KR20130092216A - Method for manufacturing graphene film - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 고분자 화합물에 관한 것으로서, 특히 그래핀으로 구성된 그래핀 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a polymer compound, and more particularly to a method for producing a graphene film composed of graphene.
과학기술이 발전하면서 나노 기술을 이용한 신소재의 개발이 활발히 진행되고 있다. 그 중에서, 탄소가 포함된 재료들, 예컨대 탄소 나노튜브(carbon nanotube), 다이아몬드(diamond), 그래파이트(graphite), 그래핀(graphene) 등에 관한 연구가 나노 기술 분야에서 집중적으로 연구되고 있다. 이러한 재료들은 전계 효과 트랜지스터(field effect transistor), 바이오 센서(biosensor), 나노 복합물(nanocomposite), 양자 소자(quantum device) 등에 이용될 수 있다.With the development of science and technology, the development of new materials using nanotechnology is actively progressing. Among them, research on carbon-containing materials such as carbon nanotubes, diamonds, graphite, graphenes, and the like has been intensively studied in the field of nanotechnology. Such materials may be used in field effect transistors, biosensors, nanocomposites, quantum devices, and the like.
그래핀은 2차원 탄소 동소체로서, 기존의 물질과 다른 매우 유용한 특성을 가진다. 그 중 주목할만한 특징으로는 그래핀에서 전자가 이동할 경우 마치 전자의 질량이 제로인 것처럼 흐른다는 것이다. 이는 전자가 진공 중의 빛이 이동하는 속도, 즉 광속으로 흐르는 것을 의미한다. 현재까지 알려진 그래핀의 전자 이동도는 최대 200,000 cm2/Vs에 달한다. 그래핀은 전자와 정공에 대하여 비정상적인 반정수 양자 홀 효과(half-integer quantum Hall effect)를 보이며, 허공에 매달릴 경우에는 분수양자홀효과(Fractional quantum Hall effect)를 보이기도 한다. Graphene is a two-dimensional carbon allotrope and has very useful properties unlike conventional materials. One notable feature is that when electrons move in graphene, they flow as if the mass of the electrons is zero. This means that the electrons flow at the speed at which light in the vacuum moves, ie at the speed of light. Graphene has an electron mobility of up to 200,000 cm2 / Vs. Graphene exhibits an unusual half-integer quantum Hall effect on electrons and holes, and a fractional quantum Hall effect when suspended in the air.
또한, 그래핀은 주어진 두께의 그래핀의 결정 방향성에 따라서 전기적 특성이 변화하므로 사용자가 선택 방향으로의 전기적 특성을 발현시킬 수 있고 이에 따라 쉽게 소자를 디자인할 수 있다. 이러한 그래핀의 전기적 특성은 키랄성 및 직경에 따라 금속성 및 반도체성의 전기적 특성이 달라지는 탄소나노튜브(CNT)와 대비된다. CNT의 경우 특정 반도체 성질 및 금속 성질을 이용하기 위하여 해당 CNT를 분리하는 과정을 거쳐야 하는데 이 과정은 어렵다. 또한, 그래핀은 합성 후 정제를 거치는 CNT와 대비하여 경제적 측면에서도 유리하다. 따라서 그래핀은 탄소계 전기 또는 전자기 소자 등에 효과적으로 이용될 수 있다. 그래핀은 ITO 소재 등의 산화물 투명전극 보다 내충격성, 유연성 등이 뛰어나며, 높은 투명도와 높은 전기 전도도를 가지고 있는 특성이 있다.In addition, since the graphene has an electrical characteristic that changes according to the crystal orientation of the graphene having a given thickness, the user can express the electrical characteristic in a selection direction and thus can easily design the device. The electrical properties of these graphenes are in contrast to carbon nanotubes (CNTs), in which the metallic and semiconducting electrical properties vary depending on chirality and diameter. In the case of CNTs, the process of separating the CNTs in order to use specific semiconductor and metal properties is difficult. In addition, graphene is advantageous in terms of economics as compared to CNTs that undergo purification after synthesis. Therefore, graphene can be effectively used for carbon-based electric or electromagnetic devices. Graphene is more excellent in impact resistance and flexibility than oxide transparent electrodes such as ITO materials, and has high transparency and high electrical conductivity.
그래핀 필름의 제조 방법이 국내공개특허(#2011-0079532호)에 개시되어 있다. 상기 공개특허는 롤투롤 공정을 이용한 그래핀 필름 제조 방법을 개시하고 있으며, 이러한 방법에 따라 그래핀 필름을 제조할 경우에 그래핀이 손상을 받을 수가 있다. A method for producing a graphene film is disclosed in Korean Patent Application Publication (# 2011-0079532). The disclosed patent discloses a graphene film manufacturing method using a roll-to-roll process, and when the graphene film is manufactured according to this method, the graphene may be damaged.
본 발명은 그래핀 필름을 손상없이 안전하게 제조할 수 있는 그래핀 필름 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a graphene film production method that can safely produce a graphene film without damage.
상기 과제를 이루기 위하여 본 발명은,The present invention to achieve the above object,
(a) 제1 및 제2 촉매금속막들이 서로 접착된 소재를 준비하는 단계; (b) 상기 제1 및 제2 촉매금속막들의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들을 형성하는 단계; (c) 상기 제1 및 제2 그래핀층들의 표면에 제1 및 제2 캐리어층들을 형성하는 단계; (d) 상기 제1 및 제2 캐리어층들의 표면에 제1 및 제2 릴리스 테이프들을 접착하는 단계; (e) 상기 제1 및 제2 촉매 금속막들을 분리하여 제1 및 제2 기판들을 구비하는 단계; (f) 상기 제1 기판에 형성된 제1 촉매금속막을 제거하는 단계; (g) 상기 제1 그래핀층의 표면에 그래핀막을 전사하는 단계; (h) 상기 제1 캐리어층에 접착된 제1 릴리스 테이프를 제거하는 단계; 및 (i) 상기 제1 그래핀층에 형성된 제1 캐리어층을 제거하여 그래핀 필름을 완성하는 단계를 포함하는 그래핀 필름 제조 방법을 제공한다.(a) preparing a material to which the first and second catalytic metal films are adhered to each other; (b) forming first and second graphene layers on the surfaces of the first and second catalytic metal films; (c) forming first and second carrier layers on the surfaces of the first and second graphene layers; (d) adhering first and second release tapes to surfaces of the first and second carrier layers; (e) separating the first and second catalyst metal films to provide first and second substrates; (f) removing the first catalytic metal film formed on the first substrate; (g) transferring the graphene film on the surface of the first graphene layer; (h) removing the first release tape adhered to the first carrier layer; And (i) provides a graphene film manufacturing method comprising the step of completing the graphene film by removing the first carrier layer formed on the first graphene layer.
본 발명은 소재의 양면에 형성된 촉매금속막들에 그래핀층들을 형성하고, 상기 그래핀층들에 캐리어 코팅층들을 형성함으로써, 촉매금속막들을 분리할 때 그래핀층들의 손상을 현저히 줄일 수 있다.According to the present invention, by forming graphene layers on catalyst metal layers formed on both surfaces of a material and forming carrier coating layers on the graphene layers, damage to the graphene layers may be significantly reduced when the catalyst metal layers are separated.
또한, 상기 분리된 기판에 그래핀막을 전사할 때 릴리스 테이프가 상기 기판에 접착되어 있기 때문에 작업자가 상기 기판을 핸들링(handling)하는 것이 매우 원활하게 이루어질 수 있다. In addition, since the release tape is adhered to the substrate when the graphene film is transferred to the separated substrate, the operator may handle the substrate very smoothly.
도 1은 본 발명예에 따른 그래핀 필름 제조 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
도 2 내지 도 11은 본 발명에 따른 그래핀 제조 방법을 순차적으로 도시한 단면도들이다.
도 12는 그래핀 필름 제조 방법을 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 진행할 때 분리된 촉매금속이 손상된 상태를 보여준다. 1 is a flow chart schematically showing a graphene film manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
2 to 11 are cross-sectional views sequentially showing a graphene manufacturing method according to the present invention.
12 shows a state in which the separated catalyst metal is damaged when the graphene film manufacturing method is performed in a roll-to-roll manner.
이하, 첨부한 도면들을 참고하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 각 도면에 제시된 참조부호들 중 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. Like reference numerals in the drawings denote like elements.
도 1은 본 발명예에 따른 그래핀 필름 제조 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이고, 도 2 내지 도 11은 본 발명에 따른 그래핀 제조 방법을 순차적으로 도시한 단면도들이다. 도 1을 참조하면, 본 발명은 제1 내지 제9 단계들을 포함한다. 도 1 내지 도 11을 참조하여 본 발명에 따른 그래핀 필름 제조 방법을 상세히 설명하기로 한다. 1 is a flow chart schematically showing a graphene film manufacturing method according to an embodiment of the present invention, Figures 2 to 11 are cross-sectional views sequentially showing a graphene manufacturing method according to the present invention. Referring to FIG. 1, the present invention includes first to ninth steps. With reference to Figures 1 to 11 will be described in detail a graphene film manufacturing method according to the present invention.
제1 단계(211)로써, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)이 서로 접착된 소재를 준비한다. In the
도 2를 참조하면, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)은 릴리스(release)막의 양쪽면에 형성될 수 있으며, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)과 릴리스막(211)은 판 형태로 구성된다. Referring to FIG. 2, the first and second
제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)은 촉매금속 예컨대, 니켈(Ni), 구리(Cu), 코발트(Co), 철(Fe), 백금(Pt), 금(Au), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 구리(Cu), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 로지움(Rh), 실리콘(Si), 탄탈럼(Ta), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V) 및 지르코늄(Zr)으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나에 의해 형성될 수 있으며, 이들 중에서 가격이 저렴하고 도전성이 양호한 구리로 구비되는 것이 바람직하다. The first and second
도 2에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222) 사이에 릴리스막(211)을 구비함으로써, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 상호 분리시킬 때 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)이 손상을 받지 않고 안전하게 분리될 수가 있다. As shown in FIG. 2, a
릴리스막(211)의 양쪽면에 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 형성하기 위해서는 릴리스막(211)을 챔버 내에 장착하고, 상기 촉매 금속을 스퍼터링(sputtering) 장치, 전자빔 증발 장치(e-beam evaporator) 등을 이용하여 상기 릴리스막(211)의 양면에 증착시킴으로써 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)이 형성될 수 있다. In order to form the first and second
릴리스막(211)의 두께는 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 두께에 비하여 상대적으로 얇은 박막으로 구성될 수 있다. 예컨대, 릴리스막(211)의 두께는 약 50~300[Å]이 될 수 있다. 릴리스막(211)은 추후 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)로부터 분리되며, 분리된 이후에 제거된다. 릴리스막(211)의 분리 공정은 이후 해당 부분에서 후술하기로 한다.The thickness of the
제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 두께는 릴리스막(211)의 두께에 비하여 상대적으로 후막이다. 예컨대, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 두께는 약 3, 5, 9, 12, 18, 25, 35, 70[um] 등으로 구성할 수 있다. 이러한 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 수치는 비제한적인 예시이며, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 두께는 제조사에 따라 다양하게 선택 및 변경될 수 있다. 제1 촉매금속막(221)의 두께와 제2 촉매금속막(222)의 두께는 같거나 다를 수 있다.The thicknesses of the first and second
릴리스막(211)과 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)은 상기 분리 공정 이후에 화학적 또는 기계적인 방법으로 제거되는 부분이다. 화학적 제거 방법으로는 예컨대 에칭 공정이 사용될 수 있으며, 기계적 방법으로는 폴리싱(Polishing) 공정이 사용될 수 있다.The
제2 단계(221)로써, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성한다. As a
도 3을 참조하면, 제1 촉매금속막(221)의 표면에 제1 그래핀층(231)을 형성하고, 제2 촉매금속막(222)의 표면에 제2 그래핀층(232)을 형성한다. 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)은 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition)이나 열화학기상증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition)으로 형성될 수 있다. 특히 화학기상증착법은 저온에서 진행이 가능하고 대량 생산이 가능하여 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성하기에 바람직한 공정이라 할 수 있다. 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성하는 구체적인 방법은 다음과 같다.Referring to FIG. 3, the
제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)이 형성된 소재를 화학 기상 증착용 챔버 또는 열화학 기상 증착용 챔버(chamber) 내에 장착한다. 이어서 상기 챔버 내에 탄화수소(CH4) 가스를 일정 농도로 충진한 후, 상기 탄화수소에서 탄소(C) 원자와 수소(H) 원자를 분리시키기 위해 상기 챔버 내에 열에너지를 공급한다. 그러면, 상기 열에너지에 의해 탄소 원자와 수소 원자가 분리되고, 상기 분리된 탄소 원자가 상기 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 증착되어 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)이 형성된다. The material on which the first and second
상기 소재가 상기 챔버 내에 장착된 상태에서 상기 챔버 내에 열에너지를 주입하기 전에 상기 챔버에 수소(H2) 가스를 먼저 주입하여 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면을 표면 처리하는 공정을 더 진행할 수 있다. 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 표면처리함으로써, 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)이 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 보다 더 견고하게 형성될 수 있다. A process of surface treating the surfaces of the first and second
본 실시 예에서는 탄소 공급원으로 탄화수소 기체가 투입되는 경우를 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예컨대, 일산화탄소, 에탄, 에틸렌, 에탄올, 아세틸렌, 프로판, 프로필렌, 부탄, 부타티엔, 펜탄, 펜텐, 사이클로펜타디엔, 헥산, 사이클로헥산, 벤젠, 톨루엔 등 탄소 원자가 포함된 군에서 선택된 하나 이상이 사용될 수 있다.In the present embodiment, a case where the hydrocarbon gas is introduced into the carbon source has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, one or more selected from the group containing carbon atoms such as carbon monoxide, ethane, ethylene, ethanol, acetylene, propane, propylene, butane, butadiene, pentane, pentene, cyclopentadiene, hexane, cyclohexane, benzene and toluene can be used. have.
제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성하기 전에 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 대하여 전처리를 먼저 수행할 수 있다. 상기 전처리 공정은 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 공정으로, 예컨대 수소(H2) 기체를 사용할 수 있다. 상기 수소 기체의 공급으로 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면을 깨끗이 유지할 수 있다. 다른 실시예로써, 용액을 이용하여 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면을 전처리할 수 있다. 예컨대, 산 용액이나 알칼리 용액을 사용하여 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면을 세정할 수 있다.Before the first and
상술한 바와 같이, 릴리스막(211)의 양쪽 면에 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)이 배치된 소재를 사용함으로써 소재의 양쪽면에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성할 수 있어 그래핀 필름(도 10의 205)의 생산 효율이 크게 증가된다. 아울러, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 상호 분리하는 과정에 있어서 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)과 함께 릴리스막(211)도 용이하게 제거됨으로써, 소재의 양쪽면에 형성된 제1 및 제2 그래핀층들(231,232) 중 어느 하나를 희생하지 않으면서도 그래핀 필름(도 10의 205)을 얻을 수 있다.As described above, the first and second graphene layers 231 and 232 are formed on both surfaces of the material by using a material in which the first and second
또한, 본 발명은 소재의 양면에 형성된 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성하고, 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)에 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들을 형성함으로써, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 분리할 때 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)의 손상을 현저히 줄일 수 있다.In addition, the present invention forms the first and second graphene layers 231 and 232 on the first and second
제3 단계(231)로써, 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)의 표면에 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들을 형성한다. In a
도 4를 참조하면, 제1 그래핀층(231)의 표면에 제1 캐리어(carrier)층을 형성하고, 제2 그래핀층(232)의 표면에 제2 캐리어층(242)을 형성한다. 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들은 액상 소재, 예컨대 솔더 레지스트(Solder Resist), 포토레지스트(Photoresist), 포토 솔더 레지스트(Photo Solder Resist) 중 하나로 형성될 수 있다. 상기 액상 소재는 스크린 프린팅(screen printing) 방법과 롤 코팅(roll coating) 방법 중 하나를 이용하여 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들을 형성하는데 이용될 수 있다. 상기 스크린 프린팅 방법을 사용하는 경우, 스크린 프린팅 후 150∼180[℃]에서 약 5분 가량 경화(curing)를 수행하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 4, a first carrier layer is formed on the surface of the
다른 실시예로써, 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들을 형성하기 위하여 캐리어 필름, 예컨대 폴리다이메탈실록세인 (polydimethylsiloxane), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylen terephthalate), 폴리 이미드 필름(polyimide film), 폴리우레탄 필름(polyurethane film), 유리(glass) 등의 다양한 소재를 사용할 수 있고, 일정한 온도에 이르면 접착력을 잃는 열 박리 필름을 사용할 수도 있다. In another embodiment, a carrier film, such as polydimethylsiloxane, polyethylene terephthalate, polyimide film, Various materials such as polyurethane film, glass, and the like may be used, and a heat release film that loses adhesive strength when a certain temperature is reached may be used.
상기 캐리어 필름을 이용하여 캐리어층을 형성하기 위하여, 그래핀층과 캐리어 필름이 나란히 배치된 상태에서 상기 캐리어 필름 후면에 복수개의 분사노즐들을 배치하고, 상기 복수개의 분사노즐들로 캐리어 필름에 공기를 분사하여 공압을 가한다. 그러면, 상기 복수개의 분사노즐들이 가하는 공압에 의해서, 캐리어 필름은 그래핀층 쪽으로 밀려나 캐리어 필름은 그래핀층에 달라붙게 된다. 이 때, 캐리어 필름을 가압하는 공기를 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다. 캐리어 필름에 가해지는 공기를 가열하는 단계를 더 구비함으로써, 공기가 캐리어 필름에 공압을 가함과 동시에 캐리어 필름을 가열하므로 캐리어 필름과 그래핀층이 더욱 잘 달라붙게 된다. 또한 캐리어 필름이 가열되면 캐리어 필름 및 그래핀층의 계면 간의 접촉시 유연성이 증가된다. 따라서 캐리어 필름 또는 그래핀층의 표면에 요철, 곡면 또는 패턴이 형성되는 등, 캐리어 필름 또는 그래핀층이 다양한 표면 상태를 가지더라도 유연하게 대처할 수 있다. In order to form a carrier layer using the carrier film, a plurality of injection nozzles are arranged on the back of the carrier film while the graphene layer and the carrier film are arranged side by side, and the air is injected to the carrier film with the plurality of injection nozzles. To apply pneumatic pressure. Then, the carrier film is pushed toward the graphene layer by the pneumatic pressure applied by the plurality of injection nozzles, so that the carrier film adheres to the graphene layer. In this case, the method may further include heating air to pressurize the carrier film. The method further includes heating the air applied to the carrier film, so that the carrier film and the graphene layer adhere to each other better because the air heats the carrier film while simultaneously applying air pressure to the carrier film. The heating of the carrier film also increases the flexibility in contact between the interface of the carrier film and the graphene layer. Therefore, even if the carrier film or the graphene layer has a variety of surface conditions, such as irregularities, curved surfaces or patterns are formed on the surface of the carrier film or graphene layer can be flexibly coped.
제4 단계(241)로써, 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들의 표면에 제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)을 접착한다. In a
도 5를 참조하면, 제1 캐리어층(241)의 표면에 제1 릴리스 테이프(251)를 접착하고, 제2 캐리어층(242)의 표면에 제2 릴리스 테이프(252)를 접착한다. 제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)은 롤 코팅 방식에 의해 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)에 접착될 수 있다. 제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)은, 열박리 테이프, UV(Ultraviolet) 테이프, 포토 레지스트, 수용성 폴리 우레탄 수지, 수용성 에폭시 수지, 수용성 아크릴 수지, 수용성 천연 고분자 수지, 수계 접착제, 알코올 박리 테이프, 초산 비닐 에멀젼 접착제, 핫멜트 접착제, 가시광 경화형 접착제, 적외선 경화형 접착제, 전자빔 경화형 접착제, PBI(Polybenizimidazole) 접착제, 폴리 이미드 접착제, 실리콘 접착제, 이미드 접착제, BMI(Bismaleimide) 접착제, 변성 에폭시 수지로 이루어진 그룹에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, the
제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)은 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들을 표면처리한 후에 접착될 수 있다. 즉, 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들의 표면을 거칠게 형성하는 표면처리를 함으로써, 제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)과 제1 및 제2 캐리어층들(241,242)들 사이의 접착력이 강화된다.The first and
상기와 같이, 제1 및 제2 릴리스 테이프들(251,252)이 기판에 접착되어 있기 때문에 상기 기판을 2개로 분리하고 상기 분리된 기판에 그래핀막(261)을 전사할 때 작업자가 상기 기판을 핸들링(handling)하는 것이 매우 원활하게 이루어질 수 있다. As described above, since the first and
제5 단계(251)로써, 제1 및 제2 촉매 금속층들을 분리하여 제1 및 제2 기판들(201,202)을 구비한다. In a
도 6을 참조하면, 제1 기판(201)은 제1 릴리스 테이프(251) 위에 제1 캐리어층(241), 제1 그래핀층(231) 및 제1 촉매금속막(221)이 순차적으로 적층된 구조를 가지며, 제2 기판(202)은 제2 릴리스 테이프(252) 위에 제2 캐리어층(242), 제2 그래핀층(232) 및 제2 촉매금속막(222)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는다. Referring to FIG. 6, the
제1 및 제2 기판들(201,202)을 분리하기 위해서는, 제1 및 제2 기판들(201,202) 중 하나를 고정시킨 상태에서 다른 하나의 한쪽 끝을 잡고 상방 또는 하방으로 잡아당기면 제1 및 제2 기판들(201,202) 중 하나가 릴리스막(211)과 분리되고, 다른 하나의 기판에 릴리스막(211)이 접착되어 있다. 때문에 상기와 같은 방법으로 릴리스막(211)을 제1 기판(201) 또는 제2 기판(202)으로부터 분리할 수가 있다. To separate the first and
본 실시 예에서는 제1 및 제2 기판들(201,202) 중 하나의 한쪽 끝에 물리적 힘이 작용하는 경우를 설명하였으나 본 발명은 이에 한하지 않는다. 예컨대, 제1 및 제2 기판들(201,202)의 양쪽 끝, 또는 사방에서 물리적 힘이 작용하여 릴리스막(211)으로부터 제1 및 제2 기판을 동시에 분리시킬 수도 있다.In the present embodiment, a case where a physical force is applied to one end of one of the first and
릴리스막(211)으로써 열박리 테이프가 사용된 경우에는 소정의 열을 가함으로써 제1 및 제2 기판을 릴리스막(211)으로부터 분리할 수가 있다.When the heat release tape is used as the
제6 단계(261)로써, 제1 기판(201)에 형성된 제1 촉매금속막(221)을 제거한다. In a
도 7을 참조하면, 제1 기판(201)에 형성된 제1 촉매금속막(221)이 제거되어 제1 기판(201)에는 제1 릴리스 테이프(251), 제1 캐리어층(241) 및 제1 그래핀층(231)만 남게 된다. Referring to FIG. 7, the first
이하의 공정을 진행함에 있어서, 제1 기판(201)에 관한 공정과 제2 기판(202)에 관한 공정을 동시에 진행할 수도 있고, 별도로 진행할 수도 있으므로, 이하에서는 설명의 편의를 위해 제1 기판(201)에 관한 공정에 대해서만 설명하기로 한다. In the following processes, since the process of the
제1 기판(201)에 형성된 제1 촉매금속막(221)은 에칭 공정을 이용하여 제거할 수 있다. 상기 에칭 공정으로는 습식 공정이 이용될 수 있다. 상기 에칭 공정에 이용되는 에칭액으로는 산, 불화수소(HF), BOE(buffered oxide etch), 염화 제2철(FeCl3) 용액, 질산 제2철(Fe(No3)3) 용액 등이 있다. The first
본 실시 예에는 제1 촉매금속막(221)을 제거하는 방법으로 에칭액을 이용하는 습식 에칭 공정을 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 예컨대, 에칭 공정으로써 건식 에칭 공정이 적용될 수도 있고, 스퍼터링을 이용하여 제1 촉매금속막(221)을 제거하는 공정이 적용될 수도 있다. 제1 촉매금속막(221)을 제거하면 도 7에 도시된 바와 같이 제1 그래핀층(231)이 노출된다. In the present embodiment, the wet etching process using the etching solution as a method of removing the first
제7 단계(271)로써, 제1 그래핀층(231)의 표면에 그래핀막(261)을 전사한다. In a
도 8을 참조하면, 그래핀막(261)이 전사되어 제1 기판(201)은 제1 릴리스 테이프(251), 제1 캐리어층(241), 제1 그래핀층(231) 및 그래핀막(261)이 순차적으로 적층된 형태를 갖는다. 상기 그래핀막(261)은 그래핀을 습식 전사 방법 또는 건식 전사 방법을 이용하여 제1 그래핀층(231)의 표면에 전사함으로써 형성될 수 있다. 여기서, 건식 전사 방법으로는 UV 테이프(Ultraviolet tape), 온도 반응형 점착력 소멸 테이프(thermal release tape) 등을 이용한 간접 전사 방법을 사용하거나, 직접 제1 그래핀층(231)에 그래핀막(261)을 전사하는 직접 전사 방법이 사용될 수 있다. Referring to FIG. 8, the
그래핀막(261)을 전사하기 전에 먼저 제1 그래핀층(231)의 표면을 플라즈마 처리할 수 있다. 제1 그래핀층(231)의 표면을 플라즈마 처리함으로써 제1 그래핀층(231)의 표면 특성이 향상되어 그래핀막(261)이 제1 그래핀층(231)에 견고하게 결착된다. Before transferring the
제8 단계(281)로써, 제1 캐리어층(241)에 접착된 제1 릴리스 테이프(251)를 제거한다.In an eighth step 281, the
도 9를 참조하면, 제1 릴리스 테이프(251)가 제거되어 제1 기판(201)에는 제1 캐리어층(241), 제1 그래핀층(231) 및 릴리스막(211)만 남게 된다. 제1 기판(201)에 접착된 제1 릴리스 테이프(251)를 제거하기 위하여, 제1 캐리어층(241)의 한쪽 끝을 잡고 제1 릴리스 테이프(251)를 상방 또는 하방으로 잡아당긴다. 그러면, 물리적 힘에 의하여 제1 릴리스 테이트가 제1 캐리어층(241)으로부터 분리된다. Referring to FIG. 9, the
본 실시 예에서는 제1 캐리어층(241)의 한쪽 끝에 물리적 힘이 작용하는 경우를 설명하였으나 본 발명은 이에 한하지 않는다. 예컨대, 제1 캐리어층(241)과 제1 릴리스 테이프(251)가 접착된 제1 기판(201)의 양쪽 끝, 또는 사방에서 물리적 힘을 가하여 제1 릴리스 테이프(251)를 제거할 수 있다.In the present embodiment, a case where a physical force is applied to one end of the
제1 릴리스 테이프(251)를 제1 캐리어층(241)으로부터 용이하게 분리시키기 위하여 제1 릴리스 테이프(251)는 제1 캐리어층(241)과 결합력이 약한 부재를 사용할 수 있다.In order to easily separate the
제1 릴리스 테이프(251)로써 열박리 테이프를 사용하는 경우에는 소정의 열을 가하여 제1 릴리스 테이프(251)를 제거할 수 있다.In the case where the heat release tape is used as the
제1 릴리스 테이프(251)를 제거한 후에 제1 기판(201)을 세정 및 건조하는 단계를 더 진행할 수 있다.After removing the
제9 단계(291)로써, 제1 그래핀층(231)에 형성된 제1 캐리어층(241)을 제거하여 그래핀 필름(도 10의 205)을 완성한다. As a ninth step 291, the
도 10을 참조하면, 제1 기판(201)에 형성된 제1 캐리어층(241)이 제거됨으로써, 그래핀 필름(205)의 제조가 완성된다. 제1 캐리어층(241)을 제거하기 위하여, 에칭 공정과 물리적인 제거 방법을 이용할 수 있다. Referring to FIG. 10, the manufacture of the
제1 캐리어층(241)이 액상 소재로 형성되었을 경우에는 제1 캐리어층(241)을 제거하기 위하여 에칭 공정을 적용할 수 있고, 제1 캐리어층(241)이 캐리어 필름으로 형성되었을 경우에는 제1 캐리어층(241)을 제거하기 위하여 물리적 제거 방법을 적용할 수 있다. When the
상기 에칭 공정으로는 습식 공정이 이용될 수 있다. 상기 에칭 공정에 이용되는 에칭액으로는 산, 불화수소(HF), BOE(buffered oxide etch), 염화 제2철(FeCl3) 용액, 질산 제2철(Fe(No3)3) 용액 등이 있다. 제1 캐리어층(241)을 제거하기 위하여 본 발명은 상기 습식 에칭 공정에 한정되지 않는다. 예컨대, 에칭 공정으로써 건식 에칭 공정이 적용될 수도 있고, 스퍼터링을 이용하여 촉매금속막을 제거하는 공정이 적용될 수도 있다. As the etching process, a wet process may be used. The etchant used in the etching process includes an acid, hydrogen fluoride (HF), buffered oxide etch (BOE), ferric chloride (FeCl3) solution, ferric nitrate (Fe (No3) 3) solution, and the like. In order to remove the
상기 물리적인 제거 방법으로써, 제1 그래핀층(231)의 한쪽 끝을 잡고 상기 캐리어 필름을 상방 또는 하방으로 잡아당긴다. 그러면, 물리적 힘에 의하여 상기 캐리어 필름이 제1 그래핀층(231)으로부터 분리된다. As the physical removal method, one end of the
본 실시 예에서는 제1 그래핀층(231)의 한쪽 끝에 물리적 힘이 작용하는 경우를 설명하였으나 본 발명은 이에 한하지 않는다. 예컨대, 제1 그래핀층(231)과 상기 캐리어 필름이 접착된 제1 기판(201)의 양쪽 끝, 또는 사방에서 물리적 힘을 가하여 상기 캐리어 필름을 제거할 수 있다.In the present embodiment, a case where a physical force is applied to one end of the
제1 캐리어층(241)을 제거한 후에 그래핀 필름(205)을 세정 및 건조하는 단계를 더 진행할 수 있다.After removing the
도 11을 참조하면, 그래핀 필름(도 10의 205)의 양면에 보호막들(271)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 11, passivation layers 271 may be formed on both surfaces of the
보호막들(271)은 그래핀 필름(도 10의 205)의 양면에 스핀 코팅법, 스프레이법, 그라비아 인쇄법 등을 이용하여 형성될 수 있다. 보호막들(271)로는 광투과성이면서 도전성 고분자 물질, 예컨대, PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))가 사용될 수 있다. PEDOT는 유기물이므로 상기 특성 외에도 그래핀과의 친화도가 강한 특성이 있다. 보호막들(271)의 또 다른 실시예로써, 티오펜계 폴리머, 폴리피롤, 폴리아닐린, PVDF(Polyvinylidene Fluoride )와 같은 강유전체 고분자, PZT와 같은 강유전체 무기물 등이 사용될 수 있다. 그래핀은 탄소 원자 한개 층의 이차원적 결합이므로 긁힘이나 압력에 따라 손상이 생겼을 때 다른 원자층으로부터 결함을 보완하기 어렵다. 따라서 터치스크린과 같이 지속적 압력이 가해지는 장치에 사용하기 위해서는 보호막들(271)을 형성하는 것이 바람직하다. The
도 12의 (a),(b) & (c)는 그래핀 필름 제조 방법을 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 진행할 때 분리된 촉매금속들이 손상된 상태를 보여준다. (A), (b) & (c) of FIG. 12 show a state in which the separated catalyst metals are damaged when the graphene film manufacturing method is performed in a roll-to-roll manner.
본 발명은 릴리스막(211)의 양면에 형성된 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)을 형성하고, 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)의 표면에 제1 및 제2 캐리어 코팅층들(241,242)을 형성함으로써, 제1 및 제2 촉매금속막들(221,222)을 분리할 때 제1 및 제2 그래핀층들(231,232)과 제1 및 제2 촉매금속들(221,222)이 손상되는 것을 현저히 줄일 수 있다.The present invention forms first and second graphene layers 231 and 232 on the surfaces of the first and second
본 발명은 도면들에 도시된 실시예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이들로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, it is to be understood that various modifications and equivalent embodiments may be made by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
201/202:제1 및 제2 기판들, 205: 그래핀 필름
211:릴리스막, 221/222: 제1 및 제2 촉매금속막들
231/232:제1 및 제2 그래핀층들, 241/242: 제1 및 제2 캐리어층들
251/252:제1 및 제2 릴리스 테이프들, 261: 그래핀막
271: 보호막들 201/202: first and second substrates, 205: graphene film
211: release film, 221/222: first and second catalytic metal films
231/232: first and second graphene layers, 241/242: first and second carrier layers
251/252: first and second release tapes, 261: graphene film
271: shields
Claims (10)
(b) 상기 제1 및 제2 촉매금속막들의 표면에 제1 및 제2 그래핀층들을 형성하는 단계;
(c) 상기 제1 및 제2 그래핀층들의 표면에 제1 및 제2 캐리어층들을 형성하는 단계;
(d) 상기 제1 및 제2 캐리어층들의 표면에 제1 및 제2 릴리스 테이프들을 접착하는 단계;
(e) 상기 제1 및 제2 촉매 금속막들을 분리하여 제1 및 제2 기판들을 구비하는 단계;
(f) 상기 제1 기판에 형성된 제1 촉매금속막을 제거하는 단계;
(g) 상기 제1 그래핀층의 표면에 그래핀막을 전사하는 단계;
(h) 상기 제1 캐리어층에 접착된 제1 릴리스 테이프를 제거하는 단계; 및
(i) 상기 제1 그래핀층에 형성된 제1 캐리어층을 제거하여 그래핀 필름을 완성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.(a) preparing a material to which the first and second catalytic metal films are adhered to each other;
(b) forming first and second graphene layers on the surfaces of the first and second catalytic metal films;
(c) forming first and second carrier layers on the surfaces of the first and second graphene layers;
(d) adhering first and second release tapes to surfaces of the first and second carrier layers;
(e) separating the first and second catalyst metal films to provide first and second substrates;
(f) removing the first catalytic metal film formed on the first substrate;
(g) transferring the graphene film on the surface of the first graphene layer;
(h) removing the first release tape adhered to the first carrier layer; And
(i) removing the first carrier layer formed on the first graphene layer, thereby completing the graphene film.
상기 (a) 단계의 제1 및 제2 촉매금속막들 사이에 릴리스막을 구비하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
Graphene film manufacturing method characterized in that it comprises a release film between the first and second catalytic metal film of step (a).
상기 (b) 단계의 제1 및 제2 그래핀층들은 화학기상증착법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
The first and second graphene layer of step (b) is a graphene film manufacturing method, characterized in that formed by chemical vapor deposition.
상기 (c) 단계의 제1 및 제2 캐리어층들은 스크린 프린팅과 롤 코팅 중 하나를 이용하여 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
The first and second carrier layer of the step (c) is a graphene film manufacturing method, characterized in that it can be formed using one of the screen printing and roll coating.
상기 (d) 단계의 제1 및 제2 릴리스 테이프들은 상기 제1 및 제2 캐리어층들을 표면처리한 후에 접착하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
The first and second release tapes of the step (d) is a graphene film manufacturing method, characterized in that the adhesive after the surface treatment of the first and second carrier layers.
상기 (d) 단계의 제1 및 제2 릴리스 테이프들로써 열박리 테이프와 UV(Ultraviolet) 테이프 중 하나를 이용할 수 있는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
Method of producing a graphene film, characterized in that one of the heat release tape and UV (Ultraviolet) tape can be used as the first and second release tape of the step (d).
상기 (g) 단계의 제1 그래핀층의 표면을 플라즈마 처리한 후에 상기 그래핀막을 전사하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
The graphene film manufacturing method, characterized in that for transferring the graphene film after the plasma treatment of the surface of the first graphene layer of step (g).
상기 (h) 단계의 제1 릴리스 테이프를 제거한 후에 세정 및 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
And removing and rinsing and drying the first release tape of the step (h).
상기 (i) 단계의 제1 캐리어층을 제거한 후에 세정 및 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
Method of producing a graphene film, characterized in that further comprising the step of washing and drying after removing the first carrier layer of step (i).
상기 (i) 단계에서 완성된 그래핀 필름의 양면에 보호막들을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 필름 제조 방법.The method of claim 1,
Graphene film manufacturing method further comprises the step of forming protective films on both sides of the graphene film completed in the step (i).
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