KR20140019380A - Circuit connection material, circuit member connection structure, and circuit member connection structure manufacturing method - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료이며, 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하고, 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속 또는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체를 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는 회로 접속 재료에 관한 것이다.The present invention is a circuit connection material for electrically connecting opposing circuit electrodes, and contains an adhesive composition and conductive particles, the conductive particles comprising a nucleus body containing a metal or nickel of Vickers hardness of 300 to 1000 and the nucleus body. The present invention relates to a circuit connecting material having bulky particles having an outermost layer containing a noble metal to be coated, having an average particle diameter of 5 to 20 µm, and having irregularities formed on the surface of the conductive particles.

Figure P1020137027238
Figure P1020137027238

Description

회로 접속 재료, 회로 부재의 접속 구조 및 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법 {CIRCUIT CONNECTION MATERIAL, CIRCUIT MEMBER CONNECTION STRUCTURE, AND CIRCUIT MEMBER CONNECTION STRUCTURE MANUFACTURING METHOD}CIRCUIT CONNECTION MATERIAL, CIRCUIT MEMBER CONNECTION STRUCTURE, AND CIRCUIT MEMBER CONNECTION STRUCTURE MANUFACTURING METHOD}

본 발명은 회로 접속 재료, 회로 부재의 접속 구조 및 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a circuit connection material, a connection structure of a circuit member, and a manufacturing method of the connection structure of a circuit member.

반도체 소자나 액정 표시 소자용 접착제로는 접착성이 우수하며, 높은 신뢰성을 나타내는 에폭시 수지 등의 열경화성 수지가 이용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 상기 접착제의 구성 성분으로는 에폭시 수지, 에폭시 수지와 반응성을 갖는 페놀 수지 등의 경화제, 에폭시 수지와 경화제의 반응을 촉진시키는 열잠재성 촉매가 일반적으로 이용되고 있다. 열잠재성 촉매는, 접착제의 경화 온도 및 경화 속도를 결정하는 중요한 인자가 되고 있으며, 실온에서의 저장 안정성 및 가열시 경화 속도의 측면에서 다양한 화합물이 이용되고 있다.As an adhesive for semiconductor elements and liquid crystal display elements, thermosetting resins, such as an epoxy resin which is excellent in adhesiveness and show high reliability, are used (for example, refer patent document 1). As the constituent components of the adhesive, a curing agent such as an epoxy resin, a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a heat latent catalyst for promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. The heat latent catalyst is an important factor in determining the curing temperature and curing rate of the adhesive, and various compounds are used in terms of storage stability at room temperature and curing rate upon heating.

또한, 최근에는 아크릴레이트 유도체나 메타크릴레이트 유도체 등의 라디칼 중합성 화합물과 라디칼 중합 개시제인 과산화물로 구성되는 라디칼 경화형 접착제가 주목받고 있다. 라디칼 경화형 접착제는 저온이면서 단시간에서의 경화가 가능하였다(예를 들면, 특허문헌 2 내지 4 참조).In recent years, attention has been paid to radical curable adhesives composed of radical polymerizable compounds such as acrylate derivatives and methacrylate derivatives, and peroxides which are radical polymerization initiators. The radical curable adhesive was able to cure in a short time while being low temperature (for example, refer patent documents 2 to 4).

일본 특허 공개 (평)1-113480호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 1-13480 일본 특허 공개 제2002-203427호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2002-203427 국제 공개 제98/044067호 공보International Publication No. 98/044067 일본 특허 공개 제2005-314696호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2005-314696

이들 접착제는 액정 패널 등의 플랫 패널 디스플레이(Flat Panel Display, 이하 "FPD"라 함)의 분야에서 주로 보급되고 있으며, 인쇄 배선판(Printed Wiring Board, 이하 경우에 의해 "PWB"라 함)과, 테이프 캐리어 패키지(Tape Carrier Package, 이하 "TCP"라 함) 또는 칩 온 플렉스(Chip On Flex, 이하 "COF"라 함)와의 접속에 사용되기 시작하고 있다. FPD 분야의 플렉시블 인쇄 배선판(Flexible Printed Circuits, 이하 경우에 따라 "FPC"라 함)과 PWB와의 접속에는 회로 접속 재료가 사용되고, 회로에는 일반적으로 금 도금 처리가 실시되어 있다. 한편, 칩이나 컨덴서 등의 부품이 실장되는 PWB에서는, 땜납에 의한 실장이 주류를 이루고 있다. 양호한 납땜성을 얻기 위해, 회로의 표면 처리로서 이미다졸 화합물을 포함하는 수지 피막을 형성하는 처리가 시도되고 있다. 또한, 대형 마더보드 등에는, 금을 사용하지 않고 비용을 삭감할 수 있다는 점에서, 이미다졸 화합물 등의 유기 수지를 포함하는 용액으로 처리(이하 경우에 의해 "OSP 처리"라 함)함으로써, 유기 피막(이하, 경우에 따라 "OSP막"이라 함)을 형성하는 것이 일반적이다. 이러한 OSP 처리된 회로 기판의 실장에 있어서도, 상기 회로 접속 재료의 사용이 검토되고 있다.These adhesives are prevalent in the fields of flat panel displays (hereinafter referred to as "FPD"), such as liquid crystal panels, and are printed wiring boards (hereinafter referred to as "PWB") and tapes. It is beginning to be used for connection with a Carrier Package (hereinafter referred to as "TCP") or Chip On Flex (hereinafter referred to as "COF"). Circuit connection materials are used for the connection between the flexible printed wiring boards (hereinafter referred to as "FPC" in the case of FPD) and PWB in the field of FPD, and the circuit is generally gold-plated. On the other hand, in PWB in which components such as chips and capacitors are mounted, mounting by solder is the mainstream. In order to obtain favorable solderability, the process which forms the resin film containing an imidazole compound as a surface treatment of a circuit is tried. In addition, since the cost can be reduced to a large motherboard etc. without using gold, it is organic by processing with the solution containing organic resins, such as an imidazole compound ("OSP process" hereafter)). It is common to form a film (hereinafter, referred to as "OSP film" in some cases). The use of the said circuit connection material is also examined also in the mounting of the OSP process circuit board.

또한, 고밀도 실장의 흐름으로부터, 회로 기판의 구조는 다층 구성이 주류를 이루고 있으며, 접속시의 열을 식히기 위해 접속부의 근방에 바이어홀(via hole)이나 스루홀(through hole) 등이 설치되어 있다. 이 때문에, 접속부에 열량을 제공하기에는 충분한 시간이 필요한 바, 생산 효율 향상의 측면에서는 단시간의 접속이 요구되고 있다.In addition, from the flow of high-density mounting, the circuit board structure has a mainstream multilayer structure, and via holes, through holes, and the like are provided in the vicinity of the connection part to cool the heat during the connection. . For this reason, sufficient time is needed to provide heat quantity to a connection part, and a short time connection is calculated | required from the point of a productive efficiency improvement.

FPD 분야의 FPC와 PWB와의 접속에 사용되고 있는 속경화성의 라디칼 경화계 접착제는, 단시간에 경화 가능하지만, OSP 처리된 기판에 적용한 경우에는, 금 도금 처리된 기판에 적용한 경우에 비하여 접속 저항이 상승하기 쉬운 경향이 있다.The fast curing radical curable adhesive used for the connection of FPC and PWB in the field of FPD can be cured in a short time, but when applied to OSP-treated substrates, connection resistance is increased compared to that applied to gold-plated substrates. Tends to be easy.

또한, 속경화 접속을 필요로 하지 않는 용도에서 종래 범용적으로 사용되어 온 에폭시 수지의 음이온 경화계의 접착제는, OSP 처리 기판에 대하여 양호한 접착력을 나타내지만, 납땜을 위해 리플로우로를 통과시킨 후에 접속 저항이 상승하는 경향이 있다.In addition, the epoxy resin-based anion-curing adhesive, which has been conventionally used universally for applications that do not require fast curing connections, exhibits good adhesion to OSP treated substrates, but after passing through a reflow furnace for soldering, The connection resistance tends to rise.

따라서, 본 발명은 단시간에서의 경화가 가능하며, OSP 처리된 기판에 적용한 경우에 충분히 높은 접속 신뢰성을 제공하는 회로 접속 재료, 이를 이용한 회로 부재의 접속 구조 및 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention provides a circuit connection material that can be cured in a short time and provides sufficiently high connection reliability when applied to an OSP treated substrate, a connection structure of a circuit member and a method of manufacturing the connection structure of a circuit member using the same. It aims to do it.

본 발명자들은 상기 과제에 대해서 예의 검토한 결과, 상기 경화계 접착제를 이용한 경우 접속 저항의 상승은, OSP막 자체가 비도전성인 것, 및 납땜을 위해 리플로우로를 통과함으로써 회로 기판의 OSP막이 딱딱해진 것이 요인이라는 지견을 얻어, 이하의 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining the said subject, when the said hardening-type adhesive agent is used, the raise of connection resistance is that OSP film | membrane is non-conductive, and OSP film | membrane of a circuit board becomes hard by passing through a reflow furnace for soldering. The finding that this is a factor came to complete the following invention.

즉 본 발명은 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료이며, 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하고, 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 회로 접속 재료를 제공한다.That is, this invention is a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes, and contains an adhesive composition and electroconductive particle, and an electroconductive particle contains the nucleus body which contains the metal of Vickers hardness of 300-1000, and the surface of the said nucleus body. Provided is a circuit connecting material which is a massive particle having an average particle diameter of 5 to 20 µm having an outermost layer containing a noble metal to be coated, and having irregularities formed on the surface of the conductive particles.

본 발명은 또한, 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료이며, 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하고, 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 회로 접속 재료를 제공한다.The present invention is also a circuit connecting material for electrically connecting opposing circuit electrodes, and contains an adhesive composition and conductive particles, the conductive particles comprising a nucleus containing nickel and a noble metal covering the surface of the nucleus. It provides the circuit connection material which is the bulk particle which has an average particle diameter of 5-20 micrometers which has an outermost surface layer, and the unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle.

본 발명의 회로 접속 재료는, 상술한 바와 같은 도전 입자를 접착제 조성물과 함께 함유함으로써, 단시간에서의 경화가 가능하며, OSP 처리된 기판에 대해서도 양호한 접속 신뢰성을 나타낼 수 있다.The circuit connection material of this invention can harden | cure in short time by containing the above-mentioned conductive particle with an adhesive composition, and can exhibit favorable connection reliability also about the OSP process board | substrate.

본 발명의 회로 접속 재료에 있어서의 도전 입자는, 요철에서의 높이의 차가 70 nm 내지 2 ㎛인 것이 바람직하다. 요철에서의 높이의 차가 상기 범위이면, 회로 전극의 OSP막을 관통하기 쉽고, 접속 저항의 상승을 억제하기 쉬워진다.It is preferable that the difference of the height in unevenness | corrugation in the electrically conductive particle in the circuit connection material of this invention is 70 nm-2 micrometers. If the difference in height in the unevenness is within the above range, it is easy to penetrate the OSP film of the circuit electrode, and the rise of the connection resistance can be easily suppressed.

보다 단시간에서의 경화를 가능하게 하는 관점에서, 본 발명의 회로 접속 재료에 있어서, 접착제 조성물이 라디칼 중합성 물질과, 가열에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제를 포함하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of enabling hardening in a shorter time, in the circuit connection material of the present invention, it is preferable that the adhesive composition contains a radical polymerizable material and a curing agent that generates free radicals by heating.

또한, 본 발명의 회로 접속 재료에 있어서의 접착제 조성물이 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 포함하는 경우, 회로 부재의 접속 구조의 접속 신뢰성을 보다 한층 향상시킬 수 있다.Moreover, when the adhesive composition in the circuit connection material of this invention contains an epoxy resin and a latent hardening | curing agent, the connection reliability of the connection structure of a circuit member can be improved further.

또한, 본 발명의 회로 접속 재료에 있어서, 대향하는 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 회로 접속 재료는, 상술한 바와 같은 도전 입자를 접착제 조성물과 함께 함유함으로써, 회로 전극이 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖고 있어도, 짧은 접속 시간으로 양호한 접속성을 얻는 것이 가능해진다.Moreover, in the circuit connection material of this invention, it is preferable that at least 1 of the opposing circuit electrodes has a film containing an imidazole compound. The circuit connection material of this invention can contain the electrically conductive particle mentioned above with adhesive composition, and even if a circuit electrode has a film containing an imidazole compound, it becomes possible to obtain favorable connection property with a short connection time.

본 발명은 제1 회로 기판의 주면 위에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 위에 제2 회로 전극이 형성되며, 제2 회로 전극이 제1 회로 전극과 대향 배치되도록 배치된 제2 회로 부재와, 제1 회로 기판과 제2 회로 기판 사이에 설치되며, 제1 및 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되도록 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 접속하는 회로 접속부를 구비한 회로 부재의 접속 구조이며, 회로 접속부가 상기 본 발명의 필름상 회로 접속 재료의 경화물인 회로 부재의 접속 구조를 제공한다.According to the present invention, a first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of a first circuit board, a second circuit electrode formed on a main surface of a second circuit board, and a second circuit electrode disposed to face the first circuit electrode. It is provided between the 2nd circuit member arrange | positioned and the 1st circuit board and the 2nd circuit board, and the circuit connection part which connects a 1st circuit member and a 2nd circuit member so that a 1st and a 2nd circuit electrode is electrically connected is provided. It is a connection structure of one circuit member, and a circuit connection part provides the connection structure of the circuit member which is a hardened | cured material of the film-form circuit connection material of the said invention.

본 발명의 회로 부재의 접속 구조에 있어서는, 제1 및 상기 제2 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는 것이 바람직하다.In the connection structure of the circuit member of this invention, it is preferable that at least one of a 1st and said 2nd circuit electrode has a film containing an imidazole compound.

종래의 단시간 경화형의 회로 접속 재료를 이용한 회로 부재의 접속 구조에서는, 회로 전극이 OSP막을 갖고 있는 경우, 단시간의 접속으로는 접속성을 향상시키는 것이 어려운 경향이 있다. 이에 반해, 본 발명의 회로 부재의 접속 구조는, 회로 접속부가 상기 본 발명의 회로 접속 재료의 경화물임으로써, 보다 짧은 접속 시간으로도 양호한 접속성을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 회로 부재의 접속 구조는, 회로 전극 표면을 이미다졸 화합물을 포함하는 재료로 이루어지는 피막으로 형성시키고 있기 때문에, 회로 전극이 산화로부터 보호되어, 양호한 납땜성을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 접속 구조는, 상기 본 발명의 회로 접속 재료에 의해 회로 부재끼리 접속되어 있음으로써, 충분히 높은 접착 강도 및 접속 신뢰성을 갖고 있다.In the connection structure of the circuit member using the conventional short-time hardening type circuit connection material, when a circuit electrode has an OSP film | membrane, it exists in the tendency which it is difficult to improve connectivity with a short time connection. On the other hand, in the connection structure of the circuit member of this invention, since a circuit connection part is a hardened | cured material of the circuit connection material of the said invention, favorable connection property can be obtained even with shorter connection time. In addition, since the circuit structure surface of the circuit member of the present invention is formed of a film made of a material containing an imidazole compound, the circuit electrode is protected from oxidation, and good solderability can be obtained. Moreover, the connection structure of this invention has sufficiently high adhesive strength and connection reliability by connecting circuit members with the circuit connection material of the said invention.

본 발명은 제1 회로 기판의 주면 위에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 위에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 제1 회로 전극 및 제2 회로 전극이 대향하도록 배치하고, 대향 배치한 제1 회로 전극과 제2 회로 전극 사이에 상기 필름상 회로 접속 재료를 개재시킨 상태에서 전체를 가열 및 가압하고, 제1 및 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되도록 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 접속하는 공정을 구비하는, 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법은, 상기 본 발명의 회로 접속 재료를 제1 회로 전극과 제2 회로 전극 사이에 개재시켜 가열 및 가압함으로써, 보다 짧은 접속 시간으로도 양호한 접속성을 갖는 회로 부재의 접속 구조를 얻을 수 있다.The present invention provides a first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of a second circuit board. Disposed so as to face each other, the whole is heated and pressurized in a state where the film-like circuit connection material is interposed between the first and second circuit electrodes that are disposed to face each other, and the first and second circuit electrodes are electrically connected. The manufacturing method of the connection structure of a circuit member provided with the process of connecting a 1st circuit member and a 2nd circuit member is provided. The manufacturing method of the connection structure of the circuit member of this invention has favorable connection property even with shorter connection time by heating and pressurizing the circuit connection material of the said invention between a 1st circuit electrode and a 2nd circuit electrode. The connection structure of a circuit member can be obtained.

본 발명은 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 접착제의 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서의 용도에 관한 것이다.The present invention is an adhesive containing an adhesive composition and conductive particles, wherein the conductive particles have a nucleus body containing a Vickers hardness of 300 to 1000 and an outermost layer containing a precious metal covering the surface of the nucleus. It is a mass particle of 20 micrometers, and relates to the use as a circuit connection material for electrically connecting the opposing circuit electrodes of an adhesive in which the unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle.

또한, 본 발명은 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 접착제의 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서의 용도에 관한 것이다.Moreover, this invention is an adhesive agent containing an adhesive composition and electroconductive particle, Comprising: The electroconductive particle has an average particle diameter of 5-20 micrometers which has a nucleus body containing nickel and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body. It is a mass particle and relates to the use as a circuit connection material for electrically connecting the opposing circuit electrodes of an adhesive in which the unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle.

본 발명은 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 접착제의 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위한 용도에 관한 것이다.The present invention is an adhesive containing an adhesive composition and conductive particles, wherein the conductive particles have a nucleus body containing a Vickers hardness of 300 to 1000 and an outermost layer containing a precious metal covering the surface of the nucleus. It is the mass particle of 20 micrometers, and relates to the use for manufacture of the circuit connection material for electrically connecting the opposing circuit electrodes of an adhesive agent in which the unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle.

또한, 본 발명은 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 접착제의 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위한 용도에 관한 것이다.Moreover, this invention is an adhesive agent containing an adhesive composition and electroconductive particle, Comprising: The electroconductive particle has an average particle diameter of 5-20 micrometers which has a nucleus body containing nickel and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body. It is a mass particle and relates to the use for manufacture of the circuit connection material for electrically connecting the opposing circuit electrodes of an adhesive agent in which the unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle.

본 발명에 따르면, 단시간에서의 경화가 가능하며, OSP 처리된 기판에 적용한 경우에 높은 접속 신뢰성을 제공하는 회로 접속 재료, 회로 부재의 접속 구조 및 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a circuit connection material, a circuit structure connection structure, and a circuit structure connection method that can be cured in a short time and provide high connection reliability when applied to an OSP-treated substrate. .

[도 1] 회로 접속 재료의 한 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
[도 2] 도전 입자의 외관의 일례를 나타내는 SEM 화상이다.
[도 3] 도전 입자의 확대한 표면의 일례를 나타내는 SEM 화상이다.
[도 4] 접속 구조의 한 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
[도 5] 접속 구조의 한 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a circuit connecting material.
2 is an SEM image showing an example of the appearance of the conductive particles.
3 is an SEM image showing an example of an enlarged surface of conductive particles.
4 is a cross-sectional view showing an embodiment of the connection structure.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an embodiment of the connection structure. FIG.

이하, 필요에 따라 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해서 상세히 설명한다. 다만, 본 발명이 이하의 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 도면 중 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하도록 하고, 중복되는 설명은 생략한다. 또한, 상하좌우 등의 위치 관계는, 특별한 언급이 없는 한 도면에 나타내는 위치 관계에 기초하도록 한다. 또한, 도면의 치수 비율은 도시한 비율로 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail, referring drawings as needed. However, this invention is not limited to the following embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same element in drawing, and the overlapping description is abbreviate | omitted. In addition, the positional relationship of up, down, left, right, etc. shall be based on the positional relationship shown in drawing unless there is particular notice. In addition, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

본 실시 형태에 따른 회로 접속 재료는, 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위해 이용되는 접착제이다. 도 1은 회로 접속 재료의 한 실시 형태를 도시하는 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 회로 접속 재료 (1)은, 수지층 (3)과, 수지층 (3) 내에 분산되어 있는 복수의 도전 입자 (8)로 구성되고, 필름상의 형상을 갖는다.The circuit connection material which concerns on this embodiment is an adhesive agent used in order to electrically connect circuit electrodes. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a circuit connection material. As shown in FIG. 1, the circuit connection material 1 is comprised from the resin layer 3 and the some electrically-conductive particle 8 dispersed in the resin layer 3, and has a film-like shape.

이하, 회로 접속 재료 (1)의 각 구성 재료에 대해서 설명한다.Hereinafter, each component material of the circuit connection material 1 is demonstrated.

(도전 입자) (Conductive particles)

도전 입자 (8)은, 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체를 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖고, 도전 입자의 표면에 복수의 요철이 형성되어 있는 괴상의 입자이다. 또한, 도전 입자 (8)은 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체를 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖고, 도전 입자의 표면에 복수의 요철이 형성되어 있는 괴상의 입자이다. 여기서 도전 입자 표면의 요철은, 후술하는 핵체 표면의 요철에서 유래되는 것이다.The electroconductive particle 8 is a bulk particle which has the nucleus body containing the metal of Vickers hardness 300-1000, and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the said nucleus body, and the some unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle. . Moreover, the electrically-conductive particle 8 is a massive particle which has the nucleus body containing nickel and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the said nucleus body, and the some unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle. The unevenness | corrugation of the surface of electroconductive particle is derived from the unevenness | corrugation of the nuclide surface mentioned later here.

도 2는 도전 입자의 외관의 일례를 나타내는 SEM 화상이고, 도 3은 도전 입자를 확대한 표면의 일례를 나타내는 SEM 화상이다. 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태의 도전 입자는 구상이 아닌 괴상의 입자이고, 그의 표면에 요철이 형성되어 있다. 이러한 도전 입자 (8)은, 회로 전극의 비도전성의 OSP 피막을 관통하기 쉬워, 접속 저항의 상승을 억제하기 쉽다. 그 때문에, 상기 도전 입자 (8)을 함유하는 회로 접속 재료 (1)을 이용하여 접속 신뢰성이 우수한 회로 부재의 접속 구조를 제작할 수 있다.FIG. 2 is an SEM image showing an example of the appearance of the conductive particles, and FIG. 3 is an SEM image showing an example of the surface on which the conductive particles are enlarged. As shown in FIG.2 and FIG.3, the electroconductive particle of this embodiment is not a spherical mass but a bulk particle, The unevenness | corrugation is formed in the surface. Such conductive particles 8 easily penetrate the non-conductive OSP film of the circuit electrode and easily suppress an increase in connection resistance. Therefore, the connection structure of the circuit member excellent in connection reliability can be produced using the circuit connection material 1 containing the said electroconductive particle 8.

도전 입자 (8)의 핵체는 니켈, 크롬, 몰리브덴, 망간, 코발트, 철, 망간, 바나듐, 티탄, 플래튬, 이리듐, 오스뮴, 텅스텐, 탄탈, 니오븀, 지르코늄, 팔라듐 등의 전이 금속으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속으로 구성되는 것이 바람직하고, 니켈로 구성되어 있는 것이 보다 바람직하다.The nucleus of the conductive particles 8 is at least selected from transition metals such as nickel, chromium, molybdenum, manganese, cobalt, iron, manganese, vanadium, titanium, platinum, iridium, osmium, tungsten, tantalum, niobium, zirconium and palladium. It is preferable that it is comprised with 1 type of metal, and it is more preferable that it is comprised with nickel.

핵체를 구성하는 금속의 비커스 경도는 300 내지 1000이고, 400 내지 800인 것이 보다 바람직하고, 500 내지 700인 것이 더욱 바람직하다. 핵체의 비커스 경도가 300 미만이면 도전 입자 (8)이 변형되기 쉽고, 전극 위의 OSP막의 배제성이 저하되는 경향이 있으며, 1000을 초과하면 도전 입자 (8)이 변형되기 어렵고, 양호한 접속 신뢰성을 제공하는 데에 충분한 접촉 면적을 확보하기 어려워진다.The Vickers hardness of the metal which comprises a nuclide is 300-1000, It is more preferable that it is 400-800, It is further more preferable that it is 500-700. If the Vickers hardness of the nucleus body is less than 300, the conductive particles 8 tend to be deformed, and the exclusion property of the OSP film on the electrode tends to be lowered. It becomes difficult to secure a sufficient contact area to provide.

핵체는, 그의 표면에 요철을 갖는다. 핵체가 표면에 요철을 가짐으로써, 도전 입자의 표면에 요철을 형성할 수 있다. 핵체의 표면에 요철을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 핵체가 니켈인 경우에는, 카르보닐법에 의해 니켈 광석을 일산화탄소와 상온에서 반응시켜 니켈카르보닐 착체를 형성하고, 추가로 100℃ 이상에서 가열함으로써 일산화탄소를 탈리시켜, 표면에 요철이 형성된 니켈을 얻을 수 있다.The nucleus body has irregularities on its surface. As the nucleus body has irregularities on the surface, irregularities can be formed on the surface of the conductive particles. The method of forming irregularities on the surface of the nucleus is not particularly limited. For example, when the nucleus is nickel, nickel ore is reacted with carbon monoxide at room temperature by carbonyl to form a nickel carbonyl complex, and further 100 Carbon monoxide can be detach | desorbed by heating at more than C, and nickel which the unevenness | corrugation was formed in the surface can be obtained.

도전 입자 (8)의 표면에 형성된 요철에서의 높이의 차는 70 nm 내지 2 ㎛인 것이 바람직하고, 90 nm 내지 1.5 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 120 nm 내지 1 ㎛인 것이 더욱 바람직하다. 요철에서의 높이의 차가 70 nm 이상이면, OSP막을 갖는 회로 전극에 대하여 침식되기 쉬워져, 신뢰성 시험 후의 접속 저항이 억제되는 경향이 있다. 또한, 요철에서의 높이의 차가 2 ㎛ 이내이면, 요철에서의 볼록부의 근본부에 접착제 조성물이 잔류하기 어려워져, 역시 신뢰성 시험 후의 접속 저항이 억제되는 경향이 있다.It is preferable that the difference of the height in the unevenness | corrugation formed in the surface of the electroconductive particle 8 is 70 nm-2 micrometers, It is more preferable that it is 90 nm-1.5 micrometers, It is further more preferable that it is 120 nm-1 micrometer. If the difference in height in the unevenness is 70 nm or more, the circuit electrode having the OSP film tends to be eroded, and the connection resistance after the reliability test tends to be suppressed. Moreover, when the difference in height in unevenness | corrugation is less than 2 micrometers, it is difficult for an adhesive composition to remain in the root part of the convex part in unevenness | corrugation, and also there exists a tendency for the connection resistance after a reliability test to be suppressed.

도전 입자 (8)의 평균 입경은 5 내지 20 ㎛이고, 8 내지 20 ㎛인 것이 바람직하고, 8 내지 15 ㎛인 것이 보다 바람직하다. 평균 입경이 5 ㎛ 미만이면 도전 입자 (8)과 전극이 접촉하기 전에 수지층 (3)의 경화가 진행되고, 20 ㎛를 초과하면 도전 입자 (8)의 곡률 반경이 크기 때문에, 전극 위의 OSP막의 배제성이 저하되어, 어느 경우에도 전기적 도통을 얻기 어려워진다. 또한, 본원에서 규정하는 도전 입자의 평균 입경은, SEM 화상에 의해 도전 입자(n수 50개)를 관찰함으로써 얻어지는 측정값이고, 예를 들면 가장 긴 입경 부분과 가장 짧은 입경 부분을 평균함으로써 산출할 수 있다.The average particle diameter of the electroconductive particle 8 is 5-20 micrometers, It is preferable that it is 8-20 micrometers, It is more preferable that it is 8-15 micrometers. If the average particle diameter is less than 5 µm, the curing of the resin layer 3 proceeds before the conductive particles 8 and the electrode contact each other. If the average particle diameter exceeds 20 µm, the radius of curvature of the conductive particles 8 is large. The exclusion of the film is lowered, making it difficult to obtain electrical conduction in any case. In addition, the average particle diameter of the electrically-conductive particle prescribed | regulated by this application is a measured value obtained by observing electrically conductive particle | grains (n number of 50 pieces) by a SEM image, for example, it can calculate it by averaging the longest particle size part and the shortest particle size part. Can be.

도전 입자 (8)의 최표층은 귀금속을 포함하고, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속으로 구성되어 있는 것이 바람직하고, 금 또는 백금으로 구성되어 있는 것이 보다 바람직하고, 금으로 구성되어 있는 것이 더욱 바람직하다. 도전 입자 (8)의 최표층을 이들 금속으로 구성함으로써, 회로 접속 재료 (1)의 가용 시간을 충분히 길게 할 수 있다.The outermost layer of the conductive particles 8 contains a noble metal, and is preferably composed of at least one metal selected from precious metals such as gold, silver, platinum, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, osmium, gold or It is more preferable to consist of platinum, and it is still more preferable to consist of gold. By making up the outermost layer of the electroconductive particle 8 with these metals, the pot life of the circuit connection material 1 can be made long enough.

도전 입자 (8)의 최표층의 두께는 0.03 내지 0.4 ㎛인 것이 바람직하고, 0.08 내지 0.2 ㎛인 것이 보다 바람직하다. 최표층의 두께가 0.03 ㎛ 이상이면, 도전 입자 (8)의 도전성이 유지되어 접속 저항이 억제되는 경향이 있고, 0.4 ㎛ 이내이면, 핵체에 최표층을 형성할 때의 비용이 억제되어, 염가성이 우수한 경향이 있다. 또한, 핵체는 그의 전면이 귀금속을 포함하는 최표층으로 덮여 있는 것이 바람직하지만, 본 발명의 효과를 일탈하지 않는 범위에서 핵체의 일부, 예를 들면 핵체 표면의 요철이 최표층으로부터 노출되어 있을 수도 있다.It is preferable that it is 0.03-0.4 micrometer, and, as for the thickness of the outermost layer of the electroconductive particle 8, it is more preferable that it is 0.08-0.2 micrometer. If the thickness of the outermost layer is 0.03 µm or more, the conductivity of the conductive particles 8 is maintained and the connection resistance tends to be suppressed. If the thickness of the outermost layer is within 0.4 µm, the cost of forming the outermost layer in the nucleus is suppressed and thus it is inexpensive. This tends to be excellent. In addition, although the nucleus body is preferably covered with the outermost layer containing the precious metal on its entire surface, a part of the nucleus, for example, irregularities on the surface of the nuclide, may be exposed from the outermost layer within the scope not departing from the effect of the present invention. .

도전 입자 (8)의 회로 접속 재료 (1)에 있어서의 배합량은 용도에 의해 적절히 설정되지만, 통상 접착제 조성물(즉, 회로 접속 재료 (1) 중 도전 입자 (8) 이외의 수지층 (3)의 부분) 100 부피부에 대하여 0.1 내지 30 부피부의 범위 내이다. 또한, 동일한 회로 기판 위에서 인접하는 회로 전극끼리의 단락을 방지하는 관점에서는, 도전 입자 (8)의 배합량은 0.1 내지 10 부피부인 것이 보다 바람직하다.Although the compounding quantity in the circuit connection material 1 of the electrically-conductive particle 8 is suitably set by a use, Usually, the adhesive composition (that is, of the resin layer 3 other than the electrically-conductive particle 8 in the circuit connection material 1) is used. Part) in the range of 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume. Moreover, it is more preferable that the compounding quantity of the electroconductive particle 8 is 0.1-10 volume parts from a viewpoint of preventing the short circuit of the adjacent circuit electrodes on the same circuit board.

(접착제 조성물) (Adhesive composition)

수지층 (3)을 형성하는 접착제 조성물은, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제와 라디칼 중합성 물질을 함유할 수 있다. 다시 말해, 회로 접속 재료 (1)은, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제와 라디칼 중합성 물질을 포함하는 접착제 조성물과, 도전 입자 (8)을 함유할 수 있다. 회로 접속 재료 (1)이 가열되었을 때에 라디칼 중합성 물질의 중합에 의해 접착제 조성물에서 가교 구조가 형성되어, 회로 접속 재료 (1)의 경화물이 형성된다. 이 경우, 회로 접속 재료 (1)은 라디칼 경화형의 접착제로서 기능한다.The adhesive composition which forms the resin layer 3 can contain the hardening | curing agent which generate | occur | produces free radicals, and a radically polymerizable substance. In other words, the circuit connection material 1 can contain the adhesive composition containing the hardening | curing agent which generates a free radical, and a radically polymerizable substance, and the electrically-conductive particle 8. When the circuit connection material 1 is heated, a crosslinked structure is formed in the adhesive composition by polymerization of the radically polymerizable substance, and a cured product of the circuit connection material 1 is formed. In this case, the circuit connection material 1 functions as a radical hardening type adhesive agent.

회로 접속 재료 (1)에 이용되는 유리 라디칼을 발생시키는 경화제는, 과산화 화합물, 아조계 화합물 등의 가열에 의해 분해하여 유리 라디칼을 발생시키는 것으로, 목적으로 하는 접속 온도, 접속 시간, 가용 시간 등에 의해 적절하게 선정된다. 배합량은 회로 접속 재료 (1)의 전체 질량을 기준으로 0.05 내지 10 질량%가 바람직하고, 0.1 내지 5 질량%(회로 접속 재료 (1)의 전체 질량을 100 질량부로 하여 0.05 내지 10 질량부가 바람직하고, 0.1 내지 5 질량부)가 보다 바람직하다. 유리 라디칼을 발생시키는 경화제는, 구체적으로는 디아실퍼옥시드, 퍼옥시디카르보네이트, 퍼옥시에스테르, 퍼옥시케탈, 디알킬퍼옥시드, 히드로퍼옥시드 등으로부터 선정할 수 있다. 또한, 회로 부재의 접속 단자의 부식을 억제하기 위해, 퍼옥시에스테르, 디알킬퍼옥시드, 히드로퍼옥시드로부터 선정되는 것이 바람직하고, 고반응성이 얻어지는 퍼옥시에스테르로부터 선정되는 것이 보다 바람직하다.The curing agent for generating free radicals used in the circuit connection material (1) decomposes by heating such as a peroxide compound, an azo compound, and generates free radicals, depending on the desired connection temperature, connection time, and available time. Appropriately selected. 0.05-10 mass% is preferable based on the total mass of the circuit connection material 1, and 0.1-5 mass% (0.05-10 mass parts is preferable for the total mass of the circuit connection material 1 as 100 mass parts), , 0.1 to 5 parts by mass) is more preferable. Specifically, the curing agent for generating free radicals may be selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxy ester, peroxy ketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide and the like. Moreover, in order to suppress corrosion of the connection terminal of a circuit member, it is preferable to select from peroxy ester, dialkyl peroxide, and hydroperoxide, and it is more preferable to select from peroxy ester from which high reactivity is obtained.

디아실퍼옥시드류로는, 예를 들면 2,4-디클로로벤조일퍼옥시드, 3,5,5,-트리메틸헥사노일퍼옥시드, 옥타노일퍼옥시드, 라우로일퍼옥시드, 스테아로일퍼옥시드, 숙시닉퍼옥시드, 벤조일퍼옥시톨루엔, 벤조일퍼옥시드를 들 수 있다.As the diacyl peroxides, for example, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5, -trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinct Nickel peroxide, benzoyl peroxy toluene, and benzoyl peroxide are mentioned.

퍼옥시디카르보네이트류로는, 예를 들면 디-n-프로필퍼옥시디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시디카르보네이트, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-2-에톡시메톡시퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실퍼옥시)디카르보네이트, 디메톡시부틸퍼옥시디카르보네이트 및 디(3-메틸-3-메톡시부틸퍼옥시)디카르보네이트를 들 수 있다.As peroxy dicarbonate, di-n-propyl peroxy dicarbonate, diisopropyl peroxy dicarbonate, bis (4-t- butylcyclohexyl) peroxy dicarbonate, di-, for example 2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate and di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate Can be mentioned.

퍼옥시에스테르류로는, 예를 들면 1,1,3,3,-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시노에데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3,-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시2-에틸헥사노네이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노네이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노네이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트 및 t-부틸퍼옥시아세테이트를 들 수 있다.As peroxy esters, it is 1,1,3,3,-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy nodecanoate, t-hexyl fur, for example. Oxyneodecanoate, t-butylperoxy pivalate, 1,1,3,3, -tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexano Nate, t-butylperoxy isobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethyl Hexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy 2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate and t-butyl perox It may be mentioned acetate.

퍼옥시케탈류로는, 예를 들면 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸 및 2,2-비스-(t-부틸퍼옥시)데칸을 들 수 있다.As peroxy ketals, it is 1,1-bis (t-hexyl peroxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) cyclohexane, 1, 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane and 2,2-bis- (t-butylperoxy) decane Can be mentioned.

디알킬퍼옥시드류로는, 예를 들면 α,α' 비스(t-부틸퍼옥시)디이소프로필벤젠, 디쿠밀퍼옥시드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산 및 t-부틸쿠밀퍼옥시드를 들 수 있다.Examples of the dialkyl peroxides include α, α 'bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy ) Hexane and t-butyl cumyl peroxide.

히드로퍼옥시드류로는, 예를 들면 디이소프로필벤젠히드로퍼옥시드 및 쿠멘히드로퍼옥시드를 들 수 있다.As hydroperoxides, diisopropyl benzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide are mentioned, for example.

이들 유리 라디칼을 발생시키는 경화제는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있고, 분해 촉진제, 억제제 등을 혼합하여 이용할 수도 있다. 또한, 이들 경화제를 폴리우레탄계, 폴리에스테르계의 고분자 물질 등으로 피복하여 마이크로 캡슐화한 것은, 가용 시간이 연장되기 때문에 바람직하다.The hardening | curing agent which generate | occur | produces these free radicals can be used individually or in mixture, and can also be used in combination with a decomposition accelerator, an inhibitor, etc. Moreover, it is preferable to coat these hardening | curing agents with the polyurethane-type, polyester-type high molecular substance, etc., and to microencapsulate, since the pot life is extended.

회로 접속 재료 (1)에 이용되는 라디칼 중합성 물질이란, 라디칼에 의해 중합하는 관능기를 갖는 물질이고, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이미드 화합물, 시트라콘이미드 수지, 나디이미드 수지 등을 들 수 있다. 라디칼 중합성 물질의 배합량은, 회로 접속 재료 (1)의 전체 질량을 100 질량부로 하여, 20 내지 50 질량부가 바람직하고, 30 내지 40 질량부가 보다 바람직하다. 라디칼 중합성 물질은, 단량체 및 올리고머 중 어느 상태에서도 이용하는 것이 가능하고, 단량체와 올리고머를 병용하는 것도 가능하다.The radically polymerizable substance used for the circuit connection material (1) is a substance which has a functional group to superpose | polymerize with a radical, and an acrylate, a methacrylate, a maleimide compound, a citraconimide resin, a nadiimide resin, etc. are mentioned. have. As for the compounding quantity of a radically polymerizable substance, 20-50 mass parts is preferable, and, as for the total mass of the circuit connection material 1, 100-40 mass parts is more preferable. A radically polymerizable substance can be used also in any of a monomer and an oligomer, and can also use a monomer and an oligomer together.

상기 아크릴레이트(대응하는 메타크릴레이트도 포함함, 이하 동일함)로는, 예를 들면 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디아크릴옥시프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시메톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트 및 우레탄아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있어, 필요에 따라 히드로퀴논, 메틸에테르히드로퀴논류 등의 중합 금지제를 적절하게 이용할 수도 있다. 또한, 디시클로펜테닐기 및/또는 트리시클로데카닐기 및/또는 트리아진환을 갖는 경우에는, 내열성이 향상되기 때문에 바람직하다.Examples of the acrylate (including the corresponding methacrylate, which are the same below) include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, and diethylene glycol di. Acrylate, trimethylolpropanetriacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate and urethane acrylate Can be mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types, You can also use polymerization inhibitors, such as hydroquinone and methyl ether hydroquinones suitably as needed. Moreover, when it has a dicyclopentenyl group and / or a tricyclo decanyl group, and / or a triazine ring, since heat resistance improves, it is preferable.

상기 말레이미드 화합물로는, 분자 중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유함으로써, 예를 들면 1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-p-페닐렌비스말레이미드, N,N'-m-톨루일렌비스말레이미드, N,N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌)비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디메틸디페닐메탄)비스말레이미드, N,N'-4,4-(3,3'-디에틸디페닐메탄)비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-3,3'-디페닐술폰비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4,8-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)데칸, 4,4'-시클로헥실리덴-비스(1-(4-말레이미드페녹시)-2-시클로헥실벤젠 및 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)헥사플루오로프로판을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As said maleimide compound, at least 2 or more maleimide groups are contained in a molecule | numerator, for example, 1-methyl- 2, 4-bismaleimide benzene, N, N'-m-phenylene bismaleimide, N, N'-p-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toluylenebismaleimide, N, N'-4,4-biphenylenebismaleimide, N, N'-4,4- ( 3,3'-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3, 3'-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenylpropanebismaleimide, N, N'- 3,3'-diphenylsulfonebismaleimide, N, N'-4,4-diphenyletherbismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2, 2-bis (3-s-butyl-4,8- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) decane, 4,4 ' -Cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidephenoxy) -2-cyclohexylbenzene and 2 And 2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) hexafluoropropane, which may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 시트라콘이미드 수지란, 분자 중에 시트라콘이미드기를 적어도 1개 갖고 있는 시트라콘이미드 화합물을 중합시킨 것으로, 시트라콘이미드 화합물로는, 예를 들면 페닐시트라콘이미드, 1-메틸-2,4-비스시트라콘이미드벤젠, N,N'-m-페닐렌비스시트라콘이미드, N,N'-p-페닐렌비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-비페닐렌비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-(3,3-디메틸비페닐렌)비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-(3,3-디메틸디페닐메탄)비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-(3,3-디에틸디페닐메탄)비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-디페닐프로판비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-디페닐에테르비스시트라콘이미드, N,N'-4,4-디페닐술폰비스시트라콘이미드, 2,2-비스(4-(4-시트라콘이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-3,4-(4-시트라콘이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-시트라콘이미드페녹시)페닐)데칸, 4,4'-시클로헥실리덴-비스(1-(4-시트라콘이미드페녹시)페녹시)-2-시클로헥실벤젠 및 2,2-비스(4-(4-시트라콘이미드페녹시)페닐)헥사플루오로프로판을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The citraconimide resin is a polymerized citraconimide compound having at least one citraconimide group in a molecule, and examples of the citraconimide compound include phenylcitraconimide and 1-methyl. -2,4-biscitraconimide benzene, N, N'-m-phenylenebiscitraconimide, N, N'-p-phenylenebiscitraconimide, N, N'-4,4 Biphenylenebiscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethylbiphenylene) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyl Diphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebissheet Laconimide, N, N'-4,4-diphenylpropanebiscitraconimide, N, N'-4,4-diphenyletherbiscitraconimide, N, N'-4,4-di Phenyl sulfonbiscitraconimide, 2,2-bis (4- (4-citraconimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-3,4- (4-sheet Laconimidephenoxy) phenyl) propane , 1,1-bis (4- (4-citraconimidephenoxy) phenyl) decane, 4,4'-cyclohexylidene-bis (1- (4-citraconimidephenoxy) phenoxy) 2-cyclohexyl benzene and 2, 2-bis (4- (4-citraconimide phenoxy) phenyl) hexafluoro propane are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 나디이미드 수지란, 분자 중에 나디이미드기를 적어도 1개 갖고 있는 나디이미드 화합물을 중합한 것으로, 나디이미드 화합물로는, 예를 들면 페닐나디이미드, 1-메틸-2,4-비스나디이미드벤젠, N,N'-m-페닐렌비스나디이미드, N,N'-p-페닐렌비스나디이미드, N,N'-4,4-비페닐렌비스나디이미드, N,N'-4,4-(3,3-디메틸비페닐렌)비스나디이미드, N,N'-4,4-(3,3-디메틸디페닐메탄)비스나디이미드, N,N'-4,4-(3,3-디에틸디페닐메탄)비스나디이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스나디이미드, N,N'-4,4-디페닐프로판비스나디이미드, N,N'-4,4-디페닐에테르비스나디이미드, N,N'-4,4-디페닐술폰비스나디이미드, 2,2-비스(4-(4-나디이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-3,4-(4-나디이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-나디이미드페녹시)페닐)데칸, 4,4'-시클로헥실리덴-비스(1-(4-나디이미드페녹시)페녹시)-2-시클로헥실벤젠 및 2,2-비스(4-(4-나디이미드페녹시)페닐)헥사플루오로프로판을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The said nadiimide resin superposed | polymerized the nadiimide compound which has at least 1 nadiimide group in a molecule | numerator, As a nadiimide compound, For example, phenyl naimide, 1-methyl- 2, 4- bis naimide benzene, N, N'-m-phenylenebisnamidimide, N, N'-p-phenylenebisnamidimide, N, N'-4,4-biphenylenebisnamidimide, N, N'-4,4 -(3,3-dimethylbiphenylene) bisnamidimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bisnamidimide, N, N'-4,4- (3, 3-diethyldiphenylmethane) bisnamidimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebisnamidimide, N, N'-4,4-diphenylpropanebisnamidimide, N, N'-4 , 4-diphenyletherbisnamidimide, N, N'-4,4-diphenylsulfonbisnamidimide, 2,2-bis (4- (4-namidimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2- Bis (3-s-butyl-3,4- (4-nadiimidphenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-nadiimidphenoxy) phenyl) decane, 4,4'-cyclo Hexylidene-bis (1- (4-nadiiimi Phenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene and 2,2-bis (4- (4-nadiyi mid-phenoxy) phenyl) hexafluoropropane. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

회로 접속 재료 (1)은, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제 및 라디칼 중합성 물질에 더하여, 다른 성분을 함유할 수도 있다. 예를 들면, 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 함유할 수 있다.The circuit connection material 1 may contain other components in addition to the hardening | curing agent and radically polymerizable substance which generate | occur | produce a free radical. For example, it may contain a thermoplastic resin and a thermosetting resin.

열가소성 수지로는 폴리에틸렌 수지, 폴리이미드 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리페닐렌옥시드 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐포르말 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 폴리스티렌 수지, 크실렌 수지, 폴리우레탄 수지 등을 사용할 수 있다.As thermoplastic resin, polyethylene resin, polyimide resin, polyvinyl chloride resin, polyphenylene oxide resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyamide resin, polyester resin, phenoxy resin, polystyrene resin, xylene Resins, polyurethane resins and the like can be used.

열가소성 수지로서 Tg(유리 전이 온도)가 40℃ 이상이고 분자량 10000 이상의 수산기 함유 수지를 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들면 페녹시 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 페녹시 수지는 이관능 페놀류와 에피할로히드린을 고분자량이 될 때까지 반응시키거나, 또는 이관능 에폭시 수지와 이관능 페놀류를 중부가 반응시킴으로써 얻어진다.As the thermoplastic resin, a hydroxyl group-containing resin having a Tg (glass transition temperature) of 40 ° C. or more and a molecular weight of 10000 or more can be preferably used, for example, a phenoxy resin can be preferably used. A phenoxy resin is obtained by making bifunctional phenols and epihalohydrin react until high molecular weight, or carrying out heavy addition reaction of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol.

열경화성 수지로는 요소 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 크실렌 수지, 에폭시 수지, 폴리이소시아네이트 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include urea resin, melamine resin, phenol resin, xylene resin, epoxy resin, polyisocyanate resin and the like.

상기 열가소성 수지를 함유하는 경우, 취급성도 양호하고 경화시의 응력 완화가 우수하기 때문에 바람직하다. 또한, 상기 열가소성 수지 및 열경화성 수지는 수산기 등의 관능기를 갖는 경우, 접착성이 향상되기 때문에 보다 바람직하고, 에폭시기 함유 엘라스토머, 라디칼 중합성의 관능기에 의해서 변성되어 있을 수도 있다. 라디칼 중합성의 관능기로 변성한 것은 내열성이 향상되기 때문에 바람직하다.When it contains the said thermoplastic resin, since handling is also favorable and the stress relaxation at the time of hardening is excellent, it is preferable. Moreover, when the said thermoplastic resin and thermosetting resin have functional groups, such as a hydroxyl group, since adhesiveness improves, it is more preferable, and may be modified by epoxy group containing elastomer and radically polymerizable functional group. Modification with a radically polymerizable functional group is preferable because heat resistance is improved.

상기 열가소성 수지의 중량 평균 분자량은 10000 이상인 것이 제막성 등의 측면에서 바람직하지만, 1000000 이상이 되면 혼합성이 악화되는 경향이 있다. 또한, 본원에서 규정하는 중량 평균 분자량이란, 이하의 조건에 따라 겔 투과 크로마토그래피법(GPC)에 의해 표준 폴리스티렌에 의한 검량선을 이용하여 측정한 것을 말한다.It is preferable that the weight average molecular weight of the said thermoplastic resin is 10000 or more from a viewpoint of film forming property, etc., However, when it becomes 1 million or more, there exists a tendency for mixing property to deteriorate. In addition, the weight average molecular weight prescribed | regulated by this application means the thing measured using the analytical curve by standard polystyrene by the gel permeation chromatography method (GPC) on the following conditions.

<GPC 조건> <GPC condition>

사용 기기: 히다치 L-6000형(히다치 세이사꾸쇼(주) 제조)Equipment used: Hitachi L-6000 type (manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)

칼럼: 겔팩 GL-R420+겔팩 GL-R430+겔팩 GL-R440(총 3개)(히타치 가세이 고교(주) 제조)Column: Gel Pack GL-R420 + Gel Pack GL-R430 + Gel Pack GL-R440 (3 in total) (manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.)

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

측정 온도: 40℃ Measuring temperature: 40 ° C

유량: 1.75 mL/분 Flow rate: 1.75 mL / min

검출기: L-3300RI(히다치 세이사꾸쇼(주) 제조) Detector: L-3300RI (made by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)

또한, 접착제 조성물(수지층 (3))은, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제 및 라디칼 중합성 물질 대신에 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 함유할 수도 있다. 즉, 회로 접속 재료 (1)은, 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 포함하는 접착제 조성물과 도전 입자 (8)을 함유할 수 있다. 회로 접속 재료 (1)이 가열되었을 때에 에폭시 수지의 경화에 의해 접착제 조성물에서 가교 구조가 형성되고, 회로 접속 재료 (1)의 경화물이 형성된다. 이 경우, 회로 접속 재료 (1)은 에폭시 경화형의 접착제로서 기능한다.Moreover, an adhesive composition (resin layer 3) may contain an epoxy resin and a latent hardener instead of the hardening | curing agent and radically polymerizable substance which generate | occur | produce a free radical. That is, the circuit connection material 1 can contain the adhesive composition and electroconductive particle 8 containing an epoxy resin and a latent hardening | curing agent. When the circuit connection material 1 is heated, a crosslinked structure is formed from an adhesive composition by hardening of an epoxy resin, and the hardened | cured material of the circuit connection material 1 is formed. In this case, the circuit connection material 1 functions as an epoxy hardening-type adhesive agent.

에폭시 수지로는 비스페놀 A, F, AD 등의 비스페놀의 글리시딜에테르인 비스페놀형 에폭시 수지 및 페놀노볼락 또는 크레졸노볼락으로부터 유도되는 에폭시노볼락 수지가 대표적인 에폭시 수지이다. 그 밖의 예로서, 나프탈렌 골격을 갖는 나프탈렌형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지 및 복소환식 에폭시 수지를 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 이용된다.Examples of the epoxy resins include bisphenol-type epoxy resins, which are glycidyl ethers of bisphenols such as bisphenol A, F, and AD, and epoxy novolac resins derived from phenol novolac or cresol novolac. As another example, the naphthalene type | mold epoxy resin which has a naphthalene frame | skeleton, glycidyl amine type | mold epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and a heterocyclic epoxy resin are mentioned. These are used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 에폭시 수지 중에서도, 비스페놀형 에폭시 수지가 분자량이 상이한 등급이 넓게 입수 가능하며, 접착성이나 반응성 등을 임의로 설정할 수 있기 때문에 바람직하다. 비스페놀형 에폭시 수지 중에서도, 비스페놀 F형 에폭시 수지가 특히 바람직하다. 비스페놀 F형 에폭시 수지의 점도는 낮아, 페녹시 수지와의 조합하여 이용함으로써, 회로 접속 재료 (1)의 유동성을 용이하게 광범위하게 설정할 수 있다. 또한, 비스페놀 F형 에폭시 수지는, 회로 접속 재료 (1)에 양호한 점착성을 부여하기 쉽다는 이점도 갖는다.Among the above epoxy resins, bisphenol-type epoxy resins are available in a wide range of grades having different molecular weights, and are preferable because they can arbitrarily set adhesiveness, reactivity, and the like. Among bisphenol type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins are particularly preferable. The viscosity of bisphenol F-type epoxy resin is low, and by using it in combination with a phenoxy resin, the fluidity | liquidity of the circuit connection material 1 can be set easily and extensively. Moreover, bisphenol F-type epoxy resin also has the advantage of being easy to provide favorable adhesiveness to the circuit connection material (1).

불순물 이온(Na+, Cl- 등) 농도 또는 가수분해성 염소가 300 ppm 이하인 에폭시 수지를 이용하는 것이 일렉트론마이그레이션 방지를 위해 바람직하다.It is preferable to use an epoxy resin having an impurity ion (Na + , Cl −, etc.) concentration or a hydrolyzable chlorine of 300 ppm or less to prevent electromigration.

잠재성 경화제로는 에폭시 수지를 경화시킬 수 있는 것이면 된다. 또한, 잠재성 경화제는 에폭시 수지와 반응하여 가교 구조 중에 도입되는 화합물일 수도 있고, 에폭시 수지의 경화 반응을 촉진시키는 촉매형 경화제일 수도 있다. 양자를 병용하는 것도 가능하다.What is necessary is just to be able to harden an epoxy resin as a latent hardening | curing agent. In addition, the latent curing agent may be a compound which reacts with the epoxy resin and is introduced into the crosslinked structure, or may be a catalytic curing agent that promotes the curing reaction of the epoxy resin. It is also possible to use both together.

촉매형 경화제로는, 예를 들면 에폭시 수지의 음이온 중합을 촉진시키는 음이온 중합형 잠재성 경화제, 및 에폭시 수지의 양이온 중합을 촉진시키는 양이온 중합형 잠재성 경화제를 들 수 있다.As a catalyst type hardening | curing agent, the anionic polymerization type latent hardening agent which accelerates | stimulates the anion polymerization of an epoxy resin, and the cationic polymerization type latent hardening agent which accelerates cation polymerization of an epoxy resin are mentioned, for example.

음이온 중합형 잠재성 경화제로는, 예를 들면 이미다졸계, 히드라지드계, 삼불소붕소-아민 착체, 아민이미드, 폴리아민의 염, 디시안디아미드 및 이들 변성물을 들 수 있다. 이미다졸계의 음이온 중합형 잠재성 경화제는, 예를 들면 이미다졸 또는 그의 유도체를 에폭시 수지에 부가하여 형성된다.As an anionic polymerization type latent hardening | curing agent, an imidazole series, a hydrazide system, a boron trifluoride-amine complex, an amine imide, the salt of a polyamine, dicyandiamide, and these modified substances are mentioned, for example. The imidazole-based anionic polymerization type latent curing agent is formed by, for example, adding imidazole or a derivative thereof to the epoxy resin.

양이온 중합형 잠재성 경화제로는, 예를 들면 에너지선 조사에 의해 에폭시 수지를 경화시키는 감광성 오늄염(방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염 등이 주로 이용됨)이 바람직하다. 또한, 에너지선 조사 이외에 가열에 의해서 활성화하여 에폭시 수지를 경화시키는 것으로서, 지방족 술포늄염이 있다. 이 종류의 경화제는 속경화성이라는 특징을 갖기 때문에 바람직하다.As a cationic polymerization type latent hardening | curing agent, the photosensitive onium salt (aromatic diazonium salt, aromatic sulfonium salt, etc. are mainly used) which hardens an epoxy resin by energy-beam irradiation, for example is preferable. In addition to the energy ray irradiation, there are aliphatic sulfonium salts that are activated by heating to cure the epoxy resin. This type of curing agent is preferable because it has the characteristics of fast curing.

이들 잠재성 경화제를 폴리우레탄계, 폴리에스테르계 등의 고분자 물질, 니켈, 구리 등의 금속 박막 및 규산칼슘 등의 무기물로 피복하여 마이크로 캡슐화한 것은, 가용 시간이 연장될 수 있기 때문에 바람직하다.The microencapsulation of these latent curing agents by coating a polymer material such as polyurethane or polyester, a metal thin film such as nickel or copper and an inorganic material such as calcium silicate is preferable because the pot life can be extended.

잠재성 경화제의 배합량은, 에폭시 수지 100 질량부에 대하여 30 내지 60 질량부인 것이 바람직하고, 40 내지 55 질량부인 것이 보다 바람직하다. 잠재성 경화제의 배합량이 30 질량부 이상이면 회로 접속 재료 (1)의 경화 수축에 의한 피착체에 대한 조이는 힘이 저하되기 어려워진다. 그 결과, 도전 입자 (8)과 회로 전극과의 접촉이 유지되어, 신뢰성 시험 후의 접속 저항이 억제되기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, 잠재성 경화제의 배합량의 60 질량부 이내이면 조이는 힘이 지나치게 강해지지 않기 때문에, 회로 접속 재료 (1)의 경화물에서의 내부 응력이 커지기 어려워, 접착 강도의 저하를 억제하기 쉬워지는 경향이 있다.It is preferable that it is 30-60 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins, and, as for the compounding quantity of a latent hardening | curing agent, it is more preferable that it is 40-55 mass parts. When the compounding quantity of latent hardening | curing agent is 30 mass parts or more, the tightening force with respect to the to-be-adhered body by hardening shrinkage of the circuit connection material 1 will become difficult to fall. As a result, there exists a tendency for the contact of the electroconductive particle 8 and a circuit electrode to be maintained, and the connection resistance after a reliability test becomes easy to be suppressed. On the other hand, since the tightening force does not become too strong when it is within 60 mass parts of the compounding quantity of a latent hardening | curing agent, internal stress in the hardened | cured material of the circuit connection material 1 becomes large, and it tends to become easy to suppress the fall of adhesive strength. have.

회로 접속 재료 (1)이 에폭시 수지계의 접착제인 경우, 필름 형성재를 함유하는 것이 바람직하다. 필름 형성재는, 액상물을 고형화하여 구성 조성물을 필름 형상으로 한 경우, 그 필름의 취급을 용이하게 하고, 용이하게 찢어지거나, 깨지거나, 달라붙지 않는 기계적 특성 등을 부여하는 것으로, 통상의 상태(상온 상압)에서 필름으로서의 취급이 가능한 것이다.When the circuit connection material 1 is an epoxy resin adhesive, it is preferable to contain a film formation material. When the film-forming material solidifies the liquid and forms the constituent composition in the form of a film, the film-forming material facilitates handling of the film, and imparts mechanical properties that are not easily torn, broken, or stuck to each other. Normal temperature and normal pressure) can be handled as a film.

필름 형성재로서 상술한 열가소성 수지를 사용할 수 있고, 접착성, 상용성, 내열성 및 기계적 강도가 우수하기 때문에 페녹시 수지를 이용하는 것이 바람직하다.Since the thermoplastic resin mentioned above can be used as a film forming material, and it is excellent in adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength, it is preferable to use a phenoxy resin.

페녹시 수지는 2관능성 페놀류와 에피할로히드린을 고분자화할 때까지 반응시키거나, 또는 2관능성 에폭시 수지와 2관능성 페놀류를 중부가시킴으로써 얻어지는 수지이다. 페녹시 수지는, 예를 들면 2관능성 페놀류 1몰과 에피할로히드린 0.985 내지 1.015몰을 알칼리 금속 수산화물 등의 촉매의 존재하에, 비반응성 용매 중에서 40 내지 120℃의 온도에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다.Phenoxy resin is resin obtained by making it react until it polymerizes bifunctional phenols and epihalohydrin, or carrying out polyaddition of bifunctional epoxy resin and bifunctional phenols. The phenoxy resin can be obtained, for example, by reacting 1 mole of bifunctional phenols and 0.985 to 1.015 mole of epihalohydrin at a temperature of 40 to 120 ° C. in a nonreactive solvent in the presence of a catalyst such as an alkali metal hydroxide. have.

또한, 페녹시 수지로는, 수지의 기계적 특성이나 열적 특성의 측면에서는, 특히 2관능성 에폭시 수지와 2관능성 페놀류와의 배합 당량비를 에폭시기/페놀 수산기=1/0.9 내지 1/1.1로 하고, 알칼리 금속 화합물, 유기 인계 화합물, 환상 아민계 화합물 등의 촉매의 존재하에 비점이 120℃ 이상인 아미드계, 에테르계, 케톤계, 락톤계, 알코올계 등의 유기 용제 중에서, 반응 고형분이 50 질량% 이하의 조건으로 50 내지 200℃로 가열하여 중부가 반응시켜 얻은 것이 바람직하다.In addition, as the phenoxy resin, in view of the mechanical properties and thermal properties of the resin, the compounding equivalence ratio between the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenols is set to the epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1 / 1.1, Reaction solid content is 50 mass% or less in organic solvents, such as amide type, ether type, ketone type, lactone type, and alcohol type, whose boiling point is 120 degreeC or more in presence of catalyst, such as an alkali metal compound, an organophosphorus compound, and a cyclic amine compound, etc. It is preferable that it is obtained by heating at 50-200 degreeC on the conditions of, and carrying out heavy part reaction.

2관능성 에폭시 수지로는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 AD형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 2관능성 페놀류는 2개의 페놀성 수산기를 갖는 것이고, 예를 들면 히드로퀴논류, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 비스페놀 S 등의 비스페놀 화합물을 들 수 있다.As the bifunctional epoxy resin, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol AD type epoxy resins, and bisphenol S type epoxy resins can be used. The bifunctional phenols have two phenolic hydroxyl groups, and examples thereof include bisphenol compounds such as hydroquinones, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol S.

페녹시 수지는, 라디칼 중합성의 관능기에 의해 변성되어 있을 수도 있다. 페녹시 수지는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The phenoxy resin may be modified with a radical polymerizable functional group. The phenoxy resin can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

또한, 회로 접속 재료 (1)은 충전재, 연화재, 촉진제, 노화 방지제, 착색제, 난연화제, 틱소트로픽제, 커플링제 및 이소시아네이트류 등을 함유할 수도 있다. 충전재를 함유한 경우, 접속 신뢰성 등의 향상이 얻어지기 때문에 바람직하다. 충전재의 최대 직경이 도전 입자 (8)의 입경 미만이면 사용할 수 있으며, 배합량은 5 내지 60부피%의 범위가 바람직하다. 5 내지 60부피%이면 신뢰성 향상의 효과가 유지되기 쉬워진다. 커플링제로는 비닐기, 아크릴기, 아미노기, 에폭시기 및 이소시아네이트기 함유물이 접착성 향상의 측면에서 바람직하다. 필요에 따라, 히드로퀴논, 메틸에테르히드로퀴논류 등의 중합 금지제를 적절하게 이용할 수도 있다.In addition, the circuit connection material 1 may contain a filler, a softener, an accelerator, an antiaging agent, a coloring agent, a flame retardant, a thixotropic agent, a coupling agent, an isocyanate, and the like. When the filler is contained, the connection reliability and the like can be improved, which is preferable. It can be used if the largest diameter of a filler is less than the particle diameter of the electroconductive particle 8, and the compounding quantity has a preferable range of 5 to 60 volume%. If it is 5 to 60 volume%, the effect of a reliability improvement will become easy to be maintained. As a coupling agent, a vinyl group, an acryl group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group containing material are preferable at the point of an adhesive improvement. As needed, polymerization inhibitors, such as hydroquinone and methyl ether hydroquinones, can also be used suitably.

본 실시 형태의 회로 접속 재료는, 상술한 바와 같이 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위해서 이용되는 접착제이다.The circuit connection material of this embodiment is an adhesive agent used in order to electrically connect circuit electrodes as mentioned above.

즉, 본 실시 형태의 접착제는, 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있다. 본 접착제는, 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서 용도할 수 있다. 또한, 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위해 용도할 수 있다.That is, the adhesive agent of this embodiment is an adhesive agent containing an adhesive composition and electroconductive particle, and an electroconductive particle contains the nucleus body containing the metal of Vickers hardness 300-1000, and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body. It is a bulk particle which has an average particle diameter of 5-20 micrometers, and an unevenness | corrugation is formed in the surface of electroconductive particle. This adhesive agent can be used as a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes. Moreover, it can use for manufacture of the circuit connection material for electrically connecting opposing circuit electrodes.

또한, 본 실시 형태의 접착제는, 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고, 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있다. 본 접착제는 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서 용도할 수 있다. 또한, 대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위해 용도할 수 있다.Moreover, the adhesive agent of this embodiment is an adhesive agent containing an adhesive composition and electroconductive particle, An electroconductive particle has an average particle diameter of 5 which has a nucleus body containing nickel and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body. It is a bulk particle of 20 micrometers, and the unevenness | corrugation is formed in the surface of an electroconductive particle. This adhesive agent can be used as a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes. Moreover, it can use for manufacture of the circuit connection material for electrically connecting opposing circuit electrodes.

다음으로, 회로 접속 재료 (1)을 이용한 본 실시 형태의 회로 부재의 접속 구조에 대해서 설명한다. 회로 접속 재료 (1)은 반도체칩, 저항체칩 및 컨덴서칩 등의 칩 부품, 및 인쇄 배선판과 같은 1 또는 2 이상의 회로 전극(접속 단자)을 갖는 회로 부재끼리가 접속된 접속 구조를 형성하기 위해서 바람직하게 이용된다.Next, the connection structure of the circuit member of this embodiment using the circuit connection material 1 is demonstrated. The circuit connection material 1 is preferable in order to form the connection structure in which the chip components, such as a semiconductor chip, a resistor chip, and a capacitor chip, and circuit members which have 1 or 2 or more circuit electrodes (connection terminals), such as a printed wiring board, are connected. Is used.

도 4는, 회로 부재의 접속 구조의 한 실시 형태를 도시하는 단면도이다. 도 4에 도시한 회로 부재의 접속 구조 (100)은, 제1 회로 기판 (11) 및 이것의 주면 위에 형성된 제1 회로 전극 (13)을 갖는 제1 회로 부재 (10)과, 제2 회로 기판 (21) 및 이것의 주면 위에 형성된 제2 회로 전극 (23)을 갖고, 제2 회로 전극 (23)과 제1 회로 전극 (13)이 대향하도록 배치된 제2 회로 부재 (20)과, 제1 회로 부재 (10) 및 제2 회로 부재 (20) 사이에 개재하는 접속부 (1a)를 구비한다.4 is a cross-sectional view showing an embodiment of a connection structure of a circuit member. The connection structure 100 of the circuit member shown in FIG. 4 includes the first circuit member 10 having the first circuit board 11 and the first circuit electrode 13 formed on the main surface thereof, and the second circuit board. 2nd circuit member 20 which has 21 and 2nd circuit electrode 23 formed on the main surface, and is arrange | positioned so that 2nd circuit electrode 23 and 1st circuit electrode 13 may oppose, and 1st The connection part 1a interposed between the circuit member 10 and the 2nd circuit member 20 is provided.

접속부 (1a)는, 회로 접속 재료 (1)이 경화하여 형성된 경화물로, 도전 입자 (8)을 포함하고 있다. 접속부 (1a)는, 대향하는 제1 회로 전극 (13)과 제2 회로 전극 (23)이 전기적으로 접속되도록 제1 회로 부재 (10)과 제2 회로 부재 (20)을 접착하고 있다. 대향하는 제1 회로 전극 (13)과 제2 회로 전극 (23)은, 도전 입자 (8)을 통해 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 접속부 (1a)가 도전 입자 (8)을 함유하지 않은 경우에도, 회로 접속 재료 (1)을 통해 제1 회로 전극 (13)과 제2 회로 전극 (23)은 전기적인 접속이 가능하다.The connection part 1a is hardened | cured material formed by hardening | curing the circuit connection material 1, and contains the electroconductive particle 8. As shown in FIG. The connection part 1a adhere | attaches the 1st circuit member 10 and the 2nd circuit member 20 so that the opposing 1st circuit electrode 13 and the 2nd circuit electrode 23 may electrically connect. Opposing first circuit electrodes 13 and second circuit electrodes 23 are electrically connected via conductive particles 8. Moreover, even when the connection part 1a does not contain the electroconductive particle 8, the 1st circuit electrode 13 and the 2nd circuit electrode 23 can be electrically connected through the circuit connection material 1.

제1 회로 기판 (11)은 폴리에스테르테레프탈레이트, 폴리에테르설폰, 에폭시 수지, 아크릴 수지 및 폴리이미드 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 수지 필름이다. 제1 회로 전극 (13)은, 전극으로서 기능할 수 있을 정도의 도전성을 갖는 재료(바람직하게는 금, 은, 주석, 백금족의 금속 및 인듐-주석 산화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종)로 형성되어 있다.The first circuit board 11 is a resin film containing at least one resin selected from the group consisting of polyester terephthalate, polyether sulfone, epoxy resin, acrylic resin and polyimide resin. The first circuit electrode 13 is made of a material (preferably at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxides) having a conductivity sufficient to function as an electrode. Formed.

제2 회로 기판 (21)은 반도체칩류의 실리콘이나 갈륨·비소 등이나, 유리, 세라믹, 유리·에폭시 복합체, 플라스틱 등의 절연 기판에서 형성되는 다층 배선판이다. 제2 회로 전극 (23)은 도체부 (23a)와, 회로 전극 (23)의 표면 중 접속부 (1a)와 접하는 부분을 형성하는 피막 (23b)를 갖고, 피막 (23b)는 도전 입자 (8)의 표면에 형성된 요철에 의해서 관통되어 전기적으로 접속하고 있는 것이 바람직하다. 도체부 (23a)는 회로 전극 (23)이 전극으로서 기능할 수 있을 정도의 도전성을 갖는 재료(바람직하게는 금, 은, 주석, 백금족의 금속 및 인듐-주석 산화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종)로 형성되어 있다.The second circuit board 21 is a multilayer wiring board formed from an insulating substrate such as silicon, gallium arsenide, or the like of semiconductor chips, glass, ceramic, glass, epoxy composite, or plastic. The 2nd circuit electrode 23 has the conductor part 23a and the film 23b which forms the part which contact | connects the connection part 1a among the surfaces of the circuit electrode 23, and the film 23b is the electroconductive particle 8 It is preferable to penetrate and electrically connect with the unevenness | corrugation formed in the surface. The conductor portion 23a is at least one selected from the group consisting of a material (preferably gold, silver, tin, a platinum group metal, and an indium-tin oxide) having a conductivity sufficient for the circuit electrode 23 to function as an electrode. Species).

피막 (23b)는 유기 수지를 포함하는 재료로 이루어지는 피막이고, 이미다졸 화합물 등의 유기 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 피막 (23b)는 제2 회로 기판 (21)을 OSP(Organic Solderability Preservative; 유기 땜납 보존제) 처리함으로써 형성된다. 여기서 OSP 처리란, 수용성 프리플럭스라고도 불리는 기판의 처리 방법이고, 일반적으로는 이미다졸 화합물을 포함하는 용액으로 기판을 처리함으로써 OSP막을 형성하고 있다. 이미다졸 화합물을 포함하는 피막이란, 이미다졸계 유도체와 금속으로부터 생성된 착체가, 전극 표면 위에서 상호 결합함으로써 형성된 막이다. 즉, 이미다졸 화합물을 포함하는 피막은, 회로 전극이 형성된 기판을 이미다졸 화합물을 포함하는 용액으로 OSP 처리함으로써 형성할 수 있다. 이미다졸 화합물로는, 내열성 측면에서 벤즈이미다졸계 유도체가 바람직하게 이용된다. OSP 처리는, 예를 들면 시판되고 있는 것으로는 시코쿠 가세이(주) 제조의 상품명 타프에이스 F2, F2(LX) 또는 (주)상와 겡뀨쇼 제조 도코트 GVII, 또는 엔손 인크(Enthone.Inc) 제조 Entek106A, 106A(X), 또는 맥크(주) 제조 맥크시일 CL-5824S, CL-5018, CL-5018S를 이용하여 행할 수 있다.The film 23b is a film made of a material containing an organic resin, and preferably contains an organic resin such as an imidazole compound. The film 23b is formed by treating the second circuit board 21 with an organic solder preservative (OSP). OSP treatment is a method of processing a substrate, also referred to as a water-soluble preflux, and generally forms an OSP film by treating the substrate with a solution containing an imidazole compound. The film containing an imidazole compound is a film | membrane formed by mutually bonding the imidazole derivative and the complex produced | generated from the metal on the electrode surface. That is, the film containing an imidazole compound can be formed by OSP treatment of the board | substrate with a circuit electrode with the solution containing an imidazole compound. As the imidazole compound, a benzimidazole derivative is preferably used in terms of heat resistance. OSP treatment is commercially available as a commercially available product of Shikoku Kasei Co., Ltd. brand name Tarpace F2, F2 (LX) or Co., Ltd., Tosho G. Co., Ltd., or Ensonone Inc. Entek106A , 106A (X), or McSeal CL-5824S, CL-5018, CL-5018S can be used.

본 실시 형태에 따른 회로 접속 재료는, 제1 및 제2 회로 전극 중 적어도 하나가 유기 수지를 포함하는 재료를 포함하는 피막을 갖고 있는 회로 부재의 접속에 사용할 수 있다. 또한, 도 5에 도시한 회로 부재의 접속 구조의 한 실시 형태를 도시하는 단면도와 같이, 제2 회로 전극 (23)뿐만 아니라, 제1 회로 전극 (13)이 도체부 (13a)와, 회로 전극 (13)의 표면 중 접속부 (1a)와 접하는 부분을 형성하는 피막 (13b)를 가질 수도 있고, 제1 회로 전극 (13)의 피막 (13b)도 도전 입자 (8)의 표면에 형성된 요철에 의해서 관통되어 전기적으로 접속하고 있는 것이 바람직하다. 피막 (13b)는 피막 (23b)와 마찬가지의 방법으로 형성된다.The circuit connection material which concerns on this embodiment can be used for the connection of the circuit member which has the film | membrane in which at least one of a 1st and 2nd circuit electrode contains the material containing organic resin. In addition, not only the 2nd circuit electrode 23 but the 1st circuit electrode 13 is a conductor part 13a, and a circuit electrode like sectional drawing which shows one Embodiment of the connection structure of the circuit member shown in FIG. It may have a film 13b which forms the part which contacts the connection part 1a among the surfaces of 13, and the film 13b of the 1st circuit electrode 13 also has an unevenness | corrugation formed in the surface of the electroconductive particle 8 It is preferable to penetrate and electrically connect. The film 13b is formed by the same method as the film 23b.

본 실시 형태의 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법은, 제1 회로 기판의 주면 위에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 위에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를 제1 회로 전극 및 제2 회로 전극이 대향하도록 배치하고, 대향 배치한 제1 회로 전극과 제2 회로 전극 사이에 본 실시 형태의 필름상 회로 접속 재료를 개재시킨 상태에서 전체를 가열 및 가압하여, 제1 및 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되도록 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 접속하는 공정을 구비한다.The manufacturing method of the connection structure of the circuit member of this embodiment is the 1st circuit member in which the 1st circuit electrode was formed on the main surface of the 1st circuit board, and the 2nd circuit member in which the 2nd circuit electrode was formed on the main surface of the 2nd circuit board. Is arranged so that the first circuit electrode and the second circuit electrode face each other, and the whole is heated and pressed in a state where the film-like circuit connection material of the present embodiment is interposed between the first circuit electrode and the second circuit electrode which face each other. And a step of connecting the first circuit member and the second circuit member so that the first and second circuit electrodes are electrically connected.

회로 부재의 접속 구조 (100)은, 예를 들면 제1 회로 부재 (10)과, 상술한 필름상의 회로 접속 재료 (1)과, 제2 회로 부재 (20)을 제1 회로 전극 (13)과 제2 회로 전극 (23)이 대치하도록 이 순서대로 적층한 적층체를 가열 및 가압함으로써, 제1 회로 전극 (13)과 제2 회로 전극 (23)이 전기적으로 접속되도록 제1 회로 부재 (10)과 제2 회로 부재 (20)을 접속하는 제조 방법에 의해서 얻어진다.The connection structure 100 of the circuit member is, for example, the first circuit member 10, the film-like circuit connection material 1 described above, and the second circuit member 20 with the first circuit electrode 13. The first circuit member 10 is configured such that the first circuit electrode 13 and the second circuit electrode 23 are electrically connected by heating and pressurizing the laminated body stacked in this order so that the second circuit electrode 23 is opposed. And the manufacturing method of connecting the 2nd circuit member 20 to it.

이 제조 방법에 있어서는, 예를 들면 지지 필름 위에 형성되어 있는 필름상의 회로 접속 재료 (1)을 제2 회로 부재 (20) 위에 접합시킨 상태에서 가열 및 가압하여 회로 접속 재료 (1)을 가접착하고, 지지 필름을 박리한 뒤, 제1 회로 부재 (10)을 회로 전극이 대향하도록 위치 정렬하면서 적재하여 적층체를 준비할 수 있다. 접속시의 가열에 의해서 발생하는 휘발 성분에 의한 접속에의 영향을 방지하기 위해, 접속 공정 전에 회로 부재를 미리 가열 처리해 두는 것이 바람직하다.In this manufacturing method, the circuit connection material 1 is temporarily bonded by heating and pressurizing in the state which bonded the film-form circuit connection material 1 formed on the support film on the 2nd circuit member 20, for example. After peeling a support film, the laminated body can be prepared by loading the 1st circuit member 10, arrange | positioning so that a circuit electrode may oppose. In order to prevent the influence on the connection by the volatile component which arises by the heating at the time of connection, it is preferable to heat-process a circuit member before a connection process previously.

상기 적층체를 가열 및 가압하는 조건은, 회로 접속 재료 중 조성물의 경화성 등에 따라, 회로 접속 재료가 경화하여 충분한 접착 강도가 얻어지도록 적절하게 조정된다. 또한, 회로 접속 재료 중 조성물에 따라 광 조사로 접속할 수도 있다.The conditions for heating and pressurizing the laminate are appropriately adjusted in accordance with the curability of the composition, etc. in the circuit connection material, so that the circuit connection material is cured to obtain sufficient adhesive strength. Moreover, it can also be connected by light irradiation according to a composition in a circuit connection material.

접속 구조를 구성하는 회로 부재가 갖는 기판은 실리콘 및 갈륨·비소 등의 반도체칩 및 유리, 세라믹, 유리·에폭시 복합체 및 플라스틱 등의 절연 기판일 수도 있다.The board | substrate which the circuit member which comprises a connection structure has may be a semiconductor chip, such as silicon and gallium arsenide, and insulating boards, such as glass, a ceramic, a glass, an epoxy composite, and plastics.

실시예Example

이하, 본 발명의 내용을 실시예를 이용하여 더욱 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the content of the present invention will be described in more detail using examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(1) 회로 접속 재료의 제작(1) Preparation of the circuit connection material

(1-1) 접착제 조성물을 구성하는 각 성분의 준비 (1-1) Preparation of each component which comprises an adhesive composition

"퍼헥사 25O": 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일)헥산(닛본 유시 제조, 상품명) "Perhexa 25O": 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) hexane (manufactured by Nippon Yushi, trade name)

"UN5500": 우레탄아크릴레이트올리고머(네가미 고교 제조, 상품명) "UN5500": urethane acrylate oligomer (made by Negami Kogyo, trade name)

"DCP-A": 디시클로펜타디엔형 디아크릴레이트(도아 고세이 제조, 상품명) "DCP-A": Dicyclopentadiene type diacrylate (Toagosei Co., Ltd. brand name)

"M-215": 이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트(도아 고세이 제조, 상품명) "M-215": isocyanuric acid EO modified diacrylate (made by Toagosei, brand name)

"P-2M": 2-메타크릴로일옥시에틸애시드포스페이트(교에이샤 가가꾸 제조, 상품명) "P-2M": 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (the Kyoeisha Chemical Co., Ltd. make, brand name)

"HX3941HP": 음이온 중합형 잠재성 경화제 함유 에폭시 수지(이미다졸계 마이크로 캡슐형 경화제를 35 질량% 함유, 아사히 가세이 케미컬즈 제조, 상품명) "HX3941HP": Anionic polymerization type latent hardener-containing epoxy resin (35 mass% of imidazole microcapsule type hardeners, Asahi Kasei Chemicals make, brand name)

"UR-8200": 폴리에스테르우레탄(도요 보세끼 제조, 상품명) "UR-8200": Polyester urethane (Toyo Bonde Co., Ltd. brand name)

"EV40W": 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(미쓰이 듀퐁 폴리케미컬 제조, 상품명) "EV40W": Ethylene-vinyl acetate copolymer (Mitsui DuPont Polychemical make, brand name)

"PKHC": 비스페놀 A형 페녹시 수지(중량 평균 분자량 45000, 인켐 코포레이션 제조, 상품명) "PKHC": Bisphenol A phenoxy resin (weight average molecular weight 45000, the Inchem Corporation make, brand name)

"아크릴 고무 A": 부틸아크릴레이트 40 질량부-에틸아크릴레이트 30 질량부-아크릴로니트릴 30 질량부-글리시딜메타크릴레이트 3 질량부의 공중합체(중량 평균 분자량 약 85만) "Acrylic rubber A": Copolymer of butyl acrylate 40 mass parts-ethyl acrylate 30 mass parts-acrylonitrile 30 mass parts-glycidyl methacrylate 3 mass parts (weight average molecular weight about 850,000)

"SH6040": 실란 커플링제(γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 도레이 다우코닝 실리콘 제조, 상품명)"SH6040": silane coupling agent (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Toray Dow Corning, trade name)

(1-2) 도전 입자의 준비 (1-2) Preparation of Conductive Particles

"도전 입자 A"로서 표면에 복수의 요철이 형성된 Ni 입자를 포함하는 핵체와, 상기 핵체에 금 도금을 실시하여 형성된 금으로 이루어진 최표층을 갖는, 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. "도전 입자 B"로서, 표면에 복수의 요철이 형성된 Ni 입자를 포함하는 핵체와, 상기 핵체에 팔라듐 도금을 실시하여 형성된 금으로 이루어진 최표층을 갖는 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. 또한, "도전 입자 C"로서, 구상의 Ni 입자를 포함하는 핵체와, 상기 핵체에 금 도금을 실시하여 형성된 금으로 이루어진 최표층을 갖는, 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. "도전 입자 D"로서, 구상의 Ni 입자를 포함하는 핵체와, 상기 핵체에 금 도금을 실시하여 형성된 금으로 이루어진 최표층을 갖는, 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. 또한, "도전 입자 E"로서, 표면에 요철이 형성된 Ni 입자를 포함하는 핵체만을 갖는, 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. "도전 입자 F"로서, 구상의 Ni 입자인 핵체만을 갖는, 평균 입경 10 ㎛의 도전 입자를 준비하였다. 여기서 표면에 복수의 요철이 형성된 Ni 입자를 포함하는 핵체는, 니켈 광석을 일산화탄소와 25℃ 환경하에서 반응시켜 니켈카르보닐 착체를 형성하고, 상기 니켈카르보닐 착체를 100℃에서 가열하고 일산화탄소를 탈리시켜(카르보닐법) 얻은 것이다.A conductive particle having an average particle diameter of 10 µm was prepared as a "conductive particle A" having a nucleus body including Ni particles having a plurality of irregularities formed on the surface thereof, and an outermost layer made of gold formed by gold plating the nucleus body. As "conductive particle B", conductive particles having an average particle diameter of 10 µm having a nucleus body including Ni particles having a plurality of irregularities formed on the surface thereof, and an outermost layer made of gold formed by applying palladium plating to the nucleus body were prepared. Further, as "conductive particles C", conductive particles having an average particle diameter of 10 µm having a nucleus body containing spherical Ni particles and an outermost layer made of gold formed by gold plating the nucleus body were prepared. As "conductive particle D", conductive particles having an average particle diameter of 10 µm having a nucleus body containing spherical Ni particles and an outermost layer made of gold formed by gold plating the nucleus body were prepared. Moreover, as "conductive particle E", the electrically-conductive particle of 10 micrometers of average particle diameters which has only the nuclear body containing Ni particle in which the unevenness | corrugation was formed in the surface was prepared. As "conductive particle F", the electrically-conductive particle of 10 micrometers of average particle diameters which has only the nuclear body which is spherical Ni particle was prepared. Here, the nucleus body including Ni particles having a plurality of irregularities formed on the surface reacts nickel ore with carbon monoxide in a 25 ° C. environment to form a nickel carbonyl complex, heats the nickel carbonyl complex at 100 ° C., and desorbs carbon monoxide. (Carbonyl method).

(실시예 1) (Example 1)

"퍼헥사 25O"의 50 질량% 탄화수소 용매 용액 8 질량부(불휘발분 환산으로 4 질량부), 라디칼 중합성 물질로서 "UN5500"의 50 질량% 톨루엔 용액 60 질량부(불휘발분 환산으로 30 질량부), "DCP-A" 8 질량부, "M-215" 8 질량부, "P-2M" 2 질량부, "UR-8200"의 30 질량% 메틸에틸케톤/톨루엔(=50/50) 용액을 150 질량부(불휘발분 환산으로 45 질량부) 및 "EV40W"의 20 질량% 톨루엔 용액 50 질량부(불휘발분 환산으로 10 질량부)를 배합하고, 추가로 "도전 입자 A" 10 질량부를 배합하였다. 이 혼합 용액을 어플리케이터로 PET 필름 위에 도포하고, 70℃ 10분의 열풍 건조에 의해 수지층의 두께가 35 ㎛인 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. 8 parts by mass of a 50% by mass hydrocarbon solvent solution of "perhexa 25O" (4 parts by mass in terms of non volatile matter), 60 parts by mass of 50% by mass of toluene solution of "UN5500" as a radical polymerizable material (30 parts by mass in terms of nonvolatile matter) ), 8 parts by mass of "DCP-A", 8 parts by mass of "M-215", 2 parts by mass of "P-2M", 30% by mass methylethylketone / toluene (= 50/50) solution of "UR-8200" 150 parts by mass (45 parts by mass in terms of non volatile matter) and 50 parts by mass (10 parts by mass in terms of non volatile matter) of 20 mass% toluene solution of "EV40W" are added, and 10 parts by mass of "conductive particles A" are further blended. It was. This mixed solution was apply | coated on PET film with an applicator, and the film-form circuit connection material whose thickness of a resin layer is 35 micrometers was obtained by 70 degreeC hot air drying for 10 minutes.

(실시예 2) (Example 2)

도전 입자로서, 도전 입자 B를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of the conductive particles B were used as the conductive particles.

(실시예 3) (Example 3)

도전 입자로서, 도전 입자 A를 20 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.Except having used 20 mass parts of electroconductive particle A as electroconductive particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the film-form circuit connection material.

(실시예 4) (Example 4)

"HX3941HP-SS" 50 질량부, "PKHC"의 40 질량% 톨루엔/아세트산에틸(=50/50) 용액 37.5 질량부(불휘발분 환산으로 15 질량부), "아크릴 고무 A"의 10 질량% 톨루엔/아세트산에틸(=50/50) 용액 350 질량부(불휘발분 환산으로 35 질량부) 및 "SH6040" 2 질량부를 배합하고, 추가로 "도전 입자 A" 10 질량부를 배합하였다. 이 혼합 용액을 어플리케이터로 PET 필름 위에 도포하고, 70℃ 10분의 열풍 건조에 의해 수지층의 두께가 35 ㎛인 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.50 mass parts of "HX3941HP-SS", 37.5 mass parts of 40 mass% toluene / ethyl acetate (= 50/50) solution of "PKHC" (15 mass parts in terms of non volatile matter), and 10 mass% toluene of "acrylic rubber A" 350 parts by mass of the ethyl acetate (= 50/50) solution (35 parts by mass in terms of non-volatile content) and 2 parts by mass of "SH6040" were blended, and 10 parts by mass of "conductive particles A" were further blended. This mixed solution was apply | coated on PET film with an applicator, and the film-form circuit connection material whose thickness of a resin layer is 35 micrometers was obtained by 70 degreeC hot air drying for 10 minutes.

(실시예 5) (Example 5)

도전 입자로서, 도전 입자 B를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 10 parts by mass of the conductive particles B were used as the conductive particles.

(실시예 6) (Example 6)

도전 입자로서, 도전 입자 A를 20 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 20 parts by mass of the conductive particles A were used as the conductive particles.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

도전 입자로서, 도전 입자 C를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of the conductive particles C were used as the conductive particles.

(비교예 2) (Comparative Example 2)

도전 입자로서, 도전 입자 D를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다.A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of the conductive particles D were used as the conductive particles.

(비교예 3) (Comparative Example 3)

도전 입자로서, 도전 입자 E를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. Except having used 10 mass parts of electroconductive particle E as electroconductive particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the film-form circuit connection material.

(비교예 4) (Comparative Example 4)

도전 입자로서, 도전 입자 F를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts by mass of the conductive particles F were used as the conductive particles.

(비교예 5) (Comparative Example 5)

도전 입자로서, 도전 입자 C를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 10 parts by mass of the conductive particles C were used as the conductive particles.

(비교예 6) (Comparative Example 6)

도전 입자로서, 도전 입자 D를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 10 parts by mass of the conductive particles D were used as the conductive particles.

(비교예 7) (Comparative Example 7)

도전 입자로서, 도전 입자 E를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. A film-like circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 10 parts by mass of the conductive particles E were used as the conductive particles.

(비교예 8) (Comparative Example 8)

도전 입자로서, 도전 입자 F를 10 질량부 이용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 필름상의 회로 접속 재료를 얻었다. A film-form circuit connection material was obtained in the same manner as in Example 4 except that 10 parts by mass of the conductive particles F were used as the conductive particles.

실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 8의 회로 접속 재료의 조성을 질량부(불휘발분 환산)로 하기 표 1 및 표 2에 나타내었다.The compositions of the circuit connection materials of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 8 are shown in Tables 1 and 2 below in terms of mass (in terms of nonvolatile matter).

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

(2) 회로 부재의 접속 구조의 제작(2) Preparation of the connection structure of the circuit member

(2-1) OSP 처리된 인쇄 배선판(PWB)의 제작 (2-1) Preparation of OSP Treated Printed Wiring Board (PWB)

유리·에폭시 다층 인쇄 배선판 위에 라인폭 100 ㎛, 피치 400 ㎛, 두께 35 ㎛의 구리 회로 전극을 형성시켰다(이를 이하 "PWB"라 함). 또한 PWB의 구리 회로 전극 표면에 벤즈이미다졸 화합물(시코쿠 가세이(주) 제조, 상품명 "타프에이스")을 이용하여 OSP 처리를 하고, 두께 0.10 내지 0.32 ㎛의 벤즈이미다졸계 수지 착체의 피막을 형성시켰다(이를 이하 "OSP-PWB"라 함).A copper circuit electrode having a line width of 100 μm, a pitch of 400 μm, and a thickness of 35 μm was formed on a glass / epoxy multilayer printed wiring board (hereinafter referred to as “PWB”). Furthermore, OSP treatment was carried out on the surface of the copper circuit electrode of PWB using a benzimidazole compound (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., product name "Tap Ace") to form a coating film of a benzimidazole-based resin complex having a thickness of 0.10 to 0.32 µm. (Hereinafter referred to as "OSP-PWB").

(2-2) OSP 처리된 플렉시블 인쇄 배선판(FPC)의 제작 (2-2) Preparation of OSP Treated Flexible Printed Wiring Board (FPC)

두께 25 ㎛의 폴리이미드 필름 위에 라인폭 100 ㎛, 피치 400 ㎛, 두께 18 ㎛의 구리 회로 전극이 직접 형성된 플렉시블 인쇄 배선판(이를 이하 "FPC"라 함)을 준비하였다. 이것에 상기 OSP-PWB와 동일하게 하여 OSP 처리를 실시하여, 두께 0.10 내지 0.32 ㎛의 벤즈이미다졸계 수지 착체의 피막을 형성시켰다(이를 이하 "OSP-FPC"라 함).A flexible printed wiring board (hereinafter referred to as “FPC”) in which a copper circuit electrode having a line width of 100 μm, a pitch of 400 μm, and a thickness of 18 μm was directly formed on a polyimide film having a thickness of 25 μm was prepared. An OSP treatment was carried out in the same manner as the above OSP-PWB to form a coating film of a benzimidazole-based resin complex having a thickness of 0.10 to 0.32 µm (hereinafter referred to as "OSP-FPC").

(2-3) 회로 전극의 접속(PWB와 FPC의 접속) (2-3) Connection of circuit electrodes (connection of PWM and FPC)

접속하기 전에 리플로우로 통과의 모의 처리로서, OSP-PWB 및 OSP-FPC를 250℃의 핫 플레이트 위에서 30초간 가열 처리하였다. OSP-PWB 위에 상기한 필름상의 회로 접속 재료의 접착면을 첩부한 후, 70℃, 1 MPa로 2초간 가열 및 가압하여 임시 접속한 후, PET 필름을 박리하였다. 다음으로, OSP-FPC의 회로 전극과 OSP-PWB의 회로 전극이 대향하도록 위치 정렬한 후, 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 4에 대해서는 160℃, 4 MPa로 6초간 가열 및 가압하였다. 또한, 실시예 4 내지 6 및 비교예 5 내지 8에 대해서는 170℃, 4 MPa로 20초간 가열하였다. FPC와 PWB의 기판 사이의 폭은 2 mm였다.OSP-PWB and OSP-FPC were heat treated on a 250 ° C. hot plate for 30 seconds as a simulated pass through reflow before connecting. After affixing the adhesive surface of the above-mentioned film-form circuit connection material on OSP-PWB, PET film was peeled off after heating and pressurizing at 70 degreeC and 1 MPa for 2 second, and temporarily connecting. Next, after aligning so that the circuit electrode of OSP-FPC and the circuit electrode of OSP-PWB faced each other, about Example 1-3 and Comparative Examples 1-4, it heated and pressed at 160 degreeC and 4 MPa for 6 second. In addition, about Examples 4-6 and Comparative Examples 5-8, it heated at 170 degreeC and 4 MPa for 20 second. The width between the substrate of the FPC and the PWB was 2 mm.

(3) 회로 부재의 접속 구조의 평가(3) Evaluation of the connection structure of the circuit member

(3-1) 접속 저항의 측정(3-1) Measurement of connection resistance

제작한 접속 구조의 회로 접속부를 포함하는 회로 사이의 저항값을 디지털 멀티미터를 이용하여 4 단자법으로 측정하였다. 접속 저항의 측정은 접속 직후 85℃, 85% RH의 항온항습조 중에 1000시간 유지하는 고온 고습 처리를 행한 후와, -40℃ 내지 +100℃의 열충격 시험 1000사이클 처리를 행한 후에 각각 측정하였다. 신뢰성 시험 후의 4 단자법에 의한 접속 저항이 100 mΩ 이하의 범위를 양호하다고 판단하였다. 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The resistance value between circuits containing the circuit connection part of the produced connection structure was measured by the 4-probe method using a digital multimeter. The measurement of the connection resistance was measured after the high temperature and high humidity process which hold | maintain for 1000 hours in 85 degreeC and 85% RH constant temperature and humidity tank immediately after connection, and after 1000 cycles of thermal shock test of -40 degreeC-+100 degreeC, respectively. It was judged that the connection resistance by the 4-probe method after the reliability test had a range of 100 mΩ or less. The results are shown in Table 3 below.

Figure pct00003
Figure pct00003

표 3에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 6의 회로 접속 재료는 고온 고습 처리 후 및 열충격 시험 후 중 어느 하나에서도 접속 저항의 상승이 작고, 접속 신뢰성이 우수한 것이 확인되었다. 한편, 비교예 1 내지 8의 회로 접속 재료는, 고온 고습 처리 후 및 열충격 시험 후 중 어느 하나에서도 100 mΩ를 초과하는 접속 저항을 나타내고, 접속 신뢰성이 떨어져 있었다.As shown in Table 3, it was confirmed that the circuit connection materials of Examples 1 to 6 had a small increase in connection resistance and excellent connection reliability in either of the high-temperature, high-humidity treatment and after the thermal shock test. On the other hand, the circuit connection material of the comparative examples 1-8 showed the connection resistance exceeding 100 m (ohm) in either after high temperature, high humidity process, and after a thermal shock test, and connection reliability was inferior.

[산업상의 이용가능성][Industrial Availability]

본 발명에 따르면, 단시간에서의 경화가 가능하며, OSP 처리된 기판에 적용한 경우에 높은 접속 신뢰성을 제공하는 회로 접속 재료, 회로 부재의 접속 구조 및 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a circuit connection material, a circuit structure connection structure, and a circuit structure connection method that can be cured in a short time and provide high connection reliability when applied to an OSP-treated substrate. .

1… 회로 접속 재료, 1a… 접속부, 3… 수지층, 8… 도전 입자, 10… 제1 회로 부재, 11… 제1 회로 기판, 13… 제1 회로 전극, 20… 제2 회로 부재, 21… 제2 회로 기판, 23… 제2 회로 전극, 23a… 도체부, 23b… 피막, 100… 회로 부재의 접속 구조. One… Circuit connection material, 1a... 3,. Resin layer, 8... Conductive particles, 10 ... First circuit member, 11... First circuit board, 13... First circuit electrode, 20... Second circuit member, 21... Second circuit board, 23... Second circuit electrode, 23a... Conductor portion, 23b... Film, 100... Connection structure of the circuit member.

Claims (21)

대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료이며,
접착제 조성물과 도전 입자를 함유하고,
상기 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층(最表層)을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 회로 접속 재료.
It is a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes,
Contains an adhesive composition and conductive particles,
The said electrically-conductive particle is a bulk particle which has an average particle diameter of 5-20 micrometers which has a nucleus body containing the metal of Vickers hardness 300-1000, and the outermost layer containing the precious metal which coat | covers the surface of the said nucleus body, The circuit connection material in which the unevenness | corrugation is formed in the surface of the said electroconductive particle.
대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료이며,
접착제 조성물과 도전 입자를 함유하고,
상기 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는, 회로 접속 재료.
It is a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes,
Contains an adhesive composition and conductive particles,
The conductive particles are bulk particles having an average particle diameter of 5 to 20 µm having a nucleus body containing nickel and an outermost layer containing a noble metal covering the surface of the nucleus, and irregularities are formed on the surface of the conductive particles. Circuit connection material.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 요철에서의 높이의 차가 70 nm 내지 2 ㎛인 회로 접속 재료. The circuit connection material of Claim 1 or 2 whose difference in height in the said unevenness | corrugation is 70 nm-2 micrometers. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 라디칼 중합성 물질과, 가열에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제를 포함하는, 회로 접속 재료. The circuit connection material of any one of Claims 1-3 in which the said adhesive composition contains a radically polymerizable substance and the hardening | curing agent which generate | occur | produces free radical by heating. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 포함하는, 회로 접속 재료. The circuit connection material of any one of Claims 1-3 in which the said adhesive composition contains an epoxy resin and a latent hardening | curing agent. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대향하는 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는, 회로 접속 재료.The circuit connection material according to any one of claims 1 to 5, wherein at least one of the opposing circuit electrodes has a coating containing an imidazole compound. 제1 회로 기판의 주면 위에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판의 주면 위에 제2 회로 전극이 형성되며, 상기 제2 회로 전극이 상기 제1 회로 전극과 대향 배치되도록 배치된 제2 회로 부재와,
상기 제1 회로 기판과 상기 제2 회로 기판 사이에 설치되며, 상기 제1 및 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접속하는 회로 접속부
를 구비한 회로 부재의 접속 구조이며,
상기 회로 접속부가 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 필름상 회로 접속 재료의 경화물인 회로 부재의 접속 구조.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit board,
A second circuit member formed on a main surface of a second circuit board, the second circuit member disposed so that the second circuit electrode is disposed to face the first circuit electrode;
A circuit connecting portion provided between the first circuit board and the second circuit board and connecting the first circuit member and the second circuit member to electrically connect the first and second circuit electrodes.
Is a connection structure of a circuit member having a
The connection structure of the circuit member whose said circuit connection part is a hardened | cured material of the film-form circuit connection material of any one of Claims 1-6.
제7항에 있어서, 상기 제1 및 상기 제2 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는, 접속 구조. The connection structure of Claim 7 in which at least one of the said 1st and said 2nd circuit electrode has a film containing an imidazole compound. 제1 회로 기판의 주면 위에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 위에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극 및 상기 제2 회로 전극이 대향하도록 배치하고, 대향 배치한 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극 사이에 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 필름상 회로 접속 재료를 개재시킨 상태로 전체를 가열 및 가압하고, 상기 제1 및 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속되도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접속하는 공정을 구비하는, 회로 부재의 접속 구조의 제조 방법. The first circuit member having the first circuit electrode formed on the main surface of the first circuit board, and the second circuit member having the second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit board, the first circuit electrode and the second circuit electrode Arranged so as to face each other, the whole is heated and pressurized in the state which interposed the film-form circuit connection material in any one of Claims 1-6 between the said 1st circuit electrode and the 2nd circuit electrode which were arrange | positioned, And a step of connecting the first circuit member and the second circuit member so that the first and the second circuit electrodes are electrically connected to each other. 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고,
상기 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는 접착제의
대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서의 용도.
An adhesive containing an adhesive composition and conductive particles,
The said electrically-conductive particle is a mass particle of 5-20 micrometers of average particle diameters which has a nucleus body containing the metal of Vickers hardness 300-1000, and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body, Of adhesive with irregularities on the surface
Use as a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes.
접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고,
상기 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는 접착제의
대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서의 용도.
An adhesive containing an adhesive composition and conductive particles,
The conductive particles are bulk particles having an average particle diameter of 5 to 20 µm having a nucleus body containing nickel and an outermost layer containing a noble metal covering the surface of the nucleus, and irregularities are formed on the surface of the conductive particles. Adhesive
Use as a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes.
제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 요철에서의 높이의 차가 70 nm 내지 2 ㎛인 용도. Use according to claim 10 or 11, wherein the difference in height in the unevenness is 70 nm to 2 m. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 라디칼 중합성 물질과, 가열에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제를 포함하는, 용도. The use according to any one of claims 10 to 12, wherein the adhesive composition comprises a radically polymerizable material and a curing agent which generates free radicals by heating. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 포함하는, 용도. The use according to any one of claims 10 to 12, wherein the adhesive composition comprises an epoxy resin and a latent curing agent. 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 상기 제2 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는, 용도. The use according to any one of claims 10 to 14, wherein at least one of the first and second circuit electrodes has a coating comprising an imidazole compound. 접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고,
상기 도전 입자는 비커스 경도 300 내지 1000의 금속을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는 접착제의
대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위한 용도.
An adhesive containing an adhesive composition and conductive particles,
The said electrically-conductive particle is a mass particle of 5-20 micrometers of average particle diameters which has a nucleus body containing the metal of Vickers hardness 300-1000, and the outermost layer containing the noble metal which coat | covers the surface of the said nucleus body, Of adhesive with irregularities on the surface
Use for the manufacture of a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes.
접착제 조성물과 도전 입자를 함유하는 접착제이고,
상기 도전 입자는 니켈을 포함하는 핵체와, 상기 핵체의 표면을 피복하는 귀금속을 포함하는 최표층을 갖는, 평균 입경이 5 내지 20 ㎛인 괴상의 입자이고, 상기 도전 입자의 표면에 요철이 형성되어 있는 접착제의
대향하는 회로 전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료의 제조를 위한 용도.
An adhesive containing an adhesive composition and conductive particles,
The conductive particles are bulk particles having an average particle diameter of 5 to 20 µm having a nucleus body containing nickel and an outermost layer containing a noble metal covering the surface of the nucleus, and irregularities are formed on the surface of the conductive particles. Adhesive
Use for the manufacture of a circuit connection material for electrically connecting opposed circuit electrodes.
제16항 또는 제17항에 있어서, 상기 요철에서의 높이의 차가 70 nm 내지 2 ㎛인 용도. Use according to claim 16 or 17, wherein the difference in height in the unevenness is 70 nm to 2 m. 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 라디칼 중합성 물질과, 가열에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제를 포함하는, 용도. The use according to any one of claims 16 to 18, wherein the adhesive composition comprises a radically polymerizable material and a curing agent which generates free radicals by heating. 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착제 조성물이 에폭시 수지와 잠재성 경화제를 포함하는, 용도. The use according to any of claims 16 to 18, wherein the adhesive composition comprises an epoxy resin and a latent curing agent. 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 상기 제2 회로 전극 중 적어도 하나가 이미다졸 화합물을 포함하는 피막을 갖는, 용도. The use according to any one of claims 16 to 20, wherein at least one of the first and second circuit electrodes has a coating comprising an imidazole compound.
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