KR20130064508A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A liquid crystal display device is provided to control arrangement of liquid crystal molecular arranged at the edge of the liquid crystal display device, by generating vertical electric field between a first a signal electrode formed at the edge of a first substrate and a second light shielding pattern formed at the edge of a second substrate. CONSTITUTION: A first light shielding pattern(181a) is formed in a lattice form on a second substrate(180), and shields a gate line, a data line(130) and a thin film transistor of each sub pixel corresponding to a first substrate(102). A second light shielding pattern(181b) shields a non-display area including a number of dummy pixels. Liquid crystal molecules are driven in a display area. The liquid crystal molecules are arranged in the non-display area. [Reference numerals] (183a) Red; (183b) Green

Description

액정표시장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}[0001] LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE [0002]

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 빛샘현상을 방지할 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device capable of preventing light leakage.

정보화 사회가 발전함에 따라 음극관(Cathode Ray Tube:CRT) 표시장치에서 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel:PDP), 유기 전계 발광 표시(Organic Electro Luminescence Display:OELD)장치 및 액정표시(Liquid Crystal Display:LCD)장치와 같은 평판 표시장치가 개발되어 사용되고 있다. As the information society develops, Plasma Display Panel (PDP), Organic Electro Luminescence Display (OELD) and Liquid Crystal Display (LCD) are used in cathode ray tube (CRT) displays. Flat panel display devices such as the

평판 표시장치 중에서도 특히, 액정표시장치는 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력 등과 같은 다양한 장점을 가짐에 따라 모니터, 텔레비전 및 3차원 영상 텔레비전과 같은 영상표시장치로 가장 많이 사용되고 있다. Among flat panel displays, in particular, liquid crystal displays are most commonly used as image display devices such as monitors, televisions, and three-dimensional video televisions because of their excellent image quality and various advantages such as light weight, thinness, and low power consumption.

이러한 액정표시장치는 액정의 광학적 이방성(optical anisotropy)과 분극(polarization) 성질을 이용하여 구동되는데, 액정분자는 그 구조가 가늘고 길기 때문에 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다. The liquid crystal display device is driven by using the optical anisotropy and polarization properties of the liquid crystal. The liquid crystal molecules are oriented in an array because their structures are thin and long, and artificially apply an electric field to the liquid crystal molecules. You can control the orientation of the array.

이와 같이 전기장을 이용하여 액정분자의 배열을 변화시키면, 액정의 광학적 이방성에 의해 액정분자의 배열 방향으로 빛이 굴절하여 영상을 표시할 수 있게 된다. When the arrangement of the liquid crystal molecules is changed using the electric field as described above, light is refracted in the arrangement direction of the liquid crystal molecules due to optical anisotropy of the liquid crystal, thereby displaying an image.

상기 액정표시장치는, 어레이기판인 제1기판에 게이트배선, 데이터배선, 박막트랜지스터(thin film transistor: TFT) 및 화소전극을 형성하는 어레이기판 제조공정과, 컬러필터기판인 제2기판에 차광패턴, 컬러필터 및 공통전극을 형성하는 컬러필터기판 제조공정과, 제1기판 및 제2기판을 합착하여 셀 단위로 절단하고, 셀 단위의 제1기판 및 제2기판 사이에 액정을 주입하여 단위 패널을 형성하는 셀(cell) 공정과, 단위 패널에 구동집적회로(driving IC) 및 인쇄회로기판(PCB)을 부착하고 백라이트유닛(backlight unit)과 조립하는 모듈(module) 공정을 거쳐서 완성된다.The liquid crystal display includes an array substrate manufacturing process for forming a gate wiring, a data wiring, a thin film transistor (TFT) and a pixel electrode on a first substrate, which is an array substrate, and a light shielding pattern on a second substrate, which is a color filter substrate. And a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode, the first substrate and the second substrate are bonded together, cut into cell units, and a liquid crystal is injected between the first substrate and the second substrate in the cell unit unit panel. And a module process of attaching a driving integrated circuit (IC) and a printed circuit board (PCB) to a unit panel and assembling with a backlight unit.

이러한 액정표시장치는 공통전극과 화소전극을 서로 다른 기판에 형성함으로써 발생되는 수직 전기장에 의해 액정을 구동하는 수직전계 방식과, 공통전극과 화소전극을 동일한 기판에 형성함으로써 발생되는 수평 전기장에 의해 액정을 구동하는 수평전계 방식으로 구분할 수 있다. Such a liquid crystal display device uses a vertical electric field to drive a liquid crystal by a vertical electric field generated by forming a common electrode and a pixel electrode on different substrates, and a horizontal electric field generated by forming a common electrode and a pixel electrode on the same substrate. It can be divided into a horizontal electric field driving method.

상기 수직전계 방식의 액정표시장치는 투과율과 개구율의 특성이 우수한 반면 시야각 특성이 좋지 못한 단점을 가지며, 수평전계 방식의 액정표시장치는 동일한 기판에 공통전극과 화소전극이 형성됨에 따라 시야각 특성이 우수한 장점을 가지며 널리 이용되고 있다.
The vertical field type liquid crystal display device has excellent transmittance and aperture ratio characteristics, but has a disadvantage of poor viewing angle characteristics. The horizontal field type liquid crystal display device has excellent viewing angle characteristics as a common electrode and a pixel electrode are formed on the same substrate. It has advantages and is widely used.

도 1은 수평전계 방식의 액정표시장치에 포함된 액정패널의 단면을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2a와 2b는 도 1에서의 액정패널의 오프 및 온 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도이고, 도 3은 빛샘현상이 발생된 액정표시장치의 화면을 보여주는 도면이다. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel included in a horizontal electric field type liquid crystal display device, and FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating a liquid crystal arrangement state of the liquid crystal panel of FIG. 3 is a diagram illustrating a screen of a liquid crystal display device in which light leakage occurs.

도 1에 도시된 바와 같이, 액정표시장치(1)는 어레이 기판인 제1기판(20)과, 이와 서로 이격되어 대향하는 컬러필터 기판인 제2기판(80)과, 이들 기판(20, 80)사이에 개재된 액정층(90)을 포함하여 이루어지는 액정패널을 포함한다. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 1 includes a first substrate 20, which is an array substrate, a second substrate 80, which is a color filter substrate spaced apart from each other, and these substrates 20, 80. And a liquid crystal panel including the liquid crystal layer 90 interposed therebetween.

상기 제1기판(20)상에는 바(bar) 형태를 갖는 공통전극(73)과 화소전극(70)이 동일 평면상에 서로 교대하며 형성되어 있으며, 이때, 상기 액정층(90)의 액정분자들은 상기 공통전극(73)과 화소전극(70)에 의한 수평전계(L)에 의해 작동된다.The common electrode 73 and the pixel electrode 70 having a bar shape are alternately formed on the same plane on the first substrate 20, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 90 It is operated by the horizontal electric field L by the common electrode 73 and the pixel electrode 70.

전압이 인가되지 않은 오프(off)상태에서는, 도 2a에 도시된 바와 같이 공통전극(73)과 화소전극(70)간에 수평전계가 형성되지 않으므로 액정분자들(91a, 91b)의 배열 상태가 변하지 않는다. 이때, 액정분자들(91a, 91b)의 배열 방향은 배향막 러빙 방향 또는 광배향 방향에 따라 달라질 수 있는데, 일례로 도면에서는 전극방향과 동일한 것으로 도시되어 있다. In the off state where no voltage is applied, since the horizontal electric field is not formed between the common electrode 73 and the pixel electrode 70 as shown in FIG. 2A, the arrangement state of the liquid crystal molecules 91a and 91b does not change. Do not. In this case, the arrangement direction of the liquid crystal molecules 91a and 91b may vary according to the alignment layer rubbing direction or the optical alignment direction. For example, the liquid crystal molecules 91a and 91b are the same as the electrode direction.

다음으로 전압이 인가된 온(on) 상태에서는, 도 2b에 도시된 바와 같이 상기 공통전극(73) 및 화소전극(70)과 대응하는 위치의 액정분자(91a)의 상변이는 없지만 공통전극(73)과 화소전극(70)사이 구간에 위치한 액정분자(91b)는 이 공통전극(73)과 화소전극(70) 사이에 전압이 인가됨으로써 형성되는 수평전계(L)에 의하여, 상기 수평전계(L)와 같은 방향으로 배열하게 된다. 즉, 액정패널은 액정분자(91b)가 수평전계에 의해 동작하므로, 시야각이 넓어지는 특성을 띠게 된다. Next, in a voltage-on state, as shown in FIG. 2B, there is no phase change of the liquid crystal molecules 91a at positions corresponding to the common electrode 73 and the pixel electrode 70, but the common electrode ( The liquid crystal molecules 91b positioned in the section between the 73 and the pixel electrode 70 are formed by the horizontal electric field L formed by applying a voltage between the common electrode 73 and the pixel electrode 70. It will be arranged in the same direction as L). That is, in the liquid crystal panel, since the liquid crystal molecules 91b operate by the horizontal electric field, the viewing angle is widened.

이에 따라 이와 같은 액정표시장치(1)를 정면에서 보았을 때, 상하좌우방향으로 약 80 내지 89도 방향에서도 반전현상 없이 가시 할 수 있다.
As a result, when the liquid crystal display device 1 is viewed from the front, the liquid crystal display device 1 may be visible without reversal in the vertical, horizontal, and right directions of about 80 to 89 degrees.

한편, 액정표시장치는 이와 같은 액정패널의 배면으로 액정패널로 빛을 공급하기 위한 백라이트 유닛을 구비하는데, 액정패널과 백라이트 유닛 간의 모듈 공정 중에 또는 모듈 공정 후에 액정패널에서 일부 액정분자들의 배열이 틀어지게 되어 빛샘현상이 발생되는 문제점이 있다. On the other hand, the liquid crystal display device has a backlight unit for supplying light to the liquid crystal panel to the back of the liquid crystal panel, the arrangement of some liquid crystal molecules in the liquid crystal panel during the module process or after the module process between the liquid crystal panel and the backlight unit There is a problem that the light leakage phenomenon occurs.

이를 보다 상세히 설명하면, 모듈 공정 과정에서 조립부품에 의해 액정패널의 가장자리인 테두리영역에 압력이 가해지면서 가장자리의 액정분자의 배열이 틀어지거나, 또는 모듈 공정에 의해 제작된 액정표시장치가 외부 환경에 영향을 받아 액정패널의 가장자리인 테두리영역이 휘게 되면서 가장자리의 액정분자의 배열이 틀어지게 된다. In detail, the arrangement of the liquid crystal molecules at the edges of the liquid crystal panel may be distorted when pressure is applied to the edge region of the liquid crystal panel by the assembly during the module process, or the liquid crystal display manufactured by the module process may be applied to the external environment. Under the influence, the edge region of the liquid crystal panel is bent and the arrangement of liquid crystal molecules at the edge is distorted.

이와 같이 비표시영역인 가장자리 액정분자의 배열이 틀어진 상태에서 전압이 인가되면, 틀어진 액정분자를 통해 일부 빛이 표시영역쪽으로 새게 되는 문제점이 있다. As such, when voltage is applied while the array of edge liquid crystal molecules, which is the non-display area, is misaligned, some light may leak to the display area through the misaligned liquid crystal molecules.

이로 인해 도 3에 도시된 바와 같이, 액정패널의 가장자리로부터 빛샘이 발생되어 표시영역(DA)과 표시영역(DA)을 테두리하는 비표시영역(NDA)의 경계 부분이 부분적으로 얼룩(g)지는 문제점이 있다.
As a result, as shown in FIG. 3, light leakage is generated from the edge of the liquid crystal panel so that the boundary between the display area DA and the non-display area NDA bordering the display area DA is partially uneven. There is a problem.

이에 따라 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 액정패널의 표시영역을 테두리하는 비표시영역의 액정분자 배열을 제어할 수 있도록 함으로써 빛샘현상을 방지하는 액정표시장치를 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention for solving the above problems is to provide a liquid crystal display device that prevents light leakage by controlling the arrangement of the liquid crystal molecules of the non-display area bordering the display area of the liquid crystal panel.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 다수의 서브픽셀을 포함한 표시영역과 다수의 더미픽셀을 포함한 비표시영역이 정의된 제1기판과; 상기 제1기판 상에 서로 교차하며 다수의 서브픽셀과 다수의 더미픽셀을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선과; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 형성되는 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터를 덮는 보호막과; 상기 각 서브픽셀의 상기 보호막 상에 형성되며 서로 교대하는 다수의 바(bar) 형태로 형성되어 수평전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극과; 상기 각 더미픽셀의 상기 보호막 상에 형성되는 신호전극과; 상기 제1기판과 대향하며 위치하는 제2기판과; 상기 제1기판에 대응되는 상기 각 서브픽셀의 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막트랜지스터를 가리도록 상기 제2기판에 격자 형상으로 형성된 제1차광패턴과; 상기 제1차광패턴과의 사이에 개구부를 가지며 다수의 더미픽셀을 포함한 상기 비표시영역을 가리고, 상기 신호전극과 수직전계를 형성하는 제2차광패턴과; 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a first substrate having a display area including a plurality of subpixels and a non-display area including a plurality of dummy pixels; Gate wiring and data wiring crossing each other on the first substrate and defining a plurality of subpixels and a plurality of dummy pixels; A thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and the data line; A protective film covering the thin film transistor; A pixel electrode and a common electrode formed on the passivation layer of each subpixel and formed in a plurality of bar shapes that alternate with each other to form a horizontal electric field; A signal electrode formed on the passivation layer of each dummy pixel; A second substrate facing and facing the first substrate; A first light blocking pattern formed in a lattice shape on the second substrate so as to cover the gate wiring, the data wiring and the thin film transistor of each subpixel corresponding to the first substrate; A second light blocking pattern having an opening between the first light blocking pattern and covering the non-display area including a plurality of dummy pixels and forming a vertical electric field with the signal electrode; It includes a liquid crystal layer interposed between the first substrate and the second substrate.

상기 제1 및 제2차광패턴은 서로 다른 마스크 공정을 통해 서로 상이한 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다. The first and second light blocking patterns may be formed of different materials through different mask processes.

상기 제1 및 제2차광패턴은 서로 동일한 마스크 공정을 통해 서로 동일한 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다. The first and second light blocking patterns may be formed of the same material through the same mask process.

상기 제2차광패턴은 10 내지 30의 유전율을 가지고, 104Ω 이하의 저(低)저항을 가지는 물질로 형성하는 것을 특징으로 한다. The second light blocking pattern has a dielectric constant of 10 to 30 and is formed of a material having a low resistance of 10 4 kPa or less.

상기 제2차광패턴은 수지, 메탈 및 메탈 옥사이드계 그룹 중 선택된 하나의 불투명 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다. The second light shielding pattern may be formed of an opaque material selected from a resin, a metal, and a metal oxide-based group.

상기 제2차광패턴은 공통전압(Vcom)의 두배에 해당되는 구동전압을 공급받는 것을 특징으로 한다. The second light blocking pattern may be supplied with a driving voltage corresponding to twice the common voltage Vcom.

상기 신호전극은 상기 다수의 바 형태의 화소전극 및 공통전극 각각에 대응되는 위치에 형성되어 상기 화소전극 및 공통전극을 합한 개수와 동일한 개수로 형성되는 것을 특징으로 한다. The signal electrodes may be formed at positions corresponding to the plurality of bar-shaped pixel electrodes and the common electrodes, respectively, and may have the same number as the sum of the pixel electrodes and the common electrodes.

상기 신호전극은 상기 공통전극보다 넓은 폭으로 형성되며 상기 공통전극의 개수와 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다. The signal electrode is formed to have a wider width than the common electrode and is formed in the same number as the number of the common electrodes.

상기 개구부는 상기 게이트 배선을 가리도록 형성된 상기 제1차광패턴과 상기 제2차광패턴 사이의 연결을 차단하는 제1개구부와, 상기 데이터 배선 및 박막트랜지스터를 가리도록 형성된 상기 제1차광패턴과 상기 제2차광패턴 사이의 연결을 차단하는 제2개구부로 이루어지며, 상기 제1 및 제2개구부는 상기 비표시영역에 위치되는 것을 특징으로 한다. The opening may include a first opening that cuts off a connection between the first light blocking pattern and the second light blocking pattern formed to cover the gate wiring, the first light blocking pattern and the first blocking pattern formed to cover the data wiring and the thin film transistor. And a second opening that blocks a connection between the secondary light blocking patterns, wherein the first and second openings are positioned in the non-display area.

상기 제1차광패턴의 위로 상기 각 서브픽셀에 대응하여 순차 반복하는 형태로 적, 녹, 청색 컬러필터가 배치되는 컬러필터층과 상기 컬러필터층의 위로 평탄화를 위한 제1오버코트층과, 상기 제2차광패턴의 위로 상기 표시영역과의 단차를 보상하기 위한 제2오버코트층이 더 포함되는 것을 특징으로 한다.
A color filter layer in which red, green, and blue color filters are disposed in order to sequentially repeat the sub-pixels on the first light blocking pattern, a first overcoat layer for planarization on the color filter layer, and the second light blocking A second overcoat layer is further included on the pattern to compensate for the step difference with the display area.

이와 같이 본 발명에 따른 액정표시장치에 따르면, 제1기판의 가장자리에 신호전극을 형성하고, 이에 대응되는 제2기판의 가장자리에 형성된 제2차광패턴을 전극으로 하여 이들 전극 간에 수직 전계가 발생되도록 함으로써 액정표시장치의 가장자리에 배치된 액정분자의 배열을 제어할 수 있게 된다. As described above, according to the liquid crystal display device according to the present invention, a signal electrode is formed at the edge of the first substrate, and a vertical electric field is generated between the electrodes using the second light shielding pattern formed at the edge of the second substrate. This makes it possible to control the arrangement of the liquid crystal molecules arranged at the edge of the liquid crystal display device.

이에 따라, 표시영역에 대해서는 수평전계를 이용한 액정 구동 방식을 이용함으로써 우수한 시야각 특성을 가지며, 비표시영역에 대해서는 수직전계를 통해 액정분자의 배열을 수직정렬함으로써 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다. Accordingly, the display area has excellent viewing angle characteristics by using a liquid crystal driving method using a horizontal electric field, and the light leakage phenomenon can be prevented by vertically aligning the arrangement of liquid crystal molecules through a vertical electric field in the non-display area.

이와 같이, 제2차광패턴을 전극으로 이용함으로써 전극을 별도로 형성할 필요가 없어지므로 제조공정을 단순화하고 공정비용을 절감할 수 있게 된다.
As such, by using the second light blocking pattern as the electrode, there is no need to separately form the electrode, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the process cost.

도 1은 수평전계 방식의 액정표시장치에 포함된 액정패널의 단면을 개략적으로 도시한 도면.
도 2a와 도 2b는 도 1에서의 액정패널의 오프 및 온 상태의 액정의 배열상태를 도시한 단면도.
도 3은 빛샘현상이 발생된 액정표시장치 화면을 보여주는 도면.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 보여주는 평면도.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서의 서브픽셀의 구조를 보여주는 평면도.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에 대한 단면도.
도 7a는 일반적인 액정표시장치에서 오프 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도.
도 7b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서 표시영역의 데이터 전압이 오프 상태이고 더미픽셀영역의 신호전극과 차광패턴의 신호가 온 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도.
도 7c는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서 표시영역의 데이터 전압이 온 상태이고 더미픽셀영역의 신호전극과 차광패턴의 신호가 온 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도.
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 차광패턴의 구조를 보여주는 평면도.
1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel included in a horizontal electric field type liquid crystal display device;
2A and 2B are cross-sectional views showing an arrangement of liquid crystals in the off and on states of the liquid crystal panel of FIG.
3 is a view illustrating a liquid crystal display screen on which light leakage occurs.
4 is a plan view schematically illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a plan view illustrating a structure of a subpixel in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention.
7A is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal array state in an off state in a general liquid crystal display device.
FIG. 7B is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal array in which a data voltage of a display area is off and a signal electrode and a light shielding pattern signal of a dummy pixel area are on in a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 7C is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal arrangement in which a data voltage of a display area is on and a signal electrode of a dummy pixel area and a signal of a light shielding pattern are on in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG.
8 is a plan view showing a structure of a light shielding pattern according to a preferred embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서의 하나의 화소 구조를 보여주는 평면도이며, 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에 대한 단면도이다. 4 is a plan view schematically showing a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 5 is a plan view showing one pixel structure in a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. A cross-sectional view of a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the invention.

우선 도 4에 도시된 바와 같이, 액정표시장치(100)는 매트릭스 형태로 배치된 다수의 서브 픽셀들(SP)을 포함하여 화상을 표시하는 표시영역(DA)과 이러한 표시영역(DA)을 테두리하며 빛을 차광하는 비표시영역(NDA)으로 구분할 수 있다. First, as shown in FIG. 4, the liquid crystal display device 100 includes a plurality of subpixels SP arranged in a matrix, and the display area DA displaying an image and the display area DA bordering the display area DA. And may be divided into a non-display area NDA that shields light.

여기서 비표시영역(NDA)은 표시영역(DA)과의 경계에 다수의 더미 픽셀들(DP)이 배치된 더미픽셀영역(DPA)을 포함한다. The non-display area NDA includes a dummy pixel area DPA in which a plurality of dummy pixels DP are disposed at a boundary with the display area DA.

상기 다수의 서브 픽셀들(SP)은 액정표시장치(100) 화면에 화상을 구현하기 위한 실제 화소들에 해당되고, 다수의 더미 픽셀들(DP)은 여분의 화소들에 해당되어 비표시영역(NDA)에 포함된다. The plurality of sub-pixels SP correspond to actual pixels for realizing an image on a screen of the liquid crystal display 100, and the plurality of dummy pixels DP correspond to extra pixels. NDA).

이하에서는, 도 5 및 도 6을 참조하여 표시영역(DA)의 다수의 서브 픽셀들(SP) 중 하나의 서브 픽셀(SP)을 참조하여 본 발명에 따른 액정표시장치를 보다 상세히 설명한다. Hereinafter, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to one subpixel SP of the plurality of subpixels SP of the display area DA with reference to FIGS. 5 and 6.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치(100)는 하부의 제1기판(102)과 이와 대향하며 일정간격 이격된 상태로 위치하는 상부의 제2기판(180)과, 이들 두 기판(102, 180) 사이에 개재된 액정층(190)을 포함한다. As shown in FIG. 5 and FIG. 6, the liquid crystal display device 100 according to the present invention faces the first substrate 102 at the lower side thereof and faces the second substrate 180 at the upper side of the liquid crystal display device at a predetermined interval. And a liquid crystal layer 190 interposed between these two substrates 102 and 180.

상기 제1기판(102)과 제2기판(180)의 이격된 사이 공간에 개재된 액정층(190)의 유출을 방지하기 위해 제1기판(102)과 제2기판(180) 사이의 최외곽 가장자리를 따라 인쇄된 씰 패턴(미도시)이 포함됨으로써 제1기판(102)과 제2기판(180)이 합착되어 액정패널을 이루게 된다.The outermost portion between the first substrate 102 and the second substrate 180 to prevent leakage of the liquid crystal layer 190 interposed in the spaced space between the first substrate 102 and the second substrate 180. As the seal pattern (not shown) printed along the edge is included, the first substrate 102 and the second substrate 180 are joined to form a liquid crystal panel.

여기서 통상 하부기판 또는 어레이 기판이라 불리는 제1기판(102)은 화상을 표시하는 표시영역(DA)과 더미픽셀영역(DPA)을 포함한 비표시영역(DPA)이 정의되어 있으며, 이러한 제1기판(102)과 대향하며 상부기판 또는 컬러필터기판이라 불리는 제2기판(180)에도 표시영역(DA)과 비표시영역(DPA)이 정의되어 있다. Here, the first substrate 102, commonly referred to as a lower substrate or an array substrate, defines a non-display area DPA including a display area DA for displaying an image and a dummy pixel area DPA. The display area DA and the non-display area DPA are also defined in the second substrate 180 facing the 102 and called the upper substrate or the color filter substrate.

상기 제1기판(102)의 표시영역(DA)은 투명한 제1절연기판(102a) 상에 형성된 TFT 어레이층을 포함한다. The display area DA of the first substrate 102 includes a TFT array layer formed on the transparent first insulating substrate 102a.

이를 상세히 살펴보면, 제1방향으로 연장되는 게이트 배선(103)과, 제1방향과 교차하는 제2방향으로 연장되는 데이터 배선(130)이 형성되고, 게이트 배선(103)과 데이터 배선(130)은 서로 교차하며 다수의 서브픽셀(SP)을 정의한다. In detail, the gate wiring 103 extending in the first direction and the data wiring 130 extending in the second direction crossing the first direction are formed, and the gate wiring 103 and the data wiring 130 are formed. Intersect each other and define a plurality of subpixels SP.

여기서, 게이트 배선(103)은 게이트 전극(미도시)과 연결된다. Here, the gate line 103 is connected to a gate electrode (not shown).

그리고 게이트 배선(103)과 나란하게 공통배선(109)이 형성되고, 상기 공통배선(109)에서 분기하여 각 서브픽셀(SP)의 최외각에는 공통보조배선(110)이 형성된다. 이러한 공통보조배선(110)은 각 서브픽셀(SP)의 제2방향으로 양측 가장자리를 따라 소정 간격 이격되어 나란하게 형성된다. 이에 따라 공통보조배선(110)은 각 서브픽셀의 경계를 이루는 데이터 배선(130)을 중심으로 이의 인접 서브픽셀의 양 측으로 소정 간격 이격되어 인접된 상태로 나란하게 형성된다. The common wiring 109 is formed in parallel with the gate wiring 103, and the common auxiliary wiring 110 is formed at the outermost portion of each subpixel SP by branching from the common wiring 109. The common auxiliary line 110 is formed side by side at predetermined intervals along both edges in the second direction of each sub-pixel SP. As a result, the common auxiliary line 110 is formed side by side in a state in which the common auxiliary line 110 is spaced apart at predetermined intervals on both sides of the adjacent sub pixels around the data line 130 forming the boundary of each sub pixel.

상기 게이트 배선(103)과 공통배선(109)과 공통보조배선(110) 및 게이트 전극(미도시)은 비교적 비저항이 낮은 금속물질, 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 몰리브덴(Mo), 몰리티타늄(MoTi) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 물질로서 단일층 또는 다중층 구조로 이루어질 수 있다. The gate wiring 103, the common wiring 109, the common auxiliary wiring 110, and the gate electrode (not shown) may be formed of a relatively low resistivity metal material, for example, aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), or copper ( Cu), copper alloy, molybdenum (Mo), molybdenum (MoTi) any one or two or more of the material may be made of a single layer or a multi-layer structure.

그리고, 게이트 배선(103)과 공통배선(109)과 공통보조배선(110) 및 게이트 전극(미도시)의 상부로 무기절연물질, 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)로 이루어진 게이트 절연막(115)이 전면에 형성된다. In addition, an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) is disposed on the gate wiring 103, the common wiring 109, the common auxiliary wiring 110, and the gate electrode (not shown). A gate insulating film 115 is formed on the entire surface.

또한, 게이트 절연막(115) 위로 스위칭 영역(TrA)에 있어서는 순수 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(미도시)과 서로 이격하는 형태로 불순물 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹콘택층(미도시)을 포함한 반도체층(미도시)이 형성된다. In addition, in the switching region TrA on the gate insulating layer 115, a semiconductor layer (not shown) including an active layer (not shown) made of pure amorphous silicon and an ohmic contact layer (not shown) made of impurity amorphous silicon in a form spaced apart from each other. O) is formed.

그리고 반도체층(미도시) 위로, 보다 정확하게는 서로 이격하는 오믹콘택층(미도시) 위로 상기 액티브층(미도시)을 노출시키며 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)이 형성된다. The source and drain electrodes 133 and 136 are formed on the semiconductor layer (not shown) and more precisely on the ohmic contact layer (not shown) spaced apart from each other and exposing the active layer (not shown).

이때, 소스 전극(133)은 게이트 전극(105) 상에서 바(bar) 타입으로 형성될 수도 있고, 또는 게이트 전극(105) 상에서 요입부를 가져 “U"형태를 이루도록 형성될 수 있다. 그리고 드레인 전극(136)은 소스 전극(133)의 요입부에 함입된 형태를 이룸으로써 “U"형태의 채널 구조를 이루도록 형성될 수 있으며, 이에 한정되지 않고 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 다양한 형태로 변형될 수 있다. In this case, the source electrode 133 may be formed in a bar type on the gate electrode 105, or may be formed to have a “U” shape with a recess in the gate electrode 105. 136 may be formed to form a channel structure of the "U" shape by forming a shape embedded in the recessed portion of the source electrode 133, the source and drain electrodes 133, 136 is not limited to this modified in various forms Can be.

또한, 상기 드레인 전극(136)으로부터 공통배선(109)이 형성된 부분까지 연장 되어 형성된 스토리지 전극은 상기 공통배선(109)과 더불어 스토리지 커패시터(StgC)를 이룰 수 있다. In addition, the storage electrode extending from the drain electrode 136 to the portion where the common wiring 109 is formed may form a storage capacitor StgC together with the common wiring 109.

이와 같이 순차 적층된 상기 게이트 전극(미도시)과, 게이트 절연막(115)과, 액티브층(미도시)과 서로 이격하는 오믹콘택층(미도시)으로 이루어진 반도체층(미도시)과, 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 이루며, 이러한 박막트랜지스터(Tr)가 형성되는 영역을 스위칭영역이라 한다.The semiconductor layers (not shown) formed of the gate electrodes (not shown), the gate insulating layer 115, and the ohmic contact layers (not shown) spaced apart from each other are sequentially spaced apart from each other. The source and drain electrodes 133 and 136 form a thin film transistor Tr, which is a switching element, and a region in which the thin film transistor Tr is formed is called a switching region.

상기 게이트 절연막(115) 위로는 게이트 배선(103)과 교차하여 서브픽셀(SP)을 정의하는 데이터 배선(130)이 형성된다. 이때, 데이터 배선(130)과 소스 전극(133)은 서로 연결된다. A data line 130 is formed on the gate insulating layer 115 to cross the gate line 103 to define the subpixel SP. In this case, the data line 130 and the source electrode 133 are connected to each other.

다음, 데이터 배선(130)과 소스 및 드레인 전극(133, 136) 위로 전면에 유기절연물질 예를들면 포토아크릴 또는 벤조사이클로부텐으로 이루어지며 그 표면이 평탄한 형태를 가지는 제 1 보호층(140)이 형성된다. Next, the first protective layer 140 made of an organic insulating material, for example, photoacrylic or benzocyclobutene and having a flat surface on the front surface of the data line 130 and the source and drain electrodes 133 and 136. Is formed.

이때, 제 1 보호층(140) 하부에는 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)로 이루어진 제 2 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. In this case, a second protective layer (not shown) made of an inorganic insulating material, for example, silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) may be further formed below the first protective layer 140.

상기 제 1 보호층(140)은 각 서브픽셀(SP) 내의 스위칭 영역에 있어서 상기 드레인 전극(136)을 노출시키는 드레인 콘택홀(147)을 구비하고, 상기 제 1 보호층(140)과 더불어 그 하부에 위치하는 상기 게이트 절연막(115)에는 상기 공통보조배선(110)을 노출시키는 공통 콘택홀(149)이 구비된다.The first passivation layer 140 includes a drain contact hole 147 exposing the drain electrode 136 in the switching area in each subpixel SP, and together with the first passivation layer 140, The gate insulating layer 115 disposed below the common insulating hole 149 exposing the common auxiliary line 110 is provided.

또한, 상기 각 서브픽셀(SP) 내의 제 1 보호층(140) 상부에는 몰리브덴(Mo), 몰리티타늄(MoTi),티타늄(Ti) 중 어느 하나로 이루어지며, 드레인 콘택홀(147)을 통해 드레인 전극(136)과 접촉하는 바(bar) 형태의 다수의 화소전극(170)이 일정간격 이격하며 형성된다. 이러한 상기 화소전극(170)의 일끝단은 모두 화소 보조패턴(169)에 의해 연결된다. In addition, one of molybdenum (Mo), molybdenum (MoTi), and titanium (Ti) is formed on the first passivation layer 140 in each of the subpixels SP, and the drain electrode is formed through the drain contact hole 147. A plurality of pixel electrodes 170 having a bar shape in contact with 136 are formed at regular intervals. One end of the pixel electrode 170 is all connected by the pixel auxiliary pattern 169.

그리고 제1보호층(140) 상에 형성된 다수의 바(bar) 형태의 화소전극(170)과 동일한 물질로 동일한 층에 형성되며 상기 다수의 바(bar) 형태의 화소전극(170)과 교대하는 바(bar) 형태의 다수의 공통전극(170)이 공통 콘택홀(179)을 통해 공통보조배선(110)과 접촉하며 형성된다. 이때, 다수의 공통전극(170)의 끝단은 공통 보조패턴(172)에 의해 연결된다. In addition, a plurality of bar-shaped pixel electrodes 170 formed on the first passivation layer 140 may be formed on the same layer and alternate with the plurality of bar-shaped pixel electrodes 170. The plurality of common electrodes 170 having a bar shape are formed in contact with the common auxiliary line 110 through the common contact hole 179. In this case, ends of the plurality of common electrodes 170 are connected by the common auxiliary pattern 172.

한편, 다수의 공통전극(170)은 각 서브픽셀(SP)의 최외각에 위치되는 최외각 공통전극(173a)과 최외각 공통전극(173a)의 내측에 형성되는 내측 공통전극(173b)으로 구분할 수 있는데, 최외각 공통전극(173a)은 공통보조배선(110) 및 데이터 배선(130)과 중첩하며 형성될 수 있다. Meanwhile, the plurality of common electrodes 170 may be divided into an outermost common electrode 173a positioned at the outermost portion of each subpixel SP and an inner common electrode 173b formed inside the outermost common electrode 173a. The outermost common electrode 173a may be formed to overlap the common auxiliary line 110 and the data line 130.

한편, 도면에 있어서는 상기 데이터 배선(130)과 공통전극(173a, 173b) 및 화소전극(170)은 각 서브픽셀(SP)의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 형태를 이루고 있으며, 이러한 구성에 의해 하나의 서브픽셀(SP)에 이중 도메인을 구현함으로써 방위각 변화에 따른 컬러 쉬프트 현상을 억제할 수 있다. 이때, 데이터 배선(130)과 공통전극(173a, 173b) 및 화소전극(170)의 형태는 각 서브픽셀(SP)에서 꺽인 형태에 한정되지 않고 다양하게 변경될 수 있다. In the drawing, the data line 130, the common electrodes 173a and 173b, and the pixel electrode 170 are symmetrically bent with respect to the center of each subpixel SP. By implementing a dual domain in one subpixel SP, color shift due to azimuth change can be suppressed. In this case, the shape of the data line 130, the common electrodes 173a and 173b, and the pixel electrode 170 may be variously changed without being limited to the shape of each of the subpixels SP.

전술한 구성을 갖는 제1기판(102)과 대응하여 그 상부에 위치하며 상부기판 또는 컬러필터 기판이라 불리는 제2기판(180)은 투명한 제2절연기판(180a) 상에 게이트 배선(103)과 공통보조배선(110)과 데이터 배선(130) 그리고 박막트랜지스터(Tr) 등의 비표시요소를 가리도록 각 서브픽셀(SP)을 테두리하는 격자 형상의 제1차광패턴(black matrix, 181a)과, 이러한 격자 형상의 제1차광패턴(181a) 내부에서 각 서브픽셀(SP)에 대응하여 순차 반복하는 형태로 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(183a, 183b, 미도시)이 배치되는 컬러필터층(183)이 형성된다. The second substrate 180, which is located on the upper side corresponding to the first substrate 102 having the above-described configuration and is called an upper substrate or a color filter substrate, has a gate wiring 103 formed on the transparent second insulating substrate 180a. A lattice-shaped first light blocking pattern 181a bordering each subpixel SP to cover non-display elements such as the common auxiliary line 110, the data line 130, and the thin film transistor Tr; The color filter layer 183 in which the red, green, and blue color filter patterns 183a, 183b (not shown) are arranged in a repeating manner in correspondence to each subpixel SP in the grid-shaped first light blocking pattern 181a. ) Is formed.

이때 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(183a, 183b, 미도시) 간 경계는 제1기판(102)의 서브픽셀(SP)의 경계를 이루는 게이트 배선(103) 및 데이터 배선(130) 상에 위치하도록 컬러필터층(183)이 형성됨이 바람직하다. In this case, a boundary between the red, green, and blue color filter patterns 183a, 183b (not shown) may be formed on the gate line 103 and the data line 130 forming the boundary of the subpixel SP of the first substrate 102. Preferably, the color filter layer 183 is formed to be positioned.

또한 도면에 도시하지는 않았지만, 컬러필터층(183) 하부로 제2절연기판(180a) 전면에 평탄화를 위한 오버코트층이 형성될 수 있다. 상기 오버코트층은 투명한 유기절연물질, 일예로 벤조사이클로부텐 또는 포토아크릴로 이루어지며 2㎛ 내지 4㎛ 정도의 두께로 형성될 수 있다. Although not shown in the drawings, an overcoat layer for planarization may be formed on the entire surface of the second insulating substrate 180a under the color filter layer 183. The overcoat layer is made of a transparent organic insulating material, for example, benzocyclobutene or photoacryl, and may be formed to a thickness of about 2 μm to 4 μm.

한편, 전술한 제1기판(102)과 제2기판(180)의 사이 액정층(190)에는 이들 간의 이격간격을 유지시키는 역할을 수행하며 제1높이로 형성되는 제1스페이서(미도시)가 다수 구비될 수 있으며, 제1높이보다 낮은 제2높이로 형성되어 화면이 눌려진 경우 눌려진 표면을 복원시키는 역할을 수행하는 제2스페이서(미도시)가 제1스페이서(미도시) 간의 사이에 적어도 하나 이상 구비될 수 있다. 이때, 제2스페이서(미도시)는 제2기판(180) 상에 형성됨이 바람직하지만, 이에 한정되지 않고 제1기판(102) 상에 형성될 수 있다. On the other hand, the liquid crystal layer 190 between the first substrate 102 and the second substrate 180 described above serves to maintain the separation gap therebetween and is formed with a first spacer (not shown) formed at a first height. A plurality of second spacers (not shown) formed between the first spacers (not shown) may be provided and have a second height lower than the first height and serve to restore the pressed surface when the screen is pressed. It may be provided over. In this case, the second spacer (not shown) is preferably formed on the second substrate 180, but is not limited thereto and may be formed on the first substrate 102.

또한 제1기판(102)과 제2기판(180) 각각의 외측면에는 특정 방향의 빛만을 선택적으로 투과시키는 제1 및 제2편광판(미도시)이 구비될 수 있으며, 이러한 제1기판(102)의 배면으로는 액정패널로 빛을 공급하기 위한 광원을 포함하는 백라이트(back-light) 유닛(미도시)이 구비될 수 있다.
In addition, first and second polarizing plates (not shown) for selectively transmitting only light in a specific direction may be provided on the outer surfaces of each of the first substrate 102 and the second substrate 180. ) May be provided with a back-light unit (not shown) including a light source for supplying light to the liquid crystal panel.

이후에는 도 6을 참조하여 액정표시장치에서의 더미픽셀영역(DPA)의 구조에 대해 설명한다. 이때, 본 발명의 실시예에 따른 표시영역(DA)의 서브 픽셀(SP)과 더미픽셀영역(DPA)에 포함되는 더미 픽셀(DP)의 구조는 서로 유사하므로 동일 구성에 대한 상세한 설명은 생략하고, 표시영역(DA)과 차별점을 가지는 더미픽셀영역(DPA)의 구조에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, the structure of the dummy pixel area DPA in the liquid crystal display will be described with reference to FIG. 6. In this case, since the structures of the subpixel SP of the display area DA and the dummy pixel DP included in the dummy pixel area DPA are similar to each other, detailed description of the same configuration will be omitted. The structure of the dummy pixel area DPA having a difference from the display area DA will be described in detail.

도 6에 도시된 바와 같이 제1기판(102)의 더미픽셀영역(DPA)은, 표시영역(DA)와 마찬가지로 제1절연기판(102a) 상에 제1방향으로 연장되는 게이트 배선(103)과, 제1방향과 교차하는 제2방향으로 연장되는 데이터 배선(130)이 형성되어 게이트 배선(103)과 데이터 배선(130)은 서로 교차되며 다수의 더미픽셀(DP)을 정의하고, 각 더미픽셀(DP)마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor:TFT)(Tr)가 형성된 TFT 어레이층을 포함한다. As shown in FIG. 6, the dummy pixel area DPA of the first substrate 102 may include the gate wiring 103 extending in the first direction on the first insulating substrate 102a similarly to the display area DA. And a data line 130 extending in a second direction crossing the first direction so that the gate line 103 and the data line 130 cross each other to define a plurality of dummy pixels DP, and each dummy pixel. Each of the DPs includes a TFT array layer in which a thin film transistor (TFT) (Tr) is formed.

여기서 박막트랜지스터(Tr)는, 도 5의 서브픽셀과 마찬가지로 게이트 전극과, 게이트 절연막(115)과, 액티브층과 서로 이격하는 오믹콘택층으로 이루어진 반도체층과, 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극이 순차 적층되어 이루어진다. Here, the thin film transistor Tr, like the subpixel of FIG. 5, sequentially includes a gate electrode, a gate insulating layer 115, a semiconductor layer composed of an ohmic contact layer spaced apart from the active layer, and source and drain electrodes spaced apart from each other. It is laminated.

한편, 데이터 배선(130)과 소스 및 드레인 전극(133, 136) 위로 전면에 유기절연물질 예를들면 포토아크릴 또는 벤조사이클로부텐으로 이루어지며 그 표면이 평탄한 형태를 가지는 제 1 보호층(140)이 형성되고, 상기 제1보호층(140) 위로 바 형태의 다수의 신호전극(175)이 형성되는 것을 특징으로 한다. Meanwhile, the first protective layer 140 made of an organic insulating material, for example, photoacrylic or benzocyclobutene and having a flat surface on the front surface of the data line 130 and the source and drain electrodes 133 and 136 is formed. And a plurality of bar-shaped signal electrodes 175 formed on the first protective layer 140.

상기 다수의 신호전극(175)은 표시영역(DA)의 공통전극(173a, 173b)과 동일한 물질로 동일한 층인 제1보호층(140) 위에 형성되는 것을 특징으로 한다. The plurality of signal electrodes 175 are formed on the first passivation layer 140, which is the same layer and made of the same material as the common electrodes 173a and 173b of the display area DA.

여기서 다수의 신호전극(175)은 여러 형태로 형성될 수 있는데, 일예로 하나의 더미픽셀(DP)에 형성되는 다수의 신호전극(175)은 하나의 서브픽셀(SP)에 형성된 화소전극(170)과 공통전극(173) 각각에 대응되어 형성됨으로써 하나의 서브픽셀(SP)에 형성된 화소전극(170)과 공통전극(173)을 합한 개수로 형성될 수 있다. Here, the plurality of signal electrodes 175 may be formed in various forms. For example, the plurality of signal electrodes 175 formed in one dummy pixel DP may include the pixel electrodes 170 formed in one sub pixel SP. ) And the common electrode 173 may correspond to each of the pixel electrode 170 and the common electrode 173 formed in one subpixel SP.

다른예로 다수의 신호전극(175) 각각은 서브픽셀(SP)에 형성된 공통전극(173)의 폭보다 넓게 형성됨으로써 하나의 서브픽셀(SP)에 형성된 공통전극(173)과 동일한 개수로 형성될 수 있다.In another example, each of the plurality of signal electrodes 175 is formed to be wider than the width of the common electrode 173 formed in the subpixel SP, so that the same number of common electrodes 173 formed in one subpixel SP may be formed. Can be.

또 다른예로 제1보호층(140) 위로 더미픽셀영역(DPA) 전체에 걸쳐 신호전극(175)이 형성될 수도 있다. As another example, the signal electrode 175 may be formed over the first protective layer 140 over the dummy pixel area DPA.

이러한 다수의 신호전극(175)은 공통 콘택홀(179)을 통해 공통보조배선(110)과 접촉하며, 다수의 신호전극(175)의 끝단은 공통 보조패턴(172)에 의해 연결될 수 있다. The plurality of signal electrodes 175 may contact the common auxiliary line 110 through the common contact hole 179, and the ends of the plurality of signal electrodes 175 may be connected by the common auxiliary pattern 172.

이와 같은 신호전극(175)이 형성되는 제1기판(102)의 더미픽셀영역(DPA)에 대응하는 제2기판(180)의 더미픽셀영역(DPA)에는, 다수의 더미픽셀(DP) 전체를 가릴 수 있는 불투명색의 제2차광패턴(181b)이 구비된다. In the dummy pixel area DPA of the second substrate 180 corresponding to the dummy pixel area DPA of the first substrate 102 on which the signal electrode 175 is formed, a plurality of dummy pixels DP are disposed. An opaque second light blocking pattern 181b is provided.

상기 제2차광패턴(181b)은 액정표시장치(100)에서 더미픽셀영역(DPA)을 포함한 비표시영역(NDA)을 차광하기 위해 형성되는 테두리 차광패턴에 해당된다. The second light blocking pattern 181b corresponds to an edge light shielding pattern formed to shield the non-display area NDA including the dummy pixel area DPA in the liquid crystal display 100.

즉, 제2기판(180)의 표시영역(DA)에는 이에 대응되는 제1기판(102)의 게이트 배선(103)과, 공통보조배선(110)과, 데이터 배선(130) 그리고 박막트랜지스터(Tr) 등의 비표시요소를 가리도록 각 서브픽셀(SP)을 테두리하는 제1차광패턴(black matrix, 181a)이 형성되는 반면, 제2기판(180)의 더미픽셀영역(DPA)에는 전체적으로 제2차광패턴(181b)이 형성되어 비표시영역(NDA)을 가린다. That is, in the display area DA of the second substrate 180, the gate wiring 103, the common auxiliary wiring 110, the data wiring 130, and the thin film transistor Tr of the first substrate 102 corresponding thereto. The first light blocking pattern 181a is formed around the subpixel SP to cover the non-display elements such as the second display element, while the second pixel 180 is entirely formed in the dummy pixel area DPA of the second substrate 180. A light blocking pattern 181b is formed to cover the non-display area NDA.

이러한 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b) 각각은, 불투명색으로 이루어져 외광 반사를 흡수하여 빛을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 통상 서로 연결되어 액정표시장치(100)의 비표시요소와 비표시영역(NDA)을 가리는데, 본 발명에서는 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b)이 서로 연결되지 않는 것을 특징으로 한다.Each of the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b is formed of an opaque color to absorb external light reflections to block light. And the non-display area NDA, the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b are not connected to each other.

이는 제2차광패턴(181b)이 제1기판(102)의 신호전극(175)과 함께 수직 전계를 형성하는 전극으로서의 역할을 수행하기 때문이다. This is because the second light blocking pattern 181b serves as an electrode to form a vertical electric field together with the signal electrode 175 of the first substrate 102.

이를 위한 제2차광패턴(181b)은 10 내지 30의 유전율을 가지고 104Ω 이하의 비교적 비저항이 낮은 물질, 일예로 수지 또는 메탈 및 메탈 옥사이드계 무기안료 중 하나로 형성되어 도체 역할을 수행할 수 있게 된다. The second light shielding pattern 181b has a dielectric constant of 10 to 30 and has a relatively low resistivity of 10 4 kW or less, for example, formed of one of a resin or a metal and a metal oxide-based inorganic pigment to serve as a conductor. do.

또한 이러한 제2차광패턴(181b)은 전압인가단자와 연결되어 외부로부터 구동전압을 공급받을 수 있는데, 표시영역의 공통전압(Vcom) 또는 구동부의 구동전압에 따라 구동전압의 값이 달라질 수 있지만 보다 바람직하게는 공통전압(Vcom)의 두배에 해당되는 구동전압을 공급받을 수 있다. In addition, the second light blocking pattern 181b may be connected to a voltage applying terminal to receive a driving voltage from an external source. The driving voltage may vary depending on the common voltage Vcom of the display area or the driving voltage of the driving unit. Preferably, the driving voltage corresponding to twice the common voltage Vcom may be supplied.

이때, 표시영역(DA)에 구비되는 제1차광패턴(181a)과 비표시영역(NDA)에 구비되는 제2차광패턴(181b)은 서로 다른 마스크 공정을 통해 형성되거나, 또는 서로 동일한 마스크 공정을 통해 형성될 수 있다. In this case, the first light blocking pattern 181a provided in the display area DA and the second light blocking pattern 181b provided in the non-display area NDA may be formed through different mask processes or may use the same mask process. It can be formed through.

일예로, 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b)이 서로 다른 마스크 공정을 통해 서로 다른 물질로 형성될 경우, 제1차광패턴(181a)은 제2차광패턴(181b)의 저항 값보다 높은 적어도 105Ω 이상의 저항 값을 가지도록 형성함으로써 표시영역(DA)의 공통전극(173)과 화소전극(170) 간의 수평전계에 영향을 미치지 않도록 할 수 있다. For example, when the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b are formed of different materials through different mask processes, the first light blocking pattern 181a may have a resistance of the second light blocking pattern 181b. It is possible to prevent the horizontal electric field between the common electrode 173 and the pixel electrode 170 of the display area DA from being formed to have a resistance value of at least 10 5 kΩ or more higher than the value.

다른예로, 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b)이 서로 동일한 마스크 공정을 통해 서로 동일한 물질로 형성될 경우, 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b)은 10 내지 30의 유전율을 가지고 104Ω 이하의 비교적 비저항이 낮은 물질로 형성될 수 있다. 이 경우, 하나의 마스크 공정을 통해 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b)을 같이 형성할 수 있으므로 공정 수를 단축시켜 공정을 단순화할 수 있는 장점이 있다. As another example, when the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b are formed of the same material through the same mask process, the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b may be It may be formed of a material having a dielectric constant of 10 to 30 and a relatively low resistivity of 10 4 kPa or less. In this case, since the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b may be formed together through one mask process, the number of processes may be shortened to simplify the process.

전술한 바와 같이 함으로써, 표시영역(DA)에서는 제1기판(102)의 공통전극(173)과 화소전극(170) 간에 발생된 수평 전계에 의해 액정분자들이 구동되어 화상이 구현되고, 비표시영역(NDA)인 더미픽셀영역(DPA)에서는 제1기판(102)의 신호전극(175)과 제2기판(180)의 제2차광패턴(181b)에 의해 발생된 수직 전계에 의해 액정문자들이 구동되어 수직 배열됨으로써 외부 환경에 의한 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다.
As described above, in the display area DA, the liquid crystal molecules are driven by a horizontal electric field generated between the common electrode 173 and the pixel electrode 170 of the first substrate 102 to realize an image, and the non-display area. In the dummy pixel area DPA (NDA), liquid crystal characters are driven by a vertical electric field generated by the signal electrode 175 of the first substrate 102 and the second light blocking pattern 181b of the second substrate 180. As a result of vertical alignment, light leakage caused by an external environment can be prevented.

이를 도면을 참고하여 보다 상세히 설명한다. This will be described in more detail with reference to the drawings.

도 7a는 일반적인 액정표시장치에서 오프 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도이고, 도 7b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서 표시영역의 데이터 전압이 오프 상태이고 더미픽셀영역의 신호전극과 차광패턴의 신호가 온 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도이며, 도 7c는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치에서 표시영역의 데이터 전압이 온 상태이고 더미픽셀영역의 신호전극과 차광패턴의 신호가 온 상태의 액정 배열상태를 도시한 단면도이다. 여기서 데이터 전압은 액정표시장치에서 화상을 구현하기 위해 인가하는 구동 전압에 해당된다. FIG. 7A is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal array in an off state in a general liquid crystal display, and FIG. 7B is a signal electrode of a dummy pixel region in which a data voltage of a display area is off in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. And FIG. 7C is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal array in a state in which a signal of a light blocking pattern is turned on, and FIG. 7C is a diagram illustrating a data voltage of a display area in a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention, and light blocking of a signal electrode in a dummy pixel area. It is sectional drawing which shows the liquid crystal arrangement state of the state in which the signal of the pattern was on. Here, the data voltage corresponds to a driving voltage applied to implement an image in the liquid crystal display.

도 7a에 도시된 바와 같이, 데이터 전압이 인가되지 않은 오프(off) 상태이면 표시영역(DA)에서는 제1기판(102)에 형성된 공통전극(173)과 화소전극(170) 간에 수평전계가 형성되지 않으므로 액정분자들(191a)의 배열 상태가 변하지 않게 되고, 마찬가지로 더미픽셀영역(DPA)에서도 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)과 제2기판(180)에 형성된 제2차광패턴(181b) 간에 수직전계가 형성되지 않으므로 액정분자들(191a)의 배열 상태가 변하지 않게 된다. 그러나 , 만약 외부 자극에 의해 가장자리의 일부 액정분자들(191a)의 배열 상태가 틀어지게 되면, 전압이 인가되지 않은 오프 상태에서도 액정표시장치의 화면에 영향을 주게 된다. As shown in FIG. 7A, when the data voltage is off, a horizontal electric field is formed between the common electrode 173 and the pixel electrode 170 formed on the first substrate 102 in the display area DA. Therefore, the arrangement state of the liquid crystal molecules 191a does not change, and similarly, in the dummy pixel area DPA, the second light blocking pattern formed on the signal electrode 175 formed on the first substrate 102 and on the second substrate 180. Since no vertical electric field is formed between the 181b regions, the arrangement state of the liquid crystal molecules 191a does not change. However, if the arrangement state of some of the liquid crystal molecules 191a at the edge is changed by the external magnetic pole, the screen of the liquid crystal display device is affected even in the off state where no voltage is applied.

그러나 본 발명에 따른 액정표시장치에서는 데이터 전압이 인가되지 않는 오프 상태에서도, 도 7b에 도시된 바와 같이 제2차광패턴(181b)과 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)에 구동 전압이 인가된다. However, in the liquid crystal display according to the present invention, even when the data voltage is not applied, as shown in FIG. 7B, the driving voltage is applied to the second light blocking pattern 181b and the signal electrode 175 formed on the first substrate 102. Is applied.

이에 따라, 데이터 전압이 인가되지 않으므로 표시영역(DA)에서는 제1기판(102)에 형성된 공통전극(173)과 화소전극(170) 간에 수평전계가 형성되지 않아 액정분자들(191a)의 배열 상태가 변하지 않게 되지만, 더미픽셀영역(DPA)으로는 구동 전압이 인가되므로 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)과 제2기판(180)에 형성된 제2차광패턴(181b) 간에 수직전계가 형성되어 이들 사이의 액정분자들(191c)이 수직배열됨으로써 빛이 차단되어 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)의 경계에서 발생되던 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다. Accordingly, since no data voltage is applied, no horizontal electric field is formed between the common electrode 173 and the pixel electrode 170 formed on the first substrate 102 in the display area DA, so that the liquid crystal molecules 191a are arranged. However, since the driving voltage is applied to the dummy pixel area DPA, a vertical electric field is formed between the signal electrode 175 formed on the first substrate 102 and the second light blocking pattern 181b formed on the second substrate 180. Since the liquid crystal molecules 191c are vertically arranged therebetween, light is blocked to prevent light leakage that occurs at the boundary between the display area DA and the non-display area NDA.

한편, 본 발명에 따른 액정표시장치가 화상을 구현하는 동작(On) 상태이면, 도 7c에 도시된 바와 같이 제2차광패턴(181b)과 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)에 구동 전압이 인가되고 데이터 전압도 인가된다. 이에 따라 표시영역(DA)에서는 데이터 전압이 인가됨에 따라 제1기판(102)에 형성된 공통전극(173)과 화소전극(170) 간에 수평전계가 형성되어 이들 사이의 액정분자들(191b)이 수평배열됨으로써 화상이 구현되고, 더미픽셀영역(DPA)에서는 구동 전압이 인가됨에 따라 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)과 제2기판(180)에 형성된 제2차광패턴(181b) 간에 수직전계가 형성되어 이들 사이의 액정분자들(191c)이 수직배열됨으로써 빛이 차단되어 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)의 경계에서 발생되던 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다. Meanwhile, when the liquid crystal display according to the present invention is in an image-on state, as shown in FIG. 7C, the liquid crystal display according to the present invention may be connected to the signal electrode 175 formed on the second light blocking pattern 181b and the first substrate 102. The driving voltage is applied and the data voltage is also applied. Accordingly, as the data voltage is applied in the display area DA, a horizontal electric field is formed between the common electrode 173 and the pixel electrode 170 formed on the first substrate 102 so that the liquid crystal molecules 191b therebetween are horizontal. The image is realized by being arranged, and as the driving voltage is applied in the dummy pixel area DPA, between the signal electrode 175 formed on the first substrate 102 and the second light blocking pattern 181b formed on the second substrate 180. Since a vertical electric field is formed and the liquid crystal molecules 191c are vertically arranged therebetween, light is blocked to prevent light leakage occurring at the boundary between the display area DA and the non-display area NDA.

즉, 외부 자극에 의해 액정분자, 특히 가장자리 액정분자의 배열 상태가 틀어진다 하여도 더미픽셀영역(DPA)으로는 구동 전압이 항상 인가되는 상태이므로, 더미픽셀영역(DPA)의 제1기판(102)에 형성된 신호전극(175)과 제2기판(180)에 형성된 제2차광패턴(181b) 간에는 항상 수직전계가 형성되어 이들 사이에 액정분자들(191c)의 배열이 수직 상태를 형성할 수 있게 되므로 종래 액정분자가 틀어짐에 따라 발생되던 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다. That is, even when the arrangement state of the liquid crystal molecules, especially the edge liquid crystal molecules, is changed by the external magnetic pole, the driving voltage is always applied to the dummy pixel region DPA, and thus, the first substrate 102 of the dummy pixel region DPA. The vertical electric field is always formed between the signal electrode 175 formed on the second electrode 180 and the second light blocking pattern 181b formed on the second substrate 180 so that the arrangement of the liquid crystal molecules 191c may form a vertical state therebetween. Therefore, it is possible to prevent the light leakage phenomenon generated as the conventional liquid crystal molecules are turned.

한편 도시하지는 않았으나, 제2차광패턴(181b)의 위로 표시영역(DA)과의 단차 보상을 위한 오버코트층이 더 구비될 수 있는데, 상기 오버코트층은 저저항 유기절연물질로 형성되어 제2차광패턴(181b)과 신호전극(175) 간에 수직전계가 보다 잘 형성되도록 할 수 있다.
Although not shown, an overcoat layer may be further provided on the second light blocking pattern 181b to compensate for the step difference with the display area DA. The overcoat layer is formed of a low resistance organic insulating material to form a second light blocking pattern. The vertical electric field may be better formed between the 181b and the signal electrode 175.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 차광패턴의 구조를 보여주는 평면도로, 도 4 내지 도 6을 참조한다. FIG. 8 is a plan view illustrating a structure of a light shielding pattern according to an exemplary embodiment of the present invention, see FIGS. 4 to 6.

도 8에 도시된 바와 같이, 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b) 간에는 제1 및 제2개구부(182a, 182b)를 통해 연결이 차단된다. 여기서, 제1차광패턴(181a)은 제2기판(도 5 및 도 6의 180) 상에 구비되어 게이트 배선(도 5의 103)과 공통보조배선(도 6의 110)과 데이터 배선(도 6의 130) 그리고 박막트랜지스터(도 5의 Tr) 등의 비표시요소를 가리도록 제1기판(도 5 및 도 6의 102)의 각 서브픽셀(SP)을 테두리하는 패턴이며, 제2차광패턴(181b)은 더미픽셀영역(DPA)을 포함한 비표시영역(NDA)가리도록 제2기판(도 5 및 도 6의 180) 상에 구비된 패턴이다. As shown in FIG. 8, the connection between the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b is blocked through the first and second openings 182a and 182b. Here, the first light shielding pattern 181a is provided on the second substrate 180 (180 of FIGS. 5 and 6), the gate wiring 103 (103), the common auxiliary wiring (110 of FIG. 6), and the data wiring (FIG. 6). 130) and a pattern that borders each of the subpixels SP of the first substrate (102 of FIGS. 5 and 6) so as to cover non-display elements such as a thin film transistor (Tr of FIG. 5). 181b is a pattern provided on the second substrate (180 of FIGS. 5 and 6) to cover the non-display area NDA including the dummy pixel area DPA.

이때, 제1방향의 게이트 배선(103)을 가리도록 형성된 제1차광패턴(181a)과 더미픽셀영역(DPA)을 포함한 비표시영역(NDA)을 테두리하는 제2차광패턴(181b) 사이에는 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b) 간의 연결을 차단하기 위한 제1개구부(182a)가 포함된다. In this case, a first blocking pattern 181a is formed to cover the gate wiring 103 in the first direction and a second blocking pattern 181b bordering the non-display area NDA including the dummy pixel area DPA is formed. A first opening 182a for blocking a connection between the primary light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b is included.

또한, 제2방향의 공통보조배선(도 6의 11)과 데이터 배선(130)과 박막트랜지스터(Tr)를 가리도록 형성된 제1차광패턴(181a)과 더미픽셀영역(DPA)을 포함한 비표시영역(NDA)을 테두리하는 제2차광패턴(181b) 사이에는 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b) 간의 연결을 차단하기 위한 제2개구부(182b)가 포함된다. Also, a non-display area including the first light blocking pattern 181a and the dummy pixel area DPA formed to cover the common auxiliary line (11 of FIG. 6), the data line 130, and the thin film transistor Tr in the second direction. A second opening 182b for blocking a connection between the first light blocking pattern 181a and the second light blocking pattern 181b is included between the second light blocking pattern 181b bordering the NDA.

이러한 제1 및 제2개구부(182a, 182b)는 각각 비표시영역(NDA)쪽에 구비됨으로써 제1차광패턴(181a)과 제2차광패턴(181b) 간의 연결이 차단하는 제1 및 제2개구부(182a, 182b)가 구비됨에 따라 발생할 수 있는 빛샘현상을 방지할 수 있게 된다.
The first and second openings 182a and 182b are provided on the non-display area NDA, respectively, so that the connection between the first and second light blocking patterns 181a and 181b is blocked. 182a and 182b may be provided to prevent light leakage that may occur.

이상과 같은 본 발명의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위 및 이와 균등한 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.The embodiments of the present invention as described above are merely exemplary, and those skilled in the art may freely modify the present invention without departing from the gist of the present invention. Therefore, the protection scope of the present invention shall include modifications of the present invention within the scope of the appended claims and equivalents thereof.

103: 게이트 배선 109: 공통 배선
110: 공통보조배선 130: 데이터 배선
170: 화소전극 173: 공통전극
175: 신호전극 189a: 제1차광패턴
189b: 제2차광패턴
103: gate wiring 109: common wiring
110: common auxiliary wiring 130: data wiring
170: pixel electrode 173: common electrode
175: signal electrode 189a: first light blocking pattern
189b: second light blocking pattern

Claims (10)

다수의 서브픽셀을 포함한 표시영역과 다수의 더미픽셀을 포함한 비표시영역이 정의된 제1기판과;
상기 제1기판 상에 서로 교차하며 다수의 서브픽셀과 다수의 더미픽셀을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선과;
상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차지점에 형성되는 박막트랜지스터와;
상기 박막트랜지스터를 덮는 보호막과;
상기 각 서브픽셀의 상기 보호막 상에 형성되며 서로 교대하는 다수의 바(bar) 형태로 형성되어 수평전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극과;
상기 각 더미픽셀의 상기 보호막 상에 형성되는 신호전극과;
상기 제1기판과 대향하며 위치하는 제2기판과;
상기 제1기판에 대응되는 상기 각 서브픽셀의 상기 게이트 배선, 데이터 배선 및 박막트랜지스터를 가리도록 상기 제2기판에 격자 형상으로 형성된 제1차광패턴과;
상기 제1차광패턴과의 사이에 개구부를 가지며 다수의 더미픽셀을 포함한 상기 비표시영역을 가리고, 상기 신호전극과 수직전계를 형성하는 제2차광패턴과;
상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 개재된 액정층
을 포함하는 액정표시장치.
A first substrate having a display area including a plurality of subpixels and a non-display area including a plurality of dummy pixels;
Gate wiring and data wiring crossing each other on the first substrate and defining a plurality of subpixels and a plurality of dummy pixels;
A thin film transistor formed at an intersection point of the gate line and the data line;
A protective film covering the thin film transistor;
A pixel electrode and a common electrode formed on the passivation layer of each subpixel and formed in a plurality of bar shapes that alternate with each other to form a horizontal electric field;
A signal electrode formed on the passivation layer of each dummy pixel;
A second substrate facing and facing the first substrate;
A first light blocking pattern formed in a lattice shape on the second substrate so as to cover the gate wiring, the data wiring and the thin film transistor of each subpixel corresponding to the first substrate;
A second light blocking pattern having an opening between the first light blocking pattern and covering the non-display area including a plurality of dummy pixels and forming a vertical electric field with the signal electrode;
Liquid crystal layer interposed between the first substrate and the second substrate
Liquid crystal display comprising a.
제 1항에 있어서,
상기 제1 및 제2차광패턴은
서로 다른 마스크 공정을 통해 서로 상이한 물질로 이루어지는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The first and second light blocking patterns
Liquid crystal display device made of different materials through different mask processes.
제 1항에 있어서,
상기 제1 및 제2차광패턴은
서로 동일한 마스크 공정을 통해 서로 동일한 물질로 이루어지는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The first and second light blocking patterns
A liquid crystal display device made of the same material through the same mask process.
제 1항 내지 제3항 중 어느 선택된 한 항에 있어서,
상기 제2차광패턴은
10 내지 30의 유전율을 가지고, 104Ω 이하의 저(低)저항을 가지는 물질로 형성하는 액정표시장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The second light blocking pattern is
A liquid crystal display device having a dielectric constant of 10 to 30 and having a low resistance of 10 4 kPa or less.
제 4항에 있어서,
상기 제2차광패턴은
수지, 메탈 및 메탈 옥사이드계 그룹 중 선택된 하나의 불투명 물질로 형성되는 액정표시장치.
5. The method of claim 4,
The second light blocking pattern is
Liquid crystal display device formed of an opaque material selected from the group consisting of resin, metal and metal oxide.
제 1항에 있어서,
상기 제2차광패턴은
공통전압(Vcom)의 두배에 해당되는 구동전압을 공급받는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The second light blocking pattern is
Liquid crystal display device receiving a driving voltage corresponding to twice the common voltage (Vcom).
제 1항에 있어서,
상기 신호전극은
상기 다수의 바 형태의 화소전극 및 공통전극 각각에 대응되는 위치에 형성되어 상기 화소전극 및 공통전극을 합한 개수와 동일한 개수로 형성되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The signal electrode is
And a plurality of bar electrodes formed at positions corresponding to each of the plurality of bar-shaped pixel electrodes and the common electrode.
제 1항에 있어서,
상기 신호전극은
상기 공통전극보다 넓은 폭으로 형성되며 상기 공통전극의 개수와 동일하게 형성되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The signal electrode is
And a width greater than that of the common electrode, and the same number as the number of the common electrodes.
제 1항에 있어서,
상기 개구부는
상기 게이트 배선을 가리도록 형성된 상기 제1차광패턴과 상기 제2차광패턴 사이의 연결을 차단하는 제1개구부와,
상기 데이터 배선 및 박막트랜지스터를 가리도록 형성된 상기 제1차광패턴과 상기 제2차광패턴 사이의 연결을 차단하는 제2개구부로 이루어지며,
상기 제1 및 제2개구부는
상기 비표시영역에 위치되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The opening
A first opening configured to block a connection between the first light blocking pattern and the second light blocking pattern formed to cover the gate wiring;
And a second opening that cuts off the connection between the first light blocking pattern and the second light blocking pattern formed to cover the data line and the thin film transistor.
The first and second openings
And a liquid crystal display device positioned in the non-display area.
제 1항에 있어서,
상기 제1차광패턴의 위로 상기 각 서브픽셀에 대응하여 순차 반복하는 형태로 적, 녹, 청색 컬러필터가 배치되는 컬러필터층과
상기 컬러필터층의 위로 평탄화를 위한 제1오버코트층과,
상기 제2차광패턴의 위로 상기 표시영역과의 단차를 보상하기 위한 제2오버코트층이 더 포함되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
A color filter layer on which the red, green, and blue color filters are disposed in order to sequentially repeat the sub-pixels on the first light blocking pattern;
A first overcoat layer for planarization over the color filter layer;
And a second overcoat layer over the second light blocking pattern to compensate for a step with the display area.
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