KR20140001778A - Mask blank storing case, mask blank storing method, and mask blank package - Google Patents

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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a mask blank storage case which can control the attachment of particles to a mask blank due to oscillation generated when opening or closing a storage case. The storage case: comprises a case main body (7) with an open upper part, and a cover body (6) for covering the case main body (7); is inserted into the case main body (7) and the cover body (6) with inserting and fitting units; and whose main surface accommodates a rectangular mask blank into the inside thereof in a vertical direction. In the opening edge of the case main body (7), the inserting and fitting units are formed at two opposed points at one side while cutouts (74) are formed at two opposed points at the other side in order to control changes in negative pressure inside the case when opening or closing the cover body (6).

Description

마스크 블랭크 수납 케이스, 마스크 블랭크의 수납 방법 및 마스크 블랭크 수납체{MASK BLANK STORING CASE, MASK BLANK STORING METHOD, AND MASK BLANK PACKAGE}Mask blank storage case, storage method of mask blank and mask blank storage body {MASK BLANK STORING CASE, MASK BLANK STORING METHOD, AND MASK BLANK PACKAGE}

본 발명은, 전자 디바이스의 제조에 사용되는 포토마스크의 제조에 사용되는 마스크 블랭크를 수납하는 수납 케이스, 마스크 블랭크의 수납 방법 및 마스크 블랭크 수납체에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the storage case which accommodates the mask blank used for manufacture of the photomask used for manufacture of an electronic device, the storage method of a mask blank, and a mask blank storage body.

최근의 전자 디바이스, 특히 반도체 소자나 액정 모니터용의 컬러 필터 혹은 TFT 소자 등은, IT 기술의 급속한 발달에 수반하여, 한층 미세화가 요구되고 있다. 이와 같은 미세 가공 기술을 지지하는 기술 중 하나가, 전사용 마스크라고 불리는 포토마스크를 사용한 리소그래피 기술이다. 이 리소그래피 기술에서는, 노광용 광원의 전자파를, 전사용 마스크를 통하여 레지스트막을 갖는 실리콘 웨이퍼에 노광함으로써, 실리콘 웨이퍼 위에 미세한 패턴을 형성하고 있다. 이 전사용 마스크는 통상적으로, 글래스 기판 등의 표면에 차광막 등의 박막을 형성한 마스크 블랭크에 리소그래피 기술을 사용해서 전사 패턴(마스크 패턴)이 되는 패턴을 형성하여 제조된다. 그런데, 마스크 블랭크의 표면에 파티클 등의 이물질이 있으면, 형성되는 패턴 결함의 원인이 되므로, 마스크 블랭크는, 그 표면에 이물질 등이 부착되지 않도록 청정하게 보관될 필요가 있다.In recent years, electronic devices, in particular, color filters or TFT devices for semiconductor devices, liquid crystal monitors, and the like, are required to be further miniaturized with the rapid development of IT technology. One technique which supports such a microfabrication technique is the lithographic technique using the photomask called transfer mask. In this lithography technique, a fine pattern is formed on a silicon wafer by exposing the electromagnetic wave of an exposure light source to the silicon wafer which has a resist film through a transfer mask. This transfer mask is usually produced by forming a pattern to be a transfer pattern (mask pattern) on a mask blank in which a thin film such as a light shielding film is formed on a surface of a glass substrate or the like using a lithography technique. By the way, when foreign matters, such as a particle, exist on the surface of a mask blank, it becomes a cause of the pattern defect formed, and the mask blank needs to be kept clean so that a foreign material etc. do not adhere to the surface.

이와 같은 마스크 블랭크를 수납 보관하여 운반하기 위한 케이스로서는, 종래에는 예를 들어 하기 특허문헌 1에 개시되어 있는 바와 같은 마스크 운반용 케이스가 알려져 있다. 즉, 종래의 마스크 블랭크를 수납 보관하는 케이스는, 캐리어 등이라고 부르고 있는 내부 케이스에 마스크 블랭크를 수매 내지 수십매 배열하여 보유 지지시키고, 이 마스크 블랭크를 보유 지지한 내부 케이스를 외부 상자(케이스 본체) 내에 수용하고, 또한 외부 상자 위에 덮개를 씌워, 마스크 블랭크를 수납하는 구조로 되어 있었다.As a case for storing and transporting such a mask blank, a mask carrying case as disclosed in, for example, Patent Document 1 is known. That is, in the case of storing and storing the conventional mask blank, the mask blank is arranged and held in an inner case called a carrier or the like, and the inner case holding the mask blank is held in an outer box (case body). It accommodated in the inside and covered with the cover on the outer box, and was comprised in the structure which accommodates a mask blank.

도 4 내지 도 6은, 특허문헌 1에 개시된 것과 마찬가지인 구조의 수납 케이스를 도시하는 것으로, 도 4는 수납 케이스의 덮개를 도시하는 사시도, 도 5는 마스크 블랭크를 중간 케이스에 수납하는 상태를 도시하는 사시도, 도 6은 수납 케이스의 케이스 본체(외부 케이스)를 도시하는 사시도이다.4-6 show the storage case of the structure similar to what was disclosed by patent document 1, FIG. 4 is a perspective view which shows the cover of a storage case, FIG. 5 shows the state which accommodates a mask blank in an intermediate case. 6 is a perspective view illustrating a case body (outer case) of the storage case.

이 수납 케이스는, 마스크 블랭크(1)를 중간 케이스(2)에 수납하고, 이 중간 케이스(2)를 케이스 본체(3)에 수납하고, 이 케이스 본체(3)의 개구부측에 덮개(4)를 씌우는 구조이다.This storage case accommodates the mask blank 1 in the intermediate case 2, accommodates this intermediate case 2 in the case main body 3, and covers the cover 4 at the opening side of the case main body 3. It is a structure to cover.

상기 중간 케이스(2)는, 개구부측(상방)으로부터 저면측(하방)을 향해서 복수의 홈(21, 22)을 한쪽의 서로 대향하는 내측면에 소정 간격을 두고 한 쌍을 이루어 형성하고, 그 홈(21, 22)의 저면측의 저부와 중간 케이스 저면에는 각각 개구창(도시하지 않음)과 개구부(27)가 설치되고, 또한 중간 케이스 저면측에는 기판 지지부(26)가 형성되고, 이 기판 지지부(26)에서 마스크 블랭크(1)의 하방 단부면을 지지하고 있다(도 5). 그리고, 이 중간 케이스(2)를 케이스 본체(3)에 수납하여 고정하기 위한 오목면부(28, 29)가 각각 중간 케이스의 다른 쪽의 서로 대향하는 외측면에 저면측으로부터 개구부측의 도중까지 형성되어 있다. 수매의 마스크 블랭크(1)를 중간 케이스(2)의 한 쌍의 홈(21, 22)을 따라서 넣으면, 이들의 마스크 블랭크는 소정 간격을 두고 서로 평행하게 나열되어 수납된다.The intermediate case 2 is formed by forming a pair of grooves 21 and 22 on one inner surface facing each other with a predetermined distance from the opening side (upper) toward the bottom face side (lower), An opening window (not shown) and an opening 27 are provided at the bottom of the bottoms of the grooves 21 and 22 and the bottom of the intermediate case, respectively, and a substrate support 26 is formed at the bottom of the intermediate case. In 26, the lower end surface of the mask blank 1 is supported (FIG. 5). And concave surface parts 28 and 29 for accommodating and fixing this intermediate case 2 in the case main body 3 are formed in the other side of the intermediate case from the bottom face side to the middle part of the opening side, respectively. It is. When the several mask blanks 1 of several sheets are inserted along the pair of grooves 21 and 22 of the intermediate case 2, these mask blanks are stored side by side in parallel with each other at predetermined intervals.

상기 케이스 본체(3)는, 상술한 중간 케이스(2)의 오목면부(28, 29)와 접촉하는 데 적합한 돌출부(31, 32)를, 서로 대향하는 내측면에 형성하고, 그 돌출부(31, 32)의 저부는 케이스 본체(3)의 저면과도 접합하고 있다(도 6). 또한, 한쪽의 대향하는 외측면의 개구부측에는 볼록부(33, 34)가 형성되어 있다. 그리고, 케이스 본체(3)의 개구 테두리(35)의 약간 하방의 위치에 이어지는 외주면(36)과 상기 볼록부(33, 34)의 볼록면과는 대략 동일면으로 형성되어 있다.The case main body 3 is provided with protrusions 31 and 32 suitable for contacting the concave portions 28 and 29 of the intermediate case 2 described above on the inner side surfaces thereof facing each other, and the protrusions 31, The bottom of 32 is also joined to the bottom of the case body 3 (FIG. 6). Moreover, the convex parts 33 and 34 are formed in the opening side of one opposing outer side surface. The outer circumferential surface 36 and the convex surfaces of the convex portions 33 and 34 which are slightly below the opening edge 35 of the case main body 3 are formed in substantially the same surface.

또한 상기 덮개(4)는, 그 한쪽의 대향하는 하방 테두리(47)(케이스 본체에 삽입하는 개구부측의 테두리이며, 도 4에서는 상방을 향하고 있음)의 중앙으로부터 연장된 걸림 결합편(41, 42)에 오목부(43, 44)를 형성하고 있다. 이에 의해, 덮개(4)를 케이스 본체(3)에 씌웠을 때에, 상기 오목부(43, 44)가 상기 케이스 본체(3)의 볼록부(33, 34)와 각각 끼워 맞춤함으로써, 덮개(4)와 케이스 본체(3)가 고정되는 구조로 되어 있다. 또한, 중간 케이스(2)의 개구부측 상단부면(25)과 접촉하여 중간 케이스(2)를 수직 방향에 있어서 지지 고정하는 스토퍼(45, 46)를 한쪽의 내측면에 서로 대향시켜 형성하고 있다.Moreover, the said cover 4 is the latching engagement piece 41 and 42 extended from the center of the opposing lower edge 47 (the edge of the opening side inserted into a case main body, and faces upward in FIG. 4). ), Recesses 43 and 44 are formed. As a result, when the lid 4 is placed on the case body 3, the recesses 43 and 44 fit with the convex portions 33 and 34 of the case body 3, respectively, thereby covering the lid 4. ) And the case body 3 are fixed. Further, stoppers 45 and 46 which contact the opening-side upper end surface 25 of the intermediate case 2 to support and fix the intermediate case 2 in the vertical direction are formed to face each other on one inner surface.

일본 특허 공고 평1-39653호 공보Japanese Patent Publication Hei 1-39653

최근의 전자 디바이스의 고성능화에 수반하여, 전사용 마스크에 형성되는 패턴도 한층 더 미세화가 요구되고 있고, 이와 같은 미세 패턴을 형성하기 위해서도 마스크 블랭크의 청정도는 매우 높은 것이 아니면 허용할 수 없게 되어 있다. 따라서, 마스크 블랭크에 이물질 등이 부착되는 것을 가능한 한 억제함으로써, 특히 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크의 보관 중에는 가능한 한 높은 청정도로 유지할 필요가 있다.With the recent increase in the performance of electronic devices, the pattern formed on the transfer mask is also required to be further refined, and in order to form such a fine pattern, the cleanness of the mask blank is unacceptable unless it is very high. Therefore, it is necessary to keep the foreign matters and the like attached to the mask blank as much as possible, so as to maintain the cleanness as high as possible, particularly during storage of the mask blank having the resist film.

그러나, 종래 구조의 수납 케이스는, 상술한 바와 같이, 덮개(4)를 케이스 본체(3)에 씌우면, 상기 덮개(4)의 오목부(43, 44)가 상기 케이스 본체(3)의 볼록부(33, 34)와 각각 끼워 맞춤함으로써, 덮개(4)와 케이스 본체(3)가 고정되도록 되어 있고, 또한 상기 덮개(4)나 케이스 본체(3)는 폴리프로필렌 등의 수지로 형성되어 있으므로, 덮개를 개폐할 때에, 상기 덮개(4)의 오목부(43, 44)와 상기 케이스 본체(3)의 볼록부(33, 34)와의 마찰에 의한 파티클이 발생한다. 그리고, 발생한 파티클은, 예를 들어 덮개(4)를 열었을 때에 케이스 내부가 일시적으로 부압이 됨으로써 생기는 케이스 외부로부터 내부로의 기류 변화의 영향을 받아, 케이스 내부에 흡입되도록 진입하여 마스크 블랭크의 막 표면에 부착되어, 이물질 결함이 될 우려가 매우 높았다.However, in the case of the conventional structure, when the lid 4 is covered on the case body 3 as described above, the concave portions 43 and 44 of the lid 4 are convex portions of the case body 3. The lid 4 and the case main body 3 are fixed by fitting with the 33 and 34, respectively, and the lid 4 and the case main body 3 are made of a resin such as polypropylene. When opening and closing the cover, particles are generated by friction between the concave portions 43 and 44 of the cover 4 and the convex portions 33 and 34 of the case body 3. Then, the generated particles enter under the influence of the air flow from the outside of the case to the inside caused by temporary negative pressure when the lid 4 is opened, for example, to enter the inside of the case and enter the film surface of the mask blank. Attached to, there was a very high risk of foreign matter defects.

또한, 상기와 같이 덮개(4)의 오목부(43, 44)와 케이스 본체(3)의 볼록부(33, 34)를 각각 끼워 맞추게 하는 구조를 형성하는 대신에, 예를 들어 덮개(4)를 케이스 본체(3)에 씌웠을 때의 케이스 본체(3)의 개구 테두리부의 외주면(36)과 덮개(4)의 하부 모서리부의 외주면(48)과의 접합부(맞춤부)에 예를 들어 단면 コ자 형상의 고정 훅을 끼워서 고정하는 구조도 알려져 있다. 그러나, 이와 같은 고정 훅을 케이스의 단부로부터 고정 위치(통상은 중앙의 위치)까지 착탈시에 하나하나 슬라이드시킬 필요가 있으므로, 고정 훅을 슬라이드시킬 때의 파티클 발생에 의한 발진이 매우 크고, 이 경우도 예를 들어 덮개(4)를 열었을 때에 케이스 내부가 일시적으로 부압이 됨으로써 파티클이 케이스 내부에 진입하여 마스크 블랭크의 막 표면에 부착될 우려가 있었다.In addition, instead of forming the structure which fits the recessed parts 43 and 44 of the cover 4 and the convex parts 33 and 34 of the case main body 3 as mentioned above, for example, the cover 4 is provided. Is attached to the case (fitting part) of the outer circumferential surface 36 of the opening edge of the case main body 3 and the outer circumferential surface 48 of the lower edge of the lid 4 when the case body 3 is covered, for example. There is also known a structure in which a magnet-shaped fixing hook is fitted and fixed. However, since it is necessary to slide these fixing hooks one by one at the time of attaching and detaching from the end of the case to the fixing position (usually the center position), the oscillation by particle generation at the time of sliding the fixing hook is very large. For example, when the lid 4 is opened, the inside of the case temporarily becomes negative pressure, so that particles may enter the case and adhere to the film surface of the mask blank.

따라서, 본 발명은, 상기 종래의 문제점을 해소하여, 수납 케이스의 개폐시의 부압 변화를 억제함으로써, 케이스 내부에 진입하는 파티클을 억제하고, 또한 마스크 블랭크, 상세하게는 전사용 패턴 형성용의 박막이 형성되어 있는 측의 마스크 블랭크막 표면으로의 파티클 부착을 억제할 수 있도록 한 마스크 블랭크의 수납 케이스, 마스크 블랭크의 수납 방법 및 마스크 블랭크 수납체를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention eliminates the above-mentioned problems and suppresses the negative pressure change during opening and closing of the storage case, thereby suppressing particles entering the inside of the case, and furthermore, a mask blank, in particular a thin film for forming a transfer pattern. An object of the present invention is to provide a storage case for a mask blank, a method for storing a mask blank, and a mask blank storage body in which particle adhesion to the mask blank film surface on the side of the formed side can be suppressed.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 덮개의 개폐시의 부압 변화에 의해 생기는 케이스 외부로부터 내부로의 공기의 흐름을 가능한 한 작게 하도록 함으로써, 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 효과적으로 억제할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하는 데 이른 것이다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present invention effectively suppresses particle adhesion to a mask blank by making as small as possible the flow of air from the outside of a case caused by the negative pressure change at the time of opening and closing of a cover as much as possible. It discovers what can be done and came to complete this invention.

즉, 본 발명은 이하의 구성을 갖는 것이다.That is, this invention has the following structures.

(구성 1) 상방이 개방된 케이스 본체와, 그 케이스 본체에 씌워서 끼워 맞추어지는 덮개체를 구비하고, 마스크 블랭크를 내부에 종방향으로 수납하는 마스크 블랭크 수납 케이스로서, 상기 케이스 본체의 개구 테두리 또는 상기 덮개체의 개구 테두리에, 상기 덮개체의 개폐시에서의 상기 케이스 내부의 부압 변화를 억제하는 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납 케이스이다.(Configuration 1) A mask blank storage case comprising a case main body with an upper opening and a lid body fitted to the case main body to receive the mask blank in a longitudinal direction therein, the opening edge of the case main body or the It is a mask blank storage case characterized by forming the notch which suppresses the negative pressure change inside the said case at the time of opening and closing of the said cover body at the opening edge of a cover body.

구성 1과 같이, 마스크 블랭크 수납 케이스를 구성하는 케이스 본체와 덮개체 중 어느 쪽인가의 개구 테두리에, 상기 덮개체의 개폐시에서의 상기 케이스 내부의 부압 변화를 억제하는 절결을 형성함으로써, 덮개의 개폐시에 생기는 케이스 외부로부터 내부로의 공기의 흐름(기류)을 작게 하여, 덮개의 개폐시의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 억제할 수 있다. 특히 작은(예를 들어 입경이 0.1㎛ 정도 이하의) 파티클일수록, 덮개의 개폐시에서의 케이스 내부로의 기류 변화의 영향을 받아, 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되기 쉽다. 구성 1의 마스크 블랭크 수납 케이스에 따르면, 덮개의 개폐시에서의 케이스 내부의 부압 변화에 의한 케이스 내부로의 기류 변화를 작게 할 수 있으므로, 특히 작은 입경의 파티클 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.As in the configuration 1, by forming a cutout in the opening edge of either the case body or the cover body constituting the mask blank storage case to suppress the negative pressure change inside the case at the time of opening and closing the cover body, It is possible to reduce the flow of air from the outside of the case (airflow) generated at the time of opening and closing, and to prevent particles caused by the oscillation at the time of opening and closing of the lid from being sucked into the case and adhering to the mask blank surface. Particularly small particles (eg, having a particle diameter of about 0.1 μm or less) are more likely to be sucked into the case and adhered to the mask blank surface under the influence of the airflow change into the case when the lid is opened and closed. According to the mask blank storage case of the structure 1, since the airflow change to the inside of a case by the negative pressure change in the inside of a case at the time of opening and closing of a cover can be made small, especially particle adhesion of a small particle size can be suppressed effectively.

(구성 2) 상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 구성 1에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스이다.(Configuration 2) The mask blank storage case according to Configuration 1, wherein the notches are formed at two opposing positions in the opening edge of the case body.

구성 2에 있는 바와 같이, 상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성함으로써, 덮개의 개폐시의 케이스 내부의 부압 변화에 의해 생기는 케이스 내부로의 기류 변화를 특히 작게 할 수 있으므로, 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 억제하는 효과가 크다.As shown in the configuration 2, by forming the cutouts at two opposing positions in the opening edge of the case main body, the change in the air flow into the case caused by the negative pressure change inside the case at the time of opening and closing of the lid is particularly small. Therefore, the effect of suppressing particle adhesion to the mask blank is large.

(구성 3) 상기 케이스 본체 및 상기 덮개체는 각각에 끼워 맞춤부를 갖고 끼워 맞추어지고, 상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 한쪽의 대향하는 2군데에 상기 끼워 맞춤부를 형성함과 함께, 다른 쪽의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 구성 2에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스이다.(Configuration 3) The case main body and the lid are fitted with fitting portions respectively, and form the fitting portions at two opposing sides of the opening edge of the case main body, and the other The said mask notch is provided in two opposing places, The mask blank storage case of the structure 2 characterized by the above-mentioned.

구성 3과 같이, 상기 케이스 본체 및 상기 덮개체는 각각에 끼워 맞춤부를 갖고 끼워 맞추어지고, 상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 한쪽의 대향하는 2군데에 상기 끼워 맞춤부를 형성함과 함께, 다른 쪽의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성함으로써, 덮개의 개폐 조작에 수반하는 상기 끼워 맞춤부에 있어서의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.As in the configuration 3, the case main body and the lid body are fitted with fitting portions respectively, and the fitting portions are formed at two opposing positions on one side of the opening edge of the case main body, and the other side. By forming the cutouts at two opposing positions, it is possible to effectively suppress the particles caused by the oscillation in the fitting portion accompanying the opening and closing operation of the lid from being sucked into the case and adhering to the mask blank surface.

(구성 4) 상기 절결은, 그 절결을 형성하는 상기 개구 테두리의 1변의 길이의 1/4보다도 폭이 넓은 것을 특징으로 하는 구성 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스이다.(Configuration 4) The cutout is a mask blank storage case according to any one of Configurations 1 to 3, wherein the cutout is wider than 1/4 of the length of one side of the opening edge forming the cutout.

구성 4에 있는 바와 같이, 상기 절결은, 그 절결을 형성하는 상기 개구 테두리의 1변의 길이의 1/4보다도 폭을 넓게 함으로써, 덮개의 개폐시에 생기는 케이스 내부의 부압 변화에 의한 케이스 내부로의 기류 변화를 작게 하는 효과가 커지므로, 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 억제하는 효과가 크다.As shown in the configuration 4, the notch is wider than 1/4 of the length of one side of the opening edge forming the notch, and thus the notch enters into the case by the negative pressure change of the case which is generated when the lid is opened and closed. Since the effect of reducing air flow change becomes large, the effect of suppressing particle adhesion to the mask blank is large.

(구성 5) 한쪽의 주표면 위에 전사 패턴 형성용의 박막을 갖는 복수매의 마스크 블랭크를 구성 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스에 수납할 때, 상기 절결에 가까운 위치에 수납하는 마스크 블랭크는, 상기 박막 표면과 반대측의 주표면을 상기 절결측을 향해서 수납하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 수납 방법이다.(Configuration 5) A mask for storing a plurality of mask blanks having a thin film for forming a transfer pattern on one main surface in a position close to the above notch when the mask blank storage case according to any one of Configurations 1 to 4 is accommodated. The blank is a storing method of a mask blank, characterized in that the main surface opposite to the thin film surface is accommodated toward the cutout side.

구성 5에 있는 바와 같이, 복수매의 마스크 블랭크를 구성 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스에 수납할 때, 상기 절결에 가까운 위치에 수납하는 마스크 블랭크는, 상기 박막 표면과 반대측의 주표면을 상기 절결측을 향해서 수납함으로써, 상기 절결로부터 기류의 흐름과 함께 파티클이 케이스 내부에 들어갔다고 해도, 전사 패턴에 영향이 적은 상기 박막 표면과 반대측의 주표면에 부착되게 되므로, 상기 마스크 블랭크를 사용해서 전사용 마스크를 제작하였다고 해도 거의 영향은 없다. 수납된 복수매의 마스크 블랭크 전체의 파티클 부착을 억제할 수 있고, 특히 각 마스크 블랭크의 전사 패턴 형성용의 박막에의 파티클 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.As shown in the configuration 5, when the plurality of mask blanks are stored in the mask blank storage case according to any one of the configurations 1 to 4, the mask blank to be stored at a position close to the cutout is the main side opposite to the thin film surface. By storing the surface toward the cutout side, even if particles enter the inside of the case with the flow of air from the cutout, the mask blank is used because it adheres to the main surface opposite to the thin film surface having less influence on the transfer pattern. Even if a transfer mask was produced, there is little effect. Particle adhesion of the entirety of the plurality of mask blanks stored can be suppressed, and in particular, particle adhesion to the thin film for forming a transfer pattern can be effectively suppressed.

(구성 6) 구성 5에 기재된 마스크 블랭크의 수납 방법에 의해 마스크 블랭크가 수납된 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납체이다.(Configuration 6) A mask blank storage body characterized by receiving a mask blank by the storage method of the mask blank according to Configuration 5.

구성 5에 기재된 마스크 블랭크의 수납 방법에 의해 마스크 블랭크가 수납된 마스크 블랭크 수납체는, 덮개의 개폐시의 부압 변화에 의해 생기는 케이스 내부로의 기류 변화가 작으므로, 덮개의 개폐시의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 억제할 수 있다.The mask blank storage body in which the mask blank is accommodated by the mask blank storage method according to the configuration 5 has a small airflow change caused by the negative pressure change at the time of opening and closing of the lid, and thus, the oscillation at the time of opening and closing the lid. The particles can be sucked inside the case and restrained from adhering to the mask blank surface.

본 발명에 따르면, 마스크 블랭크 수납 케이스를 구성하는 케이스 본체와 덮개체 중 어느 쪽인가의 개구 테두리에, 상기 덮개체의 개폐시에서의 상기 케이스 내부의 부압 변화를 억제하는 절결을 형성함으로써, 덮개의 개폐시에 생기는 케이스 외부로부터 내부로의 기류 변화를 작게 할 수 있으므로, 덮개의 개폐시의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.According to the present invention, by forming a notch in the opening edge of either the case body or the cover body constituting the mask blank storage case, the change in the negative pressure inside the case at the time of opening and closing the cover body is suppressed. Since the airflow change from the outside of the case to the inside occurring during opening and closing can be made small, the particles caused by the oscillation at the time of opening and closing of the lid can be effectively suppressed from being sucked into the case and adhered to the mask blank surface.

도 1은 본 발명에 관한 수납 케이스의 일 실시 형태를 도시하는 것으로, 덮개체를 케이스 본체에 씌우기 전의 상태의 (a) 정면도와 (b) 측면도이다.
도 2는 본 발명에 관한 수납 케이스의 덮개체를 케이스 본체에 씌운 상태의 (a) 정면도와 (b) 측면도이다.
도 3은 복수매의 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 케이스 본체(중간 케이스)에 수납한 상태를 도시하는 평면도이다.
도 4는 종래 구조의 수납 케이스의 덮개를 도시하는 사시도이다.
도 5는 마스크 블랭크를 중간 케이스에 수납하는 상태를 도시하는 사시도이다.
도 6은 종래 구조의 수납 케이스의 케이스 본체(외부 케이스)를 도시하는 사시도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It shows one Embodiment of the storage case which concerns on this invention, It is (a) front view and (b) side view of a state before covering a cover body to a case main body.
It is (a) front view and (b) side view of the cover body of the storage case which concerns on this invention on the case main body.
3 is a plan view illustrating a state in which a mask blank having a plurality of resist films is stored in a case body (intermediate case).
4 is a perspective view illustrating a lid of a storage case of a conventional structure.
5 is a perspective view illustrating a state in which a mask blank is accommodated in an intermediate case.
6 is a perspective view showing a case body (outer case) of a storage case of a conventional structure.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated with reference to drawings.

도 1 및 도 2는 본 발명에 관한 수납 케이스의 일 실시 형태를 도시하는 것이며, 도 1의 (a)는, 본 발명에 관한 수납 케이스의 덮개체를 케이스 본체에 씌우기 전의 상태의 정면도, 도 1의 (b)는 그 측면도이며, 도 2의 (a)는 본 발명에 관한 수납 케이스의 덮개체를 케이스 본체에 씌운 상태의 정면도, 도 2의 (b)는 그 측면도이다.1 and 2 show one embodiment of a storage case according to the present invention, and FIG. 1A is a front view of a state before covering the case body with the lid of the storage case according to the present invention. (B) is a side view, FIG. 2 (a) is a front view of the case body which covered the lid | cover body of the storage case which concerns on this invention, and FIG. 2 (b) is a side view.

본 실시 형태에 따른 마스크 블랭크 수납 케이스는, 상방이 개방된 케이스 본체(7)와, 그 케이스 본체(7)에 씌우는 덮개체(6)를 구비하고, 내부에 마스크 블랭크를 수납하는 마스크 블랭크의 수납 케이스이다. 상기 덮개체(6) 및 케이스 본체(7)는, 그 전체적인 형상은, 종래 구조의 수납 케이스[즉 도 4에 도시하는 덮개(4) 및 도 6에 도시하는 케이스 본체(3)]와 마찬가지의 형상을 갖고 있다. 또한, 도 1 및 도 2에는 도시하고 있지 않지만, 전술한 종래 구조의 수납 케이스와 같이 마스크 블랭크를 복수매 보유 지지하기 위한 중간 케이스(2)(도 5 참조)를 사용하는 구성으로 할 수 있다. 상기 중간 케이스를 사용하지 않고, 마스크 블랭크를 케이스 본체(7)에 직접 홈 등을 형성하여 수납하는 형태로 할 수도 있지만, 중간 케이스를 사용하면, 수매 내지 수십매의 마스크 블랭크를 정리해서 중간 케이스에 넣은 상태로 취급할 수 있으므로 편리하다.The mask blank storage case which concerns on this embodiment is equipped with the case main body 7 with which the upper side was opened, and the cover body 6 which covers the case main body 7, and accommodates the mask blank which accommodates a mask blank inside. It is a case. The overall shape of the lid 6 and the case main body 7 is similar to that of the conventional storage case (ie, the lid 4 shown in Fig. 4 and the case main body 3 shown in Fig. 6) of the conventional structure. It has a shape. In addition, although not shown in FIG. 1 and FIG. 2, it can be set as the structure which uses the intermediate case 2 (refer FIG. 5) for holding a plurality of mask blanks like the storage case of the conventional structure mentioned above. Without using the intermediate case, the mask blank may be formed in a case in which a groove or the like is directly formed in the case main body 7, and when the intermediate case is used, several to tens of mask blanks are collectively arranged in the intermediate case. As we can handle in state that we put, it is convenient.

본 실시 형태의 수납 케이스는, 주표면이 사각 형상(예를 들어 직사각 형상, 정사각 형상)의 글래스 기판의 1주표면 위에 크롬막 등의 차광성 박막을 성막하고, 또한 그 위에 레지스트막을 형성한 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 종래 구조와 마찬가지의 중간 케이스에 수납하고, 이 중간 케이스를 케이스 본체(7)에 수납하고, 이 케이스 본체(7)의 개구부측에 덮개체(6)를 씌우는 구조이다[도 2의 (a), (b) 참조]. 케이스 본체(7) 위로부터 덮개체(6)를 씌우면, 덮개체(6)의 하방 테두리에 이어지는 약간 외측으로 확대 개방된 측벽부(61)와 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)가 전후로 서로 겹침과 동시에, 덮개체(6)의 하방 테두리의 측벽부(61)와 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)의 하방으로 형성된 약간 외측으로 확대 개방된 측벽부(72)가 동일면 위에 서로 겹쳐서 덮개체(6)와 케이스 본체(7)가 접합된다.In the storage case of the present embodiment, a resist whose main surface is formed of a light-shielding thin film such as a chromium film is formed on one main surface of a glass substrate having a rectangular shape (for example, a rectangular shape and a square shape), and a resist film is formed thereon. The mask blank which has a film | membrane is accommodated in the intermediate case similar to a conventional structure, this intermediate case is accommodated in the case main body 7, and the cover body 6 is covered on the opening side of this case main body 7 (FIG. 2 (a), (b)]. When the cover body 6 is covered from above the case body 7, the side wall portion 61 which is slightly opened and extended to the lower edge of the cover body 6 and the opening edge 71 of the case body 7 are moved forward and backward. At the same time, the side wall portion 61 of the lower edge of the lid 6 and the slightly extended side wall portion 72 formed downward of the opening edge 71 of the case body 7 are mutually on the same surface. The lid 6 and the case main body 7 are bonded together.

또한, 상기 케이스 본체(7)는, 그 한쪽의 대향하는 외주면의 개구 테두리(71)측에는 볼록부(73)가 형성되어 있다. 그리고, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)의 약간 하방의 위치에 형성된 상기 측벽부(72)와 상기 볼록부(73)의 볼록면과는 대략 동일면으로 형성되어 있다.Moreover, the said case main body 7 has the convex part 73 in the opening edge 71 side of the opposing outer peripheral surface on the one side. The side wall portion 72 and the convex surface of the convex portion 73 formed at a position slightly below the opening edge 71 of the case main body 7 are formed in substantially the same plane.

또한 상기 덮개체(6)는, 그 한쪽의 대향하는 상기 측벽부(61)의 중앙으로부터 연장된 걸림 결합편(62)의 내측에 오목부(63)를 형성하고 있다. 이에 의해, 덮개체(6)를 케이스 본체(7)에 씌웠을 때에, 그 한쪽의 대향하는 2군데에 있어서, 상기 걸림 결합편(62)의 오목부(63)가 케이스 본체(7)의 상기 볼록부(73)와 각각 끼워 맞춤함으로써, 덮개체(6)와 케이스 본체(7)가 덮힌 상태로 고정되는 구조로 되어 있다[도 2의 (a) 참조]. 또한, 도 1의 (a)에서는, 덮개체(6)의 상기 걸림 결합편(62) 및 오목부(63)와, 케이스 본체(7)의 상기 볼록부(73)의 모두 한쪽이 도시되어 있지만, 이와 대향하는 반대측에도 덮개체(6)에 상기 걸림 결합편(62) 및 오목부(63)가, 케이스 본체(7)에 상기 볼록부(73)가 각각 형성되어 있다. Moreover, the said cover body 6 forms the recessed part 63 in the inside of the engaging piece 62 extended from the center of the one side wall part 61 which opposes. Thereby, when covering the case body 6 to the case main body 7, the recessed part 63 of the said latching engagement piece 62 is the said case of the case main body 7 in two opposing one places. By fitting with the convex part 73, respectively, it becomes the structure which is fixed in the state which the cover body 6 and the case main body 7 covered (refer FIG. 2 (a)). In addition, in FIG. 1A, one of both the engaging piece 62 and the concave portion 63 of the lid 6 and the convex portion 73 of the case body 7 is shown. On the opposite side opposite to this, the engaging piece 62 and the concave portion 63 are formed on the lid 6, and the convex portions 73 are formed on the case body 7, respectively.

또한, 본 실시 형태의 수납 케이스에서는, 상기한 바와 같이 상기 케이스 본체(7)의 외주면의 개구 테두리(71)측에 있어서의 한쪽의 대향하는 2군데에 상기 볼록부(73)가 형성되어 있지만, 상기 개구 테두리(71)에 있어서의 다른 쪽의 대향하는 2군데에는 절결(74)이 형성되어 있다[도 1의 (b) 참조]. 또한, 도 1의 (b)에 있어서는 한쪽의 상기 절결(74)이 도시되어 있지만, 이와 대향하는 반대측에도 개구 테두리(71)에 절결(74)이 형성되어 있다. 또한, 상기한 바와 같이, 케이스 본체(7) 위로부터 덮개체(6)를 씌우면, 덮개체(6)의 측벽부(61)와 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)가 전후로 서로 겹침과 동시에, 덮개체(6)의 측벽부(61)와 케이스 본체(7)의 측벽부(72)가 동일면 위에 서로 겹쳐서 덮개체(6)와 케이스 본체(7)가 접합되므로, 케이스 본체(7)에 덮개체(6)를 씌운 상태에서는, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 설치한 상기 절결(74)은 외부로부터는 보이지 않는다[도 2의 (b) 참조].In addition, in the storage case of this embodiment, as mentioned above, although the said convex part 73 is formed in two opposing two places in the opening edge 71 side of the outer peripheral surface of the said case main body 7, Notches 74 are formed in two opposing positions on the other side of the opening edge 71 (see FIG. 1B). In addition, although one said notch 74 is shown in FIG.1 (b), the notch 74 is formed in the opening edge 71 on the opposite side opposite to this. As described above, when the cover body 6 is covered from the case body 7, the side wall portion 61 of the cover body 6 and the opening edge 71 of the case body 7 overlap each other back and forth. At the same time, since the side wall portion 61 of the lid body 6 and the side wall portion 72 of the case body 7 overlap each other on the same surface, the lid body 6 and the case body 7 are joined, so that the case body 7 In the state which covered the cover body 6, the said notch 74 provided in the opening edge 71 of the case main body 7 is not seen from the outside (refer FIG. 2 (b)).

본 실시 형태에 따른 마스크 블랭크 수납 케이스는, 이상 설명한 바와 같이, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에, 상기 덮개체(6)의 개폐시에서의 상기 수납 케이스 내부의 부압 변화를 억제하는 크기의 상기 절결(74)을 형성하고 있다. 이에 의해, 덮개의 개폐시에, 케이스 본체의 개구 테두리 부근에서 생기는 케이스 외부로부터 내부로의 공기의 흐름(기류)을 작게 하여, 서서히 공기의 흐름을 발생시키도록 하고, 덮개의 개폐시의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 억제할 수 있다. 예를 들어 입경이 서브 마이크론(0.1㎛ 정도 이상 0.5㎛ 이하)의 파티클에 대해서는, 덮개의 개폐시에서의 케이스 내부로의 기류 변화의 영향을 받아, 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되기 쉬워지지만, 본 실시 형태의 마스크 블랭크 수납 케이스에 따르면, 덮개의 개폐시에서의 케이스 내부로의 기류 변화를 작게 할 수 있으므로, 입경이 서브 마이크론의 파티클 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.The mask blank storage case which concerns on this embodiment suppresses the change of the negative pressure inside the said storage case at the time of opening and closing of the said cover body 6 to the opening edge 71 of the case main body 7 as demonstrated above. The cutout 74 of size is formed. Thereby, at the time of opening and closing of the lid, the flow (airflow) of air from the outside of the case to the inside occurring near the opening edge of the case main body is made small, so that the flow of air is gradually generated. Can be suppressed from being sucked into the case and adhered to the mask blank surface. For example, a particle having a particle size of submicron (about 0.1 μm or more and 0.5 μm or less) is easily sucked into the case and adheres to the mask blank surface under the influence of the airflow change into the inside of the case when the lid is opened and closed. However, according to the mask blank storage case of this embodiment, since the airflow change to the inside of a case at the time of opening and closing of a cover can be made small, particle size of a submicron particle can be suppressed effectively.

본 실시 형태에서는, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 있어서의 대향하는 2군데에 상기 절결(74)을 형성하고 있다. 적어도 1군데에 상기 절결을 형성함으로써 상기 작용 효과가 얻어지지만, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 있어서의 대향하는 2군데에 절결(74)을 형성함으로써, 덮개의 개폐시에 생기는 케이스 내부로의 기류 변화를 특히 작게 할 수 있고, 게다가 케이스의 어느 위치에 있어서도 기류 변화를 균일하게 할 수 있으므로, 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 억제하는 효과가 크게 적절하다.In this embodiment, the said notch 74 is formed in two opposing places in the opening edge 71 of the case main body 7. As shown in FIG. The above-mentioned effect can be obtained by forming the cutouts in at least one place, but by forming the cutouts 74 in two opposing positions in the opening edge 71 of the case main body 7, the case which occurs when the lid is opened or closed. Since the airflow change into the inside can be made particularly small, and the airflow change can be made uniform at any position of the case, the effect of suppressing particle adhesion to the mask blank is highly appropriate.

또한, 본 실시 형태에서는, 상기한 바와 같이, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 있어서의 한쪽의 대향하는 2군데에 덮개체(6)와의 끼워 맞춤부[볼록부(73)]를 형성함과 함께, 다른 쪽의 대향하는 2군데에 상기 절결(74)을 형성함으로써, 덮개의 개폐 조작에 수반하는 상기 끼워 맞춤부에 있어서의 발진에 의한 파티클이 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.In addition, in this embodiment, the fitting part (convex part 73) with the lid | cover body 6 is provided in two opposing places in the opening edge 71 of the case main body 7 as mentioned above. In addition, by forming the notches 74 at two opposite sides on the other side, particles due to the oscillation in the fitting portion accompanying the opening and closing operation of the cover are sucked into the case and formed on the mask blank surface. The adhesion can be suppressed effectively.

또한, 상기 절결(74)은, 그 절결을 형성하는 상기 케이스 본체의 개구 테두리(71)의 1변의 길이의 1/4보다도 폭을 넓게 함으로써, 덮개의 개폐시에 생기는 케이스 내부의 부압 변화에 의한 케이스 내부로의 기류 변화를 작게 하는 효과가 커지므로, 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 억제하는 효과가 크다. 또한, 상기 절결(74)의 폭이 너무 넓으면, 그 절결을 형성하는 상기 케이스 본체의 개구 테두리(71)에서의 강도가 저하될 우려가 있으므로, 그 절결을 형성하는 상기 케이스 본체의 개구 테두리(71)의 1변의 길이의 9/10보다도 폭을 좁게 하는 것이 바람직하다. 상기 절결(74)은, 바람직하게는, 그 절결을 형성하는 상기 케이스 본체의 개구 테두리(71)의 1변의 길이의 1/4보다도 폭이 넓고, 3/4보다도 폭을 좁게 하는 것이 바람직하다.In addition, the notch 74 is wider than a quarter of the length of one side of the opening edge 71 of the case body forming the notch, whereby the negative pressure inside the case is changed. Since the effect of reducing the airflow change into the case becomes large, the effect of suppressing particle adhesion to the mask blank is large. In addition, if the width of the notch 74 is too wide, the strength at the opening edge 71 of the case body forming the notch may be lowered, so that the opening edge of the case body which forms the notch ( It is preferable to make the width narrower than 9/10 of the length of one side of 71). Preferably, the notch 74 is wider than 1/4 of the length of one side of the opening edge 71 of the case body forming the notch, and preferably narrower than 3/4.

또한, 한쪽의 주표면 위에 전사 패턴 형성용의 박막을 갖는 복수매의 마스크 블랭크를 상기 마스크 블랭크 수납 케이스에 수납할 때, 상기 절결(74)에 가까운 위치에 수납하는 마스크 블랭크는, 상기 박막형 성막면과 반대측의 주표면을 상기 절결(74)측을 향해서 수납하는 것이 바람직하다. 도 3은, 복수매의 마스크 블랭크를 중간 케이스(5)에 넣고, 또한 케이스 본체(7)에 수납한 상태를 도시하는 평면도이다. 여기서는, 일례로서 5매의 마스크 블랭크(1)를 수납한 경우를 도시하고 있고, 부호 F는 각 마스크 블랭크(1)의 박막 형성면을, 부호 G는 글래스면을 나타낸다. 또한, 마스크 블랭크는, 상기 전사 패턴 형성용의 박막 위에, 레지스트막을 형성한 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크이어도 좋다.Further, when storing a plurality of mask blanks having a thin film for transfer pattern formation on one main surface in the mask blank storage case, the mask blank to be stored at a position close to the notch 74 is the thin film-forming film surface. It is preferable to accommodate the main surface on the opposite side to the cutout 74 side. 3 is a plan view showing a state where a plurality of mask blanks are placed in the intermediate case 5 and housed in the case body 7. Here, the case where 5 mask blanks 1 are accommodated as an example is shown, code | symbol F represents the thin film formation surface of each mask blank 1, and code | symbol G represents a glass surface. The mask blank may be a mask blank having a resist film having a resist film formed on the thin film for forming the transfer pattern.

도 3에 도시하는 바와 같이, 복수매의 마스크 블랭크(1)를 본 실시 형태의 마스크 블랭크 수납 케이스에 수납할 때, 상기 케이스 본체(7)의 절결(74)에 가까운 위치에 수납하는 마스크 블랭크(1)는, 상기 박막 형성면(F)과 반대측의 주표면의 글래스면(G)을 상기 절결(74)측을 향해서 수납함으로써, 수납된 복수매의 마스크 블랭크 전체의 파티클 부착을 억제할 수 있고, 특히 각 마스크 블랭크의 박막 형성면(F)에의 파티클 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.As shown in FIG. 3, when storing the plurality of mask blanks 1 in the mask blank storage case of the present embodiment, the mask blanks are stored at positions close to the notches 74 of the case body 7. 1) can hold | maintain the glass surface G of the main surface on the opposite side to the said thin film formation surface F toward the said notch 74 side, and can suppress particle adhesion of the whole mask blank of the several sheets accommodated. In particular, particle adhesion to the thin film forming surface F of each mask blank can be effectively suppressed.

상기 절결(74)로부터, 기류의 흐름과 함께 파티클이 수납 케이스 내부에 들어갔다고 해도, 전사 패턴에 영향이 적은 상기 박막 표면과 반대측의 주표면에 부착되게 되므로, 상기 마스크 블랭크를 사용해서 전사용 마스크를 제작하였다고 해도 거의 영향은 없다.Even if the particles enter the inside of the storage case together with the flow of air from the cutout 74, the transfer mask is used by using the mask blank, since the particles are attached to the main surface opposite to the surface of the thin film which has little influence on the transfer pattern. Even if produced, there is little effect.

또한, 본 실시 형태의 수납 케이스는, 덮개체(6)를 덮을 때, 상기 본체 케이스(7)의 개구 테두리(71)와 덮개체(6)의 측벽부(61)가 끼워 맞추어지지만, 덮개체(6)를 덮은 수납 케이스의 밀폐성을 높이기 위해, 덮개체(6)를 덮었을 때에 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 끼워 넣어지는 적당한 크기의 환상의 탄성 부재(도시하지 않음)를 덮개체(6)의 측벽부(61)의 내측에 장착해도 좋다. 이 탄성 부재로서는, 분위기의 온도, 기압 등의 변동이 있어도 화학 성분 가스의 방출이 적은 재료가 바람직하고, 예를 들어, 폴리올레핀 엘라스토머, 폴리에스테르 엘라스토머를 들 수 있다.In addition, in the storage case of this embodiment, when the cover body 6 is covered, the opening edge 71 of the said main body case 7 and the side wall part 61 of the cover body 6 are fitted, but it is a cover body. In order to improve the sealing property of the storage case which covered (6), when the lid | cover 6 was covered, the annular elastic member (not shown) of the moderate magnitude | size fitted in the opening edge 71 of the case main body 7 is inserted. You may attach in the inside of the side wall part 61 of the cover body 6. As shown in FIG. As this elastic member, even if there exists a fluctuation | variation in the temperature, atmospheric pressure, etc. of a atmosphere, the material with few discharge | release of a chemical component gas is preferable, For example, a polyolefin elastomer and a polyester elastomer are mentioned.

또한, 상술한 케이스 본체(7) 및 덮개체(6)의 재질은, 수지 재료로 형성되지만, 예를 들어 폴리프로필렌, 아크릴, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에틸설파이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 아크릴로니트릴ㆍ부타디엔ㆍ스티렌(ABS), 시클로올레핀 폴리머(COP) 등의 수지로부터 적절하게 선택되는 것이 바람직하다. 이들 중에서도, 분위기의 온도, 기압 등의 변동이 있어도 화학 성분 가스의 방출이 적은 재료가 특히 바람직하고, 예를 들어 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 시클로올레핀 폴리머(COP)가 바람직하다. 또한, 마스크 블랭크의 보관 중에 차지가 저류되면, 마스크 제조 과정에 있어서 방전 파괴를 일으켜, 패턴 결함이 될 경우가 있으므로, 예를 들어 케이스 본체(7)의 구성 수지에 카본 등을 섞어 넣어서 도전성을 부여하도록 해도 좋다.In addition, although the material of the case main body 7 and the cover body 6 mentioned above is formed with the resin material, it is polypropylene, acrylic, polyethylene, a polycarbonate, polyester, a polyamide, a polyimide, a polyethyl sulphate, for example. It is preferable to select suitably from resins, such as a pit, a polybutylene terephthalate (PBT), an acrylonitrile butadiene styrene (ABS), and a cycloolefin polymer (COP). Among these, even if there are fluctuations in the temperature, atmospheric pressure, etc. of the atmosphere, a material having a low emission of chemical component gas is particularly preferable, and for example, polycarbonate, polyester, polybutylene terephthalate, cycloolefin polymer (COP) is preferable. . In addition, if charge is accumulated during storage of the mask blank, discharge destruction may occur in the mask manufacturing process, and it may cause a pattern defect. Therefore, for example, carbon and the like are mixed with the constituent resin of the case body 7 to impart conductivity. You may do so.

또한, 상기의 실시 형태에서는, 케이스 본체(7)의 개구 테두리(71)에 상기 절결(74)을 형성하는 구성으로 하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 예를 들어 덮개체(6)의 하방에 개구 테두리를 형성하고, 이 개구 테두리에 절결을 형성하는 구성으로 해도 좋다. 또한, 본 발명의 마스크 블랭크 수납 케이스는, 덮개체 및 케이스 본체의 외관에 관해서는, 상기 도 1 및 도 2에 도시하는 것에는 한정되지 않는다. 또한, 중간 케이스에 관해서도, 도 5에 도시하는 바와 같은 종래 구조의 것을 적용할 수 있다.In addition, in the said embodiment, although the said notch 74 was formed in the opening edge 71 of the case main body 7, this invention is not limited to this, For example, below the cover 6 It is good also as a structure which forms an edge in an opening and forms a notch in this opening edge. In addition, the mask blank storage case of this invention is not limited to what is shown to the said FIG. 1 and FIG. 2 regarding the external appearance of a cover body and a case main body. Moreover, also about an intermediate case, the thing of the conventional structure as shown in FIG. 5 is applicable.

본 발명에 관한 수납 케이스에 수납되는 마스크 블랭크의 일 구성예는, 기판의 주표면 위에 전사 패턴이 되는 박막(전사 패턴 형성용의 박막)을 형성하여 이루어지는 것, 혹은 또한 그 박막의 표면에 레지스트막을 형성하여 이루어지는 것이다.One structural example of the mask blank housed in the storage case according to the present invention is formed by forming a thin film (thin film for transfer pattern formation) serving as a transfer pattern on a main surface of a substrate, or a resist film on the surface of the thin film. It is formed.

상기 기판으로서는, 마스크 블랭크가 바이너리 마스크 블랭크나 위상 시프트형 마스크 블랭크 등의 투과형 마스크 블랭크인 경우, 노광광에 대하여 투광성을 갖는 기판 재료를 사용하고, 예를 들어 합성 석영 글래스 기판이 사용된다. 또한, 마스크 블랭크가 EUV 노광용 등의 반사형 마스크 블랭크인 경우, 저열팽창의 특성을 갖는 기판 재료를 사용하고, SiO2-TiO2계 글래스[2원계(SiO2-TiO2) 및 3원계(SiO2-TiO2-SnO2 등)]나, 예를 들어 SiO2-Al2O3-Li2O계의 결정화 글래스의 기판이 사용된다. 또한, 마스크 블랭크가 나노 임프린트 플레이트용 마스크 블랭크인 경우, 예를 들어 합성 석영 글래스 기판이 사용된다. 또한, 기판 및 마스크 블랭크(1)의 형상은, 직사각 형상, 원 형상 등, 무엇이든지 좋다.As said board | substrate, when a mask blank is a transmissive mask blank, such as a binary mask blank and a phase shift mask blank, the board | substrate material which has transparency to exposure light is used, for example, a synthetic quartz glass substrate is used. In addition, in the case where the mask blank is a reflective mask blank for EUV exposure or the like, a substrate material having low thermal expansion characteristics is used, and SiO 2 -TiO 2 -based glass [SiO 2 -TiO 2 ) and ternary (SiO) are used. 2 -TiO 2 -SnO 2 Etc.] and, for example, a substrate of crystallized glass of SiO 2 -Al 2 O 3 -Li 2 O system is used. In addition, when the mask blank is a mask blank for nanoimprint plates, for example, a synthetic quartz glass substrate is used. In addition, the shape of the board | substrate and the mask blank 1 may be anything, such as rectangular shape and circular shape.

상기 투과형 마스크 블랭크는, 상기 기판의 주표면 위에, 전사 패턴 형성용의 박막으로서 차광막을 형성함으로써 바이너리 마스크 블랭크가 얻어진다. 또한, 상기 기판의 주표면 위에, 전사 패턴 형성용의 박막으로서 위상 시프트막, 혹은 위상 시프트막 및 차광막을 형성함으로써, 위상 시프트형 마스크 블랭크가 얻어진다. 또한, 기판 홈파기형의 레벤슨 위상 시프트형 마스크 블랭크에서는, 기판의 주표면 위에, 전사 패턴 형성용의 박막으로서 차광막을 형성함으로써 얻어진다. 또한, 크롬리스 타입의 위상 시프트형 마스크 블랭크나, 나노 임프린트 플레이트용 마스크 블랭크에서는, 기판의 주표면 위에, 전사 패턴 형성용의 박막으로서 에칭 마스크막을 형성함으로써 얻어진다.As for the said transmissive mask blank, a binary mask blank is obtained by forming a light shielding film as a thin film for transfer pattern formation on the main surface of the said board | substrate. Moreover, a phase shift film blank is obtained by forming a phase shift film, or a phase shift film and a light shielding film as a thin film for transfer pattern formation on the main surface of the said board | substrate. Moreover, in the Levenson phase shift type mask blank of a substrate grooving type | mold, it is obtained by forming a light shielding film as a thin film for transfer pattern formation on the main surface of a board | substrate. In addition, in a chromeless type phase shift type mask blank and a mask blank for nanoimprint plates, it is obtained by forming an etching mask film as a thin film for transfer pattern formation on the main surface of a board | substrate.

상기 차광막은, 단층이나 복수층(예를 들어 차광층과 반사 방지층과의 적층 구조)으로 해도 좋다. 또한, 차광막을 차광층과 반사 방지층과의 적층 구조로 하는 경우, 이 차광층을 복수층으로 이루어지는 구조로 해도 좋다. 또한, 상기 위상 시프트막, 에칭 마스크막, 흡수체막에 대해서도, 단층이나 복수층으로 해도 좋다.The light shielding film may be a single layer or a plurality of layers (for example, a laminated structure of a light shielding layer and an antireflection layer). In addition, when making a light shielding film into a laminated structure of a light shielding layer and an reflection prevention layer, you may make it the structure which consists of multiple layers. The phase shift film, the etching mask film and the absorber film may also be a single layer or a plurality of layers.

투과형 마스크 블랭크로서는, 예를 들어, 크롬(Cr)을 함유하는 재료에 의해 형성되어 있는 차광막을 구비하는 바이너리 마스크 블랭크, 천이 금속과 규소(Si)를 함유하는 재료에 의해 형성되어 있는 차광막을 구비하는 바이너리 마스크 블랭크, 탄탈(Ta)을 함유하는 재료에 의해 형성되어 있는 차광막을 구비하는 바이너리 마스크 블랭크, 규소(Si)를 함유하는 재료, 혹은 천이 금속과 규소(Si)를 함유하는 재료에 의해 형성되어 있는 위상 시프트막을 구비하는 위상 시프트형 마스크 블랭크 등을 들 수 있다. 상기 천이 금속과 규소(Si)를 함유하는 재료로서는, 천이 금속과 규소를 함유하는 재료 외에, 천이 금속 및 규소에, 질소, 산소 및 탄소 중 적어도 1개의 원소를 더 포함하는 재료를 들 수 있다. 구체적으로는, 천이 금속 실리사이드, 또는 천이 금속 실리사이드의 질화물, 산화물, 탄화물, 산질화물, 탄산화물, 혹은 탄산질화물을 포함하는 재료가 적절하다. 천이 금속에는 몰리브덴, 탄탈, 텅스텐, 티탄, 크롬, 하프늄, 니켈, 바나듐, 지르코늄, 루테늄, 로듐, 니오브 등이 적용 가능하다. 이 중에서도 특히 몰리브덴이 적절하다.Examples of the transmissive mask blank include a binary mask blank having a light shielding film formed of a material containing chromium (Cr), and a light shielding film formed of a material containing a transition metal and silicon (Si). Formed by a binary mask blank, a binary mask blank having a light shielding film formed by a material containing tantalum (Ta), a material containing silicon (Si), or a material containing a transition metal and silicon (Si) And a phase shift mask blank having a phase shift film present. As a material containing the said transition metal and silicon (Si), besides the material containing a transition metal and silicon, the material which further contains at least 1 element of nitrogen, oxygen, and carbon in a transition metal and silicon is mentioned. Specifically, a material containing a transition metal silicide or a nitride, oxide, carbide, oxynitride, carbonate, or carbonate nitride of the transition metal silicide is suitable. Molybdenum, tantalum, tungsten, titanium, chromium, hafnium, nickel, vanadium, zirconium, ruthenium, rhodium, niobium and the like are applicable to the transition metal. Among these, molybdenum is especially suitable.

또한 상기 바이너리 마스크 블랭크나 위상 시프트형 마스크 블랭크에 있어서, 차광막 위에, 에칭 마스크막을 구비해도 상관없다. 에칭 마스크막의 재료는, 차광막을 패터닝할 때에 사용하는 에천트에 대하여 내성을 갖는 재료로부터 선택된다. 차광막의 재료가 크롬(Cr)을 함유하는 재료인 경우, 에칭 마스크막의 재료로서는, 예를 들어 상기 규소(Si)를 함유하는 재료가 선택된다. 또한, 차광막의 재료가 규소(Si)를 함유하는 재료나, 천이 금속과 규소(Si)를 함유하는 재료인 경우, 에칭 마스크막의 재료로서는, 예를 들어 상기 크롬(Cr)을 함유하는 재료가 선택된다.Moreover, in the said binary mask blank and a phase shift type mask blank, you may provide an etching mask film on a light shielding film. The material of an etching mask film is selected from the material which is resistant to the etchant used when patterning a light shielding film. When the material of the light shielding film is a material containing chromium (Cr), for example, the material containing silicon (Si) is selected as the material of the etching mask film. When the material of the light shielding film is a material containing silicon (Si) or a material containing a transition metal and silicon (Si), for example, a material containing chromium (Cr) is selected as the material of the etching mask film. do.

또한, 반사형 마스크 블랭크로서는, 기판 위에, EUV광에 대하여 반사하는 다층 반사막, 또한, 전사용 마스크의 제조 공정에 있어서의 드라이 에칭이나 웨트 세정으로부터 다층 반사막을 보호하므로, 보호막이 형성된 다층 반사막을 갖는 기판으로 하고, 상기 다층 반사막이나 보호막 위에, 전사 패턴 형성용의 박막으로서 흡수체막을 구비하는 반사형 마스크 블랭크를 들 수 있다.In addition, as a reflective mask blank, the multilayer reflective film which reflects with respect to EUV light on a board | substrate, and also protects a multilayer reflective film from dry etching and wet cleaning in the manufacturing process of a transfer mask, has a multilayer reflective film in which the protective film was formed. As a substrate, a reflective mask blank including an absorber film as a thin film for formation of a transfer pattern may be mentioned on the multilayer reflective film or the protective film.

EUV광의 영역에서 사용되는 다층 반사막으로서는, Mo/Si 주기 다층막 외에, Ru/Si 주기 다층막, Mo/Be 주기 다층막, Mo 화합물/Si 화합물 주기 다층막, Si/Nb 주기 다층막, Si/Mo/Ru 주기 다층막, Si/Mo/Ru/Mo 주기 다층막, Si/Ru/Mo/Ru 주기다층 반사막을 들 수 있다.As the multilayer reflective film used in the EUV light region, in addition to the Mo / Si periodic multilayer film, a Ru / Si periodic multilayer film, a Mo / Be periodic multilayer film, a Mo compound / Si compound periodic multilayer film, a Si / Nb periodic multilayer film, and a Si / Mo / Ru periodic multilayer film And Si / Mo / Ru / Mo periodic multilayer films and Si / Ru / Mo / Ru periodic multilayer reflective films.

또한, 상기 보호막의 재료로서는, 예를 들어, Ru, Ru-(Nb, Zr, Y, B, Ti, La, Mo), Si-(Ru, Rh, Cr, B), Si, Zr, Nb, La, B 등의 재료로부터 선택된다. 이들 중, Ru를 포함하는 재료를 적용하면, 다층 반사막의 반사율 특성이 보다 양호하게 된다.As the material of the protective film, for example, Ru, Ru- (Nb, Zr, Y, B, Ti, La, Mo), Si- (Ru, Rh, Cr, B), Si, Zr, Nb, It is selected from materials, such as La and B. Among these, when the material containing Ru is applied, the reflectance characteristic of a multilayer reflective film becomes more favorable.

또한, 상기 흡수체막의 재료로서는, 예를 들어, Ta 단체, Ta를 주성분으로 하는 재료가 사용된다. Ta를 주성분으로 하는 재료는, 통상, Ta의 합금이다. 이와 같은 흡수체막의 결정 상태는, 평활성, 평탄성의 점으로부터, 아몰퍼스 형상 또는 미결정의 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다. Ta를 주성분으로 하는 재료로서는, 예를 들어, Ta와 B를 포함하는 재료, Ta와 N을 포함하는 재료, Ta와 B를 포함하고, 또한 O와 N의 적어도 어느 한쪽을 포함하는 재료, Ta와 Si를 포함하는 재료, Ta와 Si와 N을 포함하는 재료, Ta와 Ge를 포함하는 재료, Ta와 Ge와 N을 포함하는 재료 등을 사용할 수 있다. 또한 예를 들어, Ta에 B, Si, Ge 등을 추가함으로써, 아몰퍼스 구조가 용이하게 얻어져, 평활성을 향상시킬 수 있다. 또한, Ta에 N, O를 추가하면, 산화에 대한 내성이 향상되므로, 경시적인 안정성을 향상시킬 수 있다.As the material of the absorber film, for example, a material containing Ta alone and Ta as a main component is used. The material containing Ta as a main component is usually an alloy of Ta. It is preferable that the crystal state of such an absorber film has an amorphous or microcrystalline structure from the point of smoothness and flatness. As a material containing Ta as a main component, for example, a material containing Ta and B, a material containing Ta and N, a material containing Ta and B, and at least one of O and N, Ta and A material containing Si, a material containing Ta and Si and N, a material containing Ta and Ge, a material containing Ta, Ge and N, and the like can be used. For example, by adding B, Si, Ge, etc. to Ta, an amorphous structure can be obtained easily and smoothness can be improved. In addition, when N and O are added to Ta, since the resistance to oxidation is improved, stability over time can be improved.

또한, 이상은, 기판 위에 전사 패턴 형성용의 박막을 갖는 마스크 블랭크, 혹은 상기 박막 위에 또한 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 수납하는 수납 케이스에 대해서 설명하였지만, 본 발명에 관한 수납 케이스는, 마스크 블랭크용 기판이나, 상기 마스크 블랭크를 사용해서 제조된 전사용 마스크의 수납 케이스로서도 바람직하게 사용할 수 있다.In addition, although the above was demonstrated about the storage case which accommodates the mask blank which has a thin film for formation of a transfer pattern on a board | substrate, or the mask blank which also has a resist film on this thin film, the storage case which concerns on this invention is a board | substrate for mask blanks. Moreover, it can use suitably also as a storage case of the transfer mask manufactured using the said mask blank.

[실시예][Example]

이하, 구체적인 실시예에 의해 본 발명을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described by way of specific examples.

(제1 실시예)(Embodiment 1)

합성 석영 기판(6인치×6인치의 크기) 위에 스퍼터법으로, 표층에 반사 방지 기능을 갖는 크롬막(차광막)을 형성하고, 그 위에 스핀 코트법으로 포지티브형의 화학 증폭형 레지스트인 전자선 묘화용 레지스트막을 형성하여 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 제조하였다.A sputtering method forms a chromium film (shielding film) having an anti-reflection function on the surface layer by sputtering on a synthetic quartz substrate (6 inches by 6 inches in size), and an electron beam drawing which is a positive chemically amplified resist by a spin coating method thereon. A resist film was formed to prepare a mask blank having a resist film.

이와 같이 하여 제조한 5매의 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 1케이스에 수납하였다. 수납 케이스로서, 전술한 도 1 및 도 2에 도시하는 실시 형태에 따른 수납 케이스를 사용하였다. 또한, 전술한 도 3에 도시하는 바와 같이, 케이스 본체의 개구 테두리에 설치한 2군데의 절결(74)에 가까운 위치의 마스크 블랭크에 대해서는, 그 레지스트막면과는 반대측의 글래스면을 절결(74)을 향해서 수납하였다. 또한, 덮개체의 재질은 폴리카보네이트, 케이스 본체의 재질은 폴리카보네이트, 중간 케이스의 재질은 폴리프로필렌을 사용하였다. 수납 작업은 소정의 청정도로 조절된 클린룸 내에서 행하였다.The mask blanks having the five resist films thus produced were accommodated in one case. As a storage case, the storage case which concerns on embodiment shown in FIG. 1 and FIG. 2 mentioned above was used. In addition, as shown in FIG. 3 mentioned above, about the mask blank of the position near the notch 74 of two places provided in the opening edge of the case main body, the glass surface on the opposite side to the resist film surface is notched 74. It was stored toward. In addition, the cover body was made of polycarbonate, the case body was made of polycarbonate, and the middle case was made of polypropylene. The storage operation was performed in a clean room adjusted to predetermined cleanliness.

그리고, 마찬가지로 클린룸 내에서, 덮개체를 열고, 다시 덮개체를 덮는다고 하는 덮개의 개폐 동작을 연속해서 20회 행하였다. In the same manner, in the clean room, the lid was opened and the lid was opened and closed again 20 times in succession.

그리고, 이와 같은 덮개의 개폐 동작을 행한 후, 수납 케이스로부터 마스크 블랭크를 취출하고, 결함 검사 장치(레이저텍사제:M2350)를 사용해서, 마스크 블랭크의 레지스트막 위의 부착 이물질에 의한 결함(0.1㎛ 이상의 크기의 결함) 개수를 측정하였다. 또한, 평가는, 수납 케이스에 수납하기 전의 결함 개수를 미리 상기와 마찬가지로 측정해 두고, 이에 대한 덮개의 개폐 동작 후의 결함 개수의 증가 개수로 행하였다. 그 결과, 본 실시예에서는, 증가 결함 개수는, 평균(5매의 평균)적으로 0.1개이고, 덮개체의 개폐 동작에 의한 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 효과적으로 억제하는 것이 가능한 것을 확인할 수 있었다.Then, after performing the opening and closing operation of such a cover, the mask blank is taken out from the storage case, and a defect (0.1 μm) caused by adherent foreign matter on the resist film of the mask blank is obtained by using a defect inspection apparatus (M2350 manufactured by Lasertec). The number of defects of the above size) was measured. The number of defects before the storage in the storage case was measured in the same manner as described above, and the evaluation was performed by increasing the number of defects after the opening and closing operation of the lid. As a result, in the present embodiment, the number of increase defects was 0.1 on average (average of five sheets), and it was confirmed that particle adhesion to the mask blank due to the opening and closing operation of the lid body can be effectively suppressed.

(비교예)(Comparative Example)

제1 실시예와 마찬가지로 제조한 레지스트막을 갖는 마스크 블랭크를 수납하는 케이스로서, 전술한 도 4 내지 도 6에 도시하는 종래 구조의 수납 케이스를 사용한 것 이외는 제1 실시예와 마찬가지로 하여 마스크 블랭크의 수납을 행하였다. 단, 제1 실시예와는 서로 달리, 5매 모두, 그 레지스트막면을 동일 방향을 향해서 수납하였다. 또한, 덮개의 재질은 아크릴로니트릴ㆍ부타디엔ㆍ스티렌(ABS), 케이스 본체의 재질은 폴리프로필렌, 중간 케이스의 재질은 폴리프로필렌을 사용하였다.As the case for storing the mask blank having the resist film manufactured in the same manner as in the first embodiment, the mask blank was stored in the same manner as in the first embodiment except that the storage case of the conventional structure shown in FIGS. 4 to 6 was used. Was performed. However, unlike the first embodiment, all five sheets contained the resist film surface in the same direction. In addition, the cover material used acrylonitrile butadiene styrene (ABS), the case body material polypropylene, and the intermediate case material polypropylene.

그리고, 제1 실시예와 마찬가지로 클린룸 내에서, 덮개체를 열고, 다시 덮개체를 덮는다고 하는 덮개의 개폐 동작을 연속해서 20회 행하였다.Then, in the same clean room as in the first embodiment, the lid was opened and the cover was opened and closed again 20 times in succession.

그리고, 이와 같은 덮개의 개폐 동작을 행한 후, 제1 실시예와 마찬가지로, 마스크 블랭크의 레지스트막에 관한 것으로, 수납 케이스에 수납하기 전의 결함 개수에 대한 덮개의 개폐 동작 후의 결함 개수의 증가 개수를 측정하였다. 그 결과, 본 비교예에서는, 증가 결함 개수는 평균(5매의 평균)적으로 7.5개로 매우 많고, 덮개체의 개폐 동작에 의한 마스크 블랭크에의 파티클 부착을 억제할 수 없다. 특히, 덮개(4)의 오목부(43, 44)와 케이스 본체(3)의 볼록부(33, 34)와의 끼워 맞춤부의 근방인 케이스의 대략 중앙에 수납된 마스크 블랭크의 증가 결함 개수가 많았다.After the opening / closing operation of such a cover, similarly to the first embodiment, the resist film of the mask blank relates to the number of defects after opening / closing of the cover with respect to the number of defects before storing in the storage case. It was. As a result, in the present comparative example, the number of increase defects was very large, on average (average of five sheets) of 7.5, and particle adhesion to the mask blank due to the opening / closing operation of the lid cannot be suppressed. In particular, the number of increase defects of the mask blank stored in the substantially center of the case near the fitting portion between the concave portions 43 and 44 of the lid 4 and the convex portions 33 and 34 of the case body 3 was large.

이것은, 종래 구조의 수납 케이스의 경우, 케이스 본체의 개구 테두리에는 절결은 형성되어 있지 않고, 덮개의 개폐 동작에 수반하는 발진에 의한 파티클(특히 소입경의 파티클)이, 덮개의 개폐시의 기류 변화의 영향을 받아 케이스 내부에 흡입되어 마스크 블랭크 표면에 부착되기 쉬운 것이 요인이라고 생각된다.This is because, in the case of the storage case of the conventional structure, the notch is not formed in the opening edge of the case body, and the particle (especially the particle of the small particle size) by the oscillation accompanying opening and closing operation of a cover changes the airflow at the time of opening and closing of a cover. It is considered that the factor is that it is easily sucked inside the case and adhered to the mask blank surface under the influence of.

1 : 마스크 블랭크
2 : 중간 케이스
3 : 케이스 본체
4 : 덮개
5 : 중간 케이스
6 : 덮개체
7 : 케이스 본체
74 : 절결1: mask blank
2: middle case
3: case body
4: cover
5: middle case
6: cover body
7: case body
74: notch

Claims (6)

상방이 개방된 케이스 본체와, 그 케이스 본체에 씌워서 끼워 맞추어지는 덮개체를 구비하고, 마스크 블랭크를 내부에 종방향으로 수납하는 마스크 블랭크 수납 케이스로서,
상기 케이스 본체의 개구 테두리 또는 상기 덮개체의 개구 테두리에, 상기 덮개체의 개폐시에서의 상기 케이스 내부의 부압 변화를 억제하는 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납 케이스.As a mask blank storage case which has the case main body which the upper side opened, and the cover body which fits and fits on the case main body, and accommodates a mask blank in a longitudinal direction inside,
The mask blank storage case characterized by forming a notch in the opening edge of the case main body or the opening edge of the lid to suppress the negative pressure change inside the case when the lid is opened and closed. 제1항에 있어서,
상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납 케이스.The method of claim 1,
The mask blank storage case characterized by forming the said notch in the two opposing positions in the opening edge of the said case main body. 제2항에 있어서,
상기 케이스 본체 및 상기 덮개체는 각각에 끼워 맞춤부를 갖고 끼워 맞추어지고, 상기 케이스 본체의 개구 테두리에 있어서의 한쪽의 대향하는 2군데에 상기 끼워 맞춤부를 형성함과 함께, 다른 쪽의 대향하는 2군데에 상기 절결을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납 케이스.3. The method of claim 2,
The case main body and the lid are fitted with fitting portions respectively, and the fitting main body is formed at two opposing one sides of the opening edge of the case main body, and the other two opposing positions are provided. The mask blank storage case characterized by forming the notch in the. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절결은, 그 절결을 형성하는 상기 개구 테두리의 1변의 길이의 1/4보다도 폭이 넓은 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납 케이스.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The cutout is wider than 1/4 of the length of one side of the opening edge forming the cutout. 마스크 블랭크의 수납 방법으로서, 한쪽의 주표면 위에 전사 패턴 형성용의 박막을 갖는 복수매의 마스크 블랭크를 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 블랭크 수납 케이스에 수납할 때, 상기 절결에 가까운 위치에 수납하는 마스크 블랭크는, 상기 박막 표면과 반대측의 주표면을 상기 절결측을 향해서 수납하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 수납 방법.As a storage method of a mask blank, when storing several mask blanks which have a thin film for formation of a transfer pattern on one main surface in the mask blank storage case in any one of Claims 1-4, the said clause A mask blank for storing at a position close to a grain is a mask blank storing method characterized by storing a main surface on the opposite side to the thin film surface toward the cutout side. 마스크 블랭크 수납체로서, 제5항에 기재된 마스크 블랭크의 수납 방법에 의해 마스크 블랭크가 수납된 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 수납체.
A mask blank housing, wherein a mask blank is accommodated by the storage method of the mask blank of Claim 5, The mask blank storage body characterized by the above-mentioned.
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