KR20170039360A - Tank filtering device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a tank filtering apparatus capable of shortening standby time of a substrate processing process by extending a replacement period of a filter installed in a chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid stored in a chemical liquid tank to a bath, thereby improving substrate processing efficiency. The tank filtering apparatus according to the present invention comprises: a chemical liquid tank in which a chemical liquid used for processing a substrate is stored; a first filter installed in a chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid stored in the chemical liquid tank to a bath in which the substrate is processed so as to filter foreign materials; and a second filter installed in a chemical liquid circulation pipe forming a circulation channel for mixing the chemical liquid stored in the chemical liquid tank to filter foreign materials.

Description

탱크 필터링 장치{Tank filtering device}Tank filtering device

본 발명은 탱크 필터링 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 약액에 포함된 이물질을 여과하기 위한 필터의 교체 주기를 연장시켜 기판 처리 공정의 대기시간을 단축함으로써 기판 처리 효율을 향상시킨 탱크 필터링 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tank filtering apparatus, and more particularly, to a tank filtering apparatus that improves substrate processing efficiency by shortening a waiting time of a substrate processing process by extending a replacement cycle of a filter for filtering foreign substances contained in a chemical liquid will be.

일반적으로 액정표시장치(LCD), 플라즈마 표시장치(PDP), 유기 발광 표시장치(OLED) 등과 같은 디스플레이장치는 영상을 표시하기 위한 표시 패널을 포함하고, 상기 표시 패널은 유리 재질의 기판을 기초로 하여 제조된다.2. Description of the Related Art Generally, a display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an organic light emitting diode (OLED) or the like includes a display panel for displaying an image, .

상기 표시 패널은 상기 기판을 대상으로 하는 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정, 검사 공정 등의 기판 처리 공정을 수행하여 제조된다.The display panel is manufactured by performing a substrate processing process such as a deposition process, an etching process, a photolithography process, a cleaning process, and an inspection process on the substrate.

일례로서, 기판 세정 공정은 기판을 배스(Bath) 내에 배치하고, 상기 배스에 약액(chemical)을 공급함으로써 수행된다. 따라서, 기판 세정 장치에는 약액을 배스 측으로 공급하고, 사용된 약액을 회수하는 탱크 필터링 장치가 설치된다. As an example, the substrate cleaning process is performed by disposing a substrate in a bath and supplying chemical to the bath. Therefore, the substrate cleaning apparatus is provided with a tank filtering device for supplying the chemical liquid to the bath side and recovering the used chemical liquid.

도 1을 참조하면, 종래 일반적인 탱크 필터링 장치(1)는, 약액 탱크(10)에 저장된 약액을 배스(B) 측으로 공급하기 위한 약액 공급관(20)이 약액 탱크(10)의 하부 일측에 연결되고, 약액 공급관(20)에는 약액 공급펌프(21)와 밸브(22) 및 필터(23)가 설치된다. 1, a conventional tank filtration apparatus 1 includes a chemical solution supply pipe 20 for supplying a chemical solution stored in a chemical solution tank 10 to a bath B side is connected to a lower side of a chemical solution tank 10 A chemical liquid supply pump 21, a valve 22 and a filter 23 are installed in the chemical liquid supply pipe 20.

상기 배스(B)에서 기판의 처리에 사용된 약액은 약액 회수관(30)을 통해 약액 탱크(10)로 회수되고, 약액 회수관(30)에는 관로를 개폐하기 위한 밸브(31)가 설치된다.The chemical liquid used in the treatment of the substrate in the bath B is recovered to the chemical liquid tank 10 through the liquid recovery pipe 30 and the valve 31 for opening and closing the pipeline is installed in the chemical liquid recovery pipe 30 .

상기 약액 탱크(10)의 내부에는 약액을 기판 처리 공정에 적합한 온도로 가열하기 위한 히터(11)가 설치되고, 약액 탱크(10)의 일측에는 약액 탱크(10) 내에 저장된 약액을 순환시켜 약액이 균일한 온도 분포를 갖도록 혼합하기 위한 약액 순환관(40)이 연결 설치되고, 약액 순환관(40)에는 약액의 압송을 위한 약액 순환펌프(41)와, 약액 순환관(40)의 관로를 개폐하기 위한 밸브(41,42)가 설치된다.A heater 11 for heating the chemical liquid to a temperature suitable for substrate processing is provided in the chemical liquid tank 10 and a chemical liquid stored in the chemical liquid tank 10 is circulated to one side of the chemical liquid tank 10, A chemical liquid circulating pipe 40 for mixing the liquid chemical liquid circulating pipe 40 and the chemical liquid circulating pipe 40 so as to have a uniform temperature distribution is connected to the chemical liquid circulating pipe 40. The chemical liquid circulating pipe 40 is provided with a chemical liquid circulating pump 41 for feeding the chemical liquid, The valves 41 and 42 are provided.

이와 같이 상기 약액 공급관(20)에는 약액에 포함된 이물질을 여과하기 위한 필터(23)가 설치되는데, 사용 시간이 경과함에 따라 필터(23)에는 이물질이 부착되어 일정한 주기로 교체를 요하게 되며, 필터(23)를 교체하는 동안에는 기판 처리 공정이 중단되고, 기판 처리 공정이 재개될 때까지의 대기 시간에 비례하여 기판의 생산성이 떨어지게 되며, 사용되는 필터(23)가 고가일 경우에는 필터(23)를 자주 교체함에 따라 장치의 운용 비용이 상승하게 되는 문제점이 있다.As described above, the filter 23 for filtering the foreign substances contained in the chemical liquid is installed in the chemical liquid supply pipe 20, and foreign matter is attached to the filter 23 as the use time passes, 23, the substrate processing process is interrupted, and the productivity of the substrate is decreased in proportion to the waiting time until the substrate processing process is resumed. When the used filter 23 is expensive, the filter 23 There is a problem that the operation cost of the apparatus is increased due to frequent replacement.

상기와 같은 탱크 필터링 장치와 관련된 선행기술로서, 공개특허 제10-2008-0056799호, 공개특허 제10-2015-0060547호 등에는 약액 탱크에 저장된 약액을 필터에 의해 여과한 후에 약액 공급관을 통하여 기판 처리 장치로 공급하는 구성이 개시되어 있으나, 전술한 바와 마찬가지로 필터의 교체에 따라 기판 처리 공정이 지연되는 문제점을 해결하기 위한 수단은 미비한 상황이다.As a prior art related to the above-described tank filtering device, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-2008-0056799 and 10-2015-0060547 disclose a technique of filtering a chemical solution stored in a chemical liquid tank by a filter, However, the means for solving the problem that the substrate processing process is delayed in accordance with the replacement of the filter in the same manner as described above is insufficient.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 약액 탱크에 저장된 약액을 배스 측으로 공급하기 위한 약액 공급관에 설치되는 필터의 교체 주기를 연장시킴으로써 기판 처리 공정의 대기시간을 단축하여 기판의 처리 효율을 향상시킬 수 있는 탱크 필터링 장치를 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to shorten the waiting time of the substrate processing process by extending the replacement period of the filter installed in the chemical solution supply pipe for supplying the chemical solution stored in the chemical solution tank to the bath side, And an object of the present invention is to provide a tank filtering device capable of improving efficiency.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 탱크 필터링 장치는, 기판의 처리에 사용되는 약액이 저장되는 약액 탱크; 상기 약액 탱크에 저장된 약액을 기판이 처리되는 배스 측으로 공급하기 위한 약액 공급관에 설치되어 이물질을 여과하는 제1필터; 및 상기 약액 탱크에 저장된 약액의 혼합을 위한 순환유로를 형성하는 약액 순환관에 설치되어 이물질을 여과하는 제2필터를 포함하여 구성된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a tank filtering apparatus comprising: a chemical liquid tank storing a chemical liquid used for processing a substrate; A first filter installed in a chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid stored in the chemical liquid tank to the side of the bath where the substrate is to be processed, And a second filter installed in a chemical solution circulation tube for forming a circulation channel for mixing the chemical solution stored in the chemical solution tank and filtering the foreign matter.

상기 약액 순환관에는 상기 제2필터의 역세척을 위한 역세척부가 연결 설치된 것을 특징으로 한다.And a backwashing unit for backwashing the second filter is connected to the chemical solution circulation pipe.

상기 역세척부는, 상기 제2필터의 입구측에 위치하는 약액 순환관에서 분기되어 상기 제2필터의 출구측에 위치하는 약액 순환관에 연결되어, 상기 제2필터의 역세척을 위한 약액이 공급되는 역세척 공급관과, 상기 제2필터의 입구측과 상기 역세척 공급관 사이에 위치하는 약액 순환관에서 분기되어, 상기 제2필터를 통과한 약액과 이물질이 드레인되는 역세척 배출관을 포함하여 구성될 수 있다.The backwashing unit is connected to a chemical solution circulation pipe branched from a chemical solution circulation pipe located at an inlet side of the second filter and positioned at an outlet side of the second filter, And a backwash discharge pipe branched from the chemical solution circulation pipe located between the inlet side of the second filter and the backwashing supply pipe and through which the chemical solution having passed through the second filter and the foreign substance are drained .

상기 약액 순환관에는, 상기 역세척 공급관과 역세척 배출관 사이에 위치하는 약액 순환관의 관로를 개폐하는 제1자동밸브와, 상기 제2필터의 출구측의 약액 순환관의 관로를 개폐하는 제2자동밸브가 구비되고, 상기 역세척 공급관에는 제3자동밸브가 구비되며, 상기 역세척 배출관에는 제4자동밸브가 구비될 수 있다.The chemical liquid circulation pipe is provided with a first automatic valve for opening and closing a channel of a chemical liquid circulation pipe located between the backwashing supply pipe and the backwashing discharge pipe and a second automatic valve for opening and closing the channel of the chemical solution circulation pipe at the outlet side of the second filter An automatic valve may be provided, a third automatic valve may be provided in the backwash pipe, and a fourth automatic valve may be provided in the backwash pipe.

상기 약액 순환관에는 압력감지부가 구비되고, 상기 압력감지부에서 감지된 압력이 설정된 압력 이하인 경우, 상기 제1자동밸브와 제2자동밸브는 열리고, 상기 제3자동밸브와 제4자동밸브는 닫히도록 제어될 수 있다.The first automatic valve and the second automatic valve are opened and the third automatic valve and the fourth automatic valve are closed when the pressure sensed by the pressure sensing unit is equal to or lower than the set pressure, .

상기 약액 순환관에는 압력감지부가 구비되고, 상기 압력감지부에서 감지된 압력이 설정된 압력을 초과하는 경우, 상기 제1자동밸브와 제2자동밸브는 닫히고, 상기 제3자동밸브와 제4자동밸브는 열리도록 제어될 수 있다.Wherein the first automatic valve and the second automatic valve are closed when the pressure sensed by the pressure sensing unit exceeds a set pressure, and the third automatic valve and the fourth automatic valve Can be controlled to open.

상기 약액 순환관에는, 상기 약액의 순환 시, 또는 상기 제2필터의 역세척을 위한 약액의 공급 시, 약액의 압송을 위해 공용으로 사용되는 약액 순환펌프가 구비될 수 있다.The chemical solution circulation pipe may be provided with a chemical solution circulation pump commonly used for circulating the chemical solution or for feeding the chemical solution for supplying the chemical solution for backwashing of the second filter.

상기 약액 탱크는 복수로 구비되고, 상기 복수의 약액 탱크에는 상기 약액 공급관에 연결되는 약액 배출관이 각각 설치되어, 상기 복수의 약액 탱크 중 선택된 어느 하나가 상기 배스 측으로 약액을 공급하도록 구비될 수 있다.The chemical liquid tank may include a plurality of chemical liquid tanks, and the chemical liquid tank may be provided with a chemical liquid discharge pipe connected to the chemical liquid supply pipe, and one selected from the plurality of chemical liquid tanks may supply the chemical liquid to the bath side.

본 발명에 따른 탱크 필터링 장치에 의하면, 약액 탱크의 일측에 연결되는 약액 순환관에 제2필터를 구비하여 약액 순환관을 따라 순환 유동되는 약액에 포함된 이물질을 여과함으로써, 약액 탱크와 배스 사이를 연결하는 약액 공급관에 설치되는 제1필터의 교체 주기를 연장시켜 기판 처리 공정의 대기시간을 단축하여 기판의 처리 효율을 향상시킬 수 있다. According to the tank filtering apparatus of the present invention, the second filter is provided in the chemical liquid circulation pipe connected to one side of the chemical liquid tank, so that the foreign substances contained in the chemical liquid circulatingly flowing along the chemical liquid circulating pipe are filtered, The replacement period of the first filter installed in the chemical liquid supply pipe to be connected is extended to shorten the standby time of the substrate processing process, thereby improving the processing efficiency of the substrate.

또한 약액 순환관에는 제2필터의 역세척을 위한 역세척부를 연결 설치함으로써, 제2필터의 주기적인 역세척에 의해 제2필터의 여과 성능을 향상시킴과 아울러 수명을 연장시킬 수 있다.In addition, the backwashing section for backwashing the second filter is connected to the chemical liquid circulation pipe, thereby improving the filtration performance of the second filter by periodic backwashing of the second filter and extending the service life.

또한 약액 순환관에 설치된 압력감지부에서 측정된 압력이 설정된 압력을 초과하는 경우에 약액 순환관을 따르는 약액의 순환이 중단됨과 아울러 상기 역세척부에 의한 제2필터의 역세척이 자동으로 이루어져 장비 운용의 편의성을 향상시킬 수 있다.In addition, when the pressure measured by the pressure sensing unit installed in the chemical solution circulation pipe exceeds the set pressure, the circulation of the chemical solution along the chemical solution circulation pipe is stopped and the backwashing of the second filter by the backwashing unit is automatically performed, The convenience of operation can be improved.

또한 약액 탱크를 복수로 구비하고 복수의 약액 탱크는 어느 하나가 선택적으로 상기 배스 측으로 약액을 공급하도록 구성함으로써, 약액의 연속적인 공급이 가능해져 기판의 처리 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, a plurality of chemical liquid tanks are provided, and one of the chemical liquid tanks selectively supplies the chemical liquid to the bath side, whereby the chemical liquid can be continuously supplied, and the processing efficiency of the substrate can be further improved.

도 1은 종래 일반적인 탱크 필터링 장치의 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 탱크 필터링 장치의 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 탱크 필터링 장치에서 약액의 공급 시 상태도,
도 4는 본 발명에 따른 탱크 필터링 장치에서 제2필터의 역세척 시 상태도.FIG. 1 is a block diagram of a conventional tank filtering apparatus,
2 is a configuration diagram of a tank filtering apparatus according to the present invention,
FIG. 3 is a state diagram of a tank filtering apparatus according to the present invention,
FIG. 4 is a state view of the second filter in backwashing in the tank filtering apparatus according to the present invention. FIG.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 탱크 필터링 장치(100)는, 기판 처리에 사용되는 약액이 저장되는 약액 탱크(110,110-1)와, 상기 약액 탱크(110,110-1)에 저장된 약액을 기판이 처리되는 배스(B) 측으로 공급하기 위한 약액 공급관(130)에 설치되어 약액에 포함된 이물질을 여과하는 제1필터(131), 및 상기 약액 탱크(110)의 일측에 연결되어 약액의 혼합을 위한 순환유로를 형성하는 약액 순환관(150)에 설치되어 이물질을 여과하는 제2필터(152)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the tank filtering apparatus 100 according to the present invention includes a chemical liquid tank 110, 110 - 1 for storing a chemical liquid used for processing a substrate, a chemical liquid tank 110, 110 - A first filter 131 installed in the chemical liquid supply pipe 130 for supplying the chemical liquid to the treated side of the bath B and filtering the foreign substances contained in the chemical liquid and a second filter 131 connected to one side of the chemical liquid tank 110 for mixing the chemical liquid And a second filter (152) installed in the chemical liquid circulation pipe (150) for forming a circulating flow path and filtering the foreign substances.

상기 약액 탱크(110,110-1)는 복수로 구비되고, 상기 복수의 약액 탱크(110,110-1)는 선택된 어느 하나가 상기 배스(B) 측으로 약액을 공급하도록 구비된다.A plurality of the chemical liquid tanks 110 and 110-1 are provided, and the selected one of the chemical liquid tanks 110 and 110-1 is provided to supply the chemical liquid to the bath B side.

상기 복수의 약액 탱크(110,110-1)는 동일한 구성으로 이루어지므로, 이하에서는 일측에 배치되는 약액 탱크(110)를 중심으로 그 구성 및 작용을 설명한다.Since the plurality of chemical liquid tanks 110 and 110-1 have the same configuration, the structure and action of the chemical liquid tanks 110 disposed on one side will be described below.

상기 약액 탱크(110)의 하부 일측에는 약액 탱크(110) 내에 저장된 약액을 상기 약액 공급관(130)으로 공급하기 위한 약액 배출관(120)이 연결되고, 상기 약액 배출관(120)에는 약액의 압송을 위한 약액 공급펌프(121)와, 약액 배출관(120)의 관로를 개폐하기 위한 밸브(122)가 설치된다.A chemical liquid discharge pipe 120 for supplying the chemical liquid stored in the chemical liquid tank 110 to the chemical liquid supply pipe 130 is connected to one side of the lower side of the chemical liquid tank 110. In the chemical liquid discharge pipe 120, A chemical liquid supply pump 121 and a valve 122 for opening and closing a channel of the chemical liquid discharge pipe 120 are provided.

상기 약액 탱크(110)는, 기판의 처리 공정에 사용되는 약액을 균일한 온도 분포를 갖도록 혼합하여 공급하기 위한 구성으로서, 약액 탱크(110)의 내부에는 저장된 약액을 기판 처리에 적정한 온도로 가열하기 위한 히터(111)가 설치되고, 약액 탱크(110)의 일측에는 약액 탱크(110) 내에 저장된 약액을 순환시켜 고르게 혼합하기 위한 약액 순환관(150)이 설치된다.The chemical liquid tank 110 is configured to mix chemical liquid used in a substrate processing process so as to have a uniform temperature distribution. The chemical liquid tank 110 is configured to heat the chemical liquid stored in the chemical liquid tank 110 to a temperature suitable for substrate processing And a chemical solution circulating pipe 150 for circulating and mixing the chemical solution stored in the chemical solution tank 110 is installed at one side of the chemical solution tank 110. [

상기 약액 순환관(150)에는, 약액의 압송을 위한 약액 순환펌프(151)와, 순환되는 약액에 포함된 이물질를 여과하기 위한 제2필터(152)와, 약액 순환관(150) 내부의 압력을 측정하기 위한 압력감지부(153)와, 약액 순환관(150)의 관로를 개폐하기 위한 밸브(154,155,156)가 구비된다. 상기 밸브(154)는 수동밸브로 구성되고, 상기 밸브(155,156)는 자동밸브로 구성될 수 있다.The chemical solution circulation pipe 150 is provided with a chemical solution circulation pump 151 for feeding the chemical solution, a second filter 152 for filtering the foreign substances contained in the circulating chemical solution, And a valve 154 for opening and closing the channel of the chemical solution circulation pipe 150 are provided. The valve 154 may be a manual valve, and the valves 155 and 156 may be an automatic valve.

이와 같이 약액 순환관(150)에 제2필터(152)를 설치하여 약액 순환관(150)을 따라 순환되는 약액에 포함된 이물질을 1차로 걸러냄으로써, 약액 공급관(130)에는 제2필터(152)에 의해 여과된 약액이 공급되어 약액 공급관(130)에 설치되는 제1필터(131)의 여과 부하를 경감할 수 있으며, 이로써 제1필터(131)의 수명 및 교체주기를 연장할 수 있게 된다.The second filter 152 is installed in the chemical solution circulation pipe 150 so that the foreign substances contained in the chemical solution circulated along the chemical solution circulation pipe 150 are firstly filtered so that the second filter 152 The filtering load of the first filter 131 installed in the chemical liquid supply pipe 130 can be reduced and the life of the first filter 131 and the replacement period can be extended .

상기 약액 순환관(150)에는 상기 제2필터(152)에 내장된 다공질의 여과재(미도시됨)가 이물질에 의해 막힘이 발생한 경우에 약액이 순환되는 유동방향과 반대방향으로 약액을 유동시켜 여과재에 부착된 이물질을 분리 및 제거하기 위한 역세척부(160)가 연결 설치된다.When the porous filter medium (not shown) built in the second filter 152 is clogged by the foreign substance, the chemical liquid circulating pipe 150 flows the chemical liquid in the direction opposite to the flow direction in which the chemical liquid is circulated, And a back washing unit 160 for separating and removing foreign matter adhered to the back washing unit 160.

상기 역세척부(160)는, 제2필터(152)의 입구측(152a)에 위치하는 약액 순환관(150)에서 분기되어 제2필터(152)의 출구측(152b)에 위치하는 약액 순환관(150)에 연결되어, 제2필터(152)의 역세척을 위한 약액이 공급되는 역세척 공급관(161)과, 상기 제2필터(152)의 입구측(152a)과 역세척 공급관(161) 사이에 위치하는 약액 순환관(150)에서 분기되어, 제2필터(152)를 통과한 약액과 이물질이 드레인되는 역세척 배출관(162)을 포함하여 구성될 수 있다.The backwashing section 160 is branched from the chemical solution circulation pipe 150 located at the inlet side 152a of the second filter 152 and flows into the chemical solution circulation pipe 150b located at the outlet side 152b of the second filter 152, A backwashing pipe 161 connected to the pipe 150 and supplied with a chemical solution for backwashing the second filter 152 and a backwashing pipe 161 connected to the inlet side 152a of the second filter 152 and the backwash pipe 161 And a backwash discharge pipe 162 branched from the chemical solution circulation pipe 150 located between the first filter 152 and the second filter 152 and through which the chemical solution and the foreign substance are drained.

상기 약액 순환관(150)에는, 역세척 공급관(161)과 역세척 배출관(162) 사이에 위치하는 약액 순환관(150)의 관로를 개폐하는 제1자동밸브(155)와, 제2필터(152)의 출구측(152b)의 약액 순환관(150)의 관로를 개폐하는 제2자동밸브(156)가 구비되고, 상기 역세척 공급관(161)에는 제3자동밸브(163)가 구비되며, 상기 역세척 배출관(162)에는 제4자동밸브(164)가 구비될 수 있다.The chemical liquid circulating pipe 150 is provided with a first automatic valve 155 for opening and closing a channel of the chemical liquid circulating pipe 150 located between the backwashing supply pipe 161 and the backwashing discharge pipe 162, A second automatic valve 156 for opening and closing the channel of the chemical solution circulation pipe 150 at the outlet side 152b of the backwashing pipe 152 is provided and a third automatic valve 163 is provided in the backwashing supply pipe 161, The backwash discharge pipe 162 may include a fourth automatic valve 164.

상기 약액 순환관(150)에는 약액의 순환 시, 또는 제2필터(152)의 역세척을 위한 약액의 공급 시, 약액의 압송을 위해 공용으로 사용되는 약액 순환펌프(151)가 구비된다. 이와 같이 단일의 약액 순환펌프(151)를 사용하여 약액의 순환 유동과, 그 반대방향인 역세척 유동을 함께 구현할 수 있게 되므로 장치의 구성이 간소화되는 장점이 있다.The chemical solution circulation pipe 150 is provided with a chemical solution circulation pump 151 that is used commonly for circulating the chemical solution or for feeding the chemical solution for the backwashing of the second filter 152. Thus, the circulation flow of the chemical liquid and the backwashing flow in the opposite direction can be implemented by using the single chemical liquid circulation pump 151, which simplifies the structure of the apparatus.

한편, 상기 약액 순환관(150)에는 그 관로 내부의 압력을 감지하기 위한 압력감지부(153)를 포함한다. Meanwhile, the chemical solution circulation pipe 150 includes a pressure sensing part 153 for sensing a pressure inside the chemical solution circulation pipe 150.

상기 압력감지부(153)에서 감지된 압력이 설정된 압력 이하인 경우, 제어부(미도시됨)는 제2필터(152)의 여과재가 정상 상태인 것으로 판단하여, 상기 제1자동밸브(155)와 제2자동밸브(156)는 열리고, 상기 제3자동밸브(163)와 제4자동밸브(164)는 닫히도록 제어함으로써, 약액 순환관(150)을 따라 약액의 순환이 이루어지도록 한다.When the pressure sensed by the pressure sensing unit 153 is equal to or lower than the predetermined pressure, the control unit (not shown) determines that the filter material of the second filter 152 is in a normal state, 2 automatic valve 156 is opened and the third automatic valve 163 and the fourth automatic valve 164 are closed so that circulation of the chemical solution along the chemical solution circulation pipe 150 is performed.

이와 달리, 상기 압력감지부(153)에서 감지된 압력이 설정된 압력을 초과하는 경우, 상기 제1자동밸브와 제2자동밸브는 닫히고, 상기 제3자동밸브와 제4자동밸브는 열리도록 제어함으로써, 약액 순환관(150)을 따르는 약액의 순환이 중단되도록 제어함과 아울러 상기 역세척부(160)에 의해 제2필터(152)의 역세척이 수행되도록 한다.Alternatively, when the pressure sensed by the pressure sensing unit 153 exceeds a set pressure, the first automatic valve and the second automatic valve are closed, and the third automatic valve and the fourth automatic valve are controlled to be opened The circulation of the chemical solution along the chemical solution circulation pipe 150 is stopped and the backwashing of the second filter 152 is performed by the backwashing unit 160. [

이와 같이 약액 순환관(150)에 역세척부(160)를 연결 설치함으로써, 제2필터(152)의 주기적인 역세척에 의해 제2필터(152)의 여과 성능을 향상시키고, 교체주기를 연장시킬 수 있다.By connecting the backwashing section 160 to the chemical solution circulating pipe 150 in this manner, the filtration performance of the second filter 152 can be improved by periodically backwashing the second filter 152, .

한편, 상기 약액 탱크(110)의 상부 일측에는 배스(B)에서 기판 처리 공정에 사용된 약액이 약액 탱크(110)로 회수되는 약액 회수관(140)이 연결되고, 상기 약액 회수관(140)의 관로를 개폐하기 위한 밸브(141)가 설치된다.A chemical solution return pipe 140 is connected to one side of the upper side of the chemical solution tank 110 to recover the chemical solution used in the substrate treatment process in the bath B to the chemical solution tank 110. In the chemical solution return pipe 140, And a valve 141 for opening and closing the pipeline.

그리고, 상기 약액 탱크(110)의 상부 타측에는 새로운 약액을 공급하기 위한 약액 보충관(170)과, 상기 약액 보충관(170)을 개폐하기 위한 밸브(171)가 설치되고, 약액 탱크(110)의 하부에는 재사용된 처리액을 배출하기 위한 드레인관(180)과, 상기 드레인라인(180)을 개폐하기 위한 밸브(181)가 설치된다.A liquid medicine replenishing line 170 for supplying a new liquid medicine and a valve 171 for opening and closing the liquid medicine replenishing line 170 are provided on the upper side of the chemical liquid tank 110, A drain pipe 180 for discharging the reused process liquid and a valve 181 for opening and closing the drain line 180 are provided at a lower portion of the drain pipe 180.

이하, 도 3과 도 4를 참조하여, 본 발명에 따른 탱크 필터링 장치(100)의 작용을 설명한다. 도 3과 도 4에서는 설명의 편의를 위해 약액 탱크(110,110-1) 내의 약액을 혼합하기 위해 약액이 순환 유동하는 관로에는 실선 화살표로 유동방향을 표시하고, 제2필터(152)의 역세척을 위해 약액이 공급되는 관로에는 점선 화살표로 유동방향을 표시하였으며, 약액이 유동하는 관로는 굵은 선으로 도시하였다.Hereinafter, the operation of the tank filtering apparatus 100 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. In FIGS. 3 and 4, for convenience of explanation, a flow direction is indicated by a solid line arrow on the pipe through which the chemical liquid circulates for mixing the chemical liquid in the chemical liquid tanks 110 and 110-1, and the backwashing of the second filter 152 is performed The pipeline through which the chemical liquid is supplied is indicated by a dotted arrow and the pipeline through which the chemical liquid flows is shown by a thick line.

도 3을 참조하면, 약액의 공급 시, 약액 탱크(110)에 저장된 약액은, 히터(111)에 의해 설정된 온도로 가열되고, 약액 순환관(150)에 설치된 밸브(154,155,156)가 열리고, 역세척부(160)에 설치된 밸브(163,164)가 닫힌 상태에서 약액 순환펌프(151)의 동작에 의해 순환 유동되면서 혼합된다. 3, when the chemical liquid is supplied, the chemical liquid stored in the chemical liquid tank 110 is heated to a temperature set by the heater 111, the valves 154, 155 and 156 provided in the chemical liquid circulating pipe 150 are opened, The valves 163 and 164 provided in the unit 160 are closed and circulated and mixed by the operation of the chemical liquid circulating pump 151. [

약액 탱크(110) 내에서 설정된 온도로 가열된 약액은, 약액 배출관(120)에 설치된 약액 공급펌프(121)의 동작에 의해 약액 배출관(120)과 약액 공급관(130)을 통과하여 배스(B) 측으로 공급된다. 이 경우 약액 공급관(130)의 일측에 연결된 밸브(122)는 개방되고, 타측에 연결된 밸브(122')는 닫힌 상태에서, 일측에 위치하는 약액 탱크(110)에 저장된 약액이 배스(B) 측으로 공급되고, 타측에 위치하는 약액 탱크(110-1)는 약액의 공급이 중단되도록 한다.The chemical liquid heated to the set temperature in the chemical liquid tank 110 flows through the chemical liquid supply pipe 120 and the chemical liquid supply pipe 130 by the operation of the chemical liquid supply pump 121 installed in the chemical liquid discharge pipe 120, . In this case, the valve 122 connected to one side of the chemical solution supply pipe 130 is opened and the chemical solution stored in the chemical solution tank 110 located on one side is discharged to the side of the bath B And the chemical liquid tank 110-1 located on the other side is stopped to supply the chemical liquid.

그리고, 배스(B)에서 기판 처리 공정에 사용된 약액은 약액 회수관(140)을 통하여 약액 탱크(110)로 회수된다.The chemical liquid used in the substrate processing process in the bath B is recovered to the chemical liquid tank 110 through the chemical liquid recovery pipe 140.

도 4를 참조하면, 약액 탱크(110)에 저장된 약액의 공급이 일정 기간 지속되어 유체 순환관(150)에 구비된 압력감지부(153)에서 설정된 압력값을 초과하는 압력이 감지된 경우에는 역세척부(160)의 동작에 의해 제2필터(152)의 역세척 동작이 수행된다. 이때, 일측에 위치하는 약액 탱크(110)의 약액 공급은 중단되고, 타측에 위치하는 약액 탱크(110-1)에 의해 전술한 바와 같은 약액의 공급이 수행된다.4, when the supply of the chemical solution stored in the chemical liquid tank 110 is continued for a certain period of time and a pressure exceeding the set pressure value is detected by the pressure sensing unit 153 provided in the fluid circulation pipe 150, The backwashing operation of the second filter 152 is performed by the operation of the washing unit 160. [ At this time, the supply of the chemical solution to the chemical solution tank 110 located at one side is stopped, and the supply of the chemical solution as described above is performed by the chemical solution tank 110-1 located at the other side.

상기 역세척부(160)에 의한 제2필터(152)의 역세척 과정은, 밸브(154,163,164)가 개방되고, 밸브(155,156)이 닫힌 상태에서 약액 순환펌프(151)가 구동되면, 약액 탱크(110) 내의 약액은 약액 순환관(150)과 역세척 공급관(161)을 통하여 제2필터(152)의 출구측(152b)에서 입구측(152a)을 향하여 유동하면서 제2필터(152)의 역세척을 수행하게 되고, 제2필터(152)를 통과한 약액과 제2필터(152)에서 분리된 이물질은 역세척 배출관(162)을 통하여 배출된다.The backwashing process of the second filter 152 by the backwashing unit 160 is performed in a state in which the valves 154 and 163 are opened and the chemical solution circulating pump 151 is driven while the valves 155 and 156 are closed, 110 flows from the outlet side 152b of the second filter 152 toward the inlet side 152a through the chemical liquid circulation pipe 150 and the backwashing supply pipe 161, And the foreign substance separated from the second filter 152 and the chemical liquid that has passed through the second filter 152 is discharged through the backwash discharge pipe 162. [

상기와 같이 본 발명에서는 복수로 구비되는 약액 탱크(110,110-1)를 선택적으로 사용하여 약액이 배스(B) 측으로 연속적으로 공급되도록 하고, 약액 탱크(110,110-1)의 일측에 연결된 약액 순환관(150)에 제2필터(152)를 추가로 설치함과 아울러 제2필터(152)가 막힌 경우에는 역세척을 수행함으로써, 제1필터(131)와 제2필터(152)의 여과 성능을 향상시키고 교체주기를 연장할 수 있게 되며, 궁극적으로는 기판 처리 공정의 대기시간을 줄여 기판 처리 효율을 향상시킬 수 있다.As described above, in the present invention, a plurality of chemical liquid tanks 110 and 110-1 are selectively used to continuously supply the chemical liquid to the side of the bath B, and a chemical liquid circulating pipe (not shown) connected to one side of the chemical liquid tanks 110 and 110-1 The first filter 131 and the second filter 152 may be improved in filtration performance by further performing a backwash when the second filter 152 is further installed in the first filter 150 and the second filter 152 is clogged. And it is possible to extend the replacement cycle, and ultimately, the substrate processing efficiency can be improved by reducing the standby time of the substrate processing process.

B : 배스 100 : 탱크 필터링 장치
110,110-1 : 약액 탱크 111 : 히터
120 : 약액 배출관 121 : 약액 공급펌프
130 : 약액 공급관 131 : 제1필터
140 : 약액 회수관 150 : 약액 순환관
151 : 약액 순환펌프 152 : 제2필터
153 : 압력감지부 160 : 역세척부
161 : 역세척 공급관 162 : 역세척 배출관
170 : 약액 보충관 180 : 드레인관B: Bath 100: Tank filtering device
110,110-1: chemical tank 111: heater
120: chemical liquid discharge pipe 121: chemical liquid supply pump
130: chemical liquid supply pipe 131: first filter
140: chemical solution return pipe 150: chemical solution circulation pipe
151: chemical liquid circulation pump 152: second filter
153: pressure sensing part 160: backwash part
161: backwash supply pipe 162: backwash discharge pipe
170: chemical replenishment pipe 180: drain pipe

Claims (8)

기판의 처리에 사용되는 약액이 저장되는 약액 탱크;
상기 약액 탱크에 저장된 약액을 기판이 처리되는 배스 측으로 공급하기 위한 약액 공급관에 설치되어 이물질을 여과하는 제1필터; 및
상기 약액 탱크에 저장된 약액의 혼합을 위한 순환유로를 형성하는 약액 순환관에 설치되어 이물질을 여과하는 제2필터;
를 포함하는 탱크 필터링 장치.
A chemical liquid tank in which a chemical liquid used for processing the substrate is stored;
A first filter installed in a chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid stored in the chemical liquid tank to the side of the bath where the substrate is to be processed, And
A second filter installed in a chemical solution circulation pipe for forming a circulation flow path for mixing the chemical solution stored in the chemical solution tank and filtering foreign substances;
And a tank filtering device.
제1항에 있어서,
상기 약액 순환관에는 상기 제2필터의 역세척을 위한 역세척부가 연결 설치된 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
The method according to claim 1,
And a backwashing unit for backwashing the second filter is connected to the chemical solution circulation pipe.
제2항에 있어서,
상기 역세척부는,
상기 제2필터의 입구측에 위치하는 약액 순환관에서 분기되어 상기 제2필터의 출구측에 위치하는 약액 순환관에 연결되어, 상기 제2필터의 역세척을 위한 약액이 공급되는 역세척 공급관과,
상기 제2필터의 입구측과 상기 역세척 공급관 사이에 위치하는 약액 순환관에서 분기되어, 상기 제2필터를 통과한 약액과 이물질이 드레인되는 역세척 배출관을 포함하는 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
3. The method of claim 2,
The back-
A backwash pipe connected to a chemical solution circulation pipe branching from a chemical solution circulation pipe located at an inlet side of the second filter and positioned at an outlet side of the second filter and supplied with a chemical solution for backwashing the second filter; ,
And a backwash discharge pipe branched from the chemical solution circulation pipe located between the inlet side of the second filter and the backwashing supply pipe and through which the chemical solution and the foreign substances are drained through the second filter.
제3항에 있어서,
상기 약액 순환관에는, 상기 역세척 공급관과 역세척 배출관 사이에 위치하는 약액 순환관의 관로를 개폐하는 제1자동밸브와, 상기 제2필터의 출구측의 약액 순환관의 관로를 개폐하는 제2자동밸브가 구비되고,
상기 역세척 공급관에는 제3자동밸브가 구비되며,
상기 역세척 배출관에는 제4자동밸브가 구비된 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
The method of claim 3,
The chemical liquid circulation pipe is provided with a first automatic valve for opening and closing a channel of a chemical liquid circulation pipe located between the backwashing supply pipe and the backwashing discharge pipe and a second automatic valve for opening and closing the channel of the chemical solution circulation pipe at the outlet side of the second filter An automatic valve is provided,
The backwash supply pipe is provided with a third automatic valve,
Wherein the backwash outlet pipe is provided with a fourth automatic valve.
제4항에 있어서,
상기 약액 순환관에는 압력감지부가 구비되고,
상기 압력감지부에서 감지된 압력이 설정된 압력 이하인 경우, 상기 제1자동밸브와 제2자동밸브는 열리고, 상기 제3자동밸브와 제4자동밸브는 닫히도록 제어되는 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
5. The method of claim 4,
The chemical solution circulation pipe is provided with a pressure sensing part,
Wherein the first automatic valve and the second automatic valve are opened and the third automatic valve and the fourth automatic valve are closed when the pressure sensed by the pressure sensing unit is equal to or lower than a set pressure.
제4항에 있어서,
상기 약액 순환관에는 압력감지부가 구비되고,
상기 압력감지부에서 감지된 압력이 설정된 압력을 초과하는 경우, 상기 제1자동밸브와 제2자동밸브는 닫히고, 상기 제3자동밸브와 제4자동밸브는 열리도록 제어되는 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
5. The method of claim 4,
The chemical solution circulation pipe is provided with a pressure sensing part,
Wherein the first automatic valve and the second automatic valve are closed and the third automatic valve and the fourth automatic valve are controlled to be opened when the pressure sensed by the pressure sensing unit exceeds a set pressure. Device.
제3항에 있어서,
상기 약액 순환관에는, 상기 약액의 순환 시, 또는 상기 제2필터의 역세척을 위한 약액의 공급 시, 약액의 압송을 위해 공용으로 사용되는 약액 순환펌프가 구비된 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.
The method of claim 3,
Wherein the chemical solution circulation pipe is provided with a chemical solution circulation pump which is used commonly for circulation of the chemical solution or for feeding the chemical solution for supplying the chemical solution for backwashing of the second filter.
제1항에 있어서,
상기 약액 탱크는 복수로 구비되고, 상기 복수의 약액 탱크에는 상기 약액 공급관에 연결되는 약액 배출관이 각각 설치되어,
상기 복수의 약액 탱크 중 선택된 어느 하나가 상기 배스 측으로 약액을 공급하도록 구비된 것을 특징으로 하는 탱크 필터링 장치.The method according to claim 1,
A plurality of chemical liquid tanks are provided, and a plurality of chemical liquid tanks are respectively provided with chemical liquid discharge pipes connected to the chemical liquid supply pipes,
Wherein any one of the plurality of chemical liquid tanks is adapted to supply the chemical liquid to the bath side.
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