KR20130098164A - Method for manufacturing an antenna component by etching - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법으로서, 상기 부품은, 기판(3) 및 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성(4)을 구비한다. 상기 전기 전도성 배선구성(4)은, 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거하여 형성된다. 상기 안테나 부품(2)의 에칭 정도는 에칭 인디케이터(10)에 의해 표시되며, 상기 에칭 인디케이터(10)는 에칭될 안테나 부품(2)에 또는 에칭될 안테나 부품(2)의 근처에 배치되며, 상기 안테나 부품(2)의 상기 기판(3)에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되고 에칭 동안 에칭액에 의해 노출된다. 또한, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위하여 에칭 인디케이터(10) 및 에칭 마스크(12)를 구비하는 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15)이 도입된다. The present invention provides a method of manufacturing the antenna component 2 by etching, wherein the component includes a substrate 3 and an electrically conductive wiring structure 4 supported by the substrate 3. The electrically conductive wiring arrangement 4 is formed by locally removing the electrically conductive coating supported by the substrate 3 with an etchant. The degree of etching of the antenna component 2 is indicated by an etch indicator 10, the etch indicator 10 being disposed at or near the antenna component 2 to be etched, and It consists of the same electrically conductive coating supported by the substrate 3 of the antenna component 2 and is exposed by the etchant during etching. In addition, an antenna part 2 or a group 15 of antenna parts 2 with an etching indicator 10 and an etching mask 12 is introduced to produce the antenna part 2 by etching.

Figure P1020127031167
Figure P1020127031167

Description

에칭에 의한 안테나 부품의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING AN ANTENNA COMPONENT BY ETCHING}Method for manufacturing an antenna component by etching {METHOD FOR MANUFACTURING AN ANTENNA COMPONENT BY ETCHING}

본 발명은, 에칭에 의해 안테나 부품을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상기 부품은, 기판 및 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성(electrically conductive line configuration)을 구비하며, 상기 방법에 있어서, 전기 전도성 배선구성은 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거함으로써 형성된다. The present invention relates to a method for manufacturing an antenna component by etching, the component having a substrate and an electrically conductive line configuration supported by the substrate, wherein the component is electrically conductive. The wiring arrangement is formed by locally removing the electrically conductive coating supported by the substrate with an etchant.

또한, 본 발명은, 안테나 부품 및 안테나 부품의 그룹에 관한 것으로서, 상기 부품은, 기판 및 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성을 구비한다. The present invention also relates to an antenna component and a group of antenna components, wherein the component includes a substrate and an electrically conductive wiring structure supported by the substrate.

또한, 본 발명은, 에칭에 의해 안테나 부품을 제조하기 위한 에칭 마스크에 관한 것으로서, 상기 부품은 기판과 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성을 구비하며, 상기 전기 전도성 배선구성은 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거함으로써 형성되어, 상기 에칭 마스크는 상기 부품의 전기 전도성 배선구성을 결정한다. The present invention also relates to an etching mask for manufacturing an antenna component by etching, wherein the component has a substrate and an electrically conductive wiring structure supported by the substrate, wherein the electrically conductive wiring structure is formed by the substrate. Formed by locally removing the supported electrically conductive coating with an etchant, the etch mask determines the electrically conductive wiring configuration of the component.

통상적으로, 인쇄회로기판 또는 다른 대응하는 전자부품 또는 제품의 에칭에 있어서, 에칭 프로세스 변형(etching process variations)은 연속적으로 에칭된 유사한 에칭회로들(etched circuits) 사이에서 전기 회로들의 전기적 특성(electrical characteristics)의 상당한 편차를 유발할 수 있다. 이것은 안테나 구조와 같은 무선주파수 구조(radio frequency structures)의 에칭시에 특히 그렇다. 예컨대, 무선주파수 식별태그 또는 RFID 태그용 안테나의 에칭에 있어서, 에칭시의 프로세스 변형은 RFID 회로의 다른 부분과 상기 안테나의 전기적 정합(electrical matching)에 더욱 영향을 미치는 에칭안테나에 있어서의 주파수 거동 변형(cause frequency behaviour variation)를 유발할 수 있다. Typically, in the etching of a printed circuit board or other corresponding electronic component or article, the etching process variations are the electrical characteristics of the electrical circuits between similar etched circuits which are etched continuously. ) Can cause significant deviations. This is especially true when etching radio frequency structures such as antenna structures. For example, in the etching of an antenna for a radio frequency identification tag or an RFID tag, the process deformation during etching further changes the frequency behavior in the etching antenna, which further affects the electrical matching of the antenna with other parts of the RFID circuit. may cause cause frequency behavior variation.

도 1은, 종래 무선주파수 식별태그(1) 또는 RFID 태그(1)를 나타내며, 상기 RFID 태그(1)는 에칭에 의해 형성된 전기 전도성 배선구성을 구비하는 안테나 부품을 포함할 수 있는 제품의 일예이다. 상기 RFID 태그(1)는 기판(3) 및 안테나(4)를 구비하는 안테나 부품(2)을 포함하며, 상기 안테나(4)는 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성이며 상기 기판(3)은 상기 안테나(4)의 에칭동안 부분적으로 제거된 전기 전도성 코팅의 하나 이상의 층들을 지지한다. 따라서, 상기 안테나 부품(2)은 RFID 태그(1)의 일부를 형성하며, 다양한 종류의 애플리케이션에 사용될 수 있다. RFID 태그들은, 예컨대 그들이 부착되는 아이템에 관하여 특정 정보를 저장하기 위하여, 백화점에서 팔리는 다양한 종류의 아이템들에 부착될 수 있다. 상기 안테나(4)는 RFID 태그(1) 및, 상기 태그(1)에 저장된 정보를 판독하기 위한 장치 또는 상기 태그(1)에 저장될 정보를 송신하기 위한 장치 사이에서 정보를 전달하기 위한 수단을 제공한다. 1 shows a conventional radio frequency identification tag 1 or an RFID tag 1, which is an example of a product that may include an antenna component having an electrically conductive wiring configuration formed by etching. . The RFID tag 1 comprises an antenna component 2 having a substrate 3 and an antenna 4, the antenna 4 being an electrically conductive wiring configuration of the antenna component 2 and the substrate 3. Supports one or more layers of an electrically conductive coating partially removed during etching of the antenna 4. Thus, the antenna component 2 forms part of the RFID tag 1 and can be used for various kinds of applications. RFID tags may be attached to various kinds of items sold at department stores, for example, to store specific information about the items to which they are attached. The antenna 4 comprises means for transferring information between the RFID tag 1 and a device for reading information stored in the tag 1 or a device for transmitting information to be stored in the tag 1. to provide.

RFID 태그(1)는 RFID 태그(1)가 부착된 아이템에 관한 특정 정보를 저장하기 위하여, 상기 안테나(4) 또는 전기 전도성 배선구성과 관련하여 배치된 집적회로(5) 또는 칩(5)을 더 구비한다. 상기 안테나 부품(2) 및 상기 안테나 부품(2)에 부착된 집적회로(5)는 압감접착제(pressure sensitive adhesive), 즉 스티커(6) 또는 다른 종류의 부착소자에 의해 더욱 부착되어, 예컨대 백화점에서 팔리는 아이템에 부착될 준비가 되어 있는 완성된 RFID 태그(1)를 제공한다. 도 1에 있어서, 스티커(6)는 안테나 부품(2)을 둘러싸는 박스에 의해 개략적으로 나타내고 있다. 도 1에 나타낸 기본 소자들뿐만 아니라, 또한 RFID 태그(1)는 상기 구조에 적층되거나 또는 부착된 다른 층들을 포함할 수도 있다. The RFID tag 1 comprises an integrated circuit 5 or chip 5 arranged in relation to the antenna 4 or the electrically conductive wiring arrangement, in order to store specific information about the item to which the RFID tag 1 is attached. It is further provided. The antenna component 2 and the integrated circuit 5 attached to the antenna component 2 are further attached by a pressure sensitive adhesive, ie a sticker 6 or another type of attachment element, for example in a department store. Provide a completed RFID tag 1 ready to be attached to the item being sold. In FIG. 1, the sticker 6 is schematically represented by a box surrounding the antenna component 2. In addition to the basic elements shown in FIG. 1, the RFID tag 1 may also include other layers laminated or attached to the structure.

상기 안테나(4)는 2개의 공진회로, 즉 방사소자(4', radiating element) 및 별개의 임피던스 정합소자(4", separate impedance matching element)를 포함할 수 있으며, 이들은 집적회로(5)와 함께 안테나(4)의 소망하는 주파수 응답을 달성하기 위하여 함께 전자기적으로 결합되어 있다. 상기 임피던스 정합소자(4")의 주파수 응답은, 상기 임피던스 정합소자(4")의 인덕턴스와 상기 임피던스 정합소자(4")에 접속된 집적회로(5)의 입력 레지스턴스 및 입력 커패시턴스의 영향을 받는다. 방사소자(4')의 주파수 응답은 방사소자(4')의 인덕턴스, 커패시턴스 및 방사 레지스턴스의 영향을 받는다. 기본적으로, 안테나(4) 및 집적회로(5)의 임피던스는 회로가 적절한 성능 및 주파수 응답을 가지도록 적당히 정합될 필요가 있다. The antenna 4 may comprise two resonant circuits, namely a radiating element 4 'and a separate impedance matching element 4 ", which together with the integrated circuit 5 They are electromagnetically coupled together to achieve the desired frequency response of the antenna 4. The frequency response of the impedance matching element 4 "is the inductance of the impedance matching element 4" and the impedance matching element (""). 4 ") is affected by the input resistance and input capacitance of the integrated circuit 5. The frequency response of the radiating element 4 'is influenced by the inductance, capacitance and radiating resistance of the radiating element 4'. Basically, the impedances of the antenna 4 and integrated circuit 5 need to be properly matched so that the circuit has the proper performance and frequency response.

특히 UHF 주파수 범위에서 작동하는 RFID 태그에 있어서, 임피던스 정합소자(4") 및 방사소자(4')는, 커플링부(4"')에 의해 서로 물리적으로 연결되지만 사실상 임피던스 정합소자(4") 및 방사소자(4')는 상호 인덕턴스를 통하여 서로 결합되는데, 즉 특정 공진주파수를 가지는 임피던스 정합소자(4")가 특정 공진주파수를 갖는 방사소자(4')에 유도결합된다. 임피던스 정합소자(4")와 방사소자(4') 사이의 커플링간격(D, coupling distance), 즉 임피던스 정합루프(4")와 방사소자(4') 사이의 최단 거리는 안테나(4)의 주파수 응답에 영향을 미친다. Especially for RFID tags operating in the UHF frequency range, the impedance matching element 4 "and the radiating element 4 'are physically connected to each other by the coupling part 4"' but in fact the impedance matching element 4 ". And the radiating element 4 'are coupled to each other through mutual inductance, that is, an impedance matching element 4 "having a specific resonance frequency is inductively coupled to the radiating element 4' having a specific resonance frequency. The coupling distance D between the impedance matching element 4 "and the radiating element 4 ', i.e., the shortest distance between the impedance matching loop 4" and the radiating element 4' Affects the frequency response

도 1에 나타낸 특정 안테나 구조는 단지 일예로서 주어진 것임을 주목해야 한다. 방사소자(4') 뿐만 아니라 별개의 임피던스 정합루프(4")는 UHF 범위에 대하여 설계된 RFID 태그 안테나에 있어서 전형적이다. 예컨대, 근거리 작동 UHF 태그(UHF NF)에 있어서, 임피던스 정합루프(4")의 루프구조는 어떤 추가적인 방사소자 없이도 안테나로서 기능할 수 있다. It should be noted that the specific antenna structure shown in FIG. 1 is given only as an example. A separate impedance matching loop 4 "as well as a radiating element 4 'is typical for RFID tag antennas designed for the UHF range. For example, for a near-field operating UHF tag (UHF NF), the impedance matching loop 4" The loop structure can act as an antenna without any additional radiating elements.

이후에 기술되는 본 발명에 있어서 중요한 것은, 안테나 제조에 있어서 에칭 프로세스 변형은 안테나(4)의 물리적 치수를 변경할 수 있다는 것을 이해하는 것이다. 안테나(4)의 물리적 치수의 변형은, 안테나 패턴 치수가 초기 설계 목표에서 조금 벗어나는 것을 의미하며, 설계 목표는 논의가 되고 있는 RFID 태그의 타입이나 주파수 범위에 의존한다. 상기 에칭 프로세스 변형은, 예컨대 에칭액의 온도 및 조성의 변형 또는 에칭액이 에칭으로 제거될 전기 전도성 코팅에 대하여 영향을 미치는 시간의 변형에 기인할 수 있다. 상기 안테나(4)의 물리적 치수의 변형은 안테나(4)의 전기적 파라미터를 변화시켜, 집적회로(5)와의 임피던스 정합 및 안테나 주파수 튜닝이 변화한다. 이러한 주파수 튜닝 변화는 성능에 있어서 더욱 변화로 나타날 수 있어, 안테나의 최적 성능이 열화되기 시작한다. It is important for the present invention to be described later that it is understood that etch process variations in antenna fabrication can alter the physical dimensions of the antenna 4. Deformation of the physical dimensions of the antenna 4 means that the antenna pattern dimensions deviate slightly from the initial design goals, and the design goals depend on the type and frequency range of the RFID tag under discussion. The etching process modification may be due to, for example, a change in the temperature and composition of the etchant or a change in the time that the etchant affects the electrically conductive coating to be removed by etching. The modification of the physical dimensions of the antenna 4 changes the electrical parameters of the antenna 4, so that the impedance matching with the integrated circuit 5 and the antenna frequency tuning change. This frequency tuning change can be seen as a further change in performance so that the optimum performance of the antenna begins to deteriorate.

주파수 튜닝 변화의 더 전형적인 요인은, 임피던스 정합소자(4")와 방사소자(4') 사이의 커플링간격(D)의 변화이다. 상기 커플링간격(D)의 변화는 집적회로(5)와 함께 안테나(4)의 임피던스 정합 및 주파수 응답을 더욱 변경시킨다. 어떠한 안테나 설계에 있어서, 에칭 후 커플링간격(D)의 변화는 ±10%로 높아질 수 있다. 이러한 종류의 커플링간격(D)의 변화는 상기 안테나의 성능에 대하여 심각한 영향을 미칠 수 있으며, 상기 안테나의 성능은 예컨대 상기 안테나의 주파수 응답이 매우 왜곡될 정도로 열화되기 시작한다. 이것은, 예컨대 RFID 태그의 판독 거리에 있어서 손실로서 실제로 관찰될 수 있다. A more typical factor of the frequency tuning change is the change in coupling spacing D between the impedance matching element 4 "and the radiating element 4 '. The change in the coupling spacing D is the integrated circuit 5; And further alter the impedance matching and frequency response of the antenna 4. In some antenna designs, the change in coupling spacing D after etching can be increased to ± 10%. ) Can seriously affect the performance of the antenna, and the performance of the antenna begins to deteriorate to such an extent that the frequency response of the antenna is very distorted, for example, as a loss in the reading distance of an RFID tag. Can actually be observed.

미국 특허공개 공보 2007/0069037 A1호에는 방사소자로서 안테나와 임피던스 정합 배선부를 가지는 안테나 유닛을 구비하는 비접촉식(noncontact) RFID 태그가 개시되어 있다. 상기 임피던스 정합 배선부는 집적회로 모듈에 대한 몇 개의 장착 위치를 구비하여, 상기 집적회로 모듈이 다른 장착 위치에 장착될 때 상기 안테나 유닛의 주파수 특성이 달라진다. 이러한 종류의 솔루션에 의해, 단일 안테나 유닛 구성이 RFID 태그 제조를 위한 기본 안테나 유닛으로서 사용될 수 있으며, 상기 안테나 유닛의 최종 주파수 응답이 상기 집적회로 모듈을 상기 안테나 유닛의 특정 장착 위치에 장착함으로써 선택된다. 이것은, RFID 태그에 대하여 허용가능한 주파수 대역이 여러 나라에서 다양한 경우에, 일종의 안테나 유닛에만 근거하여 다양한 주파수 대역을 가지는 여러 종류의 RFID를 제조하는 것을 가능하게 한다. US-특허공개 공보 2007/0069037호에 따른 상기 RFID 태그는, 예컨대 제조된 RFID 태그가 대상으로 삼은 나라가 단번에 쉽게 결정될 수 있도록 상기 집적회로 모듈의 대응하는 장착위치에 형성된 특정 마커 위치들을 더 구비한다. US Patent Publication No. 2007/0069037 A1 discloses a noncontact RFID tag having an antenna unit having an antenna and an impedance matching wiring as a radiating element. The impedance matching wiring portion has several mounting positions for the integrated circuit module, so that the frequency characteristics of the antenna unit are different when the integrated circuit module is mounted at different mounting positions. With this kind of solution, a single antenna unit configuration can be used as the basic antenna unit for RFID tag manufacturing, and the final frequency response of the antenna unit is selected by mounting the integrated circuit module at a specific mounting location of the antenna unit. . This makes it possible to manufacture various kinds of RFIDs having various frequency bands based only on one kind of antenna unit, when the allowable frequency bands for the RFID tags vary in various countries. The RFID tag according to US Patent Publication No. 2007/0069037 further has specific marker positions formed at corresponding mounting positions of the integrated circuit module, for example, so that the country targeted by the manufactured RFID tag can be easily determined at once. .

미국 특허공개 공보 2007/0069037호에 개시된 솔루션에 의해, 다양한 주파수 응답 특성을 가지는 RFID 태그들은, 오직 일종의 안테나 유닛 구성을 이용하여 제조될 수 있다. 그러나, 미국 특허공개 공보 2007/0069037호에 개시된 RFID 태그들은 여전히 실제의 방사소자 및 임피던스 정합 배선부 사이의 커플링간격에 있어서의 변화 또는 변형이 있으며, 상기 변화 또는 변형들은 안테나 제조시의 에칭 프로세스 변형으로부터 비롯된다. 또한, 상기 장착 위치들은 다양한 지리적 영역에서의 주파수 요건에 대응하는 RFID 태그 작동주파수에서의 좀더 큰 변화를 유발하도록 설계된다는 것을 주목해야 한다. 이들 변화는 본 발명에 관하여 논의된 어떤 에칭 변형에 의해 야기된 변화보다 더 큰 것이다. With the solution disclosed in US Patent Publication No. 2007/0069037, RFID tags with various frequency response characteristics can be manufactured using only one kind of antenna unit configuration. However, the RFID tags disclosed in U.S. Patent Publication No. 2007/0069037 still have a change or modification in the coupling spacing between the actual radiating element and the impedance matching wiring portion, and the change or modifications are the etching process in the manufacture of the antenna. Comes from the transformation. It should also be noted that the mounting locations are designed to cause larger changes in the RFID tag operating frequency that correspond to frequency requirements in various geographic regions. These changes are larger than those caused by any etch deformation discussed with respect to the present invention.

미국 특허공개 공보 2007/0069037호US Patent Publication No. 2007/0069037

따라서, 본 발명의 목적은, 에칭 프로세스 변형에서 비롯되는 변화 또는 변형들의 영향이 안테나 부품들의 안테나를 제공하는 에칭된 전기 전도성 배선구성을 구비하는 안테나 부품의 또 다른 사용에 고려될 수 있는 솔루션을 제공하는 것이다. 본 발명은, RFID 태그에서와 같은 최종 생산품의 전기적 성능에 있어서의 에칭 변형의 영향을 제거하는데 도움이 되고자 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a solution in which the influence of variations or variations resulting from the etching process variant can be considered for further use of the antenna component having an etched electrically conductive wiring arrangement which provides the antenna of the antenna components. It is. The present invention is intended to help to eliminate the effects of etch strain on the electrical performance of end products, such as in RFID tags.

본 발명에 따르는 방법은, 안테나 부품의 에칭 정도를 에칭 인디케이터(etching indicator)에 의해 표시하며, 상기 에칭 인디케이터는 에칭될 안테나 부품에 또는 에칭될 안테나 부품의 근처에 위치하며 상기 안테나 부품의 기판에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되고 에칭시 에칭액에 의해 노출되는 것을 특징으로 한다. The method according to the invention indicates the degree of etching of the antenna component by means of an etching indicator, the etching indicator being located at or near the antenna component to be etched and by the substrate of the antenna component. It is composed of the same electrically conductive coating supported and is exposed by the etchant during etching.

안테나 부품 또는 안테나 부품의 그룹은, 적어도 하나의 안테나 부품의 적어도 몇 개의 제조 단계(manufacturing stage)에서, 안테나 부품에 또는 적어도 하나의 안테나 부품의 근처에 적어도 하나의 에칭 인디케이터가 있으며, 상기 에칭 인디케이터는, 적어도 하나의 안테나 부품의 에칭 정도에 관한 정보를 제공하며 상기 기판에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되는 것을 특징으로 한다. The antenna component or group of antenna components includes at least one etching indicator at or near the antenna component at at least several manufacturing stages of the at least one antenna component, wherein the etching indicator is And provide information on the degree of etching of at least one antenna component and consist of the same electrically conductive coating supported by the substrate.

본 발명에 따르는 에칭 마스크에 있어서, 상기 에칭 마스크는, 에칭시 유지될 전기 전도성 배선구성에 대응하는 적어도 하나의 메인 영역(main area)에 배리어 재료(barrier material)를 구비하며, 상기 에칭 마스크는 상기 기판에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되는 에칭 인디케이터를 형성하기 위한 적어도 하나의 서브 영역(sub-area)에 배리어 재료를 더 구비하며, 상기 에칭 인디케이터는, 상기 안테나 부품의 에칭 정도(the extent of etching)를 나타내도록 배열되는 것을 특징으로 한다. In the etching mask according to the present invention, the etching mask comprises a barrier material in at least one main area corresponding to the electrically conductive wiring structure to be maintained during etching, wherein the etching mask comprises: Further comprising a barrier material in at least one sub-area for forming an etch indicator composed of the same electrically conductive coating supported by the substrate, wherein the etch indicator further comprises the extent of etching of the antenna component. of etching).

에칭에 의해 안테나 부품을 제조하는 방법에 있어서, 상기 부품은, 기판과, 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성을 구비하며, 상기 부품의 전기 전도성 배선구성은, 상기 기판에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거함으로써 형성된다. 에칭 인디케이터에 의해 상기 안테나 부품의 에칭 정도가 표시되며, 상기 에칭 인디케이터는 에칭될 안테나 부품에 또는 에칭될 안테나 부품의 근처에 위치되며 상기 부품의 기판에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되고 에칭시 에칭액에 노출된다. A method of manufacturing an antenna component by etching, wherein the component includes a substrate and an electrically conductive wiring configuration supported by the substrate, wherein the electrically conductive wiring configuration of the component is electrically conductive supported by the substrate. The coating is formed by topical removal with an etchant. The etching indicator indicates the degree of etching of the antenna component, which is composed of the same electrically conductive coating supported by the substrate of the component and positioned at the antenna component to be etched or near the antenna component to be etched. It is exposed to etching liquid.

상기 에칭 인디케이터는, 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도를 나타내는데 사용할 수 있으며, 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향은 에칭프로세스 동안 전기 전도성 배선구성이 에칭된 정도에 관한 정보를 제공한다. 상기 에칭 인디케이터를 검사함으로써, 안테나 부품의 전기 전도성 배선구성이 과다하게 에칭되거나(오버에칭, over-etching), 과소하게 에칭(언더에칭, under-etching)되거나, 또는 설계된 목표 배선구성에 정확하게 대응하여 에칭되었는지를 결정하는 것이 가능하다. 이와 같이 함으로써, 추가의 제조 단계의 전자기 감지(electromagnetic sense)에 있어서 상기 안테나 부품의 유용성이, 임의의 집적회로 또는 다른 유사한 부품이 상기 에칭된 안테나 부품에 부착되기 전에 결정될 수 있다. 이것은 제조 비용을 저감하는데 있어서 중요한 요인이다. The etch indicator can be used to indicate the extent of the effect of the etchant on the electrically conductive coating, the effect of the etchant on the electrically conductive coating providing information as to the extent to which the electrically conductive wiring configuration is etched during the etching process. By inspecting the etch indicator, the electrically conductive wiring configuration of the antenna component may be over etched (over-etched), underetched (under-etched), or precisely corresponding to the designed target wiring scheme. It is possible to determine if it is etched. By doing so, the usefulness of the antenna component in the electromagnetic sense of further manufacturing steps can be determined before any integrated circuit or other similar component is attached to the etched antenna component. This is an important factor in reducing the manufacturing cost.

일 실시예에 따르면, 상기 에칭 인디케이터는, 서로에 대하여 서로 다른 폭을 가지는 다수의 평행선을 구비하여, 상기 에칭 인디케이터는 단순한 형태나 형상을 가진다. According to one embodiment, the etching indicator has a plurality of parallel lines having different widths with respect to each other, so that the etching indicator has a simple form or shape.

일 실시예에 따르면, 상기 안테나 부품은 집적회로를 구비하는 무선주파수 식별태그 또는 RFID 태그의 일부를 형성하도록 되어 있어, 상기 전기 전도성 배선구성은 상기 RFID 태그의 안테나의 적어도 일부를 형성하게 된다. 상기 안테나는 하나 이상의 소자들, 예컨대 방사소자 및 임피던스 정합소자를 구비할 수 있다. 상기 제조될 부품이 RFID 태그의 일부를 형성하게 되면, 상기 부품의 전기 전도성 배선구성은 상기 RFID 태그의 안테나의 적어도 일부를 형성하게 되고, 상기 에칭 인디케이터는, 상기 설계 목표 안테나에 관하여 실제 에칭된 안테나 패턴의 주파수 튜닝 특성을 나타내는데 사용될 수 있어, RFID 태그의 추가의 제조 단계에서 상기 안테나 부품의 유용성을 표시하게 된다. According to one embodiment, the antenna component is configured to form part of an RFID tag or an RFID tag having an integrated circuit, so that the electrically conductive wiring configuration forms at least part of the antenna of the RFID tag. The antenna may have one or more elements, such as a radiating element and an impedance matching element. When the part to be manufactured forms part of the RFID tag, the electrically conductive wiring configuration of the part forms at least part of the antenna of the RFID tag, and the etch indicator is an actual etched antenna with respect to the design target antenna. It can be used to indicate the frequency tuning characteristics of the pattern, indicating the usefulness of the antenna component in further manufacturing steps of the RFID tag.

또 하나의 실시예에 따르면, 상기 안테나 또는 상기 RFID 태그용 안테나의 임피던스 정합소자는, 상기 집적회로를 부착하기 위한 다수의 가능 부착점(possible attachment points)을 구비하며, 상기 집적회로의 특정 부착점은 상기 에칭 인디케이터를 검사함으로써 결정된다. 상기 에칭 인디케이터를 검사함으로써, 상기 설계 목표 안테나에 관한 실제 에칭된 안테나 패턴의 주파수 튜닝 특성을 결정하는 것이 가능하며, 그리하여 상기 안테나, 또는 상기 안테나의 임피던스 정합소자에서의 집적회로에 대한 적절한 부착점을 선택함으로써, 상기 안테나의 주파수 튜닝 특성의 변화, 에칭 프로세서에 있어서의 변형("오버" 또는 "언더" 에칭)으로부터 비롯된 변화를 보상할 수 있어, 상기 안테나 패턴의 에칭시의 프로세스 변형에도 불구하고 실행가능한 RFID 태그를 제공할 수 있다. According to another embodiment, an impedance matching element of the antenna or the antenna for the RFID tag has a plurality of possible attachment points for attaching the integrated circuit, and the specific attachment point of the integrated circuit. Is determined by inspecting the etch indicator. By examining the etch indicator, it is possible to determine the frequency tuning characteristics of the actual etched antenna pattern with respect to the design target antenna, so that an appropriate point of attachment to the antenna, or the integrated circuit at the impedance matching element of the antenna, can be determined. By selecting, it is possible to compensate for a change resulting from a change in the frequency tuning characteristic of the antenna and a change in the etching processor ("over" or "under" etching), so that the execution despite the process deformation during etching of the antenna pattern. Possible RFID tags can be provided.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 안테나 또는 안테나 컨덕터 구조는, 상기 에칭 인디케이터에 의해 표시된 에칭의 정도에 근거하여 상기 안테나 또는 안테나 컨덕터 구조의 에칭 후에 변경될 수 있다. 상기 안테나 컨덕터 구조는, 예컨대 레이저 튜닝 또는 다이 커팅에 의해 안테나 구조로부터 전도성 재료를 제거하고/또는 상기 안테나 구조에 대하여 전도성 재료를 부가함으로써 국소적으로 변경되어, 상기 에칭된 안테나의 무선주파수 거동에 영향을 미칠 수 있다. 또한 상기 안테나 컨덕터 구조는, 상기 안테나 부품에 분리된, 적층가능한 튜닝 구조(a separate, possibly laminated, tuning structure)를 추가함으로써 변경되어, 상기 에칭된 안테나의 무선주파수 거동에 영향을 미칠 수 있다. 이와 같이 하여, 상기 에칭 인디케이터에 의해 제공된 상기 정보는, 상기 안테나 부품에서 직접회로에 대한 적절한 부착점의 선택에 추가하여 또는 부착점의 선택을 대신하여 에칭 후 상기 안테나 컨덕터 구조를 변경하는데 또한 사용될 수 있다. According to another embodiment, the antenna or antenna conductor structure may be changed after etching of the antenna or antenna conductor structure based on the degree of etching indicated by the etch indicator. The antenna conductor structure is changed locally, for example by removing conductive material from the antenna structure by laser tuning or die cutting and / or adding conductive material to the antenna structure, thereby affecting the radiofrequency behavior of the etched antenna. Can have The antenna conductor structure may also be altered by adding a separate, possibly laminated, tuning structure to the antenna component to affect the radiofrequency behavior of the etched antenna. In this way, the information provided by the etch indicator may also be used to modify the antenna conductor structure after etching in addition to or in place of the selection of an appropriate point of attachment for the integrated circuit in the antenna component. have.

이하에서는, 본 발명에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 의해 좀더 상세하게 설명될 것이다.
도 1은, 종래 기술의 무선주파수 식별 태그에 대한 개략 상면도를 나타낸다.
도 2는, 전기 전도성 배선구성 및 에칭 인디케이터를 구비하는 안테나 부품의 개략 상면도를 나타낸다.
도 3은, 도 2에 따른 안테나 부품의 상세의 개략 상면도를 나타낸다.
도 4는, 에칭 인디케이터의 개략 상면도를 나타낸다.
도 5는, 제2 에칭 인디케이터의 개략 상면도를 나타낸다.
도 6은, 도 2에 따른 안테나 부품의 제조에 사용될 수 있는 에칭 마스크의 개략 상면도를 나타낸다.
도 7은, 각 그룹의 부품에 대하여 하나의 에칭 인디케이터를 구비하는 안테나 부품의 그룹을 개략적으로 나타낸다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings with respect to the present invention will be described in more detail by the preferred embodiment.
1 shows a schematic top view of a radio frequency identification tag of the prior art.
2 shows a schematic top view of an antenna component having an electrically conductive wiring configuration and an etch indicator.
3 shows a schematic top view of the details of the antenna component according to FIG. 2.
4 shows a schematic top view of an etching indicator.
5 shows a schematic top view of a second etching indicator.
6 shows a schematic top view of an etch mask that can be used for the manufacture of the antenna component according to FIG. 2.
Fig. 7 schematically shows a group of antenna parts with one etch indicator for each group of parts.

도 2는, 기판(3) 상에 전기 전도성 배선구성을 구비하는 안테나 부품(2)의 상면도이다. 도 2의 상기 안테나 부품(2)은, 기본 무선주파수 식별태그의 일부를 형성하며, 완성된 무선주파수 식별태그 또는 RFID 태그와 비교하면 집적회로(5) 및 스티커(6)만 빠져 있다. 도 2에 따르는 부품(2)의 전기 전도성 배선구성은 RFID 태그를 위한 안테나(4)를 형성한다. 도 2에 따르는 상기 안테나(4)는, 방사소자(4'), 임피던스 정합소자(4") 및 커플링소자(4"')를 구비한다. 상기 안테나는 예컨대, UHF 주파수 범위에 대하여 설계될 수 있다. 2 is a top view of the antenna component 2 having the electrically conductive wiring configuration on the substrate 3. The antenna component 2 of FIG. 2 forms part of the basic radio frequency identification tag, and only the integrated circuit 5 and the sticker 6 are missing in comparison with the completed radio frequency identification tag or RFID tag. The electrically conductive wiring arrangement of the component 2 according to FIG. 2 forms an antenna 4 for an RFID tag. The antenna 4 according to FIG. 2 has a radiating element 4 ', an impedance matching element 4 "and a coupling element 4"'. The antenna may for example be designed for the UHF frequency range.

도 2에 나타낸 상기 임피던스 정합소자(4")는, 상기 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 집적회로(5)를 부착하기 위한 다수의 부착점을 더 구비한다. 도 2에 나타낸 상기 임피던스 정합소자(4")는 도 3에 더욱 명확하게 나타낸다. 도 2 및 도 3에 따르는 상기 임피던스 정합소자(4")는, 상기 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 집적회로(5)를 부착하기 위하여, 5개의 부착점, 즉 부착점(7a, 7b, 7c, 7d 및 7e)을 구비한다. 상기 부착점(7a - 7e)은 상기 안테나(4)와 동일한 전기 전도성 코팅의 상기 안테나(4)의 에칭 동안 형성되며, 상기 전기 전도성 코팅은 상기 기판(3)에 의해 지지되어 있다. 상기 부착점 구성은 하나의 돌출부(8)가 상기 부착점(7a - 7e)의 양측에, 2개의 돌출부(projections, 8)를 구비한다. 상기 돌출부(8)는 상기 임피던스 정합소자(4")의 배선구성에 수직이며, 도 2 및 도 3의 실시예에 있어서, 상기 돌출부(8)는 상기 임피던스 정합소자(4")의 루프 구조의 안쪽을 향하지만 자연적으로 그 반대방향으로도 향할 수 있다. 양 돌출부(8)는 5개의 사이드 돌출부(9)를 구비하고, 상기 사이드 돌출부(9)는, 상기 대응하는 돌출부(8)와 물리적 관계에 있으며 상기 돌출부(8)에 수직이고, 상기 사이드 돌출부(9)는 물리적 관계에 있지 않은 다른 돌출부를 향해 있다. 상기 대향하는 돌출부(8)와 연결된 사이드 돌출부(9)는 서로 대향하지만 특정 부착점(7a, 7b, 7c, 7d 또는 7e)에 집적회로(5)를 부착하기 전에 서로 어떠한 일직선의 물리적 관계도 가지지 않는다. 각 부착점(7a 내지 7e)은 임피던스 정합소자(4")의 다양한 물리적 루프길이를 형성하여, 상기 각 부착점(7a 내지 7e)은 집적회로가 상기 특정 부착점(7a 내지 7e)에 부착된 후에 상기 임피던스 정합소자(4")에 대하여 다양한 주파수 튜닝 특성을 제공한다. The impedance matching element 4 "shown in FIG. 2 further includes a plurality of attachment points for attaching the integrated circuit 5 in relation to the impedance matching element 4". The impedance matching element 4 "shown in Fig. 2 is more clearly shown in Fig. 3. The impedance matching element 4" according to Figs. 2 and 3 is integrated with respect to the impedance matching element 4 ". In order to attach the circuit 5, there are five attachment points, that is, attachment points 7a, 7b, 7c, 7d and 7e. The attachment points 7a-7e have the same electrical conductivity as the antenna 4. A coating is formed during the etching of the antenna 4, and the electrically conductive coating is supported by the substrate 3. The attachment point configuration is such that one protrusion 8 is provided at the attachment points 7a-7e. On both sides, two projections 8 are provided. The projection 8 is perpendicular to the wiring configuration of the impedance matching element 4 ", and in the embodiment of Figs. 8) faces the inner side of the loop structure of the impedance matching element 4 "but may also be oriented naturally in the opposite direction. C. Both protrusions 8 have five side protrusions 9, the side protrusions 9 being in physical relationship with the corresponding protrusions 8 and perpendicular to the protrusions 8, the side The protrusions 9 point towards other protrusions that are not in physical relationship, and the side protrusions 9 connected to the opposing protrusions 8 face each other but are integrated at specific attachment points 7a, 7b, 7c, 7d or 7e. It does not have any straight physical relationship with each other prior to attaching the circuit 5. Each attachment point 7a to 7e forms various physical loop lengths of the impedance matching element 4 ", so that each attachment point 7a to 7e) provides various frequency tuning characteristics for the impedance matching element 4 "after the integrated circuit is attached to the specific attachment points 7a to 7e.

상기 부착점 및 접속 영역은 몇 가지 방식으로 설계될 수 있으므로, 상기 도 2 및 도 3에 나타낸 설계는 일예로서만 이해하여야 한다. 또한, 도 2 및 도 3에 나타낸 실시예에서 상기 부착점(7a 내지 7e)은 상기 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 배열되어 있지만, 상기 부착점(7a 내지 7e)은 예컨대 안테나 구조에 따라서 상기 안테나(4)의 다른 부분과 관련하여 배치될 수 있다는 것을 주목하여야 한다. Since the attachment point and the connection area can be designed in several ways, the design shown in FIGS. 2 and 3 should be understood only as an example. In addition, in the embodiment shown in Figs. 2 and 3, the attachment points 7a to 7e are arranged in relation to the impedance matching element 4 ", but the attachment points 7a to 7e are for example according to the antenna structure. It should be noted that it may be arranged in relation to the other part of the antenna 4.

도 2에 따르는 상기 안테나 부품(2)은 에칭 인디케이터(10)를 더 구비하며, 상기 에칭 인디케이터는 도 4에 좀더 상세하게 나타내고 있다. 도 4에 따르는 상기 에칭 인디케이터(10) 또는 에칭 인디케이터 패턴(10)은 서로 다른 폭의 5개의 평행선(parallel lines, 11a, 11b, 11c, 11d 및 11e)을 구비하여, 이들 5개의 평행선(11a 내지 11e)은 서로 다른 치수, 즉 선폭의 동일한 특성(characteristic)을 가지는 5개의 부분, 즉 배선(11a 내지 11e)을 구비하는 패턴을 형성한다. 상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 부품(2)의 에칭의 정도를 나타내거나, 또는 상기 부품(2)의 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도를 나타내는데 사용된다. 상기 배선(11a 내지 11e)은 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅으로 구성되어, 상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 부품(2)의 전기 전도성 배선구성의 에칭동안 형성될 것이다. 도 4에 있어서, 상기 에칭 인디케이터(10)는, 상기 에칭 인디케이터(10)에 대하여 상기 에칭액이 어떠한 영향도 미치기 전 그 기본 형태나 형상을 나타내며, 도 2에서 상기 에칭 인디케이터(10)는, 상기 안테나(4)의 에칭 동안 상기 에칭액이 상기 에칭 인디케이터(10)로부터 배선(11c 내지 11e)을 제거한 형태나, 형상을 나타내고 있다. The antenna component 2 according to FIG. 2 further comprises an etch indicator 10, which is shown in more detail in FIG. 4. The etch indicator 10 or etch indicator pattern 10 according to FIG. 4 has five parallel lines 11a, 11b, 11c, 11d and 11e of different widths, so that these five parallel lines 11a to 11e. 11e) forms a pattern having five portions, that is, wirings 11a to 11e, having different dimensions, i.e., the same characteristic of line width. The etch indicator 10 is used to indicate the degree of etching of the component 2 or to indicate the degree of influence of the etchant on the electrically conductive coating supported by the substrate 3 of the component 2. . The wirings 11a to 11e consist of an electrically conductive coating supported by the substrate 3 so that the etch indicator 10 will be formed during the etching of the electrically conductive wiring configuration of the component 2. In FIG. 4, the etching indicator 10 shows the basic shape or shape before the etching liquid has any influence on the etching indicator 10. In FIG. 2, the etching indicator 10 is the antenna. During the etching of (4), the etching liquid shows a form or shape in which the wirings 11c to 11e are removed from the etching indicator 10.

상기 안테나(4)의 에칭 동안, 상기 기판(3)을 구비하는 상기 안테나 부품(2)은, 상기 안테나(4) 구성, 즉 방사소자(4'), 임피던스 정합소자(4") 및 커플링소자(4"')를 형성하기 위하여, 또한 도 2에 따르는 실시예의 경우, 부착점(7a ~ 7e)을 제공하기 위한 돌출부(8) 및 사이드 돌출부(9)를 형성하기 위해, 에칭액의 영향에 노출된다. 에칭 동안, 상기 에칭액은 사용된 에칭 마스크에 의해 보호되지 않는 기판(3)의 다른 부분에 대하여 상기 안테나 부품(2)의 기판(3)으로부터 전기 전도성 코팅을 제거한다. 상기 에칭 마스크는 상기 설계된 전기 전도성 배선구성이 유지되도록 요구되는 기판(3)의 다른 부분에 대하여 배리어 재료를 구비한다. 상기 에칭 프로세스 그 자체의 기본 원리는 당업자가 일반적으로 알고 있는 것이므로, 본 명세서에서 더 상세한 설명은 생략하기로 한다. . During the etching of the antenna 4, the antenna component 2 with the substrate 3 comprises the antenna 4 configuration, ie the radiating element 4 ′, the impedance matching element 4 ″ and the coupling. In order to form the element 4 "'and also in the case of the embodiment according to FIG. 2, in order to form the protrusion 8 and the side protrusion 9 for providing the attachment points 7a to 7e, Exposed. During etching, the etchant removes the electrically conductive coating from the substrate 3 of the antenna component 2 with respect to other portions of the substrate 3 that are not protected by the etching mask used. The etch mask has barrier material against other portions of the substrate 3 where the designed electrically conductive wiring configuration is required to be maintained. Since the basic principle of the etching process itself is generally known to those skilled in the art, further details will be omitted herein. .

그러나, 상술한 바와 같이, RFID 태그를 위한 안테나 제조에 있어서의 에칭 프로세스 변형은 안테나(4)의 물리적 치수를 변경시킬 수 있다. 오버 또는 언더 에칭에 의해 야기된 안테나(4)의 물리적 치수의 변형은 안테나 패턴 치수에 대하여 초기 설계 목표로부터 편차(offset)를 일으킬 수 있다. 상기 에칭 프로세스 변형은 예컨대, 에칭액의 온도 및 조성의 변형이나, 또는 에칭 제거될 전기 전도성 코팅에 대하여 에칭액이 영향을 미치는 시간의 변형이 원인으로 된다. 안테나의 물리적 치수의 변형은 안테나(4)의 전기적 파라미터를 변화시켜, 안테나 주파수 튜닝 특성을 변화시킨다. 이러한 주파수 튜닝 변화는 또한 성능에 있어서의 변화로서 나타날 수 있어 안테나의 최적 성능이 열화되기 시작한다. However, as noted above, variations in the etching process in the manufacture of antennas for RFID tags can change the physical dimensions of the antenna 4. Deformation of the physical dimensions of the antenna 4 caused by over or under etching may cause an offset from the initial design goal with respect to the antenna pattern dimensions. The etching process deformation may be caused, for example, by a change in the temperature and composition of the etchant, or by a time in which the etchant affects the electrically conductive coating to be etched away. Deformation of the physical dimensions of the antenna changes the electrical parameters of the antenna 4, thereby changing the antenna frequency tuning characteristics. This frequency tuning change can also appear as a change in performance so that the optimum performance of the antenna begins to deteriorate.

상술한 에칭 인디케이터(10)를 이용함으로써, 이러한 주파수 튜닝 변화가 추정될 수 있다. 이러한 추정은 이론적 산출(theoretical calculations)이나 시뮬레이션에 근거할 수 있으며, 또는 오버에칭 및 언더에칭 실험의 범위가 수행되어 상기 안테나의 주파수 특성에 대한 그들의 영향이 이후에 측정된, 경험에 의한 에칭 실험에 근거할 수 있다. By using the above-described etching indicator 10, this frequency tuning change can be estimated. These estimates may be based on theoretical calculations or simulations, or a range of overetching and underetching experiments may be performed to determine an empirical etching experiment where their influence on the frequency characteristics of the antenna is subsequently measured. Can be based.

에칭 프로세스 동안, 상기 에칭액은 상기 설계된 목표 안테나를 얻기 위하여 제거될 전기 전도성 코팅의 다른 부분에 대해서뿐만 아니라, 안테나(4) 및 에칭 인디케이터(10)에 대응하는 전기 전도성 배선구성을 형성하는 부분으로부터 전기 전도성 코팅을 제거한다. 이와 같이 하여, 상기 에칭액은 에칭 동안 배선(11a 내지 11e)으로부터 재료를 또한 제거한다. 이것은 도 2의 실시예에 개략적으로 도시할 수 있으며, 도 2가 상기 에칭 프로세스가 완료된 후의 상기 안테나 부품(2)을 나타내는 것으로 가정하면, 상기 에칭 인디케이터(10)의 배선(11c 내지 11e)은 상기 안테나(4)의 에칭 동안 완전하게 소멸되어 있다. 그러나, 명료하게 위하여, 에칭동안 소멸된 배선(11c 내지 11e)은 도 2에서 파선으로 나타낸다. 만일 에칭동안 임의의 배선(11a 내지 11e)이 완전하게 소멸되지 않았다면, 에칭 동안 소멸된 에칭 인디케이터(10)의 배선수, 또는, 에칭 동안 소멸된 에칭 인디케이터 재료의 양이나 치수는 이하에 설명하는 바와 같이 안테나(4)의 주파수 튜닝 변화에 관한 정보를 제공한다. During the etching process, the etchant is transferred from the portion forming the electrically conductive wiring configuration corresponding to the antenna 4 and the etch indicator 10 as well as to other portions of the electrically conductive coating to be removed to obtain the designed target antenna. Remove the conductive coating. In this way, the etchant also removes material from the wirings 11a to 11e during etching. This can be schematically illustrated in the embodiment of FIG. 2, assuming that FIG. 2 represents the antenna component 2 after the etching process has been completed, the wirings 11c-11e of the etching indicator 10 are described above. It is completely extinguished during the etching of the antenna 4. However, for the sake of clarity, the wirings 11c to 11e which disappeared during etching are shown by broken lines in FIG. 2. If any of the wirings 11a to 11e have not completely disappeared during the etching, the number of wirings of the etching indicator 10 lost during the etching, or the amount or dimension of the etching indicator material that has disappeared during the etching is as described below. Similarly, information on the frequency tuning change of the antenna 4 is provided.

도 2에서, 잔존하는 에칭 인디케이터(10)를 검사함으로써, 오직 배선(11a 및 11b)가 남아 있으며, 배선(11c 내지 11e)은 에칭 동안 제거된 것을 알 수 있다. 한가운데의 배선(11c)은 에칭 인디케이터(10)의 참조부를 형성하여 특정 폭을 가지는 한가운데 배선(11c)과 좀더 작은 폭을 가지는, 즉 참조부보다 더 작은 대응하는 특성을 갖는 배선(11d 및 11e)이 모두 소멸되면, 이것은 안테나(4)에 대응하는 전기 전도성 배선구성이 에칭액의 소망하는 정도의 영향에 대응하는 정도로, 즉 상기 안테나(4)의 설계 목표로 에칭된 것을 의미하도록 결정된다. 이것은, 안테나의 물리적 치수 및 이것에 의한 도 2에 나타낸 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성이, 설계된 목표 안테나(4)의 물리적 치수 및 주파수 튜닝 특성에 완전히 대응하며, 도 2에 따르는 안테나(4)에서의 주파수 튜닝 변화는 없다는 것을 의미한다. 이것은 결국, 예컨대 집적회로(5)가 임피던스 정합소자(4")의 부착점(7c)에 부착될 수 있으며, 상기 부착점(7c)은 본 예에서, 에칭된 안테나(4)가 설계된 목표 주파수 튜닝 특성 또는 설계된 목표 작동 주파수를 갖는 경우에, 상기 임피던스 정합소자(4")를 대상으로 하는, 임피던스 정합소자(4")의 루프 길이에 대응한다는 것을 의미한다.In FIG. 2, by inspecting the remaining etching indicator 10, it can be seen that only the wirings 11a and 11b remain and the wirings 11c to 11e have been removed during etching. The middle wiring 11c forms a reference portion of the etching indicator 10 to form a reference portion of the etching indicator 10 and the wirings 11c and 11e having a smaller width than the middle wiring 11c having a specific width, that is, smaller than the reference portion. When all of this is extinguished, this is determined to mean that the electrically conductive wiring configuration corresponding to the antenna 4 is etched to an extent corresponding to the effect of the desired degree of etching liquid, that is, to the design goal of the antenna 4. This means that the physical dimensions of the antenna and thereby the frequency tuning characteristics of the antenna 4 shown in FIG. 2 completely correspond to the physical dimensions and frequency tuning characteristics of the designed target antenna 4, and the antenna 4 according to FIG. 2. This means that there is no change in frequency tuning at. This may in turn result in, for example, the integrated circuit 5 being attached to the attachment point 7c of the impedance matching element 4 ", which is in this example the target frequency at which the etched antenna 4 is designed. In the case of having a tuning characteristic or a designed target operating frequency, it means that it corresponds to the loop length of the impedance matching element 4 "for the impedance matching element 4".

그러나, 예컨대, 오직 배선(11e)만이 에칭동안 소멸되면, 에칭 인디케이터(10)의 검사는 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향이 너무 낮다는 것을 나타낸다. 이것은, 설계된 목표 안테나(4)의 물리적 치수에 비교하면 상기 안테나(4)의 물리적 치수가 너무 크다는 것을 의미하며, 이것은 상기 실제 에칭된 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성이 상기 설계된 목표 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성에 대응하지 않는, 즉 주파수 튜닝 특성에 변화가 있다는 것을 의미한다. 그러나, 이러한 주파수 튜닝 특성에 있어서의 변화는, 이제 예컨대 임피던스 정합소자(4")의 부착점(7e)에 집적회로(5)를 부착함으로써 보상될 수 있으며, 본 예에서, 상기 부착점(7e)은, 상기 에칭된 안테나(4)가 설계된 목표 안테나의 물리적 치수보다 더 큰 물리적 치수를 가져, 어떠한 보상없이는, 설계된 목표 안테나에 비하여 부정확한 주파수 튜닝을 초래하는 경우에, 상기 임피던스 정합소자(4")를 대상으로 하는, 상기 임피던스 정합소자(4")의 루프길이에 대응한다. However, for example, if only the wiring 11e is extinguished during etching, inspection of the etching indicator 10 indicates that the influence of the etching solution on the electrically conductive coating is too low. This means that the physical dimension of the antenna 4 is too large compared to the physical dimension of the designed target antenna 4, which means that the frequency tuning characteristic of the actual etched antenna 4 is the designed target antenna 4. This means that there is a change in the frequency tuning characteristic that does not correspond to the frequency tuning characteristic. However, this change in the frequency tuning characteristic can now be compensated by attaching the integrated circuit 5 to the attachment point 7e of the impedance matching element 4 ", for example, in this example, the attachment point 7e. ) Is such that if the etched antenna 4 has a larger physical dimension than the designed target antenna, resulting in inaccurate frequency tuning relative to the designed target antenna without any compensation, the impedance matching element 4 Corresponds to the loop length of the impedance matching element 4 "

그러나, 예컨대 모든 배선(11a ~ 11e)이 에칭동안 소멸되면, 상기 에칭 인디케이터(10)의 검사는 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향이 너무 강한 것을 나타낸다. 이것은, 상기 안테나(4)의 물리적 치수가 상기 설계된 목표 안테나(4)의 물리적 치수에 비하면 너무 작은 것을 의미하며, 이것은 실제 에칭된 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성이 상기 설계된 목표 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성에 대응하지 않는다는 것을 의미한다. 그러나, 주파수 튜닝 특성에 있어서의 이러한 변화는, 이제 예컨대 상기 임피던스 정합소자(4")의 부착점(7a)에 집적회로(5)를 부착함으로써 보상될 수 있으며, 본 예에서 상기 부착점(7a)은, 상기 에칭된 안테나(4)가 상기 설계된 목표 안테나의 물리적 치수보다 더 작은 물리적 치수를 가져, 어떠한 보상없이는, 상기 설계된 목표 안테나의 작동 주파수로부터 벗어나는 주파수 튜닝 특성의 원인이 되는 경우에, 상기 임피던스 정합소자(4")를 대상으로 하는, 상기 임피던스 정합소자(4")의 루프길이에 대응한다. However, if, for example, all the wirings 11a to 11e disappear during the etching, inspection of the etching indicator 10 indicates that the influence of the etching solution on the electrically conductive coating is too strong. This means that the physical dimension of the antenna 4 is too small compared to the physical dimension of the designed target antenna 4, which means that the frequency tuning characteristic of the actual etched antenna 4 is that of the designed target antenna 4. It does not correspond to the frequency tuning characteristics. However, this change in the frequency tuning characteristic can now be compensated by attaching the integrated circuit 5 to the attachment point 7a of the impedance matching element 4 ", for example in the present example. ), If the etched antenna 4 has a smaller physical dimension than that of the designed target antenna, resulting in a frequency tuning characteristic that deviates from the operating frequency of the designed target antenna without any compensation, Corresponds to the loop length of the impedance matching element 4 "for the impedance matching element 4".

에칭 프로세스 후 및 부품(2)의 기판(3) 상부 상의 에칭액이 쏟아져 내린 후에, 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도를 상기 에칭 인디케이터(10)를 검사함으로써 결정될 수 있으며, 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향은, 상기 RFID 태그(1)에 대한 안테나 패턴(4), 상기 본 예에서의 상기 전기 전도성 배선구성이 에칭 프로세스 동안 에칭된 정도에 관한 정보를 제공한다. 도 4의 예로서 나타낸 에칭 인디케이터의 기본 형태나 형상과 비교할 때, 상기 에칭 인디케이터(10)에서의 변화는, 상기 실제 에칭된 안테나 패턴이 상기 설계된 목표 안테나에 얼마나 잘 대응하는지의 정도를 표시한다. 상기 에칭 인디케이터(10)에서의 이들 변화의 검사에 근거하여, 상기 안테나 패턴의 치수 변화와, 상기 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성의 변화가 결정될 수 있다. 예컨대, 상기 에칭 인디케이터(10)가 상술한 바와 같이, 에칭액의 영향력이 너무 낮아 상기 설계된 목표 안테나 구성이 달성되지 않는 것을 나타낸다면, 이것은 실제 안테나(4)와 상기 설계된 목표 안테나(4) 사이에서 주파수 튜닝 특성의 차이를 유발한다. 그러나, 주파수 튜닝 특성에 있어서의 이러한 변화는, 상기 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성의 변화에 대응하는 상기 부착점(7a, 7b, 7c, 7d 또는 7e)에 집적회로(5)를 부착함으로써 보상될 수 있다. 상기 안테나(4)의 임피던스 정합루프(4")에서의 다른 부착점(7a 내지 7e)에 대한 집적회로(5)의 부착은, 상기 안테나(4)에 대한 서로 다른 주파수 튜닝 특성을 제공한다. 이와 같이 하여, 상기 인디케이터(10)를 사용함으로써, 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향 및 이에 의한 상기 설계된 목표 안테나(4)에 비해 주파수 튜닝 특성의 가능한 변화의 정도를 결정하는 것이 가능하게 되므로, 집적회로(5)에 대한 적절한 부착점을 선택하여, 상기 에칭 프로세스에서 비롯된 상기 안테나에서의 상기 주파수 튜닝 변화를 상기 설계된 목표값에 근접하거나, 완벽한 목표값으로 보상하는 것이 가능함으로써, 실행가능한 RFID 태그를 제공하게 된다. 따라서, 에칭 프로세스에서의 변형은, 예컨대, 임피던스 정합소자(4")의 적절한 부착점에 집적회로(5)를 삽입함으로써 RFID 태그 제조 프로세스에서 나중에 수정될 수 있다. 이것은, 또한, 에칭 프로세스에 있어서의 변형에도 불구하고, 주파수 튜닝 특성에 관해서 낮은 품질의 안테나(4)를 구비하는 RFID 태그 안테나 부품(2)이 또한 RFID 태그 제조에 있어서 이용될 수 있다는 것을 의미한다. 이것은, 에칭 프로세스 변형으로 인해 불량품 안테나 강편의 출현을 감소시키거나 또는 완전히 방지함으로써 제조비용을 절감한다. 에칭 인디케이터(10)의 검사는 예컨대, 카메라 기술 및 화상 인식 기술을 이용하여 제공될 수 있다. After the etching process and after the etchant on the top of the substrate 3 of the component 2 is poured down, the extent of the effect of the etchant on the electrically conductive coating can be determined by inspecting the etching indicator 10 and the The influence of the etchant on the antenna provides information about the antenna pattern 4 for the RFID tag 1, and the degree to which the electrically conductive wiring arrangement in the present example is etched during the etching process. Compared to the basic shape or shape of the etch indicator shown as an example of FIG. 4, the change in the etch indicator 10 indicates how well the actual etched antenna pattern corresponds to the designed target antenna. Based on the inspection of these changes in the etching indicator 10, the change in the dimensions of the antenna pattern and the change in the frequency tuning characteristics of the antenna 4 can be determined. For example, if the etch indicator 10 indicates that the influence of the etchant is so low that the designed target antenna configuration is not achieved, as described above, this is the frequency between the actual antenna 4 and the designed target antenna 4. It causes a difference in tuning characteristics. However, this change in the frequency tuning characteristic is compensated by attaching the integrated circuit 5 to the attachment point 7a, 7b, 7c, 7d or 7e corresponding to the change in the frequency tuning characteristic of the antenna 4. Can be. The attachment of the integrated circuit 5 to the other attachment points 7a to 7e at the impedance matching loop 4 "of the antenna 4 provides different frequency tuning characteristics for the antenna 4. In this way, by using the indicator 10, it becomes possible to determine the influence of the etchant on the electrically conductive coating and the degree of possible variation in the frequency tuning characteristics relative to the designed target antenna 4 thereby. By selecting an appropriate attachment point for the integrated circuit 5, it is possible to compensate for the frequency tuning change in the antenna resulting from the etching process to be close to the designed target value or to a perfect target value, thereby enabling a viable RFID tag. Thus, a modification in the etching process is achieved by, for example, inserting the integrated circuit 5 at an appropriate point of attachment of the impedance matching element 4 ". Can be modified later in the RFID tag manufacturing process. This also means that, despite variations in the etching process, an RFID tag antenna component 2 with a low quality antenna 4 in terms of frequency tuning characteristics can also be used in RFID tag manufacturing. . This reduces manufacturing costs by reducing or completely preventing the appearance of defective antenna strips due to the etching process deformation. Inspection of the etch indicator 10 may be provided using, for example, camera technology and image recognition technology.

도 2에 따르는 실시예에서, 상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 안테나(4)의 방사소자(4')에 의해 한정된 영역 내에 배치되지만, 상기 에칭 인디케이터(10)는, 상기 에칭 프로세스 후에 상기 에칭 인디케이터(10)의 나머지 부분이 안테나(4)의 동작과 간섭하지 않는 위치에, 상기 부품(2)의 임의의 적절한 위치에 배치될 수 있다. In the embodiment according to FIG. 2, the etch indicator 10 is disposed in an area defined by the radiating element 4 ′ of the antenna 4, but the etch indicator 10 is the etch indicator after the etch process. The remaining portion of 10 may be placed at any suitable position of the component 2 in a position that does not interfere with the operation of the antenna 4.

상기 예에서, 상기 에칭 인디케이터(10)는 집적회로(5)에 대한 몇 개의 다른 부착점(7a 내지 7e)을 구비하는 임피던스 정합소자(4")를 구비하는 안테나(4)에 사용되었다. 그러나, 상기 에칭 인디케이터(10)는 집적회로(5)에 대한 오직 하나의 가능한 부착점을 가지는 안테나 패턴에 또한 사용될 수 있다. 이 경우에, 에칭 인디케이터(10)의 검사가 상기 안테나(4)에 임의의 집적회로를 부착하기 전에, 상기 에칭된 안테나(4)의 주파수 튜닝 특성을 나타내는데 사용될 수 있다. 이러한 방식으로, 상기 집적회로(5)와 스티커(6)를 상기 안테나 부품(2)에 부착함으로써 RFID 태그의 구조를 완성하기 전에 주파수 튜닝 특성에 관하여 결함이 있는 모든 안테나 부품을 불량품으로 처리하는 것이 가능하다. In this example, the etch indicator 10 has been used for an antenna 4 having an impedance matching element 4 "having several different attachment points 7a to 7e for the integrated circuit 5. The etch indicator 10 may also be used in an antenna pattern having only one possible point of attachment to the integrated circuit 5. In this case, inspection of the etch indicator 10 may be optional on the antenna 4. Prior to attaching the integrated circuit of the antenna, it can be used to indicate the frequency tuning characteristics of the etched antenna 4. In this way, by attaching the integrated circuit 5 and the sticker 6 to the antenna component 2 Before completing the structure of the RFID tag, it is possible to treat all defective antenna parts as defective in terms of frequency tuning characteristics.

도 2 및 도 4 내지 7에 나타낸 에칭 인디케이터(10)의 크기는 크지도 않지만 상기 에칭 인디케이터(10)의 사이즈는 도시의 목적으로만 크게 과장되어 있다는 것을 주목한다. 실제, 상기 에칭 인디케이터 치수는 안테나의 오버 또는 언더 에칭 상황에 있어서 좀더 민감하게 될 수 있도록 상기 도면들에서보다는 더 작다. 사실상, 예컨대 UHF 안테나에서의 상기 임피던스 정합소자(4")의 형상 및 치수에 의존하여, 이러한 안테나 부품의 에칭 상태를 나타내는데 민감하게 되도록, 이에 따라 상기 에칭 인디케이터(10)가 설계되고 치수가 정해진다. 게다가, 상기 집적회로에 대한 부착점(7a 내지 7e)은 또한 적절한 튜닝 범위를 가지도록 설계되어, 전형적인 에칭 변형을 보상할 수 있다. 상기 에칭 인디케이터(10)의 설계는 전형적인 에칭 변형에 대한 그 민감도를 최적화하는 것을 목적으로 하며, 상기 부착점(7a 내지 7e)의 설계는 상기 집적회로가 적절한 부착점에 부착된 때 이러한 변형의 영향력 및 튜닝 범위를 정확하게 보상할 수 있는 것을 목적으로 한다. Note that although the size of the etching indicator 10 shown in FIGS. 2 and 4 to 7 is not large, the size of the etching indicator 10 is greatly exaggerated for the purpose of illustration only. In practice, the etch indicator dimensions are smaller than in the figures so that they can be more sensitive to over or under etch situations of the antenna. In fact, the etch indicator 10 is designed and dimensioned accordingly, such as depending on the shape and dimensions of the impedance matching element 4 "in the UHF antenna, so as to be sensitive to indicating the etching state of such antenna components. In addition, the attachment points 7a to 7e for the integrated circuit can also be designed to have an appropriate tuning range to compensate for typical etch strain The design of the etch indicator 10 can be applied to a typical etch strain. It is aimed at optimizing the sensitivity, and the design of the attachment points 7a to 7e aims at accurately compensating the influence and tuning range of this deformation when the integrated circuit is attached at the appropriate attachment point.

또한, 여기에 도시된 안테나 구조는 단지 예시일 뿐이므로, 상기 실제 안테나 설계는 별개의 방사소자를 생략할 수 있으며, 임피던스 정합소자(4")와 유사한 루프 형상소자에만 근거할 수 있고, 또는 방사소자(4') 및 임피던스 정합소자(4") 사이의 갈바니 커플링부(galvanic coupling part, 4"')를 생략할 수 있으며, 대신에 유도/용량성(inductive/capacitive) 결합에 근거할 수도 있다. 상기 도면들에 포함된 예시들은 에칭 변형에 민감한 안테나 구조의 특정의 전형적인 영역만을 강조하도록 되어 있다. Also, since the antenna structure shown here is merely an example, the actual antenna design may omit a separate radiating element and may be based only on loop shaped elements similar to the impedance matching element 4 ", or radiating The galvanic coupling part 4 "'between the element 4' and the impedance matching element 4" may be omitted and may instead be based on inductive / capacitive coupling. The examples included in the figures are intended to highlight only certain typical areas of the antenna structure that are sensitive to etch deformation.

RFID 태그(1)의 집적회로(5)에 대한 임의의 부착점을 선택하기 위한 에칭 인디케이터의 사용, 또는 안테나 에칭단계(antenna etching phase) 후의 RFID 태그의 튜닝에 영향을 미치는 다른 어떠한 수단에 추가하여, 또는 그 대신에, 상기 에칭 인디케이터의 조건이나 상태는 또한 상기 에칭 프로세스, 예컨대 에칭 프로세스의 지속시간 또는 에칭액의 조성을 제어하는데 이용될 수 있다. 이러한 제어는, 상기 에칭 프로세스의 조작자에 의해 상기 에칭 인디케이터의 육안 검사를 이용하여 행하도록 조정될 수 있으며, 또는 기계시각(machine vision) 또는 유사한 기술을 자동적으로 이용하여 행하도록 조정될 수도 있다. In addition to the use of an etch indicator to select any point of attachment of the RFID tag 1 to the integrated circuit 5, or any other means affecting the tuning of the RFID tag after the antenna etching phase. Alternatively, or instead, the conditions or conditions of the etch indicator can also be used to control the duration of the etch process, such as the etch process or the composition of the etchant. Such control may be adjusted by the operator of the etching process using visual inspection of the etching indicator, or may be adjusted to automatically use machine vision or similar techniques.

또한, 집적회로에 대한 적절한 부착점의 선택에 추가하여 또는 그 대신의 다른 방법이, 상기 안테나 구조의 에칭 후 상기 에칭 인디케이터에 근거하여 제공될 수 있다. 이들은, 상기 에칭된 안테나의 무선주파수 거동에 영향을 미치도록, 예컨대 레이저 튜닝 또는 다이 커팅에 의해 전도성 재료를 예컨대 제거하고/또는 전도성 재료를 추가하거나, 또는 분리된, 가능한 적층형 튜닝 구조를 상기 안테나 부품(2)에 부가함으로써 에칭 후 국소적으로 상기 안테나 컨덕터 구조를 변경하는 것을 포함하지만, 이에 한정되지 않는다. 예컨대, 루프 형상을 가질 수 있는, 이러한 추가적인 튜닝 구조는 예컨대, 다양한 사이즈 범위로부터 선택될 수 있고, 다양한 영역의 범위에 부착될 수 있으며, 상기 에칭된 안테나 구조와 유도적 또는 용량적으로 결합될 수도 있다. Further, in addition to or instead of selecting an appropriate point of attachment for the integrated circuit, other methods may be provided based on the etch indicator after etching of the antenna structure. These are possible stacked tuning structures, such as by removing conductive material and / or adding conductive material, or separating, for example by laser tuning or die cutting, to affect the radiofrequency behavior of the etched antenna. Adding to (2) includes, but is not limited to, locally changing the antenna conductor structure after etching. Such additional tuning structure, which may have a loop shape, for example, may be selected from a range of sizes, for example, may be attached to a range of areas, or may be inductively or capacitively coupled with the etched antenna structure. have.

상기 예에서, 상기 에칭 인디케이터(10)가 RFID 태그 제조에 있어서 사용되었다. 그러나, 유사한 종류의 에칭 인디케이터(10)가 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향을 나타내기 위하여 전기 전도성 배선구성을 구비하는 다른 어떠한 전기 안테나 부품의 제조에 사용될 수 있어, 설계된 목표 안테나 부품에 대하여, 상기 안테나 부품의 전기 전도성 배선구성, 즉 안테나 또는 안테나 일부의 전기적 특성을 결정하게 된다. 이러한 방식으로, 예컨대, 어떠한 집적회로가 상기 부품에 세팅되기 전에 상기 부품이 전기설비의 일부로서 사용될 능력이 있는지 여부를 결정하는 것이 가능하다. In this example, the etch indicator 10 has been used in the manufacture of RFID tags. However, a similar kind of etch indicator 10 can be used in the manufacture of any other electrical antenna component having an electrically conductive wiring configuration to show the effect of the etchant on the electrically conductive coating, so that for the designed target antenna component, The electrically conductive wiring configuration of the antenna component, that is, the electrical characteristics of the antenna or part of the antenna is determined. In this way it is possible, for example, to determine whether the part is capable of being used as part of an electrical installation before any integrated circuit is set in the part.

도 5는, 제2 에칭 인디케이터(10) 또는 제2 에칭 인디케이터 패턴(10)의 상면도이다. 도 5에 따르는 상기 에칭 인디케이터(10)는 또한 다수의 패턴 부분, 즉 배선(11a, 11b, 11c, 11d 및 11e)을 포함하며, 상기 배선은 서로에 대하여 연속선(successive lines)으로 배열되어 있다. 도 5에 있어서, 배선(11a 내지 11e)의 단부는 서로 접촉하도록 배열되어 있지만, 배선(11a 내지 11e)은 또한 상기 배선들의 단부 사이에 작은 갭을 가지도록 배열될 수도 있다. 유사하게는, 상술한 바와 같이, 에칭 프로세스 동안, 상기 배선(11c)의 소멸이 상기 전기 전도성 배선구성이 설계된 목표 구성 또는 치수를 달성한 것을 나타내도록 한가운데 배선(11c)이 상기 에칭 인디케이터 패턴(10)의 참조부를 형성하는 것을 설정하는 것이 가능하다. 5 is a top view of the second etching indicator 10 or the second etching indicator pattern 10. The etching indicator 10 according to FIG. 5 also comprises a number of pattern portions, i.e., wirings 11a, 11b, 11c, 11d and 11e, which are arranged in successive lines with respect to each other. . In Fig. 5, the ends of the wirings 11a to 11e are arranged to contact each other, but the wirings 11a to 11e may also be arranged to have a small gap between the ends of the wirings. Similarly, as described above, during the etching process, the disappearance of the wiring 11c indicates that the electrically conductive wiring configuration has achieved the designed target configuration or dimension, and the wiring 11c is in the middle of the etching indicator pattern 10. It is possible to set the forming of the reference portion of.

상기 에칭 인디케이터(10)가 서로에 대하여 다른 폭을 가지는 다수의 평행선 또는 연속선을 구비하면, 상기 에칭 인디케이터(10)는 매우 용이하게 실현되거나 검출될 수 있다. 상기 에칭 인디케이터 형태 및 사이즈는 기계시각 또는 다른 자동화 분석 방법을 이용하여 특히 이해하기 쉽게 설계될 수 있다. 이러한 자동화 분석 결과는, 또한 제조 배선에 대하여 집적회로 위치결정을 제어하거나, 상기 분석결과에 근거한 다른 어떤 방법(measures)을 제어하도록 조정될 수 있다. If the etch indicator 10 has a plurality of parallel or continuous lines having different widths with respect to each other, the etch indicator 10 can be realized or detected very easily. The etch indicator shape and size can be designed to be particularly easy to understand using machine vision or other automated analysis methods. Such automated analysis results can also be adjusted to control integrated circuit positioning with respect to fabrication wiring, or any other measures based on the analysis results.

도 4 및 도 5는, 상기 에칭 인디케이터(10)에 대한 다른 2개의 실시예를 나타내지만, 상기 에칭 인디케이터(10)에 대한 다른 종류의 실시예도 물론 가능하다. 다른 가능한 기하학적 배열은 예컨대, 동심원상 링, 직사각형 또는 다른 형상을 포함할 수 있다. 4 and 5 show two other embodiments of the etch indicator 10, but other types of embodiments of the etch indicator 10 are of course possible. Other possible geometries may include, for example, concentric rings, rectangles or other shapes.

도 6은, 도 2에 따르는 상기 안테나 부품(2)의 제조에 사용될 수 있는 에칭 마스크(12)의 상면도를 나타낸다. 상기 에칭 마스크는 에칭액을 이용하여 상기 전기 전도성 코팅의 제거 및 유지를 국소적으로 제어하는데 사용된다. 상기 부품(2)에서 안테나(4)의 에칭을 개시하면, 도 6에 따르는 상기 에칭 마스크(12)는 전기 전도성 코팅을 구비하는 기판(3)의 상부에 배열된다. 상기 에칭 마스크(12)는, 상기 에칭 마스크(12)의 제1 메인영역(13), 제2 메인영역(13') 및 제3 메인영역(13")에 에칭 마스크 재료 또는 배리어 재료를 구비하며, 상기 제1 메인영역(13)의 형상은 에칭동안 유지될 상기 안테나(4)의 방사소자(4')의 형상에 대응하고, 상기 제2 메인영역(13')의 형상은 상기 에칭동안 유지될 상기 안테나(4)의 상기 임피던스 정합소자(4")의 형상에 대응하며, 상기 제3 메인영역(13")의 형상은, 에칭동안 유지될 상기 안테나(4)의 커플링소자(4"')의 형상에 대응한다. 상기 에칭 마스크는 상기 제1 메인영역(13)에 의해 한정된 영역 내에 위치되는 서브 영역(14)에 배리어 재료를 더 포함한다. 상기 서브 영역(14)은 도 4에 나타낸 상기 에칭 인디케이터(10)의 배선(11a 내지 11e)에 대응하는 전기 전도성 코팅의 배선을 형성하기 위하여, 서로에 대하여 서로 다른 폭을 가지는 5개 배선의 배리어 재료를 구비한다. FIG. 6 shows a top view of an etching mask 12 which can be used for the manufacture of the antenna component 2 according to FIG. 2. The etch mask is used to locally control the removal and maintenance of the electrically conductive coating using an etchant. Upon initiating etching of the antenna 4 in the component 2, the etching mask 12 according to FIG. 6 is arranged on top of the substrate 3 with an electrically conductive coating. The etching mask 12 includes an etching mask material or a barrier material in the first main region 13, the second main region 13 ′, and the third main region 13 ″ of the etching mask 12. The shape of the first main region 13 corresponds to the shape of the radiating element 4 'of the antenna 4 to be maintained during etching, and the shape of the second main region 13' is maintained during the etching. Corresponding to the shape of the impedance matching element 4 "of the antenna 4 to be formed, the shape of the third main region 13" being the coupling element 4 "of the antenna 4 to be held during etching. Corresponds to the shape of '). The etching mask further includes a barrier material in the subregion 14 located within the region defined by the first main region 13. The sub-regions 14 are barriers of five wires having different widths with respect to each other, in order to form wires of electrically conductive coatings corresponding to the wires 11a to 11e of the etching indicator 10 shown in FIG. With material.

전형적으로, 상기 에칭 마스크(12)는, 제1 단계에서 전체 기판이 마스크 재료 또는 레지스트 재료에 의해 코팅되도록 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅의 상면 상에 배열된다. 그후, 포지티브 또는 네거티브 감광성 마스크 재료가 사용되는지에 따라서, 상기 마스크 패턴이 상기 마스크 재료에 노출되고, 그리고 나서, 상기 마스크 재료의 노출부나 또는 비노출부가 에칭액에 의해 제거된다. 안테나의 에칭에 있어서, 전형적으로 네거티브 감광성 마스크 재료가 사용된다. 또한, 당업자에게 일반적으로 알려진 다른 종류의 방식이, 예컨대 페인트와 같은, 다른 종류의 내에칭액 보호재(etchant resistive protective materials)의 사용과 같이, 기판(3)의 상면에 에칭 마스크(12)를 배열하는데 유용하다. 그러나, 포토리소그래피에 근거한 상술한 방법이 미세한 패턴 또는 배선구성을 에칭하는데 가장 많이 이용된다. Typically, the etch mask 12 is arranged on the top surface of the electrically conductive coating supported by the substrate 3 such that in a first step the entire substrate is coated with a mask material or a resist material. Thereafter, depending on whether a positive or negative photosensitive mask material is used, the mask pattern is exposed to the mask material, and then the exposed portion or the non-exposed portion of the mask material is removed by the etching solution. In etching of the antenna, a negative photosensitive mask material is typically used. In addition, other types of methods generally known to those skilled in the art can be used to arrange the etching mask 12 on the top surface of the substrate 3, such as the use of other types of etchant resistive protective materials, such as paint. useful. However, the above-described method based on photolithography is most used to etch fine patterns or wiring configurations.

도 6에 따르는 상기 에칭 마스크(12)가 전기 전도성 코팅을 구비하는 기판(3)을 포함하는 부품(2)의 상면에 배열된 후에, 에칭액이 상기 부품(2)에 도포된다. 상기 에칭액은 상기 배리어 재료에 의해 보호되지 않은 코팅 부분 상의 전기 전도성 코팅을 제거하여, 상기 전기 전도성 코팅은 상기 에칭 마스크(12)의 제1 메인영역(13), 제2 메인영역(13') 및 제3 메인영역(13")과 제2 서브영역(14)에 잔존한다. 따라서, 상기 부품(2)의 몇 개의 에칭 지점에서, 상기 부품(2)은 적어도 어느 정도 상기 설계된 목표 안테나 패턴(4)에 대응하는 전기 전도성 배선구성을 구비한다. 유사하게 몇 개의 에칭 지점에서, 상기 부품(2)은 또한, 에칭 인디케이터(10)에 대한 에칭액의 영향력에 따라서, 배선(11a 내지 11e)을 전혀 구비하지 않거나, 적어도 몇 개의 배선(11a 내지 11e)을 적어도 부분적으로 구비하거나, 모든 배선(11a 내지 11e)을 완전히 구비한다. 상기 전기 전도성 코팅의 다른 부분은 에칭액에 의해 상기 부품(2)으로부터 제거된다. After the etching mask 12 according to FIG. 6 is arranged on the top surface of the component 2 comprising the substrate 3 with the electrically conductive coating, an etching solution is applied to the component 2. The etchant removes the electrically conductive coating on the coating portion that is not protected by the barrier material, such that the electrically conductive coating comprises a first main region 13, a second main region 13 ′ of the etch mask 12, and Remains in the third main region 13 "and the second subregion 14. Therefore, at some etching points of the component 2, the component 2 is at least somewhat to said designed target antenna pattern 4 Similarly, at several etching points, the component 2 also has no wirings 11a to 11e at all, depending on the influence of the etchant on the etch indicator 10. Or at least partially have at least some wires 11a to 11e or all wires 11a to 11e completely.The other part of the electrically conductive coating is removed from the component 2 by an etchant. .

적어도 몇 개의 배선(11a 내지 11e)이 배리어 재료의 보호층에도 불구하고, 에칭프로세스 동안 적어도 부분적으로 제거될 수 있는 이유는, 상기 에칭액이 보호 배리어 재료 하부의 옆으로도 전기 전도성 코팅을 제거한다는 사실로부터 비롯된다. 따라서, 에칭 마스크에서의 배리어 재료의 치수는, 에칭 후 전기 전도성 배선구성의 치수가 상기 안테나(4)의 설계된 목표 치수에 가능한 한 대응하도록, 배리어 재료 하부의 에칭액의 측방 이동을 고려하여 선택된다. The reason why at least some of the wirings 11a to 11e can be at least partially removed during the etching process, despite the protective layer of the barrier material, is that the etching liquid also removes the electrically conductive coating sideways under the protective barrier material. Comes from. Therefore, the dimension of the barrier material in the etching mask is selected in consideration of the lateral movement of the etching liquid under the barrier material so that the dimension of the electrically conductive wiring configuration after etching corresponds as much as possible to the designed target dimension of the antenna 4.

도 2는, 상기 특정 부품(2)에 대해서만 에칭액의 영향을 나타내도록 의도된 에칭 인디케이터(10)를 구비하는 단일 안테나 부품(2)을 나타낸다. 도 7은, 안테나 부품(2)의 3개의 그룹(15)의 상면도로서, 도 7에 나타낸 실시예에서 각 그룹(15)은 서로 이웃하는 3개의 안테나 부품(2)을 구비한다. 그러나, 하나의 그룹의 부품이 서로 이웃하는 임의의 상당한 수의 부품을 구비하는, 몇 개 그룹의 부품들, 예컨대 무수한 그룹의 부품들은, 각 그룹(15)의 부품들(2)이 특정 시간동안 에칭 기계에서 에칭액의 영향에 노출되도록 에칭 프로세스에서 연속적으로 전진하는, 긴 배드구조(banded structure, 16)를 형성하도록 배치될 수 있다. 도 7의 실시예에 있어서, 각 그룹(15)에 대하여 오직 하나의 에칭 인디케이터(10)가 배열되어 있으며, 상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 밴드의 단부(17)에, 즉 안테나 부품(2)의 근처에 배치된다. 본 실시예에서, 이러한 단일 에칭 인디케이터(10)는 동일한 특정 그룹(15)에 속하는 상기 각 부품(2)에 있어서의 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향을 나타내는데 사용된다. 도 7에 있어서, 상기 부품(2)은 에칭 프로세스 후에 그들이 가지는, 즉, 안테나 패턴(4)을 구비하는 형태로 나타내지만, 명료하게 하기 위하여, 상기 에칭 인디케이터(10)는 그들의 원래 설계된 형태 또는 형상으로 나타낸다. 다시 말하지만, 상기 에칭 인디케이터는 상기 안테나 부품에 비해 그들의 정확한 스케일로 나타내지 않지만, 명료성을 위해서 확대되어 있다. FIG. 2 shows a single antenna part 2 having an etch indicator 10 intended to show the effect of the etchant only on that particular part 2. FIG. 7 is a top view of three groups 15 of antenna components 2, in the embodiment shown in FIG. 7 each having three antenna components 2 neighboring each other. However, several groups of parts, such as countless groups of parts, in which one group of parts has any substantial number of parts neighboring each other, may cause parts 2 of each group 15 to run for a certain time. It may be arranged to form an elongated banded structure 16 that is continuously advanced in the etching process to be exposed to the influence of the etchant in the etching machine. In the embodiment of FIG. 7, only one etch indicator 10 is arranged for each group 15, the etch indicator 10 being at the end 17 of the band, ie the antenna component 2. Is placed in the vicinity of. In this embodiment, this single etch indicator 10 is used to show the influence of the etchant on the electrically conductive coating in each of the above-mentioned parts 2 belonging to the same specific group 15. In Fig. 7, the components 2 are shown in the form they have after the etching process, i.e. with the antenna pattern 4, but for the sake of clarity, the etching indicators 10 are in their originally designed form or shape. Represented by Again, the etch indicators are not shown on their exact scale compared to the antenna component, but are enlarged for clarity.

도 7에 따르는 실시예에 있어서, 동일한 특정 그룹(15)에 속하는 상기 부품(2) 각각의 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향을 나타내도록 의도된 단일 에칭 인디케이터(10)는 또한 밴드 구조(16)의 단부(17) 대신에 상기 그룹(15)의 하나의 안테나 부품(2) 내에 배치될 수도 있다. 그러나, 상기 그룹(15)의 각 부품(2)이 하나의 에칭 인디케이터(10)를 구비하거나, 또는 상기 몇 개의 연속적인 그룹(15)의 상기 부품(2)에 대한 에칭액의 영향을 나타내도록 의도된 오직 하나의 에칭 인디케이터(10)만이 존재하는 것도 가능하다. In the embodiment according to FIG. 7, the single etch indicator 10, which is intended to show the influence of the etchant on the electrically conductive coating of each of the parts 2 belonging to the same particular group 15, also has a band structure 16. It may also be arranged in one antenna component 2 of the group 15 instead of the end 17 of. However, each component 2 of the group 15 is intended to have one etching indicator 10 or to show the effect of etching solution on the component 2 of the several successive groups 15. It is also possible that only one etch indicator 10 is present.

본 기술이 발전함에 따라서, 발명의 개념이 다양한 방식으로 수행될 수 있다는 것은 당업자에게 있어 명백할 것이다. 본 발명 및 그 실시예들은 상술한 예들에 한정되는 것은 아니나 첨부되는 특허청구범위 내에서 변형될 수 있다. As the technology evolves, it will be apparent to those skilled in the art that the inventive concept may be implemented in a variety of ways. The invention and its embodiments are not limited to the examples described above but may be modified within the scope of the appended claims.

Claims (26)

에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법으로서, 상기 부품은 기판(3)과 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성(4)을 구비하며, 상기 방법에 있어서 상기 전기 전도성 배선구성(4)은 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거함으로써 형성되고,
상기 안테나 부품(2)의 에칭 정도를 에칭 인디케이터(etching indicator, 10)에 의해 표시하며, 상기 에칭 인디케이터(10)는 에칭될 안테나 부품(2)에 또는 에칭될 안테나 부품(2)의 근처에 위치되며, 상기 안테나 부품(2)의 기판(3)에 의해 지지된 동일한 전기 도전성 코팅으로 구성되며, 에칭동안 에칭액에 의해 노출되는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
A method of manufacturing an antenna component (2) by etching, the component having a substrate (3) and an electrically conductive wiring arrangement (4) supported by the substrate (3), wherein the electrically conductive wiring in the method The configuration 4 is formed by locally removing the electrically conductive coating supported by the substrate 3 with an etchant,
The etching degree of the antenna component 2 is indicated by an etching indicator 10, which is located at or near the antenna component 2 to be etched. And an identical electrically conductive coating supported by the substrate (3) of the antenna component (2), wherein the antenna component (2) is exposed by etching liquid during etching.
제1항에 있어서,
상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도를 상기 에칭 인디케이터(10)에 의해 표시하며, 상기 전도 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도가, 상기 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)의 에칭의 정도에 관한 정보를 제공하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
The method of claim 1,
The degree of the influence of the etchant on the electrically conductive coating supported by the substrate 3 is indicated by the etching indicator 10, and the degree of the influence of the etchant on the conductive conductive coating is determined by the antenna component 2. A method for manufacturing an antenna component (2) by etching, characterized in that it provides information about the degree of etching of the electrically conductive wiring arrangement (4).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)는 다수의 패턴부분을 구비하며, 상기 부분들은 서로에 대하여 다양한 치수의 동일한 특성을 가지는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The etching indicator (10) is provided with a plurality of pattern portions, said portions having the same characteristics of various dimensions with respect to each other.
제3항에 있어서,
상기 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)의 에칭 정도를 에칭 동안 소멸된 패턴 부분의 수에 의해 나타내는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
The method of claim 3,
A method of manufacturing an antenna component (2) by etching, characterized in that the degree of etching of the electrically conductive wiring arrangement (4) of the antenna component (2) is represented by the number of pattern portions which are lost during etching.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 패턴 부분들은 서로에 대하여 다른 폭을 가지는 다수의 평행선 또는 연속선(11a, 11b, 11c, 11d, 11e)인 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
The method according to claim 3 or 4,
The pattern part is a method of manufacturing an antenna component (2) by etching, characterized in that a plurality of parallel or continuous lines (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) having different widths with respect to each other.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)는 에칭 인디케이터(10)의 참조부(11c)를 구비하며, 에칭동안 참조부(11c)만의 소멸 및 참조부(11c)의 대응하는 특성보다 작은 특성을 가지는 에칭 인디케이터(10)의 패턴 부분(11d, 11e)의 소멸은, 상기 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)이 소망하는 에칭 정도에 대응하는 정도로 에칭된 것을 나타내는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The etching indicator 10 has a reference portion 11c of the etching indicator 10 and has an characteristic of disappearing only the reference portion 11c and corresponding characteristics of the reference portion 11c during etching. Disappearance of the pattern portions 11d and 11e indicates that the electrically conductive wiring structure 4 of the antenna component 2 is etched to a degree corresponding to a desired etching degree. (2) A method of manufacturing.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)의 에칭 정도에 근거하여 상기 에칭 프로세스를 조정하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A method of manufacturing an antenna component (2) by etching, characterized in that the etching process is adjusted based on the degree of etching of the etching indicator (10).
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 안테나 부품(2)은, 집적회로(5)를 구비하는 무선주파수 식별태그(1) 또는 RFID 태그(1)의 일부를 형성하도록 되어 있어, 상기 전기 전도성 배선구성(4)은 RFID 태그(1)의 안테나(4)의 적어도 일부를 형성하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
The antenna component 2 is configured to form part of a radio frequency identification tag 1 or an RFID tag 1 having an integrated circuit 5, so that the electrically conductive wiring arrangement 4 is an RFID tag 1 A method for manufacturing an antenna component (2) by etching, characterized in that it forms at least part of the antenna (4).
제8항에 있어서,
상기 안테나(4)는, 적어도 방사소자(4') 및 임피던스 정합소자(4")를 구비하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
9. The method of claim 8,
The antenna (4) comprises at least a radiating element (4 ') and an impedance matching element (4 ").
제9항에 있어서,
상기 안테나(4)의 임피던스 정합소자(4")는, 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 집적회로(5)를 부착하기 위한 다수의 가능 부착점(possible attachment points, 7a, 7b, 7c, 7d, 7e)을 구비하고, 집적회로(5)에 대한 특정 부착점(7a, 7b, 7c, 7d, 7e)은 상기 에칭 인디케이터(10)의 에칭 정도에 근거하여 결정되는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
10. The method of claim 9,
The impedance matching element 4 "of the antenna 4 comprises a number of possible attachment points 7a, 7b, 7c, for attaching the integrated circuit 5 with respect to the impedance matching element 4". 7d, 7e, characterized in that the specific attachment points 7a, 7b, 7c, 7d, 7e to the integrated circuit 5 are determined based on the degree of etching of the etch indicator 10. To produce an antenna component (2).
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 안테나(4)의 에칭 후에, 상기 에칭 인디케이터(10)의 에칭 정도에 근거하여, 안테나(4)의 무선주파수 거동에 영향을 주기 위하여, 상기 안테나 부품(2)에서 별개의 튜닝 구조를 추가하거나, 또는 전도성 재료를 제거하거나 추가함으로써 안테나 컨덕터 구조를 국소적으로 변경하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하는 방법.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
After etching of the antenna 4, based on the etching degree of the etching indicator 10, in order to influence the radio frequency behavior of the antenna 4, a separate tuning structure is added in the antenna component 2 or Or locally modifying the antenna conductor structure by removing or adding a conductive material.
안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15)으로서, 상기 부품(2)은, 기판(3) 및 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성(4)을 구비하며,
적어도 하나의 안테나 부품(2)의 적어도 몇 개의 제조 단계에서, 상기 안테나 부품(2)에 또는 적어도 하나의 안테나 부품(2) 근처에 적어도 하나의 에칭 인디케이터(10)가 있고, 상기 에칭 인디케이터(10)는 적어도 하나의 안테나 부품(2)의 에칭 정도에 관한 정보를 제공하며 상기 기판(3)에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
As an antenna component 2 or a group 15 of antenna components 2, the component 2 has a substrate 3 and an electrically conductive wiring arrangement 4 supported by the substrate 3,
In at least some manufacturing steps of the at least one antenna component 2, there is at least one etching indicator 10 at or near the antenna component 2 and the etching indicator 10. ) Provides for information on the degree of etching of at least one antenna component 2 and is composed of the same electrically conductive coating supported by the substrate 3, the antenna component 2 or the antenna component 2 (15).
제12항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도를 나타내도록 배열되며, 상기 전기 전도성 코팅에 대한 에칭액의 영향의 정도는 상기 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)의 에칭 정도에 관한 정보를 제공하는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
The method of claim 12,
The etching indicator 10 is arranged to indicate the degree of the effect of the etchant on the electrically conductive coating supported by the substrate 3, wherein the degree of the effect of the etchant on the electrically conductive coating is determined by the antenna component 2. Characterized in that it provides information about the degree of etching of the electrically conductive wiring arrangement 4 of the antenna component 2 or group of antenna components 2.
제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)는, 서로에 대하여 다양한 치수의 동일한 특성을 가지는 다수의 패턴 부분들을 구비하는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
The method according to claim 12 or 13,
The etch indicator (10) is characterized in that it comprises a plurality of pattern parts having the same characteristics of various dimensions with respect to each other, an antenna part (2) or a group of antenna parts (2).
제14항에 있어서,
적어도 하나의 안테나 부품(2)의 에칭동안 소멸된 패턴 부분의 수가 적어도 하나의 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)의 에칭 정도를 나타내도록 배열되는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
15. The method of claim 14,
The antenna component 2, characterized in that the number of pattern portions which disappeared during the etching of the at least one antenna component 2 is arranged to indicate the degree of etching of the electrically conductive wiring arrangement 4 of the at least one antenna component 2. ) Or group 15 of antenna parts 2.
제14항 또는 제15항에 있어서,
상기 패턴 부분들은 서로에 대하여 다른 폭을 가지는 다수의 평행선 또는 연속선(11a, 11b, 11c, 11d, 11e)인 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
16. The method according to claim 14 or 15,
The antenna part 2 or the group 15 of antenna parts 2, characterized in that the pattern parts are a plurality of parallel or continuous lines 11a, 11b, 11c, 11d, 11e having different widths with respect to each other. .
제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 에칭 인디케이터(10)는, 상기 에칭 인디케이터(10)의 참조부(11c)를 구비하며, 에칭동안 참조부(11c)만의 소멸 및 참조부(11c)의 대응하는 특성보다 작은 특성을 가지는 상기 에칭 인디케이터(10)의 패턴 부분들((11d, 11e)의 소멸은, 적어도 하나의 안테나 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)이 소망하는 에칭 정도에 대응하는 정도로 에칭된 것을 나타내는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
17. The method according to any one of claims 12 to 16,
The etching indicator 10 includes the reference portion 11c of the etching indicator 10, wherein the etching has characteristics such as disappearance of only the reference portion 11c and corresponding characteristics of the reference portion 11c during etching. The disappearance of the pattern portions 11d and 11e of the indicator 10 is characterized in that the electrically conductive wiring arrangement 4 of the at least one antenna component 2 is etched to a degree corresponding to the desired degree of etching. The antenna component 2 or the group 15 of antenna components 2.
제12항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 안테나 부품(2)은 집적회로(5)를 구비하는 무선주파수 식별태그(1) 또는 RFID 태그(1)의 일부를 형성하도록 되어 있어, 상기 전기 전도성 배선구성(4)은 상기 RFID 태그(1)의 안테나(4)를 형성하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
18. The method according to any one of claims 12 to 17,
The antenna component 2 is configured to form part of a radio frequency identification tag 1 or an RFID tag 1 having an integrated circuit 5, so that the electrically conductive wiring arrangement 4 is the RFID tag 1 An antenna part 2 or a group 15 of antenna parts 2, characterized in that it is arranged to form an antenna 4.
제18항에 있어서,
상기 안테나(4)는, 적어도 방사소자(4') 및 임피던스 정합소자(4")를 구비하며, 상기 안테나(4)의 임피던스 정합소자(4")는 상기 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 집적회로(5)를 부착하기 위한 다수의 가능 부착점(7a, 7b, 7c, 7d, 7e)을 구비하는 것을 특징으로 하는, 안테나 부품(2) 또는 안테나 부품(2)의 그룹(15).
19. The method of claim 18,
The antenna 4 has at least a radiating element 4 'and an impedance matching element 4 ", the impedance matching element 4" of the antenna 4 being associated with the impedance matching element 4 ". Characterized in that it comprises a plurality of possible attachment points 7a, 7b, 7c, 7d, 7e for attaching the integrated circuit 5 to the antenna part 2 or the group 15 of antenna parts 2. .
에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12)로서, 상기 부품(2)은, 기판(3)과 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 배선구성(4)을 구비하며, 상기 전기 전도성 배선구성(4)은, 상기 기판(3)에 의해 지지된 전기 전도성 코팅을 에칭액에 의해 국소적으로 제거함으로써 형성되고, 상기 에칭 마스크(12)는, 상기 부품(2)의 전기 전도성 배선구성(4)을 결정하며,
상기 에칭 마스크(12)는, 에칭동안 유지될 전기 전도성 배선구성(4)에 대응하는 적어도 하나의 메인 영역(13, 13')에 배리어 재료를 구비하고, 상기 에칭 마스크(12)는 상기 기판(3)에 의해 지지된 동일한 전기 전도성 코팅으로 구성되는 에칭 인디케이터(10)를 형성하기 위한 적어도 하나의 서브 영역(14)에 배리어 재료를 더 구비하며, 상기 에칭 인디케이터(10)는 상기 안테나 부품(2)의 에칭 정도를 나타내도록 배열되는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
An etching mask 12 for manufacturing the antenna component 2 by etching, the component 2 having a substrate 3 and an electrically conductive wiring structure 4 supported by the substrate 3. And the electrically conductive wiring arrangement 4 is formed by locally removing the electrically conductive coating supported by the substrate 3 with an etching solution, and the etching mask 12 is used to electrically Determine the conductive wiring configuration (4),
The etch mask 12 includes a barrier material in at least one main region 13, 13 ′ corresponding to the electrically conductive wiring arrangement 4 to be maintained during etching, and the etch mask 12 includes the substrate ( 3 further comprising a barrier material in at least one sub-region 14 for forming an etch indicator 10 composed of the same electrically conductive coating supported by 3), wherein the etch indicator 10 comprises the antenna component 2 Etching mask (12) for manufacturing the antenna component (2) by etching, characterized in that it is arranged to indicate the degree of etching.
제20항에 있어서,
에칭 인디케이터(10)를 형성하기 위한 배리어 재료를 구비하는 상기 서브 영역(14)은, 에칭될 안테나 부품(2)에 또는 에칭될 안테나 부품(2)의 근처에서 에칭 마스크(12)에 배치되는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
21. The method of claim 20,
Said sub-region 14 having a barrier material for forming the etch indicator 10 is disposed in the etch mask 12 at or near the antenna part 2 to be etched. An etching mask 12 for producing an antenna component 2 by etching.
제20항 또는 제21항에 있어서,
에칭 인디케이터(10)를 형성하기 위한 배리어 재료를 구비하는 서브 영역(14)은, 다수의 패턴 부분들을 구비하며, 상기 부분들은 서로에 대하여 다양한 치수의 동일한 특성을 가지는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
22. The method according to claim 20 or 21,
The subregion 14, which comprises a barrier material for forming the etch indicator 10, comprises a plurality of pattern portions, said portions having the same properties of varying dimensions with respect to each other. Etch mask 12 for manufacturing the antenna component 2.
제22항에 있어서,
상기 패턴 부분들은, 서로에 대하여 다른 폭을 가지는 다수의 평행선 또는 연속선(11a, 11b, 11c, 11d, 11e)에 대응하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
The method of claim 22,
Etching for manufacturing the antenna component 2 by etching, characterized in that the pattern portions correspond to a plurality of parallel or continuous lines 11a, 11b, 11c, 11d, 11e having different widths with respect to each other. Mask 12.
제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 안테나 부품(2)은 집적회로(5)를 구비하는 무선주파수 식별태그(1) 또는 RFID 태그(1)의 일부를 형성하도록 되어 있어, 상기 전기 전도성 배선구성(4)은, RFID 태그(1)의 안테나(4)를 형성하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
24. The method according to any one of claims 20 to 23,
The antenna component 2 is configured to form part of a radio frequency identification tag 1 or an RFID tag 1 having an integrated circuit 5, so that the electrically conductive wiring arrangement 4 comprises an RFID tag 1 The etching mask 12 for manufacturing the antenna component 2 by etching, characterized in that it forms an antenna 4.
제24항에 있어서,
상기 안테나(4)는, 적어도 방사소자(4') 및 임피던스 정합소자(4")를 구비하여, 상기 에칭 마스크(12)가 상기 안테나(4)의 방사소자(4')에 대응하는 배리어 재료의 적어도 제1 메인 영역(13) 및 상기 안테나(4)의 임피던스 정합소자(4")에 대응하는 배리어 재료의 제2 메인 영역(13')을 구비하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
25. The method of claim 24,
The antenna 4 has at least a radiating element 4 'and an impedance matching element 4 "so that the etching mask 12 corresponds to the radiating element 4' of the antenna 4. At least a first main region 13 and a second main region 13 ′ of barrier material corresponding to the impedance matching element 4 ″ of the antenna 4. (2) An etching mask 12 for manufacturing.
제25항에 있어서,
배리어 재료의 제2 메인 영역(13')은, 상기 안테나(4)의 임피던스 정합소자(4")와 관련하여 상기 집적회로(5)를 부착하기 위한 다수의 가능 부착점(7a, 7b, 7c, 7d, 7e)을 제공하기 위한 배리어 재료를 구비하는 것을 특징으로 하는, 에칭에 의해 안테나 부품(2)을 제조하기 위한 에칭 마스크(12).
26. The method of claim 25,
The second main region 13 ′ of the barrier material has a number of possible attachment points 7a, 7b, 7c for attaching the integrated circuit 5 in relation to the impedance matching element 4 ″ of the antenna 4. An etching mask (12) for producing the antenna component (2) by etching, characterized in that it comprises a barrier material for providing 7d, 7e.
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