KR20130131870A - Phenol novolak resin and method for preparing the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a phenol novolac resin and a production method of the same, more specifically a phenol novolac resin which can be used as a high thermal resistance and low viscosity hardener, and a production method of the same. The phenol novolac resin which can be used as a high thermal resistance and low viscosity hardener is simply produced by the present invention. The viscosity of the produced phenol novolac resin can be reduced without an addition of solvents, and the phenol novolac resin can be economically used in an environmentally friendly way.

Description

페놀 노볼락 수지 및 그 제조방법{Phenol Novolak Resin and Method for Preparing the Same}Phenol Novolak Resin and Method for Preparing the Same

본 발명은 페놀 노볼락 수지 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 고내열성 저점도 경화제로 사용할 수 있는 페놀 노볼락 수지 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a phenol novolak resin and a method for producing the same, and more particularly, to a phenol novolak resin that can be used as a high heat resistant low viscosity curing agent and a method for producing the same.

인쇄회로기판 등에 사용되는 동박적층판(CCL; copper clad laminates)에는 여러 가지 절연 재료 기재와 결합제로 구성된 적층 절연판의 한쪽 면이나 양면에 동박을 붙인 것으로서, 여기에 이용되는 절연 재료에는 최근의 환경 규제에 따라 납을 불포함(Lead-free)해야 하는 등의 요구 사항이 높아지게 되었고, 이에 따라, 높은 유리전이온도 특성을 가지는 절연재료를 요하는 동박적층판에 대한 수요가 최근 상당히 높아지고 있는 추세이다. Copper clad laminates (CCL) used in printed circuit boards and the like are laminated insulating plates composed of various insulating material base materials and bonding agents and copper foil is attached to one or both sides of the insulating material. There has been a growing demand for copper-clad laminates requiring insulating materials having a high glass transition temperature characteristic, and the demand for lead-free has increased.

또한, 이러한 동박적층판을 제조하기 위해서 기존에 적용하던 아민계 경화제를 대체하는 다관능성 페놀 노볼락 경화제의 적용이 관심을 받고 있다. 다관능성 수지인 페놀 노볼락 수지를 경화제로서 이용하면 높은 경화밀도와 함께 높은 유리전이온도를 얻을 수 있다.In addition, the application of a polyfunctional phenol novolac curing agent to replace the amine-based curing agent conventionally applied in order to manufacture such a copper clad laminate is attracting attention. When a phenol novolak resin, which is a polyfunctional resin, is used as a curing agent, a high glass transition temperature can be obtained with a high curing density.

그러나, 기존에 경화제로 적용되고 있는 페놀 노볼락 수지는 그 합성과정에서 중합도가 낮은 올리고머의 생성물이 중합 결과물에 다량 포함되게 된다. 특히 이 중 단량체 2개가 중합된 성분은 반응기가 적어 최종 경화물의 경화밀도를 크게 떨어뜨린다. 또한 높은 반응성으로 인해 경화를 지나치게 촉진시켜 프리프레그 제조 과정에서 용제가 충분히 휘발되기 전에 표면을 경화시켜 많은 양의 용제를 프리프레그 안에 잔존시키기 되며, 떨어진 경화밀도와 잔존하는 용제는 결과적으로 최종 경화물의 유리전이온도를 크게 저하시키게 된다.However, the phenol novolak resin, which is conventionally applied as a curing agent, contains a large amount of oligomer products having low polymerization degree in the polymerization process. Particularly, the components in which the two monomers are polymerized have a small number of reactors and greatly lower the curing density of the final cured product. Also, due to the high reactivity, the curing is excessively promoted, so that the surface is cured before the solvent is sufficiently volatilized in the preparation process of the prepreg so that a large amount of solvent remains in the prepreg, and the separated curing density and residual solvent result in the final cured product The glass transition temperature is greatly lowered.

또한, 높은 유리전이온도를 얻기 위해서는 분자량과 연화점을 상승시킨 페놀 노볼락 수지의 경우 고분자량을 가지는 성분의 특성으로 인해 용제와의 상용성이 저하되고, 점도가 상승하는 특성이 있다. 이로 인해 바니쉬 제조 및 프리프레그 함침 공정이 작업성이 저하되고 용제를 추가하여 점도를 감소시켜야 하는 단점이 있으며, 더욱이, 용제의 추가적인 사용은 경제성 및 환경 오염 측면에서 바람직하지 못하다.In addition, in order to obtain a high glass transition temperature, in the case of a phenol novolak resin having a high molecular weight and a softening point, compatibility with a solvent may be lowered due to the characteristics of a component having a high molecular weight, and the viscosity may be increased. As a result, the varnish production and prepreg impregnation process have a disadvantage in that the workability is lowered and the viscosity is decreased by adding a solvent. Furthermore, further use of the solvent is not preferable from the viewpoints of economic efficiency and environmental pollution.

따라서 이러한 단점들을 해결할 수 있는 고내열성 저점도 경화제의 개발이 필요한 실정이다.
Therefore, the development of a high heat resistance low viscosity curing agent that can solve these disadvantages.

본 발명은 고내열성 저점도 경화제로 사용할 수 있는 페놀 노볼락 수지 및 그 제조방법을 제공하려는 것이다.
The present invention is to provide a phenol novolak resin that can be used as a high heat resistance low viscosity curing agent and a method for producing the same.

본 발명의 페놀 노볼락 수지는 화학식 1에서 n=0 내지 5의 정수로 표시되는 화합물을 포함하는 페놀 노볼락 수지에 있어서, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하 포함하거나, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 포함하지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것을 특징으로 한다. The phenol novolak resin of the present invention is a phenol novolak resin comprising a compound represented by an integer of n = 0 to 5 in the formula (1), comprising 5 wt% or less of the compound of formula (1) n = 0, or In the absence of n = 0, the weight average molecular weight is characterized in that 500 ~ 10,000g / mol.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서 n은 0 내지 5의 정수이고, R은 CH2, CH3-C-CH3, C=O 또는 O=S=O이며, X는 H, para butyl phenol, chlorine, bromine 또는 탄소수 1 내지 12의 탄소수소기 중 선택된 알킬기이다.In Formula 1 n is an integer of 0 to 5, R is CH 2 , CH 3 -C-CH 3 , C = O or O = S = O, X is H, para butyl phenol, chlorine, bromine or carbon number It is an alkyl group selected from the C1-C12 hydrogen group.

여기에서, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하 포함하거나, 포함하지 않으면서, PDI(Polydispersity Index)가 1.1~6.0 인 것이 바람직하고, 특히, 이때 160℃에서의 용융점도가 80 내지 12,000cps인 것이 바람직하며, 또한, 연화점이 80 ~ 150℃인 것이 더욱 바람직하다. Herein, the phenol novolak resin of the present invention preferably contains a polydispersity index (PDI) of 1.1 to 6.0 with or without 5 wt% or less of a compound having n = 0 in Formula 1, and in particular, 160 It is preferable that melt viscosity in 80 degreeC is 80-12,000cps, and also it is more preferable that softening point is 80-150 degreeC.

또, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 상기 화학식 1에서 R은 CH2이고, X는 H인 것이 더욱 바람직하다.In addition, in the phenol novolak resin of the present invention, in the general formula (1), R is CH 2 , and X is H more preferably.

본 발명의 페놀 노볼락 수지의 제조방법은 페놀계 단량체와 포름알데히드계 단량체를 산촉매하에서 축합반응시키고, 축합수를 제거하여 페놀 노볼락 수지를 합성하는 합성단계; 상기 합성단계로부터 얻은 페놀 노볼락 수지를 연화점 이상으로 가열하여 용융하는 가열단계; 및 상기 가열단계로부터 용융된 페놀 노볼락 수지를 고진공 증류장치로 투입하여 상기 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 제거하거나, 완전히 제거하는 추출단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. Method for producing a phenol novolak resin of the present invention is a synthetic step of condensation reaction of a phenolic monomer and formaldehyde-based monomer under an acid catalyst, to remove the condensation water to synthesize a phenol novolak resin; A heating step of heating and melting the phenol novolak resin obtained from the synthesis step above the softening point; And extracting the molten phenol novolak resin from the heating step into a high vacuum distillation apparatus to remove 5% by weight or less of the compound having n = 0 in Formula 1 or completely.

여기에서, 상기 추출단계에서는 미리 준비된 고진공 증류장치의 본체의 벽온도 및 압력의 조건을 임의의 설정된 조건으로 설정함으로써, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 제거하거나, 완전히 제거하는 것이 바람직하다.
Here, in the extraction step, by setting the conditions of the wall temperature and pressure of the main body of the high vacuum distillation apparatus prepared in advance to any set conditions, to remove the compound of n = 0 in Formula 1 to 5% by weight or less, or completely removed It is preferable.

본 발명에 따르면, 고내열성 저점도 경화제로 이용될 수 있는 페놀 노볼락 수지를 간단한 방법으로 용이하게 제조할 수 있고, 제조된 페놀 노볼락 수지는 용제의 추가 없이 점도를 감소시킬 수 있어 경제적으로나, 친환경적으로 유용하게 사용할 수 있다.
According to the present invention, a phenol novolak resin which can be used as a high heat resistance low viscosity curing agent can be easily produced by a simple method, and the prepared phenol novolak resin can reduce the viscosity without adding a solvent economically, Eco-friendly and useful.

이하 본 발명에 첨부된 도면을 참조하여 발명의 실시를 위한 구체적인 내용에서는 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted so as to avoid obscuring the subject matter of the present invention.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함 또는 함유" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함 또는 함유할 수 있는 것을 의미한다. Throughout this specification, when an element is referred to as "containing or containing" an element, it is to be understood that the element does not exclude other elements, do.

본 명세서에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다.The terms "about "," substantially ", etc. used to the extent that they are used herein are intended to be taken to mean an approximation of, or approximation to, the numerical values of manufacturing and material tolerances inherent in the meanings mentioned, Accurate or absolute numbers are used to help prevent unauthorized exploitation by unauthorized intruders of the referenced disclosure.

본 발명은 화학식 1에서 n=0 내지 5의 정수로 표시되는 화합물을 포함하는 페놀 노볼락 수지에 있어서, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 포함하거나, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 포함하지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a phenol novolak resin comprising a compound represented by an integer of n = 0 to 5 in the general formula (1), comprising 5 wt% or less of the compound having n = 0 in the general formula (1), or n = 0 in the general formula (1) Without containing a phosphorus compound, the weight average molecular weight is characterized in that 500 ~ 10,000g / mol.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1에서 n은 0 내지 5의 정수이고, R은 CH2, CH3-C-CH3, C=O 또는 O=S=O이며, X는 H, para butyl phenol, chlorine, bromine 또는 탄소수 1 내지 12의 탄소수소기 중 선택된 알킬기이다.In Formula 1 n is an integer of 0 to 5, R is CH 2 , CH 3 -C-CH 3 , C = O or O = S = O, X is H, para butyl phenol, chlorine, bromine or carbon number It is an alkyl group selected from the C1-C12 hydrogen group.

즉, 화학식 1로 표시되는 일반적인 페놀 노볼락 수지의 합성 과정에서는 n=0에서 n=5까지의 화합물이 약 10중량% 이상 포함되어 합성되어지나, 본 발명에서는 단량체 2개만이 중합된 n=0인 화합물의 함량을 5중량% 이하로 포함시키거나, 포함되지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것으로 함으로써, 동일한 중량평균분자량을 가진 종래의 페놀 노볼락 수지에 비교할 때, 최종 경화물의 경화밀도 및 유리전이온도를 크게 향상시킬 수 있는 것이다. That is, in the general phenol novolak resin represented by the general formula (1), the compound is synthesized by including about 10% by weight or more of the compound from n = 0 to n = 5, but in the present invention, only two monomers are polymerized n = 0 When the content of the phosphorus compound is 5 wt% or less, or is not included, the weight average molecular weight is 500 to 10,000 g / mol, and when compared to the conventional phenol novolak resin having the same weight average molecular weight, It is possible to greatly improve the curing density and the glass transition temperature of the cured product.

이 때, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 n=0인 화합물의 함량을 5중량% 이하로 포함시키거나, 포함되지 않도록 함과 동시에 다분산 지수(Polydispersity index; PDI)가 1.1~6.0인 것이 바람직한데, PDI가 1.1~6.0으로 함으로써, 동일한 PDI를 가진 종래의 페놀 노볼락 수지에 비교할 때, 수지의 상용성 및 유리섬유에 대한 젖음성을 우수하게 할 수 있는 것이다. At this time, the phenol novolak resin of the present invention preferably contains or does not contain the content of the compound of n = 0 to 5% by weight or less and at the same time the polydispersity index (PDI) is 1.1 ~ 6.0 However, when PDI is 1.1-6.0, the compatibility of resin and the wettability with respect to glass fiber can be made excellent compared with the conventional phenol novolak resin which has the same PDI.

또한, PDI는 1에 근접하는 수준으로 낮을수록 수지의 상용성 및 유리섬유에 대한 젖음성을 더욱 우수하게 할 수 있다. In addition, the lower the PDI is closer to 1, the better the compatibility of the resin and the wettability to the glass fiber.

본 발명은 이렇게 n=0인 화합물의 함량을 5중량% 이하로 포함시키거나, 포함되지 않도록 하여 최종 경화물의 경화밀도를 크게 향상시킴으로써, 최종 경화물에서 요구되는 경화밀도 및 유리전이온도를 만족시키는 페놀 노볼락 수지를 제공하면서, 상대적으로 점도 및 연화점이 낮은 페놀 노볼락 수지를 제공할 수 있는 것이다. According to the present invention, the content of n = 0 or less is contained in 5 wt% or less, thereby greatly improving the curing density of the final cured product, thereby satisfying the curing density and glass transition temperature required for the final cured product. While providing a phenol novolak resin, it is possible to provide a phenol novolak resin having a relatively low viscosity and softening point.

여기에서, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 n=0인 화합물의 함량을 5중량% 이하로 포함시키거나, 포함되지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것으로 하고, PDI가 1.1~6.0인 것과 동시에, 160℃에서의 용융점도가 80 내지 12,000cps인 것이 바람직한데, 점도가 80cps 이상으로 함으로써, 기재에 함침 또는 도포된 수지가 흘러내리는 것을 방지할 수 있고, 점도가 12,000cps 이하로 함으로써, 높은 점도로 인한 작업성의 저하 없이 기재에 함침 또는 도포가 가능하도록 할 수 있는 것이다.Herein, the phenol novolak resin of the present invention includes a content of a compound of n = 0 at 5 wt% or less, or does not contain a weight average molecular weight of 500 to 10,000 g / mol, and a PDI of 1.1 While the melt viscosity at 160 ° C is preferably 80 to 12,000 cps, the viscosity is 80 cps or more, whereby the resin impregnated or applied to the substrate can be prevented from flowing down, and the viscosity is 12,000 cps or less. By doing so, the substrate can be impregnated or applied without deterioration of workability due to high viscosity.

또한, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 n=0인 화합물의 함량을 5중량% 이하로 포함시키거나, 포함되지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것으로 하고, PDI가 1.1~6.0인 것과 동시에, 연화점이 80℃ 이상으로 함으로써, 수지가 블로킹(blocking)되는 현상 즉, 여름철 등과 같이, 온도 내지 습도가 높은 환경에서 덩어리가 되는 현상을 막을 수 있고, 높은 내열성을 확보할 수 있으며, 150℃이하로 함으로써, 수지의 용융을 용이하게 하여 작업성을 좋게 할 수 있는 것이다. In addition, the phenol novolak resin of the present invention includes a weight average molecular weight of 500 to 10,000 g / mol with or without the content of the compound of n = 0 or less 5% by weight, PDI is 1.1 ~ At the same time as 6.0, the softening point of 80 ° C. or more prevents the blocking of the resin, that is, the phenomenon of agglomeration in a high temperature to high humidity environment such as in summer, and high heat resistance. When the temperature is 150 ° C. or lower, melting of the resin can be facilitated and workability can be improved.

여기에서, 본 발명의 페놀 노볼락 수지는 상기 화학식 1에서 R이 CH2이고, X는 H인 것이 더욱 바람직하다.Herein, in the phenol novolak resin of the present invention, in the general formula (1), R is CH 2 , and X is more preferably H.

본 발명에 따른 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하 포함하거나, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지의 제조방법은, 다음과 같다. The method for producing a phenol novolak resin, comprising 5 wt% or less of the compound having n = 0 in the general formula (1) according to the present invention, or not including the compound having n = 0 in the general formula (1), is as follows.

페놀 노볼락 수지의 제조방법은 페놀 노볼락 수지를 페놀계 단량체와 포름알데히드계 단량체를 산촉매하에서 축합반응시키고 축합수를 제거함으로써 페놀 노볼락 수지를 얻는 합성단계를 포함하고, 상기 합성단계 후에, 상기 합성단계를 통하여 얻은 페놀 노볼락 수지를 연화점 이상으로 가열하여 용융상태로 하고, 상기 연화점 이상으로 가열 용융한 페놀 노볼락 수지를 고진공 증류장치에 투입하여, 투입되는 페놀 노볼락 수지로부터 화학식 1의 n=0인 화합물을 분리시키는 추출단계를 포함한다. The method for preparing a phenol novolak resin includes a synthesis step of condensing the phenol novolak resin with a phenol monomer and a formaldehyde monomer under an acid catalyst and obtaining a phenol novolak resin by removing the condensation water. The phenol novolak resin obtained through the synthesis step is heated to a softening point or more to a molten state, and the phenol novolak resin heated and melted above the softening point is put into a high vacuum distillation apparatus, and n An extraction step of separating the compound with = 0.

상기 추출단계에서는 상기 투입되는 페놀 노볼락 수지로부터 화학식 1의 n=0인 화합물을 분리시켜, n=0인 화합물을 완전히 제거하거나, 5중량% 이하의 임의의 설정된 중량%로 포함할 수 있도록 고진공 증류장치의 본체의 벽온도 및 압력을 적절히 설정함으로써 최종적으로 얻어지는 페놀 노볼락 수지에 포함된 n=0인 화합물을 완전히 포함되지 않도록 하거나, 임의의 설정된 농도로 포함되도록 할 수 있는 것이다.
In the extraction step, the compound of n = 0 of Formula 1 is separated from the injected phenol novolak resin to completely remove the compound of n = 0, or high vacuum to include any set weight percentage of 5 wt% or less. By properly setting the wall temperature and the pressure of the main body of the distillation apparatus, the compound having n = 0 contained in the finally obtained phenol novolak resin may not be completely contained or may be included at an arbitrary set concentration.

다음은 본 발명의 실시예 및 비교예를 설명한다.The following describes examples and comparative examples of the present invention.

<< 비교예Comparative Example 1-1>  1-1>

원료인 페놀 3,200g과 물에 40중량% 농도로 함유되어 있는 포름알데히드 1600g을 5L 4구 플라스크에 투입한 다음, 60℃로 가열하여 30분간 교반하여 충분히 혼합하였다. 혼합된 원료에 촉매로서 옥살산 11g을 투입한 다음, 100℃로 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 이 반응이 완료된 후 760mmHg에서 축합수를 제거함으로써 페놀 노볼락 수지를 합성하였다.
3,200 g of raw material phenol and 1600 g of formaldehyde contained in a concentration of 40% by weight in water were added to a 5L four-neck flask, heated to 60 ° C, and stirred for 30 minutes to sufficiently mix. 11 g of oxalic acid was added as a catalyst to the mixed raw materials, and then heated to 100 ° C. and reacted for 3 hours. After the reaction was completed, a phenol novolak resin was synthesized by removing the condensed water at 760 mmHg.

<< 비교예Comparative Example 1-2> 1-2>

상기 비교예 1-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.7mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 1-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding it into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 240 ° C. and a pressure of 0.7 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 1-1> (n=0가 4.5%인 경우의 예) 1-1> (Example when n = 0 4.5%)

상기 비교예 1-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 235℃, 압력이 0.55mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 1-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding it into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 235 ° C. and a pressure of 0.55 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 1-2> (n=0가 2.3%인 예) 1-2> (example where n = 0 is 2.3%)

상기 비교예 1-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.55mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 1-1 was heated to a molten state, and then put into a high vacuum distillation apparatus in which the wall temperature of the high vacuum distillation apparatus was 240 ° C. and the pressure was set at 0.55 mbar to remove components of low molecular weight. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 1-3> (n=0가 0.7%인 경우의 예) 1-3> (Example when n = 0 is 0.7%)

상기 비교예 1-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.45mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 1-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by inputting it into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 240 ° C. and a pressure of 0.45 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 1-4> (n=0가 0.0%인 경우의 예) 1-4> (Example when n = 0 0.0%)

상기 비교예 1-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.4mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 완전히 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 1-1 was heated to a molten state, and then the high-molecular distillation apparatus was put into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 240 ° C. and a pressure of 0.4 mbar to completely remove low molecular weight components. It removed and obtained the phenol novolak resin.

<< 비교예Comparative Example 2-1> 2-1>

원료인 페놀 3200g과 물에 40중량% 농도로 함유되어 있는 포름알데히드 2000g을 5L 4구 플라스크에 투입한 다음 60℃로 가열하여 30분간 교반하여 충분히 혼합하였다. 혼합된 원료에 촉매로서 옥살산(oxalic acid) 11g을 투입한 다음, 100℃로 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 이 반응이 완료된 후 760mmHg에서 축합수를 제거하여 페놀 노볼락 수지를 합성하였다.
3200 g of raw material phenol and 2000 g of formaldehyde contained in a concentration of 40 wt% in water were added to a 5 L four-neck flask, heated to 60 ° C., stirred for 30 minutes, and sufficiently mixed. 11 g of oxalic acid was added as a catalyst to the mixed raw materials, and then heated to 100 ° C. and reacted for 3 hours. After the reaction was completed, condensed water was removed at 760 mmHg to synthesize a phenol novolak resin.

<< 비교예Comparative Example 2-2> 2-2>

상기 비교예 2-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 230℃, 압력이 0.65mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 2-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 230 ° C. and a pressure of 0.65 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 2-1> (n=0가 4.1%인 예) 2-1> (example where n = 0 is 4.1%)

상기 비교예 2-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 230℃, 압력이 0.5mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 2-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding it into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 230 ° C. and a pressure of 0.5 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 2-2> (n=0가 0.9%인 경우의 예) 2-2> (Example when n = 0 is 0.9%)

상기 비교예 2-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.5mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 2-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding the high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 240 ° C. and a pressure of 0.5 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 실시예Example 2-3> (n=0가 0.0%인 경우의 예) 2-3> (Example when n = 0 0.0%)

상기 비교예 2-1에서 얻어진 페놀 노볼락 수지를 가열하여 용융상태로 만든 다음, 고진공 증류장치의 벽온도가 240℃, 압력이 0.4mbar로 설정된 고진공 증류장치에 투입하여, 저분자량의 성분을 제거하여 페놀 노볼락 수지를 얻었다.
The phenol novolak resin obtained in Comparative Example 2-1 was heated to a molten state, and then a low molecular weight component was removed by feeding it into a high vacuum distillation apparatus having a wall temperature of 240 ° C. and a pressure of 0.4 mbar. To obtain a phenol novolak resin.

<< 비교예Comparative Example 3> 3>

원료인 페놀을 3200g과 물에 40중량% 농도로 함유되어 있는 포름알데히드 2,025g을 5L 4구 플라스크에 투입한 후 60℃로 가열하여 30분간 교반하여 충분히 혼합하였다. 혼합된 원료에 촉매로서 옥살산 18g을 투입한 뒤 100℃로 승온하여 3시간 동안 반응시키고, 이 반응이 완료된 후 760mmHg에서 축합수를 제거함으로써 페놀 노볼락 수지를 합성하였다.
3,200 g of phenol as a raw material and 2,025 g of formaldehyde containing 40% by weight of water were added to a 5L four-neck flask, heated to 60 ° C, stirred for 30 minutes, and sufficiently mixed. After adding 18 g of oxalic acid as a catalyst to the mixed raw materials, the reaction mixture was heated at 100 ° C. for 3 hours, and after the reaction was completed, a phenol novolak resin was synthesized by removing the condensed water at 760 mmHg.

<< 실시예Example  And 비교예의Comparative example 물성평가 방법> Property Evaluation Method>

상기 실시예 및 비교예에 의하여 제조된 페놀 노볼락 수지의 각 물성을 아래의 방법에 의하여 측정하였고, 그 결과는 아래의 표 1과 같다.The physical properties of the phenol novolak resins prepared according to the Examples and Comparative Examples were measured by the following methods, and the results are shown in Table 1 below.

- n=0인 화합물의 함량측정 방법 -Method of measuring the content of compound with n = 0

Gel 투과 크로마토그래피 기기 (Waters社제)를 이용하여 수지 내 해당 분자량대 면적의 적분 값을 구하여 나머지 분자량대의 상대 면적과의 비로 계산하였다.The gel permeation chromatography apparatus (manufactured by Waters) was used to calculate the integral value of the corresponding molecular weight band area in the resin and was calculated as the ratio of the relative molecular weight band to the relative area.

- 분자량 측정 방법 -Molecular weight measurement method

Gel 투과 크로마토그래피 기기 (Waters社제)를 이용하여 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)을 측정하였다.The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) were measured using the Gel permeation chromatography apparatus (made by Waters).

- PDI 측정방법 -PDI measurement method

Gel 투과 크로마토그래피 기기 (Waters社제)를 이용하여 측정된 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 비로 계산하였다.It was calculated by the ratio of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) measured using a Gel permeation chromatography instrument (manufactured by Waters).

- 연화점 측정 방법 -Softening point measurement method

Mettler Toledo社제 FP90/FP83HT 기기를 이용하여 2℃/min.의 승온속도로 측정하였다.Using a FP90 / FP83HT instrument manufactured by Mettler Toledo Co., Ltd. was measured at a temperature increase rate of 2 ℃ / min.

- 점도 측정 방법 -Viscosity measurement method

Brookfield Viscometer (CAP 2000+)를 사용하여 160℃에서 완전히 용융된 수지의 점도를 측정하였다. The viscosity of the fully melted resin was measured at 160 ° C. using a Brookfield Viscometer (CAP 2000+).

- 경화후 물성 측정 방법 -Measurement of physical properties after curing

에폭시 당량(EEW)이 280인 비스페놀A형 Epoxy 수지와 경화제(각 실시예 및 비교예의 페놀 노볼락 수지)를 당량비 1:1로 혼합한 다음, 경화촉진제로서 2E4MZ (2-ethyl-4-methyl-imidazole)을 전체 고형분 중량에 대하여 0.035wt% [에폭시(고형분) + 페놀 노볼락 수지(고형분):경화촉진제=99.965:0.035)를 첨가하여 혼합하여 바니쉬를 제조하였다.Bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent weight (EEW) of 280 and a curing agent (phenolic novolac resins of Examples and Comparative Examples) were mixed in an equivalent ratio of 1: 1, and then 2E4MZ (2-ethyl-4-methyl-) as a curing accelerator. imidazole) was added and mixed with 0.035 wt% [epoxy (solid content) + phenol novolak resin (solid content): curing accelerator = 99.965: 0.035) based on the total solid weight to prepare a varnish.

그 후, 제조된 바니쉬를 유리섬유에 함침한 다음, 140℃에서 5분간 건조하여 프리프레그를 만들고, 이렇게 제조된 프리프레그 4장을 적층하고 적층된 프리프레그 상하면에 동박을 적층한 후에 프레스하여 동박적층판을 만들었다(프레스 조건: 온도 190℃, 압력 25 kgf/cm2, 공정시간 2시간).Thereafter, the prepared varnish was impregnated with glass fibers, and then dried at 140 ° C. for 5 minutes to form a prepreg. Four prepregs thus prepared were laminated, and the copper foil was laminated on the upper and lower surfaces of the laminated prepreg, followed by pressing to obtain copper foil. Laminates were made (press conditions: temperature 190 ° C., pressure 25 kgf / cm 2 , process time 2 hours).

제조된 동박적층판의 유리전이온도를 시차주사열량계 (DSC, TA Instrument社제 Q2000)로 측정하였다(측정부위: 중앙부, 20mg. 측정조건: 질소 분위기, 20℃/min.의 승온 속도로 250℃까지 승온).The glass transition temperature of the prepared copper clad laminate was measured using a differential scanning calorimeter (DSC, Q2000 manufactured by TA Instrument) (measurement part: center part, 20 mg. Measurement conditions: nitrogen atmosphere, temperature rising rate of 20 ° C./min. To 250 ° C.). Elevated temperature).

제조된 바니쉬와 프리프레그 (프리프레그에서 반경화상태의 바니쉬를 털어내어 분말을 만듬)의 Gel 시간을 171℃로 가열된 Hot plate에서 측정하였다(사용량, 바니쉬: 0.2cc, 프리프레그: 20mg).The gel time of the prepared varnish and prepreg (to shake off the semi-hardened varnish from the prepreg to make powder) was measured on a hot plate heated to 171 ℃ (use amount, varnish: 0.2cc, prepreg: 20mg).

구분
division
n=0 함량 중량%n = 0 Content Weight% 평가물성Evaluation Property
분자량Molecular Weight PDIPDI 점도 cpsViscosity cps 연화점 ℃Softening point ℃ Gel 시간Gel time 경화후 TgTg after curing 비교예 1-1Comparative Example 1-1 2222 10341034 1.421.42 6868 7878 234s234 s 128.1℃128.1 ℃ 비교예 1-2Comparative Example 1-2 7.17.1 11061106 1.361.36 132132 8989 241s241 s 136.3℃136.3 ℃ 실시예 1-1Example 1-1 4.54.5 11351135 1.331.33 189189 98.298.2 258s258 s 148.2℃148.2 ℃ 실시예 1-2Examples 1-2 2.32.3 11491149 1.311.31 246246 99.199.1 262s262 s 151.2℃151.2 ℃ 실시예 1-3Example 1-3 0.70.7 11621162 1.291.29 287287 101101 267s267 s 154.3℃154.3 ℃ 실시예 1-4Example 1-4 0.00.0 11721172 1.261.26 291291 101.5101.5 266s266 s 155.7℃155.7 ℃ 비교예 2-1Comparative Example 2-1 12.912.9 18481848 2.032.03 390390 101101 212s212 s 153.1℃153.1 ℃ 비교예 2-2Comparative Example 2-2 9.99.9 19151915 1.961.96 784784 109109 219s219 s 155.2℃155.2 ℃ 실시예 2-1Example 2-1 4.14.1 20592059 1.831.83 16101610 117117 234s234 s 163.3℃163.3 ℃ 실시예 2-2Example 2-2 0.90.9 21102110 1.71.7 21712171 120.1120.1 239s239 s 164.1℃164.1 ℃ 실시예 2-3Example 2-3 00 21502150 1.641.64 21902190 121.1121.1 243s243 s 165.5℃165.5 ℃ 비교예 3Comparative Example 3 9.29.2 43424342 3.573.57 28762876 119119 219s219 s 162℃162 ℃

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.Having described specific portions of the invention in detail, those skilled in the art will appreciate that these specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the invention is not limited thereby will be. It is therefore intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

Claims (7)

화학식 1에서 n=0 내지 5의 정수로 표시되는 화합물을 포함하는 페놀 노볼락 수지에 있어서, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 포함하거나, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 포함하지 않으면서, 중량평균분자량이 500~10,000g/mol인 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지:
[화학식 1]
Figure pat00003

여기서, n은 0 내지 5의 정수이고, R은 CH2, CH3-C-CH3, C=O 또는 O=S=O이며, X는 H, para butyl phenol, chlorine, bromine 또는 탄소수 1 내지 12의 탄소수소기 중 선택된 알킬기임.
A phenol novolak resin comprising a compound represented by an integer of n = 0 to 5 in Formula 1, comprising 5 wt% or less of a compound having n = 0 in Formula 1, or a compound having n = 0 in Formula 1 Phenol novolac resin, characterized in that the weight average molecular weight of 500 ~ 10,000g / mol without including:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00003

Wherein n is an integer from 0 to 5, R is CH 2 , CH 3 -C-CH 3 , C = O or O = S = O, X is H, para butyl phenol, chlorine, bromine or 1 to C It is an alkyl group selected from the hydrogen group of 12.
제1항에 있어서, 상기 페놀 노볼락 수지는 PDI가 1.1~6.0인 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지.
The phenol novolak resin according to claim 1, wherein the phenol novolak resin has a PDI of 1.1 to 6.0.
제1항에 있어서, 상기 페놀 노볼락 수지는 160℃에서의 용융점도가 80 내지 12,000cps인 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지.
The phenol novolak resin according to claim 1, wherein the phenol novolak resin has a melt viscosity of 80 to 12,000 cps at 160 ° C.
제1항에 있어서, 상기 페놀 노볼락 수지는 연화점이 80~150℃인 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지.
The phenol novolak resin according to claim 1, wherein the phenol novolak resin has a softening point of 80 to 150 ° C.
제1항에 있어서, 상기 화학식 1에서 R은 CH2이고, X는 H인 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지.
The phenol novolak resin according to claim 1, wherein in Formula 1, R is CH 2 and X is H.
(a) 페놀계 단량체와 포름알데히드계 단량체를 산촉매하에서 축합반응시키고, 축합수를 제거하여 페놀 노볼락 수지를 합성하는 합성단계;
(b) 상기 합성단계로부터 얻은 페놀 노볼락 수지를 연화점 이상으로 가열하여 용융하는 가열단계; 및
(c) 상기 가열단계로부터 용융된 페놀 노볼락 수지를 고진공 증류장치로 투입하여 상기 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 제거하거나, 완전히 제거하는 추출단계를 포함하는 페놀 노볼락 수지의 제조방법.
(a) a condensation reaction of a phenolic monomer with a formaldehyde monomer under an acid catalyst, and a condensation water to be removed to synthesize a phenol novolak resin;
(b) a heating step of heating and melting the phenol novolak resin obtained from the synthesis step above the softening point; And
(c) a phenol novolak resin comprising an extraction step of removing the molten phenol novolak resin from the heating step into a high vacuum distillation apparatus to remove 5% by weight or less of the compound having n = 0 in Formula 1; Manufacturing method.
제6항에 있어서, 상기 (c) 단계의 추출단계에서는 미리 준비된 고진공 증류장치의 본체의 벽온도 및 압력의 조건을 임의의 설정된 조건으로 설정함으로써, 화학식 1에서 n=0인 화합물을 5중량% 이하로 제거하거나, 완전히 제거하는 것을 특징으로 하는 페놀 노볼락 수지의 제조방법.The method of claim 6, wherein in the extraction step of (c), by setting the conditions of the wall temperature and the pressure of the main body of the high vacuum distillation apparatus prepared in advance to any set conditions, 5% by weight of the compound of n = 0 in the formula (1) A method for producing a phenol novolak resin, which is removed below or completely removed.
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