KR20130094398A - The coating apparatus using plasma - Google Patents

The coating apparatus using plasma Download PDF

Info

Publication number
KR20130094398A
KR20130094398A KR1020120015604A KR20120015604A KR20130094398A KR 20130094398 A KR20130094398 A KR 20130094398A KR 1020120015604 A KR1020120015604 A KR 1020120015604A KR 20120015604 A KR20120015604 A KR 20120015604A KR 20130094398 A KR20130094398 A KR 20130094398A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
coating gas
coating
unit
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020120015604A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
전병준
Original Assignee
(주) 엠에이케이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주) 엠에이케이 filed Critical (주) 엠에이케이
Priority to KR1020120015604A priority Critical patent/KR20130094398A/en
Publication of KR20130094398A publication Critical patent/KR20130094398A/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/513—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using plasma jets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055—Arc discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/3244—Gas supply means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
    • H01J2237/332—Coating
    • H01J2237/3321—CVD [Chemical Vapor Deposition]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

PURPOSE: A torch type plasma coating apparatus is provided to process a wide area with one process, thereby obtaining an innovative effect. CONSTITUTION: A torch type plasma coating apparatus includes a plasma generating part (10), a plasma guiding part (20), a nozzle (30), and a coating gas feeding part (40). The plasma generating part generates plasma. The plasma guiding part at the terminal portion of the plasma generating part concentrates the plasma from the plasma generating part. The nozzle at the terminal portion of the plasma guiding part jets coating gas and the plasma concentrated by the plasma guiding part. The coating gas feeding part feeds the coating gas to the terminal portion of the plasma generating part.

Description

토치형 플라즈마 코팅장치{THE COATING APPARATUS USING PLASMA}Torch Plasma Coating Equipment {THE COATING APPARATUS USING PLASMA}

본 발명은 토치형 플라즈마 코팅장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 토치형 플라즈마 발생장치에 코팅용 공정가스를 공급하여 플라즈마 코팅을 수행하는 토치형 플라즈마 코팅장치에 관한 것이다. The present invention relates to a torch-type plasma coating apparatus, and more particularly, to a torch-type plasma coating apparatus for supplying a coating process gas to the torch-type plasma generating apparatus to perform plasma coating.

플라즈마는 고온으로 가열된 전기 전도성 가스로서, 양이온, 음이온, 전자 및 여기된(excited) 중성 원자와 분자로 구성된다. 플라즈마 가스로서, 예를 들어 단원자 가스인 아르곤/ 또는 이원자 가스인 수소, 질소, 산소 또는 공기와 같은 다양한 가스가 사용된다. 이러한 가스들은 아크(arc) 에너지를 통해 이온화 및 해리되며, 그 후, 노즐을 통해 압축된 아크는 플라즈마 빔으로 형성된다. 플라즈마 빔은 노즐 및 전극의 형태에 따라 빔의 직경, 온도, 에너지 밀도 및 가스의 유속 등의 파라메터(parameters)에 영향을 받는다. Plasma is an electrically conductive gas heated to a high temperature and is composed of cations, anions, electrons, and excited neutral atoms and molecules. As the plasma gas, various gases are used, for example, argon, which is a monoatomic gas, or hydrogen, nitrogen, oxygen, or air, which is a diatomic gas. These gases are ionized and dissociated through arc energy, and then the arc compressed through the nozzle is formed into a plasma beam. Plasma beams are affected by parameters such as beam diameter, temperature, energy density and gas flow rate, depending on the shape of the nozzle and electrode.

플라즈마 토치는 직접 또는 간접 방식으로 작동된다. 직접 작동모드에서는 전류가 전류원으로부터 흘러나와, 플라즈마 토치의 전극과, 아크에 의해 생성되어 노즐을 통해 압축된 플라즈마 빔과, 가공재료를 직접적으로 통하여 전류원으로 되돌아 간다. 따라서 직접 작동모드에 의하여 전기 전도성 재료를 절단할 수 있다. The plasma torch is operated in a direct or indirect manner. In the direct mode of operation, current flows out of the current source and returns directly to the current source through the electrodes of the plasma torch, the plasma beam generated by the arc and compressed through the nozzle, and the workpiece. Therefore, it is possible to cut the electrically conductive material by the direct mode of operation.

한편 간접 작동 모드에서, 전류는 전류원으로부터 흘러나와, 플라즈마 토치의 전극과, 아크에 의해 생성되어 노즐을 통해 압축된 플라즈마 빔과, 상기 노즐을 통해 전류원으로 되돌아 간다. 따라서, 상기 노즐은 플라즈마 빔을 압축시킬 뿐만 아니라, 또한 아크의 시작점으로 이용되기 때문에, 직접 플라즈마 절단시보다 훨씬 큰 부하를 받게 된다. 간접 작동모드에서는 전기 전도성 재료와 비전도성 재료를 모두 절단 할 수 있다. 이러한 노즐 상의 높은 열적 부하로 인하여, 상기 노즐은 높은 전기 전도성과 열 전도성을 가지는 물질로 형성되는 것이 바람직하다. In the indirect mode of operation, on the other hand, current flows out of the current source and returns to the electrode of the plasma torch, the plasma beam generated by the arc and compressed through the nozzle, and back through the nozzle to the current source. Thus, since the nozzle not only compresses the plasma beam, but also serves as the starting point of the arc, it is subjected to much greater load than in direct plasma cutting. In indirect mode of operation, both electrically conductive and non-conductive materials can be cut. Due to this high thermal load on the nozzle, the nozzle is preferably formed of a material having high electrical and thermal conductivity.

그래서 일반적인 플라즈마 토치는 전술한 노즐의 형상이 원형으로 형성되어 분사되는 플라즈마 빔의 형상도 노즐의 형상에 의하여 원형으로 형성된다. 그런데 이렇게 원형의 형상으로 형성되는 플라즈마 토치에 의해서는 피처리물의 제한적인 위치에 대해서만 처리가 가능하고 피처리물의 절단 등에는 유리하나 넓은 면적에 대한 처리에는 불리한 문제점이 있다. 특히, 플라즈마 코팅을 수행하는 경우에는 그 작업 면적의 확대가 절실하게 요구되고 있다. Therefore, the general plasma torch is formed in a circular shape by the shape of the nozzle and the shape of the plasma beam is sprayed by the shape of the nozzle described above. By the way, the plasma torch formed in a circular shape is capable of processing only a limited position of the object to be processed and is advantageous for cutting the object, but has a disadvantageous problem for processing over a large area. In particular, in the case of performing plasma coating, an enlargement of the working area is urgently required.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 토치형 플라즈마 발생장치에 코팅용 공정가스를 공급하여 플라즈마 코팅을 수행하는 토치형 플라즈마 코팅장치를 제공하는 것이다. The technical problem to be solved by the present invention is to provide a torch-type plasma coating apparatus for performing a plasma coating by supplying a process gas for coating to the torch-type plasma generator.

전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 토치형 플라즈마 코팅장치는, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 상기 플라즈마 발생부의 말단에 결합되어 설치되며, 상기 플라즈마 발생부로 부터 발생된 플라즈마를 집중시키는 플라즈마 유도부; 상기 플라즈마 유도부의 말단에 형성되며, 상기 플라즈마 유도부에 의하여 집중된 플라즈마를 분사하는 노즐; 상기 플라즈마 발생부의 말단에 코팅 가스를 공급하는 코팅가스 공급부;를 포함한다. Torch type plasma coating apparatus according to the present invention for achieving the above technical problem, the plasma generating unit for generating a plasma; A plasma induction unit coupled to the end of the plasma generation unit and concentrating the plasma generated from the plasma generation unit; A nozzle which is formed at an end of the plasma induction part and injects the plasma concentrated by the plasma induction part; It includes; coating gas supply unit for supplying a coating gas to the end of the plasma generating unit.

그리고 본 발명에서 상기 코팅가스 공급부는, 상기 플라즈마 발생부 외측에 설치되어 코팅 가스를 공급하는 코팅 가스 공급원; 상기 플라즈마 발생부의 말단에 형성되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 상기 플라즈마 유도부 방향으로 분사하는 코팅 가스 분사부; 상기 플라즈마 발생부의 일측에 구비되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 코팅 가스 분사부에 전달하는 코팅 가스 공급관;을 포함하는 것이 바람직하다. And in the present invention, the coating gas supply unit, the coating gas supply source is installed outside the plasma generating unit for supplying a coating gas; A coating gas injector formed at an end of the plasma generator and injecting a coating gas supplied from the coating gas source toward the plasma induction unit; A coating gas supply pipe is provided on one side of the plasma generating unit and transfers the coating gas supplied from the coating gas supply unit to the coating gas injection unit.

또한 상기 코팅 가스 분사부는 상기 플라즈마 발생부의 말단을 환형으로 감싸는 형상으로 구비될 수도 있다. In addition, the coating gas injection unit may be provided in a shape surrounding the end of the plasma generating unit in an annular shape.

한편 상기 코팅 가스 공급원은, 탄소나노튜브, 메탄 또는 에틸렌 가스 중 어느 한 가스를 공급하는 것이 바람직하다. On the other hand, the coating gas supply source, it is preferable to supply any one of carbon nanotubes, methane or ethylene gas.

또한 상기 노즐은 상기 노즐의 하면에서 상측 방향으로 일정 깊이를 가지도록 형성되는 분사틈을 구비하는 구조로 형성될 수도 있다. In addition, the nozzle may be formed in a structure having an injection gap formed to have a predetermined depth in the upward direction from the lower surface of the nozzle.

본 발명의 토치형 플라즈마 코팅장치에 의하면, 슬릿형 토치 발생부에 의하여 플라즈마 토치가 슬릿형으로 넓게 분산되어 도 4에 도시된 바와 같이, 35mm 정도의 폭(d)으로 코팅 공정이 진행되므로, 한번의 공정으로 넓은 면적에 대한 처리가 가능한 획기적인 효과가 달성된다. According to the torch-type plasma coating apparatus of the present invention, since the plasma torch is widely dispersed in the slit type by the slit-type torch generating unit, as shown in FIG. With this process, the groundbreaking effect of processing over a large area is achieved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 토치형 플라즈마 코팅장치의 부분 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 구조를 도시하는 부분 사시도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 노즐의 구조를 도시하는 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 토치형 플라즈마 코팅장치에 의하여 분사되는 플라즈마와 코팅 가스의 형상을 도시한 개략도이다. 1 is a partial cross-sectional view of a torch type plasma coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a partial perspective view showing the structure of a nozzle according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing the structure of a nozzle according to another embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram showing the shape of the plasma and the coating gas injected by the torch type plasma coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a specific embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 토치형 플라즈마 코팅장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 발생부(10), 플라즈마 유도부(20), 노즐(30) 및 코팅가스 공급부(40)를 포함하여 구성된다. The torch type plasma coating apparatus according to the present exemplary embodiment includes a plasma generating unit 10, a plasma inducing unit 20, a nozzle 30, and a coating gas supply unit 40 as shown in FIG. 1.

먼저 먼저 상기 플라즈마 발생부(10)는 전원 전극(11)과 접지 전극(12) 및 플라즈마 가스 공급 통로(13) 등이 구비되는 구조를 가지며, 플라즈마를 발생시키는 구성요소이다. 상기 플라즈마 발생부(10)는 일반적으로 사용되는 플라즈마 발생부와 실질적으로 동일하므로 상세한 설명은 생략한다. First, the plasma generator 10 has a structure in which a power electrode 11, a ground electrode 12, a plasma gas supply passage 13, and the like are provided, and are components that generate plasma. Since the plasma generator 10 is substantially the same as the plasma generator used in general, detailed description thereof will be omitted.

다음으로 상기 플라즈마 유도부(20)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 발생부(10)의 말단에 결합되어 설치되며, 상기 플라즈마 발생부(10)로 부터 발생된 플라즈마를 집중시키는 구성요소이다. Next, as shown in FIG. 1, the plasma induction part 20 is coupled to the end of the plasma generation part 10 and is a component that concentrates the plasma generated from the plasma generation part 10. .

본 실시예에서 상기 플라즈마 유도부(20)는 상기 플라즈마 발생부(10)의 말단에 탈착가능하게 결합되는 것이 바람직하다. 이는 상기 플라즈마 유도부(20)의 청소 또는 교체를 용이하게 하기 위하여 상기 플라즈마 발생부(10)와 별도로 분리 및 결합이 용이한 구조로 구성하는 것이다. 이를 위하여 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 발생부(10)의 말단에는 수나사 구조가 형성되고, 상기 플라즈마 유도부(20)의 상부 내면에는 상기 수나사 구조와 대응되는 암나사 구조가 형성될 수 있다. In the present embodiment, the plasma induction part 20 is preferably detachably coupled to the end of the plasma generation part 10. This is configured in a structure that can be easily separated and combined with the plasma generator 10 in order to facilitate the cleaning or replacement of the plasma induction part 20. To this end, as shown in FIG. 1, a male screw structure may be formed at an end of the plasma generating unit 10, and a female screw structure corresponding to the male screw structure may be formed on an upper inner surface of the plasma inducing unit 20.

그리고 상기 플라즈마 유도부(20)의 내부는 도 1에 도시된 바와 같이, 삼각뿔대 형상의 플라즈마 유도공(21)이 형성된다. 즉, 상기 플라즈마 발생부(10)를 통하여 발생된 플라즈마가 직경이 점진적으로 작아지는 플라즈마 유도공(21)을 통과하면서 밀도가 높아지는 것이다. As shown in FIG. 1, the plasma induction part 20 has a plasma induction hole 21 having a triangular pyramid shape. In other words, the plasma generated through the plasma generator 10 passes through the plasma induction hole 21 whose diameter gradually decreases, thereby increasing the density.

다음으로 상기 노즐(30)은 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 유도부(20)의 말단에 구비되며, 상기 플라즈마 유도부(20)에 의하여 집중된 플라즈마와 코팅 가스를 분사하는 구성요소이다. Next, as shown in FIG. 1, the nozzle 30 is provided at the end of the plasma induction part 20, and is a component that injects plasma and coating gas concentrated by the plasma induction part 20.

본 실시예에서 상기 노즐(30)은 상기 플라즈마 유도부(20)의 말단에 탈착가능하게 결합되는 구조로 구성될 수 있으며, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 노즐(30)의 하면에서 상측방향으로 일정 깊이를 가지도록 형성되는 분사틈(31)을 구비한다. In the present exemplary embodiment, the nozzle 30 may be configured to be detachably coupled to the end of the plasma induction part 20. As shown in FIG. 2, the nozzle 30 may be upward from the lower surface of the nozzle 30. The injection gap 31 is formed to have a predetermined depth.

상기 분사틈(31)은 일정한 폭을 가지도록 상기 노즐(30)의 하면과 평행하게 형성되며, 상기 분사틈(31)의 상부 중앙에는 상기 플라즈마 유도공(21)과 연통되는 플라즈마 통과공(32)이 개구된다. 상기 플라즈마 통과공(32)은 상기 노즐(30)의 상면에서 상기 분사틈(31) 방향으로 관통되어 형성되며, 상기 플라즈마 유도공(21)과 정확하게 맞물리는 크기로 형성된다. The injection gap 31 is formed in parallel with the lower surface of the nozzle 30 to have a predetermined width, the plasma passage hole 32 in communication with the plasma guide hole 21 in the upper center of the injection gap 31 Is opened. The plasma through hole 32 is formed to penetrate in the direction of the injection gap 31 from the upper surface of the nozzle 30, and is formed to have a size that is accurately engaged with the plasma induction hole 21.

한편 상기 반사틈(31)은 전술한 것과 달리, 단면 형상이 역삼각형 형태로 형성될 수도 있다. 또한 본 실시예에서 상기 노즐(30)는 상기 플라즈마 유도부(20)와 별도로 구비되지 않고 일체로 형성될 수도 있다. On the other hand, the reflective gap 31 may be formed in the form of an inverted triangle in cross-sectional shape, unlike the above. In addition, in the present embodiment, the nozzle 30 may be integrally formed without being provided separately from the plasma induction part 20.

그리고 상기 노즐(30a)은 도 3에 도시된 바와 같이, 슬릿형이 아니라 원통형으로 구성될 수도 있다. And the nozzle (30a), as shown in Figure 3, may be of a cylindrical shape rather than a slit.

다음으로 상기 코팅가스 공급부(40)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 발생부의 말단에 코팅 가스를 공급하는 구성요소이다. 이를 위하여 본 실시에에서는 상기 코팅가스 공급부(40)를 도 1에 도시된 바와 같이, 코팅 가스 공급원(도면에 미도시), 코팅 가스 분사부(41), 코팅 가스 공급관(42)을 포함하여 구성할 수 있다. Next, as shown in FIG. 1, the coating gas supply unit 40 is a component for supplying a coating gas to an end of the plasma generating unit. To this end, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, the coating gas supply unit 40 includes a coating gas supply source (not shown), a coating gas injection unit 41, and a coating gas supply pipe 42. can do.

먼저 상기 코팅 가스 공급원은 코팅 가스를 저장하고 있으며, 가스 상태로 코팅 가슬 공급하는 구성요소이다. 상기 코팅 가스 공급원은 별도고 구비될 수 있으며, 관로 형태로 상기 코팅 가스 공급관(42)과 연결될 수 있다. 그리고 상기 코팅 가스 공급원은 탄소나노튜브, 메탄 또는 에틸렌 가스 중 어느 한 가스를 저장하고 있으며, 이를 공급하는 것이 바람직하다. First, the coating gas source stores the coating gas and supplies the coating gas in the gas state. The coating gas supply source may be provided separately and connected to the coating gas supply pipe 42 in the form of a pipe. In addition, the coating gas source stores any one of carbon nanotubes, methane, and ethylene gas, and preferably supplies the same.

다음으로 상기 코팅 가스 분사부(41)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 발생부(10)의 말단에 형성되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 상기 플라즈마 유도부(20) 방향으로 분사하는 구성요소이다. 상기 코팅 가스 분사부(41)는 상기 플라즈마 발생부(10)의 일 지점에 형성될 수도 있고, 상기 플라즈마 발생부(10) 전체 외곽에 걸쳐서 형성되어 상기 코팅 가스를 상기 플라즈마 발생부(10) 전 영역에 대하여 분산시켜 반사할 수도 있다. Next, as shown in FIG. 1, the coating gas injector 41 is formed at the end of the plasma generator 10, and the coating gas supplied from the coating gas supply source is directed toward the plasma induction unit 20. The component to spray. The coating gas injection unit 41 may be formed at one point of the plasma generating unit 10, or is formed over the entire outer portion of the plasma generating unit 10 so that the coating gas may be formed before the plasma generating unit 10. It is also possible to scatter and reflect the area.

이때 상기 코팅 가스 분사부(41)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 유도공(21) 방향으로 기울어지게 형성되는 것이, 코팅 가스의 원활한 공급이 이루어지므로 바람직하다. At this time, the coating gas injection unit 41 is preferably formed to be inclined in the direction of the plasma induction hole 21, as shown in Figure 1, it is preferable because the smooth supply of the coating gas is made.

다음으로 상기 코팅 가스 공급관(42)은 상기 플라즈마 발생부(10)의 일측에 구비되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 코팅 가스 분사부(41)에 전달하는 구성요소이다. 상기 코팅 가스 공급관(42)은 1개가 구비될 수도 있지만, 상기 플라즈마 발생부(10)의 외측에 다수개가 일정한 간격 이격되어 환형으로 배치될 수도 있다. 이는 상기 코팅 가스 분사부(41)가 환형으로 구비되는 경우에, 원활한 코팅 가스의 공급을 위하여 다수개의 코팅 가스 공급관(42)이 설치되는 것이다. Next, the coating gas supply pipe 42 is provided at one side of the plasma generating unit 10, and is a component that delivers the coating gas supplied from the coating gas supply source to the coating gas injection unit 41. The coating gas supply pipe 42 may be provided with one, but a plurality of the coating gas supply pipes 42 may be disposed in an annular shape at regular intervals apart from the outside of the plasma generating unit 10. When the coating gas injection part 41 is provided in an annular shape, a plurality of coating gas supply pipes 42 are installed to supply the coating gas smoothly.

한편 상기 코팅 가스 공급관(42) 말단과 상기 코팅 가스 분사부(41) 사이에 일정한 내부 체적을 가져서 코팅 가스가 일정 시간 동안 머물면서 확산되는 확산부(도면에 미도시)가 더 구비될 수도 있다. Meanwhile, a diffusion part (not shown) may be further provided to have a constant internal volume between the end of the coating gas supply pipe 42 and the coating gas injection part 41 so that the coating gas stays for a predetermined time.

10 : 플라즈마 발생부 20 : 플라즈마 유도부
30 : 노즐 40 : 코팅가스 공급부10: plasma generating unit 20: plasma induction unit
30: nozzle 40: coating gas supply unit

Claims (5)

플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부;
상기 플라즈마 발생부의 말단에 결합되어 설치되며, 상기 플라즈마 발생부로 부터 발생된 플라즈마를 집중시키는 플라즈마 유도부;
상기 플라즈마 유도부의 말단에 형성되며, 상기 플라즈마 유도부에 의하여 집중된 플라즈마 및 코팅 가스를 분사하는 노즐;
상기 플라즈마 발생부의 말단에 코팅 가스를 공급하는 코팅가스 공급부;를 포함하는 플라즈마 코팅 장치.A plasma generator for generating a plasma;
A plasma induction unit coupled to the end of the plasma generation unit and concentrating the plasma generated from the plasma generation unit;
A nozzle which is formed at an end of the plasma induction part and injects plasma and coating gas concentrated by the plasma induction part;
And a coating gas supply unit supplying a coating gas to an end of the plasma generating unit. 제1항에 있어서, 상기 코팅가스 공급부는,
상기 플라즈마 발생부 외측에 설치되어 코팅 가스를 공급하는 코팅 가스 공급원;
상기 플라즈마 발생부의 말단에 형성되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 상기 플라즈마 유도부 방향으로 분사하는 코팅 가스 분사부;
상기 플라즈마 발생부의 일측에 구비되며, 상기 코팅 가스 공급원으로부터 공급되는 코팅 가스를 코팅 가스 분사부에 전달하는 코팅 가스 공급관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 코팅 장치.The method of claim 1, wherein the coating gas supply unit,
A coating gas supply source installed outside the plasma generation unit to supply a coating gas;
A coating gas injector formed at an end of the plasma generator and injecting a coating gas supplied from the coating gas source toward the plasma induction unit;
And a coating gas supply pipe provided at one side of the plasma generating unit and transferring the coating gas supplied from the coating gas supply unit to the coating gas injection unit. 제2항에 있어서, 상기 코팅 가스 분사부는,
상기 플라즈마 발생부의 말단을 환형으로 감싸는 형상으로 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 코팅 장치.The method of claim 2, wherein the coating gas injection unit,
Plasma coating apparatus characterized in that it is provided in a shape surrounding the end of the plasma generating portion in an annular shape. 제2항에 있어서, 상기 코팅 가스 공급원은,
탄소나노튜브, 메탄 또는 에틸렌 가스 중 어느 한 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 코팅 장치.The method of claim 2, wherein the coating gas supply source,
Plasma coating apparatus characterized in that for supplying any one of carbon nanotubes, methane or ethylene gas. 제2항에 있어서, 상기 노즐은,
상기 노즐의 하면에서 상측 방향으로 일정 깊이를 가지도록 형성되는 분사틈을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 코팅 장치.The method of claim 2, wherein the nozzle,
And a spraying gap formed to have a predetermined depth in an upward direction from a lower surface of the nozzle.
KR1020120015604A 2012-02-16 2012-02-16 The coating apparatus using plasma KR20130094398A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120015604A KR20130094398A (en) 2012-02-16 2012-02-16 The coating apparatus using plasma

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120015604A KR20130094398A (en) 2012-02-16 2012-02-16 The coating apparatus using plasma

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130094398A true KR20130094398A (en) 2013-08-26

Family

ID=49218173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120015604A KR20130094398A (en) 2012-02-16 2012-02-16 The coating apparatus using plasma

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20130094398A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101495199B1 (en) Plasma apparatus and system
CN102149247B (en) Device and method for generating low-energy high-density plasma by multi-level ionization
US10076019B2 (en) Plasma torch with improved cooling system and corresponding cooling method
EP3332615B1 (en) Improved plasma arc cutting systems, consumables and operational methods
KR20070025139A (en) Method for producing hydrocarbons by thermal pyrolysis and reverse polarized hollow type plasma torch therefore
KR20120041475A (en) Atmospheric pressure plasma torch generating apparatus by nozzle design for large area
WO2008127802A3 (en) Method and apparatus and for electrokinetic co-generation of hydrogen and electric power from liquid water microjets
KR101234556B1 (en) Thermal spray apparatus
KR102107430B1 (en) A multi plasma torch
KR20130094398A (en) The coating apparatus using plasma
KR101320949B1 (en) The slit-type apparatus forming plasma torch
JP2011060688A (en) Plasma surface treatment device
US10015873B2 (en) Plasma torch
KR102268583B1 (en) A multijet plasma device
KR200472189Y1 (en) Torch for arc welding
CN112004304B (en) Corona composite dielectric barrier discharge plasma jet generating device
US11160156B2 (en) Plasma torch systems having improved plasma nozzles
KR20200057162A (en) Thermal plasmatron
KR101942019B1 (en) Plasma torch
KR102594269B1 (en) Plasma Torch
KR101177276B1 (en) Plasma torch for treating waste air of etching processing
KR20180110442A (en) ignition-reinforced plasma torch device
CN203618207U (en) Far-zone plasma torch device
CN217546384U (en) Multi-spray gun plasma treatment device
KR101173088B1 (en) Plasma Touch

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application