KR20140030527A - Exposure device for large-area and uniformity of light - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an exposure apparatus capable of uniformly exposing a substance with a large area to be exposed through a single exposure process. The uniform light exposure apparatus for a large area according to the present invention is able to uniformly irradiate ultraviolet on a display panel of a large area which is a substrate to be exposed through a single exposure process by using an ultraviolet guide part, is able to prevent the stain phenomenon of the display panel capable of being generated by the non-uniform exposure of ultraviolet, increases productivity by reducing exposure time and is able to reduce power consumption. Additionally, the exposure apparatus is able to perform an exposure process without a lens and a mirror, does not need an additional excessive cooling device and is able to reduce manufacture costs and installation costs by the simplification of a structure, reduction of a volume and the lightness of an equipment as compared to an existing exposure apparatus. [Reference numerals] (AA) Substrate to be exposed (display panel)

Description

대면적 광 균일 노광장치{EXPOSURE DEVICE FOR LARGE-AREA AND UNIFORMITY OF LIGHT}EXPOSURE DEVICE FOR LARGE-AREA AND UNIFORMITY OF LIGHT [0002]

본 발명은 대면적 광 균일 노광장치에 관한 것으로, 더 자세하게는 한번의 노광 공정을 통해서 대면적의 피노광체를 균일하게 노광시킬 수 있는 노광장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a large-area light uniform exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus capable of uniformly exposing a large-area exposed object through a single exposure process.

일반적으로 노광장치라 함은 광원으로부터 발산되는 빛(자외선)을 원하는 패턴이 형성된 마스크를 통해 빛에 반응하는 물질인 감광액(Photo-resist)이 코팅된 피노광체에 쬐어줌으로써, 피노광체에 원하는 패턴을 전사시키는 장치를 말한다.Generally, an exposure apparatus refers to an apparatus that irradiates light (ultraviolet rays) emitted from a light source onto an object to be exposed coated with a photo-resist through a mask having a desired pattern formed thereon, Refers to a device to transfer.

이러한 노광장치는 LCD(liquid crystal display), PDP(Plasma Display Panel), PCB(Printed Circuit Board), OLED(Organic Light Emitting Diode) 등의 디스플레이 제품의 패널 제조공정에서 널리 사용되고 있다. Such an exposure apparatus is widely used in panel manufacturing processes for display products such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a printed circuit board (PCB), and an organic light emitting diode (OLED).

도 1은 디스플레이 제품의 제조공정에서 일반적으로 사용되는 노광장치의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing the structure of an exposure apparatus generally used in a manufacturing process of a display product.

도 1을 참조하면, 노광장치는 광원(110)으로부터 발생된 빛(자외선)을 포토마스크(130)의 패턴을 통해 감광막(150)에 조사하여 감광막(150)이 패턴 형상으로 노광되도록 하며, 빛(자외선)이 피노광체의 전면에 균일하게 조사될 수 있도록 광원(110)과 피노광체인 감광막(150) 사이에 미러와 렌즈들(M, L1, L2)이 정해진 위치와 각도로 미리 셋팅되는 구조를 갖는다.1, an exposure apparatus irradiates light (ultraviolet rays) generated from a light source 110 onto a photosensitive film 150 through a pattern of a photomask 130 to expose the photosensitive film 150 in a pattern shape, (M, L1, L2) are set in advance at predetermined positions and angles between the light source 110 and the photosensitive film 150, which is an object to be exposed, so that the ultraviolet rays (ultraviolet rays) .

하지만, 이와 같은 구조의 노광장치는 피노광체와 광원 간의 거리가 멀어질수록 빛의 손실이 커져 피노광체에 전달되는 광량(光量)이 적어지기 때문에, 피노광체에 일정량의 광량을 조사시키기 위해서는 대용량의 광원(자외선 램프)을 사용하고 노광시간을 증가시킬 수밖에 없었다.However, in the exposure apparatus having such a structure, as the distance between the object to be exposed and the light source increases, the light loss increases and the amount of light transmitted to the object becomes smaller. A light source (ultraviolet lamp) was used and the exposure time was increased.

이는 결국 노광시간의 증가로 인하여 생산효율이 저조할 수밖에 없음은 물론이고, 대용량의 광원(자외선 램프)을 사용해야 하기 때문에 전력의 소모가 높을 수 밖에 없다는 문제점이 지적되고 있으며, 아울러 대용량의 광원(자외선 램프)에서 발생되는 고온의 열을 냉각시키기 위해 추가로 냉각장치를 구비하거나 방열 부재를 설치해야 하는 것도 문제점으로 지적되고 있다. 실제로, 중대형의 노광장치의 경우에는 25kW정도의 대용량 자외선램프 두 개를 사용하고 있는 실정이어서 그 전력 소모가 막대할 뿐만 아니라, 수백 도가 넘는 열을 냉각하기 위해 별도의 냉각장치를 구비하고 있다.This means that the production efficiency is low due to the increase of the exposure time, and the power consumption is high because a large-capacity light source (ultraviolet lamp) must be used. In addition, a large- It is pointed out that it is necessary to provide a cooling device or a heat dissipating member to cool the high temperature heat generated in the lamp. In fact, in the case of a medium and large-sized exposure apparatus, two large-capacity ultraviolet lamps of about 25 kW are used, and not only the power consumption is large but also a separate cooling device is provided for cooling heat of several hundreds degrees.

또한, 종래의 노광장치는 피노광체의 면적이 변화되는 경우에 미러와 렌즈들(M, L1, L2)을 재 셋팅하여야 하므로, 노광 준비시간의 증가와 그에 따른 생산비용의 증가가 문제점으로 지적되고 있으며, 아울러 광원(110)으로부터 발산되는 빛이 미러와 렌즈(M, L1, L2)를 거치는데 필요한 공간이 확보되어야 하기 때문에 노광장치의 부피도 커질 수밖에 없다는 문제점도 있다. 게다가, 노광장치의 부피가 커짐에 따라 광원으로부터 피노광체가 멀어질수록 자외선이 공기 중에서 소실되어 피노광체로 입사되는 효율이 떨어질 수도 있다. Further, in the conventional exposure apparatus, when the area of the object to be exposed is changed, the mirror and the lenses M, L 1 and L 2 must be reset, and thus an increase in preparation time for exposure and an increase in the production cost are pointed out Also, since a space required for the light emitted from the light source 110 to pass through the mirror and the lenses M, L1 and L2 must be secured, the volume of the exposure apparatus must be increased. In addition, as the volume of the exposure apparatus increases, the farther the object to be exposed is from the light source, the more the ultraviolet light is lost in the air, and the efficiency of entering the object can be reduced.

특히, 종래의 노광장치에서 광원(110)으로부터 발생된 빛은 부채꼴 형태로 퍼져 나가기 때문에 피노광체를 균일하게 노광시키는 것이 사실상 어렵다. 게다가, 대면적의 노광 영역을 노광시키기 위해 다수의 광원을 사용하는 경우, 광원들 간의 조사 광량에도 일정 편차가 있기 때문에 정밀한 노광 공정을 수행하는 것이 매우 어려우며, 이로 인해 대면적 디스플레이 패널에서 화면의 얼룩이 발생할 우려가 있다는 문제점이 있다. 또한, 대면적의 노광 영역을 노광시키기 위해 노광 영역을 분할하여 여러 번에 걸쳐 노광하는 경우, 분할된 경계 부분에서 노광 공정이 중복으로 수행되기 때문에 화면의 얼룩이 발생할 우려가 있다는 문제점이 있다.
Particularly, in the conventional exposure apparatus, light emitted from the light source 110 spreads in a fan shape, so that it is practically difficult to uniformly expose the object to be exposed. In addition, when a plurality of light sources are used to expose a large-area exposure area, it is very difficult to perform a precise exposure process because there is a certain variation in the amount of light irradiated between the light sources. There is a problem that there is a possibility of occurrence. In addition, when the exposure area is divided and exposed several times in order to expose a large-area exposure area, the exposure process is repeatedly performed at the divided boundary, which may cause screen unevenness.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 한번의 노광 공정을 통해서 대면적의 피노광체를 균일하게 노광시킬 수 있는 노광장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus capable of uniformly exposing a large-area exposed object through a single exposure process.

본 발명의 다른 목적은 노광시간을 줄여 생산효율을 증가시키고 전력 소모를 줄일 수 있는 노광장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an exposure apparatus which can reduce the exposure time and increase the production efficiency and reduce power consumption.

본 발명의 또 다른 목적은 렌즈와 미러가 없이도 노광이 가능하고 별도의 냉각장치를 구비할 필요가 없어 구조의 단순화 및 부피의 경량화가 가능한 노광장치를 제공하는 것이다.
It is still another object of the present invention to provide an exposure apparatus which can simplify the structure and reduce the volume of light because it is not necessary to provide a separate cooling device capable of exposure without a lens and a mirror.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 광 균일 노광장치는, 자외선 광원으로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체의 노광 영역으로 균일하게 조사하는 광 균일 조사장치; 상기 광 균일 조사장치를 고정 및 지지하는 프레임; 및 상기 광 균일 조사장치를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for uniformly exposing a large area light uniformly irradiating an ultraviolet light generated from an ultraviolet light source to a surface light source and uniformly irradiating the ultraviolet light to an exposed area of the object; A frame for fixing and supporting the light uniform irradiation device; And a control unit for controlling the light uniform irradiation apparatus.

바람직하게, 상기 광 균일 조사장치는, 자외선을 발생시키는 광원부와, 상기 광원부로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체의 노광 영역으로 균일하게 조사되도록 가이드하는 자외선 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the light uniform illuminating device includes a light source unit for generating ultraviolet light, and an ultraviolet ray guiding unit for converting ultraviolet rays generated from the light source unit into planar light sources and guiding the light to be uniformly irradiated to the exposed areas of the target.

바람직하게, 상기 광 균일 조사장치는 상기 자외선 가이드부로부터 방출되는 자외선을 피노광체 측으로 반사시키는 반사부를 더 포함하며, 상기 반사부는 자외선의 반사가 가능한 은색 또는 백색의 물질을 포함하는 반사시트, 거울, 또는 은박지를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the light uniform illuminator further comprises a reflector for reflecting ultraviolet rays emitted from the ultraviolet ray guiding unit toward the subject, wherein the reflector includes a reflective sheet including a silver or white material capable of reflecting ultraviolet rays, a mirror, Or silver foil.

바람직하게, 상기 광원부는 상기 자외선 가이드부의 적어도 하나 이상의 측면에 배치되며, 자외선을 발생시키는 자외선 광원과, 상기 자외선 광원으로부터 발생된 자외선이 외부로 소실되는 것을 방지함과 동시에 자외선을 상기 자외선 가이드부의 입사면으로 반사시키는 반사판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 여기에서, 상기 자외선 광원은 하나 이상의 점광원인 UV 램프 또는 UV 엘이디(LED)로 구성되거나, 또는 선광원인 UV 램프로 구성되는 것이 바람직하다.Preferably, the light source unit includes an ultraviolet light source disposed on at least one side surface of the ultraviolet ray guiding unit, the ultraviolet light source generating ultraviolet rays, and an ultraviolet light source for preventing ultraviolet rays generated from the ultraviolet light source from being lost to the outside, And a reflector for reflecting the light onto the surface. Here, it is preferable that the ultraviolet light source is constituted by a UV lamp or a UV LED (LED), which is one or more point light sources, or a UV lamp, which is a light source.

바람직하게, 상기 자외선 가이드부는 실리콘 수지, 우레탄, 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, PET), 폴리메틸 메타크릴산(Polymethyl methacrylate, PMMA), MS(Methylmetha acrylate Styrene)를 포함하는 고투명성 수지재료, 납유리, 소다라임 유리(soda lime glass), 붕규산 유리(borosilicate glass), 석영(SiO2), 사파이어 (Al2O3)를 포함하는 투명성 금속산화물, 플루오라이트(Calcium fluoride, CaF2), 플루오르화마그네슘(Magnesium fluoride, MgF2), 징크셀레나이드(ZnSe)를 포함하는 투명 결정성 재료 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Preferably, the ultraviolet ray guide part is made of a silicone resin, a urethane, a polystyrene (PS), a polycarbonate (PC), a polyethylene terephthalate (PET), a polymethyl methacrylate Transparent metal oxides containing a high transparency resin material including lead oxide (Methylmetha acrylate styrene), lead glass, soda lime glass, borosilicate glass, quartz (SiO 2 ), and sapphire (Al 2 O 3 ) , A transparent crystalline material including calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and zinc selenide (ZnSe).

바람직하게, 상기 자외선 가이드부에는 자외선의 균일한 조사를 위해 사출성형, 스템프 성형, 레이저 성형, 브이 커트(V-cut) 성형, 압출성형, 에칭(etching), 샌드블라스팅(sand blasting), 스탬핑(stamping) 중 적어도 어느 하나 이상의 공법을 이용하여 도광 패턴이 형성되는 것을 특징으로 한다.Preferably, the ultraviolet guide portion is formed by injection molding, stamp molding, laser molding, V-cut molding, extrusion molding, etching, sand blasting, stamping stamping the light guide pattern using at least one of the methods.

바람직하게, 상기 대면적 광 균일 노광장치는 피노광체의 노광 영역을 이동하면서 피노광체의 노광 영역으로 자외선을 균일하게 조사하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the large-area uniform-light exposure apparatus uniformly irradiates the ultraviolet light to the exposure area of the object to be exposed while moving in the exposure area of the object to be exposed.

바람직하게, 상기 대면적 광 균일 노광장치는 이동 중인 피노광체의 노광 영역으로 자외선을 균일하게 조사하는 것을 특징으로 한다.
Preferably, the large area uniform-light exposure apparatus uniformly irradiates ultraviolet light to an exposure area of a moving object.

본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치는 자외선 가이드부를 이용하여 한번의 노광 공정을 통해서 피노광체인 대면적의 디스플레이 패널에 자외선을 균일하게 조사할 수 있으며, 이에 따라 불균일한 자외선 노광에 의해 발생할 수 있는 디스플레이 패널의 얼룩 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.The large area uniform exposure apparatus according to the present invention can uniformly irradiate ultraviolet rays onto a large-area display panel which is an object to be exposed through a single exposure process using an ultraviolet ray guiding unit, and thus can be caused by uneven ultraviolet ray exposure The display panel can be prevented from being stained.

그리고, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치는 자외선 가이드부를 이용하여 저전력으로 피노광체인 대면적의 디스플레이 패널에 자외선을 조사할 수 있으므로, 이에 따라 노광시간을 줄여 생산효율을 증가시키고 전력 소모를 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, since the large-area light uniform exposure apparatus according to the present invention can irradiate ultraviolet rays to a large-sized display panel which is an object to be exposed with a low power using an ultraviolet ray guiding unit, it is possible to reduce the exposure time, There is an effect that can be reduced.

또한, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치는 렌즈와 미러가 없이도 노광 공정을 수행할 수 있고, 별도의 과도한 냉각장치를 구비할 필요도 없으므로, 이에 따라 종래의 노광장치에 비하여 구조의 단순화 및 부피의 감소, 장비의 경량화가 가능함으로써 제조비용 및 설비비용을 줄일 수 있는 효과도 있다.
In addition, since the large-area uniform-type exposure apparatus according to the present invention can perform the exposure process without a lens and a mirror and does not need to have a separate excessive cooling apparatus, It is possible to reduce the volume and the weight of the equipment, thereby reducing the manufacturing cost and equipment cost.

도 1은 디스플레이 제품의 제조공정에서 일반적으로 사용되는 노광장치의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 광 균일 노광장치를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2b는 도 2a에 도시된 대면적 광 균일 노광장치의 A-A' 방향의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치를 이용한 노광 공정의 일례를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view schematically showing the structure of an exposure apparatus generally used in a manufacturing process of a display product.
FIG. 2A is a schematic view of a large-area uniform-type exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the large-area uniform-type exposure apparatus shown in FIG.
3 is a view for explaining an example of an exposure process using a large area light uniform exposure apparatus according to the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the technical idea of the present invention.

본 발명의 바람직한 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하거나 간략하게 설명한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2b는 도 2a에 도시된 대면적 광 균일 노광장치(200)의 A-A' 방향의 단면도이다.2A is a schematic view of a large area uniformly illuminated device 200 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a sectional view taken along the AA 'direction of the large area uniformly illuminated device 200 shown in FIG. 2A to be.

먼저, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)는, 자외선 광원을 포함하는 광 균일 조사장치(210)와, 상기 광 균일 조사장치(210)를 고정 및 지지하는 프레임(250)과, 상기 광 균일 조사장치(210)를 제어하는 제어부(미도시)를 포함하여 구성된다.2A and 2B, a large-area uniform-light exposure apparatus 200 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a light uniform illuminator 210 including an ultraviolet light source, And a control unit (not shown) for controlling the light uniform illuminating device 210. The frame 250 may be fixed to the frame 250,

상기 광 균일 조사장치(210)는 자외선을 발생시키는 광원부(220)와, 상기 광원부(220)로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체의 노광 영역으로 균일하게 조사되도록 가이드하는 자외선 가이드부(230)와, 상기 자외선 가이드부(230)로부터 방출되는 자외선을 피노광체인 디스플레이 패널측으로 반사하는 반사부(240)를 포함하여 구성된다.The light uniform illuminator 210 includes a light source 220 for generating ultraviolet light and an ultraviolet guide 230 for guiding the ultraviolet light generated from the light source 220 to be uniformly irradiated to the exposure area of the subject, And a reflector 240 for reflecting the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet ray guiding unit 230 toward the display panel, which is an object to be exposed.

상기 광원부(220)는 자외선을 발생시키는 자외선 광원(221)과, 상기 자외선 광원(221)으로부터 발생되는 자외선이 외부로 소실되는 것을 방지함과 동시에 자외선을 상기 자외선 가이드부(230)의 입사면으로 반사시키는 반사판(222)을 포함하여 구성된다.The light source unit 220 includes an ultraviolet light source 221 for generating ultraviolet light and an ultraviolet light source 220 for preventing the ultraviolet light generated from the ultraviolet light source 221 from being lost to the outside, And reflector 222 for reflecting light.

여기에서, 상기 자외선 광원(221)은 점광원인 UV 램프나 UV 엘이디(LED)를 하나 이상 이용하여 구성하거나 또는 선광원인 UV 램프를 이용하여 구성할 수 있다.Here, the ultraviolet light source 221 may be constituted by using one or more UV lamps or UV LEDs, which are point light sources, or by using a UV lamp as a light source.

상기 자외선 가이드부(230)는 상기 광원부(220)로부터 발생되는 자외선을 굴절, 반사 및 확산시켜, 다시 말해 면광원으로 바꾸어 피노광체인 디스플레이 패널에 균일하게 조사되도록 가이드하는 역할을 한다.The ultraviolet ray guiding unit 230 refracts, reflects, and diffuses ultraviolet rays generated from the light source unit 220, that is, converts the ultraviolet rays into a planar light source to guide the ultraviolet rays uniformly to the display panel.

여기에서, 상기 자외선 가이드부(230)는 자외선 투과율이 높은 실리콘 수지, 우레탄, 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, PET), 폴리메틸 메타크릴산(Polymethyl methacrylate, PMMA), MS(Methylmetha acrylate Styrene) 등을 포함하는 고투명성 수지재료, 납유리, 소다라임 유리(soda lime glass), 붕규산 유리(borosilicate glass), 석영(SiO2), 사파이어 (Al2O3) 등을 포함하는 투명성 금속산화물, 플루오라이트(Calcium fluoride, CaF2), 플루오르화마그네슘(Magnesium fluoride, MgF2), 징크셀레나이드(ZnSe) 등을 포함하는 투명 결정성 재료 중 적어도 어느 하나로 이루어진다.Here, the ultraviolet ray guiding unit 230 may be formed of a material having high ultraviolet transmittance such as silicone resin, urethane, polystyrene (PS), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (Polymethyl methacrylate, PMMA), MS (Methylmetha acrylate Styrene) , such as high transparency, a resin material, lead glass, soda lime glass (soda lime glass), borosilicate glass (borosilicate glass), quartz, including (SiO 2), sapphire (Al 2 O 3) transparent metal oxide, or the like, fluorite (Calcium fluoride, CaF 2), magnesium fluoride (magnesium fluoride, MgF 2), zinc selenide (ZnSe), at least any one of a transparent crystalline material, or the like .

그리고, 상기 자외선 가이드부(230)에는 자외선의 균일한 조사를 위해 도광 패턴(231)이 형성될 수 있는데, 상기 도광 패턴(231)은 사출성형, 스템프 성형, 레이저 성형, 브이 커트(V-cut) 성형, 압출성형, 에칭(etching), 샌드블라스팅(sand blasting), 스탬핑(stamping) 중 적어도 어느 하나 이상의 공법으로 형성할 수 있다. 이때, 자외선 광원(예를 들어 자외선 램프 또는 자외선 다이오드 등)에 가까운 곳은 패턴의 밀도와 크기를 낮거나 작게 형성하고, 상대적으로 먼 곳은 패턴의 밀도와 크기를 높고 크게 형성하는 것이 바람직하다.The light guide pattern 231 may be formed by injection molding, stamp molding, laser molding, V-cut, or the like, ) May be formed by at least one of a molding method, an extrusion molding method, an etching method, a sand blasting method, and a stamping method. At this time, it is preferable to form the density and size of the pattern close to the ultraviolet light source (for example, an ultraviolet lamp or an ultraviolet diode) to be low or large, and to form the density and size of the pattern relatively large and large.

상기 반사부(240)는 상기 자외선 가이드부(230)로부터 방출되는 자외선을 피노광체인 디스플레이 패널 측으로 반사시켜 노광 효율을 향상시키는 역할을 한다.The reflector 240 reflects ultraviolet rays emitted from the ultraviolet ray guiding unit 230 toward the display panel, which is an object to be exposed, to improve the exposure efficiency.

여기에서, 상기 반사부(240)는 자외선의 반사가 가능한 은색 또는 백색의 물질(예를 들어, 알루미늄, 마그네슘, 은, 니켈, 백금, 크롬 등)을 포함하는 반사시트, 거울 또는 은박지를 이용하여 형성할 수 있으며, 경우에 따라 상기 프레임(250)의 내면에도 자외선을 반사하기 위한 반사부(미도시)를 형성하는 것도 가능하다. Here, the reflective portion 240 may be formed of a reflective sheet, a mirror, or a silver foil including a silver or white material (for example, aluminum, magnesium, silver, nickel, platinum, (Not shown) for reflecting ultraviolet rays may be formed on the inner surface of the frame 250 as the case may be.

이와 같이 구성된 상기 광 균일 조사장치(210)는 상기 프레임(250)의 내부 공간(251)에 삽입되어 장착된다.The light uniform illuminating device 210 configured as described above is inserted and mounted in the inner space 251 of the frame 250.

여기에서, 상기 프레임(250)은 하단부에 형성된 걸림턱(252)에 의해 상기 광 균일 조사장치(210)를 고정 및 지지하면서, 피노광체측에 형성된 개방부를 통해 상기 광 균일 조사장치(210)로부터 방출되는 자외선이 피노광체측으로 조사되도록 한다.In this case, the frame 250 is fixed to and supported by the light-homogeneous irradiating device 210 by the engagement protrusions 252 formed at the lower end thereof, So that the ultraviolet rays emitted are irradiated toward the object to be exposed.

본 실시예에서는 직사각형 형상의 광 균일 조사장치를 사용하는 경우에 대하여 설명하였지만, 당업자라면 이에 한정하지 않고 다각형상, 중공형상 등과 같이 다양한 형상의 광 균일 조사장치를 사용하는 것도 가능함은 물론이다. In the present embodiment, a rectangular uniform light uniform illuminator is used. However, the present invention is not limited to this, and it is needless to say that a light uniform illuminator of various shapes such as a polygonal shape or a hollow shape can be used.

또한, 도시하지는 않았지만 자외선 광원(221)에서 발생하는 열이 자외선 가이드부(230)나 피노광체에 도달하지 않도록 광 균일 조사장치(210)에 별도의 방열 부재를 설치하는 것도 가능하다. 이때, 상기 방열 부재는 자외선의 투과율은 높고 적외선 이하 열선에 대한 투과율은 낮은 재료를 사용함이 바람직하다. Further, although not shown, it is also possible to provide a separate heat-radiating member in the uniform-light irradiating device 210 so that the heat generated by the ultraviolet light source 221 does not reach the ultraviolet ray guiding unit 230 or the object to be exposed. At this time, it is preferable that the heat dissipating member uses a material having a high ultraviolet transmittance and a low infrared transmittance.

이하, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)를 이용한 노광 공정에 대하여 좀 더 자세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the exposure process using the large area uniformly illuminating device 200 according to the present invention will be described in more detail as follows.

도 3은 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)를 이용한 노광 공정의 일례를 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining an example of an exposure process using the large-area uniform-light exposure apparatus 200 according to the present invention.

먼저, 본 발명의 대면적 광 균일 노광장치(200)를 도 3에 도시된 바와 같이 이송장치(300)에 장착한다. 이때, 본 발명의 대면적 광 균일 노광장치(200)는 이송장치(300)의 하단부에 형성된 걸림턱에 의해 고정 및 지지된다.First, the large-area uniform-light exposure apparatus 200 of the present invention is mounted on the transfer apparatus 300 as shown in FIG. At this time, the large-area uniform-light exposure apparatus 200 of the present invention is fixed and supported by a latching jaw formed at the lower end of the transfer device 300.

그 다음, 제어부(미도시)에 의해 상기 광 균일 조사장치(210)의 광원부(220)에 전원을 공급하면, 상기 광원부(220)로부터 자외선이 발생되어 상기 자외선 가이드부(230)로 입사되며, 상기 자외선 가이드부(230)는 상기 광원부(220)로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체인 디스플레이 패널의 전체 면적에 걸쳐 자외선이 균일하게 조사되도록 가이드한다.When power is supplied to the light source unit 220 of the light uniform illuminator 210 by a control unit (not shown), ultraviolet light is generated from the light source unit 220 and is incident on the ultraviolet light guide unit 230, The ultraviolet ray guide unit 230 converts ultraviolet rays generated from the light source unit 220 into a surface light source to guide the ultraviolet rays uniformly over the entire area of the display panel as an object to be exposed.

이때, 상기 자외선 가이드부(230)의 도광 패턴(231)에 의해 자외선이 더욱 균일하게 디스플레이 패널에 조사되며, 상기 반사부(240)에 의해 자외선이 외부로 손실되는 것이 최소화되면서 디스플레이 패널 측으로 조사된다.At this time, ultraviolet rays are more uniformly irradiated to the display panel by the light guiding pattern 231 of the ultraviolet ray guiding unit 230, and the loss of ultraviolet rays to the outside is minimized by the reflector 240, .

한편, 본 실시예에서는 디스플레이 패널에 상응하는 면적의 자외선 가이드부(230)를 이용하여 노광 공정을 수행하는 경우에 대하여 설명하였지만, 경우에 따라 자외선 가이드부의 면적을 작게 하고 이송장치(300)에 의해 본 발명의 대면적 광 균일 노광장치(200)를 이동시켜가면서 디스플레이 패널을 노광하거나, 디스플레이 패널 자체를 인라인 공정방식으로 이동시켜가면서 디스플레이 패널을 부분적 또는 전체적으로 노광하는 것도 가능하며, 특히 이동식인 경우 고정식에 비하여 공정 시간이 짧아지고, 또한 넓은 자외선 가이드부 자체가 가지는 노광산포를 최소화함으로써 균일한 노광이 가능하다.In the present embodiment, the exposure process is performed using the ultraviolet ray guiding unit 230 having the area corresponding to the display panel. However, if the ultraviolet ray guiding unit is small in size, The display panel may be partially or wholly exposed while the display panel itself is moved in the inline process mode while moving the large area uniform light exposure apparatus 200 according to the present invention. The process time is shortened and the exposure scattering of the wide ultraviolet ray guiding unit itself is minimized, so that uniform exposure is possible.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)는 자외선 가이드부(230)를 이용하여 한번의 노광 공정을 통해서 피노광체인 대면적의 디스플레이 패널에 자외선을 균일하게 조사할 수 있으며, 이에 따라 불균일한 자외선 노광에 의해 발생할 수 있는 디스플레이 패널의 얼룩 현상을 방지할 수 있는 잇점이 있다.As described above, the large-area uniform-light exposure apparatus 200 according to the present invention is capable of uniformly irradiating ultraviolet rays to a large-sized display panel which is an object to be exposed through a single exposure process using the ultraviolet ray guiding unit 230 Accordingly, there is an advantage that the display panel can be prevented from being stained due to uneven ultraviolet exposure.

그리고, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)는 자외선 가이드부(230)를 이용하여 저전력으로 피노광체인 대면적의 디스플레이 패널에 자외선을 균일하게 조사할 수 있으므로, 이에 따라 노광시간을 줄여 생산효율을 증가시키고 전력 소모를 줄일 수 있는 잇점이 있다.In addition, since the large-area uniform-light exposure apparatus 200 according to the present invention can uniformly irradiate ultraviolet rays to a large-sized display panel which is an object to be exposed with low power using the ultraviolet ray guiding unit 230, Thereby increasing the production efficiency and reducing power consumption.

또한, 본 발명에 따른 대면적 광 균일 노광장치(200)는 렌즈와 미러가 없이도 노광 공정을 수행할 수 있고, 별도의 과도한 냉각장치를 구비할 필요도 없으므로, 이에 따라 종래의 노광장치에 비하여 구조의 단순화 및 부피의 감소, 장비의 경량화가 가능함으로써 제조비용 및 설비비용도 줄일 수 있는 잇점이 있다.Also, since the large-area uniform-light exposure apparatus 200 according to the present invention can perform an exposure process without a lens and a mirror and does not need to have a separate excessive cooling apparatus, It is possible to reduce the volume and the weight of the equipment, thereby reducing the manufacturing cost and equipment cost.

이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예들을 중심으로 설명하였다. 그러나, 본 발명의 실시예는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공 되어지는 것으로, 본 발명의 범위가 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 여러 가지 다른 형태로 변형이 가능함은 물론이다.
The preferred embodiments of the present invention have been described above. It is to be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and alternative arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Of course.

200 : 대면적 광 균일 노광장치
210 : 광 균일 조사장치 220 : 광원부
221 : 자외선 광원 222 : 반사판
230 : 자외선 가이드부 231 : 도광 패턴
240 : 반사부 250 : 프레임
251 : 프레임의 내부 공간 252 : 프레임의 걸림턱
300 : 이송장치200: large-area light uniform exposure apparatus
210: light uniform illuminator 220: light source
221: ultraviolet light source 222: reflector
230: ultraviolet guide part 231: light guide pattern
240: reflector 250: frame
251: inner space of the frame 252:
300: Feeding device

Claims (10)

자외선 광원으로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체의 노광 영역으로 균일하게 조사하는 광 균일 조사장치;
상기 광 균일 조사장치를 고정 및 지지하는 프레임; 및
상기 광 균일 조사장치를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
A light uniform irradiation device which converts ultraviolet rays generated from the ultraviolet light source into surface light sources and uniformly irradiates the exposure area of the object to be exposed;
A frame fixing and supporting the light uniform irradiation device; And
And a control unit for controlling the light uniform irradiation device.
제 1항에 있어서, 상기 광 균일 조사장치는,
자외선을 발생시키는 광원부와,
상기 광원부로부터 발생되는 자외선을 면광원으로 바꾸어 피노광체의 노광 영역으로 균일하게 조사되도록 가이드하는 자외선 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
According to claim 1, The light uniform irradiation device,
A light source unit generating ultraviolet rays,
And an ultraviolet light guide unit for converting the ultraviolet light generated from the light source unit into a surface light source to uniformly irradiate the exposure area of the object to be exposed.
제 2항에 있어서, 상기 광 균일 조사장치는,
상기 자외선 가이드부로부터 방출되는 자외선을 피노광체 측으로 반사시키는 반사부를 더 포함하며,
상기 반사부는 자외선의 반사가 가능한 은색 또는 백색의 물질을 포함하는 반사시트, 거울, 또는 은박지를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
The method of claim 2, wherein the light uniform irradiation device,
And a reflector for reflecting the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet ray guiding unit toward the subject,
Wherein the reflective portion is formed using a reflective sheet, a mirror, or a silver foil including a silver or white material capable of reflecting ultraviolet light.
제 2항에 있어서,
상기 광원부는 상기 자외선 가이드부의 적어도 하나 이상의 측면에 배치되는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the light source unit is disposed on at least one side surface of the ultraviolet ray guiding unit.
제 2항에 있어서, 상기 광원부는,
자외선을 발생시키는 자외선 광원과,
상기 자외선 광원으로부터 발생된 자외선이 외부로 소실되는 것을 방지함과 동시에 자외선을 상기 자외선 가이드부의 입사면으로 반사시키는 반사판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
The method of claim 2, wherein the light source unit,
An ultraviolet light source for generating ultraviolet light,
And a reflection plate for preventing ultraviolet rays generated from the ultraviolet light source from being lost to the outside while reflecting ultraviolet rays to an incident surface of the ultraviolet ray guiding unit.
제 5항에 있어서,
상기 자외선 광원은 하나 이상의 점광원인 UV 램프 또는 UV 엘이디(LED)로 구성되거나, 또는 선광원인 UV 램프로 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the ultraviolet light source is constituted by a UV lamp or a UV LED (LED) which is at least one point light source, or a UV lamp which is a beneficiation light.
제 2항에 있어서,
상기 자외선 가이드부는 실리콘 수지, 우레탄, 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, PET), 폴리메틸 메타크릴산(Polymethyl methacrylate, PMMA), MS(Methylmetha acrylate Styrene)를 포함하는 고투명성 수지재료, 납유리, 소다라임 유리(soda lime glass), 붕규산 유리(borosilicate glass), 석영(SiO2), 사파이어 (Al2O3)를 포함하는 투명성 금속산화물, 플루오라이트(Calcium fluoride, CaF2), 플루오르화마그네슘(Magnesium fluoride, MgF2), 징크셀레나이드(ZnSe)를 포함하는 투명 결정성 재료 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
3. The method of claim 2,
The ultraviolet ray guide part may be formed of a material selected from the group consisting of silicone resin, urethane, polystyrene (PS), polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate Transparent metal oxides including lead glass, soda lime glass, borosilicate glass, quartz (SiO 2 ), and sapphire (Al 2 O 3 ), fluorite A transparent crystalline material including calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and zinc selenide (ZnSe).
제 2항에 있어서,
상기 자외선 가이드부에는 자외선의 균일한 조사를 위해 사출성형, 스템프 성형, 레이저 성형, 브이 커트(V-cut) 성형, 압출성형, 에칭(etching), 샌드블라스팅(sand blasting), 스탬핑(stamping) 중 적어도 어느 하나 이상의 공법을 이용하여 도광 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
3. The method of claim 2,
The UV guide part includes injection molding, stamp molding, laser molding, V-cut molding, extrusion molding, etching, sand blasting, and stamping for uniform irradiation of ultraviolet rays. A large-area light uniform exposure apparatus, characterized in that the light guide pattern is formed using at least one or more methods.
제 1항에 있어서,
상기 대면적 광 균일 노광장치는 피노광체의 노광 영역을 이동하면서 피노광체의 노광 영역으로 자외선을 균일하게 조사하는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
The method of claim 1,
Wherein the large-area uniform-light exposure apparatus uniformly irradiates ultraviolet light to an exposure area of the object to be exposed while moving in an exposure area of the object to be exposed.
제 1항에 있어서,
상기 대면적 광 균일 노광장치는 이동 중인 피노광체의 노광 영역으로 자외선을 균일하게 조사하는 것을 특징으로 하는 대면적 광 균일 노광장치.
The method of claim 1,
Wherein the large-area uniform-light exposure apparatus uniformly irradiates ultraviolet light to an exposure area of a moving object to be exposed.
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