KR20130074307A - Evaporation device for manufacturing of oled having apparatus for chucking and dechucking - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An organic light emitting device production system having a chucking and a dechucking device is provided to produce a large area organic light emitting device by organically connecting the chucking device part, and a deposition part, and a dechucking device part. CONSTITUTION: A chucking device part (120) chucks an object substrate with a chuck plate. A deposition part (130) performs a thin film deposition process on a chucked substrate transferred from the chucking device part. A dechucking device (150) dechucks a deposited substrate transferred from the deposition part. The dechucking device discharges a processed substrate to the outside. The dechucking device part moves a separated chuck plate to the chucking device again.

Description

척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템 {evaporation device for manufacturing of OLED having apparatus for chucking and dechucking}Organic light emitting device mass production system having chucking and dechucking device unit {evaporation device for manufacturing of OLED having apparatus for chucking and dechucking}

본 발명은 유기발광소자의 양산을 위한 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 척킹하는 장치부와, 기판에 박막을 증착하는 증착부 및 기판을 디척킹하는 장치부가 유기적으로 연결되어 유기발광소자를 양산할 수 있는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to a system for mass production of an organic light emitting device, and more particularly, an apparatus for chucking a substrate, an evaporation unit for depositing a thin film on the substrate, and an apparatus for dechucking the substrate are organically connected. It relates to an organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device portion capable of mass production.

일반적으로 유기발광소자(OLED : Organic Light Emitted Device)는, 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 자체발광형 증착물을 말한다.In general, an organic light emitting device (OLED) refers to a self-emitting deposition material that emits light by using an electroluminescence phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound.

유기발광소자를 이용한 디스플레이 소자는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박막으로 만들 수 있고, 넓은 시야각과 빠른 응답속도를 갖고 있어 일반 LCD와 달리 바로 옆에서 보아도 화질이 변하지 않음은 물론 화면에 잔상이 남지 않으며, 또한 소형 화면에서는 LCD 이상의 화질과 단순한 제조공정으로 인하여 유리한 가격 경쟁력을 갖는바, 차세대 디스플레이 소자로 주목받고 있다.The display device using the organic light emitting device can be driven at low voltage, can be made into a thin film, and has a wide viewing angle and fast response speed, unlike the general LCD, the image quality does not change even when viewed from the side, and afterimages remain on the screen. In addition, the small screen has an advantageous price competitiveness due to the image quality and simple manufacturing process than the LCD, attracting attention as a next-generation display device.

유기발광소자를 활용해 TV나 휴대전화의 디스플레이를 만들거나 조명 기구를 생산할 때 절대적으로 필요한 장비가 유기발광소자 제조용 증착장비이다.Evaporation equipment for manufacturing organic light emitting devices is an absolutely necessary equipment for making displays of TVs or mobile phones or producing lighting equipment using organic light emitting devices.

유기발광소자 제조용 증착장비는 피처리 기판에 유기물 등의 증착물질을 증착하여 박막을 형성하는데 사용되는 장비로서, 유기발광소자 생산을 위한 핵심 장비이다.Deposition equipment for manufacturing an organic light emitting device is a device used to form a thin film by depositing a deposition material, such as organic material on the substrate to be processed, is a key equipment for the production of an organic light emitting device.

유기발광소자 제조용 증착장비는 주로 진공 열 증착장비(Thermal evaporation system)가 이용된다. 즉, 유기발광소자는 주로 열 증착공정에 의하여 증착챔버 내에서 증착이 이루어진다.As a deposition equipment for manufacturing an organic light emitting device, a vacuum evaporation system is mainly used. That is, the organic light emitting device is mainly deposited in the deposition chamber by a thermal deposition process.

도 1은 종래의 일반적인 유기발광소자 제조용 증착장비를 나타낸 것으로서, 도시된 바와 같이, 증착챔버(10) 내 상부에는 피처리 기판(S)이 위치하고, 하부에는 증발원(20)이 설치되며, 이 증발원(20) 내의 도가니(22)에 담긴 파우더 형태의 증착물질(22a)이 증착챔버(10) 내부에서 증발하게 됨으로써, 상부의 피처리 기판(S) 표면에 닿아 응고되면서 박막이 증착된다.1 shows a conventional deposition apparatus for manufacturing a conventional organic light emitting device, as shown in the upper portion of the deposition chamber 10, the substrate S is disposed, the evaporation source 20 is installed at the bottom, the evaporation source The powder deposition material 22a contained in the crucible 22 in the 20 is evaporated in the deposition chamber 10, so that the thin film is deposited while contacting and solidifying the upper surface of the substrate S to be processed.

여기서, 증발원(20) 내에는 증착물질(22a)을 담은 도가니(22)가 설치되고, 이 도가니(22)의 주위에는 열선장치(24)가 구비됨으로써, 열선장치(24)에 전기를 공급함에 따라 열선이 저항가열되어 많은 복사열을 발산하게 되는바, 이 복사열에 의해 도가니(22)가 가열되면서 내부의 증착물질(22a)을 증발시키게 된다.Here, the crucible 22 containing the vapor deposition material 22a is installed in the evaporation source 20, and the hot wire device 24 is provided around the crucible 22 to supply electricity to the hot wire device 24. As a result, the heating wire is heated by resistance to emit a lot of radiant heat. The crucible 22 is heated by the radiant heat to evaporate the deposition material 22a therein.

한편, 피처리 기판(S)에 증착되는 박막의 두께를 조절하기 위하여 피처피 기판(S)과 증발원(20) 사이에는 개방 또는 폐쇄가 이루어지는 셔터(30)가 배치된다. 즉, 셔터(30)는 피처리 기판(S)에 대한 증착물질 증착시에는 개방이 이루어지고, 증착물질 증착이 완료되거나 일시 중단되는 경우에는 폐쇄가 이루어져서 더 이상 증착물질이 피처리 기판(S)의 표면에 증착되지 않도록 하는 기능을 담당한다.On the other hand, in order to control the thickness of the thin film deposited on the substrate S to be processed, the shutter 30 is opened or closed between the feature substrate S and the evaporation source 20. That is, the shutter 30 is opened when the deposition material is deposited on the substrate S, and when the deposition material deposition is completed or suspended, the shutter 30 is closed so that the deposition material is no longer the substrate S. It is responsible for preventing the deposition on the surface.

한편, 유기발광소자를 제조하기 위하여 피처리 기판(S)에 박막을 증착시킬 경우, 동시에 다수개의 유기발광소자를 제조하거나 또는 동시에 다수개의 유기발광소자를 제조하되 여러 종의 증착물질을 순차적으로 증착시키기 위하여 하나 이상의 증착챔버와, 반송챔버가 하나의 모듈로 이루어진 클러스터 타입(Cluster type) 증착장비가 제공되어 있다.Meanwhile, when the thin film is deposited on the substrate S in order to manufacture the organic light emitting device, a plurality of organic light emitting devices may be manufactured at the same time or a plurality of organic light emitting devices may be manufactured at the same time, but various kinds of deposition materials may be sequentially deposited. In order to achieve this, there is provided a cluster type deposition apparatus comprising one or more deposition chambers and a transfer chamber as one module.

피처리 기판은 마스크와 합착된 상태에서 증착이 이루어지는데, 증착챔버 내에 마스크가 세팅되어 있는 조건에서 피처리 기판만 투입하는 방식과, 증착챔버 외부에서 피처리 기판과 마스크를 합착하여 증착챔버 내에 투입하는 방식 등이 있다.The substrate to be processed is deposited in a state in which the substrate is bonded to the mask, and only the substrate to be processed is placed under the condition that the mask is set in the deposition chamber, and the substrate and the mask are put together in the deposition chamber outside the deposition chamber. And the like.

어느 경우든 피처리 기판은 처짐방지를 위하여 지지모듈에 척킹한 상태에서 증착챔버 내로 투입되는 것이 일반적이다.In any case, the substrate to be processed is generally introduced into the deposition chamber while being chucked to the support module to prevent sag.

피처리 기판을 지지모듈에 세팅하는 방식은 여러 가지 방식이 있는데, 그 중 하나가 점착 플레이트를 이용한 방식으로, 점착 플레이트에 피처리 기판을 고정한 상태로 증착챔버 내에 투입하고, 증착챔버 내의 고진공 환경에서 기판에 유기물질을 증착하게 된다.There are several ways to set the substrate to be supported on the support module, one of which uses an adhesive plate, which is placed in the deposition chamber with the substrate to be fixed to the adhesive plate, in a high vacuum environment in the deposition chamber. The organic material is deposited on the substrate.

이러한 점착 플레이트를 이용하여 피처리 기판을 척킹/디척킹 하는 방식은, 기판이 대형화됨에 따라 더욱 요구되고 있는 실정이다.
The method of chucking / dechucking a substrate to be processed using such an adhesive plate is increasingly required as the substrate is enlarged.

그러나, 피처리 기판에 점착 플레이트와 같은 지지모듈을 척킹하고, 증착장비 내에서의 증착공정 후, 다시 지지모듈을 디척킹하는 방식은, 그 공정이 매우 번거롭기 때문에 낱개씩의 피처리 기판만을 증착할 경우에만 가능하고, 다수의 피처리 기판을 연속해서 증착하는 양산방식에는 적용되기에 어려운 문제점이 있었다.However, the method of chucking a supporting module, such as an adhesive plate, to a substrate to be processed and then dechucking the supporting module again after a deposition process in a deposition apparatus is very cumbersome, so that only individual substrates can be deposited. Only in this case, there was a problem that is difficult to apply to the mass production method of continuously depositing a plurality of substrates to be processed.

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점에 착안하여 안출된 것으로서, 기판을 척킹하는 장치부와, 기판에 박막을 증착하는 증착부 및 기판을 디척킹하는 장치부가 유기적으로 연결되어 유기발광소자를 양산할 수 있는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an apparatus unit for chucking a substrate, a deposition unit for depositing a thin film on a substrate, and an apparatus unit for dechucking a substrate are organically connected to mass-produce an organic light emitting device. An object of the present invention is to provide an organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템은, 피처리 기판의 전처리부와; 상기 전처리부로부터 이송되는 피처리 기판을 척 플레이트와 척킹시키는 척킹 장치부와; 상기 척킹 장치부로부터 이송되는 척킹 기판에 박막 증착공정을 수행하는 증착부와; 상기 증착부로부터 이송되는 증착 완료된 척킹 기판을 디척킹시킨 후, 처리 기판은 외부로 배출시키고 분리된 척 플레이트는 다시 상기 척킹 장치부로 이송시키는 디척킹 장치부를 포함하는 것을 특징으로 한다.An organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device unit according to the present invention for achieving the above object is a pre-treatment unit of the substrate to be processed; A chucking device unit for chucking the substrate to be processed transferred from the pretreatment unit with the chuck plate; A deposition unit performing a thin film deposition process on the chucking substrate transferred from the chucking unit; After dechucking the deposited chucking substrate transferred from the deposition unit, the processing substrate may be discharged to the outside and the separated chuck plate may include a dechucking device unit for transferring back to the chucking device unit.

여기서, 상기 전처리부는, 피처리 기판을 낱개씩 로딩하는 로딩 챔버와; 상기 피처리 기판을 히팅시키는 하나 이상의 히팅 챔버와; 상기 로딩 챔버 및 히팅 챔버에서 피처리 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 구성일 수 있다.Here, the pretreatment unit, a loading chamber for loading the substrate to be processed individually; One or more heating chambers for heating the substrate to be processed; The loading chamber and the heating chamber may be configured to include a transfer chamber for carrying in, out the substrate to be processed.

특히, 상기 로딩 챔버 및 히팅 챔버는, 상기 반송챔버의 둘레면에 설치되고, 상기 반송챔버의 둘레면에는 냉각 챔버, 파손된 피처리 기판을 반입하는 파손 기판 챔버, 적체되는 피처리 기판을 임시로 보관하는 보관 챔버 중, 적어도 어느 하나가 더 설치될 수 있다.In particular, the loading chamber and the heating chamber are provided on a circumferential surface of the conveyance chamber, and a circumferential surface of the conveyance chamber is temporarily provided with a cooling chamber, a damaged substrate chamber into which a damaged substrate is to be loaded, and a substrate to be stacked. At least one of the storage chambers for storing may be further installed.

또한, 상기 척킹 장치부는, 상기 척 플레이트가 반입,반출되되, 상기 전처리부로부터 이송된 피처리 기판과 상기 척 플레이트를 척킹하는 하나 이상의 척킹 챔버와; 상기 척킹 챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 척킹 챔버로 척 플레이트, 피처리 기판, 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 구성인 것이 바람직하다.The chucking device may further include at least one chucking chamber into which the chuck plate is carried in or out, and chucks the substrate to be processed and the chuck plate transferred from the pretreatment unit; Preferably, the chucking chamber is provided at a circumferential surface thereof and includes a transfer chamber for carrying in and carrying out the chuck plate, the substrate to be processed, and the chucking substrate to the chucking chamber.

또, 상기 증착부는, 상기 척킹 장치부로부터 이송되는 척킹 기판에 박막 증착공정을 수행하는 하나 이상의 증착챔버와; 상기 증착챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 증착챔버로 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 구성인 것이 더욱 바람직하다.The deposition unit may include one or more deposition chambers for performing a thin film deposition process on the chucking substrate transferred from the chucking unit; More preferably, the deposition chamber is provided at a circumferential surface thereof and includes a transport chamber for carrying in and carrying out the chucking substrate to the deposition chamber.

이 경우, 상기 증착부의 반송챔버 둘레면에는, 상기 증착챔버로 마스크를 공급하기 위한 마스크 챔버가 하나 이상 설치되는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that at least one mask chamber for supplying a mask to the deposition chamber is provided on the transfer chamber circumferential surface of the deposition unit.

한편, 상기 척킹 장치부와, 상기 증착부는 버퍼 챔버에 의해 연결되며, 상기 버퍼 챔버에는 척킹 기판을 180도 반전시키기 위한 제1반전부가 설치되는 것이 바람직하다.On the other hand, the chucking device and the deposition unit is connected by a buffer chamber, the buffer chamber is preferably provided with a first inverting portion for inverting the chucking substrate by 180 degrees.

또한, 상기 디척킹 장치부는, 상기 증착부로부터 이송되는 증착 완료된 척킹 기판을 처리 기판과 척 플레이트로 디척킹하는 하나 이상의 디척킹 챔버와; 상기 디척킹 챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 디척킹 챔버로 척킹 기판 또는 디척킹된 처리 기판과 척 플레이트를 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 구성일 수 있다.The dechucking apparatus may further include one or more dechucking chambers for dechucking the deposited chucking substrate transferred from the deposition unit to a processing substrate and a chuck plate; The dechucking chamber may be installed at a circumferential surface thereof, and may include a transport chamber for carrying in and carrying out a chucking substrate or a dechucked processing substrate and a chuck plate into the dechucking chamber.

이 경우, 상기 반송챔버의 둘레면에는 여분의 척 플레이트가 적층되는 스페어 척 챔버가 설치되는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that a spare chuck chamber in which an extra chuck plate is stacked is provided on the circumferential surface of the transfer chamber.

한편, 상기 증착부와, 상기 디척킹 장치부는 버퍼 챔버에 의해 연결되며, 상기 버퍼 챔버에는 증착 완료된 척킹 기판을 180도 반전시키기 위한 제2반전부가 설치되는 것이 바람직하다.On the other hand, the deposition unit and the dechucking device unit is connected by a buffer chamber, the buffer chamber is preferably provided with a second inverting unit for inverting the deposited chucking substrate 180 degrees.

또한, 상기 디척킹 장치부와, 척킹 장치부는 이송라인에 의해 연결되며, 상기 디척킹 장치부에서 디척킹된 척 플레이트는 상기 척킹 장치부로 순차적으로 이송되는 것이 바람직하다.The dechucking device unit and the chucking device unit may be connected by a transfer line, and the chucking plate dechucked by the dechucking device unit may be sequentially transferred to the chucking device unit.

참고로, 상기 하나 이상의 증착챔버와, 상기 반송챔버는 하나의 모듈로 이루어지고, 상기 모듈이 적어도 하나 이상 구비되되, 상기 모듈들이 버퍼 챔버에 의해 연결되어 다단의 모듈로 구성될 수 있다.
For reference, the one or more deposition chambers and the transfer chamber is composed of a single module, at least one module is provided, the modules are connected by a buffer chamber may be composed of a multi-stage module.

이상에서와 같이, 본 발명에 따른 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템에 의하면, 전처리 과정을 거친 피처리 기판이 척 플레이트와 척킹되고, 척킹 기판이 반전되어 증착부에서 박막 증착공정이 이루어진 후, 증착 완료된 척킹 기판이 다시 반전되어 디척킹 된 다음, 처리 기판은 외부로 배출되고 척 플레이트는 다시 피처리 기판과 척킹되도록 반송되는 과정이 유기적으로 연속됨으로써, 척킹 및 디척킹 되는 대면적의 유기발광소자 양산이 가능해지게 되는 효과가 제공된다.
As described above, according to the organic light emitting device mass production system having the chucking and dechucking device unit according to the present invention, the substrate to be processed has been chucked with the chuck plate, the chucking substrate is inverted and the thin film deposition process in the deposition unit is performed. After the deposition, the deposited chucking substrate is inverted again and dechucked, and then the processing substrate is discharged to the outside and the chuck plate is organically continued so as to be chucked with the substrate to be processed again, thereby chucking and dechucking a large area. The effect of allowing mass production of the organic light emitting device is provided.

도 1은 종래의 박막 증착장비 내부 구성을 개략적으로 도시한 구성도.
도 2는 본 발명에 따른 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템의 구성도.
Figure 1 is a schematic diagram showing the internal configuration of a conventional thin film deposition equipment.
Figure 2 is a block diagram of an organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템의 구성도이다.2 is a block diagram of an organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device according to the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템(100)은, 피처리 기판의 전처리부(110)를 포함한다.As shown, the organic light emitting device mass production system 100 having the chucking and dechucking device unit according to the present invention includes a pretreatment unit 110 of the substrate to be processed.

전처리부(110)는 복수의 피처리 기판들 중, 낱개씩의 피처리 기판을 로딩하는 로딩 챔버(111)와, 낱개씩 로딩된 피처리 기판을 히팅시키는 히팅 챔버(112)를 포함하여 구성된다.The pretreatment unit 110 is configured to include a loading chamber 111 for loading each of the plurality of substrates to be processed, and a heating chamber 112 for heating the substrates to be loaded individually. .

여기서 히팅 챔버(112)는 하나 또는 복수개가 설치될 수 있으며, 로딩 챔버(111)와 히팅 챔버(112)는 피처리 기판을 반입,반출하는 반송챔버(116)의 둘레면에 설치되어 클러스터 타입으로 이루어져 있다.Here, one or more heating chambers 112 may be installed. The loading chambers 111 and the heating chambers 112 may be installed on the circumferential surface of the transfer chamber 116 for carrying in and out of the substrate. consist of.

상기 전처리부(110)의 반송챔버(116) 둘레면에는 피처리 기판을 냉각시키기 위한 냉각 챔버(113)와, 파손된 피처리 기판을 반입하여 외부로 배출시키는 파손 기판 챔버(114), 적체되는 피처리 기판을 임시로 보관하는 보관 챔버(115)도 설치될 수 있다.On the circumferential surface of the transfer chamber 116 of the pretreatment unit 110, a cooling chamber 113 for cooling the substrate to be processed, and a damaged substrate chamber 114 for carrying in the damaged substrate to be discharged to the outside, and accumulated A storage chamber 115 for temporarily storing a substrate to be processed may also be installed.

이와 같이, 반송챔버(116), 하나 이상의 히팅 챔버(112), 냉각 챔버(113), 파손 기판 챔버(114), 보관 챔버(115) 및 로딩 챔버(111) 등으로 구성되는 전처리부(110)는 버퍼 챔버(117)에 의해 척킹 장치부(120)와 연결된다.As such, the pretreatment unit 110 includes the transfer chamber 116, one or more heating chambers 112, a cooling chamber 113, a damaged substrate chamber 114, a storage chamber 115, a loading chamber 111, and the like. Is connected to the chucking device unit 120 by the buffer chamber 117.

척킹 장치부(120)는, 후술되는 디척킹 장치부(150)로부터 이송되는 척 플레이트(P)와, 전처리부(110)로부터 이송되는 피처리 기판을 척킹하는 장치부로서, 척 플레이트(P)가 반입,반출되되, 전처리부(110)로부터 이송된 피처리 기판과 상기 척 플레이트(P)를 척킹시키는 하나 이상의 척킹 챔버(122)와, 이 척킹 챔버(122)가 그 둘레면에 설치되어, 상기 척킹 챔버(122)로 척 플레이트 또는 상기 척 플레이트와 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버(124)로 구성되어 있다.The chucking device part 120 is a device part for chucking the chuck plate P conveyed from the dechucking device part 150 mentioned later and the to-be-processed substrate conveyed from the preprocessing part 110, The chuck plate P Is carried in and out, one or more chucking chambers 122 for chucking the substrate to be transferred from the pretreatment unit 110 and the chuck plate P, and the chucking chambers 122 are installed on the circumferential surface thereof, The chucking chamber 122 includes a chuck plate or a transfer chamber 124 for carrying in and out of the chuck plate and the chucking substrate.

여기서, 척킹 챔버(122) 또한 하나 이상이 반송챔버(124)의 둘레면에 설치되어 클러스터 타입으로 이루어져 있다.Here, one or more chucking chambers 122 are also installed on the circumferential surface of the transfer chamber 124 to form a cluster type.

이와 같이, 반송챔버(124)와, 복수의 척킹 챔버(122)로 구성되는 척킹 장치부(120)는 버퍼 챔버(126)에 의해 증착부(130)와 연결된다.In this manner, the chucking device unit 120 including the transfer chamber 124 and the plurality of chucking chambers 122 is connected to the deposition unit 130 by the buffer chamber 126.

척킹 장치부(120)와 증착부(130)를 연결하는 버퍼 챔버(126)에는 척킹 기판이 반전되도록 180도 회전시키는 제1반전기(128)가 설치되어 있다.The buffer chamber 126 connecting the chucking device 120 and the deposition unit 130 is provided with a first inverter 128 for rotating the chucking substrate by 180 degrees.

즉, 척킹 장치부(120)에서는 척 플레이트가 하부에 놓인 상태에서 피처리 기판이 상부에 위치되게 척킹이 이루어지는데 반해, 증착부(130)에서는 피처리 기판이 하부에 위치되어야 함으로써, 척킹 장치부(120)와 증착부(130)를 연결하는 버퍼 챔버(126)에는 제1반전기(128)를 설치하여 척킹 기판을 반전시키게 된다.That is, in the chucking device unit 120, the chucking is performed such that the substrate to be processed is positioned in the upper state while the chuck plate is placed in the lower portion, whereas in the deposition unit 130, the substrate to be processed is to be positioned in the lower portion, so that the chucking device unit The first chamber 128 is installed in the buffer chamber 126 connecting the 120 and the deposition unit 130 to invert the chucking substrate.

증착부(130)는, 척킹 장치부(120)로부터 이송되는 척킹 기판을 마스크와 합착시킨 상태에서 박막 증착공정을 수행하는 증착챔버(132)와, 이 증착챔버(132)가 그 둘레면에 설치되어, 상기 증착챔버(132)로 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버(134)를 포함하여 구성된다.The deposition unit 130 includes a deposition chamber 132 for performing a thin film deposition process in a state in which the chucking substrate transferred from the chucking device unit 120 is bonded to a mask, and the deposition chamber 132 is installed on a circumferential surface thereof. And a transfer chamber 134 for carrying in and carrying out the chucking substrate to the deposition chamber 132.

여기서, 증착챔버(132) 또한 하나 이상이 반송챔버(134)의 둘레면에 설치되어 클러스터 타입으로 이루어져 있으며, 반송챔버(134)의 둘레면에는 마스크를 보관하고 있다가 증착챔버(132)로 마스크를 공급하는 하나 이상의 마스크 챔버(136)가 설치될 수 있다.Here, at least one deposition chamber 132 is also provided on the circumferential surface of the transfer chamber 134 to form a cluster type, and a mask is stored on the circumferential surface of the transfer chamber 134 and then masked by the deposition chamber 132. One or more mask chambers 136 may be installed.

이와 같이, 마스크 챔버(136)가 설치될 경우, 증착챔버(132) 내로 척킹 기판과 마스크가 동시에 증착챔버(132)로 반입될 수 있고, 척킹 기판의 반입에 상관없이 증착챔버(132) 내로 마스크를 미리 반입시켜 로딩시켜 놓을 수도 있다.As such, when the mask chamber 136 is installed, the chucking substrate and the mask may be simultaneously brought into the deposition chamber 132 into the deposition chamber 132, and the mask may be masked into the deposition chamber 132 regardless of the chucking substrate. Can also be loaded by loading in advance.

한편, 상기와 같은 구성으로 이루어지는 클러스터 타입 증착부(130)는, 증착챔버(132)와, 반송챔버(134)가 하나의 모듈로 이루어지고, 이러한 모듈이 적어도 하나 이상 구비되되, 상기 모듈들이 버퍼 챔버(도면부호 미부여)에 의해 연결되어 다단의 모듈로 구성될 수 있다.On the other hand, the cluster type deposition unit 130 having the configuration described above, the deposition chamber 132 and the transfer chamber 134 is composed of one module, at least one such module is provided, the modules are buffered Connected by a chamber (not shown) it can be configured as a multi-stage module.

상기 모듈이 다단으로 구성되는 경우, 다단의 모듈들 중, 선단에 위치하는 모듈의 반송챔버 둘레변에는 척킹 장치부(120)와 제1반전기(128)가 설치된 버퍼 챔버(126)와 연결되고, 후단에 위치하는 모듈의 반송챔버 둘레변에는 증착이 최종 완료된 척킹 기판을 후술되는 디척킹 장치부(150)와 제2반전기(142)가 설치된 버퍼 챔버(140)와 연결된다.When the module is configured in multiple stages, among the modules of the multiple stages, a circumferential side of the transfer chamber of the module located at the front end is connected to the buffer chamber 126 in which the chucking device unit 120 and the first reversing unit 128 are installed. On the periphery of the transfer chamber of the module located at the rear end, the chucking substrate on which deposition is finally completed is connected to the buffer chamber 140 provided with the dechucking device unit 150 and the second reversing unit 142 which will be described later.

이와 같이, 상기 모듈을 다단으로 구성하게 되면, 피처리 기판에 여러 종의 증착 물질을 증착시킬 경우 매우 유용하게 된다.As such, when the module is configured in multiple stages, it is very useful to deposit various kinds of deposition materials on a substrate to be processed.

예컨대, 다단의 모듈들 중, 선단에 위치하는 모듈에서 어느 하나의 피처리 기판에 갑종 및/또는 을종의 증착물질이 증착되고, 후단에 위치하는 모듈에서 병종 및/또는 정종의 증착물질이 증착되는 등, 여러 종의 증착 물질을 증착할 수 있게 된다.For example, among the multi-stage modules, first and / or second deposition materials are deposited on any one of the substrates in the module located at the front end, and the second and next deposition materials are deposited in the module located at the rear end. And various kinds of deposition materials can be deposited.

참고로, 본 발명의 실시 도면에서 상기 모듈(유기발광소자 양산용 클러스터 타입 증착부(130))이 복수의 버퍼 챔버들에 의해 5개 연결,설치된 것으로 나타냈으나, 상기 모듈들은 복수의 버퍼 챔버들에 의해 여러 단으로 연결,설치될 수 있다.For reference, in the exemplary embodiment of the present invention, the modules (organic light emitting device mass production cluster type deposition unit 130) are shown as being connected and installed by a plurality of buffer chambers, but the modules are a plurality of buffer chambers. Can be connected and installed in multiple stages.

한편, 증착부(130)가 다단의 모듈로 이루어질 경우, 후단에 위치하는 증착부(130)는 앞서 언급한 바와 같이 버퍼 챔버(140)에 의해 디척킹 장치부(150)와 연결되어 있다.On the other hand, when the deposition unit 130 is formed of a multi-stage module, the deposition unit 130 located at the rear end is connected to the dechucking device unit 150 by the buffer chamber 140 as described above.

증착부(130)와 디척킹 장치부(150) 연결하는 버퍼 챔버(140)에는 증착 완료된 척킹 기판이 반전되도록 180도 회전시키는 제2반전기(142)가 설치되어 있다.In the buffer chamber 140 connecting the deposition unit 130 and the dechucking device unit 150, a second inverter 142 is rotated 180 degrees so that the deposited chucking substrate is inverted.

즉, 증착부(130)에서는 척 플레이트가 상부에 놓인 상태에서 처리 기판이 하부에 위치되게 척킹된 상태인데 반해, 디척킹 장치부(150)에서는 상기 척 플레이트와 처리 기판을 디척킹 하기 위해서 척 플레이트가 상부에 위치되어야 함으로써, 증착부(130)와 디척킹 장치부(150)를 연결하는 버퍼 챔버(140)에는 제2반전기(142)를 설치하여 증착 완료된 척킹 기판을 반전시키게 된다.That is, in the deposition unit 130, the processing substrate is chucked so that the processing substrate is positioned at the lower state while the chuck plate is placed on the upper side, whereas in the dechucking device unit 150, the chuck plate and the processing substrate are dechucked to dechuck. Since the upper portion is located at the top, the second chamber 142 is installed in the buffer chamber 140 connecting the deposition unit 130 and the dechucking device unit 150 to invert the deposited chucking substrate.

디척킹 장치부(150)는, 증착부(130)로부터 이송되는 증착 완료된 척킹 기판에서 처리 기판과 척 플레이트를 디척킹 하는 디척킹 챔버(152)와, 이 디척킹 챔버(152)가 그 둘레면에 설치되어, 상기 디척킹 챔버(152)로 증착 완료된 척킹 기판 또는 처리 기판 또는 척 플레이트를 반입,반출시키는 반송챔버(156)를 포함하여 구성된다.The dechucking device unit 150 includes a dechucking chamber 152 for dechucking the processing substrate and the chuck plate from the deposited chucking substrate transferred from the deposition unit 130, and the dechucking chamber 152 has a circumferential surface thereof. It is installed in the, the dechucking chamber 152 is configured to include a conveying chamber 156 for carrying in and out the deposited chucking substrate or processing substrate or chuck plate.

여기서 디척킹 챔버(152)는 하나 또는 복수개가 설치될 수 있으며, 반송챔버(156)의 둘레면에 설치되어 클러스터 타입으로 이루어져 있다.Here, one or more dechucking chambers 152 may be installed. The dechucking chamber 152 may be installed on the circumferential surface of the transfer chamber 156 to form a cluster type.

상기 디척킹 챔버(152)의 반송챔버(156) 둘레면에는 복수의 척 플레이트를 보관하는 스페어 척 챔버(154)도 설치될 수 있다.A spare chuck chamber 154 for storing a plurality of chuck plates may also be installed on the circumferential surface of the transfer chamber 156 of the dechucking chamber 152.

한편, 디척킹 장치부(150)와 척킹 장치부(120)는 이송라인(160)으로 연결되어 있으며, 이 이송라인(160)을 통해 디척킹 장치부(150)에서 처리 기판과 디척킹된 척 플레이트는 다음 공정을 위하여 척킹 장치부(120)로 이송된다.
Meanwhile, the dechucking device unit 150 and the chucking device unit 120 are connected to the transfer line 160, and the dechucking device unit 150 is dechucked with the processing substrate in the dechucking device unit 150 through the transfer line 160. The plate is transferred to the chucking device portion 120 for the next process.

상기와 같은 구성으로 이루어진 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템(100)의 작동관계를 설명하면 다음과 같다.Referring to the operational relationship of the organic light emitting device mass production system 100 having the chucking and dechucking device portion made of the above configuration as follows.

먼저, 전처리부(110)의 로딩 챔버(111)를 통해 낱개씩 로딩되는 피처리 기판은 반송챔버(116)에 의해 순차적으로 히팅 챔버(112) 및 냉각 챔버(113) 등을 거쳐 전처리 과정을 거친 후, 버퍼 챔버(117)를 통과하여 척킹 장치부(120)로 이송된다.First, the substrates to be individually loaded through the loading chamber 111 of the pretreatment unit 110 are subjected to the pretreatment process through the heating chamber 112 and the cooling chamber 113 sequentially by the transfer chamber 116. Then, it is transferred to the chucking device unit 120 through the buffer chamber 117.

이때, 반송챔버(116)에 의해 전처리 과정을 거치는 피처리 기판들 중, 파손이 이루어진 피처리 기판은 파손 기판 챔버(114)를 통해 외부로 배출되고, 전처리 과정 중 적체되는 피처리 기판은 보관 챔버(115)로 임시 반입된 후, 로딩 챔버(111)로부터 로딩되는 피처리 기판이 없거나 줄어들 경우 다시 반출되어 전처리 과정을 거치게 된다.At this time, of the substrates subjected to the pretreatment by the transfer chamber 116, the damaged substrates are discharged to the outside through the damaged substrate chamber 114, and the substrates stacked during the pretreatment process are stored in the storage chamber. After the temporary loading into the 115, if the substrate to be loaded from the loading chamber 111 is missing or reduced, it is again taken out and subjected to a pretreatment process.

전처리 과정을 거친 피처리 기판은 버퍼 챔버(117)에 의해 척킹 장치부(120)로 이송되고, 척킹 장치부(120)의 반송챔버(124)는 피처리 기판을 각각의 척킹 챔버(122)로 반입시킨다.The pre-processed substrate is transferred to the chucking unit 120 by the buffer chamber 117, and the transfer chamber 124 of the chucking unit 120 transfers the substrate to each chucking chamber 122. Bring in.

각각의 척킹 챔버(122)에서 척 플레이트와 피처리 기판이 척킹되고, 척킹 기판은 다시 버퍼 챔버(126)를 통해 증착부(130)로 이송된다. 이때, 상기 버퍼 챔버(126)에 설치된 제1반전기(128)에 의해 척킹 기판은 180도 회전하여 반전된 상태 즉, 피처리 기판이 하부에 위치되고 척 플레이트가 상부에 위치된 상태로 반전된 후 이송된다.In each chucking chamber 122, the chuck plate and the substrate to be processed are chucked, and the chucking substrate is transferred back to the deposition unit 130 through the buffer chamber 126. In this case, the chucking substrate is inverted by being rotated 180 degrees by the first inverter 128 installed in the buffer chamber 126, that is, the substrate to be processed is located below and the chuck plate is inverted. Are then transported.

이와 같이, 반전되어 이송된 척킹 기판은 증착부(130)의 반송챔버(134)에 의해 증착챔버(132)로 반입된다.As such, the chucking substrate that is inverted and transferred is carried into the deposition chamber 132 by the transfer chamber 134 of the deposition unit 130.

여기서, 증착챔버(132)에는 마스크 챔버(136)로부터 공급받은 마스크가 로딩되어 있는바, 척킹 기판은 마스크와 합착된 상태에서 박막의 증착공정이 이루어지게 된다.Here, the mask supplied from the mask chamber 136 is loaded in the deposition chamber 132, and the chucking substrate is deposited with the mask in a state where the thin film is deposited.

증착부(130)는 앞서 언급한 바와 같이, 다단의 모듈로 구성될 수 있는바, 여러 종의 증착물질의 증착공정을 연속해서 수행할 수 있으며, 단일 종의 증착물질을 증착하고자 할 경우에는 동시에 다량의 피처리 기판을 증착할 수 있게 된다.As described above, the deposition unit 130 may be configured as a multi-stage module, and may continuously perform the deposition process of various kinds of deposition materials. It is possible to deposit a large amount of the substrate to be processed.

후단의 증착부(130)에서 증착이 완료된 척킹 기판은 버퍼 챔버(140)를 통과하여 디척킹 장치부(150)로 이송된다. 이때, 상기 버퍼 챔버(140)에 설치된 제2반전기(142)에 의해 증착 완료된 척킹 기판은 180도 회전하여 반전된 상태 즉, 처리 기판이 상부에 위치되고 척 플레이트가 하부에 위치된 상태로 반전된 후 이송된다.The chucking substrate on which deposition is completed in the subsequent deposition unit 130 passes through the buffer chamber 140 and is transferred to the dechucking device unit 150. At this time, the chucking substrate which has been deposited by the second inverter 142 installed in the buffer chamber 140 is inverted by being rotated 180 degrees, that is, the processing substrate is positioned at the top and the chuck plate is inverted. Is then transported.

이와 같이, 디척킹 장치부(150)로 이송된 증착 완료된 척킹 기판은 반송챔버(156)에 의해 각각의 디척킹 챔버(152)로 반입되고, 디척킹 챔버(152)에서는 척 플레이트로부터 처리 기판을 디척킹하여 다시 반송챔버(156)로 반출하게 된다.As such, the deposited chucking substrate transferred to the dechucking device unit 150 is carried into each dechucking chamber 152 by the transfer chamber 156, and the processing substrate is removed from the chuck plate in the dechucking chamber 152. Dechucking is carried out to the conveying chamber 156 again.

이에, 반송챔버(156)는 증착공정이 완료된 처리 기판을 외부로 배출시키고, 척 플레이트(P)는 이송라인(160)을 통해 다시 척킹 장치부(120)로 이송시킴으로써, 척킹 및 디척킹이 이루어지는 유기발광소자의 연속 생산 즉, 양산이 이루어지게 된다.Accordingly, the transfer chamber 156 discharges the processed substrate after the deposition process is completed, and the chuck plate P is transferred back to the chucking device unit 120 through the transfer line 160, whereby chucking and dechucking are performed. Continuous production, or mass production, of the organic light emitting device is achieved.

이때, 디척킹 챔버(152)에서 디척킹 되는 공정이 늦어져서, 척킹 장치부(120)로 척 플레이트(P)를 이송시키는 것이 늦어지면, 스페어 척 챔버(154)에 적재된 여분의 척 플레이트가 반출되어 이송라인(160)을 통해 척킹 장치부(120)로 이송될 수 있다.At this time, when the process of dechucking in the dechucking chamber 152 is delayed and it is delayed to transfer the chuck plate P to the chucking device 120, the extra chuck plate loaded in the spare chuck chamber 154 is It may be taken out and transferred to the chucking device unit 120 through the transfer line 160.

참고로, 본 발명의 실시 예에서 기판과 척킹 또는 디척킹이 이루어지는 척 플레이트는 정전척 또는 점착척 등 종래의 공지된 척이라면 어떠한 것이라도 적용가능함을 밝혀둔다.
For reference, in the exemplary embodiment of the present invention, the chuck plate in which the substrate is chucked or dechucked is applicable to any conventional chuck, such as an electrostatic chuck or an adhesive chuck.

이상에서와 같은 본 발명의 실시 예에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수도 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시 예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
Technical ideas described in the embodiments of the present invention as described above may be implemented independently, or may be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

100 : 유기발광소자 양산 시스템 110 : 전처리부
111 : 로딩 챔버 112 : 히팅 챔버
113 : 냉각 챔버 114 : 파손 기판 챔버
115 : 보관 챔버 116 : 반송챔버
117 : 버퍼 챔버 120 : 척킹 장치부
122 : 척킹 챔버 124 : 반송챔버
126 : 버퍼 챔버 128 : 제1반전기
130 : 증착부 132 : 증착챔버
134 : 반송챔버 136 : 마스크 챔버
140 : 버퍼 챔버 142 : 제2반전기
150 : 디척킹 장치부 152 : 디척킹 챔버
154 : 스페어 척 챔버 156 : 반송챔버
160 : 이송라인 P : 척 플레이트
100: mass production system of organic light emitting device 110: pretreatment unit
111: loading chamber 112: heating chamber
113: cooling chamber 114: damaged substrate chamber
115: storage chamber 116: conveying chamber
117: buffer chamber 120: chucking device
122: chucking chamber 124: conveying chamber
126: buffer chamber 128: first semi-circular
130: deposition unit 132: deposition chamber
134: conveying chamber 136: mask chamber
140: buffer chamber 142: second semi-circuit
150 dechucking device unit 152 dechucking chamber
154: spare chuck chamber 156: conveying chamber
160: transfer line P: chuck plate

Claims (12)

피처리 기판의 전처리부와;
상기 전처리부로부터 이송되는 피처리 기판을 척 플레이트와 척킹시키는 척킹 장치부와;
상기 척킹 장치부로부터 이송되는 척킹 기판에 박막 증착공정을 수행하는 증착부와;
상기 증착부로부터 이송되는 증착 완료된 척킹 기판을 디척킹시킨 후, 처리 기판은 외부로 배출시키고 분리된 척 플레이트는 다시 상기 척킹 장치부로 이송시키는 디척킹 장치부를 포함하는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
A pretreatment unit of the substrate to be processed;
A chucking device unit for chucking the substrate to be processed transferred from the pretreatment unit with the chuck plate;
A deposition unit performing a thin film deposition process on the chucking substrate transferred from the chucking unit;
After dechucking the deposited chucking substrate transferred from the deposition unit, the chucking and dechucking device comprises a dechucking device unit for discharging the processed substrate to the outside and separating the chuck plate back to the chucking device unit. An organic light emitting device mass production system having a portion.
제 1항에 있어서,
상기 전처리부는,
피처리 기판을 낱개씩 로딩하는 로딩 챔버와;
상기 피처리 기판을 히팅시키는 하나 이상의 히팅 챔버와;
상기 로딩 챔버 및 히팅 챔버에서 피처리 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The pre-
A loading chamber which individually loads the substrate to be processed;
One or more heating chambers for heating the substrate to be processed;
An organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device, characterized in that it comprises a transfer chamber for carrying in and out of the substrate to be processed in the loading chamber and the heating chamber.
제 2항에 있어서,
상기 로딩 챔버 및 히팅 챔버는, 상기 반송챔버의 둘레면에 설치되고, 상기 반송챔버의 둘레면에는 냉각 챔버, 파손된 피처리 기판을 반입하는 파손 기판 챔버, 적체되는 피처리 기판을 임시로 보관하는 보관 챔버 중, 적어도 어느 하나가 더 설치되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 2,
The loading chamber and the heating chamber are installed on a circumferential surface of the transfer chamber, and a circumferential surface of the transfer chamber temporarily stores a cooling chamber, a damaged substrate chamber into which a damaged substrate is to be processed, and a stacked substrate to be stored. At least one of the storage chamber, the organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device, characterized in that further installed.
제 1항에 있어서,
상기 척킹 장치부는,
상기 척 플레이트가 반입,반출되되, 상기 전처리부로부터 이송된 피처리 기판과 상기 척 플레이트를 척킹하는 하나 이상의 척킹 챔버와;
상기 척킹 챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 척킹 챔버로 척 플레이트, 피처리 기판, 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The chucking device unit,
At least one chucking chamber into which the chuck plate is loaded and unloaded, and which chucks the substrate to be processed and the chuck plate transferred from the pretreatment unit;
The chucking chamber is installed on the circumferential surface thereof, the organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device portion, characterized in that it comprises a conveying chamber for carrying in and out of the chuck plate, the substrate to be processed, the chucking substrate to the chucking chamber. .
제 1항에 있어서,
상기 증착부는,
상기 척킹 장치부로부터 이송되는 척킹 기판에 박막 증착공정을 수행하는 하나 이상의 증착챔버와;
상기 증착챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 증착챔버로 척킹 기판을 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The deposition unit,
At least one deposition chamber configured to perform a thin film deposition process on the chucking substrate transferred from the chucking unit;
The deposition chamber is installed on the circumferential surface, the organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device portion, characterized in that it comprises a conveying chamber for carrying in and out the chucking substrate to the deposition chamber.
제 5항에 있어서,
상기 증착부의 반송챔버 둘레면에는, 상기 증착챔버로 마스크를 공급하기 위한 마스크 챔버가 하나 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
6. The method of claim 5,
At least one mask chamber for supplying a mask to the deposition chamber is provided on the circumferential surface of the transfer chamber of the deposition unit, the organic light emitting device mass production system having a chucking and dechucking device.
제 1항에 있어서,
상기 척킹 장치부와, 상기 증착부는 버퍼 챔버에 의해 연결되며, 상기 버퍼 챔버에는 척킹 기판을 180도 반전시키기 위한 제1반전부가 설치되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The chucking device unit and the deposition unit are connected by a buffer chamber, and the buffer chamber is provided with a first inverting unit for inverting the chucking substrate by 180 degrees. .
제 1항에 있어서,
상기 디척킹 장치부는,
상기 증착부로부터 이송되는 증착 완료된 척킹 기판을 처리 기판과 척 플레이트로 디척킹하는 하나 이상의 디척킹 챔버와;
상기 디척킹 챔버가 그 둘레면에 설치되어, 상기 디척킹 챔버로 척킹 기판 또는 디척킹된 처리 기판과 척 플레이트를 반입,반출시키는 반송챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The dechucking device unit,
At least one dechucking chamber for dechucking the deposited chucking substrate transferred from the deposition unit to a processing substrate and a chuck plate;
The dechucking chamber is disposed on a circumferential surface thereof, the organic material having a chucking and dechucking device portion, characterized in that it comprises a conveying chamber for carrying in and out of the chucking substrate or dechucked processing substrate and the chuck plate. Light emitting device mass production system.
제 8항에 있어서,
상기 반송챔버의 둘레면에는 여분의 척 플레이트가 적층되는 스페어 척 챔버가 설치되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 8,
And a spare chuck chamber in which an extra chuck plate is stacked on the circumferential surface of the transfer chamber.
제 1항에 있어서,
상기 증착부와, 상기 디척킹 장치부는 버퍼 챔버에 의해 연결되며, 상기 버퍼 챔버에는 증착 완료된 척킹 기판을 180도 반전시키기 위한 제2반전부가 설치되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The deposition unit and the dechucking device unit are connected by a buffer chamber, and the buffer chamber is provided with a second inverting unit for inverting the deposited chucking substrate by 180 degrees. Device mass production system.
제 1항에 있어서,
상기 디척킹 장치부와, 척킹 장치부는 이송라인에 의해 연결되며, 상기 디척킹 장치부에서 디척킹된 척 플레이트는 상기 척킹 장치부로 순차적으로 이송되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
The method of claim 1,
The dechucking device part and the chucking device part are connected by a transfer line, and the chuck plate dechucked by the dechucking device part is sequentially transferred to the chucking device part. Device mass production system.
제 5항에 있어서,
상기 하나 이상의 증착챔버와, 상기 반송챔버는 하나의 모듈로 이루어지고, 상기 모듈이 적어도 하나 이상 구비되되, 상기 모듈들이 버퍼 챔버에 의해 연결되어 다단의 모듈로 구성되는 것을 특징으로 하는 척킹 및 디척킹 장치부를 갖는 유기발광소자 양산 시스템.
6. The method of claim 5,
The one or more deposition chambers and the transfer chamber is composed of one module, the module is provided with at least one, chucking and dechucking characterized in that the modules are connected by a buffer chamber is composed of a multi-stage module Organic light emitting device mass production system having a device unit.
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