밀착방식에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.The adhesion step S50 is a step of raising the
예로서, 상기 밀착단계(S50)는 얼라인단계(S40) 후에 마스크지지부(320)의 상승에 의하여 도 14d에 도시된 바와 같이, 마스크지지부(320)가 지지하고 있는 마스크(20)를 상측으로 이동시켜 마스크홀더(30)와 기판(10) 개재된 상태로 밀착된다.For example, the close contacting step S50 may be performed by raising the
상기 마스크배출단계(S60)는 밀착단계(S50) 후에 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 결합된 마스크(20)를 진공챔버(100)로부터 배출하는 단계로서, 다양한 방식에 의하여 수행될 수 있다.The mask discharging step S60 is a step of discharging the
예로서, 상기 마스크배출단계(S60)는 마스크(20)가 기판(10) 및 마스크홀더(30)에 밀착된 후, 마스크지지부(320)는 다시 하강하여, 도 14e에 도시된 바와 같이, 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 밀착된 마스크(20)는 피이송체지지부(210)에 다시 지지된 후 진공챔버(100)의 외부로 배출되어 수행된다. For example, in the mask discharging step S60, after the
여기서 상기 기판(10)이 밀착된 마스크(20)와 재결합된 후 마스크홀더(30)가 하강할 수 있도록 마스크홀더분리부(360)에 의한 탭(31)의 지지가 해제된다.Here, the support of the
그리고 상기 피이송체지지부(210)의 위치는 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 밀착된 마스크(20)가 제2게이트(112)-제2게이트(112, 113)가 도입게이트(112) 및 배출게이트(113)로 구성된 경우 배출게이트(113)-를 통하여 배출될 수 있는 위치에 위치된다.In addition, the position of the object to be transferred 210 is a
한편 상기 마스크지지부(320)가 하강할 때 기판중앙지지조립체(410)의 리프트핀(411)들은 기판(10) 및 마스크홀더(30)가 밀착된 마스크(20)의 배출에 방해되지 않도록 충분히 하강한다.Meanwhile, when the
또한 상기 마스크배출단계(S60)는 마스크(20)의 하강 이외에 더 상승하거나 상승된 상태에서 외부로 배출되는 등 다양한 방식에 의하여 수행될 수 있음을 물론이다.In addition, the mask discharge step (S60) may be performed by various methods, such as being discharged to the outside in a raised or raised state in addition to the falling of the
상기와 같은 단계들을 거쳐 본 발명에 따른 기판이송모듈은 기판(10)의 도입 및 마스크(20) 및 마스크홀더(30) 사이에서 얼라인 및 밀착된 상태로 진공챔버(100)로부터 배출되어 기판처리를 위한 기판처리모듈로 전달된다.Through the above steps, the substrate transfer module according to the present invention is discharged from the
한편 상기 밀착단계(S50) 후 및 배출단계(S60) 전에는 기판(10) 및 마스크(20)가 밀착 후 얼라인이 제대로 이루어졌는지 검사하는 얼라인검사단계가 추가로 수행될 수 있다.On the other hand, after the adhesion step (S50) and before the discharge step (S60), an alignment inspection step of inspecting whether the alignment is properly performed after the
상기 얼라인검사단계는 마스크홀더(30)에 형성된 개구부를 통하여 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 이미지를 카메라장치를 통하여 획득하고 획득된 이미지를 분석하여 수행된다.The alignment inspection step is performed by acquiring images of the
한편 상기 얼라인검사단계에서 얼라인이 정상적으로 이루어진 것으로 판단되면, 배출단계(S60)를 수행하고, 비정상적으로 이루어진 것으로 판단-얼라인이 충분히 이루어지지 않은 것으로 판단-되면 마스크(20) 및 기판(10)을 하강시키고 마스크(20) 및 기판(10)을 분리한 후 얼라인단계(S40)부터 다시 수행하도록 할 수 있다.On the other hand, if it is determined that the alignment is normally performed in the alignment inspection step, the discharge step (S60) is performed, and it is determined that the abnormality is made-if it is determined that the alignment is not sufficiently made-the
여기서 상기 마스크(20) 및 기판(10)은 다양한 방법에 분리될 수 있는데, 예로서, 마스크(20)를 지지하는 마스크지지부(320)가 하강함과 아울러 기판지지조립체(410, 420, 430)가 기판(10)을 지지할 수 있는 위치로 이동함으로써 기판지지조립체(410, 420, 430)에 의한 기판(10)의 지지 및 마스크지지부(320)의 추가 하강에 따라 마스크(20) 및 기판(10)은 서로 분리된다.The
한편 상기 얼라인검사단계에서 얼라인이 정상적으로 이루어진 것으로 판단되면, 상기 배출단계를 수행하고, 비정상적으로 이루어진 것으로 판단되면, 청각 및 시각 중 적어도 어느 하나를 통하여 이상신호를 작업자에게 알릴 수 있다.On the other hand, if it is determined that the alignment is normally performed in the alignment inspection step, the discharge step is performed, and if it is determined that the abnormality is made, the abnormal signal may be notified to the worker through at least one of hearing and vision.
또한 상기 얼라인검사단계에서 얼라인이 정상적으로 이루어진 것으로 판단되면, 상기 배출단계를 수행하고, 비정상적으로 이루어진 것으로 판단되면, 작동을 멈출 수 있다.
In addition, when it is determined that the alignment is normally performed in the alignment inspection step, the discharge step may be performed, and when it is determined that the alignment is abnormally performed, the operation may be stopped.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.
100 : 진공챔버
210 : 피이송체지지부 220 : 승하강구동부
230 : 가이드부재
500 : 변형흡수결합부재100: Vacuum chamber
210: carrier body 220: lifting and lowering drive
230: guide member
500: deformation absorbing coupling member
Claims (16)
피이송체를 지지하며, 상기 진공챔버 내에 상하 이동이 가능하게 설치되는 한 쌍의 피이송체지지부들과;
상기 진공챔버와 결합되어 상기 한 쌍의 피이송체지지부들의 상하 이동을 구동하는 승하강구동부와;
상기 진공챔버에 설치되어 상기 피이송체지지부들의 상하 이동을 가이드하는 복수의 가이드부재들과;
일단이 상기 가이드부재의 상단부분 및 하단부분 중 적어도 어느 하나에 결합되고 타단이 상기 진공챔버에 결합되어 상기 진공챔버 내의 진공압에 의하여 상기 진공챔버가 변형될 때 그 변형을 흡수하는 변형흡수결합부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.A vacuum chamber forming an enclosed inner space;
A pair of to-be-carried bodies supporting the object to be conveyed and installed in the vacuum chamber so as to be movable up and down;
A lifting and lowering drive unit coupled to the vacuum chamber to drive vertical movement of the pair of carrier objects;
A plurality of guide members installed in the vacuum chamber to guide vertical movement of the support body;
One end is coupled to at least one of the upper end and the lower end of the guide member and the other end is coupled to the vacuum chamber, the deformation absorbing coupling member for absorbing the deformation when the vacuum chamber is deformed by the vacuum pressure in the vacuum chamber Substrate transfer module comprising a.
상기 가이드부재는 봉 형상을 가지며,
상기 봉 형상의 가이드부재들 각각은 상기 피이송체지지부의 상하이동을 가이드하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to claim 1,
The guide member has a rod shape,
Each of the rod-shaped guide members is a substrate transfer module, characterized in that for guiding the shangdong.
상기 가이드부재들은 4개로 설치되어 각 위치가 직사각형의 꼭지점에 대응되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to claim 1,
The guide member is installed in four substrate transfer module, characterized in that each position corresponds to the vertex of the rectangle.
상기 피이송체지지부는 피이송체의 저면을 지지하는 복수의 가이드롤러들과, 상기 가이드롤러들이 회전가능하게 설치되는 프레임부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to claim 1,
The substrate transport module includes a plurality of guide rollers for supporting the bottom surface of the object to be transported, and a frame member to which the guide rollers are rotatably installed.
상기 프레임부재는 상기 가이드부재가 상하로 관통하여 삽입되는 가이드공이 형성된 가이드블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 4,
The frame member is a substrate transfer module, characterized in that it comprises a guide block formed with a guide hole through which the guide member is inserted up and down.
상기 한 쌍의 피이송체지지부의 프레임부재들은 하나 이상의 연결부재를 통하여 서로 연결되며,
상기 승하강구동부는 상기 연결부재를 상하로 이동시킴으로써 상기 피이송체지지부를 상하 이동을 구동하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 4,
The frame members of the pair of carrier objects are connected to each other through one or more connecting members,
And the elevating driving part moves the connecting member up and down to drive the conveying member support part up and down.
상기 변형흡수결합부재는 상기 진공챔버가 변형되면서 상기 진공챔버의 변위량이 큰 쪽에 노치가 형성된 실린더부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to any one of claims 1 to 6,
The deformation absorbing coupling member is a substrate transfer module, characterized in that the vacuum chamber is deformed and includes a cylinder member formed with a notch on the larger displacement amount of the vacuum chamber.
상기 노치는 상기 실린더부재에서 횡방향으로 일부가 절개되어 형성된 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
The notch substrate transfer module, characterized in that formed by cutting a portion in the transverse direction in the cylinder member.
상기 실린더부재는 상기 가이드부재가 삽입되는 끝단에서 길이방향으로 절개부가 형성되고,
상기 실린더부재에 조임부재가 설치되고, 상기 조임부재는 상기 가이드부재가 삽입된 후 상기 실린더부재가 상기 가이드부재를 향하는 방향으로 조임력을 가하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
The cylinder member is formed with an incision in the longitudinal direction at the end of the guide member is inserted,
The fastening member is installed in the cylinder member, the tightening member is a substrate transfer module, characterized in that for applying the tightening force in the direction of the cylinder member toward the guide member after the guide member is inserted.
상기 조임부재는 상기 실린더부재 중 상기 절개부에 의하여 절개된 부분에서 면접하는 방향으로 결합시키는 볼트인 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 9,
The tightening member is a substrate transfer module, characterized in that the bolt coupled in the direction of the interview in the portion cut by the cut out of the cylinder member.
상기 실린더부재는 상기 진공챔버에 결합되는 끝단에 플랜지부가 형성되고 상기 플랜지부는 하나 이상의 나사에 의하여 상기 진공챔버에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
The cylinder member is a substrate transfer module, characterized in that the flange portion is formed at the end coupled to the vacuum chamber and the flange portion is coupled to the vacuum chamber by one or more screws.
상기 진공챔버 내로의 피이송체의 도입 또는 배출 시 상기 한 쌍의 피이송체지지부들은 각각 상기 피이송체의 양단을 지지하여 그 선형이동을 가이드하는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
And a pair of carriers supporting each end of the carrier to guide the linear movement during introduction or discharge of the carrier into the vacuum chamber.
상기 가이드부재는 일단이 상기 진공챔버의 천정 또는 측벽에 결합되고, 타단은 상기 진공챔버의 바닥 또는 측벽에 결합되며,
상기 가이드부재의 양단 중 적어도 어느 하나는 상기 변형흡수결합부재가 개재되어 상기 진공챔버에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
The guide member has one end coupled to the ceiling or sidewall of the vacuum chamber, the other end is coupled to the bottom or sidewall of the vacuum chamber,
At least one of both ends of the guide member is a substrate transfer module, characterized in that coupled to the vacuum chamber via the deformation absorption coupling member.
상기 진공챔버는 그 측벽의 벽면과 간격을 두고 상기 측벽의 가장자리에서 결합된 보조부재가 설치되며,
상기 가이드부재는 일단이 상기 진공챔버의 천정 또는 상기 보조부재에 결합되고, 타단은 상기 진공챔버의 천정 또는 상기 보조부재에 결합되며,
상기 가이드부재의 양단 중 적어도 어느 하나는 상기 변형흡수결합부재가 개재되어 상기 진공챔버에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method of claim 7,
The vacuum chamber is provided with an auxiliary member coupled at the edge of the side wall at intervals from the wall surface of the side wall,
The guide member has one end coupled to the ceiling or the auxiliary member of the vacuum chamber, the other end is coupled to the ceiling or the auxiliary member of the vacuum chamber,
At least one of both ends of the guide member is a substrate transfer module, characterized in that coupled to the vacuum chamber via the deformation absorption coupling member.
상기 가이드부재는 일단이 상기 진공챔버의 천정 또는 측벽에 결합되고, 타단은 상기 진공챔버의 바닥 또는 측벽에 결합되며,
상기 가이드부재의 양단 중 적어도 어느 하나는 상기 변형흡수결합부재가 개재되어 상기 진공챔버에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to any one of claims 1 to 6,
The guide member has one end coupled to the ceiling or sidewall of the vacuum chamber, the other end is coupled to the bottom or sidewall of the vacuum chamber,
At least one of both ends of the guide member is a substrate transfer module, characterized in that coupled to the vacuum chamber via the deformation absorption coupling member.
상기 진공챔버는 그 측벽의 벽면과 간격을 두고 상기 측벽의 가장자리에서 결합된 보조부재가 설치되며,
상기 가이드부재는 일단이 상기 진공챔버의 천정 또는 상기 보조부재에 결합되고, 타단은 상기 진공챔버의 천정 또는 상기 보조부재에 결합되며,
상기 가이드부재의 양단 중 적어도 어느 하나는 상기 변형흡수결합부재가 개재되어 상기 진공챔버에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판이송모듈.The method according to any one of claims 1 to 6,
The vacuum chamber is provided with an auxiliary member coupled at the edge of the side wall at intervals from the wall surface of the side wall,
The guide member has one end coupled to the ceiling or the auxiliary member of the vacuum chamber, the other end is coupled to the ceiling or the auxiliary member of the vacuum chamber,
At least one of both ends of the guide member is a substrate transfer module, characterized in that coupled to the vacuum chamber via the deformation absorption coupling member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020120103381A KR101856111B1 (en) | 2012-09-18 | 2012-09-18 | Substrate transfer module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020120103381A KR101856111B1 (en) | 2012-09-18 | 2012-09-18 | Substrate transfer module |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140044976A true KR20140044976A (en) | 2014-04-16 |
KR101856111B1 KR101856111B1 (en) | 2018-05-09 |
Family
ID=50652655
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KR20160141270A (en) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | Organic light emitting diode and method of fabricating the same |
WO2022177370A1 (en) * | 2021-02-19 | 2022-08-25 | 주식회사 플라즈맵 | Plasma treatment device and method using same |
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