KR20130060808A - Filter changing unit - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 필터 변환 유닛에 관한 것으로, 보다 상세하게는 약액을 이용하여 세정 또는 식각 공정을 수행하는 기판 처리 시스템의 필터 변환 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a filter conversion unit, and more particularly, to a filter conversion unit of a substrate processing system for performing a cleaning or etching process using a chemical liquid.
세정 또는 식각 공정을 수행하는 기판 처리 시스템은 공정 챔버에 약액을 공급하는 약액 공급 라인에 구비되어 상기 약액을 필터링하는 필터를 포함할 수 있다. 상기 필터는 필터망에 불순물이 형성되어 필터 효율이 떨어지면 교체되어야 한다. 상기 필터의 교체시 작업의 중단없이 공정을 진행하기 위하여, 복수개의 필터가 구비될 수 있다. The substrate processing system performing the cleaning or etching process may include a filter provided in the chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid to the process chamber to filter the chemical liquid. The filter should be replaced when impurities are formed in the filter network and the filter efficiency is reduced. In order to proceed with the process without interruption of work when replacing the filter, a plurality of filters may be provided.
그런데, 사용자가 상기 필터의 적절한 교체 시기를 명확히 인지하기 어려우며, 상기 필터 교체 시 사용자가 수동으로 밸브를 조절해서 약액 공급 라인의 가동을 중단한 후, 상기 필터를 교체해야 하는 번거러움이 있다. 또한, 잔존하는 약액을 제거하기 위해 필터를 세정해야 하는데 이러한 작업을 사용자가 직접 해야만 한다.By the way, it is difficult for the user to clearly recognize the appropriate replacement time of the filter, and when the filter is replaced, the user manually adjusts the valve to stop the chemical supply line, and then the filter needs to be replaced. In addition, the filter must be cleaned to remove residual chemicals, which must be done by the user.
즉, 상기 필터를 교체하고 잔존하는 약액을 제거하기 위해 많은 시간과 노력이 요구되는 문제점이 있다.That is, there is a problem that a lot of time and effort is required to replace the filter and remove the remaining chemical liquid.
본 발명의 목적은 필터의 교체 및 세정을 용이하게 하는 필터 변환 유닛을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a filter conversion unit that facilitates replacement and cleaning of filters.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 필터 변환 유닛은 제1 필터, 제1 및 제2 압력계, 제1 및 제2 밸브, 제2 필터, 제3 및 제4 밸브, 제어부를 포함한다. 상기 제1 필터는 약액을 공급하는 제1 약액 공급 라인에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거한다. 상기 제1 및 제2 압력계는 상기 제1 필터를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 약액의 수압을 측정한다. 상기 제1 및 제2 밸브는 상기 제1 필터를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제1 약액 공급 라인을 개폐한다. 상기 제2 필터는 상기 약액을 공급하는 제2 약액 공급 라인에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거한다. 상기 제3 및 제4 밸브는 상기 제2 필터를 중심으로 상기 제2 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제2 약액 공급 라인을 개폐한다. 상기 제어부는 상기 제1 및 제2 압력계를 통해 측정된 수압의 차가 기준치 이상이면 상기 제1 약액 공급 라인으로 제공되는 상기 약액을 차단하고, 상기 제2 약액 공급 라인으로 상기 약액을 공급하도록 상기 제1 내지 제4 밸브를 제어한다.According to an embodiment of the present invention, a filter conversion unit includes a first filter, first and second pressure gauges, first and second valves, second filters, third and fourth valves, and a controller. Include. The first filter is provided in a first chemical supply line for supplying a chemical solution, and removes impurities of the chemical solution. The first and second pressure gauges are respectively provided at one end and the other end of the first chemical solution supply line around the first filter, and measure the hydraulic pressure of the chemical solution. The first and second valves are provided at one end and the other end of the first chemical supply line with respect to the first filter, respectively, and open and close the first chemical supply line. The second filter is provided in a second chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid, and removes impurities of the chemical liquid. The third and fourth valves are provided at one end and the other end of the second chemical liquid supply line with respect to the second filter, respectively, and open and close the second chemical liquid supply line. The control unit blocks the chemical liquid provided to the first chemical liquid supply line when the difference between the water pressures measured by the first and second pressure gauges is equal to or greater than a reference value, and supplies the chemical liquid to the second chemical liquid supply line. To fourth valve.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제1 약액 공급 라인과 연결되며, 상기 제1 약액 공급 라인을 세척하도록 순수를 공급하는 제1 순수 공급 라인, 상기 제1 필터를 중심으로 배치되어 상기 제1 순수 공급 라인을 개폐하는 제5 및 제6 밸브, 상기 제2 약액 공급 라인과 연결되며, 상기 제2 약액 공급 라인을 세척하도록 순수를 공급하는 제2 순수 공급 라인, 및 상기 제2 필터를 중심으로 배치되어 상기 제2 순수 공급 라인을 개폐하는 제7 및 제8 밸브를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, a first pure water supply line connected to the first chemical liquid supply line and supplying pure water to wash the first chemical liquid supply line, the first pure water disposed around the first filter Fifth and sixth valves that open and close a supply line, a second pure water supply line connected to the second chemical liquid supply line and supplying pure water to wash the second chemical liquid supply line, and disposed around the second filter And further include seventh and eighth valves to open and close the second pure water supply line.
이러한 필터 변환 유닛에 의하면, 필터를 중심으로 배치된 압력계들을 통해 약액의 수압을 측정하고, 상기 측정된 수압의 차에 따라 필터의 변환을 자동으로 수행할 수 있다.According to such a filter conversion unit, it is possible to measure the hydraulic pressure of the chemical liquid through a pressure gauge arranged around the filter, and to perform the conversion of the filter automatically in accordance with the difference of the measured hydraulic pressure.
또한, 교체가 필요한 필터에 순수를 공급하여 잔존하는 약액을 제거하는 세정 작업을 자동으로 수행할 수 있다.In addition, it is possible to automatically perform the cleaning operation to remove the remaining chemical liquid by supplying pure water to the filter that needs to be replaced.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1의 필터 변환 유닛의 세부적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram illustrating a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a detailed configuration diagram of the filter conversion unit of FIG. 1.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, the term "comprises" or "comprising ", etc. is intended to specify that there is a stated feature, figure, step, operation, component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram illustrating a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 처리 시스템은 공정 챔버(20), 약액 저장 탱크(30), 약액 공급 라인(31), 약액 회수 라인(33), 펌프(40) 및 필터 변환 유닛(100)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the substrate processing system according to the present embodiment includes a
상기 공정 챔버(20)는 기판(10)에 대한 식각 또는 세정 공정이 수행되는 처리공간을 제공한다. 상기 공정 챔버(20)는 상부 챔버와 하부 챔버를 포함할 수 있으며, 상기 기판(10)의 반입과 반출을 위하여 수직 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 상기 공정 챔버(20) 내에는 이송 유닛(23)에 의해 이송되는 기판(10) 상으로 약액을 공급하기 위한 다수의 노즐들(21)이 배치될 수 있으며, 상기 약액 공급 라인(31)은 상기 공정 챔버(20) 및 상기 노즐들(21)과 연결될 수 있다. The
상세히 도시되지는 않았으나, 상기 이송 유닛(23)은 상기 기판(10)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 연장하는 다수의 회전축들과 상기 회전축들에 장착되어 상기 기판(10)을 지지하며 이송하기 위한 다수의 롤러들과 상기 공정 챔버(20)의 외부에서 상기 회전축들과 연결되며 상기 회전축들에 구동력을 제공하는 구동부를 포함할 수 있다.Although not shown in detail, the
상기 약액 저장 탱크(30)는 약액을 보관하고, 상기 약액 공급 라인(31)과 연결된 상기 공정 챔버(20)에 상기 약액을 제공한다. 또한, 상기 약액 회수 라인(33)을 통해 상기 공정 챔버(20)에서 사용된 약액을 공급받아 저장할 수 있다. 상기 약액 저장 탱크(30)는 상기 약액의 상태를 유지하기 위하여 그 내부의 압력 및 온도가 제어될 수 있다. 상기 약액은 식각액을 포함할 수 있다. The
상기 약액 공급 라인(31)은 상기 공정 챔버(20)의 노즐들(21)과 상기 약액 저장 탱크(30)를 상호 연결시킨다. 상기 약액 공급 라인(31)은 상기 약액을 상기 약액 저장 탱크(30)로부터 상기 공정 챔버(20)로 흐르는 유로를 제공한다. The chemical
상기 약액 회수 라인(33)은 상기 공정 챔버(20)의 회수부(미도시)와 상기 약액 저장 탱크(30)를 상호 연결시킨다. 상기 약액 공급 라인(31)은 상기 공정 챔버(20)에서 사용된 약액을 다시 상기 약액 저장 탱크(30)로 회수하기 위한 유로를 제공한다. The chemical
상기 펌프(40)는 상기 공정 챔버(20)와 상기 약액 저장 탱크(30) 사이에 배치된다. 상기 펌프(40)는 상기 약액을 상기 공정 챔버(20)로 투입하기 위한 압력을 제공한다.The
상기 필터 변환 유닛(100)은 상기 약액 공급 라인(31)에 구비되며 상기 약액을 필터링하는 필터를 포함한다. 상기 필터 변환 유닛(100)에 관한 구체적인 사항은 도 2와 관련하여 설명하기로 한다.The
도 2는 도 1의 필터 변환 유닛의 세부적인 구성도이다. FIG. 2 is a detailed configuration diagram of the filter conversion unit of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 상기 필터 변환 유닛(100)은 제1 필터(111), 제1 및 제2 압력계(121, 122), 제1 및 제2 밸브(131, 132), 제2 필터(112), 제3 및 제4 압력계(123, 124), 제3 및 제4 밸브(133, 134), 제어부(160)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the
상기 약액 공급 라인(31)은 상기 필터 변환 유닛(100)의 일단에서 제1 약액 공급 라인(101)과 제2 약액 공급 라인(102)으로 분기된다. 그리고 상기 필터 변환 유닛(100)의 타단에서 상기 제1 약액 공급 라인(101)과 상기 제2 약액 공급 라인(102)은 합류하여 상기 약액 공급 라인(31)으로 연결된다.The chemical
상기 제1 필터(111)는 약액을 공급하는 상기 제1 약액 공급 라인(101)에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거한다. 상기 공정 챔버(20)에서 사용된 약액은 불순물을 포함할 수 있다. 상기 공정 챔버(20)에서 사용된 약액은 상기 약액 회수 라인(33)을 통해 상기 약액 저장 탱크(30)로 회수된다. 따라서, 상기 제1 필터(111)는 이러한 약액에 포함된 불순물을 제거하는 역할을 한다.The
상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)는 상기 제1 필터(111)를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인(101)의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 약액의 수압을 측정한다. 즉, 제1 압력계(121)은 상기 제1 필터(111)의 전단에 구비되어 상기 제1 필터(111)를 향해 흐르는 약액의 수압을 측정하고, 제2 압력계(122)는 상기 제1 필터(111)의 후단에 구비되어 상기 제1 필터(111)에 의해 필터링되고 흐르는 약액의 수압을 측정한다. 예를 들어, 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)는 디지털압력계일 수 있다.The first and second pressure gauges 121 and 122 are provided at one end and the other end of the first
상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)는 상기 제1 필터(111)를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인(101)의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제1 약액 공급 라인(101)을 개폐한다. 상기 제1 밸브(131)은 상기 제1 약액 공급 라인(101)의 가장 앞쪽에 구비되고, 상기 제2 밸브(132)는 가장 뒤쪽에 구비된다. 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)가 개방되면 상기 약액이 상기 제1 약액 공급 라인(101)을 흐르고, 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)가 닫히면 상기 약액의 흐름은 정지된다. 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)는 상기 제어부(160)의 전기적 신호에 따라 개폐되며, 상기 전기적 신호에 따라 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)를 개폐하는 밸브 개폐 장치를 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)의 개폐는 실질적으로 동시에 이루어질 수 있다.The first and
상기 제2 필터(112)는 상기 약액을 공급하는 제2 약액 공급 라인(102)에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거한다. 상기 제1 필터(111)는 필터망에 불순물이 형성되어 필터 효율이 떨어지면 교체되어야 한다. 이때, 상기 제1 필터(111)의 교체시 작업의 중단없이 공정을 진행하기 위하여, 별도로 구비된 상기 제2 필터(112)가 사용된다. 상기 제2 필터(112)는 상기 제2 약액 공급 라인(102)에 구비되어 있다는 점 이외에 상기 제1 필터(111)와 실질적으로 동일하다.The
상기 제3 및 제4 압력계(123, 124)는 상기 제2 필터(112)를 중심으로 상기 제2 약액 공급 라인(102)의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 약액의 수압을 측정한다. 상기 제3 및 제4 압력계(123, 124)는 상기 제2 약액 공급 라인(102)에 구비되어 있다는 점 이외에 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)와 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The third and fourth pressure gauges 123 and 124 are provided at one end and the other end of the second chemical
상기 제3 및 제4 밸브(133, 134)는 상기 제2 필터를 중심으로 상기 제2 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제2 약액 공급 라인을 개폐한다. 상기 제3 및 제4 밸브(133, 134)는 상기 제2 약액 공급 라인(102)에 구비되어 있다는 점 이외에 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)와 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The third and
상기 제어부(160)는 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)를 통해 측정된 수압의 차가 기준치 이상이면 상기 제1 약액 공급 라인(101)으로 제공되는 상기 약액을 차단하고, 상기 제2 약액 공급 라인(102)으로 상기 약액을 공급하도록 상기 제1 내지 제4 밸브(131, 132, 133, 134)를 제어한다. The controller 160 blocks the chemical liquid provided to the first chemical
상기 제1 필터(111)는 필터망에 불순물이 형성되면 필터 효율이 떨어지므로 교체되어야 한다. 이때, 상기 제1 필터(111)의 필터망에 불순물이 형성된 정도는 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)를 통해 측정된 수압의 차를 이용하여 감지할 수 있다. 즉, 상기 제1 필터(111)의 필터망에 불순물이 형성되지 않은 상태라면 약액의 흐름은 용이할 것이므로, 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)를 통해 측정된 수압의 차는 크지 않을 것이다. 반대로, 상기 제1 필터(111)의 필터망에 불순물이 상당량 형성되어 있는 상태라면 약액의 흐름이 크게 방해받을 것이므로, 상기 제1 및 제2 압력계(121, 122)를 통해 측정된 수압의 차가 크게 벌어질 것이다. When impurities are formed in the filter network, the
여기서, 상기 제어부(160)는 측정된 수압의 차가 기준치 이상이면 상기 제1 필터(111)의 필터망에 불순물이 상당량 형성되어 있는 상태로 판단하여 상기 제1 및 제2 밸브(131, 132)를 닫도록 제어하고, 상기 제3 및 제4 밸브(133, 134)는 열도록 제어한다. 즉, 상기 제어부(160)는 상기 제1 약액 공급 라인(101)은 차단하고 상기 제2 약액 공급 라인(102)은 개방하여 상기 제1 필터(111)를 교체할 수 있도록 하고, 상기 제1 필터(111)를 교체하는 동안 상기 약액이 지속적으로 상기 공정 챔버(20)에 공급될 수 있도록 한다.Here, the controller 160 determines that a significant amount of impurities are formed in the filter network of the
또한, 상기 제어부(160)는 상기 제2 약액 공급 라인(102)으로 약액이 공급되는 중, 상기 제3 및 제4 압력계(123, 124)를 통해 측정된 수압의 차가 기준치 이상이면 상기 제2 약액 공급 라인(102)으로 제공되는 상기 약액을 차단하고 상기 제1 약액 공급 라인(101)으로 상기 약액을 공급하도록 상기 제1 내지 제4 밸브(131, 132, 133, 134)를 제어한다. 이는 상기 제어부(160)가 상기 제1 약액 공급 라인(101)과 상기 제2 약액 공급 라인(102)을 서로 반대로 제어한다는 점 이외에 상기 제1 약액 공급 라인(101)은 차단하고 상기 제2 약액 공급 라인(102)은 개방하는 과정과 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.In addition, the controller 160 is the second chemical liquid when the difference in the water pressure measured through the third and fourth pressure gauges (123, 124) while the chemical liquid is supplied to the second chemical
이에 의하여, 상기 필터 변환 유닛(100)은 상기 제1 및 제2 필터(111, 112)의 변환을 자동으로 수행할 수 있다.As a result, the
또한, 상기 필터 변환 유닛(100)은 제1 순수 공급 라인(141, 142), 제5 및 제6 밸브(151, 152), 제2 순수 공급 라인(143, 144), 제7 및 제8 밸브(153, 154)를 더 포함할 수 있다.In addition, the
상기 제1 순수 공급 라인(141, 142)은 상기 제1 약액 공급 라인과 연결되며, 상기 제1 약액 공급 라인(101)을 세척하도록 순수를 공급한다. 상기 순수는 탈이온수를 포함할 수 있다. 상기 제1 순수 공급 라인(141, 142)은 상기 순수가 상기 제1 필터(111) 및 상기 제1 약액 공급 라인(101)의 일부를 통과하도록 유로를 형성한다. The first pure
구체적으로, 상기 제1 순수 공급 라인(141, 142)은 상기 제1 약액 공급 라인(101)과 각각 연결되는 순수 유입 라인(141)과 순수 배출 라인(142)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 순수 유입 라인(141)으로 순수가 유입되어 상기 제1 필터(111) 및 상기 제1 약액 공급 라인(101)을 통과한 후, 상기 순수 배출 라인(142)을 통해 배출되는 구조를 가진다. 상기 순수는 상기 제1 필터(111) 및 상기 제1 약액 공급 라인(101)에 잔존하는 약액을 제거하는 역할을 한다.In detail, the first pure
상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)는 상기 제1 필터(111)를 중심으로 배치되어 상기 제1 순수 공급 라인(141, 142)을 개폐한다. 상기 제5 밸브(151)는 상기 순수 유입 라인(141)에 구비되어 상기 순수 유입 라인(141)을 개폐하고, 상기 제6 밸브(152)는 상기 순수 배출 라인(142)에 구비되어 상기 순수 배출 라인(142)을 개폐한다. 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)가 개방되면 상기 순수가 상기 제1 약액 공급 라인(101)을 흐르고, 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)가 닫히면 상기 순수의 흐름은 정지된다. The fifth and
상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)는 상기 제어부(160)의 전기적 신호에 따라 개폐되며, 상기 전기적 신호에 따라 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)를 개폐하는 밸브 개폐 장치를 포함할 수 있다. 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)의 개폐는 실질적으로 동시에 이루어질 수 있다. 상기 제어부(160)는 상기 제1 약액 공급 라인(101)으로 제공되는 상기 약액을 차단한 후, 상기 제1 약액 공급 라인(101)으로 상기 순수를 공급하도록 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)를 제어할 수 있다. The fifth and
상기 제2 순수 공급 라인(143, 144)은 상기 제2 약액 공급 라인(102)과 연결되며, 상기 제2 약액 공급 라인(102)을 세척하도록 순수를 공급한다. 상기 제2 순수 공급 라인(143, 144)은 상기 제2 약액 공급 라인(102)에 연결되어 있다는 점 이외에 상기 제1 순수 공급 라인(141, 142)과 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The second pure
상기 제7 및 제8 밸브(153, 154)는 상기 제2 필터를 중심으로 배치되어 상기 제2 순수 공급 라인을 개폐한다. 상기 제7 및 제8 밸브(153, 154)는 상기 제2 순수 공급 라인(143, 144)에 연결되어 있다는 점 이외에 상기 제5 및 제6 밸브(151, 152)와 실질적으로 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.The seventh and
이에 의하여, 교체가 필요한 필터에 순수를 공급하여 잔존하는 약액을 제거하는 세정 작업을 자동으로 수행할 수 있다.Thereby, the washing | cleaning operation which removes the remaining chemical liquid by supplying pure water to the filter which needs replacement | exchange can be performed automatically.
이상에서는 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. You will understand.
본 발명에 따른 필터 변환 유닛은 필터를 중심으로 배치된 압력계들을 통해 약액의 수압을 측정하고, 상기 측정된 수압의 차에 따라 필터의 변환을 자동으로 수행할 수 있다. 또한, 교체가 필요한 필터에 순수를 긍급하여 약액을 제거하는 세정 작업을 자동으로 수행할 수 있다.The filter conversion unit according to the present invention measures the water pressure of the chemical liquid through a pressure gauge disposed around the filter, and can automatically perform the conversion of the filter according to the difference of the measured water pressure. In addition, it is possible to automatically perform a cleaning operation to remove the chemical liquid by supplying pure water to the filter that needs to be replaced.
10: 기판 20: 공정 챔버
30: 약액 저장 탱크 31: 약액 공급 라인
33: 약액 회수 라인 40: 펌프
100: 필터 변환 유닛
101: 제1 약액 공급 라인 102: 제2 약액 공급 라인
111: 제1 필터 112: 제2 필터
121, 122: 제1 및 제2 압력계 123, 124: 제3 및 제4 압력계
131, 132: 제1 및 제2 밸브 133, 134: 제3 및 제4 밸브
141, 142: 제1 순수 공급 라인 143, 144: 제2 순수 공급 라인
151, 152: 제5 및 제6 밸브 153, 154: 제7 및 제8 밸브
160: 제어부10
30: chemical liquid storage tank 31: chemical liquid supply line
33: chemical liquid return line 40: pump
100: filter conversion unit
101: first chemical liquid supply line 102: second chemical liquid supply line
111: first filter 112: second filter
121, 122: first and second pressure gauges 123, 124: third and fourth pressure gauges
131, 132: first and
141 and 142: first pure
151, 152: fifth and
160:
Claims (2)
상기 제1 필터를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 약액의 수압을 측정하는 제1 및 제2 압력계;
상기 제1 필터를 중심으로 상기 제1 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제1 약액 공급 라인을 개폐하는 제1 및 제2 밸브;
상기 약액을 공급하는 제2 약액 공급 라인에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거하기 위한 제2 필터;
상기 제2 필터를 중심으로 상기 제2 약액 공급 라인의 일단과 타단에 각각 구비되며, 상기 제2 약액 공급 라인을 개폐하는 제3 및 제4 밸브; 및
상기 제1 및 제2 압력계를 통해 측정된 수압의 차가 기준치 이상이면 상기 제1 약액 공급 라인으로 제공되는 상기 약액을 차단하고, 상기 제2 약액 공급 라인으로 상기 약액을 공급하도록 상기 제1 내지 제4 밸브를 제어하는 제어부를 포함하는 필터 변환 유닛.A first filter provided in a first chemical liquid supply line for supplying a chemical liquid and for removing impurities in the chemical liquid;
First and second manometers respectively provided at one end and the other end of the first chemical supply line around the first filter to measure the hydraulic pressure of the chemical solution;
First and second valves respectively provided at one end and the other end of the first chemical supply line around the first filter and opening and closing the first chemical supply line;
A second filter provided in a second chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid, for removing impurities in the chemical liquid;
Third and fourth valves provided at one end and the other end of the second chemical liquid supply line with respect to the second filter, respectively, to open and close the second chemical liquid supply line; And
When the difference in the water pressure measured by the first and second pressure gauge is equal to or more than the reference value, the chemical liquid provided to the first chemical liquid supply line is cut off, and the first to fourth to supply the chemical liquid to the second chemical liquid supply line Filter conversion unit comprising a control unit for controlling the valve.
상기 제1 약액 공급 라인과 연결되며, 상기 제1 약액 공급 라인을 세척하도록 순수를 공급하는 제1 순수 공급 라인;
상기 제1 필터를 중심으로 배치되어 상기 제1 순수 공급 라인을 개폐하는 제5 및 제6 밸브;
상기 제2 약액 공급 라인과 연결되며, 상기 제2 약액 공급 라인을 세척하도록 순수를 공급하는 제2 순수 공급 라인; 및
상기 제2 필터를 중심으로 배치되어 상기 제2 순수 공급 라인을 개폐하는 제7 및 제8 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 필터 변환 유닛.The method according to claim 1,
A first pure water supply line connected to the first chemical liquid supply line and supplying pure water to wash the first chemical liquid supply line;
Fifth and sixth valves arranged around the first filter to open and close the first pure water supply line;
A second pure water supply line connected to the second chemical liquid supply line and supplying pure water to wash the second chemical liquid supply line; And
And a seventh and eighth valve disposed around the second filter to open and close the second pure water supply line.
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KR101951313B1 (en) * | 2018-05-28 | 2019-02-22 | (주)도아테크 | System and method for providing chemical liquid |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01274812A (en) * | 1988-04-28 | 1989-11-02 | Toshiba Corp | Cleaning device for fluid |
KR100598918B1 (en) * | 2003-09-05 | 2006-07-10 | 세메스 주식회사 | A solution supply method and chemical solution supply apparatus in use the semiconductor device fabrication installation |
-
2011
- 2011-11-30 KR KR1020110127067A patent/KR20130060808A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01274812A (en) * | 1988-04-28 | 1989-11-02 | Toshiba Corp | Cleaning device for fluid |
KR100598918B1 (en) * | 2003-09-05 | 2006-07-10 | 세메스 주식회사 | A solution supply method and chemical solution supply apparatus in use the semiconductor device fabrication installation |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101951313B1 (en) * | 2018-05-28 | 2019-02-22 | (주)도아테크 | System and method for providing chemical liquid |
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