KR20130122964A - Anti-glare film, method for producing anti-glare film, anti-glare anti-reflection film, polarizing plate, and image display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기재 필름 위에, 활성선 경화형 수지를 함유하는 방현층을 갖는 방현성 필름이며, 상기 방현층이 미립자 및 상기 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm이며, 또한 상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 1.0%인 것을 특징으로 하는 방현성 필름을 제공한다.The present invention is an antiglare film having an antiglare layer containing an active ray curable resin on a base film, wherein the antiglare layer contains substantially no incompatible resin with respect to the fine particles and the active ray curable resin. Arithmetic mean roughness Ra is 300-1500 nm, The haze resulting from the internal scattering of the said glare-proof layer is 0 to 1.0%, The anti-glare film is provided.
Description
본 발명은 방현성 필름, 방현성 필름의 제조 방법, 방현성 반사 방지 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 터치 패널을 갖는 액정 표시 장치에 관한 것이다.This invention relates to the liquid crystal display device which has an anti-glare film, the manufacturing method of an anti-glare film, an anti-glare antireflection film, a polarizing plate, an image display apparatus, and a touch panel.
최근 들어, 음극관 표시 장치(CRT) 디스플레이, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 터치 패널식 입력 장치, 유기 또는 무기 EL(일렉트로루미네센스) 디스플레이, FED(필드에미션 디스플레이) 등의 디스플레이에 있어서, 형광등이나 태양광 등의 외부 광원이 디스플레이 표면에 투영되면, 이 반사광이 방해가 되어 화면을 보기 어려워져, 시인성이 현저하게 열화되기 때문에, 각종 디스플레이에는, 표면에 반사된 상의 윤곽을 희미하게 함으로써, 반사 상의 투영을 저감하는 방현층을 가진 필름(방현성 필름)을 디스플레이 표면에 설치하고 있다.Recently, displays such as cathode ray tube display (CRT) displays, liquid crystal displays, plasma displays, touch panel input devices, organic or inorganic EL (electroluminescence) displays, FED (field emission displays), and the like, When an external light source such as sunlight is projected onto the display surface, the reflected light becomes obstructed, making it difficult to see the screen, and the visibility is remarkably deteriorated. Therefore, various displays blur the outline of the image reflected on the surface. The film (anti-glare film) which has an anti-glare layer which reduces projection is provided in the display surface.
방현 처리에는, 화학 에칭 등으로 조면화 처리하여 표면 요철을 부여한 것, 금형에 의한 전사 방식 등으로 표면 요철을 부여한 것, 수지층 중에 미립자를 분산 함유시켜서 표면 요철을 부여한 것이 있다.The antiglare treatment has been roughened by chemical etching or the like to give surface irregularities, a surface irregularities are provided by a transfer method using a mold, or a particle is dispersed and contained in the resin layer to give surface irregularities.
이들 방현 처리 중에서는, 수지층 중에 미립자를 분산 함유시키는 방법이, 표면 요철을 간단하게 부여할 수 있으므로, 일반적으로 사용되고 있다.In these anti-glare processes, since the method of disperse | distributing microparticles | fine-particles in a resin layer can easily provide surface unevenness, it is generally used.
그러나, 미립자를 분산 함유시켜서 표면 요철을 형성하는 방현성 필름에서는, 미립자가 응집하기 쉬워, 표면의 표면 요철을 제어하는 것이 곤란해서, 표면 요철의 설계 자유도가 제약받고 있었다. 또한, 미립자의 응집에 의해 얼룩 등이 발생하여, 외관 불량으로 되는 문제가 있었다. 또한, 미립자와 방현층을 형성하는 수지와의 굴절률이 상이하기 때문에, 양자의 굴절률의 차이에 의한 내부 산란에 기인한 헤이즈(내부 헤이즈)가 발생하여, 필름으로서의 전체 헤이즈가 높아져서, 표시 전체가 흰빛을 띠어, 콘트라스트의 저하를 초래하는 문제가 있었다. 따라서, 최근 들어, 저내부헤이즈의 방현성 필름이 검토되고 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).However, in the anti-glare film which disperse | distributes microparticles | fine-particles and forms surface unevenness | corrugation, microparticles | fine-particles are easy to aggregate and it is difficult to control the surface unevenness | corrugation of the surface, and the freedom of design of surface unevenness was restrict | limited. In addition, unevenness occurred due to aggregation of the fine particles, resulting in a problem of poor appearance. In addition, since the refractive index between the fine particles and the resin forming the antiglare layer is different, haze (internal haze) due to internal scattering due to the difference in refractive index between the two is generated, and the overall haze as a film is increased, so that the entire display is white. As a result, there was a problem of causing a decrease in contrast. Therefore, the anti-glare film of the low internal haze is examined in recent years (for example, refer patent document 1, 2).
특허문헌 1은, 전체 헤이즈가 1 내지 30%이며, 내부 헤이즈가 0 내지 1%이며, 또한 파장 450 내지 650nm의 영역에서의 5°입사에서의 평균 반사율이 0.001 내지 2.5%인 방현성 필름을 개시하고 있다. 또한, 특허문헌 1에 기재된 발명은, 경화 수지에 비상용성인 중합체 성분(셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트)을 함유시켜, 도막 건조시의 스피노달 분해에 의해 표면 요철을 형성시키는 기술이다.Patent Literature 1 discloses an antiglare film having a total haze of 1 to 30%, an internal haze of 0 to 1%, and an average reflectance of 0.001 to 2.5% at 5 ° incidence in a region having a wavelength of 450 to 650 nm. Doing. In addition, the invention described in Patent Literature 1 is a technique in which a curable resin contains an incompatible polymer component (cellulose acetate propionate) to form surface irregularities by spinodal decomposition during coating film drying.
한편, 특허문헌 2는, 투명 필름 위에 1층 이상의 방현 하드 코트층을 갖고, 방현 하드 코트층의 내부 헤이즈가 0.5% 이하, 또한 표면 헤이즈/내부 헤이즈가 2.0 이상인 방현 하드 코트 필름을 개시하고 있다. 특허문헌 2에 기재된 발명은, 서로 비상용인 2종류의 수지(수지 A; 예를 들어, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 및 수지 B; 예를 들어, 메타크릴레이트 공중합 중합체)의 스피노달 분해에 의한 상분리를 이용하여, 표면 요철을 형성시키는 기술이다.On the other hand,
이들 기술은 모두, 외광이나 반사 상의 투영을 방지하여, 콘트라스트가 우수한 화질을 얻을 수 있는 것으로 기재되어 있다.All of these techniques are described as being capable of preventing projection of external light or reflection and obtaining a high quality image with excellent contrast.
또한, 특허문헌 1이나 2에 기재되어 있는 바와 같은 용해도 파라미터가 상이하고, 비상용인 수지를 섞어서 스피노달 분해에 의해, 규칙적인 상분리를 이용하여 표면 요철을 형성하는 방현성 필름에서는, 상분리의 제어가 어렵고, 원료의 로트, 중합체 조성 등의 약간의 변화에 의해, 상분리 구조의 크기가 크게 변화하여 표면 요철의 불균일이 발생하여, 안정된 표면 요철을 형성하는 것이 곤란해서, 화상 표시에 사용한 경우, 시인성의 저하를 초래하는 문제가 있었다.In addition, in the anti-glare film which differs in solubility parameters as described in
또한, 상술한 종래 기술은, 디지털 사이니지 등의 옥외 사용을 상정한 내구성 시험 후에, 화상 표시 장치에 사용한 결과, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)의 저하가 현저하였다. 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열이 발생함으로써, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 그 영향으로 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 열화되는 것으로 추정하고 있다.Moreover, the above-mentioned prior art used for an image display apparatus after the durability test assumed outdoor use, such as a digital signage, and as a result, the fall of visibility (projection prevention performance and sharpness) was remarkable. It is estimated that the visibility (projection prevention performance and sharpness) deteriorates under the influence when it is used for an image display apparatus by the occurrence of the micro-white spots and the microcracks of the anti-glare film after the durability test.
따라서, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름의 출현이 요망되고 있는 상황이다.Therefore, stable surface irregularities are formed, and the appearance of the anti-glare film excellent in the visibility (projection prevention performance and sharpness) after a durability test is desired.
본 발명의 목적은, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생이 없어, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름을 제공하는 데 있다. 또한, 상기 방현성 필름의 제조 방법, 상기 방현성 필름을 사용한 방현성 반사 방지 필름, 우수한 시인성을 갖는 편광판, 화상 표시 장치 및 터치 패널을 갖는 액정 표시 장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide excellent visibility (anti-projection performance and sharpness) when stable surface irregularities are formed and there is no occurrence of micro-white spots and micro cracks in the anti-glare film after the durability test, and when used in an image display device. It is to provide a manifest film. Moreover, it is providing the liquid crystal display device which has the manufacturing method of the said anti-glare film, the anti-glare antireflection film using the said anti-glare film, the polarizing plate which has the outstanding visibility, an image display apparatus, and a touch panel.
본 발명의 상기 목적은 이하의 구성에 의해 달성된다.The above object of the present invention is achieved by the following configuration.
즉, 본 발명의 일 국면은, 기재 필름 위에, 활성선 경화형 수지를 함유하는 방현층을 갖는 방현성 필름이며, 상기 방현층이 미립자 및 상기 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm이며, 또한 상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 1.0%인 것을 특징으로 하는 방현성 필름을 제공한다.That is, one aspect of this invention is an anti-glare film which has an anti-glare layer containing an active-line curable resin on a base film, and the said anti-glare layer does not contain substantially incompatible resin with respect to microparticles | fine-particles and said active-line curable resin. The arithmetic mean roughness Ra of the said glare-proof layer is 300-1500 nm, and the haze resulting from the internal scattering of the said glare-proof layer is 0 to 1.0%, The anti-glare film is provided.
본 발명에 따르면, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생이 없어, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름을 제공할 수 있다. 또한, 상기 방현성 필름의 제조 방법, 상기 방현성 필름을 사용한 방현성 반사 방지 필름, 우수한 시인성을 갖는 편광판, 화상 표시 장치 및 터치 패널을 갖는 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, when stable surface irregularities are formed and there is no occurrence of micro-white spots and micro cracks of the anti-glare film after the durability test, and it is used in an image display device, the anti-glare property excellent in visibility (projection preventing performance and sharpness) is excellent. Films may be provided. Moreover, the liquid crystal display device which has the manufacturing method of the said anti-glare film, the anti-glare antireflection film using the said anti-glare film, the polarizing plate which has the outstanding visibility, an image display apparatus, and a touch panel can be provided.
도 1은, 돌기의 설명도이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 방현성 필름의 방현층이 불규칙한 돌기를 도시하는 개략도이다. 도 2에서, 부호 1은 방현층을, 부호 2는 돌기 형상을 나타낸다.
도 3은, 방현성 필름의 방현층 표면의 광학 간섭식 표면 조도계의 관찰 도이다.
도 4는, 실시예에서 제작한 편광판의 단면도를 도시한다.
도 5는, 실시예에서 제작한 액정 패널의 단면도를 도시한다.
도 6은, 액정 표시 장치의 액정 셀의 개략도이다.
도 7은, 도전성 막을 구비한 반사 방지 필름의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 8은, 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치의 구성의 일례를 나타내는 개략도이다.1 is an explanatory diagram of a projection.
FIG. 2 is a schematic diagram showing irregular projections of the anti-glare layer of the anti-glare film according to the embodiment of the present invention. FIG. In Fig. 2, reference numeral 1 denotes an antiglare layer, and 2 denotes a projection shape.
3 is an observation diagram of an optical interference surface roughness meter on the surface of an antiglare layer of an antiglare film.
4 shows a cross-sectional view of the polarizing plate produced in the example.
5 is a sectional view of the liquid crystal panel produced in the embodiment.
6 is a schematic view of a liquid crystal cell of a liquid crystal display device.
It is a figure which shows the structural example of the antireflection film provided with an electroconductive film.
8 is a schematic view showing an example of the configuration of a resistive touch panel liquid crystal display device.
이하 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 대하여 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이것들에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although the content for implementing this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.
본 발명의 방현성 필름은, 기재 필름 위에, 활성선 경화형 수지를 함유하는 방현층을 갖는 방현성 필름이며, 상기 방현층이 미립자 및 상기 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm이며, 또한 상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 1.0%이며, 이러한 구성에 의해, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생이 없어, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름을 제공할 수 있는 것이다.The anti-glare film of this invention is an anti-glare film which has an anti-glare layer containing an active-line curable resin on a base film, and the said anti-glare layer does not contain the resin which is incompatible with microparticles | fine-particles and said active-line curable resin substantially Arithmetic mean roughness Ra of the said glare-proof layer is 300-1500 nm, Haze resulting from the internal scattering of the said glare-proof layer is 0-1.0%, By such a structure, stable surface unevenness | corrugation is formed and after durability test When there is no occurrence of micro-white spots and micro cracks of an anti-glare film, and it is used for an image display apparatus, an anti-glare film excellent in visibility (projection prevention performance and sharpness) can be provided.
본 발명자는, 상기 과제에 대하여 예의 검토를 실시한 결과, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생은, 내구성 시험 후의 가요성(필름의 가요성)이나 또한 투과 사상성이 크게 영향을 미치는 것을 밝혀냈다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining the said subject, generation | occurrence | production of the micro cloudiness unevenness and microcracks of the anti-glare film after a durability test greatly influence the flexibility (flexibility of a film) after a durability test, and also the permeability of permeability. It turns out mad.
본 발명에 따르면, 방현층의 산술 평균 조도(Ra)와 내부 헤이즈를 특정 범위로 제어하고, 또한 미립자 및 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않는 조건에서 방현층을 형성함으로써, 내구성 시험 후에도 방현성 필름의 필름 탄성이 변화하지 않아, 미소 균열의 발생을 양호하게 방지할 수 있어, 우수한 가요성이 얻어지는 것으로 추정하고 있다. 또한, 방현층 내에 미립자나 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유시키지 않음으로써, 방현층 내에 미반응된 활성선 경화형 수지가 잔존해도, 내구성 시험에서 방현층 내에서 반응 등이 발생하지 않고, 미소 백탁 얼룩이 발생하지 않아, 내구성 시험 후에도 우수한 투과 사상성이 얻어지는 것으로 추정하고 있다.According to the present invention, by controlling the arithmetic mean roughness Ra and the internal haze of the antiglare layer to a specific range, and forming an antiglare layer under conditions that are substantially free of incompatible resin with respect to the fine particles and the active ray curable resin, It is estimated that the film elasticity of an anti-glare film does not change even after an endurance test, the generation | occurrence | production of a micro crack can be prevented favorably, and the outstanding flexibility is obtained. In addition, since the non-reacted active line curable resin remains in the antiglare layer, the reaction does not occur in the antiglare layer even when the unreacted active line curable resin remains substantially in the antiglare layer. In addition, it is estimated that a fine cloudy stain does not generate | occur | produce and excellent permeability is obtained even after a durability test.
또한, 화상 표시 장치에 본 발명의 방현성 필름을 사용함으로써 우수한 시인성과 동시에, 우수한 선예성도 얻어짐을 알 수 있어, 본 발명에 이른 것이다.Moreover, it turns out that using the anti-glare film of this invention for an image display apparatus, the outstanding visibility and also the outstanding sharpness are also acquired, and it is this invention.
이하, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, specific embodiment of this invention is described in detail.
<방현성 필름><Anti-glare film>
본 발명에서 말하는 방현성 필름이란, 필름 기재의 표면에 반사된 상이나 외광의 윤곽을 희미하게 하는 층(즉, 방현층)을 필름 기재의 표면에 설치함으로써, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라즈마 디스플레이와 같은 화상 표시 장치 등의 사용시에, 외광이나 반사 상의 투영이 신경쓰이지 않도록 한 필름이다. 또한, 본원에서, "내지"는, 그 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미로 사용한다. 또한, "표면 헤이즈값" 및 "내부 헤이즈값"은, 각각 간단히 "표면 헤이즈", "내부 헤이즈"라고도 표현한다.The anti-glare film referred to in the present invention includes a liquid crystal display, an organic EL display, and a plasma display by providing a layer (i.e., anti-glare layer) on the surface of the film substrate that blurs the outline of the image or external light reflected on the surface of the film substrate. At the time of use of such an image display apparatus, it is a film which did not mind projection of external light and a reflection image. In addition, in this application, "-" uses the numerical value described before and after that by the meaning included as a lower limit and an upper limit. In addition, "surface haze value" and "internal haze value" are also simply expressed as "surface haze" and "internal haze", respectively.
본 실시 형태의 방현성 필름은, 기재 필름 위에 활성선 경화형 수지를 함유하는 방현층을 갖는 방현성 필름이며, 상기 방현층이 미립자 및 상기 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm인 것 및 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 1.0%인 것을 특징으로 한다.The anti-glare film of this embodiment is an anti-glare film which has an anti-glare layer containing an active-line curable resin on a base film, and the said anti-glare layer does not substantially contain incompatible resin with respect to microparticles | fine-particles and the said active-line curable resin. The arithmetic mean roughness Ra of the antiglare layer is 300 to 1500 nm, and the haze resulting from the internal scattering of the antiglare layer is 0 to 1.0%.
또한, 본 발명에서, "비상용성"이란, 2종류 이상의 수지의 용융 혼합물의 융해 온도(Tm) 또는 유리 전이점(Tg)을 측정·관찰했을 때에, 당해 용융 혼합물을 구성하는 수지 각각 단독의 피크가 관찰되는 것을 말한다. 또한, 투과형 전자 현미경 관찰에 있어서 각각의 상이 실질적으로 관찰되는 것을 말한다. 한편, "상용성"이란, 동종 또는 2종류 이상의 수지의 용융 혼합물의 융해 온도(Tm) 또는 유리 전이점(Tg)을 측정·관찰했을 때에, 당해 용융 혼합물의 피크가 1개 이하 관찰되는 것을 말한다. 상기 수지의 Tg나 Tm은, DSC 측정의 Tg나 Tm에 기초하는 베이스 라인이 치우치기 시작하는 온도이다.In addition, in this invention, when it measures and observes melting | fusing temperature (Tm) or glass transition point (Tg) of the melt mixture of two or more types of resins, "incompatibility" is the peak of each resin which comprises the said melt mixture individually. Says what is observed. In addition, it means that each phase is observed substantially in transmission electron microscope observation. On the other hand, "compatibility" means that one or less peaks of the molten mixture are observed when the melting temperature (Tm) or the glass transition point (Tg) of the molten mixture of the same kind or two or more kinds of resins is measured and observed. . Tg and Tm of the said resin are the temperature which the base line based on Tg and Tm of a DSC measurement starts to bias.
또한, 본원에서, "실질적으로 함유하지 않는"이란, 미립자나 비상용성인 수지의 종류·성질에 따라 다르지만, 방현층 중의 함유량이, 기재 필름으로부터의 추출물 성분을 제외하고, 0.01질량% 이하인 것을 말하며, 보다 바람직하게는 전혀 함유하지 않는 것이다.In addition, in this application, although it does not contain substantially, it means that content in an anti-glare layer is 0.01 mass% or less except for the extract component from a base film, although it changes with kinds and the properties of microparticles | fine-particles and incompatible resin, More preferably, it does not contain at all.
본 실시 형태에서, 활성선 경화형 수지(상세한 것은 후술함)에 대하여 비상용성인 수지로는, (메트)아크릴계나 아크릴계의 단량체를 중합 또는 공중합하여 얻어지는 수지나 폴리에스테르 수지, 또한, 후술하는 기재 필름에서 사용되는 열가소성 아크릴 수지, 셀룰로오스에스테르 수지 등을 들 수 있다.In this embodiment, as incompatible resin with respect to actinic-ray-curable resin (it mentions later in detail), In resin and polyester resin obtained by superposing | polymerizing or copolymerizing a (meth) acrylic-type or acryl-type monomer, Furthermore, the base film mentioned later The thermoplastic acrylic resin, cellulose ester resin, etc. which are used are mentioned.
미립자로는, 무기 미립자나 유기 미립자와 같은 미립자를 들 수 있고, 구체적으로는 무기 미립자로는, 산화규소, 산화마그네슘, 탄산칼슘 등을 들 수 있다. 또한, 유기 입자로는, 폴리메타크릴산 메틸아크릴레이트 수지 분말, 아크릴 스티렌계 수지 분말, 폴리메틸메타크릴레이트 수지 분말, 폴리스티렌계 수지 분말, 또는 멜라민계 수지 분말 등을 들 수 있다.As microparticles | fine-particles, microparticles | fine-particles, such as inorganic microparticles | fine-particles and organic microparticles | fine-particles, are mentioned, Specifically, an inorganic fine particle can mention silicon oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, etc. Moreover, polymethacrylate methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, polystyrene resin powder, or melamine type resin powder etc. are mentioned as organic particle | grains.
다음으로 돌기 형상에 대하여 설명한다.Next, the protrusion shape will be described.
<표면 형상><Surface shape>
본 실시 형태의 방현성 필름은, 방현층의 산술 평균 조도(Ra)(JIS B0601: 1994)가 300 내지 1500nm인 것을 하나의 특징으로 하고 있다. 산술 평균 조도(Ra)는, 더욱 바람직하게는 350 내지 1300nm이며, 특히 바람직하게는 500 내지 1300nm이다. 산술 평균 조도(Ra) 350 내지 1300nm에서 본 발명의 목적 효과가 보다 양호하게 발휘되고, 또한 산술 평균 조도(Ra) 500 내지 1300nm에서는, 연필 경도 평가법(시험 방법의 상세한 것은 후술)에 의한 경도 시험에서, 긁은 연필의 방현층에서의 미끄럼성이 증가하여, 흠집이 나기 어려워, 박막이라도 고경도(4H 이상)가 얻어지기 때문에 바람직하다.The anti-glare film of this embodiment is characterized by one whose arithmetic mean roughness Ra (JIS B0601: 1994) of an anti-glare layer is 300-1500 nm. Arithmetic mean roughness Ra becomes like this. More preferably, it is 350-1300 nm, Especially preferably, it is 500-1300 nm. In the arithmetic mean roughness (Ra) 350-1300 nm, the objective effect of this invention is exhibited more favorable, and in arithmetic mean roughness (Ra) 500-1300 nm, in the hardness test by the pencil hardness evaluation method (The detail of a test method is mentioned later). Since the slipperiness | lubricacy in the anti-glare layer of a scraped pencil increases and it is hard to be damaged, even a thin film is obtained because high hardness (4H or more) is obtained.
상기 범위의 산술 평균 조도(Ra)로 하기 위하여 돌기 형상의 높이는, 20nm 내지 6㎛가 바람직하다. 또한 돌기 형상의 폭은 50nm 내지 300㎛, 바람직하게는 50nm 내지 100㎛이다. 상기 돌기 형상의 높이 및 폭은 단면 관찰로부터 구할 수 있다. 보다 이해하기 쉽게 하기 위해서, 도 1에 돌기 형상의 높이를 측정하기 위한 설명도를 나타냈다. 도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 단면 관찰의 화상에 중심선(a)을 긋고, 산의 기슭을 형성하는 선(b, c)과 중심선(a)의 2개의 교점의 거리를, 돌기 크기의 폭(t)이라 하였다.In order to make arithmetic mean roughness Ra of the said range, 20 nm-6 micrometers of height of protrusion shape are preferable. Moreover, the width | variety of protrusion shape is 50 nm-300 micrometers, Preferably it is 50 nm-100 micrometers. The height and width of the projection shape can be obtained from cross-sectional observation. In order to make it easier to understand, explanatory drawing for measuring the height of protrusion shape was shown in FIG. As shown in Fig. 1, the center line a is drawn on the image of the cross-sectional observation, and the distance between the two intersections of the lines b and c forming the foot of the mountain and the center line a is the width of the projection size. It was called (t).
본 실시 형태의 방현성 필름의 방현층의 10점 평균 조도(Rz)는, 중심선 평균 조도(Ra)의 10배 이하, 평균 산곡(山谷) 거리(Sm)는 5 내지 150㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 내지 100㎛, 요철 최심부로부터의 볼록부 높이의 표준 편차는 0.5㎛ 이하, 중심선을 기준으로 한 평균 산곡 거리(Sm)의 표준 편차가 20㎛ 이하, 경사각 0 내지 5도의 면적은 10% 이상이 바람직하다.As for 10-point average roughness Rz of the anti-glare layer of the anti-glare film of this embodiment, 10-times or less of the center line average roughness Ra, and the average valley distance Sm are 5-150 micrometers, More Preferably, the standard deviation of the height of the convex portion from the deepest uneven portion is 20 to 100 µm, 0.5 µm or less, the standard deviation of the average valley distance Sm based on the center line is 20 µm or less, and the
또한, 방현층의 첨도(Rku)는 3 이하가 바람직하다. 왜곡도(Rsk)는, 절댓값이 1 이하가 바람직하다. 상기한 산술 평균 조도(Ra, Sm, Rz)는, JIS B0601: 1994에 준하여 광학 간섭식 표면 조도계(예를 들어, RST/PLUS, WYKO사 제조, Zygo사 제조 New View 5030)로 측정한 값이다.In addition, the kurtosis (Rku) of the antiglare layer is preferably 3 or less. As for the distortion degree Rsk, 1 or less of absolute values are preferable. The arithmetic mean roughness (Ra, Sm, Rz) described above is a value measured by an optical interference surface roughness meter (for example, RST / PLUS, manufactured by WYKO, New View 5030, manufactured by Zygo) according to JIS B0601: 1994. .
본 실시 형태의 방현성 필름은, 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈(이후, 내부 헤이즈라고도 기재함)가 0 내지 1.0%인 것을 하나의 특징으로 하고 있다. 상기한 돌기 형상을 형성할 때, 상기 범위의 내부 헤이즈로 컨트롤하고, 또한 돌기 형상의 산술 평균 조도(Ra)를 상기 범위로 제어하여, 방현층이 미립자 및 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않음으로써, 본 발명의 목적 효과가 양호하게 발휘된다. 내부 헤이즈로는, 바람직하게는 0 내지 0.5%이다. 내부 헤이즈는, 이하의 수순으로 측정할 수 있다. 방현성 필름의 표면 및 이면에 실리콘 오일을 몇 방울 적하하고, 두께 1mm의 유리판(마이크로 슬라이드 글래스 제품 번호 S 9111, MATSUNAMI 제조) 2장으로, 표리에서 붙든다. 표리를 유리 사이에 끼워 넣은 방현성 필름을, 완전히 2장의 유리판과 광학적으로 밀착시켜, 이 상태에서 헤이즈(Ha)를 JIS-K7105 및 JIS K7136에 준하여 측정한다. 이어서, 유리판 2장의 사이에 실리콘 오일만 몇 방울 적하하여 붙들고 유리 헤이즈(Hb)를 측정한다. 그리고, 방현성 필름을 유리 사이에 끼워 넣은 헤이즈(Ha)에서, 유리 헤이즈(Hb)를 뺌으로써, 내부 헤이즈(Hi)를 산출할 수 있다. 또한, 표면 헤이즈(필름의 표면 산란에 기인하는 헤이즈)는 3 내지 40%인 것이 바람직하다. 표면 헤이즈는, 전체 헤이즈에서 내부 헤이즈를 뺌으로써 구할 수 있다. 전체 헤이즈는 3% 내지 40%인 것이 바람직하다.The anti-glare film of this embodiment has one characteristic that the haze resulting from internal scattering of an anti-glare layer (hereinafter also described as internal haze) is 0 to 1.0%. When forming the above projection shape, the internal haze of the above range is controlled, and the arithmetic mean roughness Ra of the projection shape is controlled within the above range, so that the antiglare layer is incompatible with the fine particles and the active line curable resin. By not containing substantially, the objective effect of this invention is exhibited favorably. As internal haze, Preferably it is 0 to 0.5%. Internal haze can be measured by the following procedures. A few drops of silicone oil are dripped at the front and back surface of an anti-glare film, and it holds by two sheets of the glass plate (micro slide glass product number S 9111 by MATSUNAMI) of thickness 1mm, and is hold | maintained at the front and back. The anti-glare film which sandwiched the front and back between glass is completely optically stuck with two glass plates, and haze (Ha) is measured according to JIS-K7105 and JIS K7136 in this state. Next, only a few drops of silicone oil is dripped between two glass plates, and glass haze (Hb) is measured. And internal haze (Hi) can be computed by taking out glass haze (Hb) by the haze (Ha) which sandwiched the anti-glare film between glass. Moreover, it is preferable that surface haze (haze resulting from surface scattering of a film) is 3 to 40%. The surface haze can be obtained by subtracting the internal haze from the total haze. The total haze is preferably 3% to 40%.
본 실시 형태의 방현성 필름은, 방현층이 표면 요철을 형성하는 돌기 형상을 갖고, 그 돌기 형상이 길이 방향으로 불규칙한 형상의 돌기이며, 그 배치도 불규칙한 배치인 것이 바람직하다. 이러한 돌기 형상을 가짐으로써, 본 발명의 목적 효과가 양호하게 발휘된다.It is preferable that the anti-glare film of this embodiment has a protrusion shape in which an anti-glare layer forms surface unevenness, the protrusion shape is a protrusion of an irregular shape in a longitudinal direction, and the arrangement is also an irregular arrangement. By having such a protrusion shape, the objective effect of this invention is exhibited favorably.
본 실시 형태의 방현성 필름의 방현층이 갖는 "불규칙한 형상의 돌기"란, 표면 요철이 스탬핑에 의해 형성된 길이 방향으로 주기적으로 규칙적인 형상을 갖지 않고, 형태나 크기도 정해지지 않은 다양한 형상의 돌기를 가리킨다. 이것들에 한정되지는 않지만, 예를 들어 도 2에 도시하는 폭이나 높이도 다른 돌기가, 불규칙한 형상의 돌기로서 예시된다. 또한, "불규칙한 배치"란, 상기 불규칙한 경향의 돌기가 규칙적으로(예를 들어, 등간격 등으로) 배치되어 있는 것이 아니라, 임의적인 간격으로 불규칙하게 배치되어 있어, 등방적이거나 이방적이어도 되는 것을 가리킨다.The "irregular projection" of the antiglare layer of the anti-glare film of the present embodiment means projections of various shapes whose surface irregularities do not have a regular shape regularly in the longitudinal direction formed by stamping, and whose shape and size are not determined. Point. Although not limited to these, for example, projections having different widths and heights shown in FIG. 2 are exemplified as irregularly shaped projections. In addition, "irregular arrangement" means that the projections of the irregular tendency are not arranged regularly (for example, at equal intervals), but are arranged irregularly at arbitrary intervals and may be isotropic or anisotropic. Point.
또한, 상술한 바와 같은 특징을 갖는 방현층은, 상세에 대해서는 후술하지만, 그 표면 형상은, 예를 들어 방현층 도포 조성물의 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 처리 온도를 고온 제어하여, 수지의 도막 대류를 발생시켜, 방현층 표면에 불균일한 상태를 만들어, 이 불균일한 표면 상태로 경화하여 도막을 형성하는 방법 등에 의해 얻을 수 있다. 이러한 방법으로 도막을 형성함으로써, 방현층의 막 강도가 향상된다. 또한, 방현층 도포 조성물의 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 처리 온도를 고온 조건으로 제어하는 방법은, 본 발명의 목적 효과 외에 생산성도 우수한 점에서 바람직하다.In addition, although the anti-glare layer which has the characteristics as mentioned above is mentioned later in detail, the surface shape, for example, controls high temperature the treatment temperature of the reduction rate drying period in the drying process of an anti-glare layer coating composition, and coats of resin Convection is generated, a non-uniform state is formed on the surface of the anti-glare layer, and it can be obtained by a method of curing the non-uniform surface state to form a coating film or the like. By forming a coating film in this way, the film strength of an anti-glare layer improves. Moreover, the method of controlling the process temperature of the reduction rate drying period in a drying process of an anti-glare layer coating composition on high temperature conditions is preferable at the point which is excellent also in productivity other than the objective effect of this invention.
<제조 방법><Manufacturing Method>
또한, 상기 방현성 필름의 제조 방법은, 기재 필름 위에 상술한 바와 같은 특징을 갖는 방현층을 갖는 것을 제조할 수 있으면, 특별히 한정되지 않는다. 이 제조 방법은, 구체적으로는, 25℃에서의 점도가 20 내지 3000mPa·s의 범위 내에 있는 활성선 경화형 수지를 에스테르류, 글리콜에테르류 또는 알코올류에서 선택되는 적어도 1종의 용제로 희석한 방현층 도포 조성물을, 적어도 도포 공정, 건조 공정 및 경화 공정을 경유하여 방현층을 형성하고, 또한 상기 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 온도를 90 내지 160℃의 범위 내로 유지한 조건하에서 처리하는 것을 구비하는 제조 방법을 들 수 있다. 이러한 제조 방법에 의하면, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생이 없어, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름이 얻어진다. 상기 도포는, 경화 후의 두께가 소정의 두께로 되도록, 기재 필름 위에 방현층 도포 조성물을 도포할 수 있는 방법이면, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 후술하는 바와 같은 도포 방법을 들 수 있다. 건조 및 경화는, 상기의 조건을 만족하고, 기재 필름 위에 방현층을 형성할 수 있는 방법이면, 특별히 한정되지 않고 후술하는 방법을 들 수 있다.In addition, the manufacturing method of the said anti-glare film will not be specifically limited, if the thing which has an anti-glare layer which has the characteristics as mentioned above on a base film can be manufactured. Specifically, this production method is an antiglare obtained by diluting an active-line curable resin having a viscosity at 25 ° C in the range of 20 to 3000 mPa · s with at least one solvent selected from esters, glycol ethers or alcohols. The layer coating composition is provided under the conditions which formed the anti-glare layer at least via the application | coating process, a drying process, and a hardening process, and maintained the temperature of the rate reduction drying section in the said drying process within the range of 90-160 degreeC. The manufacturing method to mention is mentioned. According to such a manufacturing method, when stable surface irregularities are formed and there is no occurrence of micro-white spots and micro cracks of the anti-glare film after the durability test, and it is used for an image display device, it is excellent in visibility (projection prevention performance and sharpness). A manifest film is obtained. The said application is not specifically limited if it is a method which can apply | coat an anti-glare layer coating composition on a base film so that the thickness after hardening may become predetermined thickness. Specifically, the coating method as mentioned later is mentioned. If drying and hardening satisfy | fill the said conditions and can form an anti-glare layer on a base film, it will not specifically limit, The method of mentioning later is mentioned.
<방현층><Antiglare layer>
본 실시 형태에 따른 방현층은, 활성선 경화 수지를 함유하는 것, 즉, 자외선이나 전자선과 같은 활성 선(활성 에너지선이라고도 함) 조사에 의해, 가교 반응을 거쳐서 경화하는 수지를 주된 성분으로 하는 층이다.The anti-glare layer according to the present embodiment contains an active ray curable resin, that is, a resin which is cured through a crosslinking reaction by irradiation with an active ray (also referred to as an active energy ray) such as an ultraviolet ray or an electron beam as a main component. Layer.
활성선 경화 수지로는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 단량체를 포함하는 성분이 바람직하게 사용되고, 자외선이나 전자선과 같은 활성 선을 조사함으로써 경화시켜서 활성선 경화 수지층이 형성된다.As active ray hardening resin, the component containing the monomer which has an ethylenically unsaturated double bond is used preferably, and it hardens | cures by irradiating an active ray like an ultraviolet-ray or an electron beam, and an active ray hardening resin layer is formed.
활성선 경화 수지로는 자외선 경화성 수지나 전자선 경화성 수지 등을 대표적인 것으로서 들 수 있는데, 자외선 조사에 의해 경화되는 수지가 기계적 막 강도(내찰상성, 연필 경도)가 우수한 점에서 바람직하다.Examples of the active ray curable resin include ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and the like, and resins cured by ultraviolet ray irradiation are preferable in terms of excellent mechanical film strength (scratch resistance, pencil hardness).
자외선 경화성 수지로는, 예를 들어 자외선 경화형 아크릴레이트계 수지, 자외선 경화형 우레탄 아크릴레이트계 수지, 자외선 경화형 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 자외선 경화형 에폭시아크릴레이트계 수지, 자외선 경화형 폴리올 아크릴레이트계 수지 또는 자외선 경화형 에폭시 수지 등이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 자외선 경화형 아크릴레이트계 수지가 바람직하다.As ultraviolet curable resin, ultraviolet curable acrylate resin, ultraviolet curable urethane acrylate resin, ultraviolet curable polyester acrylate resin, ultraviolet curable epoxy acrylate resin, ultraviolet curable polyol acrylate resin, or ultraviolet ray, for example Curable epoxy resin etc. are used preferably. Especially, ultraviolet curable acrylate resin is preferable.
자외선 경화형 아크릴레이트계 수지로는, 다관능 아크릴레이트가 바람직하다. 상기 다관능 아크릴레이트로는, 펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트를 포함하여 이루어지는 군에서 선택되는 것이 바람직하다. 여기서, 다관능 아크릴레이트란, 분자 중에 2개 이상의 아크릴로일옥시기 또는 메타크로일옥시기를 갖는 화합물이다. 다관능 아크릴레이트의 단량체로는, 예를 들어 에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 테트라아크릴레이트, 펜타글리세롤 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 글리세린 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 활성 에너지선 경화형의 이소시아누레이트 유도체 등을 바람직하게 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형의 이소시아누레이트 유도체로는, 이소시아누르산 골격에 1개 이상의 에틸렌성 불포화 기가 결합한 구조를 갖는 화합물이면 되고, 특별히 제한은 없지만, 동일 분자 내에 3개 이상의 에틸렌성 불포화 기 및 1개 이상의 이소시아누레이트환을 갖는 화합물이 바람직하다. 보다 구체적으로는, 예를 들어 이소시아누르산 트리아크릴레이트 화합물, 이소시아누르산 디아크릴레이트 화합물, ε-카프로락톤 변성 트리스-(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.As ultraviolet curing acrylate-type resin, polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. It is preferable to be. Here, polyfunctional acrylate is a compound which has a 2 or more acryloyloxy group or a methacroyloxy group in a molecule | numerator. As a monomer of a polyfunctional acrylate, for example, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentylglycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethyl Olethane Triacrylate, Tetramethylolmethane Triacrylate, Tetramethylolmethane Tetraacrylate, Pentaglycerol Triacrylate, Pentaerythritol Diacrylate, Pentaerythritol Triacrylate, Pentaerythritol Tetraacrylate, Penta Erythritol tri / tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetra Acrylate , Dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, active energy ray-curable isocyanurate derivatives, and the like. The active energy ray-curable isocyanurate derivative may be a compound having a structure in which one or more ethylenically unsaturated groups are bonded to the isocyanuric acid skeleton, and there is no particular limitation, but three or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule and Preferred are compounds having at least one isocyanurate ring. More specifically, an isocyanuric-acid triacrylate compound, an isocyanuric-acid diacrylate compound, (epsilon) -caprolactone modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate, etc. are mentioned, for example.
이것들의 시판품으로는, 아데카 옵토머 N 시리즈, 선래드 H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612(산요 가세이 고교(주) 제조); SP-1509, SP-1507, 아로닉스 M-6100, M-8030, M-8060, 아로닉스 M-215, 아로닉스 M-315, 아로닉스 M-313, 아로닉스 M-327(도아 고세(주) 제조), NK-에스테르 A-TMM-3L, NK-에스테르 AD-TMP, NK-에스테르 ATM-35E, NK 에스테르 A-DOG, NK 에스테르 A-IBD-2E, A-9300, A-9300-1CL(신나까무라 가가꾸 고교(주)), 라이트 아크릴레이트 TMP-A, PE-3A(교에샤 가가꾸(주)) 등을 들 수 있다.As these commercial items, Adeka Optomer N series, Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) ); SP-1509, SP-1507, Aronix M-6100, M-8030, M-8060, Aronix M-215, Aronix M-315, Aronix M-313, Aronix M-327 ), NK-ester A-TMM-3L, NK-ester AD-TMP, NK-ester ATM-35E, NK ester A-DOG, NK ester A-IBD-2E, A-9300, A-9300-1CL (Shinakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.), light acrylate TMP-A, PE-3A (Kyoesha Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.
또한, 단관능 아크릴레이트를 사용해도 된다. 단관능 아크릴레이트로는, 이소보로닐 아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 이소스테아릴 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 에틸카르비톨 아크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 아크릴레이트, 베헤닐 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 시클로헥실 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이러한 단관능 아크릴레이트는, 니혼 카세이 가부시끼가이샤, 신나까무라 가가꾸 고교 가부시끼가이샤, 오사까 유끼 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 등으로부터 입수할 수 있다.Moreover, you may use monofunctional acrylate. As monofunctional acrylate, isoboroyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isostearyl acrylate, benzyl acrylate, ethylcarbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, la Uryl acrylate, isooctyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, behenyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, cyclohexyl acrylate, etc. Can be mentioned. Such monofunctional acrylate can be obtained from Nihon Kasei Kabushiki Kaisha, Shin-Nakamura Kagaku Kogaku Kaushiki Kaisha, Osaka Yuki Kagaku Kogyo Kakushiki Kaisha, etc.
단관능 아크릴레이트를 사용하는 경우에는, 다관능 아크릴레이트와 단관능 아크릴레이트의 함유 질량비로, 다관능 아크릴레이트:단관능 아크릴레이트=70:30 내지 99:2로 함유하는 것이 바람직하다. 활성선 경화 수지는, 단독 또는 2종 이상 혼합하여도 된다. 또한, 25℃에서의 활성선 경화 수지의 점도는, 바람직하게는 20mPa·s 이상, 3000mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 20mPa·s 이상, 2000mPa·s 이하다. 이러한 저점도의 활성선 경화 수지를 사용함으로써 상술한 돌기 형상과 산술 평균 조도(Ra)가 얻어지기 쉽다. 또한, 활성선 경화 수지의 점도가 20mPa·s 이상의 점도이면 고 관능수의 단량체를 사용할 수 있어, 충분히 높은 경화성이 얻어지고, 3000mPa·s 이하의 점도이면, 건조 공정에서 활성선 경화 수지의 충분한 유동성이 얻어지기 쉽다.When monofunctional acrylate is used, it is preferable to contain polyfunctional acrylate: monofunctional acrylate = 70: 30-99: 2 by the content mass ratio of polyfunctional acrylate and monofunctional acrylate. The actinic radiation curable resin may be used singly or in combination of two or more kinds. The viscosity of the actinic radiation curable resin at 25 ° C is preferably 20 mPa · s or more, 3000 mPa · s or less, more preferably 20 mPa · s or more and 2000 mPa · s or less. By using such a low-viscosity actinic curable resin, the above-described protrusion shape and arithmetic mean roughness Ra are easily obtained. Moreover, as long as the viscosity of active ray hardening resin is a viscosity of 20 mPa * s or more, the monomer of high functional water can be used, and sufficient high sclerosis | hardenability is obtained, and if it is a viscosity of 3000 mPa * s or less, sufficient fluidity of active ray hardening resin in a drying process This is easy to get.
또한, 상기 점도는, B형 점도계를 사용해서 25℃의 조건에서 측정한 값이다.In addition, the said viscosity is the value measured on 25 degreeC conditions using the Brookfield viscometer.
방현층에는 활성선 경화 수지의 경화 촉진을 위해 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제량으로는, 질량비로, 광중합 개시제:활성선 경화 수지=20:100 내지 0.01:100으로 함유하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로는, 구체적으로는 알킬페논계, 아세토페논, 벤조페논, 히드록시벤조페논, 미힐러 케톤, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤 등 및 이들의 유도체를 들 수 있지만, 특별히 이것들에 한정되는 것은 아니다. 이러한 광중합 개시제는 시판품을 사용해도 되고, 예를 들어, 바스프(BASF) 재팬(주) 제조의 이르가큐어 184, 이르가큐어 907, 이르가큐어 651 등을 바람직한 예시로서 들 수 있다.It is preferable that an antiglare layer contains a photoinitiator in order to accelerate | stimulate hardening of active line hardening resin. As a photoinitiator amount, it is preferable to contain in a mass ratio as a photoinitiator: active ray hardening resin = 20: 100-0.01: 100. Specific examples of the photopolymerization initiator include alkyl phenones, acetophenones, benzophenones, hydroxybenzophenones, Michler's ketones, α-amyl oxime esters, thioxanthones, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto. It doesn't happen. Such a photopolymerization initiator may be a commercially available product, and examples thereof include IRGACURE 184, IRGACURE 907, IRGACURE 651 manufactured by BASF Japan Ltd., and the like.
또한 방현층에는, 대전 방지성을 부여하기 위하여 도전제를 함유해도 된다. 바람직한 도전제로는, π 공액계 도전성 중합체나 이온 액체 등을 들 수 있다.Moreover, in order to provide antistatic property, an antiglare layer may contain a electrically conductive agent. As a preferable electrically conductive agent, (pi) conjugated system conductive polymer, an ionic liquid, etc. are mentioned.
방현층에는, 도포성의 관점에서, 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제, 아크릴계 계면 활성제, 불소-실록산 그래프트 화합물, 또는 HLB값이 3 내지 18인 화합물을 함유해도 된다. HLB값이 3 내지 18인 화합물에 대하여 설명한다. HLB값이란, Hydrophile-Lipophile-Balance, 친수성-친유성-밸런스를 말하며, 화합물의 친수성 또는 친유성의 크기를 나타내는 값이다. HLB값이 작을수록 친유성이 높고, 값이 클수록 친수성이 높아진다. 또한, HLB값은 이하와 같은 계산식에 의해 구할 수 있다.The antiglare layer may contain a silicone surfactant, a fluorine-based surfactant, an acrylic surfactant, a fluorine-siloxane graft compound, or a compound having an HLB value of 3 to 18 from the viewpoint of applicability. The compound whose HLB value is 3-18 is demonstrated. An HLB value means Hydrophile-Lipophile-Balance and hydrophilic-lipophilic-balance, and is a value which shows the magnitude | size of the hydrophilicity or lipophilic property of a compound. The smaller the HLB value, the higher the lipophilicity, and the larger the value, the higher the hydrophilicity. In addition, an HLB value can be calculated | required by the following formula.
HLB=7+11.7Log(Mw/Mo)HLB = 7 + 11.7 Log (Mw / Mo)
식 중, Mw는 친수기의 분자량, Mo는 친유기의 분자량을 나타내고, Mw+Mo=M(화합물의 분자량)이다. 또는 그리핀법에 의하면, HLB값=20×친수부의 식량의 총합/분자량(J. Soc. Cosmetic Chem., 5(1954), 294) 등을 들 수 있다. HLB값이 3 내지 18인 화합물의 구체적 화합물을 하기에 들지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. ( ) 내는 HLB값을 나타낸다.In the formula, Mw represents the molecular weight of the hydrophilic group, Mo represents the molecular weight of the lipophilic group, and Mw + Mo = M (molecular weight of the compound). According to the Griffin method, the HLB value = 20 × total food / molecular weight of the hydrophilic part (J. Soc. Cosmetic Chem., 5 (1954), 294). Although the specific compound of the compound whose HLB value is 3-18 is listed below, it is not limited to this. () Shows an HLB value.
가오 가부시끼가이샤 제조: 에멀겐 102KG(6.3), 에멀겐 103(8.1), 에멀겐 104P(9.6), 에멀겐 105(9.7), 에멀겐 106(10.5), 에멀겐 108(12.1), 에멀겐 109P(13.6), 에멀겐 120(15.3), 에멀겐 123P(16.9), 에멀겐 147(16.3), 에멀겐 210P(10.7), 에멀겐 220(14.2), 에멀겐 306P(9.4), 에멀겐 320P(13.9), 에멀겐 404(8.8), 에멀겐 408(10.0), 에멀겐 409PV(12.0), 에멀겐 420(13.6), 에멀겐 430(16.2), 에멀겐 705(10.5), 에멀겐 707(12.1), 에멀겐 709(13.3), 에멀겐 1108(13.5), 에멀겐 1118S-70(16.4), 에멀겐 1135S-70(17.9), 에멀겐 2020G-HA(13.0), 에멀겐 2025G(15.7), 에멀겐 LS-106(12.5), 에멀겐 LS-110(13.4), 에멀겐 LS-114(14.0), 닛신 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조: 서피놀 104E(4), 서피놀 104H(4), 서피놀 104A(4), 서피놀 104BC(4), 서피놀 104DPM(4), 서피놀 104PA(4), 서피놀 104PG-50(4), 서피놀 104S(4), 서피놀 420(4), 서피놀 440(8), 서피놀 465(13), 서피놀 485(17), 서피놀 SE(6), 신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조: X-22-4272(7), X-22-6266(8), KF-351(12), KF-352(7), KF-353(10), KF-354L(16), KF-355A(12), KF-615A(10), KF-945(4), KF-618(11), KF-6011(12), KF-6015(4), KF-6004(5). 실리콘계 계면 활성제로는, 폴리에테르 변성 실리콘 등을 들 수 있고, 상기 신에쯔 가가꾸 고교사 제조의 KF 시리즈 등을 들 수 있다. 아크릴계 계면 활성제로는, 빅 케미·재팬사제의 BYK-350, BYK-352 등의 시판품 화합물을 들 수 있다. 불소계 계면 활성제로는, DIC 가부시끼가이샤 제조의 메가팍크 RS 시리즈, 메가팍크 F-444, 메가팍크 F-556 등을 들 수 있다.Emulsion 102 (6.3), Emergene 103 (8.1), Emergene 104P (9.6), Emergen 105 (9.7), Emergene 106 (10.5), Emergene 108 Emergen 120 (15.3), Emergen 123P (16.9), Emergen 147 (16.3), Emergen 210P (10.7), Emergen 220 (14.2), Emergene 306P (9.4), Emergene 320P (13.9), Emergen 404 (8.8), Emergen 408 (10.0), Emergen 409PV (12.0), Emergen 420 (13.6), Emergen 430 (16.2), Emergene 705 (10.5), Emergene 707 Emergen 2020G-HA (13.0), Emergen 2025G (15.7), Emergene 1118S-70 (16.4) EMULGEN LS-114 (14.0) manufactured by Nisshin Chemical Industry Co., Ltd., Surfynol 104E (4), Surfynol 104H (4) manufactured by Nisshin Chemical Industry Co., , Surfynol 104A (4), Surfynol 104BC (4), Surfynol 104DPM (4), Surfynol 104PA (4), Surfynol 104PG-50 ), Surinol 440 (8), Surinol 465 (13), Surinol 485 (17), Surinol SE (6) ), Shinetsu Kagaku Kogyo Co., Ltd .: X-22-4272 (7), X-22-6266 (8), KF-351 (12), KF-352 (7), KF-353 (10 ), KF-354L (16), KF-355A (12), KF-615A (10), KF-945 (4), KF-618 (11), KF-6011 (12), KF-6015 (4) , KF-6004 (5). Polyether modified silicone etc. are mentioned as silicone type surfactant, The said KF series by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned. As acryl-type surfactant, commercial item compounds, such as BYK-350 and BYK-352 by Big Chemi Japan Co., are mentioned. As a fluorine type surfactant, DIC Corporation Megapak RS series, Megapak F-444, Megapak F-556, etc. are mentioned.
불소-실록산 그래프트 화합물이란, 적어도 불소계 수지에, 실록산 및/또는 오르가노실록산 단체를 포함하는 폴리실록산 및/또는 오르가노폴리실록산을 그래프트화시켜서 얻어지는 공중합체의 화합물을 말한다. 시판품으로는, 후지 가세이 고교 가부시끼가이샤 제조의 ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D 등을 들 수 있다. 또한 이들 성분은, 도포액 내의 고형분 성분에 대하여 0.01 내지 3질량%의 범위로 첨가하는 것이 바람직하다. 방현층은, 상기한 방현층을 형성하는 성분을 용제로 희석하여 방현층 도포 조성물로 하고, 이 방현층 도포 조성물을 이하의 방법으로 필름 기재 위에 도포, 건조, 경화하여 방현층을 형성하는 것이 바람직하다. 용제로는, 케톤류(메틸에틸케톤, 아세톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤 등), 에스테르류(아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 프로필, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 등), 알코올류(에탄올, 메탄올, 부탄올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, 디아세톤알코올), 탄화수소류(톨루엔, 크실렌, 벤젠, 시클로헥산), 글리콜에테르류(프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등) 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 이들 용제 중에서도 에스테르류, 글리콜에테르류 또는 알코올류가 바람직하고, 특히 글리콜에테르류 또는 알코올류가 바람직하다. 이들 바람직한 용제의 적어도 1종을, 상기 활성선 경화 수지 100질량부에 대하여 20 내지 200질량부의 범위에서 사용함으로써, 방현층 도포 조성물을 기재 필름에 도포한 후, 방현층 도포 조성물의 용제가 증발하면서 방현층을 형성해 가는 과정에서, 수지의 대류가 발생하기 쉽고, 그 결과, 방현층에서, 길이 방향으로 불규칙하고, 또한 기재 필름 위에도 불규칙한 돌기 형상을 갖는 표면 거칠음이 발현하기 쉬워, 상기 산술 평균 조도(Ra)로 제어하기 쉽기 때문에 바람직하다.A fluorine-siloxane graft compound means the compound of the copolymer obtained by grafting the polysiloxane and / or organopolysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane single substance at least in fluorine-type resin. As a commercial item, ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D, etc. made by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. are mentioned. Moreover, it is preferable to add these components in 0.01-3 mass% with respect to the solid content component in a coating liquid. It is preferable that an anti-glare layer dilutes the component which forms said anti-glare layer with a solvent, and makes it an anti-glare layer coating composition, It is preferable to apply | coat this anti-glare layer coating composition on a film base material by the following method, dry, and harden to form an anti-glare layer. Do. As a solvent, ketones (methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.), alcohols ( Ethanol, methanol, butanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, diacetone alcohol), hydrocarbons (toluene, xylene, benzene, cyclohexane), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethylene Glycol monopropyl ether etc.) etc. can be used preferably. Among these solvents, esters, glycol ethers or alcohols are preferable, and glycol ethers or alcohols are particularly preferable. After using at least 1 sort (s) of these preferable solvents in the range of 20-200 mass parts with respect to 100 mass parts of said actinic wire hardening resins, after apply | coating an anti-glare layer coating composition to a base film, the solvent of an anti-glare layer coating composition will evaporate. In the process of forming the antiglare layer, convection of the resin is likely to occur, and as a result, the surface roughness which is irregular in the longitudinal direction in the antiglare layer and also has an irregular protrusion shape on the base film is likely to be expressed, and the arithmetic mean roughness ( It is preferable because it is easy to control with Ra).
방현층의 도포량은 웨트 막 두께로서 0.1 내지 40㎛가 적당하며, 바람직하게는 0.5 내지 30㎛이다. 또한, 드라이 막 두께로는 평균 막 두께 0.1 내지 30㎛, 바람직하게는 1 내지 20㎛, 특히 바람직하게는 2 내지 15㎛이다.The coating amount of the antiglare layer is suitably 0.1 to 40 µm as the wet film thickness, and preferably 0.5 to 30 µm. Moreover, as dry film thickness, average film thickness is 0.1-30 micrometers, Preferably it is 1-20 micrometers, Especially preferably, it is 2-15 micrometers.
방현층의 도포 방법은, 그라비아 코터, 딥 코터, 리버스 코터, 와이어 바 코터, 다이 코터, 잉크젯법 등의 공지된 방법을 사용할 수 있다. 이들 도포 방법을 사용하여 방현층을 형성하는 방현층 도포 조성물을 도포하고, 도포 후 건조하여, 활성 선을 조사(UV 경화 처리라고도 함)하고, 또한 필요에 따라서, UV 경화 후에 가열 처리함으로써 형성할 수 있다. UV 경화 후의 가열 처리 온도로는 80℃ 이상이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상이고, 특히 바람직하게는 120℃ 이상이다. 이러한 고온에서 UV 경화 후의 가열 처리를 행함으로써, 연필 경도가 우수한 방현층을 얻을 수 있다.As a coating method of an anti-glare layer, well-known methods, such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, the inkjet method, can be used. Using these coating methods, the antiglare layer coating composition forming the antiglare layer is applied, dried after application, and irradiated with active rays (also referred to as UV curing treatment), and, if necessary, formed by heat treatment after UV curing. Can be. As heat processing temperature after UV hardening, 80 degreeC or more is preferable, More preferably, it is 100 degreeC or more, Especially preferably, it is 120 degreeC or more. By performing heat treatment after UV curing at such a high temperature, an antiglare layer excellent in pencil hardness can be obtained.
건조는, 감율 건조 구간의 온도를 90℃ 이상의 고온 처리로 행하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 감율 건조 구간의 온도는 90℃ 이상, 150℃ 이하다. 감율 건조 구간의 온도를 고온 처리로 함으로써, 방현층의 형성시에 도막 수지의 대류가 발생하기 쉬워지기 때문에, 그 결과, 방현층 표면에 불규칙한 표면 거칠음이 발현하기 쉬워, 상기 산술 평균 조도(Ra)로 제어하기 쉽기 때문에 바람직하다.The drying is preferably carried out by a high-temperature treatment at 90 deg. More preferably, the temperature of the rate reduction drying section is 90 ° C or more and 150 ° C or less. Since the convection of the coating film resin is likely to occur at the time of forming the antiglare layer by using the temperature of the rate-sensitive drying section at high temperature, as a result, irregular surface roughness is likely to appear on the surface of the antiglare layer, and the arithmetic mean roughness Ra It is preferable because it is easy to control.
일반적으로 건조 프로세스는, 건조가 시작되면, 건조 속도가 일정한 상태에서 서서히 감소하는 상태로 변화해 가는 것으로 알려져 있으며, 건조 속도가 일정한 구간을 항율 건조 구간, 건조 속도가 감소해 가는 구간을 감율 건조 구간이라 칭한다. 항율 건조 구간에서는 유입되는 열량은 모두 도막 표면의 용제 증발에 소비되고 있고, 도막 표면의 용매가 적어지면 증발면이 표면에서 내부로 이동하여 감율 건조 구간으로 들어간다. 이 이후는 도막 표면의 온도가 상승해서 열풍 온도에 가까워지고, 도막의 활성선 경화형 수지의 온도가 상승한다. 이에 의해, 활성선 경화형 수지의 점도가 저하되어 유동성이 증가함으로써, 도막 수지의 대류가 발생하는 것으로 생각된다.In general, the drying process is known to change gradually from a constant drying rate to a gradually decreasing state when drying starts, and it is known that a constant drying rate is divided into a constant rate drying rate and a decreasing drying rate, Quot; In the rate drying section, the amount of heat flowing in is consumed for evaporation of the solvent on the surface of the coating film, and when the solvent on the surface of the coating film decreases, the evaporation surface moves from the surface to the inside to enter the rate reduction drying section. After this, the temperature of the coating film surface rises and approaches hot air temperature, and the temperature of active-line curable resin of a coating film rises. Thereby, it is thought that convection of coating film resin arises because the viscosity of active-rays curable resin falls and fluidity increases.
UV 경화 처리의 광원으로는, 자외선을 발생하는 광원이면 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프 등을 사용할 수 있다.As a light source of UV hardening treatment, if it is a light source which generate | occur | produces an ultraviolet-ray, it can use without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
조사 조건은 각각의 램프에 따라 다르지만, 활성 선의 조사량은, 통상 50 내지 1000mJ/cm2, 바람직하게는 50 내지 300mJ/cm2이다.Although irradiation conditions differ with each lamp | ramp, the irradiation amount of an active line is 50-1000mJ / cm <2> normally, Preferably it is 50-300mJ / cm <2> .
활성 선을 조사할 때에는, 필름의 반송 방향으로 장력을 부여하면서 행하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 폭 방향으로도 장력을 부여하면서 행하는 것이다. 부여하는 장력은 30 내지 300N/m가 바람직하다. 장력을 부여하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 백 롤 상에서 반송 방향으로 장력을 부여해도 되고, 텐터로 폭 방향 또는 2축 방향으로 장력을 부여해도 된다. 이에 의해 더욱 평면성이 우수한 필름을 얻을 수 있다.When irradiating an active line, it is preferable to carry out, providing a tension in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performed, giving a tension also in the width direction. As for the tension | tensile_strength to provide, 30-300 N / m is preferable. The method of providing a tension is not specifically limited, You may give tension to a conveyance direction on a back roll, and you may give tension to a width direction or a biaxial direction with a tenter. Thereby, the film further excellent in planarity can be obtained.
또한 방현층은, 후술하는 기재 필름에서 설명하는 자외선 흡수제를 더 함유해도 된다. 자외선 흡수제를 함유하는 경우의 필름이 구성으로는, 방현층이 2층 이상으로 구성되고, 또한 기재 필름과 접하는 방현층에 자외선 흡수제를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, an anti-glare layer may further contain the ultraviolet absorber demonstrated by the base film mentioned later. As a film in the case of containing a ultraviolet absorber, it is preferable that an antiglare layer is comprised from two or more layers, and it contains a ultraviolet absorber in the antiglare layer which contact | connects a base film.
자외선 흡수제의 함유량으로는 질량비로, 자외선 흡수제:방현층 구성 수지=0.01:100 내지 10:100으로 함유하는 것이 바람직하다. 2층 이상 설치하는 경우, 기재 필름과 접하는 방현층의 막 두께는, 0.05 내지 2㎛의 범위인 것이 바람직하다. 2층 이상의 적층은 동시 중층으로 형성해도 된다. 동시 중층이란, 건조 공정을 거치지 않고 기재 위에 2층 이상의 방현층을 웨트 온 웨트(wet on wet)로 도포하여, 방현층을 형성하는 것이다. 제1 방현층 위에 건조 공정을 거치지 않고, 제2 방현층을 웨트 온 웨트로 적층하기 위해서는, 압출 코터에 의해 순서대로 중층하거나, 또는 복수의 슬릿을 갖는 슬롯 다이로 동시 중층을 행하면 된다.As content of a ultraviolet absorber, it is preferable to contain in a mass ratio as ultraviolet absorber: anti-glare layer constituent resin = 0.01: 100-10: 100. When providing two or more layers, it is preferable that the film thickness of the anti-glare layer which contact | connects a base film is the range of 0.05-2 micrometers. Two or more layers may be formed in a simultaneous intermediate layer. Simultaneous intermediate | middle layer apply | coats two or more anti-glare layers on a base material by wet on wet, without passing through a drying process, and forms an anti-glare layer. In order to laminate | stack a 2nd anti-glare layer by a wet on wet, without going through a drying process on a 1st anti-glare layer, you may laminate | stack in order by an extrusion coater, or you may perform simultaneous middle layer with the slot die which has several slits.
또한, 본 실시 형태에서의 방현성 필름은, 경도의 지표인 연필 경도가 H 이상, 보다 바람직하게는 3H 이상이다. 3H 이상이면, 액정 표시 장치의 편광판화 공 정에서, 흠집이 나기 어려울 뿐만 아니라, 옥외 용도에서 사용되는 경우가 많은, 대형의 액정 표시 장치나, 디지털 사이니지용 액정 표시 장치의 표면 보호 필름으로서 사용했을 때도 우수한 기계 특성을 나타낸다. 더욱 바람직하게는 연필 경도가 4H 이상이다.Moreover, the pencil hardness which is an index of hardness of the anti-glare film in this embodiment is H or more, More preferably, it is 3H or more. If it is 3H or more, it is difficult to be scratched in the polarization printing process of the liquid crystal display device, and it is used as a surface protection film of the large size liquid crystal display device or the liquid crystal display device for digital signage which are often used for outdoor use. It also shows excellent mechanical properties. More preferably, pencil hardness is 4H or more.
또한, 연필 경도는, 제작한 방현성 필름을 온도 23℃, 상대 습도 55%의 조건에서 2시간 이상 습도 조절한 후, 가중 500g 조건에서 JIS S 6006이 규정하는 시험용 연필을 사용하여, JIS K5400이 규정하는 연필 경도 평가 방법에 따라 측정한 값이다. 계속해서, 기재 필름에 대하여 설명한다.In addition, pencil hardness is JIS K5400 using the test pencil prescribed | regulated by JIS S6006 on weighted 500g conditions, after adjusting the produced anti-glare film at the temperature of 23 degreeC and the conditions of 55% of the relative humidity for 2 hours or more. It is the value measured according to the pencil hardness evaluation method to prescribe. Subsequently, a base film is demonstrated.
<기재 필름><Base film>
기재 필름은 제조가 용이한 것, 방현층과 접착하기 쉬운 것, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 또한, 본 실시 형태에서는 기재 필름을 편광판 보호 필름으로서 사용한다.It is preferable that a base film is easy to manufacture, easy to adhere | attach with an anti-glare layer, and optically isotropic. In addition, in this embodiment, a base film is used as a polarizing plate protective film.
상기 성질을 가진 기재 필름이면 어느 것이어도 좋고, 예를 들어 트리아세틸셀룰로오스 필름, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 필름, 셀룰로오스 디아세테이트 필름, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 필름 등의 셀룰로오스에스테르계 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 필름, 폴리카르보네이트계 필름, 폴리아릴레이트계 필름, 폴리술폰(폴리에테르술폰도 포함함)계 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌비닐알코올 필름, 신디오택틱 폴리스티렌계 필름, 노르보르넨 수지계 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리에테르케톤 필름, 폴리에테르케톤이미드 필름, 폴리아미드 필름, 불소 수지 필름, 나일론 필름, 시클로올레핀 중합체 필름, 폴리메틸메타크릴레이트 필름 또는 아크릴 필름 등을 사용할 수 있다. 이들 중, 셀룰로오스에스테르 필름(예를 들어, 코니카 미놀타 태크 KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC4UE 및 KC12UR(이상, 코니카 미놀타 옵토(주) 제조)), 폴리카르보네이트 필름, 시클로올레핀 중합체 필름, 폴리에스테르 필름이 바람직하고, 본 발명에서는, 셀룰로오스에스테르 필름이 방현층에서 상기한 돌기 형상이 얻어지기 쉬운 점, 제조성, 비용면에서 바람직하다. 기재 필름의 굴절률은, 1.30 내지 1.70인 것이 바람직하고, 1.40 내지 1.65인 것이 보다 바람직하다. 굴절률은, 아타고사 제조 아베 굴절률계 2T를 사용하여 JIS K7142의 방법으로 측정한다.Any base film having the above properties may be used, and for example, a cellulose ester-based film such as a triacetyl cellulose film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose diacetate film, a cellulose acetate butyrate film, polyethylene terephthalate, or polyethylene naphthalate Polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyether sulfone) film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol Film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, norbornene resin film, polymethylpentene film, polyether ketone film, polyether ketoneimide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin Polymer film, Polymethyl methacrylate film, an acrylic film, etc. can be used. Among these, cellulose ester films (for example, Konica Minolta Tack KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC4UE and KC12UR (above, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.)), polycarbonate A film, a cycloolefin polymer film, and a polyester film are preferable, and in this invention, a cellulose-ester film is preferable at the point which is easy to obtain said protrusion shape in an anti-glare layer, manufacturability, and cost. The refractive index of the base film is preferably 1.30 to 1.70, more preferably 1.40 to 1.65. The refractive index is measured by the method of JIS K7142 using Abbe's refractometer 2T manufactured by Atago Co.,
(셀룰로오스에스테르 필름)(Cellulose ester film)
다음으로 기재 필름으로서 바람직한, 셀룰로오스에스테르 필름에 대하여 보다 상세하게 설명한다. 셀룰로오스에스테르 필름은 상기 특징을 갖는 것이면 특별히 제한되지는 않지만, 셀룰로오스에스테르 수지(이하, 셀룰로오스에스테르라고도 함)는 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르인 것이 바람직하다. 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르에서의 저급 지방산이란, 탄소 원자수가 6 이하인 지방산을 의미하며, 예를 들어 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트 등이나, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 등의 혼합 지방산 에스테르를 사용할 수 있다.Next, the cellulose ester film suitable as a base film is demonstrated in detail. The cellulose ester film is not particularly limited as long as it has the above characteristics, but the cellulose ester resin (hereinafter also referred to as cellulose ester) is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms, for example, cellulose acetate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, or the like, or cellulose acetate propionate. And mixed fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate can be used.
상기 기재 중에서도, 특히 바람직하게 사용되는 셀룰로오스의 저급 지방산 에스테르는 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트이다. 이들 셀룰로오스에스테르는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.Of the above-mentioned base materials, particularly preferred lower-fatty acid esters of cellulose are cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used individually or in mixture.
셀룰로오스 디아세테이트는, 아세틸기 치환도가 2.0 내지 2.5인 것이 바람직하게 사용된다. 또한, 시판품으로는, 다이 셀사 L20, L30, L40, L50, 이스트만 케미컬사의 Ca398-3, Ca398-6, Ca398-10, Ca398-30, Ca394-60S를 들 수 있다.As for cellulose diacetate, the thing whose acetyl group substitution degree is 2.0-2.5 is used preferably. Moreover, as a commercial item, die cell company L20, L30, L40, L50, Eastman Chemical company Ca398-3, Ca398-6, Ca398-10, Ca398-30, Ca394-60S are mentioned.
셀룰로오스 트리아세테이트로는, 아세틸기 치환도가 2.75 내지 2.95인 것이 바람직하게 사용된다.As cellulose triacetate, an acetyl group substitution degree of 2.75-2.95 is used preferably.
셀룰로오스 트리아세테이트 이외에 바람직한 셀룰로오스에스테르는, 탄소 원자수 2 내지 4의 아실기를 치환기로서 갖고, 아세틸기의 치환도를 X라 하고, 프로피오닐기 또는 부티릴기의 치환도를 Y라 했을 때, 하기식 (I) 및 (II)를 동시에 만족하는 셀룰로오스에스테르를 포함하는 셀룰로오스에스테르이다.Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of the acetyl group is X, and the substitution degree of the propionyl group or the butyryl group is Y, It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy | fills I) and (II) simultaneously.
식 (I) 2.6≤X+Y≤3.0(I) 2.6? X + Y? 3.0
식 (II) 0≤X≤2.5(II) 0? X? 2.5
특히 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트가 바람직하게 사용되며, 그 중에서 1.9≤X≤2.5, 0.1≤Y≤0.9인 것이 바람직하다.In particular, cellulose acetate propionate is preferably used, and among them, 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 are preferred.
셀룰로오스에스테르는, 수 평균 분자량(Mn)이 125000 이상, 180000 미만인 것이 바람직하게 사용되고, 또한, 셀룰로오스에스테르는, 중량 평균 분자량(Mw)/수 평균 분자량(Mn) 비가 1.5 내지 5.5인 것이 바람직하게 사용되고, 특히 바람직하게는 2.0 내지 5.0이며, 더욱 바람직하게는 2.5 내지 5.0이며, 더욱 바람직하게는 3.0 내지 5.0의 셀룰로오스에스테르가 바람직하게 사용된다.The cellulose ester preferably has a number average molecular weight (Mn) of 125000 or more and less than 180000, and the cellulose ester preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) ratio of 1.5 to 5.5, Especially preferably, it is 2.0-5.0, More preferably, it is 2.5-5.0, More preferably, the cellulose ester of 3.0-5.0 is used preferably.
셀룰로오스에스테르의 수 평균 분자량(Mn) 및 분자량 분포(Mw)는, 고속 액체 크로마토그래피를 사용해서 측정할 수 있다. 측정 조건은 이하와 같다.The number average molecular weight (Mn) and the molecular weight distribution (Mw) of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography. Measurement conditions are as follows.
용매: 메틸렌 클로라이드Solvent: methylene chloride
칼럼: Shodex K806, K805, K803GColumn: Shodex K806, K805, K803G
(쇼와 덴꼬(주) 제품을 3개 접속하여 사용함)(
칼럼 온도: 25℃Column temperature: 25 ° C
시료 농도: 0.1질량%Sample concentration: 0.1 mass%
검출기: RI Model 504(GL 사이언스사 제조)Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Science)
펌프: L6000(히타치 세이사꾸쇼(주) 제조)Pump: L6000 (manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)
유량: 1.0ml/minFlow rate: 1.0 ml / min
교정 곡선: 표준 폴리스티렌 STK standard 폴리스티렌(도소(주) 제조) Mw=1000000 내지 500까지의 13 샘플에 의한 교정 곡선을 사용하였다. 13 샘플은, 거의 등간격으로 사용하는 것이 바람직하다.Calibration curve: Standard polystyrene STK standard A calibration curve with 13 samples of polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 1000000 to 500 was used. The 13 samples are preferably used at substantially equal intervals.
본 발명에서 사용되는 셀룰로오스에스테르의 원료 셀룰로오스는, 목재 펄프나 면화 린터이어도 되고, 목재 펄프는 침엽수나 활엽수도 되지만, 침엽수가 보다 바람직하다. 제막시의 박리성의 점에서는 면화 린터가 바람직하게 사용된다. 이것들로부터 만들어진 셀룰로오스에스테르는 적절히 혼합해서, 또는 단독으로 사용할 수 있다.Although the wood pulps and cotton linter may be sufficient as the raw material cellulose of the cellulose ester used by this invention, conifers and hardwoods may be wood pulp, but conifers are more preferable. In view of peelability at the time of film forming, a cotton printer is preferably used. The cellulose ester made from these can be mixed suitably, or can be used independently.
예를 들어, 면화 린터 유래 셀룰로오스에스테르:목재 펄프(침엽수) 유래 셀룰로오스에스테르:목재 펄프(활엽수) 유래 셀룰로오스에스테르의 비율이 100:0:0, 90:10:0, 85:15:0, 50:50:0, 20:80:0, 10:90:0, 0:100:0, 0:0:100, 80:10:10, 85:0:15, 40:30:30으로 사용할 수 있다.For example, the ratio of cellulose ester derived from cotton linter: cellulose ester derived from wood pulp (softwood): cellulose ester derived from wood pulp (softwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50: 50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, and 40:30:30.
본 실시 형태에서, 셀룰로오스에스테르는, 20ml의 순수(전기 전도도 0.1μS/cm 이하, pH6.8)에 1g 투입하고, 25℃, 1hr, 질소 분위기하에서 교반했을 때의 pH가 6 내지 7, 전기 전도도가 1 내지 100μS/cm인 것이 바람직하다.In the present embodiment, 1 g of cellulose ester is added to 20 ml of pure water (electric conductivity of 0.1 μS / cm or less, pH 6.8), and the pH is 6 to 7, when stirred at 25 ° C, 1 hr, and nitrogen atmosphere, and electrical conductivity. It is preferable that it is 1-100 microS / cm.
(셀룰로오스에스테르 수지·열가소성 아크릴 수지 함유 필름)(Cellulose ester resin, thermoplastic acrylic resin containing film)
또한, 기재 필름은, 열가소성 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지를 함유하고, 열가소성 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지의 함유 질량비가, 열가소성 아크릴 수지:셀룰로오스에스테르 수지=95:5 내지 50:50인 필름을 사용하는 것도 바람직하다.In addition, the base film contains a thermoplastic acrylic resin and a cellulose ester resin, and also uses the film whose content mass ratio of a thermoplastic acrylic resin and a cellulose ester resin is a thermoplastic acrylic resin: cellulose ester resin = 95: 5-50: 50. desirable.
아크릴 수지에는, 메타크릴 수지도 포함된다. 아크릴 수지로는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 메틸메타크릴레이트 단위 50 내지 99질량% 및 이것과 공중합 가능한 다른 단량체 단위 1 내지 50질량%를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. 공중합 가능한 다른 단량체로는, 알킬수의 탄소수가 2 내지 18인 알킬메타크릴레이트, 알킬수의 탄소수가 1 내지 18인 알킬아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산 등의 α,β-불포화산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 불포화 기 함유 2가 카르복실산, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 α,β-불포화 니트릴, 무수 말레산, 말레이미드, N-치환 말레이미드, 글루타르산 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상의 단량체를 병용하여 사용할 수 있다.Methacrylic resin is also contained in acrylic resin. Although it does not restrict | limit especially as an acrylic resin, What consists of 50-99 mass% of methyl methacrylate units and 1-50 mass% of other monomeric units copolymerizable with this is preferable. Examples of the other monomer copolymerizable include alkyl methacrylate having 2 to 18 carbon atoms in alkyl, alkyl acrylate having 1 to 18 carbon atoms in alkyl, alpha, beta -unsaturated acids such as acrylic acid and methacrylic acid, and maleic acid. , Aromatic vinyl compounds such as unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as fumaric acid and itaconic acid, styrene and α-methylstyrene, α, β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, maleic anhydride and maleic acid Mead, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types of monomers.
이들 중에서도, 공중합체의 내열 분해성이나 유동성의 관점에서, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, s-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 등이 바람직하고, 메틸아크릴레이트나 n-부틸아크릴레이트가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)은 80000 내지 500000인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 110000 내지 500000의 범위 내이다.Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc. are preferable from the viewpoint of the thermal decomposition resistance and fluidity of a copolymer, And methyl acrylate or n-butyl acrylate are particularly preferably used. The weight average molecular weight (Mw) is preferably in the range of 80000 to 500000, and more preferably in the range of 1100000 to 500000.
아크릴 수지의 중량 평균 분자량은, 측정 조건을 포함해서, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정할 수 있다. 아크릴 수지의 제조 방법으로는, 특별히 제한은 없고, 현탁 중합, 유화 중합, 괴상 중합, 또는 용액 중합 등의 공지된 방법 중 어느 것을 사용해도 된다. 여기서, 중합 개시제로는, 통상의 퍼옥시드계 및 아조계인 것을 사용할 수 있고, 또한, 산화 환원계로 할 수도 있다. 중합 온도에 대해서는, 현탁 또는 유화 중합에서는 30 내지 100℃, 괴상 또는 용액 중합에서는 80 내지 160℃에서 실시할 수 있다. 얻어진 공중합체의 환원 점도를 제어하기 위해서, 알킬머캅탄 등을 연쇄 이동제로서 사용하여 중합을 실시할 수도 있다. 또한, 시판품도 사용할 수 있다. 예를 들어, 델펫 60N, 80N(아사히 가세이 케미컬즈(주) 제조), 다이아날 BR52, BR80, BR83, BR85, BR88(미쯔비시 레이온(주) 제조), KT75(덴끼 가가꾸 고교(주) 제조) 등을 들 수 있다. 아크릴 수지는 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 아크릴 수지에는, (메트)아크릴계 고무와 방향족 비닐 화합물의 공중합체에 (메트)아크릴계 수지가 그래프트된 그래프트 공중합체를 사용해도 된다. 상기 그래프트 공중합체는, (메트)아크릴계 고무와 방향족 비닐 화합물의 공중합체가 코어(core)를 구성하고, 그 주변에 상기 (메트)아크릴계 수지가 쉘(shell)을 구성하는 코어-쉘 타입의 그래프트 공중합체인 것이 바람직하다.The weight average molecular weight of an acrylic resin can be measured by gel permeation chromatography including measurement conditions. There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of an acrylic resin, You may use any of well-known methods, such as suspension polymerization, emulsion polymerization, block polymerization, or solution polymerization. Here, as a polymerization initiator, the thing of normal peroxide type and azo type can be used, and it can also be set as a redox system. About superposition | polymerization temperature, it can implement at 30-100 degreeC in suspension or emulsion polymerization, and 80-160 degreeC in block or solution polymerization. In order to control the reduced viscosity of the obtained copolymer, polymerization may be carried out using alkylmercaptan or the like as a chain transfer agent. Commercially available products may also be used. (Manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), Dianal BR52, BR80, BR83, BR85 and BR88 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) and KT75 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) And the like. Acrylic resin can also use 2 or more types together. As the acrylic resin, a graft copolymer in which a (meth) acrylic resin is grafted to a copolymer of a (meth) acrylic rubber and an aromatic vinyl compound may be used. The graft copolymer is a graft copolymer in which a copolymer of a (meth) acrylic rubber and an aromatic vinyl compound constitutes a core and a core-shell type graft composed of the (meth) acrylic resin constitutes a shell, Is preferably a copolymer.
기재 필름에서의 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지의 총 질량은, 기재 필름의 55질량% 이상인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 60질량% 이상이며, 특히 바람직하게는 70질량% 이상이다. 기재 필름은, 열가소성 아크릴 수지, 셀룰로오스에스테르 수지 이외의 수지나 첨가제를 함유하여 구성되어 있어도 된다.The total mass of the acrylic resin and the cellulose ester resin in the base film is preferably 55 mass% or more, more preferably 60 mass% or more, and particularly preferably 70 mass% or more, of the base film. The base film may be comprised containing resin and additives other than a thermoplastic acrylic resin and a cellulose-ester resin.
(아크릴 입자)(Acrylic particles)
기재 필름은 취성의 개선이 우수한 점에서, 아크릴 입자를 함유해도 된다. 아크릴 입자란, 상기 열가소성 아크릴 수지 및 셀룰로오스에스테르 수지를 상용 상태로 함유하는 기재 필름 중에 입자의 상태(비상용 상태라고도 함)로 존재하는 아크릴 성분을 나타낸다.The base film may contain acrylic particles in that it is excellent in improvement in brittleness. An acryl particle represents the acryl component which exists in the state of a particle | grain (also called an emergency state) in the base film containing the said thermoplastic acrylic resin and a cellulose ester resin in a compatible state.
아크릴 입자는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 다층 구조 아크릴계 입상 복합체인 것이 바람직하다. 다층 구조 중합체인 아크릴계 입상 복합체의 시판품의 예로는, 예를 들어 미쯔비시 레이온사 제조 "메타블렌", 가네가후찌 가가꾸 고교사 제조 "가네에이스", 구레하 가가꾸 고교사 제조 "파랄로이드", 롬 앤드 하스사 제조 "아크릴로이드", 간쯔 가세이 고교사 제조 "스타필로이드" 및 구라레사 제조 "파라펫 SA" 등을 들 수 있고, 이들은, 단독 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 기재 필름에 아크릴 입자를 첨가하는 경우에는, 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지의 혼합물의 굴절률과 아크릴 입자의 굴절률이 가까운 것이, 투명성이 높은 필름을 얻는 점에서는 바람직하다. 구체적으로는, 아크릴 입자와 아크릴 수지의 굴절률차가 0.05 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.02 이하, 특히 0.01 이하인 것이 바람직하다.Although an acryl particle is not specifically limited, It is preferable that it is a multilayer structure acrylic granular composite. As an example of the commercial item of the acryl-type granular composite_body | complex which is a multilayered structure polymer, for example, "Metablene" by Mitsubishi Rayon, "Kane Ace" by Kanegachichi Kagaku Kogyo Co., Ltd. "Paraloid" by Kureha Kagaku High School, "Acryloid" by Rohm and Haas Corporation, "Staphyloid" by Gantsu Kasei Kogyo Co., Ltd., "Paparat SA" by Kureray Corporation, etc. are mentioned, These can use single or 2 types or more. When acrylic particles are added to the base film, it is preferable that the refractive index of the mixture of the acrylic resin and the cellulose ester resin is close to the refractive index of the acrylic particles, in view of obtaining a film having high transparency. Specifically, the refractive index difference between the acrylic particles and the acrylic resin is preferably 0.05 or less, more preferably 0.02 or less, particularly preferably 0.01 or less.
아크릴 미립자는, 상기 필름을 구성하는 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지의 총 질량에 대하여, 함유 질량비로 아크릴 미립자:아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지 총 질량=0.5:100 내지 30:100의 범위에서 함유시킴으로써, 목적 효과가 보다 충분히 발휘되는 점에서 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 아크릴 미립자:아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지의 총 질량=1.0:100 내지 15:100의 범위이다.By containing acrylic fine particles in the range of acrylic fine particles: acrylic resin and cellulose ester resin total mass = 0.5: 100-30: 100 with respect to the total mass of the acrylic resin and cellulose ester resin which comprise the said film, It is preferable at the point which an effect is exhibited more fully, More preferably, it is the range of the total mass of an acrylic microparticle: acrylic resin and a cellulose ester resin = 1.0: 100-15: 100.
(미립자)(Fine particles)
기재 필름은, 취급성을 향상시키기 위해서, 예를 들어 이산화규소, 이산화티타늄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 탄산칼슘, 카올린, 탈크, 소성 규산칼슘, 수화 규산칼슘, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 인산칼슘 등의 무기 미립자나 가교 고분자 등의 매트제를 함유시키는 것이 바람직하다. 그 중에서도 이산화규소가 필름의 헤이즈를 작게 할 수 있으므로 바람직하게 사용된다.The base film is, for example, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, etc. It is preferable to contain matting agents, such as inorganic fine particles and crosslinked polymers. Among them, silicon dioxide is preferably used since the haze of the film can be reduced.
미립자의 1차 평균 입자 직경으로는, 20nm 이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 5 내지 16nm이며, 특히 바람직하게는 5 내지 12nm이다.As primary average particle diameter of microparticles | fine-particles, 20 nm or less is preferable, More preferably, it is 5-16 nm, Especially preferably, it is 5-12 nm.
(그 밖의 첨가제)(Other additives)
기재 필름에는, 조성물의 유동성이나 유연성을 향상하기 위해서, 가소제를 병용할 수도 있다. 가소제로는, 프탈산 에스테르계, 지방산 에스테르계, 트리멜리트산 에스테르계, 인산 에스테르계, 폴리에스테르계, 또는 에폭시계 등을 들 수 있다. 이 중에서, 폴리에스테르계의 가소제가 바람직하게 사용된다. 폴리에스테르계 가소제는, 프탈산 디옥틸 등의 프탈산 에스테르계의 가소제에 비해 비이행성이나 내추출성이 우수하다. 용도에 따라서 이들 가소제를 선택 또는 병용함으로써, 광범위한 용도에 적용할 수 있다.To improve the fluidity and flexibility of the composition, a plasticizer may be used in combination with the base film. Phthalic acid ester type, fatty acid ester type, trimellitic acid ester type, phosphate ester type, polyester type, or epoxy type etc. are mentioned as a plasticizer. Among these, polyester plasticizers are preferably used. The polyester plasticizer is excellent in non-migration and extraction resistance compared to phthalic ester plasticizers such as dioctyl phthalate. By selecting or using these plasticizers according to a use, it can apply to a wide range of uses.
폴리에스테르계 가소제는, 1가 내지 4가의 카르복실산과 1가 내지 6가의 알코올의 반응물인데, 주로 2가 카르복실산과 글리콜을 반응시켜서 얻어진 것이 사용된다. 대표적인 2가 카르복실산으로는, 글루타르산, 이타콘산, 아디프산, 프탈산, 아젤라산, 세박산 등을 들 수 있다. 또한 폴리에스테르계 가소제의 바람직한 것은, 방향족 말단 에스테르계 가소제이다. 방향족 말단 에스테르계 가소제로는, 프탈산, 아디프산, 적어도 1종의 벤젠 모노카르복실산 및 적어도 1종의 탄소수 2 내지 12의 알킬렌글리콜을 반응시킨 구조를 갖는 에스테르 화합물이 바람직하다.The polyester-based plasticizer is a reaction product of a mono- to tetravalent carboxylic acid and a mono- to hexavalent alcohol, which is obtained mainly by reacting a divalent carboxylic acid with a glycol. Representative divalent carboxylic acids include glutaric acid, itaconic acid, adipic acid, phthalic acid, azelaic acid, sebacic acid and the like. The polyester-based plasticizer is preferably an aromatic-terminal ester-based plasticizer. As an aromatic terminal ester plasticizer, the ester compound which has a structure which made phthalic acid, adipic acid, at least 1 sort (s) of benzene monocarboxylic acid, and at least 1 sort (s) of C2-C12 alkylene glycol reacted.
벤젠 모노카르복실산 성분으로는, 예를 들어 벤조산, 파라 tert-부틸 벤조산, 오르토톨루일산, 메타톨루일산, 파라톨루일산, 디메틸벤조산, 에틸벤조산, 노르말 프로필 벤조산, 아미노 벤조산, 아세톡시 벤조산 등이 있고, 벤조산인 것이 가장 바람직하다. 또한, 이들은 각각 1종 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.Examples of the benzene monocarboxylic acid component include benzoic acid, para tert-butyl benzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, paratoluic acid, dimethylbenzoic acid, ethyl benzoic acid, normal propyl benzoic acid, amino benzoic acid, acetoxy benzoic acid, and the like. It is most preferable that it is benzoic acid. These may be used alone or as a mixture of two or more kinds.
탄소수 2 내지 12의 알킬렌글리콜 성분으로는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,2-프로판디올, 2-메틸 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸글리콜), 2,2-디에틸-1,3-프로판디올(3,3-디메틸올 펜탄), 2-n-부틸-2-에틸-1,3 프로판디올(3,3-디메틸올헵탄), 3-메틸-1,5-펜탄디올 1,6-헥산디올, 2,2,4-트리메틸 1,3-펜탄디올, 2-에틸 1,3-헥산디올, 2-메틸 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-옥타데칸디올 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 특히 1,2-프로필렌글리콜이 바람직하다. 이들 글리콜은, 1종 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.Examples of the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2-propanediol, and 2- Methyl 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentylglycol), 2,2-diethyl-1,3- Propanediol (3,3-dimethylol pentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3 propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl-1,5-pentanediol 1,6 -Hexanediol, 2,2,4-trimethyl 1,3-pentanediol, 2-ethyl 1,3-hexanediol, 2-methyl 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decane Diol, 1, 12- octadecanediol, etc. are mentioned. Among these, 1,2-propylene glycol is particularly preferable. These glycols may be used alone or as a mixture of two or more thereof.
방향족 말단 에스테르계 가소제는, 올리고에스테르, 폴리에스테르의 형태 중 어느 것이든 좋고, 분자량은 100 내지 10000의 범위가 좋지만, 바람직하게는 350 내지 3000의 범위이다. 또한 산가는 1.5mgKOH/g 이하, 수산기값은 25mgKOH/g 이하, 보다 바람직하게는 산가 0.5mgKOH/g 이하, 수산기값은 15mgKOH/g 이하인 것이다.The aromatic terminal ester plasticizer may be in the form of oligoester or polyester, and the molecular weight is preferably in the range of 100 to 10000, but preferably in the range of 350 to 3000. The acid value is 1.5 mgKOH / g or less, the hydroxyl value is 25 mgKOH / g or less, more preferably the acid value is 0.5 mgKOH / g or less, and the hydroxyl value is 15 mgKOH / g or less.
방향족 말단 에스테르계 가소제는 기재 필름 100질량부에 대하여 0.5 내지 30질량부를 첨가하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 이하에 나타내는 화합물(B-1 내지 B-10) 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.It is preferable to add 0.5-30 mass parts of aromatic terminal ester plasticizers with respect to 100 mass parts of base films. Although the compound (B-1-B-10) etc. which are specifically shown below are mentioned, It is not limited to these.
또한, 기재 필름에는, 하기 당에스테르 화합물이 함유되어 있어도 된다. 당에스테르 화합물이란, 하기 단당, 2당, 3당 또는 올리고당 등의 당의 OH기 모두 또는 일부를 에스테르화한 화합물이며, 보다 구체적인 예시로는, 화학식 (1)로 표현되는 화합물 등을 들 수 있다.In addition, the following sugar ester compound may contain in the base film. The sugar ester compound is a compound obtained by esterifying all or part of OH groups of sugars such as the following monosaccharides, disaccharides, trisaccharides, and oligosaccharides, and examples thereof include compounds represented by the formula (1).
(화학식 중 R1 내지 R8은, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 22의 알킬 카르보닐기, 또는, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 22의 아릴 카르보닐기를 나타내고, R1 내지 R8은, 동일하거나 상이해도 된다.)(In formula, R1-R8 represents a substituted or unsubstituted C2-C22 alkyl carbonyl group or a substituted or unsubstituted C2-C22 aryl carbonyl group, and R1-R8 may be same or different.)
이하에 화학식 (1)로 표시되는 화합물을 보다 구체적(화합물 1-1 내지 화합물 1-23)으로 나타내지만, 이것들에 한정되지는 않는다. 또한, 하기 표 중의 "평균 치환도"는, R의 치환도를 나타낸다. 예를 들어, 평균 치환도가 6.0이면, R1 내지 R8 중 R로 치환되어 있는 개수가 평균 6개인 것을 나타낸다. 그리고, 화학식 (1)로 표시되는 화합물에서의 R1 내지 R8은, R로 치환된 것 이외에는, 비치환, 즉, 수소 원자가 결합되어 있다.Although the compound represented by General formula (1) below is shown more specifically (compound 1-1 to compound 1-23), it is not limited to these. In addition, "average substitution degree" in the following table shows substitution degree of R. FIG. For example, when average substitution degree is 6.0, it shows that the number substituted by R among R1-R8 is 6 on average. And R1-R8 in the compound represented by General formula (1) is unsubstituted, ie, a hydrogen atom couple | bonded except having substituted by R.
기재 필름은, 자외선 흡수제를 함유하는 것도 바람직하며, 사용되는 자외선 흡수제로는, 벤조트리아졸계, 2-히드록시벤조페논계 또는 살리실산 페닐에스테르계의 것 등을 들 수 있다. 예를 들어, 2-(5-메틸-2-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-부틸-2-히드록시페닐)벤조트리아졸 등의 트리아졸류, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-옥톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논류를 예시할 수 있다.It is also preferable that a base film contains a ultraviolet absorber, and the thing of a benzotriazole type, 2-hydroxy benzophenone series, or a salicylic acid phenyl ester system etc. is mentioned as a ultraviolet absorber used. For example, there can be mentioned 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3,5- , Triazole compounds such as 2- (3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy- Phenone, and 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone.
또한, 자외선 흡수제 중에서도, 분자량이 400 이상인 자외선 흡수제는, 고비점으로 휘발하기 어려워, 고온 성형시에도 비산하기 어렵기 때문에, 비교적 소량의 첨가로 효과적으로 내후성을 개량할 수 있다.In addition, among ultraviolet absorbers, the ultraviolet absorber having a molecular weight of 400 or more is difficult to volatilize at a high boiling point and difficult to scatter even at high temperature molding, so that weather resistance can be effectively improved by the addition of a relatively small amount.
분자량이 400 이상인 자외선 흡수제로는, 2-[2-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2-벤조트리아졸, 2,2-메틸렌 비스[4-(1,1,3,3-테트라부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀] 등의 벤조트리아졸계, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트 등의 힌더드 아민계, 나아가 2-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2-n-부틸말론산 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜), 1-[2-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시]에틸]-4-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 등의 분자 내에 힌더드 페놀과 힌더드 아민의 구조를 함께 갖는 하이브리드계의 것을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 병용하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 2-[2-히드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2-벤조트리아졸이나 2,2-메틸렌 비스[4-(1,1,3,3-테트라부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀]이 특히 바람직하다.Examples of the ultraviolet absorbent having a molecular weight of 400 or more include 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2-benzotriazole and 2,2-methylene bis [4- (1 , 1,3,3-tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol] and bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl ) Sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate Hindered amine type, such as 2- (3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonic acid bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), 1- [2- [3- (3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6 The hybrid system which has the structure of a hindered phenol and a hindered amine together in molecule | numerators, such as tetramethyl piperidine, These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among them, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2-benzotriazole or 2,2-methylene bis [4- (1,1,3,3 -Tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol] is particularly preferred.
이것들은, 시판품을 사용해도 되고, 예를 들어, 바스프(BASF) 재팬사 제조의 티누빈 109, 티누빈 171, 티누빈 234, 티누빈 326, 티누빈 327, 티누빈 328, 티누빈 928 등의 티누빈류를 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 기재 필름에는, 성형 가공시의 열 분해성이나 열 착색성을 개량하기 위하여 각종 산화 방지제를 첨가할 수도 있다. 또한 대전 방지제를 첨가하여, 기재 필름에 대전 방지 성능을 부여하는 것도 가능하다.These may use a commercial item, for example, the tinubin 109, the tinubin 171, the tinubin 234, the tinubin 326, the tinubin 327, the tinubin 328, the tinubin 928 etc. made by BASF Japan company, for example. Tinuvin can be used preferably. Moreover, in order to improve the thermal decomposition property and thermal coloring property at the time of shaping | molding process, various antioxidant can also be added to a base film. It is also possible to add an antistatic agent to impart antistatic properties to the base film.
기재 필름에는, 인계 난연제를 배합한 난연 아크릴계 수지 조성물을 사용해도 된다. 여기에서 사용되는 인계 난연제로는, 적인, 트리아릴 인산에스테르, 디아릴 인산에스테르, 모노아릴 인산에스테르, 아릴 포스폰산 화합물, 아릴 포스핀옥시드 화합물, 축합 아릴 인산에스테르, 할로겐화 알킬 인산에스테르, 할로겐 함유 축합 인산에스테르, 할로겐 함유 축합 포스폰산에스테르, 할로겐 함유 아인산에스테르 등에서 선택되는 1종, 또는 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.As the base film, a flame retardant acrylic resin composition containing a phosphorus flame retardant may be used. Examples of the phosphorus flame retardant used herein include triaryl phosphate esters, diaryl phosphate esters, monoaryl phosphate esters, aryl phosphonic acid compounds, aryl phosphine oxide compounds, condensed aryl phosphate esters, halogenated alkyl phosphate esters and halogen-containing condensation. 1 type, or 2 or more types of mixtures chosen from a phosphate ester, a halogen containing condensation phosphonic acid ester, a halogen containing phosphite ester, etc. are mentioned.
구체적인 예로는, 트리페닐포스페이트, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드, 페닐포스폰산, 트리스(β-클로로에틸)포스페이트, 트리스(디클로로프로필)포스페이트, 트리스(트리브로모네오펜틸)포스페이트 등을 들 수 있다.Specific examples include triphenyl phosphate, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenylphosphonic acid, tris (β-chloroethyl) phosphate, tris (dichloropropyl) phosphate And tris (tribromoneopentyl) phosphate.
기재 필름은, 보다 고온의 환경하에서의 사용에 견딜 수 있을 것이 요구되고 있어, 기재 필름의 장력 연화점이, 105℃ 내지 145℃이면 충분한 내열성을 나타내는 것이라고 판단할 수 있어 바람직하고, 특히 110℃ 내지 130℃가 바람직하다.The base film is required to be able to withstand use in a higher temperature environment, and it can be determined that the tensile softening point of the base film exhibits sufficient heat resistance if it is 105 ° C to 145 ° C, and particularly preferably 110 ° C to 130 ° C. Is preferred.
장력 연화점의 구체적인 측정 방법으로는, 예를 들어, 텐실론 시험기(오리엔텍(ORIENTEC)사 제조, RTC-1225A)를 사용하여, 광학 필름을 120mm(세로)×10mm(폭)으로 잘라내고, 10N의 장력으로 인장하면서 30℃/min의 승온 속도로 승온을 계속해서, 9N이 된 시점에서의 온도를 3회 측정하여, 그 평균값에 의해 구할 수 있다.As a specific measuring method of the tension softening point, an optical film is cut out to 120 mm (length) x 10 mm (width) using the Tensilon tester (The product made from Orientec, RTC-1225A), for example, 10N The temperature is continuously increased at a temperature increase rate of 30 ° C./min while tensioning at a temperature of 3 ° C., and the temperature at the time of 9N can be measured three times, and the average value can be obtained.
또한, 여기서 말하는 유리 전이 온도란, 시차 주사 열량 측정기(Perkin Elmer사 제조 DSC-7형)를 사용하여, 승온 속도 20℃/분으로 측정하고, JIS K7121(1987)에 따라서 구한 중간점 유리 전이 온도(Tmg)이다.In addition, the glass transition temperature here is the intermediate point glass transition temperature measured by the temperature increase rate of 20 degree-C / min using a differential scanning calorimeter (DSC-7 type | mold by Perkin Elmer), and calculated | required according to JISK7121 (1987). (Tmg).
액정 표시 장치의 편광판용 보호 필름으로서 기재 필름이 사용되는 경우에는, 흡습에 의한 치수 변화에 따라 불균일이나 위상차값의 변화가 발생해버려, 콘트라스트의 저하나 색 얼룩과 같은 문제를 발생시킨다. 특히 옥외에서 사용되는 액정 표시 장치에 사용되는 편광판 보호 필름이면, 상기의 문제가 현저해진다. 이로 인해, 치수 변화율(%)은 0.5% 미만이 바람직하고, 또한, 0.3% 미만인 것이 바람직하다. 기재 필름은, 필름 면내의 직경 5㎛ 이상의 결점이 1개/10cm 사방 이하인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.5개/10cm 사방 이하, 한층 바람직하게는 0.1개/10cm 사방 이하다. 여기서 결점의 직경이란, 결점이 원형인 경우에는 그 직경을 나타내고, 원형이 아닌 경우에는 결점의 범위를 하기 방법에 의해 현미경으로 관찰해서 결정하여, 그 최대 직경(외접원의 직경)으로 한다.When a base film is used as a protective film for polarizing plates of a liquid crystal display device, a nonuniformity and a change of retardation value generate | occur | produce according to the dimensional change by moisture absorption, and produce problems, such as a fall of contrast and a color unevenness. Said problem will become remarkable if it is a polarizing plate protective film used especially for the liquid crystal display device used outdoors. For this reason, the dimensional change rate (%) is preferably less than 0.5%, and more preferably less than 0.3%. It is preferable that the fault of 5 micrometers or more in diameter inside a film plane is 1/10 cm square or less in a base film. More preferably not more than 0.5 / 10 cm square, more preferably not more than 0.1 / 10 cm square. Here, the diameter of the defect refers to the diameter when the defect has a circular shape, and when the defect is not circular, the range of the defect is determined by observing with a microscope by the following method, and the maximum diameter is defined as the diameter of the circumscribed circle.
결점의 범위는, 결점이 기포나 이물인 경우에는, 결점을 미분 간섭 현미경의 투과광으로 관찰했을 때의 그림자의 크기이다. 결점이, 롤 흠집의 전사나 찰상 등, 표면 형상의 변화인 경우에는, 결점을 미분 간섭 현미경의 반사광으로 관찰하여 크기를 확인한다.The range of the defect is the size of the shadow when the defect is observed as the transmitted light of the differential interference microscope when the defect is bubble or foreign matter. When a fault is a change of surface shape, such as transfer of a scratch or a scratch, a fault is observed with the reflected light of a differential interference microscope, and a magnitude | size is confirmed.
또한, 반사광으로 관찰할 경우에, 결점의 크기가 불명료하면, 표면에 알루미늄이나 백금을 증착하여 관찰한다. 이와 같은 결점 빈도로 나타내지는 품위가 우수한 필름을 생산성 높게 얻기 위해서는, 중합체 용액을 유연 직전에 고정밀도 여과하는 것이나, 유연기 주변의 클린도를 높게 하는 것, 또한, 유연 후의 건조 조건을 단계적으로 설정하여, 효율적이면서도 또한 발포를 억제하여 건조시키는 것이 유효하다.In addition, when observing with reflected light, if the magnitude | size of a fault is unclear, it will observe by depositing aluminum or platinum on a surface. In order to obtain a film having excellent durability represented by such defect frequency at a high productivity, it is necessary to perform high-precision filtration of the polymer solution just before bending, to increase the degree of cleanliness around the bubble generator, Thus, it is effective to efficiently and also suppress foaming and dry.
결점의 개수가 1개/10cm 사방보다 많으면, 예를 들어 후속 공정에서의 가공시 등에서 필름에 장력이 가해지면, 결점을 기점으로 해서 필름이 파단하여 생산성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 결점의 직경이 5㎛ 이상이 되면 편광판 관찰 등에 의해 육안으로 확인할 수 있어, 광학 부재로서 사용했을 때 휘점이 발생하는 경우가 있다.If the number of defects is more than 1/10 cm square, for example, when tension is applied to the film during processing in a subsequent step, the film may break from the defect and the productivity may decrease. Further, when the diameter of the defect is 5 m or more, it can be visually confirmed by observing the polarizing plate and the like, and a bright spot may be generated when used as an optical member.
또한, 육안으로 확인할 수 없는 경우에도, 상기 필름 위에 하드 코트층 등을 형성했을 때에, 도포제를 균일하게 형성할 수 없어 결점(도포 누락)으로 되는 경우가 있다. 여기서, 결점이란, 용액 제막의 건조 공정에서 용매가 급격한 증발에 기인하여 발생하는 필름 내의 공동(발포 결점)이나, 제막 원액 내의 이물이나 제막 내에 혼입되는 이물에 기인하는 필름 내의 이물(이물 결점)을 말한다.Moreover, even when it cannot visually confirm, when a hard-coat layer etc. are formed on the said film, a coating agent cannot be formed uniformly and may become a fault (application omission). Here, a fault means the foreign material in a film (foreign defect) resulting from the cavity (foaming defect) in the film which arises from the rapid evaporation of a solvent in the drying process of solution film forming, the foreign material in a film forming undiluted | stock solution, or the foreign material mixed in film forming. Say.
또한, 기재 필름은, JIS-K7127-1999에 준거한 측정에 있어서, 적어도 일 방향의 파단 신도가 10% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20% 이상이다. 파단 신도의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니나, 현실적으로는 250% 정도다. 파단 신도를 크게 하기 위해서는 이물이나 발포에 기인하는 필름 내의 결점을 억제하는 것이 유효하다. 기재 필름의 두께는 10㎛ 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 두께의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 용액 제막법으로 필름화하는 경우에는, 도포성, 발포, 용매 건조 등의 관점에서, 상한은 250㎛ 정도다. 또한, 필름의 두께는 용도에 따라 적절히 선정할 수 있다.Moreover, in the measurement based on JIS-K7127-1999, it is preferable that the breaking elongation of at least one direction is 10% or more, More preferably, it is 20% or more. The upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is about 250% in reality. In order to enlarge breaking elongation, it is effective to suppress the fault in the film resulting from a foreign material and foaming. It is preferable that the thickness of a base film is 10 micrometers or more. More preferably, it is 20 micrometers or more. Although the upper limit of thickness is not specifically limited, When film-forming by the solution film forming method, an upper limit is about 250 micrometers from a viewpoint of applicability | paintability, foaming, and solvent drying. In addition, the thickness of a film can be suitably selected according to a use.
기재 필름은, 그 전체 광선 투과율이 90% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 93% 이상이다. 또한, 현실적인 상한으로는 99% 정도다. 이와 같은 전체 광선 투과율로 표현되는 우수한 투명성을 달성하기 위해서는, 가시광을 흡수하는 첨가제나 공중합 성분을 도입하지 않도록 하는 것이나, 중합체 중의 이물을 고정밀도 여과에 의해 제거하여, 필름 내부의 광의 확산이나 흡수를 저감시키는 것이 유효하다. 또한, 제막시의 필름 접촉부(냉각 롤, 캘린더 롤, 드럼, 벨트, 용액 제막에서의 도포 기재, 반송 롤 등)의 표면 조도를 작게 하여 필름 표면의 표면 조도를 작게 하는 것이나, 아크릴 수지의 굴절률을 작게 함으로써 필름 표면의 광의 확산이나 반사를 저감시키는 것이 유효하다.It is preferable that the total light transmittance of a base film is 90% or more, More preferably, it is 93% or more. In addition, the upper limit is about 99%. In order to achieve excellent transparency expressed by such a total light transmittance, it is necessary not to introduce an additive or a copolymerizing component which absorbs visible light, or to remove foreign substances in the polymer by high precision filtration, thereby preventing diffusion or absorption of light inside the film. It is effective to reduce. Moreover, the surface roughness of the film contact part (cooling roll, calender roll, drum, belt, coating base material, conveyance roll, etc. in solution film forming, etc.) at the time of film forming is made small, and the surface roughness of a film surface is made small, and the refractive index of an acrylic resin It is effective to reduce the diffusion and reflection of light on the film surface by making it small.
(기재 필름의 제막)(Film forming of base film)
이어서, 기재 필름의 제막 방법의 예를 설명하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 기재 필름의 제막 방법으로는, 인플레이션법, T-다이법, 캘린더법, 절삭법, 유연법, 에멀전법, 핫 프레스법 등의 제조법을 사용할 수 있다.Next, an example of the film-forming method of the substrate film is described, but the present invention is not limited thereto. As a film forming method of a base film, manufacturing methods, such as an inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, and a hot press method, can be used.
셀룰로오스에스테르 수지나 아크릴 수지를 용해에 사용한 용매의 잔류 억제의 점에서는 용융 유연 제막법으로 제작하는 방법이 바람직하다. 용융 유연에 의해 형성되는 방법은, 용융 압출 성형법, 프레스 성형법, 인플레이션법, 사출 성형법, 블로우 성형법, 연신 성형법 등으로 분류할 수 있다. 이들 중에서 기계적 강도 및 표면 정밀도 등이 우수한 필름이 얻어지는 용융 압출법이 바람직하다. 또한, 착색 억제, 이물 결점의 억제, 다이 라인 등의 광학 결점의 억제 등의 관점에서는 유연법에 의한 용액 제막이 바람직하다. 또한, 필름 형성 재료가 가열되어, 그 유동성을 발현시킨 후, 드럼 위 또는 엔드리스 벨트 위로 압출해서 제막하는 방법도 용융 유연 제막법으로서 포함된다.The method of producing by the melt casting film formation method is preferable at the point of the residual suppression of the solvent which used the cellulose ester resin and the acrylic resin for melt | dissolution. The method of forming by melt casting can be classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, and a stretching molding method. Among them, the melt extrusion method is preferable in which a film having excellent mechanical strength and surface precision is obtained. Moreover, the solution film forming by the casting | flow_spread method is preferable from a viewpoint of coloring suppression, suppression of a foreign material fault, suppression of optical faults, such as a die line. Moreover, the method of film-forming material heated, expressing the fluidity, and extruded and forming into a film on a drum or an endless belt is also included as a melt casting film forming method.
(유기 용매)(Organic solvent)
기재 필름을 용액 유연법으로 제조하는 경우의 도프를 형성하는 데 유용한 유기 용매는, 아크릴 수지, 셀룰로오스에스테르 수지, 그 밖의 첨가제를 동시에 용해하는 것이면 제한 없이 사용할 수 있다.The organic solvent useful for forming the dope when the base film is prepared by the solution casting method can be used without limitation as long as it dissolves the acrylic resin, the cellulose ester resin and other additives at the same time.
예를 들어, 염소계 유기 용매로는, 염화메틸렌, 비염소계 유기 용매로는, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 아밀, 아세톤, 테트라히드로푸란, 1,3-디옥솔란, 1,4-디옥산, 시클로헥사논, 포름산에틸, 2,2,2-트리플루오로에탄올, 2,2,3,3-헥사플루오로-1-프로판올, 1,3-디플루오로-2-프로판올, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-메틸-2-프로판올, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올, 2,2,3,3,3-펜타플루오로-1-프로판올, 니트로에탄 등을 들 수 있고, 염화메틸렌, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세톤을 바람직하게 사용할 수 있다.For example, as the chlorine organic solvent, methylene chloride, and the non-chlorine organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclo Hexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1 , 3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-penta Fluoro-1-propanol, nitroethane, etc. are mentioned, Methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, acetone can be used preferably.
도프에는, 상기 유기 용매 이외에, 1 내지 40질량%의 탄소 원자수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄상의 지방족 알코올을 함유시키는 것이 바람직하다. 도프 중의 알코올의 비율이 높아지면 웹이 겔화하여, 금속 지지체로부터의 박리가 용이해지고, 또한, 알코올의 비율이 적을 때는 비염소계 유기 용매계에서의 아크릴 수지, 셀룰로오스에스테르 수지의 용해를 촉진하는 역할도 있다. 특히, 메틸렌 클로라이드 및 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄상의 지방족 알코올을 함유하는 용매에, 아크릴 수지와, 셀룰로오스에스테르 수지와, 아크릴 입자의 3종을, 적어도 총 15 내지 45질량% 용해시킨 도프 조성물인 것이 바람직하다. 탄소 원자수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄상의 지방족 알코올로는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, iso-프로판올, n-부탄올, sec-부탄올, tert-부탄올을 들 수 있다. 이들 중 도프의 안정성, 비점도 비교적 낮고, 건조성도 좋은 점 등에서 에탄올이 바람직하다.The dope preferably contains a linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms in an amount of 1 to 40 mass% in addition to the above-mentioned organic solvent. When the proportion of alcohol in the dope is high, the web is gelled to facilitate peeling from the metal support. When the proportion of alcohol is small, the role of promoting the dissolution of the acrylic resin and the cellulose ester resin in the non-chlorinated organic solvent system have. In particular, the dope composition which melt | dissolved three types of an acrylic resin, a cellulose ester resin, and an acryl particle at least 15-45 mass% in total in the solvent containing methylene chloride and a C1-C4 linear or branched aliphatic alcohol. Is preferably. Examples of the linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol and tert-butanol. Of these, ethanol is preferable in terms of dope stability, relatively low boiling point, and good drying property.
(용액 유연법)(Solution softening method)
기재 필름은, 용액 유연법에 의해 제조할 수 있다. 용액 유연법에서는, 수지 및 첨가제를 용제에 용해시켜서 도프를 제조하는 공정, 도프를 벨트 형상 또는 드럼 형상의 금속 지지체 위에 유연하는 공정, 유연한 도프를 웹으로서 건조하는 공정, 금속 지지체로부터 박리하는 공정, 연신 또는 폭 유지하는 공정, 또 건조하는 공정, 마무리된 필름을 권취하는 공정에 의해 행해진다.The base film can be produced by a solution casting method. In the solution casting method, a step of preparing a dope by dissolving a resin and an additive in a solvent, a step of casting the dope on a belt or drum-shaped metal support, a step of drying the flexible dope as a web, a step of peeling from the metal support, It carries out by the process of extending | stretching or holding a width, the process of drying, and the process of winding up the finished film.
도프 중의 셀룰로오스에스테르 및 셀룰로오스에스테르 수지·아크릴 수지의 농도는, 농도가 높은 것이 금속 지지체에 유연한 후의 건조 부하를 저감할 수 있어서 바람직하지만, 셀룰로오스에스테르의 농도가 너무 높으면 여과시의 부하가 증가하여, 여과 정밀도가 나빠진다. 이것들을 양립하는 농도로는, 10 내지 35질량%가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 15 내지 25질량%이다. 유연(캐스트) 공정에서의 금속 지지체는, 표면을 경면 마무리한 것이 바람직하고, 금속 지지체로는, 스테인리스 스틸 벨트 또는 주물로 표면을 도금 마무리한 드럼이 바람직하게 사용된다.The concentration of the cellulose ester and the cellulose ester resin / acrylic resin in the dope is preferable because a high concentration can reduce the dry load after being flexible to the metal support, but when the concentration of the cellulose ester is too high, the load at the time of filtration increases and the filtration The precision worsens. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%. It is preferable that the surface of the metal support body in the casting process is mirror-finished, and as a metal support body, the drum which plated the surface with the stainless steel belt or the casting is used preferably.
캐스트의 폭은 1 내지 4m로 할 수 있다. 유연 공정의 금속 지지체의 표면 온도는 -50℃ 내지 용제가 비등하여 발포하지 않는 온도 이하로 설정된다. 온도가 높은 것이 웹의 건조 속도를 빠르게 할 수 있으므로 바람직하지만, 지나치게 높으면 웹이 발포하거나, 평면성이 열화되는 경우가 있다.The width of the cast may be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support of the flexible process is set at -50 캜 to a temperature not exceeding the temperature at which the solvent boils and does not foam. A high temperature is preferable because it can speed up the drying speed of the web. However, if the temperature is too high, the web may foam or the planarity may be degraded.
바람직한 지지체 온도로는 0 내지 100℃에서 적절히 결정되고, 5 내지 30℃가 더욱 바람직하다. 또는, 냉각함으로써 웹을 겔화시켜서 잔류 용매를 많이 포함한 상태에서 드럼으로부터 박리하는 것도 바람직한 방법이다. 금속 지지체의 온도를 제어하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 온풍 또는 냉풍을 세차게 불어대는 방법이나, 온수를 금속 지지체의 이측에 접촉시키는 방법이 있다. 온수를 사용하는 것이 열의 전달이 효율적으로 행해지기 때문에, 금속 지지체의 온도가 일정해질 때까지의 시간이 짧아 바람직하다.As preferable support body temperature, it determines suitably at 0-100 degreeC, and 5-30 degreeC is more preferable. Alternatively, it is preferable that the web be gelled by cooling to peel off the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method of controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, but there is a method of blowing hot air or cold air hard or a method of bringing hot water into contact with the back side of the metal support. Use of hot water is preferable because heat is efficiently transferred and the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.
온풍을 사용하는 경우에는 용매의 증발 잠열에 의한 웹의 온도 저하를 고려하여, 용매의 비점 이상의 온풍을 사용하면서, 발포도 방지하면서 원하는 온도보다 높은 온도의 바람을 사용하는 경우가 있다.In the case of using hot wind, in consideration of the temperature decrease of the web due to the latent heat of evaporation of the solvent, the hot wind above the boiling point of the solvent may be used while the wind at a temperature higher than the desired temperature is used while preventing foaming.
특히, 유연으로부터 박리할 때까지의 동안에 지지체의 온도 및 건조풍의 온도를 변경하여, 효율적으로 건조를 행하는 것이 바람직하다.Particularly, it is preferable to change the temperature of the support and the temperature of the drying wind during the period from the softening to the peeling, thereby efficiently performing drying.
셀룰로오스에스테르 필름이 양호한 평면성을 나타내기 위해서는, 금속 지지체로부터 웹을 박리할 때의 잔류 용매량은 10 내지 150질량%가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20 내지 40질량% 또는 60 내지 130질량%이며, 특히 바람직하게는 20 내지 30질량% 또는 70 내지 120질량%이다.In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the amount of residual solvent when peeling the web from the metal support is preferably from 10 to 150% by mass, more preferably from 20 to 40% by mass or from 60 to 130% by mass, Particularly preferably 20 to 30% by mass or 70 to 120% by mass.
잔류 용매량은 하기식으로 정의된다.The amount of residual solvent is defined by the following formula.
잔류 용매량(질량%)={(M-N)/N}×100Amount of residual solvent (mass%) = {(M-N) / N} 100
또한, M은 웹 또는 필름을 제조 중 또는 제조 후의 임의의 시점에서 채취한 시료의 질량이고, N은 M을 115℃에서 1시간의 가열 후의 질량이다.M is the mass of the sample taken at any time point during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating at 115 DEG C for 1 hour.
또한, 셀룰로오스에스테르 필름 또는 셀룰로오스에스테르 수지·아크릴 수지 필름의 건조 공정에서는, 웹을 금속 지지체로부터 박리하고, 또한 건조하여, 잔류 용매량을 1질량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.1질량% 이하고, 특히 바람직하게는 0 내지 0.01질량% 이하다.Further, in the drying step of the cellulose ester film or the cellulose ester resin / acrylic resin film, the web is preferably peeled off from the metal support and dried, so that the residual solvent amount is preferably 1 mass% or less, more preferably 0.1 mass % Or less, particularly preferably 0 to 0.01 mass% or less.
필름 건조 공정에서는 일반적으로 롤 건조 방식(상하로 배치한 다수의 롤에 웹을 교대로 통과 건조시키는 방식)이나 텐터 방식으로 웹을 반송시키면서 건조하는 방식이 채용된다.In the film drying process, generally, the method of drying while conveying a web is employ | adopted by the roll drying method (the method of passing-drying a web to many rolls arrange | positioned up and down) and the tenter system.
(연신 공정)(Drawing step)
연신 공정에서는, 필름의 길이 방향(MD 방향) 및 폭 방향(TD 방향)에 대하여 순서대로 또는 동시에 연신할 수 있다. 서로 직교하는 2축 방향의 연신 배율은, 각각 최종적으로는 MD 방향으로 1.0 내지 2.0배, TD 방향으로 1.07 내지 2.0배의 범위로 하는 것이 바람직하고, MD 방향으로 1.0 내지 1.5배, TD 방향으로 1.07 내지 2.0배의 범위에서 행하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 복수의 롤에 주속차를 두고, 그 사이에서 롤 주속차를 이용하여 MD 방향으로 연신하는 방법, 웹의 양단을 클립이나 핀으로 고정하고, 클립이나 핀의 간격을 진행 방향으로 확장하여 MD 방향으로 연신하는 방법, 마찬가지로 가로 방향으로 확장하여 TD 방향으로 연신하는 방법, 또는 MD/TD 방향 동시에 확장하여 MD/TD 양쪽 방향으로 연신하는 방법 등을 들 수 있다. 제막 공정의 이들 폭 유지 또는 폭 방향의 연신은 텐터에 의해 행하는 것이 바람직하고, 핀 텐터나 클립 텐터이어도 된다.In an extending process, it can extend | stretch in order or simultaneously with respect to the longitudinal direction (MD direction) and the width direction (TD direction) of a film. The stretching ratio in the biaxial direction perpendicular to each other is preferably in the range of 1.0 to 2.0 times in the MD direction and 1.07 to 2.0 times in the TD direction, respectively, and 1.0 to 1.5 times in the MD direction and 1.07 in the TD direction. It is preferable to carry out in the range of -2.0 times. For example, a circumferential speed difference is provided in a plurality of rolls, and in the meantime, the circumferential speed difference is used to extend in the MD direction. The method of extending | stretching to MD direction, the method of extending | stretching to a TD direction by extending horizontally, or the method of extending | stretching to both directions of MD / TD simultaneously extending | stretching MD / TD direction etc. are mentioned. It is preferable to perform these width retention or extending | stretching of the width direction of a film forming process with a tenter, and a pin tenter or a clip tenter may be sufficient.
텐터내 등의 제막 공정에서의 필름 반송 장력은 온도에도 의존하지만, 120N/m 내지 200N/m가 바람직하고, 140N/m 내지 200N/m가 더욱 바람직하다. 140N/m 내지 160N/m가 가장 바람직하다.Although film conveyance tension in film forming processes, such as in a tenter, also depends on temperature, 120N / m-200N / m are preferable and 140N / m-200N / m are more preferable. Most preferred are 140N / m to 160N / m.
연신할 때는, 기재 필름의 유리 전이 온도를 Tg라 하면 (Tg-30) 내지 Tg+100)℃, 보다 바람직하게는 (Tg-20) 내지 Tg+80)℃, 더 바람직하게는 (Tg-5) 내지 Tg+20)℃이다.When extending | stretching, when glass transition temperature of a base film is Tg, it is (Tg-30)-Tg + 100) degreeC, More preferably, (Tg-20)-Tg + 80) degreeC, More preferably, it is (Tg-5) ) To Tg + 20) ° C.
기재 필름의 Tg는, 필름을 구성하는 재료종 및 구성하는 재료의 비율에 따라 제어할 수 있다. 본 발명의 용도에서는 필름의 건조시의 Tg는 110℃ 이상이 바람직하고, 또한 120℃ 이상이 바람직하다. 특히 바람직하게는 150℃ 이상이다.Tg of a base film can be controlled by the ratio of the material type which comprises a film, and the material which comprises. In the use of this invention, 110 degreeC or more is preferable and, as for Tg at the time of drying of a film, 120 degreeC or more is preferable. Especially preferably, it is 150 degreeC or more.
따라서 유리 전이 온도는 190℃ 이하, 보다 바람직하게는 170℃ 이하인 것이 바람직하다. 이때, 필름의 Tg는 JIS K7121에 기재된 방법 등에 의해 구할 수 있다.Therefore, it is preferable that glass transition temperature is 190 degrees C or less, More preferably, it is 170 degrees C or less. At this time, Tg of a film can be calculated | required by the method of JISK7121, etc.
연신할 때의 온도는 150℃ 이상, 연신 배율은 1.15배 이상으로 하면, 표면이 적절하게 거칠어지기 때문에 바람직하다. 필름 표면을 거칠게 하는 것은, 미끄럼성을 향상시킬 뿐만 아니라, 표면 가공성, 특히 방현층의 밀착성이 향상되기 때문에 바람직하다.When extending | stretching temperature is 150 degreeC or more and draw ratio is 1.15 times or more, since the surface becomes moderately rough, it is preferable. Roughening a film surface is preferable because it improves not only sliding property but also surface workability, especially adhesiveness of an anti-glare layer.
(용융 제막법)(Melt film forming method)
기재 필름은, 용융 제막법에 의해 제막해도 된다. 용융 제막법은, 수지 및 가소제 등의 첨가제를 포함하는 조성물을, 유동성을 나타내는 온도까지 가열 용융하고, 그 후, 유동성의 셀룰로오스에스테르를 포함하는 용융물을 유연하는 것을 말한다.The base film may be formed by a melt film forming method. The melt film-forming method refers to heating and melting a composition including an additive such as a resin and a plasticizer to a temperature at which fluidity is exhibited, and thereafter flexing a melt containing a fluid cellulose ester.
가열 용융하는 성형법은, 더욱 상세하게는, 용융 압출 성형법, 프레스 성형법, 인플레이션법, 사출 성형법, 블로우 성형법, 연신 성형법 등으로 분류할 수 있다. 이들 성형법 중에서는, 기계적 강도 및 표면 정밀도 등의 점에서, 용융 압출법이 바람직하다. 용융 압출에 사용하는 복수의 원재료는, 통상 미리 혼련하여 펠릿화해 두는 것이 바람직하다.In more detail, the shaping | molding method which heat-melts can be classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, an extending molding method, etc. Of these molding methods, the melt extrusion method is preferable in terms of mechanical strength and surface precision. It is preferable that a plurality of raw materials used for melt extrusion are usually previously kneaded and pelletized.
펠릿화는, 공지된 방법이면 되며, 예를 들어 건조 셀룰로오스에스테르나 가소제, 기타 첨가제를 피더로 압출기에 공급하여 1축이나 2축의 압출기를 사용해서 혼련하고, 다이로부터 스트랜드 형상으로 압출하여, 수냉 또는 공냉해서 커팅함으로써 할 수 있다.Pelletization may be a well-known method, For example, dry cellulose ester, a plasticizer, and other additives are supplied to an extruder by a feeder, it knead | mixes using a single screw or a twin screw extruder, and it extrudes into a strand shape from a die, and is water-cooled or It can do by air-cooling and cutting.
첨가제는, 압출기에 공급하기 전에 혼합해 두어도 되고, 각각 개별의 피더로 공급해도 된다.The additives may be mixed before being fed to the extruder or may be fed to individual feeders, respectively.
입자나 산화 방지제 등 소량의 첨가제는, 균일하게 혼합하기 위해서 사전에 혼합해 두는 것이 바람직하다.Small amounts of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix them uniformly.
압출기는, 전단력을 억제하고, 수지가 열화(분자량 저하, 착색, 겔 생성 등)하지 않도록 펠릿화 가능하며 가능한 한 저온에서 가공하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 2축 압출기의 경우, 깊은 홈 타입의 스크류를 사용하여, 동일 방향으로 회전시키는 것이 바람직하다. 혼련의 균일성 면에서, 맞물림 타입이 바람직하다.The extruder is capable of pelletizing so that the shearing force is suppressed and the resin does not deteriorate (molecular weight decrease, coloring, gel formation, etc.) and is preferably processed at a low temperature as possible. For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a screw of a deep groove type. In view of the uniformity of kneading, the engagement type is preferred.
이상과 같이 하여 얻어진 펠릿을 사용하여 필름 제막을 행한다. 물론 펠릿화하지 않고, 원재료의 분말을 그대로 피더로 압출기에 공급하여, 그대로 필름 제막하는 것도 가능하다.Film formation is carried out using the pellets obtained as described above. Of course, it is also possible to feed the powder of the raw material directly to the extruder by using a feeder, without forming pellets, and to form the film as it is.
상기 펠릿을 1축이나 2축 타입의 압출기를 사용하여, 압출할 때의 용융 온도를 200 내지 300℃ 정도로 하고, 리프 디스크 타입의 필터 등으로 여과해서 이물을 제거한 후, T 다이로부터 필름 형상으로 유연하여, 냉각 롤과 탄성 터치 롤로 필름을 닙하여, 냉각 롤 위에서 고화시킨다.After the pellets are extruded using a single screw or twin screw extruder, the melt temperature at the time of extruding is set to about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk type filter or the like to remove foreign substances, and then cast into a film form from the T die. Thus, the film is nip with the cooling roll and the elastic touch roll to solidify on the cooling roll.
공급 호퍼로부터 압출기에 도입할 때는 진공하 또는 감압하나 불활성 가스 분위기하로 하여 산화 분해 등을 방지하는 것이 바람직하다.When introducing into the extruder from the feed hopper, it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum or reduced pressure but under an inert gas atmosphere.
압출 유량은, 기어 펌프를 도입하거나 해서 안정적으로 행하는 것이 바람직하다. 또한, 이물의 제거에 사용하는 필터는, 스테인리스 섬유 소결 필터가 바람직하게 사용된다. 스테인리스 섬유 소결 필터는, 스테인리스 섬유체를 복잡하게 서로 얽힌 상태를 만들어 낸 뒤에 압축해서 접촉 개소를 소결하여 일체화한 것으로, 그 섬유의 굵기와 압축량에 따라 밀도를 바꾸어, 여과 정밀도를 조정할 수 있다.The extrusion flow rate is preferably stably performed by introducing a gear pump. In addition, a stainless steel fiber sintered filter is preferably used as the filter used for removing the foreign matter. The stainless fiber sintered filter is a product in which a stainless fiber body is intricately entangled, compressed, and then sintered and integrated into contact points. The density can be changed according to the thickness and the amount of compression of the fiber, and the filtration precision can be adjusted.
가소제나 입자 등의 첨가제는, 미리 수지와 혼합해 두어도 되고, 압출기 도중에 이겨서 넣어도 된다. 균일하게 첨가하기 위해서, 스태틱 믹서 등의 혼합 장치를 사용하는 것이 바람직하다.Additives, such as a plasticizer and particle | grains, may be previously mixed with resin, and may be thrown in the middle of an extruder. In order to uniformly add it, it is preferable to use a mixing device such as a static mixer.
냉각 롤과 탄성 터치 롤로 필름을 닙할 때의 터치 롤측의 필름 온도는 필름의 Tg 이상 Tg+110℃ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 목적으로 사용하는 탄성체 표면을 갖는 롤은, 공지된 롤을 사용할 수 있다.It is preferable that the film temperature on the touch roll side at the time of nipping a film with a cooling roll and an elastic touch roll shall be Tg or more and Tg + 110 degrees C or less of a film. A well-known roll can be used for the roll which has an elastic body surface used for such an objective.
탄성 터치 롤은 협지 가압 회전체라고도 말한다. 탄성 터치 롤로는, 시판되고 있는 것을 사용할 수도 있다.The elastic touch roll is also referred to as a nip pressurizing rotor. What is marketed can also be used as an elastic touch roll.
냉각 롤로부터 필름을 박리할 때는, 장력을 제어하여 필름의 변형을 방지하는 것이 바람직하다.When peeling a film from a cooling roll, it is preferable to control tension and prevent deformation of a film.
또한, 상기와 같이 하여 얻어진 필름은, 냉각 롤에 접하는 공정을 통과한 후, 상기 연신 조작에 의해 연신하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to extend | stretch by the said extending | stretching operation, after the film obtained by passing through the process of contact | connecting a cooling roll.
연신하는 방법은, 공지된 롤 연신기나 텐터 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 연신 온도는, 통상 필름을 구성하는 수지의 Tg 내지 Tg+60℃의 온도 범위에서 행해지는 것이 바람직하다.As a method of extending | stretching, a well-known roll stretching machine, a tenter, etc. can be used preferably. The stretching temperature is preferably set in the range of Tg to Tg + 60 占 폚 of the resin constituting the film.
권취하기 전에, 제품이 되는 폭으로 단부를 슬릿하여 잘라 버리고, 권취 중의 부착이나 흠집 방지를 위해서, 널링 가공(엠보싱 가공)을 양단에 실시해도 된다. 널링 가공의 방법은 요철의 패턴을 측면에 갖는 금속 링을 가열이나 가압에 의해 가공할 수 있다. 또한, 필름 양단부의 클립의 파지 부분은 통상, 필름이 변형되어 있어 제품으로서 사용할 수 없으므로, 절제되어 재이용된다.Before winding up, the edge part may be slit and cut off to a width to be a product, and knurling processing (embossing processing) may be performed at both ends in order to prevent sticking or scratching during winding up. A method of knurling can be performed by heating or pressing a metal ring having a concavo-convex pattern on its side surface. In addition, since the film is deformed and cannot be used as a product, the holding | gripping part of the clip of film both ends is cut off and recycled normally.
(기재 필름의 물성)(Property of base film)
본 실시 형태에서의 기재 필름의 막 두께는, 특별히 제한은 되지 않지만 10 내지 200㎛가 사용된다. 특히 막 두께는 10 내지 100㎛인 것이 특히 바람직하다. 더욱 바람직하게는 20 내지 60㎛이다.Although the film thickness of the base film in this embodiment is not specifically limited, 10-200 micrometers is used. It is especially preferable that the film thickness is 10-100 micrometers. More preferably, it is 20-60 micrometers.
본 실시 형태에 따른 기재 필름은, 폭 1 내지 4m인 것이 사용된다. 특히 폭 1.4 내지 4m인 것이 바람직하게 사용되고, 특히 바람직하게는 1.6 내지 3m이다. 4m를 초과하면 반송이 곤란해진다.As for the base film which concerns on this embodiment, the thing of width 1-4m is used. Particularly preferably 1.4 to 4 m in width, and particularly preferably 1.6 to 3 m in width. If it exceeds 4 m, it becomes difficult to transport.
또한, 기재 필름의 산술 평균 조도(Ra)는, 바람직하게는 2.0nm 내지 4.0nm, 보다 바람직하게는 2.5nm 내지 3.5nm이다.In addition, the arithmetic mean roughness Ra of a base film becomes like this. Preferably it is 2.0 nm-4.0 nm, More preferably, it is 2.5 nm-3.5 nm.
<기능성층><Functional layer>
본 실시 형태에 따른 방현성 필름은, 백코트층, 반사 방지층 등의 기능성 층을 형성할 수 있다.The anti-glare film which concerns on this embodiment can form functional layers, such as a backcoat layer and an antireflection layer.
(백코트층)(Back coat layer)
본 실시 형태에 따른 방현성 필름은, 기재 필름의 방현층을 형성한 측과 반대측의 면에, 컬이나 방현성 필름을 권취 형상으로 보관했을 때의 달라붙음 방지를 위해, 백코트 층을 형성해도 된다.The anti-glare film which concerns on this embodiment may form a backcoat layer in the surface on the opposite side to the side where the anti-glare layer of the base film was formed in order to prevent sticking when the curl and the anti-glare film were stored in a wound shape. .
백코트층은, 상기 목적을 위해 미립자를 함유하는 것이 바람직하고, 미립자로는, 이산화규소, 이산화티타늄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 탄산칼슘, 탄산칼슘, 탈크, 클레이, 소성 카올린, 소성 규산칼슘, 산화주석, 산화인듐, 산화아연, ITO, 수화 규산칼슘, 규산알루미늄, 규산마그네슘 및 인산칼슘을 들 수 있다. 또한, 상기 미립자를 분산시킬 목적이나 후술하는 바인더를 용해하여 도포 조성물로 하기 위해서, 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 용제로는, 방현층에서 설명한 용제가 바람직하다. 백코트층에 포함되는 입자는, 바인더에 대하여 0.1 내지 50질량%가 바람직하다. 백코트층을 설치한 경우의 헤이즈의 증가는 1.5% 이하인 것이 바람직하고, 0.5% 이하다. 또한 바인더로서, 디아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스에스테르 수지를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable that a backcoat layer contains microparticles | fine-particles for the said objective, As microparticles | fine-particles, a silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, a zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, oxide Tin, indium oxide, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Moreover, in order to disperse | distribute the said fine particle and to melt | dissolve the binder mentioned later to make a coating composition, it is preferable to contain a solvent. As a solvent, the solvent demonstrated by the anti-glare layer is preferable. The content of the particles contained in the back coat layer is preferably from 0.1 to 50 mass% with respect to the binder. When the backcoat layer is provided, the increase in haze is preferably 1.5% or less and 0.5% or less. As the binder, it is preferable to use a cellulose ester resin such as diacetyl cellulose.
(반사 방지층)(Antireflection layer)
본 실시 형태의 방현성 필름은, 방현층 위에 직접 또는 다른 층을 개재하여 반사 방지층인 저굴절률층을 형성함으로써, 저굴절률층과 방현층의 밀착성이 우수하고, 또한 저굴절률층의 반점 얼룩의 발생을 양호하게 억제할 수 있어, 우수한 외관이 얻어지는 점에서, 방현성 반사 방지 필름에 본 발명의 방현성 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 저굴절률 층을 포함하여 이루어지는 반사 방지층은, 저굴절률층만의 단층 구성이어도 되지만, 다층이어도 된다. 구체적으로는, 지지체보다 굴절률이 높은 고굴절률층과, 지지체보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 조합하여 구성하거나 할 수 있다. 또한, 지지체측에서 굴절률이 상이한 3층을, 중굴절률층(지지체 또는 방현층보다 굴절률이 높고, 고굴절률층보다 굴절률이 낮은 층)/고굴절률층/저굴절률층의 순서대로 적층되어도 된다. 또한, 2층 이상의 고굴절률층과 2층 이상의 저굴절률층을 교대로 적층한 4층 이상의 층 구성의 반사 방지층도 바람직하게 사용된다. 반사 방지층의 바람직한 층 구성의 예를 하기에 나타내었다. 여기에서 /는 적층 배치되어 있는 것을 나타내고 있다.The anti-glare film of this embodiment forms the low-refractive-index layer which is an antireflection layer directly or over another layer on an anti-glare layer, and is excellent in the adhesiveness of a low-refractive-index layer and an anti-glare layer, and also generate | occur | produces spot unevenness of a low-refractive-index layer. It is preferable to use the anti-glare film of this invention for an anti-glare antireflection film from the point which can suppress favorably and the outstanding external appearance is obtained. The antireflection layer including the low refractive index layer may have a single layer configuration only of the low refractive index layer, or may be a multilayer. Specifically, it can be comprised combining the high refractive index layer which has a higher refractive index than a support body, and the low refractive index layer which has a lower refractive index than a support body. Further, three layers having different refractive indices on the support side may be laminated in the order of a medium refractive index layer (a layer having a higher refractive index than the support or the antiglare layer and having a lower refractive index than the high refractive index layer) / high refractive index layer / low refractive index layer. Moreover, the antireflection layer of the four or more layered constitution which laminated | stacked two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers alternately is also used preferably. Examples of preferred layer configurations of the antireflection layer are shown below. Here, / indicates that the layers are stacked.
기재 필름/방현층/저굴절률층Base film / antiglare layer / low refractive index layer
기재 필름/방현층/고굴절률층/저굴절률층Base Film / Antiglare Layer / High Refractive Index Layer / Low Refractive Index Layer
기재 필름/방현층/중굴절률층/고굴절률층/저굴절률층Base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer
오염이나 지문을 닦아내기 용이하도록, 최표면의 저굴절률층의 위에 방오층을 더 설치할 수도 있다. 방오층으로는, 불소 함유 유기 화합물이 바람직하게 사용된다.An antifouling layer may be further provided on the low refractive index layer of the outermost surface so as to easily wipe off dirt and fingerprints. As the antifouling layer, a fluorine-containing organic compound is preferably used.
광학 간섭에 의해 반사율을 저감할 수 있는 것이면, 특별히 이들 층 구성에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 층 구성에서는, 적절히 중간층을 형성해도 되고, 예를 들어 도전성 중합체 미립자(예를 들어 가교 양이온 미립자) 또는 금속 산화물 미립자(예를 들어, SnO2, ITO 등)를 포함하는 대전 방지층 등은 바람직하다.As long as reflectance can be reduced by optical interference, it is not specifically limited only to these layer structures. In the above layer structure, as appropriate it may be formed an intermediate layer, for example conductive polymer fine particles (for example, cross-linked cationic fine particles) or metal oxide fine particles antistatic layer, etc., including (for example, SnO 2, ITO, etc.) desirable.
<저굴절률층><Low Refractive Index Layer>
저굴절률층에서는, 기재 필름의 굴절률보다 낮은 층을 형성하고, 상기 굴절률은 23℃, 파장 550nm 측정에서, 굴절률이 1.30 내지 1.45의 범위인 것이 바람직하다.In the low refractive index layer, a layer lower than the refractive index of the base film is formed, and the refractive index is preferably in the range of 1.30 to 1.45 in the measurement of 23 ° C. and the wavelength of 550 nm.
또한, 저굴절률층의 막 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니나, 5nm 내지 0.5㎛인 것이 바람직하고, 10nm 내지 0.3㎛인 것이 더욱 바람직하고, 30nm 내지 0.2㎛인 것이 가장 바람직하다. 또한, 저굴절률층은, 중공 구상 실리카계 미립자를 사용하는 것이 굴절률 조정이나 기계 강도의 면에서 바람직하다.The film thickness of the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 5 nm to 0.5 µm, more preferably 10 nm to 0.3 µm, and most preferably 30 nm to 0.2 µm. In addition, it is preferable to use hollow spherical silica type microparticles | fine-particles for the low refractive index layer from a viewpoint of refractive index adjustment or mechanical strength.
(중공 구상 실리카계 미립자)(Hollow spherical silica-based fine particles)
중공 구상 미립자는, (I) 다공질 입자와 상기 다공질 입자 표면에 설치된 피복층을 포함하여 이루어지는 복합 입자, 또는 (II) 내부에 공동을 갖고, 또한 내용물이 용매, 기체 또는 다공질 물질로 충전된 공동 입자이다. 또한, 저굴절률층에는 (I) 복합 입자 또는 (II) 공동 입자 중 어느 하나가 포함되어 있으면 되고, 또한 양쪽이 포함되어 있어도 된다.The hollow spherical fine particles are composite particles comprising (I) porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) hollow particles having a cavity inside and filled with a solvent, a gas or a porous material. . In addition, either the (I) composite particle or the (II) cavity particle should just be included in the low refractive index layer, and both may be included.
또한, 공동 입자는 내부에 공동을 갖는 입자이며, 공동은 입자벽으로 둘러싸여 있다. 공동 내에는, 제조시에 사용한 용매, 기체 또는 다공질 물질 등의 내용물로 충전되어 있다. 이러한 중공 구상 미립자의 평균 입자 직경이 5 내지 300nm, 바람직하게는 10 내지 200nm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 사용되는 중공 구상 미립자는, 형성되는 투명 피막의 두께에 따라서 적절히 선택되며, 형성되는 저굴절률층 등의 투명 피막의 막 두께의 2/3 내지 1/10의 범위에 있는 것이 바람직하다. 이들 중공 구상 미립자는, 저굴절률층의 형성을 위해, 적당한 매체에 분산된 상태로 사용하는 것이 바람직하다. 분산매로는, 물, 알코올(예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올) 및 케톤(예를 들어, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤), 케톤 알코올(예를 들어 디아세톤 알코올)이 바람직하다.Also, the cavity is a particle having a cavity therein, and the cavity is surrounded by the particle wall. The cavity is filled with the contents such as a solvent, a gas or a porous material used in the production. It is preferable that the average particle diameter of such hollow spherical microparticles | fine-particles exists in the range of 5-300 nm, Preferably it is 10-200 nm. The hollow spherical microparticles | fine-particles used are suitably selected according to the thickness of the transparent film formed, and it is preferable to exist in the range of 2/3-1/10 of the film thickness of transparent films, such as the low refractive index layer formed. It is preferable to use these hollow spherical fine particles in the state disperse | distributed to a suitable medium for formation of a low refractive index layer. As a dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), ketone alcohol (for example diacetone alcohol) are preferable. .
복합 입자의 피복층의 두께 또는 공동 입자의 입자벽의 두께는, 1 내지 20nm, 바람직하게는 2 내지 15nm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 복합 입자의 경우, 피복층의 두께가 1nm 미만인 경우에는, 입자를 완전히 피복할 수 없는 경우가 있고, 후술하는 도포액 성분인 중합도가 낮은 규산 단량체, 올리고머 등이 용이하게 복합 입자의 내부에 진입하여 내부의 다공성이 감소하여, 저굴절률의 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있다. 또한, 피복층의 두께가 20nm를 초과하면, 상기 규산 단량체, 올리고머가 내부에 진입하지는 않지만, 복합 입자의 다공성(세공 용적)이 저하되어 저굴절률의 효과를 충분히 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 또한 공동 입자의 경우, 입자벽의 두께가 1nm 미만인 경우에는, 입자 형상을 유지할 수 없는 경우가 있고, 또한 두께가 20nm를 초과해도, 저굴절률의 효과가 충분히 나타나지 않는 경우가 있다.The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle wall of the cavity particles is preferably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of the composite particles, when the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and silicic acid monomers, oligomers, and the like having a low polymerization degree, which are the coating liquid components described later, easily enter the interior of the composite particles. Porosity decreases, and the effect of low refractive index may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomers and oligomers do not enter the interior, but the porosity (pore volume) of the composite particles may be lowered, whereby the effect of low refractive index may not be sufficiently obtained. In the case of the cavity particles, when the thickness of the particle wall is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of the low refractive index may not be sufficiently exhibited.
복합 입자의 피복층 또는 공동 입자의 입자벽은, 실리카를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 실리카 이외의 성분이 포함되어 있어도 되고, 구체적으로는, Al2O3, B2O3, TiO2, ZrO2, SnO2, CeO2, P2O3, Sb2O3, MoO3, ZnO2, WO3 등을 들 수 있다. 복합 입자를 구성하는 다공질 입자로는, 실리카를 포함하여 이루어지는 것, 실리카와 실리카 이외의 무기 화합물을 포함하여 이루어지는 것, CaF2, NaF, NaAlF6, MgF 등을 포함하여 이루어지는 것을 들 수 있다. 이 중 특히 실리카와 실리카 이외의 무기 화합물의 복합 산화물을 포함하여 이루어지는 다공질 입자가 적합하다. 실리카 이외의 무기 화합물로는, Al2O3, B2O3, TiO2, ZrO2, SnO2, CeO2, P2O3, Sb2O3, MoO3, ZnO2, WO3 등과의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 이러한 다공질 입자에서는, 실리카를 SiO2로 나타내고, 실리카 이외의 무기 화합물을 산화물 환산(MOX)으로 나타냈을 때의 몰비(MOX/SiO2)가, 0.0001 내지 1.0, 바람직하게는 0.001 내지 0.3의 범위에 있는 것이 바람직하다. 다공질 입자의 몰비(MOX/SiO2)가 0.0001 미만인 것은 얻기가 곤란하고, 얻어져도 세공 용적이 작아, 굴절률이 낮은 입자를 얻을 수 없다. 또한, 다공질 입자의 몰비(MOX/SiO2)가 1.0을 초과하면, 실리카의 비율이 적어지므로, 세공 용적이 커지고, 또한 굴절률이 낮은 것을 얻기가 어려운 경우가 있다. 이러한 다공질 입자의 세공 용적은, 0.1 내지 1.5ml/g, 바람직하게는 0.2 내지 1.5ml/g의 범위인 것이 바람직하다. 세공 용적이 0.1ml/g 미만에서는, 충분히 굴절률이 저하된 입자를 얻을 수 없고, 1.5ml/g을 초과하면 미립자의 강도가 저하되어, 얻어지는 피막의 강도가 저하되는 경우가 있다. 또한, 이러한 다공질 입자의 세공 용적은 수은 압입법에 의해 구할 수 있다. 이러한 중공 구상 미립자는, 이하의 제1 내지 제3 공정으로부터 제조할 수 있다.The coating layer of the composite particle or the particle wall of the cavity particle preferably contains silica as a main component. In addition, it is optionally contain a component other than silica, and specifically, Al 2 O 3, B 2
제1 공정: 다공질 입자 전구체의 제조First Step: Production of Porous Particle Precursor
제1 공정에서는, 미리, 실리카 원료와 실리카 이외의 무기 화합물 원료의 알칼리 수용액을 개별로 제조하거나, 또는, 실리카 원료와 실리카 이외의 무기 화합물 원료의 혼합 수용액을 제조해 두고, 이 수용액을 목적으로 하는 복합 산화물의 복합 비율에 따라, pH10 이상의 알칼리 수용액 내에 교반하면서 서서히 첨가하여 다공질 입자 전구체를 제조한다.In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is produced separately, or a mixed aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is prepared, and the aqueous solution is Depending on the complex ratio of the complex oxides, the porous particle precursor is prepared by slowly adding the solution into an aqueous alkali solution having a pH of 10 or more.
실리카 원료로는, 알칼리 금속, 암모늄 또는 유기 염기의 규산염을 사용한다. 알칼리 금속의 규산염으로는, 규산나트륨(물유리)이나 규산칼륨이 사용된다. 유기 염기로는, 테트라에틸암모늄염 등의 제4급 암모늄염, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 아민류를 들 수 있다. 또한, 암모늄의 규산염 또는 유기 염기의 규산염에는, 규산액에 암모니아, 제4급 암모늄 수산화물, 아민 화합물 등을 첨가한 알칼리성 용액도 포함된다.As a silica raw material, the silicate of an alkali metal, ammonium, or an organic base is used. As silicate of an alkali metal, sodium silicate (water glass) and potassium silicate are used. Examples of the organic base include amines such as quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The silicate of ammonium or the silicate of the organic base also includes an alkaline solution to which ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like is added to the silicate solution.
또한, 실리카 이외의 무기 화합물의 원료로는, 알칼리 가용의 무기 화합물이 사용된다. 구체적으로는, Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W 등에서 선택되는 원소의 옥소산, 상기 옥소산의 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염, 암모늄염, 제4급 암모늄염을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 알루민산 나트륨, 4붕산 나트륨, 탄산 지르코닐 암모늄, 안티몬산 칼륨, 주석산 칼륨, 알루미노규산 나트륨, 몰리브덴산 나트륨, 질산 세륨 암모늄, 인산 나트륨이 적당하다.In addition, as a raw material of inorganic compounds other than silica, an alkali-soluble inorganic compound is used. Specifically, oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., alkali metal salt or alkaline earth metal salt of ammonium salt, ammonium salt, quaternary ammonium salt Can be mentioned. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, ammonium zirconyl carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, ammonium cerium nitrate, and sodium phosphate are suitable.
이들 수용액의 첨가와 동시에 혼합 수용액의 pH값은 변화하는데, 이 pH값을 소정의 범위로 제어하는 조작은 특별히 필요하지 않다. 수용액은, 최종적으로, 무기 산화물의 종류 및 그 혼합 비율에 따라 정해지는 pH값이 된다. 이때의 수용액의 첨가 속도에는 특별히 제한은 없다. 또한, 복합 산화물 입자의 제조시에, 시드 입자의 분산액을 출발 원료로 사용하는 것도 가능하다. 당해 시드 입자로는, 특별히 제한은 없지만, SiO2, Al2O3, TiO2 또는 ZrO2 등의 무기 산화물 또는 이것들의 복합 산화물의 미립자가 사용되고, 통상, 이것들의 졸을 사용할 수 있다. 또한 상기한 제조 방법에 의해 얻어진 다공질 입자 전구체 분산액을 시드 입자 분산액으로 해도 된다. 시드 입자 분산액을 사용하는 경우, 시드 입자 분산액의 pH를 10 이상으로 조정한 후, 상기 시드 입자 분산액 내에 상기 화합물의 수용액을, 상기한 알칼리 수용액 내에 교반하면서 첨가한다. 이 경우도, 반드시 분산액의 pH 제어를 행할 필요는 없다. 이와 같이 하여 시드 입자를 사용하면, 제조하는 다공질 입자의 입경 컨트롤이 용이해서, 입도가 정렬된 것을 얻을 수 있다.Simultaneously with the addition of these aqueous solutions, the pH value of the mixed aqueous solution changes, but an operation for controlling the pH value in a predetermined range is not particularly necessary. The aqueous solution finally becomes a pH value determined according to the kind of inorganic oxide and its mixing ratio. The rate of addition of the aqueous solution at this time is not particularly limited. It is also possible to use a dispersion of seed particles as a starting material in the production of the composite oxide particles. In the art seed particles is not particularly limited, but, SiO 2, Al 2 O 3 ,
상기한 실리카 원료 및 무기 화합물 원료는 알칼리측에서 높은 용해도를 갖는다. 그러나, 이 용해도가 큰 pH 영역에서 양자를 혼합하면, 규산 이온 및 알루민산 이온 등의 옥소산 이온의 용해도가 저하되어, 이것들의 복합물이 석출되서 미립자로 성장하거나, 또는, 시드 입자 위에 석출되어 입자 성장이 일어난다. 따라서, 미립자의 석출, 성장시에, 종래 법과 같은 pH 제어는 반드시 행할 필요는 없다.The above-mentioned silica raw material and inorganic compound raw material have a high solubility on the alkali side. However, when the both are mixed in the pH range where the solubility is large, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these complexes precipitate and grow into fine particles, or precipitate on seed particles. Growth takes place. Therefore, at the time of precipitation and growth of fine particles, the pH control like the conventional method is not necessarily performed.
제1 공정에서의 실리카와 실리카 이외의 무기 화합물의 복합 비율은, 실리카에 대한 무기 화합물을 산화물(MOX)로 환산하여, MOX/SiO2의 몰비가 0.05 내지 2.0, 바람직하게는 0.2 내지 2.0의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 이 범위 내에서, 실리카의 비율이 적어질수록, 다공질 입자의 세공 용적이 증대한다. 그러나, 몰비가 2.0을 초과해도, 다공질 입자의 세공 용적은 거의 증가하지 않는다. 한편, 몰비가 0.05 미만인 경우에는, 세공 용적이 작아진다. 공동 입자를 제조하는 경우, MOX/SiO2의 몰비는, 0.25 내지 2.0의 범위 내에 있는 것이 바람직하다.In the composite ratio of silica and inorganic compounds other than silica in the first step, the inorganic compound to silica is converted into an oxide (MOX), and the molar ratio of MOX / SiO 2 is in the range of 0.05 to 2.0, preferably 0.2 to 2.0. It is desirable to stay within. Within this range, the smaller the proportion of silica, the larger the pore volume of the porous particles. However, even if the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When manufacturing a Co particle, the mole ratio of MOX / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.
제2 공정: 다공질 입자로부터의 실리카 이외의 무기 화합물의 제거Step 2: Removal of inorganic compounds other than silica from porous particles
제2 공정에서는, 상기 제1 공정에서 얻어진 다공질 입자 전구체로부터, 실리카 이외의 무기 화합물(규소와 산소 이외의 원소)의 적어도 일부를 선택적으로 제거한다. 구체적인 제거 방법으로는, 다공질 입자 전구체 중의 무기 화합물을 무기산이나 유기산을 사용해서 용해 제거하거나, 또는, 양이온 교환 수지와 접촉시켜서 이온 교환 제거한다.In the second step, at least a part of inorganic compounds (elements other than silicon and oxygen) other than silica are selectively removed from the porous particle precursor obtained in the first step. As a specific removal method, the inorganic compound in a porous particle precursor is dissolved and removed using an inorganic acid or an organic acid, or it is ion-exchange-removed by contacting with a cation exchange resin.
또한, 제1 공정에서 얻어지는 다공질 입자 전구체는, 규소와 무기 화합물 구성 원소가 산소를 개재하여 결합한 그물눈 구조의 입자이다. 이렇게 다공질 입자 전구체로부터 무기 화합물(규소와 산소 이외의 원소)을 제거함으로써, 한층 다공질이고 세공 용적이 큰 다공질 입자가 얻어진다. 또한, 다공질 입자 전구체로부터 무기 산화물(규소와 산소 이외의 원소)을 제거하는 양을 많게 하면, 공동 입자를 제조할 수 있다.In addition, the porous particle precursor obtained by a 1st process is the particle | grains of the mesh structure which the silicon and the inorganic compound structural element couple | bonded through oxygen. Thus, by removing an inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from a porous particle precursor, the porous particle which is further porous and has a large pore volume is obtained. Further, if the amount of the inorganic oxide (element other than silicon and oxygen) removed from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be produced.
또한, 다공질 입자 전구체로부터 실리카 이외의 무기 화합물을 제거함에 앞서, 제1 공정에서 얻어지는 다공질 입자 전구체 분산액에, 실리카의 알칼리 금속염을 탈알칼리하여 얻어지는, 불소 치환 알킬기 함유 실란 화합물을 함유하는 규산액 또는 가수분해성의 유기 규소 화합물을 첨가하여 실리카 보호막을 형성하는 것이 바람직하다. 실리카 보호막의 두께는 0.5 내지 15nm의 두께이면 된다. 또한 실리카 보호막을 형성해도, 이 공정에서의 보호막은 다공질이며 두께가 얇으므로, 상기한 실리카 이외의 무기 화합물을, 다공질 입자 전구체로부터 제거하는 것은 가능하다.In addition, a silicic acid solution or a valence containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound obtained by de-alkali alkali metal salt of silica in the porous particle precursor dispersion liquid obtained in the first step before removing the inorganic compound other than silica from the porous particle precursor. It is preferable to form a silica protective film by adding a decomposable organosilicon compound. The thickness of a silica protective film should just be 0.5-15 nm in thickness. Even if a silica protective film is formed, since the protective film in this step is porous and thin, it is possible to remove inorganic compounds other than the silica from the porous particle precursor.
이러한 실리카 보호막을 형성함으로써, 입자 형상을 유지한 채, 상기한 실리카 이외의 무기 화합물을 다공질 입자 전구체로부터 제거할 수 있다. 또한, 후술하는 실리카 피복층을 형성할 때에, 다공질 입자의 세공이 피복층에 의해 폐색되어버리는 일이 없으며, 이 때문에 세공 용적을 저하시키지 않고 후술하는 실리카 피복층을 형성할 수 있다. 또한, 제거하는 무기 화합물의 양이 적은 경우에는 입자가 깨지는 경우가 없으므로 반드시 보호막을 형성할 필요는 없다.By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than said silica can be removed from a porous particle precursor, maintaining particle shape. In addition, when forming the silica coating layer mentioned later, the pore of a porous particle does not block | block by a coating layer, For this reason, a silica coating layer mentioned later can be formed without reducing pore volume. When the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, so it is not necessary to form a protective film.
또한, 공동 입자를 제조하는 경우에는, 이 실리카 보호막을 형성해 두는 것이 바람직하다. 공동 입자를 제조할 때에는, 무기 화합물을 제거하면, 실리카 보호막과, 상기 실리카 보호막 내의 용매, 미 용해의 다공질 고형분을 포함하여 이루어지는 공동 입자의 전구체가 얻어지고, 상기 공동 입자의 전구체에 후술하는 피복층을 형성하면, 형성된 피복층이, 입자벽이 되어 공동 입자가 형성된다.Further, in the case of producing the hollow particles, it is preferable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a precursor of the hollow particles comprising a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid, and a coating layer described later in the precursor of the hollow particles. When formed, the formed coating layer becomes a particle wall, and hollow particles are formed.
상기 실리카 보호막 형성을 위해 첨가하는 실리카원의 양은, 입자 형상을 유지할 수 있는 범위에서 적은 것이 바람직하다. 실리카원의 양이 너무 많으면, 실리카 보호막이 너무 두꺼워지므로, 다공질 입자 전구체로부터 실리카 이외의 무기 화합물을 제거하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 실리카 보호막 형성용에 사용되는 가수분해성의 유기 규소 화합물로는, 화학식 RnSi(OR')4-n〔R, R': 알킬기, 아릴기, 비닐기, 아크릴기 등의 탄화수소기, n=0, 1, 2 또는 3〕으로 표현되는 알콕시실란을 사용할 수 있다. 특히, 불소 치환한 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라이소프로폭시실란 등의 테트라알콕시 실란이 바람직하게 사용된다.The amount of the silica source to be added for forming the silica protective film is preferably as small as possible within the range of maintaining the shape of the particles. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, so it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. Examples of the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film include a chemical formula RnSi (OR ') 4-n [R, R': a hydrocarbon group such as an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, an acryl group, n = 0, 1, 2 or 3] can be used. In particular, tetraalkoxy silanes, such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane, are used preferably.
첨가 방법으로는, 이들의 알콕시실란, 순수 및 알코올의 혼합 용액에 촉매로서의 소량의 알칼리 또는 산을 첨가한 용액을, 상기 다공질 입자의 분산액 외에, 알콕시실란을 가수분해하여 생성한 규산 중합물을 무기 산화물 입자의 표면에 침착시킨다. 이때, 알콕시실란, 알코올, 촉매를 동시에 분산액 내에 첨가해도 된다. 알칼리 촉매로는, 암모니아, 알칼리 금속의 수산화물, 아민류를 사용할 수 있다. 또한, 산 촉매로는, 각종 무기산과 유기산을 사용할 수 있다.As the addition method, an inorganic oxide is obtained by adding a solution in which a small amount of alkali or acid as a catalyst is added to a mixed solution of these alkoxysilanes, pure water and alcohols, in addition to the dispersion liquid of the porous particles, to produce a silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilanes. Deposit on the surface of the particles. At this time, you may add an alkoxysilane, alcohol, and a catalyst in a dispersion liquid simultaneously. As the alkali catalyst, ammonia, hydroxides of alkali metals, and amines can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
다공질 입자 전구체의 분산매가, 물 단독, 또는 유기 용매에 대한 물의 비율이 높은 경우에는, 규산액을 사용하여 실리카 보호막을 형성하는 것도 가능하다. 규산액을 사용하는 경우에는, 분산액 내에 규산액을 소정량 첨가하고, 동시에 알칼리를 첨가하여 규산액을 다공질 입자 표면에 침착시킨다. 또한, 규산액과 상기 알콕시실란을 병용하여 실리카 보호막을 제작해도 된다.When the dispersion medium of the porous particle precursor is high in water alone or in a ratio of water to an organic solvent, it is also possible to form a silica protective film using a silicic acid solution. In the case of using a silicic acid solution, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and an alkali is added at the same time to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, a silica protective film may be produced by using a silicate liquid and the alkoxysilane in combination.
제3 공정: 실리카 피복층의 형성Step 3: Formation of a silica coating layer
제3 공정에서는, 제2 공정에서 제조한 다공질 입자 분산액(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체 분산액)에, 불소 치환 알킬기 함유 실란 화합물을 함유하는 가수분해성의 유기 규소 화합물 또는 규산액 등을 가함으로써, 입자의 표면을 가수분해성 유기 규소 화합물 또는 규산액 등의 중합물로 피복하여 실리카 피복층을 형성한다.In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is added to the porous particle dispersion (co-particle precursor dispersion in the case of the co-particles) prepared in the second step, The surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or a silicic acid solution to form a silica coating layer.
실리카 피복층 형성용에 사용되는 가수분해성의 유기 규소 화합물로는, 상기한 바와 같은 화학식 RnSi(OR')4-n〔R, R': 알킬기, 아릴기, 비닐기, 아크릴기 등의 탄화수소기, n=0, 1, 2 또는 3〕으로 표현되는 알콕시실란을 사용할 수 있다. 특히, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라이소프로폭시실란 등의 테트라알콕시실란이 바람직하게 사용된다.Examples of the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica coating layer include hydrocarbon groups such as the above-described formula RnSi (OR ') 4-n [R, R': alkyl group, aryl group, vinyl group, acrylic group, alkoxysilane represented by n = 0, 1, 2 or 3] can be used. Particularly, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and tetraisopropoxysilane are preferably used.
첨가 방법으로는, 이들의 알콕시실란, 순수 및 알코올의 혼합 용액에 촉매로서의 소량의 알칼리 또는 산을 첨가한 용액을, 상기 다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체) 분산액 외에, 알콕시실란을 가수분해하여 생성한 규산 중합물을 다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체)의 표면에 침착시킨다. 이때, 알콕시실란, 알코올, 촉매를 동시에 분산액 내에 첨가해도 된다. 알칼리 촉매로는, 암모니아, 알칼리 금속의 수산화물, 아민류를 사용할 수 있다. 또한, 산 촉매로는, 각종 무기산과 유기산을 사용할 수 있다.As the addition method, a solution in which a small amount of alkali or acid as a catalyst is added to a mixed solution of these alkoxysilanes, pure water and alcohol is added to the alkoxysilane in addition to the dispersion of the porous particles (co-particle precursor in the case of co-particles). The silicic acid polymer produced by decomposition is deposited on the surface of the porous particles (cavity precursor in the case of hollow particles). At this time, you may add an alkoxysilane, alcohol, and a catalyst in a dispersion liquid simultaneously. As the alkali catalyst, ammonia, hydroxides of alkali metals, and amines can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.
다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체)의 분산매가 물 단독, 또는 유기 용매와의 혼합 용매이며, 유기 용매에 대한 물의 비율이 높은 혼합 용매의 경우에는, 규산액을 사용하여 피복층을 형성해도 된다. 규산액이란, 물유리 등의 알칼리 금속 규산염의 수용액을 이온 교환 처리하여 탈알칼리한 규산의 저중합물의 수용액이다.The dispersion medium of the porous particles (co-particle precursor in the case of co-particles) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent, and in the case of a mixed solvent having a high ratio of water to the organic solvent, a coating layer may be formed using a silicic acid solution. do. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low-polymerized silicic acid solution obtained by ion-exchanging an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass.
규산액은, 다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체) 분산액 내에 첨가되고, 동시에 알칼리를 첨가하여 규산 저중합물을 다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체) 표면에 침착시킨다. 또한, 규산액을 상기 알콕시실란과 병용하여 피복층 형성용에 사용해도 된다. 피복층 형성용에 사용되는 유기 규소 화합물 또는 규산액의 첨가량은, 콜로이드 입자의 표면을 충분히 피복할 수 있는 정도이면 되고, 최종적으로 얻어지는 실리카 피복층의 두께가 1 내지 20nm가 되는 양으로, 다공질 입자(공동 입자의 경우에는 공동 입자 전구체) 분산액 내에서 첨가된다. 또한 상기 실리카 보호막을 형성한 경우에는 실리카 보호막과 실리카 피복층의 합계 두께가 1 내지 20nm의 범위가 되는 양으로, 유기 규소 화합물 또는 규산액이 첨가된다.The silicic acid solution is added to the porous particle (co-particle precursor in the case of co-particles) dispersion and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid low-polymers on the surface of the porous particles (co-particle precursor in the case of co-particles). In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer may be such that the surface of the colloidal particles can be sufficiently covered, and the amount of the finally-coated silica coating layer becomes 1 to 20 nm. In the case of particles are added in a co-particle precursor) dispersion. In addition, when the said silica protective film is formed, an organosilicon compound or a silicic acid solution is added in the quantity in which the sum total thickness of a silica protective film and a silica coating layer becomes 1-20 nm.
계속해서, 피복층이 형성된 입자의 분산액을 가열 처리한다. 가열 처리에 의해, 다공질 입자의 경우에는, 다공질 입자 표면을 피복한 실리카 피복층이 치밀화되어, 다공질 입자가 실리카 피복층에 의해 피복된 복합 입자의 분산액이 얻어진다. 또한 공동 입자 전구체의 경우, 형성된 피복층이 치밀화되어 공동 입자벽으로 되고, 내부가 용매, 기체 또는 다공질 고형분으로 충전된 공동을 갖는 공동 입자의 분산액이 얻어진다.Subsequently, the dispersion of the particles in which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer which coats the porous particle surface is densified, and the dispersion liquid of the composite particle by which the porous particle was coat | covered with the silica coating layer is obtained. Further, in the case of the cavity particle precursor, the formed coating layer is densified to become the cavity particle wall, whereby a dispersion of the cavity particles having a cavity filled with a solvent, a gas or a porous solid is obtained.
이때의 가열 처리 온도는, 실리카 피복층의 미세 구멍을 폐색할 수 있을 정도이면 특별히 제한은 없고, 80 내지 300℃의 범위가 바람직하다. 가열 처리 온도가 80℃ 미만에서는 실리카 피복층의 미세 구멍을 완전히 폐색해서 치밀화할 수 없는 경우가 있고, 또한 처리 시간에 장시간이 걸리게 되는 경우가 있다. 또한 가열 처리 온도가 300℃를 초과해서 장시간 처리하면 치밀한 입자로 되는 경우가 있어, 저굴절률의 효과를 얻을 수 없는 경우가 있다.There is no restriction | limiting in particular if the heat processing temperature at this time is a grade which can close the micropore of a silica coating layer, The range of 80-300 degreeC is preferable. If the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may be completely blocked and may not be densified, and the treatment time may take a long time. Moreover, when heat processing temperature exceeds 300 degreeC and processing for a long time, it may become a dense particle and the effect of a low refractive index may not be acquired.
이와 같이 하여 얻어진 무기 미립자의 굴절률은, 1.42 미만으로 낮다. 이러한 무기 미립자는, 다공질 입자 내부의 다공성이 유지되어 있거나, 내부가 공동이기 때문에, 굴절률이 낮아지는 것으로 추정된다. 또한, 시판되는 상기 SiO2 미립자를 사용할 수 있다. 시판되고 있는 입자의 구체예로는, 쇼쿠바이 가세 고교사 제조 P-4 등을 들 수 있다.The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is low, lower than 1.42. Such inorganic fine particles are estimated to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is a cavity. In addition, commercially available SiO 2 fine particles can be used. As a specific example of the particle | grains marketed, P-4 by Shokubai Kasei Kogyo Co., etc. are mentioned.
외각층을 갖고, 내부가 다공질 또는 공동인 중공 구상 실리카계 미립자의 저굴절률층 도포액 내의 함량(질량)은 10 내지 80질량%가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20 내지 60질량%이다.10-80 mass% is preferable, and, as for content (mass) in the low refractive index layer coating liquid of the hollow spherical silica-type microparticles | fine-particles which has an outer layer and is porous or hollow inside, More preferably, it is 20-60 mass%.
(테트라알콕시실란 화합물 또는 그 가수분해물)(The tetraalkoxysilane compound or its hydrolyzate)
저굴절률층에는, 졸겔 소재로서 테트라알콕시실란 화합물 또는 그 가수분해물이 함유되는 것이 바람직하다. 저굴절률층용의 소재로서, 상기 무기 규소 산화물 이외에 유기기를 갖는 규소 산화물을 사용하는 것도 바람직하다. 이것들은 일반적으로 졸겔 소재라고 불리는데, 금속 알콜레이트, 오르가노알콕시 금속 화합물 및 그 가수분해물을 사용할 수 있다. 특히, 알콕시실란, 오르가노알콕시실란 및 그 가수분해물이 바람직하다. 이것들의 예로는, 테트라알콕시실란(테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 등), 알킬트리알콕시실란(메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란 등), 아릴트리알콕시실란(페닐트리메톡시실란 등), 디알킬디알콕시실란, 디아릴디알콕시실란 등을 들 수 있다. 특히 테트라알콕시실란 및 그 가수분해물이 바람직하다.It is preferable that the low refractive index layer contains a tetraalkoxysilane compound or its hydrolyzate as a sol-gel raw material. As a raw material for a low refractive index layer, it is also preferable to use the silicon oxide which has organic group other than the said inorganic silicon oxide. These are generally called sol-gel materials, and metal alcoholates, organoalkoxy metal compounds and hydrolyzates thereof can be used. In particular, an alkoxysilane, an organoalkoxysilane, and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilanes (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilanes (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilanes (phenyltrimethoxysilane Etc.), a dialkyl dialkoxysilane, a diaryl dialkoxysilane, etc. are mentioned. In particular, tetraalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable.
또한, 각종 관능기를 갖는 오르가노알콕시실란(비닐 트리알콕시실란, 메틸비닐디알콕시실란, γ-글리시딜옥시프로필 트리알콕시실란, γ-글리시딜옥시프로필메틸 디알콕시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸 트리알콕시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필 트리알콕시실란, γ-아미노프로필 트리알콕시실란, γ-머캅토프로필 트리알콕시실란, γ-클로로프로필 트리알콕시실란 등), 퍼플루오로알킬기 함유 실란 화합물(예를 들어, (헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라데실)트리에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필 트리메톡시실란 등)을 사용하는 것도 바람직하다. 특히 불소 함유의 실란 화합물을 사용하는 것은, 층의 저굴절률화 및 발수·발유성 부여의 점에서 바람직하다.Furthermore, organoalkoxysilane (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, (gamma)-glycidyloxypropyl trialkoxysilane, (gamma)-glycidyloxypropyl methyl dialkoxysilane which has various functional groups, (beta)-(3, 4-epoxycyclohexyl) ethyl trialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyl trialkoxysilane, γ-aminopropyl trialkoxysilane, γ-mercaptopropyl trialkoxysilane, γ-chloropropyl trialkoxysilane, etc.), Perfluoroalkyl group-containing silane compounds (eg, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyl trimethoxysilane, etc.) It is also preferable to use. It is particularly preferable to use a fluorine-containing silane compound from the viewpoint of lowering the refractive index of the layer and imparting water / oil repellency.
상기 테트라알콕시실란을 가수분해할 때에는, 상기 무기 미립자를 혼합하는 것이 막 강도를 높이는 데 있어서 바람직하다. 저굴절률층은, 상기 규소 산화물과 하기 실란 커플링제를 포함하는 것이 바람직하다.When hydrolyzing the said tetraalkoxysilane, it is preferable to mix the said inorganic fine particle in order to raise a film strength. It is preferable that a low refractive index layer contains the said silicon oxide and the following silane coupling agents.
구체적인 실란 커플링제의 예로는, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시에톡시실란, 메틸트리아세톡시실란, 메틸트리부톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐 트리에톡시실란, 페닐 트리아세톡시실란, γ-클로로프로필 트리메톡시실란, γ-클로로프로필 트리에톡시실란, γ-클로로프로필 트리아세톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필 트리메톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필 트리메톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필 트리에톡시실란, γ-(β-글리시딜옥시에톡시)프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란, γ-아미노프로필 트리메톡시실란, γ-아미노프로필 트리에톡시실란, γ-머캅토프로필 트리메톡시실란, γ-머캅토프로필 트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란 및 β-시아노에틸 트리에톡시실란을 들 수 있다.Examples of specific silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxy Silane, vinyl trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyl trimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyl triethoxysilane, phenyl triacetoxysilane, γ-chloropropyl Trimethoxysilane, γ-chloropropyl triethoxysilane, γ-chloropropyl triacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyl trimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyl trimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyl triethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyl jade Propyl trimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyl trimethoxysilane, γ-aminopropyl trimethoxysilane, γ-aminopropyl triethoxysilane, γ-mercaptopropyl trimethoxysilane, γ-mer And captopropyl triethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyl trimethoxysilane and β-cyanoethyl triethoxysilane.
또한, 규소에 대하여 2치환된 알킬기를 갖는 실란 커플링제의 예로서, 디메틸 디메톡시실란, 페닐메틸 디메톡시실란, 디메틸 디에톡시실란, 페닐메틸 디에톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필메틸 디에톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필페닐 디에톡시실란, γ-클로로프로필메틸 디에톡시실란, 디메틸 디아세톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란, γ-머캅토프로필 메틸디메톡시실란, γ-머캅토프로필 메틸디에톡시실란, γ-아미노프로필 메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필 메틸디에톡시실란, 메틸비닐디메톡시실란 및 메틸비닐디에톡시실란을 들 수 있다.Moreover, as an example of the silane coupling agent which has a bisubstituted alkyl group with respect to silicon, dimethyl dimethoxysilane, phenylmethyl dimethoxysilane, dimethyl diethoxysilane, phenylmethyl diethoxysilane, (gamma)-glycidyloxypropylmethyl diethoxy Silane, γ-glycidyloxypropylmethyl dimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyl diethoxysilane, γ-chloropropylmethyl diethoxysilane, dimethyl diacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl dimethoxy Oxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl diethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyl dimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyl diethoxysilane, γ-mercaptopropyl methyldimethoxysilane , γ-mercaptopropyl methyldiethoxysilane, γ-aminopropyl methyldimethoxysilane, γ-aminopropyl methyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane.
이들 중, 분자 내에 이중 결합을 갖는 비닐 트리메톡시실란, 비닐 트리에톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시에톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 및 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란, 규소에 대하여 2치환된 알킬기를 갖는 것으로서 γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란, 메틸비닐디메톡시실란 및 메틸비닐디에톡시실란이 바람직하고, γ-아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 및 γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디메톡시실란 및 γ-메타크릴로일옥시프로필메틸 디에톡시실란이 특히 바람직하다.Among them, vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyl trimethoxysilane and γ-meta having a double bond in the molecule Cryloyloxypropyl trimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl dimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl diethoxysilane, γ-methacryloyl as having a disubstituted alkyl group for silicon Preferred are oxypropylmethyl dimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyl diethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane, and γ-acryloyloxypropyl trimethoxysilane and γ-meta Cryloyloxypropyl trimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl dimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyl diethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyl dimethoxysilane And γ-methacryloyloxypropylmethyl diethoxysilane are particularly preferred.
실란 커플링제의 구체예로는, 신에쯔 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조 KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBM-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-603, KBE-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-802, KBM-803 등을 들 수 있다.As a specific example of a silane coupling agent, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-303, KBM-403, KBM-402, KBM-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502 , KBE-503, KBM-603, KBE-603, KBM-903, KBE-903, KBE-9103, KBM-802, KBM-803 and the like.
2종류 이상의 커플링제를 병용해도 된다. 상기에 나타나는 실란 커플링제 외에, 다른 실란 커플링제를 사용해도 된다. 다른 실란 커플링제에는, 오르토 규산의 알킬에스테르(예를 들어, 오르토 규산메틸, 오르토 규산에틸, 오르토 규산 n-프로필, 오르토 규산 i-프로필, 오르토 규산 n-부틸, 오르토 규산 sec-부틸, 오르토 규산 t-부틸) 및 그 가수분해물을 들 수 있다.Two or more kinds of coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agent shown above, you may use another silane coupling agent. Other silane coupling agents include alkyl esters of ortho silicate (for example, methyl ortho silicate, ortho silicate silica, ortho silicate n-propyl, ortho silicate i-propyl, ortho silicate n-butyl, ortho silicate sec-butyl, ortho silicate) t-butyl) and its hydrolyzate.
또한 저굴절률층은, 5 내지 50질량%의 양의 중합체를 포함할 수도 있다. 중합체는, 미립자를 접착하여, 공극을 포함하는 저굴절률층의 구조를 유지하는 기능을 갖는다. 중합체의 사용량은, 공극을 충전하지 않고 저굴절률층의 강도를 유지할 수 있도록 조정한다. 중합체의 양은, 저굴절률층의 전량의 10 내지 30질량%인 것이 바람직하다. 중합체로 미립자를 접착하기 위해서는, (1) 미립자의 표면 처리제에 중합체를 결합시키거나, (2) 미립자를 코어로 해서, 그 주위에 중합체 쉘을 형성하거나, 또는 (3) 미립자간의 바인더로서 중합체를 사용하는 것이 바람직하다. (1)의 표면 처리제에 결합시키는 중합체는, (2)의 쉘 중합체 또는 (3)의 바인더 중합체인 것이 바람직하다. (2)의 중합체는, 저굴절률층의 도포액의 제조 전에, 미립자의 주위에 중합 반응에 의해 형성하는 것이 바람직하다. (3)의 중합체는, 저굴절률층의 도포액에 단량체를 첨가하여, 저굴절률층의 도포와 동시 또는 도포 후에, 중합 반응에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 (1) 내지 (3) 중 2개 또는 모두를 조합하여 실시하는 것이 바람직하고, (1)과 (3)의 조합, 또는 (1) 내지 (3) 모두의 조합으로 실시하는 것이 특히 바람직하다. (1) 표면 처리, (2) 쉘 및 (3) 바인더에 대하여 순차 설명한다.Moreover, the low refractive index layer may contain the polymer of the quantity of 5-50 mass%. The polymer has a function of adhering the fine particles to maintain the structure of the low refractive index layer containing voids. The amount of the polymer used is adjusted to maintain the strength of the low refractive index layer without filling the voids. It is preferable that the quantity of a polymer is 10-30 mass% of the whole quantity of a low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bound to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, a polymer shell is formed around the surface, or (3) the binder is used as a binder between the fine particles. It is preferable to use. It is preferable that the polymer couple | bonded with the surface treating agent of (1) is the shell polymer of (2) or the binder polymer of (3). It is preferable to form the polymer of (2) by a polymerization reaction around microparticles | fine-particles before manufacture of the coating liquid of a low refractive index layer. It is preferable that the polymer of (3) is added by the monomer to the coating liquid of a low refractive index layer, and is formed by a polymerization reaction simultaneously with or after application | coating of a low refractive index layer. It is preferable to carry out combining two or all of said (1)-(3), and it is especially preferable to carry out by the combination of (1) and (3), or the combination of all (1)-(3). . (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder are demonstrated one by one.
(1) 표면 처리(1) surface treatment
미립자(특히 무기 미립자)에는, 표면 처리를 실시하여, 중합체와의 친화성을 개선하는 것이 바람직하다. 표면 처리는, 플라즈마 방전 처리나 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리와, 커플링제를 사용하는 화학적 표면 처리로 분류할 수 있다. 화학적 표면 처리만, 또는 물리적 표면 처리와 화학적 표면 처리의 조합으로 실시하는 것이 바람직하다. 커플링제로는, 오르가노알콕시 메탈 화합물(예, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제)이 바람직하게 사용된다. 미립자가 SiO2를 포함하여 이루어지는 경우에는, 상술한 실란 커플링제에 의한 표면 처리를 특히 유효하게 실시할 수 있다.It is preferable to surface-treat microparticles | fine-particles (especially inorganic microparticles | fine-particles) and to improve affinity with a polymer. Surface treatment can be classified into physical surface treatments, such as a plasma discharge treatment and a corona discharge treatment, and the chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles comprising an SiO 2, it is possible to perform particularly effective for surface treatment according to the above-described silane coupling agent.
커플링제에 의한 표면 처리는, 미립자의 분산물에 커플링제를 첨가하고, 실온 내지 60℃의 온도에서, 수시간 내지 10일간 분산물을 방치함으로써 실시할 수 있다. 표면 처리 반응을 촉진하기 위해서, 무기산(예를 들어, 황산, 염산, 질산, 크롬산, 차아염소산, 붕산, 오르토 규산, 인산, 탄산), 유기산(예를 들어, 아세트산, 폴리아크릴산, 벤젠술폰산, 페놀, 폴리글루탐산), 또는 이들의 염(예를 들어, 금속염, 암모늄염)을 분산물에 첨가해도 된다.Surface treatment with a coupling agent can be performed by adding a coupling agent to the dispersion of microparticles | fine-particles, and leaving a dispersion for several hours to 10 days at room temperature-60 degreeC. In order to promote the surface treatment reaction, inorganic acids (e.g. sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonate), organic acids (e.g. acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, phenol , Polyglutamic acid), or salts thereof (for example, metal salts and ammonium salts) may be added to the dispersion.
(2) 쉘(2) shell
쉘을 형성하는 중합체는, 포화 탄화수소를 주쇄로서 갖는 중합체인 것이 바람직하다. 불소 원자를 주쇄 또는 측쇄에 포함하는 중합체가 바람직하고, 불소 원자를 측쇄에 포함하는 중합체가 더욱 바람직하다. 폴리아크릴산에스테르 또는 폴리메타크릴산에스테르가 바람직하고, 불소 치환 알코올과 폴리아크릴산 또는 폴리메타크릴산과의 에스테르가 가장 바람직하다. 쉘 중합체의 굴절률은, 중합체 중의 불소 원자의 함유량의 증가에 수반해서 저하된다. 저굴절률층의 굴절률을 저하시키기 위해서, 쉘 중합체는 35 내지 80질량%의 불소 원자를 포함하는 것이 바람직하고, 45 내지 75질량%의 불소 원자를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 중합체는, 불소 원자를 포함하는 에틸렌성 불포화 단량체의 중합 반응에 의해 합성하는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 에틸렌성 불포화 단량체의 예로는, 플루오로올레핀(예를 들어, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔), 불소화 비닐에테르 및 불소 치환 알코올과 아크릴산 또는 메타크릴산과의 에스테르를 들 수 있다.It is preferable that the polymer which forms a shell is a polymer which has a saturated hydrocarbon as a principal chain. Polymers containing fluorine atoms in the main chain or side chains are preferred, and polymers containing fluorine atoms in the side chains are more preferred. Polyacrylic acid ester or polymethacrylic acid ester is preferable, and ester of a fluorine-substituted alcohol and polyacrylic acid or polymethacrylic acid is the most preferable. The refractive index of a shell polymer falls with increase of content of the fluorine atom in a polymer. In order to reduce the refractive index of a low refractive index layer, it is preferable that a shell polymer contains 35-80 mass% fluorine atoms, and it is more preferable that 45-75 mass% fluorine atoms are included. It is preferable to synthesize | combine the polymer containing a fluorine atom by the polymerization reaction of the ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl- 1,3-dioxol), fluorinated vinyl ether, and ester of fluorine-substituted alcohol with acrylic acid or methacrylic acid.
쉘을 형성하는 중합체는, 불소 원자를 포함하는 반복 단위와 불소 원자를 포함하지 않는 반복 단위를 포함하여 이루어지는 공중합체이어도 된다. 불소 원자를 포함하지 않는 반복 단위는, 불소 원자를 포함하지 않는 에틸렌성 불포화 단량체의 중합 반응에 의해 얻는 것이 바람직하다. 불소 원자를 포함하지 않는 에틸렌성 불포화 단량체의 예로는, 올레핀(예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 염화비닐, 염화 비닐리덴), 아크릴산에스테르(예를 들어, 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 2-에틸헥실), 메타크릴산에스테르(예를 들어, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 부틸, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트), 스티렌 및 그의 유도체(예를 들어, 스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌), 비닐에테르(예를 들어, 메틸비닐에테르), 비닐에스테르(예를 들어, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 신남산 비닐), 아크릴아미드(예를 들어, N-tert부틸 아크릴아미드, N-시클로헥실 아크릴아미드), 메타크릴아미드 및 아크릴로니트릴을 들 수 있다.The polymer which forms a shell may be a copolymer including a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. It is preferable to obtain the repeating unit which does not contain a fluorine atom by the polymerization reaction of the ethylenically unsaturated monomer which does not contain a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (e.g. ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (e.g. methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylate). Ethylhexyl), methacrylic acid esters (e.g. methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and derivatives thereof (e.g. styrene, divinylbenzene , Vinyltoluene, α-methylstyrene, vinyl ether (e.g., methyl vinyl ether), vinyl ester (e.g., vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (e.g., N-tert Butyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide), methacrylamide and acrylonitrile.
후술하는 (3)의 바인더 중합체를 병용하는 경우에는, 쉘 중합체에 가교성 관능기를 도입하여, 쉘 중합체와 바인더 중합체를 가교에 의해 화학적으로 결합시켜도 된다. 쉘 중합체는, 결정성을 가져도 된다. 쉘 중합체의 유리 전이 온도(Tg)가 저굴절률층의 형성시의 온도보다 높으면, 저굴절률층 내의 마이크로 보이드의 유지가 용이하다. 단, Tg가 저굴절률층의 형성시의 온도보다 높으면, 미립자가 융착되지 않아, 저굴절률층이 연속층으로서 형성되지 않는(그 결과, 강도가 저하됨) 경우가 있다. 그 경우에는, 후술하는 (3)의 바인더 중합체를 병용하여, 바인더 중합체에 의해 저굴절률층을 연속층으로서 형성하는 것이 바람직하다. 미립자의 주위에 중합체 쉘을 형성하여, 코어 셸 미립자가 얻어진다. 코어 셸 미립자 중에 무기 미립자를 포함하여 이루어지는 코어가 5 내지 90체적% 포함되어 있는 것이 바람직하고, 15 내지 80체적% 포함되어 있는 것이 더욱 바람직하다. 2종류 이상의 코어 셸 미립자를 병용해도 된다. 또한, 쉘이 없는 무기 미립자와 코어 셸 입자를 병용해도 된다.When using together the binder polymer of (3) mentioned later, you may introduce | transduce a crosslinkable functional group into a shell polymer, and may chemically bond a shell polymer and a binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. If the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of formation of the low refractive index layer, the maintenance of the micro voids in the low refractive index layer is easy. However, when Tg is higher than the temperature at the time of formation of a low refractive index layer, microparticles | fine-particles may not fuse and a low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (as a result, intensity | strength falls). In that case, it is preferable to use together the binder polymer of (3) mentioned later, and to form a low refractive index layer as a continuous layer with a binder polymer. A polymer shell is formed around the fine particles, whereby core shell fine particles are obtained. It is preferable that 5 to 90 volume% of cores containing inorganic fine particles are contained in the core shell fine particles, and more preferably 15 to 80 volume%. You may use together 2 or more types of core shell microparticles | fine-particles. Moreover, you may use together an inorganic fine particle and core shell particle | grains without a shell.
(3) 바인더(3) binder
바인더 중합체는, 포화 탄화수소 또는 폴리에테르를 주쇄로서 갖는 중합체인 것이 바람직하고, 포화 탄화수소를 주쇄로서 갖는 중합체인 것이 더욱 바람직하다. 바인더 중합체는 가교하고 있는 것이 바람직하다. 포화 탄화수소를 주쇄로서 갖는 중합체는, 에틸렌성 불포화 단량체의 중합 반응에 의해 얻는 것이 바람직하다. 가교하고 있는 바인더 중합체를 얻기 위해서는, 2 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 2 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 단량체의 예로는, 다가 알코올과 (메트)아크릴산과의 에스테르(예를 들어, 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,2,3-시클로헥산 테트라메타크릴레이트, 폴리우레탄 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르 폴리아크릴레이트), 비닐 벤젠 및 그의 유도체(예를 들어, 1,4-디비닐벤젠, 4-비닐 벤조산-2-아크릴로일에틸에스테르, 1,4-디비닐 시클로헥사논), 비닐 술폰(예를 들어, 디비닐 술폰), 아크릴아미드(예를 들어, 메틸렌비스아크릴아미드) 및 메타크릴아미드를 들 수 있다. 폴리에테르를 주쇄로서 갖는 중합체는, 다관능 에폭시 화합물의 개환 중합 반응에 의해 합성하는 것이 바람직하다. 2 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 단량체 대신 또는 그 외에도, 가교성 기의 반응에 의해, 가교 구조를 바인더 중합체에 도입해도 된다. 가교성 관능기의 예로는, 이소시아네이트기, 에폭시기, 아지리딘기, 옥사졸린기, 알데히드기, 카르보닐기, 히드라진기, 카르복실기, 메틸올기 및 활성 메틸렌기를 들 수 있다. 비닐술폰산, 산 무수물, 시아노아크릴레이트 유도체, 멜라민, 에테르화 메틸올, 에스테르 및 우레탄도, 가교 구조를 도입하기 위한 단량체로서 이용할 수 있다. 블록 이소시아네이트기와 같이, 분해 반응의 결과로서 가교성을 나타내는 관능기를 사용해도 된다. 또한, 가교기는, 상기 화합물에 한하지 않고 상기 관능기가 분해된 결과 반응성을 나타내는 것이어도 된다. 바인더 중합체의 중합 반응 및 가교 반응에 사용하는 중합 개시제는, 열중합 개시제나, 광중합 개시제가 사용되는데, 광중합 개시제가 보다 바람직하다. 광중합 개시제의 예로는, 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥시드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류, 아조 화합물, 과산화물류, 2,3-디알킬 디온 화합물류, 디술피드 화합물류, 플루오로 아민 화합물류나 방향족 술포늄류가 있다. 아세토페논류의 예로는, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 1-히드록시디메틸페닐케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-4-메틸티오-2-모르폴리노 프로피오페논 및 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논을 들 수 있다. 벤조인류의 예로는, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르 및 벤조인이소프로필에테르를 들 수 있다. 벤조페논류의 예로는, 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4-디클로로벤조페논 및 p-클로로벤조페논을 들 수 있다. 포스핀옥시드류의 예로는, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀옥시드를 들 수 있다.It is preferable that it is a polymer which has a saturated hydrocarbon or a polyether as a principal chain, and it is more preferable that a binder polymer is a polymer which has a saturated hydrocarbon as a principal chain. It is preferable that the binder polymer is bridge | crosslinking. It is preferable that the polymer which has a saturated hydrocarbon as a principal chain is obtained by the polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain the binder polymer which is bridge | crosslinking, it is preferable to use the monomer which has two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols with (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetra) (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerytate Lithol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinyl benzene and derivatives thereof ( For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinyl benzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinyl cyclohexanone), vinyl sulfone (for example, divinyl sulfone), Acrylamide (for example, methylenebisacrylamide) and methacrylamide are mentioned. It is preferable to synthesize | combine the polymer which has a polyether as a principal chain by ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by reaction of the crosslinkable group. Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivatives, melamine, etherified methylol, esters and urethanes can also be used as monomers for introducing the crosslinked structure. Like a block isocyanate group, you may use the functional group which shows crosslinkability as a result of a decomposition reaction. In addition, a crosslinking group may show not only the said compound but reactivity as a result of the decomposition | disassembly of the said functional group. Although a thermal polymerization initiator and a photoinitiator are used as a polymerization initiator used for the polymerization reaction and crosslinking reaction of a binder polymer, a photoinitiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoin, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyl dione compounds, Disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, and 2-methyl-4-methylthio-2- Morpholino propiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. As an example of benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether are mentioned. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide.
바인더 중합체는, 저굴절률층의 도포액에 단량체를 첨가하여, 저굴절률층의 도포와 동시 또는 도포 후에 중합 반응(필요하다면 또한 가교 반응)에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 저굴절률층의 도포액에, 소량의 중합체(예를 들어, 폴리비닐알코올, 폴리옥시에틸렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 폴리에스테르, 알키드 수지)를 첨가해도 된다.It is preferable that a binder polymer is added by the monomer to the coating liquid of a low refractive index layer, and is formed by a polymerization reaction (and also a crosslinking reaction if necessary) simultaneously with or after application | coating of a low refractive index layer. A small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd) is applied to the coating liquid of the low refractive index layer. Resin) may be added.
또한, 저굴절률층이, 열 또는 전리 방사선에 의해 가교하는 불소 함유 수지(이하, "가교 전의 불소 함유 수지"라고도 함)의 가교로 이루어지는 저굴절률층이어도 된다.The low refractive index layer may be a low refractive index layer formed of crosslinking of a fluorine-containing resin (hereinafter also referred to as "fluorine-containing resin before crosslinking") crosslinked by heat or ionizing radiation.
가교 전의 불소 함유 수지로는, 불소 함유 비닐 단량체와 가교성 기 부여를 위한 단량체로 형성되는 불소 함유 공중합체를 바람직하게 들 수 있다. 상기 불소 함유 비닐 단량체 단위의 구체예로는, 예를 들어 플루오로올레핀류(예를 들어, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등), (메트)아크릴산의 부분 또는 완전 불소화 알킬에스테르 유도체류(예를 들어, 비스코트 6FM(오사까 유끼 가가꾸 고교(주) 제조)이나 M-2020(다이킨 고교(주) 제조) 등), 완전 또는 부분 불소화 비닐에테르류 등을 들 수 있다. 가교성 기 부여를 위한 단량체로는, 글리시딜 메타크릴레이트나, 비닐 트리메톡시실란, γ-메타크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 글리시딜에테르 등과 같이 분자 내에 미리 가교성 관능기를 갖는 비닐 단량체 외에, 카르복실기나 히드록실기, 아미노기, 술폰산기 등을 갖는 비닐 단량체(예를 들어, (메트)아크릴산, 메틸올(메트)아크릴레이트, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 알릴 아크릴레이트, 히드록시알킬 비닐에테르, 히드록시알킬알릴에테르 등)를 들 수 있다. 후자는 공중합 후, 중합체 중의 관능기와 반응하는 기와 또 하나 이상의 반응성기를 갖는 화합물을 가함으로써, 가교 구조를 도입할 수 있는 것이 일본 특허 공개 평(10)-25388호, 평(10)-147739호에 기재되어 있다. 가교성 기의 예에는, 아크릴로일, 메타크릴로일, 이소시아네이토, 에폭시, 아지리딘, 옥사졸린, 알데히드, 카르보닐, 히드라진, 카르복실, 메틸올 및 활성 메틸렌기 등을 들 수 있다. 불소 함유 공중합체가, 가열에 의해 반응하는 가교기, 또는, 에틸렌성 불포화 기와 열 라디칼 발생제 또는 에폭시기와 열산 발생제 등의 조합에 의해, 가열에 의해 가교하는 경우, 열경화형이며, 에틸렌성 불포화 기와 광 라디칼 발생제, 또는, 에폭시기와 광산 발생제 등의 조합에 의해, 광(바람직하게는 자외선, 전자 빔 등)의 조사에 의해 가교하는 경우, 전리 방사선 경화형이다.As fluorine-containing resin before crosslinking, the fluorine-containing copolymer formed from the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for providing a crosslinkable group is mentioned preferably. As a specific example of the said fluorine-containing vinyl monomer unit, For example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro) Rho-2,2-dimethyl-1,3-diosol and the like, partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (e.g., biscot 6FM (manufactured by Osaka Yuka Chemical Co., Ltd.)) M-2020 (made by Daikin Kogyo Co., Ltd.), etc., a complete or partial fluorinated vinyl ether, etc. are mentioned. As a monomer for providing a crosslinkable group, a crosslinkable functional group is previously contained in a molecule such as glycidyl methacrylate, vinyl trimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyl trimethoxysilane, vinyl glycidyl ether and the like. In addition to the vinyl monomer having a vinyl monomer having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group and the like (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acryl) Rate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl ether, and the like). The latter is described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. (10) -25388 and (10) -147739 by adding a compound having a group reacting with a functional group in the polymer and another compound having at least one reactive group after copolymerization. It is described. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanato, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, active methylene group and the like. . When a fluorine-containing copolymer crosslinks by heating with a crosslinking group which reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, the fluorine-containing copolymer is thermosetting and ethylenically unsaturated. When crosslinking by irradiation of light (preferably ultraviolet rays, an electron beam, etc.) with the combination of group, an optical radical generator, or an epoxy group and a photo-acid generator, it is ionizing radiation hardening type.
또한 상기 단량체 외에도, 불소 함유 비닐 단량체 및 가교성 기 부여를 위한 단량체 이외의 단량체를 병용하여 형성된 불소 함유 공중합체를 가교 전의 불소 함유 수지로서 사용해도 된다. 병용 가능한 단량체에는 특별히 한정은 없고, 예를 들어 올레핀류(에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 염화비닐, 염화 비닐리덴 등), 아크릴산에스테르류(아크릴산 메틸, 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 2-에틸헥실), 메타크릴산에스테르류(메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 부틸, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트 등), 스티렌 유도체(스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌 등), 비닐에테르류(메틸 비닐에테르 등), 비닐에스테르류(아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 신남산 비닐 등), 아크릴아미드류(N-tert부틸 아크릴아미드, N-시클로헥실 아크릴아미드 등), 메타크릴아미드류, 아크릴로니트릴 유도체 등을 들 수 있다. 또한, 불소 함유 공중합체 중에, 미끄럼성, 방오성 부여를 위해, 폴리 오르가노실록산 골격이나, 퍼플루오로폴리에테르 골격을 도입하는 것도 바람직하다. 이것은, 예를 들어 말단에 아크릴기, 메타크릴기, 비닐에테르기, 스티릴기 등을 갖는 폴리오르가노실록산이나 퍼플루오로폴리에테르와 상기의 단량체의 중합, 말단에 라디칼 발생기를 갖는 폴리오르가노실록산이나 퍼플루오로폴리에테르에 의한 상기 단량체의 중합, 관능기를 갖는 폴리오르가노실록산이나 퍼플루오로폴리에테르와, 불소 함유 공중합체의 반응 등에 의해 얻어진다.Moreover, in addition to the said monomer, you may use the fluorine-containing copolymer formed by using together the fluorine-containing vinyl monomer and monomers other than the monomer for providing a crosslinkable group as a fluorine-containing resin before crosslinking. There is no restriction | limiting in particular in the monomer which can be used together, For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), Methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl Ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides, Acrylonitrile derivatives etc. are mentioned. Moreover, in order to provide slipperiness | lubricacy and antifouling property in a fluorine-containing copolymer, it is also preferable to introduce a poly organosiloxane skeleton and a perfluoro polyether skeleton. This is, for example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acryl group, methacryl group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal and the polyorganosiloxane having a radical generator at the end. Or polymerization of the monomers by perfluoropolyether, polyorganosiloxane having a functional group or perfluoropolyether, and reaction of a fluorine-containing copolymer.
가교 전의 불소 함유 공중합체를 형성하기 위해 사용되는 상기 각 단량체의 사용 비율은, 불소 함유 비닐 단량체가 바람직하게는 20 내지 70몰%, 보다 바람직하게는 40 내지 70몰%, 가교성 기 부여를 위한 단량체가 바람직하게는 1 내지 20몰%, 보다 바람직하게는 5 내지 20몰%, 병용되는 그 밖의 단량체가 바람직하게는 10 내지 70몰%, 보다 바람직하게는 10 내지 50몰%의 비율이다.The proportion of each monomer used to form the fluorine-containing copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, for imparting a crosslinkable group to the fluorine-containing vinyl monomer. The monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and other monomers used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.
불소 함유 공중합체는, 이들 단량체를 라디칼 중합 개시제의 존재하에서, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 현탁 중합법 등의 수단에 의해 중합함으로써 얻을 수 있다.A fluorine-containing copolymer can be obtained by superposing | polymerizing these monomers by means, such as solution polymerization, block polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization method, in presence of a radical polymerization initiator.
가교 전의 불소 함유 수지는, 시판되고 있어 사용할 수 있다. 시판되고 있는 가교 전의 불소 함유 수지의 예로는, 사이톱(아사히 가라스(주) 제조), 테플론(등록 상표) AF(듀퐁 제조), 폴리불화비닐리덴, 루미플론(아사히 가라스(주) 제조), 옵스타(JSR 제조) 등을 들 수 있다.The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before crosslinking include Cytop (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Teflon (registered trademark) AF (manufactured by DuPont), polyvinylidene fluoride, and LumiFlon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). ), Opstar (made by JSR), etc. are mentioned.
가교한 불소 함유 수지를 구성 성분으로 하는 저굴절률층은, 동마찰 계수가 0.03 내지 0.15의 범위, 물에 대한 접촉각이 90 내지 120도의 범위에 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the low refractive index layer which consists of bridge | crosslinked fluorine-containing resin has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03-0.15, and the contact angle with respect to water is in the range of 90-120 degree | times.
(양이온 중합성 화합물)Cationic Polymerizable Compound
저굴절률층은, 바인더로서 양이온 중합성 화합물을 함유해도 된다. 양이온 중합성 화합물로는, 에너지 활성선 조사나 열에 의해 양이온 중합을 일으켜서 수지화하는 것이면 모두 사용할 수 있다. 구체적으로는, 에폭시기, 환상 에테르기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 티오에테르기, 스피로오르토에스테르 화합물, 비닐 옥소기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 에폭시기나 비닐에테르기 등의 관능기를 갖는 화합물이 본 실시 형태에서는 적절하게 사용된다. 에폭시기 또는 비닐에테르기를 갖는 양이온 중합성 화합물로는, 예를 들어 페닐글리시딜에테르, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 글리세린 디글리시딜에테르, 비닐시클로헥센디옥시드, 리모넨디옥시드, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비스-(6-메틸-3,4-에폭시시클로헥실)아디페이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 디에틸렌글리콜 디비닐에테르, 폴리에틸렌글리콜 디비닐에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올 디비닐에테르 등을 들 수 있다. 또한, 옥세탄 화합물도 들 수 있다. 옥세탄 화합물로는, 분자 중에 적어도 1개의 옥세탄 환을 갖는 화합물이면 된다.The low refractive index layer may contain a cationically polymerizable compound as a binder. As the cationically polymerizable compound, any one can be used as long as it catalyzes polymerization by energy actinic radiation or heat and is resinized. Specifically, an epoxy group, a cyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spirorthoester compound, a vinyl oxo group, etc. are mentioned. Especially, the compound which has functional groups, such as an epoxy group and a vinyl ether group, is used suitably in this embodiment. Examples of the cationic polymerizable compound having an epoxy group or a vinyl ether group include phenylglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, vinylcyclohexene dioxide, limonene dioxide, and 3,4. -Epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, bis- (6-methyl-3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri Methoxysilane, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, and the like. Moreover, an oxetane compound is also mentioned. The oxetane compound may be a compound having at least one oxetane ring in the molecule.
또한, 필요에 따라 수소 결합 형성기를 갖는 단량체를 포함하는 (공)중합체로, 주쇄나 측쇄에 옥세타닐기를 갖는 수 평균 분자량이 2만 이상인 반응성 중합체 등도 사용할 수 있다. 상기한 양이온 중합성 화합물은, 저굴절층 도포 조성물 중에서는 고형분 중의 15질량% 이상 70질량% 미만인 것이, 저굴절률층 도포 조성물의 안정성의 관점에서 바람직하다.Moreover, as a (co) polymer containing the monomer which has a hydrogen bond formation group as needed, the reactive polymer etc. whose number average molecular weight which has an oxetanyl group in a principal chain or a side chain is 20,000 or more can also be used. It is preferable that said cationically polymerizable compound is 15 mass% or more and less than 70 mass% in solid content from a low refractive index layer coating composition from a viewpoint of the stability of a low refractive index layer coating composition.
(양이온 중합 촉진제)Cationic Polymerization Accelerator
양이온 중합성 화합물의 중합을 촉진하는 화합물로서, 공지된 산이나 광산 발생제를 들 수 있다. 광산 발생제로는, 양이온 중합의 광 개시제, 색소류의 광 소색제, 광 변색제, 또는, 마이크로 레지스트 등에 사용되고 있는 공지된 화합물 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 오늄 화합물, 유기 할로겐 화합물, 디술폰 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 오늄 화합물이다. 오늄 화합물로는, 이하의 각 식에 나타나는 디아조늄염, 술포늄염, 요오도늄염 등이 적절하게 사용된다.As a compound which promotes superposition | polymerization of a cationically polymerizable compound, a well-known acid and a photo-acid generator are mentioned. As a photo-acid generator, the well-known compound used for the photoinitiator of cationic polymerization, the photochromic agent of pigment | dye, photochromic agent, micro resist, etc., their mixture, etc. are mentioned. Specifically, an onium compound, an organic halogen compound, a disulfone compound is mentioned, Preferably, it is an onium compound. As an onium compound, the diazonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, etc. which are represented by each following formula | equation are used suitably.
ArN2 +Z-,ArN 2 + Z -,
(R)3S+Z-, (R) 3 S + Z - ,
(R)2I+Z- (R) 2 I + Z -
식 중, Ar은 아릴기를 나타내고, R은 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타내고, 1 분자 내에 R이 복수 회 나타나는 경우에는, 각각 동일하거나 상이해도 되고, Z-는 비염기성이면서 또한 비구핵성의 음이온을 나타낸다.In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and when R appears multiple times in one molecule, each may be the same or different, and Z − is nonbasic and non-nucleophilic. Represents anionic anions.
상기 각 식에서, Ar 또는 R로 표현되는 아릴기도, 전형적으로는 페닐이나 나프틸이며, 이것들은 적당한 기로 치환되어 있을 수도 있다. 또한, Z-로 표현되는 음이온으로서 구체적으로는, 테트라플루오로보레이트 이온(BF4 -), 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온(B(C6F5)4 -), 헥사플루오로포스페이트 이온(PF6 -), 헥사플루오로아세네이트 이온(AsF6 -), 헥사플루오로안티모네이트 이온(SbF6 -), 헥사클로로안티모네이트 이온(SbCl6 -), 황산 수소 이온(HSO4 -), 과염소산 이온(ClO4 -) 등을 들 수 있다.In each formula, the aryl group represented by Ar or R is typically phenyl or naphthyl, and these may be substituted by a suitable group. In addition, as an anion represented by Z − , tetrafluoroborate ion (BF 4 − ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 − ), hexafluorophosphate ion (PF 6 -), hexafluoro-acetoxy carbonate ion (AsF 6 -), antimonate ion (SbF 6 -) hexafluoropropane, hexachloro antimonate ion (SbCl 6 -), hydrogensulfate ion (HSO 4 -), perchlorate ion (ClO 4 -), and the like.
그 밖의 오늄 화합물로는, 암모늄염, 이미늄염, 포스포늄염, 아르소늄염, 셀레노늄염, 붕소염 등을 들 수 있다.As another onium compound, an ammonium salt, an iminium salt, a phosphonium salt, an arsonium salt, a selenium salt, a boron salt, etc. are mentioned.
그 중에서도, 디아조늄염, 요오도늄염, 술포늄염, 이미늄염이, 화합물의 소재 안정성 등이 점에서 바람직하다.Especially, a diazonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, and an iminium salt are preferable at the point of material stability of a compound, etc.
이들 화합물의 대부분은 시판되고 있으므로, 그러한 시판품을 사용할 수 있다. 시판되고 있는 개시제로는, 예를 들어 다우 케미컬 니혼(주)에서 판매하고 있는 "사이라큐어 UVI-6990"(상품명), 각각 (주)아데카(ADEKA)에서 판매하고 있는 "아데카 옵토머 SP-150"(상품명), "아데카 옵토머 SP-300"(상품명), 로디아 재팬(주)에서 판매하고 있는 "RHODORSIL PHOTOINITIAOR2074"(상품명) 등을 들 수 있다.Since most of these compounds are commercially available, such a commercial item can be used. Commercially available initiators include, for example, "Sairacure UVI-6990" (trade name) sold by Dow Chemical Nippon Corporation, and "Adeca Optomer sold by Adeka Co., Ltd., respectively. SP-150 "(brand name)," Adeka Optomer SP-300 "(brand name)," RHODORSIL PHOTOINITIAOR2074 "(brand name) etc. which are sold by Rhodia Japan Co., Ltd. are mentioned.
산으로는, 염산, 황산, 질산, 인산 등의 무기산 또는 아세트산, 포름산, 메탄 술폰산, 트리플루오로 메탄 술폰산, 파라톨루엔 술폰산 등의 유기산 등의 브뢴스테드산, 디부틸 주석 디라우레이트, 디부틸 주석 디아세테이트, 디부틸 주석 디옥테이트, 트리이소프로폭시 알루미늄, 테트라부톡시 지르코늄, 테트라부톡시 티타네이트 등의 루이스산을 들 수 있다.Examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, or Bronsted acid such as acetic acid, formic acid, methane sulfonic acid, trifluoromethane sulfonic acid and paratoluene sulfonic acid, dibutyl tin dilaurate, dibutyl, and the like. And Lewis acids such as tin diacetate, dibutyl tin dioctate, triisopropoxy aluminum, tetrabutoxy zirconium and tetrabutoxy titanate.
피로멜리트산, 무수 피로멜리트산, 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 프탈산, 무수 프탈산 등의 방향족 다가 카르복실산 또는 그의 무수물이나 말레산, 무수 말레산, 숙신산, 무수 숙신산 등의 지방족 다가 카르복실산 또는 그의 무수물 등도 들 수 있다.Aromatic polyhydric carboxylic acids such as pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, trimellitic acid, trimellitic anhydride, phthalic acid, and phthalic anhydride or aliphatic polyhydric carboxylic acids such as anhydrides thereof and maleic acid, maleic anhydride, succinic acid and succinic anhydride. Acids or anhydrides thereof and the like.
산으로는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 산이나 광산 발생제는, 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여 0.1 내지 20질량부의 비율이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 15질량부의 비율로 첨가하는 것이다. 첨가량이 상기 범위에서, 경화성 조성물의 안정성, 중합 반응성 등에서 바람직하다.As an acid, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. The ratio of 0.1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of cationically polymerizable compounds, These acid and a photo-acid generator are added at the ratio of 0.5-15 mass parts more preferably. The addition amount is preferable in the said range from the stability of a curable composition, polymerization reactivity, etc.
(라디칼 중합성 화합물)(Radical polymerizable compound)
또한 저굴절률층은, 바인더로서 라디칼 중합성 화합물을 함유할 수도 있다. 라디칼 중합성기로는, (메트)아크릴로일기, 비닐 옥시기, 스티릴기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화기 등을 들 수 있고, 그 중에서도, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또한, 라디칼 중합성 화합물로는, 분자 내에 2개 이상의 라디칼 중합성기를 함유하는 다관능 단량체를 함유하는 것이 바람직하다. 다관능 아크릴레이트로는, 펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 다관능 아크릴레이트, 펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 다관능 메타크릴레이트를 포함하여 이루어지는 군에서 선택되는 것이 바람직하다. 라디칼 중합성 화합물의 첨가량은, 저굴절층 도포 조성물 중에서는 고형분 중의 15질량% 이상 70질량% 미만인 것이, 저굴절층 도포 조성물의 안정성의 관점에서 바람직하다.Moreover, the low refractive index layer may contain a radically polymerizable compound as a binder. As a radically polymerizable group, ethylenically unsaturated groups, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl oxy group, a styryl group, an allyl group, etc. are mentioned, Especially, the compound which has a (meth) acryloyl group is preferable. Moreover, as a radically polymerizable compound, it is preferable to contain the polyfunctional monomer containing two or more radically polymerizable groups in a molecule | numerator. The polyfunctional acrylate is selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. It is preferable. It is preferable that the addition amount of a radically polymerizable compound is 15 mass% or more and less than 70 mass% in solid content from a low refractive layer coating composition from a viewpoint of the stability of a low refractive layer coating composition.
(라디칼 중합 촉진제)(Radical polymerization accelerator)
라디칼 중합성 화합물의 경화 촉진을 위해서, 광중합 개시제를 라디칼 중합성 화합물과 병용하여 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제와 라디칼 중합성 화합물을 병용하여 사용하는 경우에는, 광중합 개시제와 라디칼 중합성 화합물을 질량비로 20:100 내지 0.01:100 함유하는 것이 바람직하다.In order to accelerate hardening of a radically polymerizable compound, it is preferable to use a photoinitiator together with a radically polymerizable compound. When using together and using a photoinitiator and a radically polymerizable compound, it is preferable to contain a photoinitiator and a radically polymerizable compound 20: 100-0.01: 100 by mass ratio.
광중합 개시제로는, 구체적으로는, 아세토페논, 벤조페논, 히드록시벤조페논, 미힐러 케톤, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤 등 및 이들의 유도체를 들 수 있는데, 특별히 이것들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyl oxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto. .
저굴절률층은, 그라비아 코터, 딥 코터, 리버스 코터, 와이어 바 코터, 다이 코터, 잉크젯법 등 공지된 방법을 사용하여, 저굴절률층을 형성하는 상기 도포 조성물을 도포하고, 도포 후, 가열 건조하여, 필요에 따라 경화 처리함으로써 형성된다.The low refractive index layer is coated with the coating composition for forming the low refractive index layer by using a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an inkjet method, and after application, heat drying It forms by hardening as needed.
도포량은, 웨트 막 두께로서 0.05 내지 100㎛가 적당하고, 바람직하게는 0.1 내지 50㎛이다. 또한, 드라이 막 두께가 상기 막 두께가 되도록 도포 조성물의 고형분 농도는 조정된다.0.05-100 micrometers is suitable as a coating film thickness, Preferably it is 0.1-50 micrometers. Moreover, solid content concentration of a coating composition is adjusted so that dry film thickness may become the said film thickness.
또한, 저굴절률층을 형성한 후, 온도 50 내지 160℃에서 가열 처리를 행하는 공정을 포함해도 된다. 가열 처리의 기간은, 설정되는 온도에 따라 적절히 결정하면 되고, 예를 들어 50℃이면 바람직하게는 3일간 이상 30일 미만의 기간, 160℃이면 10분 이상 1일 이하의 범위가 바람직하다. 경화 방법으로는, 가열함으로써 열경화시키는 방법, 자외선 등의 광 조사에 의해 경화시키는 방법 등을 들 수 있다. 열 경화시킨 경우에는, 가열 온도는 50 내지 300℃가 바람직하고, 바람직하게는 60 내지 250℃, 더욱 바람직하게는 80 내지 150℃이다. 광 조사에 의해 경화시킨 경우에는, 조사광의 노광량은 10mJ/cm2 내지 1J/cm2인 것이 바람직하고, 100mJ/cm2 내지 500mJ/cm2가 보다 바람직하다.Moreover, after forming a low refractive index layer, you may include the process of heat-processing at the temperature of 50-160 degreeC. What is necessary is just to determine suitably the period of heat processing according to the temperature set, for example, if it is 50 degreeC, the range for 3 days or more and less than 30 days is preferable, and if it is 160 degreeC, 10 minutes or more and 1 day or less are preferable. As a hardening method, the method of thermosetting by heating, the method of hardening by light irradiation, such as an ultraviolet-ray, etc. are mentioned. When heat-hardening, 50-300 degreeC of heating temperature is preferable, Preferably it is 60-250 degreeC, More preferably, it is 80-150 degreeC. If cured by the light irradiation, the irradiation light amount of exposure is 10mJ / cm 2 to about 1J / cm 2 is not preferable, and more preferably 100mJ / cm 2 to 500mJ / cm 2.
여기서, 조사되는 광의 파장 영역으로는 특별히 한정되지 않지만, 자외선 영역의 파장을 갖는 광이 바람직하게 사용된다. 구체적으로는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프 등을 사용할 수 있다.Although it does not specifically limit as a wavelength range of the light irradiated here, The light which has a wavelength of an ultraviolet range is used preferably. Specifically, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
<고굴절률층 및 중굴절률층>≪ High refractive index layer and medium refractive index layer &
고굴절률층 및 중굴절률층에는, 금속 산화물 미립자가 함유되는 것이 바람직하다. 금속 산화물 미립자의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니며, Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P 및 S에서 선택되는 적어도 1종의 원소를 갖는다.It is preferable that the high refractive index layer and the medium refractive index layer contain metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and is selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. It has at least 1 type of element.
금속 산화물을 사용할 수 있고, 이들 금속 산화물 미립자는 Al, In, Sn, Sb, Nb, 할로겐 원소, Ta 등의 미량의 원자를 도프해도 된다. 또한, 이들의 혼합물이어도 된다. 그 중에서도 유기 티타늄 화합물, 산화지르코늄, 산화안티몬, 산화주석, 산화아연, 산화인듐-주석(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO) 및 안티몬산 아연에서 선택되는 적어도 1종의 금속 산화물 미립자를 주성분으로 하여 사용하는 것이 특히 바람직하다. 특히 안티몬산 아연 입자를 함유하는 것이 바람직하다.Metal oxides can be used, and these metal oxide fine particles may dope a trace amount of atoms, such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. Moreover, a mixture thereof may be sufficient. Among them, at least one metal oxide fine particle selected from organic titanium compounds, zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is a main component. It is especially preferable to use. It is particularly preferable to contain zinc antimonate particles.
이들 금속 산화물 미립자의 1차 입자의 평균 입자 직경은 10nm 내지 200nm의 범위이며, 10 내지 150nm인 것이 특히 바람직하다. 금속 산화물 미립자의 평균 입자 직경은, 주사 전자 현미경(SEM) 등에 의한 전자 현미경 사진으로부터 계측할 수 있다. 동적 광산란법이나 정적 광산란법 등을 이용하는 입도 분포계 등에 의해 계측해도 된다. 입경이 너무 작으면 응집하기 쉬워져, 분산성이 열화된다. 입경이 너무 크면 헤이즈가 현저하게 상승해서 바람직하지 않다. 금속 산화물 미립자의 형상은, 미립(米粒) 형상, 구형 형상, 입방체 형상, 방추 형상, 바늘 형상 또는 부정 형상인 것이 바람직하다.The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, and particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of metal oxide fine particles can be measured from the electron micrograph by a scanning electron microscope (SEM). You may measure with a particle size distribution meter etc. which use a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle diameter is too small, the particles tend to aggregate and the dispersibility is deteriorated. If the particle size is too large, the haze increases markedly, which is not preferable. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a particulate, spherical, cubic, fusiform, needle or irregular shape.
고굴절률층의 굴절률은, 구체적으로는, 기재 필름의 굴절률보다 높고, 23℃, 파장 550nm 측정에서, 1.5 내지 2.3의 범위인 것이 바람직하다. 고굴절률층의 굴절률을 조정하는 수단은, 금속 산화물 미립자의 종류, 첨가량이 지배적이기 때문에, 금속 산화물 미립자의 굴절률은 1.80 내지 2.60인 것이 바람직하고, 1.85 내지 2.50인 것이 더욱 바람직하다.The refractive index of a high refractive index layer is specifically higher than the refractive index of a base film, and it is preferable that it is the range of 1.5-2.3 in 23 degreeC and wavelength 550nm measurement. As the means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is dominant in the kind and amount of addition of the metal oxide fine particles, the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, more preferably 1.85 to 2.50.
중굴절률층의 굴절률은, 기재 필름의 굴절률과 고굴절률층의 굴절률의 중간의 값이 되도록 조정한다. 구체적으로는 중굴절률층의 굴절률은, 1.55 내지 1.80인 것이 바람직하다.The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the base film and the refractive index of the high refractive index layer. Specifically, the refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80.
고굴절률층 및 중굴절률층의 두께는, 5nm 내지 1㎛인 것이 바람직하고, 10nm 내지 0.2㎛인 것이 더욱 바람직하고, 30nm 내지 100nm인 것이 가장 바람직하다.It is preferable that the thickness of a high refractive index layer and a medium refractive index layer is 5 nm-1 micrometer, It is more preferable that it is 10 nm-0.2 micrometer, It is most preferable that it is 30 nm-100 nm.
고굴절률층 및 중굴절률층은, 미립자로서 금속 산화물 입자를 포함하고, 또한 바인더 중합체를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the high refractive index layer and the medium refractive index layer contain metal oxide particles as fine particles, and further contain a binder polymer.
고굴절률층 및 중굴절률층의 바인더 중합체로는 가교 중합체가 바람직하다. 가교 중합체의 예로서, 2개 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 단량체가 가장 바람직한데, 그 예로는, 다가 알코올과 (메트)아크릴산과의 에스테르(예를 들어, 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,2,3-시클로헥산 테트라메타크릴레이트, 폴리우레탄 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르 폴리아크릴레이트), 비닐 벤젠 및 그의 유도체(예를 들어, 1,4-디비닐벤젠, 4-비닐 벤조산-2-아크릴로일에틸에스테르, 1,4-디비닐 시클로헥사논), 비닐 술폰(예를 들어, 디비닐 술폰), 아크릴아미드(예를 들어, 메틸렌비스아크릴아미드) 및 메타크릴아미드 등을 들 수 있다. 중합체의 중합 반응은, 광중합 반응 또는 열중합 반응을 사용할 수 있다. 특히 광중합 반응이 바람직하다. 중합 반응을 위해 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 하드 코트층의 바인더 중합체를 형성하기 위해 사용되는 후술하는 열중합 개시제 및 광중합 개시제를 들 수 있다.As a binder polymer of a high refractive index layer and a medium refractive index layer, a crosslinked polymer is preferable. As examples of the crosslinked polymers, monomers having two or more ethylenically unsaturated groups are most preferred, and examples thereof include esters of polyhydric alcohols with (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1, 4-cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipenta Erythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, poly Ester polyacrylates), vinyl benzene and derivatives thereof (e.g., 1,4-divinylbenzene, 4-vinyl benzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinyl cycle Hexanone), and the like can be vinyl sulfone (e.g., divinyl sulfone), acrylamides (e.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. As the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. Especially photopolymerization reaction is preferable. Preference is given to using a polymerization initiator for the polymerization reaction. For example, the thermal-polymerization initiator and photoinitiator mentioned later used in order to form the binder polymer of a hard-coat layer are mentioned.
중합 개시제로서 시판하고 있는 중합 개시제를 사용해도 된다. 중합 개시제 외에도, 중합 촉진제를 사용해도 된다. 중합 개시제와 중합 촉진제의 첨가량은, 단량체의 전량의 0.2 내지 10질량%의 범위인 것이 바람직하다. 도포액(단량체를 포함하는 무기 미립자의 분산액)을 가열하여, 단량체(또는 올리고머)의 중합을 촉진해도 된다. 또한, 도포 후의 광중합 반응 후에 가열하여, 형성된 중합체의 열경화 반응을 추가 처리해도 된다.You may use a commercially available polymerization initiator as a polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. It is preferable that the addition amount of a polymerization initiator and a polymerization promoter is the range of 0.2-10 mass% of whole quantity of a monomer. The coating liquid (dispersion liquid of inorganic fine particles containing a monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, you may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may further process the thermosetting reaction of the formed polymer.
중 및 고굴절률층은, 상기한 중 및 고굴절률층을 형성하는 성분을, 용제로 희석해서 도포층 조성물로 하여, 방현층 위에 도포, 건조, 경화하여 설치할 수 있다. 경화의 광원으로는, 자외선을 발생하는 광원이면 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프 등을 사용할 수 있다. 조사광량은 20mJ/cm2 내지 1J/cm2가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100mJ/cm2 내지 500mJ/cm2이다.The medium and high refractive index layers may be formed by diluting the components forming the above medium and high refractive index layers with a solvent to form a coating layer composition, coated, dried and cured on the antiglare layer. As a light source of hardening, if it is a light source which generate | occur | produces an ultraviolet-ray, it can use without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp and the like can be used. The amount of irradiation light is preferably 20 mJ / cm 2 to 1 J / cm 2 , more preferably 100 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 .
(반사 방지층의 반사율)(Reflectance of the antireflection layer)
방현성 반사 방지 필름의 반사 방지층은, 450nm 내지 650nm에서의 평균 반사율이 1.5% 이하가 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.2% 이하다. 또한, 이 범위에서의 최저 반사율은 0.00 내지 0.5%에 있는 것이 바람직하다.As for the antireflection layer of an anti-glare antireflection film, the average reflectance in 450 nm-650 nm is 1.5% or less, Especially preferably, it is 1.2% or less. Moreover, it is preferable that the minimum reflectance in this range exists in 0.00 to 0.5%.
반사 방지층의 굴절률과 막 두께는, 분광 반사율의 측정으로부터 계산하여 산출할 수 있다. 또한, 제작한 반사 방지층을 갖는 방현성 반사 방지 필름의 반사 광학 특성은, 분광 광도계를 사용하여, 5도 정반사의 조건에서 반사율을 측정할 수 있다. 이 측정법에서, 반사 방지층이 도포되어 있지 않은 측의 이면을 조면화한 후, 흑색의 스프레이로 광 흡수 처리를 행하거나, 또는 흑색 아크릴판을 부착하거나 해서 광 흡수 처리를 행하고나서, 필름 이면 광의 반사를 방지하여, 반사율을 측정할 수 있다. 측정시에는, 투과율 550nm에서의 투과율을 분광 광도계를 사용하여 공기를 참조로 해서 측정을 행한다.The refractive index and the film thickness of the antireflection layer can be calculated from the measurement of the spectral reflectance. In addition, the reflective optical characteristic of the anti-glare antireflection film which has the produced antireflection layer can measure a reflectance on the conditions of 5 degree regular reflection using a spectrophotometer. In this measuring method, after roughening the back surface of the side on which the antireflection layer is not applied, the light absorption treatment is performed with a black spray, or the light absorption treatment is performed by attaching a black acrylic plate to reflect the light on the film back surface. Can be prevented, and the reflectance can be measured. In the measurement, the transmittance at transmittance of 550 nm is measured with reference to air using a spectrophotometer.
또한 본 실시 형태의 방현성 반사 방지 필름은, 가시광의 파장 영역에서 평탄한 형상의 반사 스펙트럼을 갖는 것이 바람직하다. 또한 반사 색상은, 반사 방지층의 설계상 가시광 영역에서 단파장 영역이나 장파장 영역의 반사율이 높아지므로 적색이나 청색을 띠는 경우가 많은데, 반사광의 색미는 용도에 따라 요구가 상이하여, 화상 표시 장치 등의 표면에 사용하는 경우에는, 뉴트럴한 색조가 선호된다. 이 경우, 일반적으로 선호하는 반사 색상 범위는, XYZ 표색계(CIE1931 표색계) 상에서 0.17≤x≤0.27, 0.07≤y≤0.17이다. 또한, xy 평면상의 (x, y)=(0.31, 0.31)의 거리(Δxy)가, 0.05 이하가 되는 범위가 보다 색미가 없는 뉴트럴에 가깝기 때문에 바람직하고, 0.03 이하가 더욱 바람직하다. 색조는, 각 층의 굴절률로부터, 반사율, 반사광의 색미를 고려하여 막 두께를 통상법에 따라서 계산할 수 있다.Moreover, it is preferable that the anti-glare antireflection film of this embodiment has a reflection spectrum of the flat shape in the wavelength range of visible light. In addition, the reflection color is often red or blue because the reflectance of the short wavelength region or the long wavelength region is increased in the visible light region due to the design of the antireflection layer. For surface use, neutral shades are preferred. In this case, the generally preferred reflection color range is 0.17 ≦ x ≦ 0.27, 0.07 ≦ y ≦ 0.17 on the XYZ color system (CIE1931 color system). Moreover, since the distance (DELTA) xy of (x, y) = (0.31, 0.31) on an xy plane is near to neutral which has no color taste, 0.03 or less is more preferable. The color tone can be calculated from the refractive index of each layer in consideration of the reflectance and the color taste of the reflected light, and the film thickness can be calculated according to a conventional method.
<편광판><Polarizer>
본 실시 형태에 따른 방현성 필름을 사용한 본 실시 형태의 편광판에 대하여 설명한다.The polarizing plate of this embodiment using the anti-glare film which concerns on this embodiment is demonstrated.
본 실시 형태에 따른 편광판은, 본 실시 형태에 따른 방현성 필름이 구비되어 있는 것이다. 이러한 편광판은, 상기 방현성 필름을 구비하므로, 시인성의 향상과 무아레 줄무늬의 저감을 양립시킨 것이다. 상기 편광판은, 예를 들어 편광막과, 상기 편광막의 표면 위에 배치된 투명 보호 필름(편광판 보호 필름)을 구비하고, 상기 투명 보호 필름이, 본 실시 형태에 따른 방현성 필름인 것을 들 수 있다. 그 일 실시 형태를 도 4에 도시한다. 도 4 중, 부호 11은 방현성 필름, 12는 방현층, 13은 기재 필름, 14는 편광막, 15는 광학 필름, 16은 점착제층을 각각 나타낸다. 도 4에 도시한 바와 같이, 편광판(10)은 편광막(14)의, 시인되는 측의 표면 위에, 방현층(12)이 외측이 되고, 기재 필름(13)이 내측으로 되도록, 방현성 필름(11)이 배치되는 것을 들 수 있다. 또한, 편광판(10)은 편광막(14)의, 시인측 표면과는 반대측의 표면 위에 광학 필름(15)이 배치되고, 그 외측에, 다른 부재에 부착 가능한 접착제층(16)이 배치된 것을 들 수 있다. 또한, 광학 필름(15)으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 후술하는 편광판 보호 필름 등을 들 수 있다.The polarizing plate which concerns on this embodiment is equipped with the anti-glare film which concerns on this embodiment. Since such a polarizing plate is equipped with the said anti-glare film, it is the thing which made the improvement of visibility and the reduction of a moire fringe both compatible. The said polarizing plate is equipped with a polarizing film and the transparent protective film (polarizing plate protective film) arrange | positioned on the surface of the said polarizing film, for example, and the said transparent protective film is an anti-glare film which concerns on this embodiment. One embodiment thereof is shown in FIG. 4. In FIG. 4, the code |
편광판은 일반적인 방법으로 제작할 수 있다. 본 발명에 따른 방현성 필름의 이면측을 알칼리 비누화 처리하고, 처리한 방현성 필름을, 요오드 용액 중에 침지 연신하여 제작한 편광막 중 적어도 한쪽의 면에, 완전 비누화형 폴리비닐알코올 수용액을 사용하여 접합하는 것이 바람직하다.The polarizing plate can be manufactured by a general method. Alkaline saponification treatment of the back surface side of the anti-glare film according to the present invention, using a fully saponified polyvinyl alcohol aqueous solution to at least one surface of the polarizing film produced by dipping and stretching the treated anti-glare film in an iodine solution It is preferable to join.
또 한쪽 면에 상기 방현성 필름을 사용하거나, 다른 편광판 보호 필름을 사용해도 된다. 본 발명에 따른 방현성 필름에 대하여, 또 한쪽 면에 사용되는 편광판 보호 필름은, 상술한 기재 필름인 셀룰로오스 트리아세테이트 필름이나 열가소성 아크릴 수지와 셀룰로오스에스테르 수지를 함유하고, 상기 열가소성 아크릴 수지와 상기 셀룰로오스에스테르 수지의 함유 질량비가, 열가소성 아크릴 수지:셀룰로오스에스테르 수지=95:5 내지 50:50인 보호 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 구성의 상세한 것은 상술한 바와 같으며, 구체적으로는, 리타데이션(Ro)이 590nm에서 0 내지 5nm, Rt가 -20 내지 +20nm인 무배향 필름을 일례로서 들 수 있다.Moreover, you may use the said anti-glare film on one surface, or may use another polarizing plate protective film. About the anti-glare film which concerns on this invention, the polarizing plate protective film used for one side contains the cellulose triacetate film which is the base film mentioned above, a thermoplastic acrylic resin, and a cellulose ester resin, and the said thermoplastic acrylic resin and the said cellulose ester It is preferable to use the protective film whose content mass ratio of resin is thermoplastic acrylic resin: cellulose-ester resin = 95: 5-50: 50. Details of the configuration are as described above, and specific examples include an unoriented film having a retardation (Ro) of 0 to 5 nm at 590 nm and an Rt of -20 to +20 nm.
상기 리타데이션은 23℃, 55% RH 환경하에서 습도 조절한 시료를, 자동 복굴절계(코브라(KOBRA) 21DH, 오지 게이소꾸(주))로, 590nm에서의 측정에 의해 구한 값으로부터 하기식에 의해 산출할 수 있다.The retardation is a sample obtained by adjusting the humidity at 23 ° C and 55% RH environment with an automatic birefringence meter (KOBRA 21DH, Oji Keisoku Co., Ltd.). Can be calculated.
식 (I): Ro=(nx-ny)×d(nm)Formula (I): Ro = (nx-ny) × d (nm)
식 (II): Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nm)Formula (II): Rt = {(nx + ny) / 2-nz} × d (nm)
〔상기 식 중, Ro는 필름내의 면 내 리타데이션 값을 나타내고, Rt는 필름내의 두께 방향의 리타데이션 값을 나타낸다. 또한, d는 광학 필름의 두께(nm)를 나타내고, nx는 필름의 면 내의 최대의 굴절률을 나타낸다. ny는 필름 면내에서 지상축에 직각인 방향의 굴절률을 나타내고, nz는 두께 방향에서의 필름의 굴절률을 나타낸다.〕[In the above formula, Ro represents an in-plane retardation value in the film, and Rt represents a retardation value in the thickness direction in the film. In addition, d represents the thickness (nm) of an optical film, and nx represents the largest refractive index in the plane of a film. ny represents the refractive index of the direction orthogonal to the slow axis in a film plane, and nz represents the refractive index of a film in the thickness direction.]
또한, 그 밖에 면내 리타데이션(Ro)이 590nm에서, 20 내지 70nm, Rt가 70 내지 400nm의 위상차를 갖는 광학 보상 필름(위상차 필름)을 사용하여, 시야각 확대 가능한 편광판으로 할 수도 있다. 또는, 또한 디스코틱 액정 등의 액정 화합물을 배향시켜서 형성한 광학 이방성층을 갖고 있는 광학 보상 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 바람직하게 사용되는 시판되는 편광판 보호 필름으로는, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4FR-2, KC8UE, KC4UE(코니카 미놀타 옵토(주) 제조) 등을 들 수 있다.In addition, an optical compensation film (retardation film) having a retardation of 20 to 70 nm and Rt of 70 to 400 nm at an in-plane retardation Ro of 590 nm may be used as a polarizing plate capable of expanding the viewing angle. Or it is preferable to use the optical compensation film which has the optically anisotropic layer formed by orienting liquid crystal compounds, such as a discotic liquid crystal, further. Moreover, as a commercially available polarizing plate protective film used preferably, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4FR-2, KC8UE, KC4UE (Konica Minolta Opto Corporation) etc. are mentioned.
편광판의 주된 구성 요소인 편광막이란, 일정 방향의 편파면의 광만을 통과시키는 소자이며, 현재 알려져 있는 대표적인 편광막은, 폴리비닐알코올계 편광 필름으로, 이것은 폴리비닐알코올계 필름에 요오드를 염색시킨 것과 2색성 염료를 염색시킨 것이 있는데, 이것에만 한정되는 것은 아니다. 편광막은, 폴리비닐알코올 수용액을 제막하고, 이것을 1축 연신시켜서 염색하거나, 염색한 후 1축 연신하고나서, 바람직하게는 붕소 화합물로 내구성 처리를 행한 것이 사용되고 있다. 편광막의 막 두께는 5 내지 30㎛, 바람직하게는 8 내지 15㎛의 편광막이 바람직하게 사용된다. 상기 편광막의 면 위에, 본 발명에 따른 방현성 필름의 편면을 접합하여 편광판을 형성한다. 바람직하게는 완전 비누화 폴리비닐알코올 등을 주성분으로 하는 수계의 접착제에 의해 접합한다.The polarizing film which is a main component of a polarizing plate is an element which passes only the light of the polarization plane of a fixed direction, and the typical polarizing film currently known is a polyvinyl alcohol-type polarizing film, which is the thing which dyed iodine on the polyvinyl alcohol-type film, Although there exist some which dyed a dichroic dye, it is not limited to this. The polarizing film forms a polyvinyl alcohol aqueous solution, uniaxially stretches it, or dyes it, or uniaxially stretches it after dyeing, Preferably, the thing which carried out durability treatment with the boron compound is used. As for the film thickness of a polarizing film, the polarizing film of 5-30 micrometers, Preferably 8-15 micrometers is used preferably. On the surface of the said polarizing film, the single side | surface of the anti-glare film concerning this invention is bonded together, and a polarizing plate is formed. Preferably, it is bonded by an aqueous adhesive mainly composed of fully saponified polyvinyl alcohol or the like.
(점착제층)(Pressure-sensitive adhesive layer)
액정 셀의 기판과 접합하기 위해 보호 필름의 편면에 사용되는 점착제층은, 광학적으로 투명한 것은 물론, 적당한 점탄성이나 점착 특성을 나타내는 것이 바람직하다.In order to bond with the board | substrate of a liquid crystal cell, it is preferable that the adhesive layer used for the single side | surface of a protective film shows not only optically transparent but also suitable viscoelasticity and adhesive characteristics.
구체적인 점착제층으로는, 예를 들어 아크릴계 공중합체나 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘계 중합체, 폴리에테르, 부티랄계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 합성 고무 등의 접착제 또는 점착제 등의 중합체를 사용하여, 건조법, 화학 경화법, 열경화법, 열용융법, 광경화법 등에 의해 막 형성시켜 경화시킬 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 공중합체는, 가장 점착 물성을 제어하기 쉽고, 또한 투명성이나 내후성, 내구성 등이 우수하여 바람직하게 사용할 수 있다.As a specific adhesive layer, adhesive or adhesives, such as an acrylic copolymer, an epoxy resin, a polyurethane, a silicone polymer, a polyether, butyral resin, a polyamide resin, a polyvinyl alcohol resin, synthetic rubber, etc. Using a polymer, it can form and harden | cure a film by a drying method, the chemical hardening method, the thermosetting method, the hot melt method, the photocuring method, etc. Especially, an acryl-type copolymer is easy to control most adhesive physical property, and excellent in transparency, weather resistance, durability, etc., and can be used preferably.
<화상 표시 장치><Image Display Device>
본 실시 형태의 방현성 필름은, 화상 표시 장치에 사용함으로써, 시인성이 우수한 성능이 발휘된다. 화상 표시 장치로는, 반사형, 투과형, 반투과형 액정 표시 장치 또는, TN형, STN형, OCB형, VA형, IPS형, ECB형 등의 각종 구동 방식의 액정 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 소자를 갖는 표시 장치나 플라즈마 디스플레이 등을 들 수 있다. 이들 화상 표시 장치 중에서도 액정 표시 장치의 편광판에 본 실시 형태의 방현성 필름을 사용함으로써 시인성이 우수한 점에서 바람직하다.By using the anti-glare film of this embodiment for an image display apparatus, the performance excellent in visibility is exhibited. As an image display device, a liquid crystal display device of various drive systems, such as a reflection type, a transmissive type, a transflective type liquid crystal display device, or a TN type, STN type, OCB type, VA type, IPS type, ECB type, organic electroluminescence A display apparatus, a plasma display, etc. which have an element are mentioned. It is preferable at the point which is excellent in visibility by using the anti-glare film of this embodiment among these image display apparatuses for the polarizing plate of a liquid crystal display device.
본 발명의 일 실시 형태인 편광판을 도 4에 도시한다. 또한, 도 5에 도시하는 바와 같이 액정 표시 장치의 액정 셀(도 6)의 배면측(백라이트측)에 본 실시 형태의 방현성 필름으로 구성되는 편광판을 사용함으로써, 무아레 줄무늬의 발생 방지가 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 도 5 중, 부호 20은 액정 표시 장치, 21은 액정 셀, 22는 편광막, 23은 광학 필름, 24는 클리어 하드 코트 필름, 25는 방현성 필름, 26은 점착제층, 27은 편광판, 28은 편광판을 각각 나타낸다. 또한, 도 6 중, 부호 30은 액정 셀, 31은 액정, 32는 배향막, 33은 컬러 필터, 34는 유리 기판, 35는 스페이서, 36은 편광판, 37은 편광판을 각각 나타낸다.The polarizing plate which is one Embodiment of this invention is shown in FIG. Moreover, as shown in FIG. 5, the use of the polarizing plate comprised from the anti-glare film of this embodiment on the back side (backlight side) of the liquid crystal cell (FIG. 6) of a liquid crystal display device is excellent in preventing generation of moire fringes. Preferred at In addition, in FIG. 5, the code |
보다 구체적으로는, 예를 들어 도 5에 도시한 바와 같이, 액정 패널(20)은 액정 셀(21)의, 배면(백라이트)측(시인측 표면과는 반대측)의 표면 위에, 방현성 필름(25)이 외측이 되도록 편광판(28)이 배치되는 것을 들 수 있다. 또한, 액정 패널(20)은 액정 셀(21)의, 시인측의 표면 위에, 상기 편광판(28)과는 다른 편광판(27)이 배치된 것을 들 수 있다. 상기 편광판(27)으로는, 예를 들어 방현성 필름 대신에 클리어 하드 코트 필름(24)을 구비하는 편광판 등을 들 수 있다.More specifically, for example, as shown in FIG. 5, the
또한, 액정 셀이란, 한 쌍의 전극간에 액정 물질이 충전된 것이며, 이 전극에 전압을 인가함으로써 액정의 배향 상태가 변화되어, 투과광량이 제어된다. 구체적으로는, 액정 셀(30)은 도 6에 도시한 바와 같이, 배향막(32)과 컬러 필터(33)와 유리 기판(34)을 적층한 적층체 2장을, 스페이서(35)를 통해 배향막(32)이 내측이 되도록 배치하고, 배향막(32) 사이에 액정(31)을 충전한 것 등을 들 수 있다. 또한, 액정 셀(30)은 액정(31)에 전압을 인가하기 위한 투명 전극을, 배향막(32)과 컬러 필터(33)의 사이에 배치해도 된다.In addition, with a liquid crystal cell, a liquid crystal substance is charged between a pair of electrodes, The orientation state of a liquid crystal changes by applying a voltage to this electrode, and the amount of transmitted light is controlled. Specifically, as shown in FIG. 6, the
또한, 본 실시 형태에 따른 방현성 필름은, 터치 패널용 부재에 사용해도 된다. 본 실시 형태에 따른 터치 패널 부재는, 본 실시 형태에 따른 방현성 필름이 구비되어 있는 것이다. 이러한 터치 패널용 부재는, 상기 방현성 필름을 구비하므로, 문자 흐림이나 펜 입력에 대한 내구성(미끄럼 이동에 의한 흠집 등)도 우수한 점에서 바람직하다. 구체적으로는, 도 7에 도시한 바와 같은, 도전성 막을 구비한 방현성 필름 등을 들 수 있다. 도 7 중, 부호 40은 터치 패널용 도전성 막을 구비한 방현성 필름, 41은 기재 필름, 42는 방현층, 43은 투명 도전성 박막(ITO층)을 각각 나타낸다. 이 도전성 막을 구비한 방현성 필름(40)은 터치 패널용 부재이며, 기재 필름(41)의 표면 위에, 방현층(42)을 구비하는 방현성 필름을 구비한다. 그 방현성 필름은, 기재 필름(41)의 양면에 방현층(42)을 구비한다. 그리고, 도전성 막을 구비한 방현성 필름(40)은 이 방현성 필름의 1 표면 위에, 투명 도전성 박막(ITO층)(43)을 구비한다.In addition, you may use the anti-glare film which concerns on this embodiment for the member for touch panels. The touch panel member which concerns on this embodiment is equipped with the anti-glare film which concerns on this embodiment. Since such a touch panel member is provided with the said anti-glare film, it is preferable at the point which is excellent also in the character blur and the durability (scratches by sliding) etc. with respect to a pen input. Specifically, an anti-glare film provided with a conductive film as shown in FIG. 7 is mentioned. In FIG. 7, 40 is an anti-glare film provided with the conductive film for touch panels, 41 is a base film, 42 is an anti-glare layer, 43 is a transparent conductive thin film (ITO layer), respectively. The
이렇게 터치 패널을 구비한 화상 표시 장치의 터치 패널용 부재에 본 발명의 방현성 필름을 사용한 경우, 문자 흐림이나 펜 입력에 대한 내구성(미끄럼 이동에 의한 흠집 등)도 우수한 점에서 바람직하다.Thus, when the anti-glare film of this invention is used for the touch panel member of the image display apparatus provided with a touch panel, it is preferable at the point which is excellent also in the character blur and the durability (scratches by sliding) etc. to a pen input.
<터치 패널><Touch panel>
이어서, 본 실시 형태의 방현성 필름을 터치 패널에 사용한 경우의 일례를 나타낸다. 도 8은, 본 실시 형태의 방현성 필름을 터치 패널에 사용하여 저항막 방식 터치 패널을 구비한 액정 표시 장치(50)의 개략도이다. 도 8 중, 부호 50은 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치, 51은 스페이서, 52는 투명 도전성 박막(ITO층), 53은 유리 기판, 54는 LCD(액정 표시 패널)를 각각 나타낸다. 도전성 방현성 필름(40)을 투명 도전성 박막(52)이 형성된 유리 기판(53)과, 투명 도전성 박막끼리 마주보도록 일정한 간격(스페이서(51))을 두고 대향시킴으로써, 저항막 방식의 터치 패널을 구성할 수 있다. 도전성 방현성 필름 및 유리 기판의 단부에는 도시하지 않은 전극이 배치되어 있다. 저항막 방식의 터치 패널은, 유저가 도전성 방현성 필름을 손가락이나 펜 등으로 누름으로써, 도전성 방현성 필름의 투명 도전성 박막이, 유리 기판 위의 투명 도전성 박막과 접촉한다. 이 접촉을 단부의 전극을 통해 전기적으로 검출함으로써, 눌러진 위치가 검출되는 구조이다. 유리 기판의 투명 도전성 박막 위에는, 필요에 따라 도트 형상의 스페이서가 배치된다. 또한, 터치 패널을 LCD(액정 표시 장치) 위에 탑재함으로써, 터치 패널을 구비한 액정 표시 장치를 구성할 수 있다.Next, an example at the time of using the anti-glare film of this embodiment for a touch panel is shown. 8 is a schematic diagram of a liquid
본 명세서는, 상술한 바와 같이 다양한 형태의 기술을 개시하고 있지만, 그 중 주된 기술을 이하에 정리한다.Although this specification discloses the various forms of technology as mentioned above, the main technique is summarized below.
본 발명의 일 국면은, 기재 필름 위에, 활성선 경화형 수지를 함유하는 방현층을 갖는 방현성 필름이며, 상기 방현층이 미립자 및 상기 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm이며, 또한 상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 1.0%인 것을 특징으로 하는 방현성 필름이다.One aspect of the present invention is an antiglare film having an antiglare layer containing an active ray curable resin on a base film, wherein the antiglare layer does not substantially contain incompatible resins with respect to the fine particles and the active ray curable resin, Arithmetic mean roughness Ra of the said glare-proof layer is 300-1500 nm, The haze resulting from the internal scattering of the said glare-proof layer is 0 to 1.0%, It is an anti-glare film characterized by the above-mentioned.
이와 같은 구성에 의하면, 안정된 표면 요철이 형성되어, 내구성 시험 후의 방현성 필름의 미소 백탁 얼룩이나 미소 균열의 발생이 없어, 화상 표시 장치에 사용한 경우, 시인성(투영 방지 성능과 선예성)이 우수한 방현성 필름을 제공할 수 있다.According to such a structure, when stable surface unevenness | corrugation is formed and there is no generation | occurrence | production of the micro cloudiness unevenness and microcracks of the anti-glare film after a durability test, and it is used for an image display apparatus, it is excellent in visibility (projection prevention performance and sharpness). A manifest film can be provided.
또한, 상기 방현성 필름에 있어서, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 350 내지 1300nm인 것이 바람직하다. 이에 의해 상기 효과가 보다 확실하게 얻어진다.Moreover, in the said anti-glare film, it is preferable that arithmetic mean roughness Ra of the said anti-glare layer is 350-1300 nm. Thereby, the said effect is acquired more reliably.
또한, 상기 방현성 필름에 있어서, 상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 500 내지 1300nm인 것이 바람직하다. 이에 의해 상기 효과가 보다 확실하게 얻어진다.Moreover, in the said anti-glare film, it is preferable that arithmetic mean roughness Ra of the said anti-glare layer is 500-1300 nm. Thereby, the said effect is acquired more reliably.
또한, 상기 방현성 필름에 있어서, 상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 0.5%인 것이 바람직하다. 이에 의해 상기 효과가 보다 확실하게 얻어진다.Moreover, in the said anti-glare film, it is preferable that the haze resulting from the internal scattering of the said anti-glare layer is 0 to 0.5%. Thereby, the said effect is acquired more reliably.
또한, 상기 방현성 필름에 있어서, 상기 방현층의 표면이 길이 방향으로 주기를 가지지 않는 불규칙한 돌기 형상을 갖고 있는 것이 바람직하다. 이에 의해 상기 효과가 보다 양호하게 발휘된다.Moreover, in the said anti-glare film, it is preferable that the surface of the said anti-glare layer has the irregular protrusion shape which does not have a period in a longitudinal direction. Thereby, the said effect is exhibited more favorable.
또한, 상기 방현성 필름에 있어서, 상기 활성선 경화형 수지의 25℃에서의 점도가 20 내지 3000mPa·s의 범위 내인 것이 바람직하다. 이러한 활성선 경화형 수지를 사용함으로써, 상기 돌기 형상 및 상기 범위의 산술 평균 조도(R)가 얻어지기 쉽다.Moreover, in the said anti-glare film, it is preferable that the viscosity in 25 degreeC of the said actinic-rays curable resin exists in the range of 20-3000 mPa * s. By using such actinic-rays curable resin, the arithmetic mean roughness R of the said protrusion shape and the said range is easy to be obtained.
또한, 본 발명의 새로운 일 국면은, 상기 방현성 필름의 방현층 위에 직접 또는 다른 층을 개재하여 저굴절률층이 적층된 것을 특징으로 하는 방현성 반사 방지 필름이다. 이러한 구성으로 함으로써, 시인성이 우수한 방현성 반사 방지 필름을 얻을 수 있다.In addition, a new aspect of the present invention is an anti-glare antireflection film, characterized in that the low refractive index layer is laminated on the anti-glare layer of the anti-glare film directly or through another layer. By setting it as such a structure, the anti-glare antireflection film excellent in visibility can be obtained.
또한, 본 발명의 새로운 일 국면은, 상기 방현성 필름을 제조하는 방현성 필름의 제조 방법이며, 25℃에서의 점도가 20 내지 3000mPa·s의 범위 내에 있는 활성선 경화형 수지를 에스테르류, 글리콜에테르류 또는 알코올류에서 선택되는 적어도 1종의 용제로 희석한 방현층 도포 조성물을, 적어도 도포 공정, 건조 공정 및 경화 공정을 경유하여 방현층을 형성하고, 또한 상기 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 온도를 90 내지 160℃의 범위 내로 유지한 조건하에서 처리하는 것을 특징으로 하는 방현성 필름의 제조 방법이다. 이와 같은 구성에 의해, 상술한 바와 같은 우수한 방현성 필름을 얻을 수 있다.Moreover, one new aspect of this invention is a manufacturing method of the anti-glare film which manufactures the said anti-glare film, It is ester, glycol ether which used the actinic-ray curable resin in the range of 20-3000 mPa * s in the viscosity in 25 degreeC. The antiglare layer coating composition diluted with at least one solvent selected from the group or alcohols is formed at least through an application step, a drying step and a curing step to form an antiglare layer, and furthermore, the temperature of the rate-sensitive drying section in the drying step. It is a manufacturing method of the anti-glare film characterized by processing on conditions maintained in the range of 90-160 degreeC. By such a structure, the excellent anti-glare film mentioned above can be obtained.
본 발명의 새로운 일 국면은, 상기 방현성 필름 및 상기 방현성 반사 방지 필름이, 적어도 한쪽 면에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 편광판이다. 이와 같은 구성에 의하면 시인성이 우수한 편광판을 얻을 수 있다.One new aspect of the present invention is the polarizing plate, wherein the anti-glare film and the anti-glare antireflection film are provided on at least one surface. According to such a structure, the polarizing plate excellent in visibility can be obtained.
본 발명의 새로운 일 국면은, 상기한 방현성 필름 및 상기한 방현성 반사 방지 필름이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치이다. 이와 같은 구성에 의하면 시인성이 우수한 화상 표시 장치를 얻을 수 있다.One new aspect of the present invention is the image display apparatus, wherein the anti-glare film and the anti-glare antireflection film are provided. According to such a structure, the image display apparatus excellent in visibility can be obtained.
또한, 상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기한 편광판이 액정 셀 중 적어도 한쪽의 면에 구비되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성에 의하면 시인성이 우수한 화상 표시 장치를 보다 확실하게 얻을 수 있다.Moreover, in the said image display apparatus, it is preferable that said polarizing plate is provided in at least one surface of a liquid crystal cell. According to such a structure, the image display apparatus excellent in visibility can be obtained more reliably.
또한, 상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기한 편광판을 액정 셀의 배면측에 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성에 의하면 또한 무아레 줄무늬의 발생 방지가 우수한 점에서 바람직하다.Moreover, in the said image display apparatus, it is preferable to use said polarizing plate on the back side of a liquid crystal cell. According to such a structure, it is also preferable at the point which is excellent in the prevention of a moire fringe.
또한, 상기 화상 표시 장치에 있어서, 터치 패널 첨부 화상 표시 장치이며, 또한 당해 터치 패널의 구성 부재로서, 상기한 방현성 필름 또는 상기의 방현성 반사 방지 필름이 구비되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성에 의하면, 또한 문자 흐림이나 펜 입력에 대한 내구성(미끄럼 이동에 의한 흠집 등)도 우수한 점에서 바람직하다.Moreover, in the said image display apparatus, it is preferable that it is an image display apparatus with a touch panel, and that the said anti-glare film or said anti-glare antireflection film is provided as a structural member of the said touch panel. According to such a structure, it is also preferable at the point which is excellent also in the character blur and durability with respect to pen input (scratches by sliding).
실시예Example
이하에 실시예를 들어서 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이것들에 한정되는 것은 아니다.Although an Example is given to the following and this invention is concretely demonstrated to it, this invention is not limited to these.
실시예 1Example 1
<기재 필름 1의 제작><Production of base film 1>
(이산화규소 분산액의 제조)Preparation of Silicon Dioxide Dispersion
에어로질 R812(닛본에어로질(주) 제조, 1차 입자의 평균 직경 7nm 10질량부Aerosil R812 (manufactured by Nippon Airzyl Co., Ltd., average diameter of 7
에탄올 90질량부90 parts by mass of ethanol
이상을 디졸버로 30분간 교반 혼합한 후, 맨튼 가울린(Manton-Gaulin)으로 분산을 행하였다. 이산화규소 분산액에 88질량부의 메틸렌 클로라이드를 교반하면서 투입하고, 디졸버로 30분간 교반 혼합하여, 이산화규소 분산 희석액을 제작하였다. 미립자 분산 희석액 여과기(어드반텍 도요(주): 폴리프로필렌 와인드 카트리지 필터 TCW-PPS-1N)로 여과하였다.The resulting mixture was stirred with a dissolver for 30 minutes and dispersed with Manton-Gaulin. 88 mass parts methylene chloride was thrown into the silicon dioxide dispersion liquid, stirring and mixing for 30 minutes with the dissolver, and the silicon dioxide dispersion dilution liquid was produced. It filtered with the fine particle dispersion dilution filter (Advantech Toyo Co., Ltd .: polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N).
<기재 필름 1의 제작><Production of base film 1>
(도프 조성물)(Dope composition)
셀룰로오스 트리아세테이트(Mn=148000, Mw=310000 아세틸기 치환도 2.92)Cellulose triacetate (Mn = 148000, Mw = 310000 acetyl group substitution degree 2.92)
90질량부90 parts by mass
방향족 말단 에스테르계 가소제(B-4) 10질량부10 parts by mass of an aromatic terminal ester plasticizer (B-4)
티누빈 900(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 2.5질량부Tinuvin 900 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)
이산화규소 분산 희석액 4질량부4 parts by mass of silicon dioxide dispersion diluent
메틸렌 클로라이드 432질량부432 parts by mass of methylene chloride
에탄올 38질량부Ethanol 38 parts by mass
이상을 밀폐 용기에 투입하고, 가열하여 교반하면서, 완전히 용해하여, 아즈미 로시(주) 제조의 아즈미 로시 No.24를 사용해서 여과하여, 도프액을 제조하였다.The above was put into an airtight container, and it melt | dissolved fully, heating and stirring, and filtered using Azumi Rossi No.24 by Azumi Rossi Co., Ltd., and prepared the dope liquid.
이어서, 벨트 유연 장치를 사용하여, 스테인리스 밴드 지지체에 균일하게 유연하였다. 스테인리스 밴드 지지체에서, 잔류 용제량이 100%가 될 때까지 용제를 증발시켜, 스테인리스 밴드 지지체 위에서 박리하였다. 셀룰로오스에스테르 필름의 웹을 35℃에서 용제를 증발시키고, 1.65m 폭으로 슬릿하여, 텐터로 TD 방향(필름의 폭 방향)으로 1.3배, MD 방향의 연신 배율은 1.01배로 연신하면서, 160℃의 건조 온도에서 건조시켰다. 건조를 시작했을 때의 잔류 용제량은 20%이었다. 그 후, 120℃의 건조 장치 내를 다수의 롤로 반송시키면서 15분간 건조시킨 후, 1.49m 폭으로 슬릿하여, 필름 양단에 폭 15mm, 높이 10㎛의 널링 가공을 실시하고, 권취 코어에 권취하여 기재 필름 1을 얻었다. 기재 필름의 잔류 용제량은 0.2%이며, 막 두께는 40㎛, 권취 수는 3900m이었다.Subsequently, it casted uniformly on the stainless steel band support body using the belt casting apparatus. In the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent became 100%, and it peeled on the stainless steel band support. The solvent of the cellulose-ester film was evaporated at 35 degreeC, and it slitted to 1.65 m width, and it dried at 160 degreeC, extending | stretching 1.3 times in the TD direction (width direction of film) and 1.01 times in the MD direction with a tenter. Dried at temperature. The residual solvent amount at the start of drying was 20%. Then, after drying for 15 minutes, conveying the inside of a 120 degreeC drying apparatus with many rolls, it slitted to 1.49 m width, knurled processing of width 15mm and 10 micrometers in height at the both ends of a film, and wound up by a winding core, and a base material Film 1 was obtained. The residual solvent amount of the base film was 0.2%, the film thickness was 40 µm, and the number of windings was 3900 m.
<방현성 필름 1의 제작><Production of anti-glare film 1>
상기 제작한 기재 필름 1위에 구멍 직경 0.4㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과한 하기 방현층 도포 조성물 1을 압출 코터를 사용하여 도포하고, 항율 건조 구간 온도 95℃, 감율 건조 구간 온도 85℃에서 건조한 후, 산소 농도가 1.0체적% 이하의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서, 자외선 램프를 사용해서 조사부의 조도가 100mW/cm2이고, 조사량을 0.25J/cm2로 해서 도포층을 경화시켜, 드라이 막 두께 8㎛의 방현층을 형성하였다. 방현층을 형성한 후, 롤 형상으로 권취하여 방현성 필름 1을 제작하였다. 방현성 필름 1의 방현층 표면을 광학 간섭식 표면 조도계(Zygo사 제조 New View 5030)로 관찰한 결과, 도 3과 같이 불규칙한 돌기 형상이 불규칙하게 길이 방향 및 폭 방향으로 배열되어 있음을 알았다.The following anti-glare layer coating composition 1 filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm was applied to the prepared substrate film using an extrusion coater, and dried at a constant drying section temperature of 95 ° C. and a reduced drying section temperature of 85 ° C. Nitrogen purge so that the oxygen concentration is 1.0 vol% or less, the irradiated portion is 100 mW / cm 2 using an ultraviolet lamp, and the coating layer is cured with an irradiation amount of 0.25 J / cm 2 , whereby the dry film thickness 8 An anti-glare layer of 탆 was formed. After forming an anti-glare layer, it wound up in roll shape and produced the anti-glare film 1. As a result of observing the antiglare layer surface of the anti-glare film 1 with an optical interference surface roughness meter (New View 5030, manufactured by Zygo), it was found that irregular protrusion shapes were irregularly arranged in the longitudinal direction and the width direction as shown in FIG. 3.
[방현층 도포 조성물 1][Antiglare Layer Coating Composition 1]
하기 방현층 도포 조성물 1을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 1을 얻었다.The following anti-glare layer coating composition 1 was stirred and mixed with a disper, and the anti-glare layer coating composition 1 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 90질량부90 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 Trimethylolpropane triacrylate
(NK 에스테르 A-TMPT, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 10질량부10 parts by mass (NK ester A-TMPT, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬사 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 5 parts by mass
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 100질량부100 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGME)
상기 방현층 도포 조성물 1의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 550mPa·s이었다.Only the active-ray-curable resin of the said glare-proof layer coating composition 1 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 550 mPa * s.
<방현성 필름 2 내지 8의 제작><Production of
방현성 필름 1의 제작에서, 감율 건조 구간의 온도를 표 1에 기재한 바와 같이 조건 변경한 것 이외는, 방현성 필름 1과 마찬가지로 하여, 방현성 필름 2 내지 8을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the
<방현성 필름 9의 제작><Production of anti-glare film 9>
방현성 필름 1의 제작에서, 방현층 도포 조성물 1을 하기 방현층 도포 조성물 2로 하고, 또한 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 온도를 100℃로 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여, 방현성 필름 9를 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the anti-glare layer coating composition 1 was made into the following anti-glare
[방현층 도포 조성물 2][Antiglare Layer Coating Composition 2]
하기 방현층 도포 조성물 2를 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 2를 얻었다.The following anti-glare
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 90질량부90 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트Trimethylolpropane triacrylate
(NK 에스테르 A-TMPT, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 10질량부10 parts by mass (NK ester A-TMPT, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
에탄올 100질량부100 parts by mass of ethanol
상기 방현층 도포 조성물 2의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 550mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said glare-proof
<방현성 필름 10의 제작><Production of
방현성 필름 1의 제작에서, 방현층 도포 조성물 1을 하기 방현층 도포 조성물 3으로 하고, 또한 건조 공정에서의 감율 건조 구간의 온도를 100℃로 변경한 것 이외는, 마찬가지로 하여 방현성 필름 10을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the anti-glare layer coating composition 1 was made into the following anti-glare
[방현층 도포 조성물 3][Antiglare Layer Coating Composition 3]
하기 방현층 도포 조성물 3을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 3을 얻었다.The following anti-glare
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
디트리메틸올프로판 테트라아크릴레이트Ditrimethylolpropane tetraacrylate
(NK 에스테르 AD-TMP, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 60질량부(NK ester AD-TMP, Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 60 parts by mass
에톡시화 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트Ethoxylated Pentaerythritol Tetraacrylate
(NK 에스테르 ATM-35E, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 40질량부(NK ester ATM-35E, Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 40 parts by mass
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 50질량부50 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGME)
메탄올 50질량부50 parts by mass of methanol
상기 방현층 도포 조성물 3의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 740mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said anti-glare
<방현성 필름 11 내지 17의 제작><Production of
방현성 필름 7의 제작에 있어서, 감율 건조 구간의 온도를 표 1에 기재한 바와 같이 조건 변경한 것 이외는, 방현성 필름 7과 마찬가지로 하여, 방현성 필름 11 내지 17을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 7, the
<방현성 필름 18의 제작><Production of anti-glare film 18>
방현성 필름 1의 제작에 있어서, 방현층 도포 조성물 1을 일본 특허 공개 제2006-106290호 공보의 실시예 1을 참고로 하여 제조한 비상용의 수지 성분을 함유하는 방현층 도포 조성물 4로 변경하고, 또한 건조 온도를 일본 특허 공개 제2006-106290호 공보의 실시예 1과 같은 70℃로 한 것 이외는 마찬가지로 하여 방현층을 제작하였다. 이어서, 방현층 위에 압출 코터를 사용하여, 열경화성 불소 함유 화합물 도포 시공액(닛산 가가꾸(주) 제조, LR-202B, 고형분 1질량%)을 건조 후의 막 두께가 100nm가 되도록 도포하고, 90℃에서 5분간 건조시킴으로써 열경화시켜, 방현성 필름 18을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the anti-glare layer coating composition 1 is changed to the anti-glare layer coating composition 4 containing the incompatible resin component produced with reference to Example 1 of JP-A-2006-106290, Moreover, an anti-glare layer was produced similarly except having made drying temperature into 70 degreeC like Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-106290. Subsequently, using an extrusion coater, the thermosetting fluorine-containing compound coating liquid (Nissan Chemical Co., Ltd. product, LR-202B, solid content 1 mass%) was apply | coated so that the film thickness after drying might be 100 nm, using 90 degreeC on an anti-glare layer. It thermosetted by drying for 5 minutes, and the anti-glare film 18 was produced.
[방현층 도포 조성물 4][Antiglare Layer Coating Composition 4]
하기 방현층 도포 조성물 4를 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 4를 얻었다.The following anti-glare layer coating composition 4 was stirred and mixed with the disper, and the anti-glare layer coating composition 4 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
사이클로머 P(ACA) 320(불포화 기 함유 아크릴 수지 혼합물, 다이셀 가가꾸 고교(주) 제조) 5.04질량부Cyclomer P (ACA) 320 (unsaturated group-containing acrylic resin mixture, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 5.04 parts by mass
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, 다이셀·사이텍(주) 제조) Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
6.4질량부6.4 parts by mass
(비상용성 수지)(Incompatible resin)
셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP-482-20, 이스트만 케미컬사 제조) 0.9질량부Cellulose acetate propionate (CAP-482-20, produced by Eastman Chemical Co., Ltd.) 0.9 parts by mass
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 0.2질량부0.2 mass parts of Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(용제)(solvent)
메틸에틸케톤(MEK) 20질량부20 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK)
시클로헥사논(CYC) 5질량부5 parts by mass of cyclohexanone (CYC)
상기 방현층 도포 조성물 4의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 10600mPa·s이었다. 또한, 표 1에서 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트를 CAP로 나타냈다.Only the active-ray hardening-type resin of the said anti-glare layer coating composition 4 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 10600 mPa * s. Table 1 also shows cellulose acetate propionate as CAP.
<방현성 필름 19의 제작><Production of anti-glare film 19>
방현성 필름 1의 제작에 있어서, 방현층 도포 조성물 1을 일본 특허 공개 제2008-225195호 공보의 실시예 1을 참고로 하여 조정한 비상용의 수지 성분을 함유하는 방현층 도포 조성물 5로 변경하고, 또한 건조 온도를 일본 특허 공개 제2008-225195호 공보의 실시예 1과 동일한 70℃로 한 것 이외는 방현성 필름 1과 마찬가지로 하여, 방현성 필름 19를 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the anti-glare layer coating composition 1 is changed to the anti-glare
[방현층 도포 조성물 5][Antiglare Layer Coating Composition 5]
하기 방현층 도포 조성물 5를 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 5를 얻었다.The following anti-glare
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
사이클로머 P(ACA) 320(불포화 기 함유 아크릴 수지 혼합물, 다이셀 가가꾸 고교(주) 제조) 5.65질량부5.65 parts by mass of cyclomer P (ACA) 320 (unsaturated group-containing acrylic resin mixture, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, 다이셀·사이텍(주) 제조)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
6.3질량부6.3 parts by mass
(비상용성 수지)(Incompatible resin)
폴리메타크릴산메틸(중량 평균 분자량(480000; 미쯔비시 레이온(주) 제조, BR88) 0.9질량부0.9 mass part of polymethyl methacrylate (weight average molecular weight (480000; Mitsubishi Rayon Corporation make, BR88)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 0.5질량부0.5 mass parts of Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(용제)(solvent)
메틸에틸케톤(MEK) 0.1질량부0.1 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK)
부탄올 5.4질량부Butanol 5.4 parts by mass
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 1.89질량부Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 1.89 parts by mass
상기 방현층 도포 조성물 5의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 10500mPa·s이었다. 또한, 표 1에서 폴리메타크릴산메틸을 PMMA로 나타냈다.Only the active-ray hardening-type resin of the said glare-proof
<방현성 필름 20의 제작><Production of
방현성 필름 1의 제작에 있어서, 방현층 도포 조성물 1을 일본 특허 공개 제2007-58204호 공보의 실시예 3을 참고로 하여 조정한 비상용의 수지 성분을 함유하는 방현층 도포 조성물 6으로 변경하고, 또한 건조 온도를 일본 특허 공개 제2007-58204호 공보의 실시예 3과 동일한 80℃로 변경한 것 이외는 방현성 필름 1과 마찬가지로 하여 방현성 필름 20을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the anti-glare layer coating composition 1 is changed to the anti-glare layer coating composition 6 containing the incompatible resin component adjusted with reference to Example 3 of JP-A-2007-58204, Moreover, the
[방현층 도포 조성물 6][Antiglare Layer Coating Composition 6]
하기 방현층 도포 조성물 6을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 6을 얻었다.The following anti-glare layer coating composition 6 was stirred and mixed with a disper, and the anti-glare layer coating composition 6 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, 다이셀·사이텍(주) 제조)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)
92질량부92 parts by mass
(비상용성 수지)(Incompatible resin)
메타크릴레이트 공중합 중합체(사프토머 ST3600, 미쯔비시 가가꾸 가부시끼가이샤) 15질량부15 parts by mass of methacrylate copolymer (saptomer ST3600, Mitsubishi Chemical Corporation)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 4질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
에탄올 45질량부45 parts by mass of ethanol
톨루엔 15질량부
상기 방현층 도포 조성물 6의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 6000mPa·s이었다. 또한, 표 1에서 메타크릴레이트 공중합 중합체를 MACP로 나타냈다.Only the active-ray hardening-type resin of the said anti-glare layer coating composition 6 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 6000 mPa * s. In addition, in Table 1, methacrylate copolymer is shown as MACP.
<방현성 필름 21의 제작><Production of
방현성 필름 4의 제작에 있어서, 방현층 도포 조성물 1을 방현층 도포 조성물 7로 변경한 것 이외는 방현성 필름 4와 마찬가지로 하여, 방현성 필름 21을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 4, the
[방현층 도포 조성물 7][Antiglare Layer Coating Composition 7]
하기 배합 비율의 용매에 평균 입경 2㎛의 실리카 미립자(상품명: 하이프레시카 TS, 우베닛토카세이사 제조) 5질량부를 섞은 후, 에어 디스퍼로 30분간 교반하여 입자 분산액을 얻었다. 이 입자 분산액에 다른 소재를 혼합, 교반하여, 방현층 도포 조성물 7을 조정하였다.After mixing 5 mass parts of silica microparticles | fine-particles (brand name: high fresh car TS, the product made by Ubenitto Kasei Co., Ltd.) of the average particle diameter of 2 micrometers with the solvent of the following mixture ratio, it stirred for 30 minutes with the air disper, and obtained the particle dispersion liquid. Another raw material was mixed and stirred in this particle dispersion liquid, and the anti-glare layer coating composition 7 was adjusted.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트 Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 90질량부90 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트Trimethylolpropane triacrylate
(NK 에스테르 A-TMPT, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 10질량부10 parts by mass (NK ester A-TMPT, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬사제) 5질량부Irgacure 184 (product made by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(미립자)(Fine particles)
평균 입경 2㎛의 실리카 미립자 5질량부5 parts by mass of silica fine particles having an average particle diameter of 2 μm
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 100질량부100 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGME)
상기 방현층 도포 조성물 7의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 450mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said glare-proof layer coating composition 7 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 450 mPa * s.
<방현성 필름 22의 제작><Production of
방현성 필름 4의 제작에 있어서, 방현층 도포 조성물 1을 방현층 도포 조성물 8로 변경한 것 이외는 방현성 필름 4와 마찬가지로 하여, 방현성 필름 22를 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 4, the
[방현층 도포 조성물 8][Antiglare Layer Coating Composition 8]
하기 방현층 도포 조성물 8을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 8을 얻었다.The following anti-glare layer coating composition 8 was stirred and mixed with a disper, and the anti-glare layer coating composition 8 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 90질량부90 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트Trimethylolpropane triacrylate
(NK 에스테르 A-TMPT, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 10질량부10 parts by mass (NK ester A-TMPT, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬사제) 5질량부Irgacure 184 (product made by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
에틸렌글리콜모노프로필에테르(EGPE) 100질량부100 parts by mass of ethylene glycol monopropyl ether (EGPE)
상기 방현층 도포 조성물 8의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 450mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said anti-glare layer coating composition 8 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 450 mPa * s.
<방현성 필름 23의 제작><Production of
방현성 필름 1의 제작에 있어서, 방현층 조성물 1을 하기 방현층 조성물 9로 변경하고, 감율 건조 구간 온도를 120℃로 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여, 방현성 필름 23을 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 1, the
[방현층 도포 조성물 9][Antiglare Layer Coating Composition 9]
하기 방현층 조성물 9를 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 9를 얻었다.The following anti-glare layer composition 9 was stirred and mixed with a disper, and the anti-glare layer coating composition 9 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 75질량부75 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트Isocyanuric Acid EO Modified Diacrylate
(아로닉스 M-215, 도아 고세(주) 제조) 25질량부25 parts by mass (aronix M-215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르 100질량부100 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether
상기 방현층 도포 조성물 9의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 2800mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said glare-proof layer coating composition 9 was stirred and mixed with the disper, and it measured using the Brookfield viscometer on 25 degreeC conditions, and the resin viscosity was 2800 mPa * s.
<방현성 필름 24의 제작><Production of
방현성 필름 4의 제작에 있어서, 방현층 조성물 1을 하기 방현층 조성물 10으로 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여, 방현성 필름 24를 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 4, the
[방현층 도포 조성물 10][Antiglare Layer Coating Composition 10]
하기 방현층 도포 조성물 10을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 10을 얻었다.The following anti-glare
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트Trimethylolpropane triacrylate
(라이트 아크릴레이트 TMP-A, 교에샤 가가꾸(주) 제) 80질량부(Light acrylate TMP-A, Kyoesha Chemical Co., Ltd.) 80 parts by mass
4-히드록시부틸 아크릴레이트(4-HBA, 오사까 유끼 가가꾸 고교(주) 제조)4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA, Osaka Kagaku Kogyo KK)
20질량부20 parts by mass
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르 100질량부100 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether
상기 방현층 도포 조성물 10의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 35mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said glare-proof
<방현성 필름 25의 제작><Production of
방현성 필름 4의 제작에 있어서, 방현층 조성물 1을 하기 방현층 조성물 11로 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여, 방현성 필름 24를 제작하였다.In preparation of the anti-glare film 4, the
[방현층 도포 조성물 11][Antiglare Layer Coating Composition 11]
하기 방현층 도포 조성물 11을 디스퍼로 교반 혼합하여, 방현층 도포 조성물 11을 얻었다.The following anti-glare
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
펜타에리트리톨 트리/테트라아크릴레이트Pentaerythritol tri / tetraacrylate
(NK 에스테르 A-TMM-3L, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 90질량부90 parts by mass (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트Trimethylolpropane triacrylate
(NK 에스테르 A-TMPT, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 10질량부10 parts by mass (NK ester A-TMPT, manufactured by Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬사제) 5질량부Irgacure 184 (product made by BASF Japan)
(레벨링제)(Leveling agent)
폴리에테르 변성 실리콘(KF-889, 신에쯔 가가꾸 고교사 제조) 2질량부2 parts by mass of polyether modified silicone (KF-889, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(용제)(solvent)
아세트산 부틸 100질량부100 parts by mass of butyl acetate
상기 방현층 도포 조성물 11의 활성선 경화형 수지만을 디스퍼로 교반 혼합하고, 25℃의 조건에서 B형 점도계를 사용하여 측정한 결과, 수지 점도는 550mPa·s이었다.Only the active-ray hardening-type resin of the said anti-glare
<평가><Evaluation>
《헤이즈 및 산술 평균 조도(Ra) 측정》Haze and arithmetic mean roughness (Ra) measurement
상기 제작한 방현성 필름 1 내지 25에 대해서 헤이즈 측정을 행하고, 내부 헤이즈(Hi)를 구하였다. 또한, 산술 평균 조도(Ra)에 대해서도 하기 조건에서 측정하였다.Haze measurement was performed about the produced anti-glare films 1-25, and internal haze (Hi) was calculated | required. In addition, it measured on the following conditions also about arithmetic mean roughness Ra.
얻어진 내부 헤이즈(Hi) 및 산술 평균 조도(Ra)에 대해서, 결과를 표 1에 나타냈다.The result was shown in Table 1 about obtained internal haze (Hi) and arithmetic mean roughness (Ra).
(내부 헤이즈(Hi))(Internal haze (Hi))
각 방현성 필름의 표리면에 실리콘 오일을 몇 방울 적하하였다. 다음으로 실리콘 오일을 적하한 방현성 필름을 두께 1mm의 유리판(마이크로 슬라이드 글래스 제품 번호 S 9111, MATSUNAMI 제조) 2장으로 표리에서 물어, 완전히 2장의 유리판과 얻어진 방현성 필름을 광학적으로 밀착시켰다. 이 광학적으로 밀착시켜, 표면 헤이즈를 제거한 샘플의 헤이즈(Ha)를 닛본 덴쇼꾸 고교(주) 제조의 측정기(NDH2000)를 사용하여 측정하였다.A few drops of silicone oil were dripped at the front and back of each anti-glare film. Next, the anti-glare film which dripped the silicone oil was buried in front and back with two sheets of 1 mm thick glass plate (micro slide glass product number S 9111, MATSUNAMI), and the two glass plates and the obtained anti-glare film were optically closely adhered. Haze (Ha) of the sample which was made to contact this optically and the surface haze was removed was measured using the measuring instrument (NDH2000) by the Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. product.
계속해서, 유리판 2장의 사이에 실리콘 오일만을 끼워넣어 유리 헤이즈(Hb)를 측정하였다. Ha에서 Hb를 빼어, 방현성 필름의 내부 헤이즈(Hi)를 산출하였다.Subsequently, only silicone oil was sandwiched between two glass plates, and glass haze (Hb) was measured. Hb was subtracted from Ha, and internal haze (Hi) of the anti-glare film was calculated.
(산술 평균 조도(Ra) 측정)(Arithmetic mean roughness (Ra) measurement)
각 방현성 필름의 방현층의 산술 평균 조도(Ra)를, 광학 간섭식 표면 조도계(Zygo사 제조 New View 5030)를 사용하여 10회 측정하고, 그 측정 결과의 평균으로부터 각 방현성 필름의 산술 평균 조도(Ra)를 구하였다.Arithmetic mean roughness Ra of the anti-glare layer of each anti-glare film was measured 10 times using an optical interference surface roughness meter (New View 5030 manufactured by Zygo), and the arithmetic mean of each anti-glare film was measured from the average of the measurement results. Roughness Ra was obtained.
<내구성 시험><Durability test>
방현성 필름 1 내지 25를 옥외에서의 사용을 상정해서 70℃ 상대 습도 90%의 항온 항습조에서 50일 보존한 후, 또한 사이클 서모(-40℃·45분 방치, 계속해서 110℃·45분 방치를 교대)에 500 사이클을 투입하였다.After preserving anti-glare films 1 to 25 for 50 days in a constant temperature / humidity bath at 90% of 70 ° C relative humidity, after further preservation of cycles (-40 ° C for 45 minutes, and then 110 ° C for 45 minutes) 500 cycles were put into an unattended shift.
<편광판의 제작><Production of Polarizer>
내구 시험 후의 각 방현성 필름 1 내지 25와 하기 편광자와 이면측에 하기 수순으로 제작한 광학 필름 1을 길이 방향을 맞추도록 롤·투·롤로 접합하여 편광판을 각각 제작하였다. 편광판의 개략도를 도 4에 도시한다.Each anti-glare film 1-25 after an endurance test, and the following polarizer and the optical film 1 produced by the following procedure on the back surface side were bonded by the roll-to-roll so that the longitudinal direction may be matched, and the polarizing plate was produced, respectively. The schematic diagram of a polarizing plate is shown in FIG.
(광학 필름 1의 제작)(Production of optical film 1)
<미립자 분산액 1><Fine Particle Dispersion 1>
미립자(에어로질 R972V 닛본에어로질(주) 제조) 11질량부11 parts by mass of fine particles (aerosol R972V Nippon Aerosol Co., Ltd.)
에탄올 89질량부Ethanol 89 parts by mass
이상을 디졸버로 50분간 교반 혼합한 후, 맨튼 가울린(Manton-Gaulin)으로 분산을 행하였다.The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes and then dispersed with Manton-Gaulin.
<미립자 첨가액 1>≪ Fine Particle Addition Solution 1 >
메틸렌 클로라이드를 넣은 용해 탱크에 충분히 교반하면서 미립자 분산액 1을 천천히 첨가하였다. 또한, 2차 입자의 입경이 소정의 크기가 되도록 아트라이터로 분산을 행하였다. 이것을 니혼세이센(주) 제조의 파인메트 NF로 여과하여, 미립자 첨가액 1을 제조하였다.Particulate dispersion 1 was slowly added to the dissolution tank containing methylene chloride with sufficient stirring. Further, the particles were dispersed in the attritor so that the particle diameter of the secondary particles became a predetermined value. This was filtered with Fine Mat NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle addition liquid 1.
메틸렌 클로라이드 99질량부99 parts by mass of methylene chloride
미립자 분산액1 5질량부Particulate dispersion 1 5 parts by mass
하기 조성의 주 도프액을 제조하였다. 우선 가압 용해 탱크에 메틸렌 클로라이드와 에탄올을 첨가하였다. 용제가 들어간 가압 용해 탱크에 셀룰로오스 아세테이트를 교반하면서 투입하였다. 이것을 가열하고 교반하면서 완전히 용해하였다. 이것을 아즈미 로시(주) 제조의 아즈미 로시 No.244를 사용해서 여과하여, 주 도프액을 제조하였다.To prepare a main dope solution having the following composition. First, methylene chloride and ethanol were added to the pressure-melting tank. It injected | threw-in stirring the cellulose acetate to the pressure dissolution tank containing a solvent. This was dissolved completely with heating and stirring. This was filtered using Azumi Rossi No. 244 manufactured by Azumi Rossi Co., Ltd. to prepare a main dope liquid.
<주 도프액의 조성><Composition of main doping solution>
메틸렌 클로라이드 340질량부Methylene chloride 340 parts by mass
에탄올 64질량부64 parts by mass of ethanol
아세틸기 치환도 2.4의 셀룰로오스 아세테이트(Mn80000) 100질량부100 parts by mass of cellulose acetate (Mn80000) having an acetyl group substitution degree of 2.4
당에스테르 화합물(1-23) 10질량부10 parts by mass of a sugar ester compound (1-23)
방향족 말단 에스테르계 가소제(2-23) 2.5질량부2.5 mass parts of aromatic terminal ester plasticizers (2-23)
자외선 흡수제(티누빈 928)(바스프(BASF) 재팬(주) 제조)) 2.3질량부2.3 mass parts of ultraviolet absorbers (tinuvin 928) (BASF Japan)
미립자 첨가액 1 1.0질량부1.0 parts by mass of fine particle addition liquid
상기 조성물을 밀폐 용기에 투입하고, 교반하면서 용해하여 도프액을 제조하였다. 계속해서, 무단 벨트 유연 장치를 사용하여, 도프액을 온도 33℃, 2000mm 폭으로 스테인리스 벨트 지지체 위에 균일하게 유연하였다. 스테인리스 벨트의 온도는 30℃로 제어하였다.The composition was placed in a sealed container and dissolved with stirring to prepare a dope solution. Subsequently, the dope liquid was uniformly cast on the stainless steel belt support body at the temperature of 33 degreeC, and 2000 mm width using an endless belt casting apparatus. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 30 占 폚.
스테인리스 벨트 지지체 위에서, 유연(캐스트)한 필름 중의 잔류 용매량이 75%가 될 때까지 용매를 증발시키고, 계속해서 박리 장력 130N/m으로, 스테인리스 벨트 지지체 위로부터 박리하였다.On the stainless steel belt support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent in the cast film became 75%, and then peeled off on the stainless steel belt support with a peeling tension of 130 N / m.
그 후 170℃로 설정된 텐터에 의해 폭 방향으로 1.4배의 연신을 행하고, 이어서 130℃로 설정된 건조 존에서 30분간 반송시켜서 건조를 행하고, 양단부의 트리밍을 행하고, 또한 단부에 폭 1cm, 높이 6㎛의 널링을 갖는 막 두께 40㎛의 광학 필름 1을 제작하여, 폭 1.49m, 3900m로 권취하였다. 광학 필름 1의 면내 리타데이션값(Ro)은 50nm, 두께 방향 리타데이션(Rt)은 130nm이었다.Thereafter, the film was stretched 1.4 times in the width direction by a tenter set at 170 ° C., then conveyed for 30 minutes in a drying zone set at 130 ° C. for drying, trimming at both ends, and further at the end of 1 cm in width and 6 μm in height. The optical film 1 with a film thickness of 40 micrometers which has a knurling of was produced, and it wound up at 1.49 m and 3900 m in width. In-plane retardation value Ro of the optical film 1 was 50 nm, and thickness direction retardation Rt was 130 nm.
<편광판의 제작><Production of Polarizer>
두께 120㎛의 폴리비닐알코올 필름을 1축 연신(온도 110℃, 연신 배율 5배)하였다. 이것을 요오드 0.075g, 요오드화 칼륨 5g, 물 100g을 포함하여 이루어지는 수용액에 60초간 침지하고, 계속해서 요오드화 칼륨 6g, 붕산 7.5g, 물 100g을 포함하여 이루어지는 68℃의 수용액에 침지하였다. 이것을 수세, 건조해서 편광자를 얻었다. 계속해서, 하기 공정 1 내지 5에 따라서 편광자와 각 방현성 필름 1 내지 25와 이면측에 광학 필름 1을 길이 방향에서 맞추도록 하여, 롤·투·롤로 접합해서 각 편광판 1 내지 25를 제작하고, 또한 공정 6에서 점착층을 각각의 편광판 1 내지 25에 접합하였다.The polyvinyl alcohol film of thickness 120 micrometers was uniaxially stretched (temperature 110 degreeC, draw
공정 1: 60℃의 2몰/L의 수산화나트륨 용액에 90초간 침지하고, 계속해서 수세하고 건조하여, 편광자와 접합하는 측을 비누화한 방현성 필름 1 내지 25와 광학 필름 1을 얻었다.Process 1: It was immersed in 2 mol / L sodium hydroxide solution of 60 degreeC for 90 second, and then washed with water and dried, and obtained the anti-glare films 1-25 and optical film 1 which saponified the side which joins a polarizer.
공정 2: 상기 편광자를 고형분 2질량%의 폴리비닐알코올 접착제조 중에 1 내지 2초 침지하였다.Process 2: The said polarizer was immersed for 1-2 second in the polyvinyl alcohol adhesive bath of 2 mass% of solid content.
공정 3: 공정 2에서 편광자에 부착된 과잉의 접착제를 가볍게 닦아 제거하고, 이것을 공정 1에서 처리한 방현성 필름 1 내지 25와 이면측에는 광학 필름 1을 얹어서 배치하였다.Process 3: The excess adhesive adhering to the polarizer in
공정 4: 공정 3에서 적층한 필름을 압력 20 내지 30N/cm2, 반송 속도는 약 2m/분으로 접합하였다.Process 4: The film laminated | stacked by the
공정 5: 80℃의 건조기 중에 공정 4에서 제작한 편광자와 각 방현성 필름 1 내지 25와, 광학 필름 1을 접합한 시료를 2분간 건조하고, 롤 형상으로 권취해서 편광판 1 내지 22를 각각 제작하였다.Process 5: The polarizer produced by the process 4, the anti-glare films 1-25, and the sample which bonded the optical film 1 were dried for 2 minutes in 80 degreeC dryer, were wound up in roll shape, and the polarizing plates 1-22 were produced, respectively. .
공정 6: 공정 5에서 제작한 각 편광판의 광학 필름 1에 시판하고 있는 아크릴계 점착제를 건조한 후의 두께가 25㎛가 되도록 각각 도포하고, 110℃의 오븐에서 5분간 건조하여 점착층을 형성하고, 점착층에 박리성의 보호 필름을 붙였다. 이 편광판을 재단(펀칭)하여, 편광판 1 내지 25를 제작하였다.Process 6: The acrylic adhesive currently marketed to the optical film 1 of each polarizing plate produced at the
<액정 표시 장치의 제작><Fabrication of Liquid Crystal Display Device>
SONY 제조의 32형 디스플레이 브라비아(BRAVIA) KDL-32EX의 미리 접합되어 있던 패널 전방측의 편광판을 박리하고, 상기 제작한 각 편광판 1 내지 22의 점착층을 각각 액정 셀의 유리면의 전방면에 접합하였다. 그때, 그 편광판의 접합 방향은, 방현성 필름의 방현층이 시인측으로 되도록, 또한, 미리 접합되어 있던 편광판과 동일한 방향으로 흡수축이 향하도록 행하여, 액정 표시 장치 1 내지 25를 각각 제작하였다.The polarizing plate of the panel front side previously bonded by 32 type display BRAVIA KDL-32EX by Sony was peeled off, and the adhesion layers of each polarizing plate 1-22 produced above were bonded to the front surface of the glass surface of the liquid crystal cell, respectively. . At that time, the bonding direction of the polarizing plate was performed so that the anti-glare layer of the anti-glare film might be on the viewing side, and the absorption axis would be directed in the same direction as the polarizing plate which was previously bonded, thereby producing liquid crystal displays 1 to 25, respectively.
《액정 표시 장치의 평가》&Quot; Evaluation of liquid crystal display device &
(시인성 평가)(Evaluation of visibility)
상기 제작한 각 액정 표시 장치 1 내지 25에 대해서, 80℃의 조건에서 250시간 방치한 후, 23℃, 55% RH로 복귀시켜서 시인성을 평가하였다. 평가자 30명이 화상의 시인성의 관능 평가를 행하고, 그 평균점을 구하였다. 10점이 가장 양호하며, 투영이 적고, 선예성도 높다. 1점이 가장 떨어진다. 7점 이상이 허용 레벨이다.About each liquid crystal display device 1-25 produced above, after leaving at 80 degreeC for 250 hours, it returned to 23 degreeC and 55% RH, and evaluated visibility. 30 evaluators performed the sensory evaluation of the visibility of an image, and calculated | required the average point. 10 points is the best, the projection is small and the sharpness is high. 1 point is the lowest. 7 points or more is an acceptable level.
《필름 평가》Film Evaluation
상기 내구성 시험 후의 방현성 필름 1 내지 25에 대해서, 이하의 항목을 평가하였다.The following items were evaluated about the anti-glare films 1-25 after the said durability test.
(투과 사상성)Permeability
각 방현성 필름에 대해서, 스가 시껭끼 가부시끼가이샤의 사상성 측정기 ICM-IDP를 사용하여, 빗폭 0.25mm에서의 투과 사상성을 측정하였다. 수치가 높을수록 투과 사상성이 우수한 것을 나타낸다.About each anti-glare film, the permeability on the comb width of 0.25 mm was measured using the filament measuring device ICM-IDP of Suga-Shiki Co., Ltd .. Higher values indicate better permeability.
(가요성)(Flexibility)
각 방현성 필름을 23℃ 55% RH의 분위기하에서 12시간 습도 조절한 후, JIS K5600-5-1에 준거하는 방법으로, 타입 1의 시험 장치를 사용하여 원통형 맨드럴법에 의해 가요성을 평가하였다. 맨드럴의 직경의 수치가 낮을수록 가요성이 우수한 것을 나타낸다. 또한, JIS K5600-5-1에서는, 원통형 맨드럴은 직경 2mm까지밖에 없기 때문에, 직경 1mm는 시작하였다. 직경의 수치가 작을수록 가요성(필름의 플렉시블성)이 우수한 것을 나타낸다. 얻어진 결과를 표 1에 나타냈다.After adjusting each humidity-resistant film for 12 hours in 23 degreeC 55% RH atmosphere, the flexibility was evaluated by the cylindrical mandrel method using the test apparatus of Type 1 by the method based on JISK5600-5-1. . The lower the value of the diameter of the mandrel, the better the flexibility. In addition, in JIS K5600-5-1, since the cylindrical mandrel had only 2 mm in diameter, 1 mm in diameter was started. The smaller the value of the diameter, the better the flexibility (flexibility of the film). The obtained results are shown in Table 1.
표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이 방현층이, 미립자나 활성선 경화형 수지에 대하여 비상용성인 수지를 실질적으로 함유하지 않고, 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 300 내지 1500nm이고, 또한 방현층의 내부 헤이즈가 0 내지 1.0%인 본 발명의 방현성 필름은, 내구성 시험 후의 투과 사상성, 가요성이 우수한 것을 알 수 있다. 또한, 내구성 시험 후의 본 발명의 방현성 필름을 사용하여 제작한 편광판을 액정 표시 장치에 사용함으로써 시인성이 우수한 것을 알 수 있다.As can be seen from the results in Table 1, the antiglare layer does not substantially contain incompatible resin with respect to the fine particles and the active ray curable resin, and the arithmetic mean roughness Ra of the antiglare layer is 300 to 1500 nm, and the antiglare layer It is understood that the anti-glare film of the present invention having an internal haze of 0 to 1.0% is excellent in permeability and flexibility after the durability test. Moreover, it turns out that it is excellent in visibility by using for the liquid crystal display device the polarizing plate produced using the anti-glare film of this invention after durability test.
그 중에서도 산술 평균 조도(Ra)가 350 내지 1300nm인 본 발명의 방현성 필름은, 액정 표시 장치에 사용했을 때의 시인성, 필름으로서의 투과 사상성이나 가요성이 특히 우수하다.Especially, the anti-glare film of this invention whose arithmetic mean roughness (Ra) is 350-1300 nm is excellent in the visibility, transparency, and flexibility as a film at the time of using it for a liquid crystal display device.
25℃에서의 점도가 20 내지 3000mPa·s의 범위 내에 있는 활성선 경화형 수지를 PGME나 EPGE와 같은 글리콜에테르류, 에탄올이나 메탄올과 같은 알코올류, 또는 아세트산 부틸과 같은 에스테르류로 희석한 방현층 도포 조성물을, 적어도 도포 공정, 건조 공정 및 경화 공정을 경유하여 형성하고, 또한 건조 공정의 감율 건조 구간 온도를 90 내지 150℃로 유지한 조건하에서 처리함으로써, 방현층의 산술 평균 조도(Ra)와 내부 헤이즈를 본 발명의 범위 내로 용이하게 제어할 수 있고, 또한 본 발명의 목적 효과를 양호하게 얻을 수 있는 점에서 바람직한 것을 알 수 있다.Application of an antiglare layer obtained by diluting an active line curable resin having a viscosity at 25 ° C. in a range of 20 to 3000 mPa · s with glycol ethers such as PGME or EPGE, alcohols such as ethanol or methanol, or esters such as butyl acetate Arithmetic mean roughness (Ra) of the glare-proof layer and an inside of a glare-proof layer by processing a composition at least via the application | coating process, a drying process, and a hardening process, and processing on the conditions which hold | maintained the temperature reduction interval section of a drying process at 90-150 degreeC. It can be seen that the haze can be easily controlled within the scope of the present invention, and furthermore, it is preferable in that the desired effect of the present invention can be obtained satisfactorily.
또한 방현층의 내부 헤이즈가 0 내지 0.5%인 본 발명의 방현성 필름은, 본 발명의 목적 효과가 양호하게 얻어지기 때문에, 바람직한 것을 알 수 있다.Moreover, since the objective effect of this invention is acquired favorably, the anti-glare film of this invention whose internal haze of an anti-glare layer is 0 to 0.5% turns out that it is preferable.
본 발명의 방현성 필름에 대해서, 방현층을 광학 간섭식 표면 조도계(Zygo사 제조 New View 5030)로 관찰한 결과, 방현성 필름 1과 같이 불규칙한 돌기 형상이 불규칙하게 길이 방향 및 폭 방향으로 배열되어 있었다.As for the anti-glare film of the present invention, the anti-glare layer was observed with an optical interference surface roughness meter (New View 5030, manufactured by Zygo). As a result, irregular protrusions were irregularly arranged in the longitudinal direction and the width direction, as in the anti-glare film 1. there was.
또한, 방현성 필름 1 내지 25에 대해서, JIS-S6006이 규정하는 시험용 연필을 사용하여, JIS-K5400이 규정하는 연필 경도 평가법에 따라, 500g의 추를 사용하여 각 경도의 연필로 방현층을 5회 반복해서 긁어 연필 경도를 평가한 결과, 본 발명의 방현성 필름은 모두 3H 이상이며, 양호한 하드 코트성도 갖고 있었다. 특히 본 발명 산술 평균 조도(Ra)가 500 내지 1300nm인 본 발명의 방현성 필름의 연필 경도는 4H로, 특히 우수하였다.In addition, about the anti-glare films 1-25, using the pencil for test prescribed by JIS-S6006, and according to the pencil hardness evaluation method prescribed | regulated by JIS-K5400, the anti-glare layer was made with the pencil of each hardness using the weight of 500g. As a result of scraping repeatedly and evaluating pencil hardness, the anti-glare film of this invention was all 3H or more, and had favorable hard coat property. The pencil hardness of the anti-glare film of this invention whose especially arithmetic mean roughness Ra of this invention is 500-1300 nm was 4H, and was especially excellent.
실시예 2Example 2
<방현성 반사 방지 필름 1 내지 7의 제작><Preparation of anti-glare antireflection films 1 to 7>
실시예 1의 방현성 필름 4, 9, 13 및 18 내지 21의 제작에 있어서, 질소 퍼지를 행하지 않고, 또한 자외선 램프를 사용해서 조사부의 조도가 100mW/cm2이고, 조사량을 0.1J/cm2로 해서 도포층을 경화시킨 것 이외는, 마찬가지로 하여 방현성 필름 26 내지 32를 제작하여, 롤 형상으로 권취하였다. 계속해서, 실시예 1에 기재된 조건으로, 내구성 시험을 실시한 각 롤 형상 방현성 필름 26 내지 32를 다시 풀어내어, 방현층 표면 위에 저굴절률층용 도포 조성물 1을 도포해서 저굴절률층을 형성하여, 방현성 반사 방지 필름 1 내지 7을 제작하였다. 또한, 저굴절률층의 굴절률은 1.37이었다.In preparation of the
[저굴절률층용 도포 조성물 1][Coating composition 1 for low refractive index layer]
(불소 함유 중합체 1의 제조)(Preparation of Fluorine-containing Polymer 1)
내용량 100ml의 스테인리스제 교반기 구비 오토클레이브에, 아세트산에틸 40ml, 히드록시에틸비닐에테르 14.7g, 및 과산화 디라우로일 0.55g을 투입하고, 반응계 내를 탈기하여, 질소 가스로 치환하였다. 또한 헥사플루오로프로필렌(HFP) 25g을 오토클레이브 중에 도입하고, 온도 65℃까지 승온하였다. 오토클레이브 내의 온도가 65℃에 달한 시점의 압력은 5.4kg/cm2이었다. 오토클레이브 내의 온도를 그대로 유지하고, 8시간 반응을 계속하여, 압력이 3.2kg/cm2에 달한 시점에서 가열을 멈추고 방냉하였다. 실온까지 내온이 내려간 시점에서, 미반응된 단량체를 내보내고, 오토클레이브를 개방하여 반응액을 취출하였다.40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether, and 0.55 g of dilauroyl peroxide were added to an autoclave with a stainless steel stirrer having a capacity of 100 ml, and the reaction system was degassed and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduce | transduced in the autoclave, and it heated up to the temperature of 65 degreeC. The pressure at the time the temperature in the autoclave reached 65 ° C was 5.4 kg / cm 2 . The temperature in the autoclave was kept as it was, and the reaction was continued for 8 hours, and the heating was stopped and allowed to cool when the pressure reached 3.2 kg / cm 2 . At the time when internal temperature fell to room temperature, the unreacted monomer was taken out, the autoclave was opened, and the reaction liquid was taken out.
얻어진 반응액을, 대 과잉의 헥산에 투입하고, 데칸테이션에 의해 용제를 제거함으로써, 침전된 중합체를 취출하였다. 또한 이 중합체를 소량의 아세트산에틸에 용해하고, 헥산으로부터 2회 재침전을 행함으로써, 잔존 단량체를 완전히 제거하고, 건조하여 중합체를 28g 얻었다. 다음으로, 상기 중합체의 20g을 N,N-디메틸아세트아미드 100ml에 용해하고, 빙냉하에 아크릴산 클로라이드 11.4g을 적하한 후, 실온에서 10시간 교반하였다. 반응액에 아세트산에틸을 첨가해서 수세하고, 유기층을 추출한 후 농축하여, 얻어진 중합체를 헥산으로 재침전시킴으로써, 불소 함유 중합체 1을 19g 얻었다.The obtained reaction liquid was thrown into a large excess of hexane, and the precipitated polymer was taken out by removing the solvent by decantation. The polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the remaining monomers and to dry to obtain 28 g of the polymer. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, the mixture was washed with water, the organic layer was extracted and concentrated to obtain 19 g of fluorine-containing polymer 1 by reprecipitation of the obtained polymer with hexane.
하기 재료를 교반, 혼합해서 저굴절률층용 도포 조성물 1로 하였다.The following materials were stirred and mixed to obtain a coating composition 1 for low refractive index layer.
(용매)(menstruum)
메틸에틸케톤 460질량부460 parts by mass of methyl ethyl ketone
시클로헥사논 300질량부300 parts by mass of cyclohexanone
(라디칼 중합성 화합물)(Radical polymerizable compound)
불소 함유 중합체 130질량부130 parts by mass of fluorine-containing polymer
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 20질량부20 parts by mass of pentaerythritol triacrylate
펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 14질량부Pentaerythritol tetraacrylate 14 parts by mass
(광중합성 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 907(바스프(BASF) 재팬(주) 제조) 3질량부Irgacure 907 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.)
(첨가제)(additive)
실리콘 화합물(FZ-2207, 니혼유니카 가부시끼가이샤 제조)의 10% 프로필렌 글리콜모노메틸에테르액 6.5질량부6.5 parts by mass of a 10% propylene glycol monomethyl ether solution of a silicone compound (FZ-2207, manufactured by Nihon Unika Co., Ltd.)
(미립자)(Fine particles)
이소프로필알코올 분산 중공 실리카 미립자 졸 50질량부50 parts by mass of isopropyl alcohol dispersed hollow silica fine particle sol
(고형분 20%, 쇼쿠바이 가세 고교사 제조 실리카졸, 상품명: ELCOM V-8209)(20% of solid content, silica sol made by Shokubai Kasei Kogyo Co., Ltd., a brand name: ELCOM V-8209)
《필름 평가》Film Evaluation
얻어진 방현성 필름 26 내지 32 및 방현성 반사 방지 필름 1 내지 7에 대해서, 이하의 항목을 평가하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타냈다.The following items were evaluated about the obtained anti-glare films 26-32 and anti-glare antireflection films 1-7. The obtained results are shown in Table 2.
1. 방현성 필름1. Anti-glare film
방현성 필름 26 내지 32의 내부 헤이즈(Hi) 및 산술 평균 조도(Ra)를 실시예 1에 기재한 방법으로 측정하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타냈다.Internal haze (Hi) and arithmetic mean roughness (Ra) of the
2. 방현성 반사 방지 필름2. Anti-glare antireflection film
(외관 평가)(Appearance evaluation)
각 방현성 반사 방지 필름을 150cm×150cm 크기로 커트하고, 이면에 흑색의 스프레이를 사용하여 광 흡수 처리를 행하여, 표면으로부터 형광등의 반사를 관찰하여, 외관(반점 형상의 얼룩)에 대해 이하의 기준으로 육안 평가하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타냈다.Each anti-glare antireflection film was cut into a size of 150 cm x 150 cm, light absorbing treatment was carried out using a black spray on the back surface, the reflection of fluorescent lamps was observed from the surface, and the following criteria were observed for the appearance (spot spots). Visually evaluated. The obtained results are shown in Table 2.
(외관: 반점 형상의 얼룩)(Appearance: spot shape stains)
◎: 반점 형상의 얼룩이 전혀 나타나지 않음◎: no spot shape appearance
○: 반점 형상의 얼룩이 아주 약간 나타남○: Slightly spotty spots appear
△: 반점 형상의 얼룩이 약간 나타남. 실용상 문제가 있음(Triangle | delta): The smudge of a spot shape appears a little. There is a practical problem
×: 반점 형상의 얼룩이 나타남×: spot shape unevenness appears
(밀착성)(Adhesion)
각 방현성 반사 방지 필름을 사이클 서모(-40℃·30분 방치, 계속해서 85℃·30분 방치를 교대)에 500 사이클 투입 후, 내후성 시험기(아이 슈퍼 UV 테스터, 이와사키전기 가부시끼가이샤 제조)로 120시간 광 조사하였다.After 500 cycles of each anti-glare antireflection film was put into a cycle thermostat (-40 degreeC, 30 minutes left, and 85 degreeC and 30 minutes left alternately), a weather resistance tester (the eye super UV tester, the Iwasaki Electric Corporation make) It was irradiated with light for 120 hours.
내구성 시험 후의 각 방현성 반사 방지 필름의 저굴절률층 표면에, 한쪽 날 면도기의 날을 면에 대하여 90°의 각도로 칼집을 1mm 간격으로 종횡으로 11개 넣어, 1mm 각의 바둑판 눈을 100개 제작하였다. 이 위에 시판되는 셀로판제 테이프를 부착하고, 그 일단부를 손으로 쥐고 수직으로 힘차게 잡아당겨 박리해서, 칼집선으로부터의 붙여진 테이프 면적에 대한 박막이 박리된 면적의 비율을 육안으로 관찰하여, 하기의 기준으로 평가하였다.On the surface of the low-refractive index layer of each anti-glare antireflection film after the durability test, 11 blades were inserted vertically and horizontally at intervals of 1 mm at an angle of 90 ° with respect to the surface, and 100 1mm angle checker eyes were produced. It was. A commercially available cellophane tape was affixed thereon, and one end was grasped by hand and pulled out vigorously vertically to visually observe the ratio of the peeled area of the thin film to the pasted tape area from the sheath line. Evaluated.
◎: 전혀 박리되지 않음◎: not peeled off at all
○: 박리된 면적 비율이 10% 미만임(Circle): The peeled area ratio is less than 10%
△: 박리된 면적 비율이 10% 이상 내지 20% 미만임(Triangle | delta): The peeled area ratio is 10% or more and less than 20%.
×: 박리된 면적 비율이 20% 이상임X: The area ratio which peeled is 20% or more
표 2에 나타낸 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 방현층으로 구성되는 본 발명의 방현성 반사 방지 필름은, 비교예에 비해, 반점 얼룩(외관) 및 밀착성에 대하여 양호한 성능을 갖고 있음을 알 수 있다. 또한, 방현성 반사 방지 필름 1 내지 7에 대해서, 백 코트면에 점착제가 부착된 흑색 아크릴판을 부착하여, 광흡수 처리를 행하고, 저굴절률층면으로부터, CM-3700d(코니카 미놀타 센싱 가부시끼가이샤 제조)를 사용하여 반사율을 측정한 결과, 본 발명의 방현성 반사 방지 필름의 평균 반사율은 모두 1.2% 이하로, 양호한 반사 방지 기능을 갖고 있었다.As can be seen from the results shown in Table 2, the anti-glare antireflection film of the present invention constituted by the anti-glare layer of the present invention has a good performance against spot unevenness (appearance) and adhesion compared to the comparative example. Able to know. Moreover, about the anti-glare antireflection films 1-7, the black acryl plate with an adhesive was affixed on the back-coat surface, light absorption processing was performed, and CM-3700d (Konica Minolta Sensing Co., Ltd. product) was made from the low refractive index layer surface. As a result of measuring the reflectance using ()), the average reflectance of the anti-glare antireflection film of this invention was 1.2% or less, and had favorable antireflection function.
실시예 3Example 3
<클리어 하드 코트 필름 1의 제작><Production of clear hard coat film 1>
실시예 1에서 제작한 기재 필름 1 위에 구멍 직경 0.4㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과한 하기 클리어 하드 코트 도포 조성물 1을 마이크로그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 항율 건조 구간 온도 80℃, 감율 건조 구간 온도 80℃에서 건조한 후, 산소 농도가 1.0체적% 이하의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서, 자외선 램프를 사용해서 조사부의 조도가 100mW/cm2이고, 조사량을 0.25J/cm2로 해서 도포층을 경화시켜, 드라이 막 두께 5㎛의 클리어 하드 코트층을 형성하였다. 클리어 하드 코트층을 형성한 후, 롤 형상으로 권취하여, 클리어 하드 코트 필름 1을 제작하였다. 클리어 하드 코트 필름 1의 전체 헤이즈를 닛본 덴쇼꾸 고교(주) 제조의 측정기(NDH2000)를 사용하여 측정한 결과, 0.3%로 클리어성이 우수하였다.The following clear hard coat coating composition 1 filtered on a substrate film 1 produced in Example 1 with a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm was applied using a microgravure coater, and the yield drying section temperature was 80 ° C., and the drying rate section was reduced. After drying at 80 ° C., purge the coating layer with an irradiance of 100 mW / cm 2 and an irradiation dose of 0.25 J / cm 2 using an ultraviolet lamp while purging with nitrogen so that the oxygen concentration is 1.0% by volume or less. And a clear hard coat layer having a dry film thickness of 5 µm were formed. After forming a clear hard-coat layer, it wound up in roll shape and produced the clear hard-coat film 1. The whole haze of the clear hard coat film 1 was measured using the measuring instrument (NDH2000) by the Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., and was 0.3%, and was excellent in clearability.
[클리어 하드 코트층 도포 조성물 1][Clear Hard Coat Layer Coating Composition 1]
하기 클리어 하드 코트층 도포 조성물 1을 디스퍼로 교반 혼합하여, 클리어 하드 코트층 도포 조성물 1을 얻었다.The following clear hard coat layer coating composition 1 was stirred and mixed with a disper, and the clear hard coat layer coating composition 1 was obtained.
(활성선 경화형 수지)(Active wire curable resin)
디펜타에리트리톨 폴리아크릴레이트Dipentaerythritol polyacrylate
(NK 에스테르 A-9550, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조) 100질량부(NK ester A-9550, Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 100 parts by mass
(광중합 개시제)(Photopolymerization initiator)
이르가큐어 184(바스프(BASF) 재팬사 제조) 5질량부Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 5 parts by mass
(레벨링제)(Leveling agent)
아크릴 공중합물(BYK-350, 빅 케미·재팬사 제조) 2질량부2 parts by mass of an acrylic copolymer (BYK-350, manufactured by BIC Chemie Japan)
(용제)(solvent)
프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 10질량부10 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGME)
메틸에틸케톤 45질량부45 parts by mass of methyl ethyl ketone
아세트산 메틸 45질량부45 parts by mass of methyl acetate
<편광판의 제작><Production of Polarizer>
클리어 하드 코트 필름 1과 하기 편광자와 이면측에 실시예 1에서 제작한 광학 필름 1을 길이 방향을 맞추도록 롤·투·롤로 접합하여 편광판 100을 제작하였다.It bonded by the roll-to-roll so that the clear hard coat film 1 and the following polarizer and the optical film 1 produced in Example 1 at the back surface side may be aligned in the longitudinal direction, and the
<편광판의 제작><Production of Polarizer>
두께 120㎛의 폴리비닐알코올 필름을 1축 연신(온도 110℃, 연신 배율 5배)하였다. 이것을 요오드 0.075g, 요오드화 칼륨 5g, 물 100g을 포함하여 이루어지는 수용액에 60초간 침지하고, 계속해서 요오드화 칼륨 6g, 붕산 7.5g, 물 100g을 포함하여 이루어지는 68℃의 수용액에 침지하였다. 이것을 수세, 건조하여 편광자를 얻었다. 계속해서, 공정 1 내지 5에 따라서 편광자와 클리어 하드 코트 필름 1과 이면측에 광학 필름 1을 길이 방향에서 맞추도록 하여, 롤·투·롤로 접합해서 편광판을 제작하고, 또한 공정 6에서 점착층을 접합하였다.The polyvinyl alcohol film of thickness 120 micrometers was uniaxially stretched (temperature 110 degreeC, draw
공정 1: 60℃의 2몰/L의 수산화나트륨 용액에 90초간 침지하고, 계속해서 수세하고 건조하여, 편광자와 접합하는 측을 비누화해서 클리어 하드 코트 필름 1과 광학 필름 1을 얻었다.Process 1: It was immersed in 60 mol of 2 mol / L sodium hydroxide solutions for 90 second, and then washed with water and dried, saponifying the side which adhere | attaches with a polarizer, and the clear hard coat film 1 and the optical film 1 were obtained.
공정 2: 상기 편광자를 고형분 2질량%의 폴리비닐알코올 접착제조 중에 1 내지 2초 침지하였다.Process 2: The said polarizer was immersed for 1-2 second in the polyvinyl alcohol adhesive bath of 2 mass% of solid content.
공정 3: 공정 2에서 편광자에 부착된 과잉의 접착제를 가볍게 닦아 제거하고, 이것을 공정 1에서 처리한 클리어 하드 코트 필름 1과 이면측에는 광학 필름 1을 얹어서 배치하였다.Process 3: The excess adhesive adhering to the polarizer in
공정 4: 공정 3에서 적층한 필름을 압력 20 내지 30N/cm2, 반송 속도는 약 2m/분으로 접합하였다.Process 4: The film laminated | stacked by the
공정 5: 80℃의 건조기 중에 공정 4에서 제작한 편광자와 클리어 하드 코트 필름 1과, 광학 필름 1을 접합한 시료를 2분간 건조하고, 롤 형상으로 권취해서 편광판 100을 제작하였다.Process 5: The sample which bonded the polarizer produced by the process 4, the clear hard-coat film 1, and the optical film 1 in 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, it wound up in roll shape, and the
공정 6: 공정 5에서 제작한 편광판의 보호 필름에 시판하고 있는 아크릴계 점착제를 건조 후의 두께가 25㎛가 되도록 도포하고, 110℃의 오븐에서 5분간 건조하여 점착층을 형성하고, 점착층에 박리성의 보호 필름을 붙였다. 이 편광을 재단(펀칭해)하여, 편광판 100을 제작하였다.Process 6: The acrylic adhesive commercially available for the protective film of the polarizing plate produced at the
<액정 표시 장치 101의 제작><Production of liquid crystal display device 101>
실시예 1에서 제작한 편광판 1을 도 5에 도시한 바와 같이 점착제층의 박리성 보호 필름을 박리하고, 액정 셀의 유리를 개재하여 배면(백라이트)측에 접합하였다. 또한, 상기 제작한 편광판 100의 점착제층의 박리성 보호 필름을 박리해서 프론트측에 접합하여, 액정 패널 101을 제작하고, 이 액정 패널 101을 SONY 제조 노트북형 PC VAIO TYPE B의 패널을 떼서 끼워 넣어, 액정 표시 장치 101을 제작하였다.As shown in FIG. 5, the polarizing plate 1 produced in Example 1 peeled the peelable protective film of an adhesive layer, and bonded it to the back (backlight) side through the glass of a liquid crystal cell. Moreover, the peelable protective film of the adhesive layer of the produced
<액정 표시 장치 102 내지 125의 제작><Production of Liquid Crystal Display Devices 102-125>
액정 표시 장치 101의 제작에 있어서, 배면측의 편광판 1을 편광판 2 내지 25로 각각 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여 액정 표시 장치 102 내지 125를 제작하였다.In the preparation of the liquid crystal display device 101, the liquid crystal display devices 102 to 125 were produced in the same manner except that the polarizing plates 1 on the back side were changed to the
상기 제작한 액정 표시 장치 101 내지 125에 대해서 무아레 줄무늬의 관찰을 행하고, 이하의 기준으로 평가하였다. 얻어진 결과를 표 3에 나타냈다.About the produced liquid crystal display devices 101-125, moire fringe was observed and the following references | standards evaluated. The obtained results are shown in Table 3.
《표시 장치의 평가》<< evaluation of display device >>
(무아레 줄무늬 평가)(Moire stripe evaluation)
◎: 무아레 줄무늬를 전혀 확인할 수 없음◎: no moire stripes at all
○: 주시하면 약간 무아레 줄무늬를 확인할 수 있음○: slightly moire stripes can be observed
△: 희미하지만 무아레 줄무늬의 존재를 용이하게 확인할 수 있음△: faint but can easily confirm the presence of moire stripes
×: 무아레 줄무늬의 존재를 확인할 수 있음. 실용상 문제가 있는 수준×: The presence of moire stripes can be confirmed. Practical problem level
××: 무아레 줄무늬의 발생을 명확하게 확인할 수 있음××: The occurrence of moire stripes can be clearly confirmed
평가의 결과, 본 발명의 방현성 필름으로 구성되는 편광판을 사용한 배면측에 사용한 액정 표시 장치는, 무아레 줄무늬가 관찰되지 않아, 무아레 줄무늬의 발생 방지가 우수하였다.As a result of evaluation, in the liquid crystal display device used for the back side using the polarizing plate comprised from the anti-glare film of this invention, no moire fringe was observed and it was excellent in prevention of generation of moire fringe.
실시예 4Example 4
<도전성 막을 구비한 방현성 필름 1의 제작><Production of Anti-glare Film 1 with Conductive Film>
방현성 필름 1의 제작에 있어서, 양면에 방현층 도포층 조성물 1을 도설하여 양면에 방현층을 형성한 후, 방현층의 편면에 표면 저항률이 약 200Ω인 산화인듐 주석(ITO)의 투명 도전성 박막을, 스퍼터링법을 사용해서 설치하여, 도 7에 나타낸 도전성 막을 구비한 방현성 필름 1을 제작하였다.In the production of the anti-glare film 1, after coating the anti-glare layer coating layer composition 1 on both sides to form an anti-glare layer on both sides, a transparent conductive thin film of indium tin oxide (ITO) having a surface resistivity of about 200 Ω on one side of the anti-glare layer Was installed using the sputtering method, and the anti-glare film 1 provided with the electroconductive film shown in FIG. 7 was produced.
<도전성 막을 구비한 방현성 필름 2 내지 25의 제작><Production of
도전성 막을 구비한 방현성 필름 1의 제작과 마찬가지로 하여, 양면에 방현층을 형성한 후, 방현층의 편면에 표면 저항률이 약 200Ω인 ITO의 투명 도전성 박막을, 스퍼터링법을 사용해서 설치하여, 도전성 막을 구비한 방현성 필름 2 내지 25를 제작하였다.In the same manner as the preparation of the anti-glare film 1 having the conductive film, after forming an anti-glare layer on both sides, a transparent conductive thin film of ITO having a surface resistivity of about 200 Ω was provided on one side of the anti-glare layer by sputtering, The anti-glare films 2-25 with a film were produced.
<저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 201의 제작><Production of Resistive Touch Panel Liquid Crystal Display 201>
시판하고 있는 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치(제품명: LCD-USB10XB-T, I-O DATA사 제조)의 도전성 광학 필름을 박리하고, 상기 제작한 도전성 막을 구비한 방현성 필름 1을 도 8과 같이 접합하여, 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 201을 제작하였다.A conductive optical film of a commercially available resistive touch panel liquid crystal display device (product name: LCD-USB10XB-T, manufactured by IO DATA Co., Ltd.) was peeled off, and the anti-glare film 1 having the produced conductive film was bonded as shown in FIG. 8. Thus, a resistive touch panel liquid crystal display device 201 was produced.
<저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 202 내지 225의 제작><Production of Resistive Touch Panel Liquid Crystal Display Devices 202 to 225>
저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 1의 제작에 있어서, 도전성 막을 구비한 방현성 필름 1을 도전성 막을 구비한 방현성 필름 2 내지 25로 변경한 것 이외는 마찬가지로 하여 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 202 내지 225를 제작하였다.In the production of the resistive touch panel liquid crystal display device 1, the resistive touch panel liquid crystal display device 202 was similarly applied except that the anti-glare film 1 having the conductive film was changed to the
《시인성 평가》<< visibility evaluation >>
실시예 1과 마찬가지로 하여 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치 202 내지 225의 시인성의 평가를 행하였다. 얻어진 결과를 표 4에 나타냈다.In the same manner as in Example 1, the visibility of the resistive touch panel liquid crystal display devices 202 to 225 was evaluated. The obtained results are shown in Table 4.
《필름 평가》Film Evaluation
(내펜 미끄럼 이동성)(Npenpen sliding mobility)
도전성 막을 구비한 방현성 필름 2 내지 25에 대해서는, 이하의 조건에서 내펜 미끄럼 이동성에 대하여 평가를 행하였다. 얻어진 결과를 표 4에 나타냈다.About the anti-glare films 2-25 provided with the electroconductive film, evaluation was performed about the pen-resistant sliding property on the following conditions. The obtained results are shown in Table 4.
저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치에 사용한 각 도전성 막을 구비한 방현성 필름의 방현층의 표면 위를 선단부가 0.08mmφ의 폴리아세탈제의 펜을 사용하여, 하중 500g, 펜 미끄럼 이동 속도 100mm/초로 직선 40mm를 15만회 왕복 후의 미끄럼 이동부에서의 방현층의 흠집 발생 및 박리를 육안에 의해 평가하였다.On the surface of the anti-glare layer of the anti-glare film provided with each conductive film used for the resistive-type touch panel liquid crystal display device, the tip was straightened at a load of 500 g and a pen sliding speed of 100 mm / sec using a pen made of a polyacetal of 0.08 mmφ. Scratches and peeling of the antiglare layer at the sliding part after reciprocating 40 mm of 150,000 times were visually evaluated.
평가의 결과, 본 발명의 도전성 막을 구비한 방현성 필름, 및 당해 필름을 사용한 저항막 방식 터치 패널 액정 표시 장치는, 시인성 및 내펜 미끄럼 이동성이 우수하였다.As a result of evaluation, the anti-glare film provided with the electroconductive film of this invention, and the resistive-film type touch panel liquid crystal display device using this film were excellent in visibility and pen sliding resistance.
이 출원은, 2011년 3월 17일에 출원된 일본 특허 출원 제2011-058652호를 기초로 하는 것이며, 그 내용은, 본원에 포함되는 것이다.This application is based on the JP Patent application 2011-058652 of an application on March 17, 2011, The content is contained in this application.
본 발명을 표현하기 위해서, 상술한 내용에서 도면을 참조하면서 실시 형태를 통해 본 발명을 적절하면서도 또한 충분히 설명했지만, 당업자라면 상술한 실시 형태를 변경 및/또는 개량하는 것은 용이하게 이룰 수 있는 것으로 인식해야 한다. 따라서, 당업자가 실시하는 변경 형태 또는 개량 형태가, 청구범위에 기재된 청구항의 권리 범위를 이탈하는 수준의 것이 아닌 한, 당해 변경 형태 또는 당해 개량 형태는, 당해 청구항의 권리 범위에 포괄되는 것으로 해석된다.In order to express the present invention, the present invention has been described appropriately and sufficiently through the embodiments with reference to the drawings in the foregoing description, but those skilled in the art recognize that it is easy to change and / or improve the above-described embodiments. Should be. Therefore, unless the form of a change or improvement which a person skilled in the art implements is a level which deviates from the scope of a claim as described in a claim, the said change form or the said improvement is interpreted to be included in the scope of a claim. .
본 발명은 방현성 필름, 편광판, 화상 표시 장치, 터치 패널의 기술분야에서, 광범위한 산업상 이용 가능성을 갖는다.The present invention has wide industrial applicability in the technical fields of anti-glare film, polarizing plate, image display device, and touch panel.
Claims (13)
상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 350 내지 1300nm인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.The method of claim 1,
Arithmetic mean roughness Ra of the said glare-proof layer is 350-1300 nm, The anti-glare film characterized by the above-mentioned.
상기 방현층의 산술 평균 조도(Ra)가 500 내지 1300nm인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Arithmetic mean roughness Ra of the said glare-proof layer is 500-1300 nm, The anti-glare film characterized by the above-mentioned.
상기 방현층의 내부 산란에 기인하는 헤이즈가 0 내지 0.5%인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The haze resulting from the internal scattering of the said glare-proof layer is 0 to 0.5%, The anti-glare film characterized by the above-mentioned.
상기 방현층의 표면이 길이 방향으로 주기를 갖지 않는 불규칙한 돌기 형상을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 방현성 필름.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The surface of the said anti-glare layer has an irregular protrusion shape which does not have a period in a longitudinal direction, The anti-glare film characterized by the above-mentioned.
상기 활성선 경화형 수지의 25℃에서의 점도가 20 내지 3000mPa·s의 범위 내인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.The method according to any one of claims 1 to 5,
The viscosity in 25 degreeC of the said actinic-rays curable resin exists in the range of 20-3000 mPa * s, The anti-glare film characterized by the above-mentioned.
제9항의 편광판이 액정 셀의 적어도 한쪽 면에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.The method of claim 10,
The polarizing plate of Claim 9 is provided in at least one surface of a liquid crystal cell, The image display apparatus characterized by the above-mentioned.
제9항의 편광판을 액정 셀의 배면측에 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.The method of claim 10,
The polarizing plate of Claim 9 is used for the back side of a liquid crystal cell, The image display apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 화상 표시 장치가 터치 패널을 구비한 화상 표시 장치이며, 또한 당해 터치 패널의 구성 부재로서, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방현성 필름 또는 제7항의 방현성 반사 방지 필름이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.The method of claim 10,
The said image display apparatus is an image display apparatus provided with a touch panel, The anti-glare film of any one of Claims 1-6, or the anti-glare antireflection film of Claim 7 is provided as a structural member of the said touch panel. There is an image display apparatus characterized by the above-mentioned.
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