KR20140021915A - Clean room system - Google Patents

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KR20140021915A
KR20140021915A KR1020120088450A KR20120088450A KR20140021915A KR 20140021915 A KR20140021915 A KR 20140021915A KR 1020120088450 A KR1020120088450 A KR 1020120088450A KR 20120088450 A KR20120088450 A KR 20120088450A KR 20140021915 A KR20140021915 A KR 20140021915A
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한기호
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삼성전기주식회사
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    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F13/00—Details common to, or for air-conditioning, air-humidification, ventilation or use of air currents for screening
    • F24F13/08—Air-flow control members, e.g. louvres, grilles, flaps or guide plates
    • F24F13/10—Air-flow control members, e.g. louvres, grilles, flaps or guide plates movable, e.g. dampers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
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    • F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163—Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F24F7/00—Ventilation
    • F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
    • F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit

Abstract

An embodiment of the present invention relates to a clean room system. The clean room system comprises: a clean room apparatus which includes dampers for inhaling clean air discharged from the inside of the clean room apparatus to the outside through an inlet in the top and bottom of the inlet where a substrate is transferred when the substrate is transferred from a constant temperature and humidity room to the clean room apparatus; and an air conditioner which is connected to the clean room apparatus, supplies air to the clean room apparatus, and receives the clean air returned by the dampers from the clean room apparatus. [Reference numerals] (AA) Constant temperature and humidity room process; (BB) Clean room process

Description

클린룸 시스템{CLEAN ROOM SYSTEM}Clean Room System {CLEAN ROOM SYSTEM}

본 발명은 클린룸 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a clean room system.

현재, 특허문헌 1을 비롯한 다양한 구조의 인쇄회로기판이 박판화됨에 따라 기존 제조공정을 그대로 적용할 때, 생산 시 문제점이 발생하는 경우가 종종 있다. At present, when printed circuit boards having various structures, including Patent Document 1, are thinned, there are often problems in production when the existing manufacturing process is applied as it is.

보다 상세히 설명하면, 인쇄회로기판의 제조 공정은 크게 청정화가 요구되는 클린룸과 웨트(Wet) 공정을 진행할 수 있는 항온항습룸에서 진행된다.In more detail, the manufacturing process of the printed circuit board is carried out in a clean room and a wet / humidity room where wet processing is greatly required.

제조 공정 시, 기판과 같은 제품이 항온항습룸에서 클린룸으로 이송하게 되는데, 박판화된 인쇄회로기판이 클린룸으로의 이송이 원활하지 않아 휨 현상과 같은 문제점이 종종 발생하고 있다.During the manufacturing process, products such as substrates are transferred from the constant temperature and humidity room to the clean room, and the thin printed circuit board is not smoothly transferred to the clean room, and problems such as warpage are often caused.

US 2006-0191709 AUS 2006-0191709A

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 일 측면은 클린룸 장치로부터 토출되는 기류량을 제어하여 클린룸 장치로 유입되는 제품의 휨 현상을 방지하기 위한 클린룸 시스템을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, an aspect of the present invention is to control the amount of air flow discharged from the clean room device to prevent the warpage of products flowing into the clean room device It is to provide.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템은, 항온항습룸 장치에서 클린룸 장치로 기판이 이송될 때, 기판이 유입되는 유입구의 상부와 하부에 각각 클린룸 장치 내부로부터 상기 유입구를 통해 외부로 배출되는 클린에어를 흡입하는 댐퍼를 포함하는 클린룸 장치; 및Clean room system according to an embodiment of the present invention, when the substrate is transferred from the constant temperature and humidity room apparatus to the clean room apparatus, discharged from the inside of the inlet through which the substrate is introduced into the clean room device from the inside through the inlet through the inlet Clean room device including a damper for sucking the clean air to be; And

상기 클린룸 장치와 연결되어, 상기 클린룸 장치로 에어를 공급하고, 상기 클린룸 장치로부터 상기 댐퍼에 의해 리턴되는 클린에어를 전달받는 공조기;를 포함할 수 있다.
And an air conditioner connected to the clean room device to supply air to the clean room device, and receive clean air returned by the damper from the clean room device.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 클린룸 장치는,Clean room device of a clean room system according to an embodiment of the present invention,

상기 유입구를 기준으로 상부와 하부에 각각 이격되게 형성되되, 상기 유입구와 접촉되는 일단이 오픈 구조로 형성되며, 상기 일단에 인접되게 상기 댐퍼가 형성되어 상기 댐퍼를 통해 유입되는 클린에어를 전달받는 제1 및 제2 리턴부; 및It is formed to be spaced apart from each other in the upper and lower with respect to the inlet, the one end in contact with the inlet is formed in an open structure, the damper is formed adjacent to the one end receives the clean air flowing through the damper First and second return units; And

상기 제1 및 제2 리턴부와 상기 공조기 사이에 각각 연결되게 형성되어 상기 제1 및 제2 리턴부를 통해 전달되는 클린에어를 상기 공조기로 전달하는 제1 및 제2 리턴 경로부;를 포함할 수 있다.
And first and second return path units formed to be connected between the first and second return units and the air conditioners, respectively, to transfer clean air to the air conditioners. have.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 댐퍼는,The damper of a clean room system according to an embodiment of the present invention,

상기 제1 리턴부에 형성된 제1 댐퍼; 및A first damper formed in the first return part; And

상기 제2 리턴부에 형성된 제2 댐퍼;를 포함할 수 있다.
And a second damper formed in the second return part.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 제1 댐퍼와 제2 댐퍼는 각각 클린에어의 흡입량이 동일하도록 개폐 정도를 조절할 수 있다.
The first damper and the second damper of the clean room system according to the exemplary embodiment of the present invention may adjust the degree of opening and closing so that the suction amount of the clean air is the same.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 제1 댐퍼와 제2 댐퍼는 유입구를 통해 외부로 토출되는 클린에어양을 기초로 상기 제1 댐퍼와 상기 제2 댐퍼의 개폐 정도를 조절할 수 있다.The first damper and the second damper of the clean room system according to the embodiment of the present invention may adjust the opening and closing degree of the first damper and the second damper based on the amount of clean air discharged to the outside through the inlet.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 클린룸 장치는, 공조기로부터 전달된 에어의 입자를 여과하여 상기 클린룸 장치 내부로 토출시키는 필터부;를 더 포함할 수 있다.The clean room apparatus of the clean room system according to the embodiment of the present invention may further include a filter unit for filtering the particles of air delivered from the air conditioner and discharging them into the clean room apparatus.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 공조기는, 유입된 에어의 온도 및 습도를 조절하는 냉수코일 및 온수코일;을 더 포함할 수 있다.The air conditioner of the clean room system according to an exemplary embodiment of the present invention may further include a cold water coil and a hot water coil to control the temperature and humidity of the introduced air.

본 발명의 실시예에 따른 클린룸 시스템의 공조기는, 회전을 통해 공조기의 에어를 상기 클린룸 장치로 전달하기 위한 팬;을 더 포함할 수 있다.
The air conditioner of the clean room system according to an exemplary embodiment of the present invention may further include a fan for delivering air of the air conditioner to the clean room device through rotation.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명의 실시예에 의한 클린룸 시스템은 클린룸에서 항온항습룸 방향으로 토출되는 기류량을 댐퍼를 통해 제어하여, 기판의 말림 현상을 개선할 수 있고, 이로 인해 제품 생산량을 향상시킬 수 있다는 효과를 기대할 수 있다.Clean room system according to an embodiment of the present invention by controlling the amount of air flow discharged from the clean room in the constant temperature and humidity room through the damper, it is possible to improve the curling phenomenon of the substrate, thereby improving the product yield You can expect.

또한, 본 발명의 실시예는 클린에어를 리턴시켜 클린룸 밖으로 토출되어 유실될 클린에어(Clean Air)를 재활용함에 따라, 에어(Air) 가공에 요구되는 에너지 비용 및 시간을 절약할 수 있으며, 이로 인해 클린룸 내 에어 관리의 효율성을 향상시킬 수 있다는 것이다. In addition, the embodiment of the present invention can save the energy cost and time required for air processing by returning clean air and recycling clean air that is discharged out of the clean room to be lost. This can improve the efficiency of air management in the clean room.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 클린룸 시스템의 구성을 나타내는 도면.
도 2는 도 1의 I 영역을 확대하여 나타내는 도면.1 is a view showing the configuration of a clean room system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of region I of FIG. 1; FIG.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서에서, 제1, 제2 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objectives, specific advantages, and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. It should be noted that, in the present specification, the reference numerals are added to the constituent elements of the drawings, and the same constituent elements are assigned the same number as much as possible even if they are displayed on different drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. In this specification, the terms first, second, etc. are used to distinguish one element from another, and the element is not limited by the terms.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

클린룸 시스템Clean room systems

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 클린룸 시스템의 구성을 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1의 I 영역을 확대하여 나타내는 도면이다.
1 is a view showing the configuration of a clean room system according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is an enlarged view showing the region I of FIG.

도 1에서 도시하는 바와 같이, 클린룸 시스템(100)은 클린룸 장치(130) 및 공조기(110)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 1, the clean room system 100 may include a clean room device 130 and an air conditioner 110.

보다 상세히 설명하면, 클린룸 장치(130)는 항온항습룸 장치에서 클린룸 장치(130)로 기판(10)이 이송될 때, 기판(10)이 유입되는 유입구(132)의 상부와 하부에 각각 클린룸 장치(130) 내부로부터 유입구(132)를 통해 외부로 배출되는 클린에어를 흡입하는 댐퍼(Damper)(150)를 포함할 수 있다.In more detail, the clean room apparatus 130 may be disposed at upper and lower portions of the inlet 132 through which the substrate 10 is introduced when the substrate 10 is transferred from the constant temperature and humidity room apparatus to the clean room apparatus 130. It may include a damper (150) for sucking the clean air discharged to the outside through the inlet 132 from the inside of the clean room device 130.

보다 상세히 설명하면, 도 1에서 도시하는 바와 같이, 인쇄회로기판을 비롯한 기판(10)의 제조 공정 시, 항온항습룸 공정과 클린룸 공정은 인라인(In-Line)으로 형성되어 있어, 항온항습룸공정을 마친 뒤 기판(10)은 이송롤을 통해 클린룸 공정으로 이동할 수 있다.In more detail, as shown in Figure 1, during the manufacturing process of the substrate 10, including a printed circuit board, the constant temperature and humidity room process and the clean room process is formed in-line (In-Line), constant temperature and humidity room After finishing the process, the substrate 10 may move to a clean room process through a transfer roll.

클린룸 장치(130)는 부유입자의 농도, 온도, 습도 및 압력 등이 제어되어 청정한 상태를 유지하는 공간으로, 공기조절장치(Air Handling Unit)(이하, 공조기라고 하기로 함)를 통해 공기가 순환되도록 할 수 있다.The clean room device 130 is a space in which the concentration, temperature, humidity, and pressure of the suspended particles are controlled to maintain a clean state, and air is supplied through an air handling unit (hereinafter, referred to as an air conditioner). Can be circulated.

클린룸 장치(130) 내부의 압력이 항온항습룸 장치에 비해 높기 때문에 기류의 방향이 클린룸 장치(130)에서 항온항습룸 장치 방향(도 1의 유입구(132) 내 화살표 방향)으로 흐르게 된다.Since the pressure inside the clean room apparatus 130 is higher than the constant temperature and humidity room apparatus, the direction of the airflow flows from the clean room apparatus 130 in the direction of the constant temperature and humidity room apparatus (the arrow direction in the inlet 132 of FIG. 1).

이때, 클린룸 장치(130)의 유입구(132)의 상부와 하부에 형성된 댐퍼(150)가 유입구(132)를 통해 토출되는 클린에어를 흡입 및 리턴시켜 토출되는 클린에어양을 제어하기 때문에, 기판(10)이 원활하게 유입구(132)로 유입될 수 있다.
At this time, the damper 150 formed on the upper and lower portions of the inlet 132 of the clean room device 130 sucks and returns the clean air discharged through the inlet 132 to control the amount of clean air discharged, so that the substrate 10 may smoothly flow into the inlet 132.

또한, 클린룸 장치(130)는 유입구(132)를 기준으로 상부와 하부에 각각 이격되게 형성되되, 유입구(132)와 접촉되는 일단이 오픈 구조로 형성되며, 일단에 인접되게 댐퍼(150)가 형성되어 댐퍼(150)를 통해 유입되는 클린에어(도 1의 B, C)를 전달받는 제1 및 제2 리턴부(133, 135) 및 제1 및 제2 리턴부(133, 135)와 공조기(110) 사이에 각각 연결되게 형성되어 제1 및 제2 리턴부(133, 135)를 통해 전달되는 클린에어를 공조기(110)로 전달하는 제1 및 제2 리턴 경로부(134, 136)를 포함할 수 있다.
In addition, the clean room device 130 is formed on the inlet 132 spaced apart from the top and bottom, respectively, one end contacting the inlet 132 is formed in an open structure, the damper 150 is adjacent to one end The air conditioner and the first and second return parts 133 and 135 and the first and second return parts 133 and 135 which are formed and receive clean air (B and C of FIG. 1) flowing through the damper 150 are provided. The first and second return path parts 134 and 136 are formed to be connected between the first and second return path parts 134 and 136, respectively, to deliver clean air to the air conditioner 110. It may include.

도 2에서 도시하는 바와 같이, 댐퍼(150)는 제1 리턴부(133)에 형성된 제1 댐퍼(151) 및 제2 리턴부(135)에 형성된 제2 댐퍼(153)를 포함할 수 있다.As illustrated in FIG. 2, the damper 150 may include a first damper 151 formed on the first return unit 133 and a second damper 153 formed on the second return unit 135.

또한, 제1 댐퍼(151)와 제2 댐퍼(153)는 각각 클린에어의 흡입량이 동일하도록 개폐 정도를 조절할 수 있다.In addition, the first damper 151 and the second damper 153 may adjust the degree of opening and closing so that the suction amount of the clean air is the same.

보다 상세히 설명하면, 유입구(132)로부터 외부로 토출되는 클린에어의 상하 균형을 맞출 수 있도록 제1 댐퍼(151)와 제2 댐퍼(153)의 클린에어 흡입량을 동일하게 제어하는 것이다.In more detail, the clean air suction amount of the first damper 151 and the second damper 153 is equally controlled to balance the vertical air of the clean air discharged from the inlet 132 to the outside.

이로 인해, 유입구(132)로 기판(10)이 유입될 때, 기판(10)이 불균형한 클린에어의 기류로 인해 한쪽으로 치우쳐 휨이 발생하는 현상을 미연에 방지할 수 있다는 것이다.
Therefore, when the substrate 10 is introduced into the inlet 132, the phenomenon that the substrate 10 is biased to one side due to an unbalanced air flow of clean air can be prevented in advance.

또한, 제1 댐퍼(151)와 제2 댐퍼(153)는 유입구(132)를 통해 외부로 토출되는 클린에어양을 기초로 제1 댐퍼(151)와 제2 댐퍼(153)의 개폐 정도를 조절할 수 있다.In addition, the first damper 151 and the second damper 153 adjust the opening and closing degree of the first damper 151 and the second damper 153 based on the amount of clean air discharged to the outside through the inlet 132. Can be.

보다 상세히 설명하면, 유입구(132)를 통해 토출되는 클린에어양이 많아 유입되는 기판(10)에 가해지는 스트레스 정도가 커 기판(10)의 유입을 방해하는 현상을 미연에 방지하기 위하여, 유입구(132)를 통한 클린에어의 토출량에 따라 제1 댐퍼(151)와 제2 댐퍼(153)의 개폐 정도를 조절하여 클린에어의 리턴양을 제어하여 유입구(132)를 통한 클린에어 토출량을 조절하는 것이다.
In more detail, in order to prevent the phenomenon that the amount of clean air discharged through the inlet 132 is large and the stress applied to the inflowing substrate 10 is large, thereby preventing the inflow of the substrate 10. The amount of clean air discharged through the inlet 132 is controlled by controlling the return amount of the clean air by adjusting the opening and closing degree of the first damper 151 and the second damper 153 according to the discharge amount of the clean air. .

또한, 클린룸 장치(130)는 공조기(110)로부터 전달된 에어의 입자를 여과하여 클린룸 장치(130) 내부로 토출(도 1의 A)시키는 필터부(140)를 더 포함할 수 있다.In addition, the clean room device 130 may further include a filter unit 140 for filtering the particles of air transferred from the air conditioner 110 and discharging them into the clean room device 130 (A of FIG. 1).

이때, 공조기(110)와 필터부(140)는 에어 공급로부(131)를 통해 연결되어, 후술하는 팬(113)의 회전을 통해 공조기(110)의 에어가 공급로부(131)를 경유하여 필터부(140)로 전달되는 것이다.
At this time, the air conditioner 110 and the filter unit 140 is connected through the air supply path 131, the air of the air conditioner 110 through the supply path 131 through the rotation of the fan 113 to be described later. It is delivered to the filter unit 140.

또한, 클린룸 장치(130)는 클린룸 장치(130) 내부의 클린에어를 다시 공조기(110)로 배출시키는 배출구(137)를 더 포함할 수 있다.
In addition, the clean room device 130 may further include an outlet 137 for discharging the clean air inside the clean room device 130 back to the air conditioner 110.

한편, 공조기(110)는 클린룸 장치(130)와 연결되어, 클린룸 장치(130)로 에어를 공급하고, 클린룸 장치(130)로부터 댐퍼(150)에 의해 리턴되는 클린에어를 전달받을 수 있다.Meanwhile, the air conditioner 110 may be connected to the clean room device 130 to supply air to the clean room device 130 and receive clean air returned by the damper 150 from the clean room device 130. have.

또한, 공조기(110)는 유입된 에어의 온도 및 습도를 조절하는 냉수코일(112) 및 온수코일(111)을 더 포함할 수 있다.In addition, the air conditioner 110 may further include a cold water coil 112 and a hot water coil 111 to adjust the temperature and humidity of the introduced air.

또한, 공조기(110)는 회전을 통해 공조기(110)의 에어를 클린룸 장치(130)로 전달하기 위한 팬(113)을 더 포함할 수 있다. In addition, the air conditioner 110 may further include a fan 113 for delivering air of the air conditioner 110 to the clean room device 130 through rotation.

보다 상세히 설명하면, 팬(113)은 공조기(110) 내부에 배치되어 공기순환을 위해 회전을 수행하면, 회전과 동시에 클린룸 장치(130) 내부 중 예를 들어, 상부에 배치된 필터부(140)로 에어가 공급될 수 있다.In more detail, when the fan 113 is disposed inside the air conditioner 110 to perform rotation for air circulation, the filter unit 140 disposed at the top of the inside of the clean room device 130 at the same time as the rotation is performed. Air may be supplied.

필터부(140)는 공급된 공기의 입자를 여과하여 청정한 에어로 변화시켜 클린룸 장치(130) 내부로 유입시키는 것이다.
The filter unit 140 filters the particles of the supplied air and converts the particles into clean air to flow into the clean room apparatus 130.

또한, 공조기(110)는 클린룸 장치(130)로부터 리턴된 에어를 외기(120)와 함께 냉수코일(112) 및 온수코일(111)을 거쳐 일정한 온도 및 습도로 생성하여 다시 클린룸 장치(130) 내부로 전달하는 동작을 반복 수행할 수 있다.In addition, the air conditioner 110 generates air returned from the clean room device 130 at a constant temperature and humidity through the cold water coil 112 and the hot water coil 111 together with the outside air 120, and again clean room device 130. ) Can be repeated.

또한, 공조기(110)는 클린룸 장치(130)로 유입되는 에어의 양을 조절하여 클린룸 장치(130) 내부의 압력을 유지시킬 수 있다. 이때, 클린룸 장치(130) 내부의 압력을 높게 유지시키는 이유는 항온항습룸공정에서 발진된 부유입자가 클린룸 장치(130) 내부로 유입되는 현상을 미연에 방지하기 위한 것이다.
In addition, the air conditioner 110 may maintain the pressure inside the clean room device 130 by adjusting the amount of air introduced into the clean room device 130. At this time, the reason for keeping the pressure inside the clean room device 130 high is to prevent the phenomenon that the floating particles oscillated in the constant temperature and humidity room process flows into the clean room device 130.

한편, 인쇄회로기판의 패턴이 미세화됨에 따라, 점차 고청정도 클린룸을 적용하게 되는데, 환경이 고청정도화 되면서 클린룸 장치(130) 내부로 유입되는 에어양이 많아지고 압력이 상승하게 되어 유입구(132)를 통해 외부로 토출되는 에어의 압력 또한 높아지게 된다. On the other hand, as the pattern of the printed circuit board becomes finer, a higher cleanliness cleanroom is gradually applied. As the environment becomes high cleanliness, the amount of air flowing into the cleanroom device 130 increases and the pressure rises. The pressure of the air discharged to the outside through the 132 is also increased.

이러한 현상으로 인해, 항온항습룸 장치로부터 클린룸 장치로 기판(10)이 이송되는 구간에 공기 유속이 빠르게 되어 기판에 가해지는 압력이 높아지면서 기판이 휘는 현상이 발생하게 되는 것이다.Due to this phenomenon, the air flow rate is increased in the section in which the substrate 10 is transferred from the constant temperature and humidity room apparatus to the clean room apparatus, and the pressure applied to the substrate is increased, causing the substrate to bend.

본 발명의 실시예는 항온항습룸 장치와 클린룸 장치(130) 사이의 이송구간에 해당하는 유입구(132)의 상부와 하부에 각각 제1 댐퍼(151) 및 제2 댐퍼(153)를 구비하여, 유입구(132)를 통해 토출되는 에어의 상하 균형(Balance)을 유지하는 동시에 리턴되는 클린에어양을 제어하기 때문에, 클린룸 장치(130) 내부로부터 항온항습룸 장치 방향으로 토출되는 에어양을 제어할 수 있다.An embodiment of the present invention includes a first damper 151 and a second damper 153 at upper and lower portions of the inlet 132 corresponding to a transport section between the constant temperature and humidity room apparatus and the clean room apparatus 130, respectively. The amount of air discharged from the inside of the clean room device 130 toward the constant temperature / humidity room device is controlled since the clean air amount is returned while maintaining the balance of the air discharged through the inlet 132. can do.

이로 인해, 클린룸 시스템(100)은 클린룸 장치(130)의 유입구(132)로 이송되는 기판(10)에 인가되는 스트레스를 최소화하여 제품 말림 현상을 제어할 수 있다는 효과를 기대할 수 있다.As a result, the clean room system 100 may expect an effect of controlling product curling by minimizing stress applied to the substrate 10 transferred to the inlet 132 of the clean room device 130.

또한, 본 발명의 실시예는 유실되는 클린에어를 재활용할 수 있기 때문에, 클린에어를 제조하는 데 필요한 에너지를 절감할 수 있다는 것이다.
In addition, an embodiment of the present invention is that because it is possible to recycle the lost clean air, it is possible to reduce the energy required to manufacture the clean air.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the present invention. It is obvious that the modification or improvement is possible.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100 : 클린룸 시스템
110 : 공조기
120 : 외기
130 : 클린룸 장치
131 : 에어 공급로부
132 : 유입구
133 : 제1 리턴부
134 : 제1 리턴 경로부
135 : 제2 리턴부
136 : 제2 리턴 경로부
137 : 토출구
140 : 필터부
150 : 댐퍼
151 : 제1 댐퍼
153 : 제2 댐퍼100: clean room system
110: air conditioner
120: outside air
130: clean room device
131: air supply path
132: inlet
133: first return unit
134: first return path portion
135: second return unit
136: second return path portion
137 discharge port
140: filter unit
150: damper
151: first damper
153: second damper

Claims (8)

항온항습룸 장치에서 클린룸 장치로 기판이 이송될 때, 기판이 유입되는 유입구의 상부와 하부에 각각 클린룸 장치 내부로부터 상기 유입구를 통해 외부로 배출되는 클린에어를 흡입하는 댐퍼를 포함하는 클린룸 장치; 및
상기 클린룸 장치와 연결되어, 상기 클린룸 장치로 에어를 공급하고, 상기 클린룸 장치로부터 상기 댐퍼에 의해 리턴되는 클린에어를 전달받는 공조기;
를 포함하는 클린룸 시스템.
When the substrate is transferred from the constant temperature / humidity room apparatus to the clean room apparatus, a clean room includes a damper that sucks clean air discharged from the inside of the clean room apparatus to the outside through the inlet from the inside of the inlet through which the substrate is introduced. Device; And
An air conditioner connected to the clean room device, supplying air to the clean room device, and receiving clean air returned by the damper from the clean room device;
Clean room system comprising a.
청구항 1에 있어서,
상기 클린룸 장치는,
상기 유입구를 기준으로 상부와 하부에 각각 이격되게 형성되되, 상기 유입구와 접촉되는 일단이 오픈 구조로 형성되며, 상기 일단에 인접되게 상기 댐퍼가 형성되어 상기 댐퍼를 통해 유입되는 클린에어를 전달받는 제1 및 제2 리턴부; 및
상기 제1 및 제2 리턴부와 상기 공조기 사이에 각각 연결되게 형성되어 상기 제1 및 제2 리턴부를 통해 전달되는 클린에어를 상기 공조기로 전달하는 제1 및 제2 리턴 경로부;
를 포함하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 1,
The clean room device,
It is formed to be spaced apart from each other in the upper and lower with respect to the inlet, the one end in contact with the inlet is formed in an open structure, the damper is formed adjacent to the one end receives the clean air flowing through the damper First and second return units; And
First and second return path parts formed to be connected between the first and second return parts and the air conditioners, respectively, to transfer clean air to the air conditioners, the clean air passing through the first and second return parts;
Clean room system comprising a.
청구항 2에 있어서,
상기 댐퍼는,
상기 제1 리턴부에 형성된 제1 댐퍼; 및
상기 제2 리턴부에 형성된 제2 댐퍼;
를 포함하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 2,
The damper includes:
A first damper formed in the first return part; And
A second damper formed in the second return part;
Clean room system comprising a.
청구항 3에 있어서,
상기 제1 댐퍼와 상기 제2 댐퍼는 각각 클린에어의 흡입량이 동일하도록 개폐 정도를 조절하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 3,
The first damper and the second damper is a clean room system for controlling the degree of opening and closing so that the suction amount of the clean air, respectively.
청구항 3에 있어서,
상기 제1 댐퍼와 상기 제2 댐퍼는 상기 유입구를 통해 외부로 토출되는 클린에어양을 기초로 상기 제1 댐퍼와 상기 제2 댐퍼의 개폐 정도를 조절하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 3,
The first damper and the second damper is a clean room system for controlling the opening and closing degree of the first damper and the second damper based on the amount of clean air discharged to the outside through the inlet.
청구항 1에 있어서,
상기 클린룸 장치는,
상기 공조기로부터 전달된 에어의 입자를 여과하여 상기 클린룸 장치 내부로 토출시키는 필터부;
를 더 포함하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 1,
The clean room device,
A filter unit for filtering particles of air delivered from the air conditioner and discharging the particles into the clean room apparatus;
Clean room system further comprising.
청구항 1에 있어서,
상기 공조기는,
유입된 에어의 온도 및 습도를 조절하는 냉수코일 및 온수코일;
을 더 포함하는 클린룸 시스템.
The method according to claim 1,
The air conditioner,
Cold water coil and hot water coil to control the temperature and humidity of the introduced air;
Clean room system further comprising.
청구항 1에 있어서,
상기 공조기는,
회전을 통해 공조기의 에어를 상기 클린룸 장치로 전달하기 위한 팬;
을 더 포함하는 클린룸 시스템.


The method according to claim 1,
The air conditioner,
A fan for delivering air of an air conditioner to the clean room device through rotation;
Clean room system further comprising.


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