KR20130029770A - Anisotropic conductive film, bonded body, and connection method - Google Patents

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Abstract

도전성 입자, 막 형성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제, 및 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염을 함유하는 이방성 도전 필름을 제공한다.An anisotropic conductive film containing conductive particles, a film-forming resin, a radically polymerizable compound, a curing agent for generating free radicals, and an amine salt obtained from a phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent is provided.

Description

이방성 도전 필름, 접합체 및 접속 방법{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, BONDED BODY, AND CONNECTION METHOD}Anisotropic conductive film, bonded body and connection method {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, BONDED BODY, AND CONNECTION METHOD}

본 발명은, IC 칩, 액정 디스플레이 (LCD) 에 있어서의 액정 패널 (LCD 패널) 등의 회로 부재를 전기적으로 또한 기계적으로 접속시킬 수 있는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접합체 및 접속 방법에 관한 것이다.This invention is an anisotropic conductive film which can electrically and mechanically connect circuit members, such as an IC chip and a liquid crystal panel (LCD panel) in a liquid crystal display (LCD), and a bonding body and the connection method using the anisotropic conductive film It is about.

종래부터, 회로 부재를 접속시키는 수단으로서, 도전성 입자가 분산된 열경화성 수지를 박리 필름에 도포한 테이프상의 접속 재료 (예를 들어, 이방성 도전 필름 (ACF ; Anisotropic Conductive Film)) 이 사용되고 있다.Conventionally, the tape-shaped connection material (for example, anisotropic conductive film (ACF; Anisotropic Conductive Film)) which apply | coated the thermosetting resin in which electroconductive particle disperse | distributed to the peeling film is used as a means to connect a circuit member.

이 이방성 도전 필름은, 예를 들어, 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 이나 IC 칩의 단자와, LCD 패널의 유리 기판 상에 형성된 ITO (Indium Tin Oxide) 전극을 접속시키는 경우를 비롯하여, 다양한 단자끼리를 접착시킴과 함께 전기적으로 접속시키는 경우에 사용되고 있다.This anisotropic conductive film adheres various terminals, for example, when connecting the terminal of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC chip, and the ITO (Indium Tin Oxide) electrode formed on the glass substrate of an LCD panel. It is used when making electrical connection with shikim.

LCD 패널의 접속부는, 배선재 및 절연막이 교대로 배치되어 구성되어 있는데, 종래의 ACF 에서는 상기 배선재 및 상기 절연막에 대한 접착성이 충분히 만족할 수 있는 것이 아니라는 과제가 있었다.In the connection portion of the LCD panel, the wiring material and the insulating film are arranged alternately, but in the conventional ACF, there is a problem that the adhesiveness to the wiring material and the insulating film cannot be sufficiently satisfied.

그래서, 특허문헌 1 에는, 규소 원자에 수산기 또는 가수 분해성기가 결합된 규소 함유기를 갖는 아민염 화합물을 배합한 경화제 조성물이 제안되어 있다.Then, in patent document 1, the hardening | curing agent composition which mix | blended the amine salt compound which has the silicon containing group which the hydroxyl group or the hydrolyzable group couple | bonded with the silicon atom is proposed.

그러나, 이 제안에는, 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염에 대해서는 개시도 시사도 없고, 또한 ACF 에 대한 접착 강도 및 접속 신뢰성이 향상되는 것에 대해서도 기재는 없다.However, this proposal does not disclose or suggest the amine salt obtained from a phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent, and also mentions that the adhesive strength and connection reliability with respect to ACF improve.

또, 특허문헌 2 에는, 인산(메트)아크릴레이트와 3 급 아민류로 이루어지는 아민염이 개시되어 있는데, 함수 저감을 목적으로 한 것이며, 접착성이 향상되는 것, ACF 에 사용하는 것에 대해서는 개시도 시사도 되어 있지 않다.Moreover, although the amine salt which consists of phosphoric acid (meth) acrylate and tertiary amines is disclosed by patent document 2, it aims at reducing water content, and also shows the indication about what improves adhesiveness and uses for ACF. It is not.

일본 공개특허공보 평11-279424호Japanese Patent Laid-Open No. 11-279424 일본 공개특허공보 평7-118281호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 7-118281

본 발명은, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은, 극성이 높은 배선재 및 소수성이 높은 절연막의 쌍방에 양호한 접착성을 나타내고, 보존 안정성이 향상된 이방성 도전 필름, 그 이방성 도전 필름을 사용한 접합체 및 접속 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems and to achieve the following objects. That is, an object of this invention is to provide the anisotropic conductive film which showed favorable adhesiveness to both a wiring material with high polarity and an insulating film with high hydrophobicity, and improved the storage stability, the joined body using the anisotropic conductive film, and the connection method.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명자들이 예의 검토를 거듭한 결과, 인산(메트)아크릴레이트는 밀착력 (접착력) 을 향상시키기 위해 첨가되는데, 단독으로 사용하면 소수성이 높은 절연막에 대한 접착성이 억제되어, 바로 다른 재료 (특히 도전 입자) 에 달라붙기 쉽고, 그 결과, 저항값이 상승한다는 결점이 있었다. 한편, 아민계 실란 커플링제를 단독으로 첨가하면, 절연막에 대한 접착성은 향상되지만, 배선재에 대한 접착성이 저하된다는 문제가 있었다.As a result of diligent studies by the present inventors in order to solve the said subject, phosphoric acid (meth) acrylate is added in order to improve adhesive force (adhesive force), When used alone, the adhesiveness to an insulating film with high hydrophobicity is suppressed, It was easy to stick to another material (especially electroconductive particle) immediately, and as a result, there existed a fault that resistance value rose. On the other hand, when an amine silane coupling agent is added alone, the adhesiveness to an insulating film improves, but there existed a problem that adhesiveness to a wiring material falls.

그래서, 본 발명자들이 더욱 예의 검토를 진행시킨 결과, 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염을 함유시킴으로써, 극성이 높은 배선재와 소수성이 높은 절연막에 대한 밀착력을 양립시킬 수 있고, 아민계 실란 커플링제의 실활을 방지할 수 있기 때문에 보존 안정성이 향상되고, 도전성 입자 표면에 대한 인산(메트)아크릴레이트의 결합을 방지할 수 있기 때문에 낮은 도통 저항 (접속 저항) 이 얻어지는 것을 지견하였다.Therefore, as a result of the present inventors' earnest examination, by containing an amine salt obtained from a phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent, adhesiveness with respect to a highly polar wiring material and a high hydrophobic insulating film can be made compatible. Since the deactivation of the amine silane coupling agent can be prevented, the storage stability is improved, and since the binding of the phosphate (meth) acrylate to the surface of the conductive particles can be prevented, a low conduction resistance (connection resistance) can be obtained. I noticed.

본 발명은 본 발명자들에 의한 상기 지견에 기초한 것으로, 상기 과제를 해결하기 위한 수단으로는, 이하와 같다. 즉,This invention is based on the said knowledge by the present inventors, As means for solving the said subject, it is as follows. In other words,

<1> 도전성 입자, 막 형성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제, 및 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염을 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.<1> Anisotropic conductive film containing electroconductive particle, film formation resin, radically polymerizable compound, the hardening agent which generate | occur | produces a free radical, and the amine salt obtained from phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent. to be.

<2> 아민염의 pH 가 3 ~ 8 인 상기 <1> 에 기재된 이방성 도전 필름이다.It is an anisotropic conductive film as described in said <1> whose pH of <2> amine salt is 3-8.

<3> 표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성된 제 1 회로 부재와,A first circuit member in which an insulating film and a wiring member are alternately formed on a <3> surface;

상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 제 2 회로 부재와,A second circuit member having a wiring member or an electrode formed on a surface of the first circuit member that faces the wiring member;

상기 <1> 내지 <2> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름을 구비하고,It is equipped with the anisotropic conductive film in any one of said <1>-<2>,

상기 이방성 도전 필름을 개재하여, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재가 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 접합체이다.The said 1st circuit member and the said 2nd circuit member are bonded together through the said anisotropic conductive film, It is a joined body characterized by the above-mentioned.

<4> 표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성된 제 1 회로 부재와,A first circuit member in which an insulating film and a wiring member are alternately formed on a <4> surface;

상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 제 2 회로 부재의 접속 방법에 있어서,In the connection method of the 2nd circuit member in which the wiring material or the electrode was formed in the surface which opposes the wiring material of the said 1st circuit member,

상기 <1> 내지 <2> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이, 상기 제 1 회로 부재와 제 2 회로 부재 사이에 협지되고,The anisotropic conductive film in any one of said <1>-<2> is clamped between the said 1st circuit member and a 2nd circuit member,

상기 제 1 회로 부재 및 제 2 회로 부재로부터 가열하면서 가압함으로써, 상기 이방성 도전 필름을 경화시켜, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재를 접속시키는 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.It is a connection method characterized by hardening the said anisotropic conductive film and connecting the said 1st circuit member and a said 2nd circuit member by pressurizing, heating from the said 1st circuit member and a 2nd circuit member.

본 발명에 의하면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 상기 목적을 달성할 수 있으며, 극성이 높은 배선재 및 소수성이 높은 절연막의 쌍방에 양호한 접착성을 나타내고, 보존 안정성이 향상된 이방성 도전 필름, 그 이방성 도전 필름을 사용한 접합체 및 접속 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the said various problem in the past can be solved and the said objective can be achieved, and the anisotropic conductive film which showed favorable adhesiveness to both a wiring material with high polarity and a high hydrophobic insulating film, and improved storage stability, The joined body and the connection method using the anisotropic conductive film can be provided.

도 1 은 본 발명의 접합체의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 2 는 실시예에 있어서의 P-1M (인산아크릴레이트) 과 KBE-903 (아미노실란 커플링제) 의 중합 화합물의 GC-MS 분석 결과를 나타내는 도면이다.
1 is a schematic view showing an example of the conjugate of the present invention.
It is a figure which shows the GC-MS analysis result of the polymerization compound of P-1M (phosphate acrylate) and KBE-903 (aminosilane coupling agent) in an Example.

(이방성 도전 필름)(Anisotropic conductive film)

본 발명의 이방성 도전 필름은, 도전성 입자, 막 형성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제, 및 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염을 함유하여 이루어지고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 성분을 함유하여 이루어진다.The anisotropic conductive film of this invention contains electroconductive particle, film formation resin, a radically polymerizable compound, the hardening agent which produces | generates a free radical, and the amine salt obtained from phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent, In addition, it contains another component as needed.

<인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염><Amine salt obtained from phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent>

상기 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염은, 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제를 혼합하고, 산 염기 반응으로 중합시킨 것으로, 예를 들어 하기 식으로 나타내는 아민염 (중합 화합물) 이다.The amine salt obtained from the said phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent mixes phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent, and superposed | polymerized by the acid base reaction, For example, It is an amine salt (polymerization compound) shown.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

단, 상기 식 중, n 은 1 ~ 2, a 는 1 ~ 2 를 나타낸다.However, in said formula, n represents 1-2 and a represents 1-2.

-인산(메트)아크릴레이트-Phosphoric Acid (meth) acrylate

상기 인산(메트)아크릴레이트로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 모노(2-메타크릴로일옥시에틸)액시드포스페이트, 디(2-메타크릴로일옥시에틸)액시드포스페이트 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said phosphoric acid (meth) acrylate, According to the objective, it can select suitably, For example, mono (2-methacryloyl oxyethyl) acid phosphate, di (2-methacryloyl oxy) Ethyl) acid phosphate, and the like.

이들의 산성도는, 모두 pH 가 1 보다 작은 것이다.All of these acidity is pH less than one.

상기 인산(메트)아크릴레이트의 구체예로는, 하기 일반식으로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.As a specific example of the said phosphoric acid (meth) acrylate, the compound etc. which are represented by the following general formula are mentioned.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

단, 상기 식 중, R 은 수소 원자, CH2Cl 및 CH3 중 어느 것을 나타낸다. n 은 1 ~ 6, a 는 1 ~ 2 를 나타낸다.However, In the formula, R represents any of a hydrogen atom, CH 2 Cl and CH 3. n represents 1-6, a represents 1-2.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

단, 상기 식 중, n 은 4 ~ 5, a 는 1 ~ 2 를 나타낸다.However, in said formula, n shows 4-5 and a shows 1-2.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

단, 상기 식 중, n 은 1 ~ 2, a 는 1 ~ 2, b 는 0 ~ 2 를 나타낸다.However, in said formula, n represents 1-2, a represents 1-2, and b represents 0-2.

-아민계 실란 커플링제-Amine-based silane coupling agent

상기 아민계 실란 커플링제로는, 아미노실란 커플링제와 우레이도실란 커플링제가 있다.Examples of the amine silane coupling agent include an aminosilane coupling agent and a ureidosilane coupling agent.

상기 아미노실란 커플링제로는, 예를 들어 N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(비닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.As said aminosilane coupling agent, for example, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2 -(Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-part Tylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyl trimethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyl trimethoxysilane, etc. are mentioned.

상기 우레이도실란 커플링제로는, 예를 들어 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.As said ureidosilane coupling agent, 3-ureidopropyl triethoxysilane etc. are mentioned, for example.

상기 아민계 실란 커플링제는, 산성도가 모두 pH 가 10 보다 큰 것이다.As for the said amine silane coupling agent, all acidity is pH greater than 10.

-중합 방법-Polymerization method

인산(메트)아크릴레이트가 강산 (pH 가 1 미만) 이고, 아민계 실란 커플링제가 강염기 (pH 가 10 을 초과한다) 이기 때문에, 양자를 혼합하는 것만으로 산 염기 반응에 의해 용이하게 중합이 진행된다. 촉매의 첨가는 불필요하다. 반응에는 발열이 수반되기 때문에 소량 적하하면서 중합을 실시하는 것이 바람직하다. 반응 온도는 20 ℃ ~ 60 ℃ 에서 제어하는 것이 바람직하고, 40 ℃ ~ 50 ℃ 가 보다 바람직하다. 상기 반응 온도가 20 ℃ 미만이면, 점도가 높아, 분산성이 부족하기 때문에 국소 반응이 일어나기 쉽고 응집물이 생성되는 경우가 있다. 한편, 상기 반응 온도가 60 ℃ 를 초과하면, 반응성이 높아져, 동일하게 응집물이 생성되기 쉬워진다.Since phosphoric acid (meth) acrylate is a strong acid (pH is less than 1) and the amine silane coupling agent is a strong base (pH is more than 10), polymerization proceeds easily by acid base reaction only by mixing the two. do. No addition of catalyst is necessary. Since the reaction involves exothermic heat, it is preferable to carry out the polymerization with a small dropwise addition. It is preferable to control reaction temperature at 20 degreeC-60 degreeC, and 40 degreeC-50 degreeC are more preferable. When the said reaction temperature is less than 20 degreeC, since a viscosity is high and dispersibility is lacking, a local reaction may occur easily and aggregate may generate | occur | produce. On the other hand, when the said reaction temperature exceeds 60 degreeC, reactivity becomes high and it becomes easy to produce an aggregate similarly.

상기 반응은, 톨루엔 등의 용제에 희석시킨 상태에서 실시하는 것이 바람직하다.It is preferable to perform the said reaction in the state diluted in solvent, such as toluene.

상기 인산(메트)아크릴레이트 (A) 와 상기 아민계 실란 커플링제 (B) 의 질량비 (A : B) 는 각각의 분자량 등에 따라서도 상이한데, 7 : 3 ~ 3 : 16 인 것이 바람직하고, 5 : 5 ~ 3 : 16 인 것이 보다 바람직하다. 상기 인산(메트)아크릴레이트의 비율이 지나치게 많으면, 절연막에 대하여 양호한 접착력이 얻어지지 않게 되는 경우가 있고, 상기 아민계 실란 커플링제의 비율이 지나치게 많으면, 배선재에 대하여 양호한 접착력이 얻어지지 않게 되는 경우가 있다.Although mass ratio (A: B) of the said phosphoric acid (meth) acrylate (A) and the said amine silane coupling agent (B) differs according to each molecular weight etc., it is preferable that it is 7: 3-3: 16, and 5 is It is more preferable that it is: 5-3: 16. When the ratio of the phosphate (meth) acrylate is too large, good adhesion to the insulating film may not be obtained, and when the ratio of the amine silane coupling agent is too large, good adhesion to the wiring member is not obtained. There is.

상기 아민염의 산성도는, pH 3 ~ 8 인 것이 바람직하고, 4 ~ 8 이 보다 바람직하다. 상기 pH 가 3 미만이면, 절연막에 대하여 양호한 접착력이 얻어지지 않게 되는 경우가 있고, 8 을 초과하면, 배선재에 대하여 양호한 접착력이 얻어지지 않게 되는 경우가 있다.It is preferable that it is pH 3-8, and, as for the acidity degree of the said amine salt, 4-8 are more preferable. When the said pH is less than 3, the favorable adhesive force may not be obtained with respect to an insulating film, and when it exceeds 8, the favorable adhesive force with respect to a wiring material may not be obtained.

여기서, 상기 pH 는, 예를 들어 pH 미터 등을 사용하여 측정할 수 있다.Here, the said pH can be measured using a pH meter etc., for example.

상기 아민염에는, 중합 금지제를 첨가하여 보존 안정성을 높여도 된다. 또, 보관은 냉장 보존이 바람직하다.A polymerization inhibitor may be added to the amine salt to increase storage stability. In addition, storage is preferably refrigerated storage.

상기 인산(메트)아크릴레이트와 상기 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염의 상기 이방성 도전 필름에 있어서의 함유량으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 예를 들어 0.1 질량% ~ 10 질량% 인 것이 바람직하고, 1 질량% ~ 5 질량% 인 것이 보다 바람직하다. 상기 함유량이 0.1 질량% 미만이면, 극성이 높은 배선재, 소수성이 높은 절연막 쌍방에 대한 접착성이 저하되는 경우가 있고, 10 질량% 를 초과하면, 극성이 높은 배선재, 소수성이 높은 절연막 쌍방에 대한 접착성은 확보되지만, 수지 조성물에 대한 상용성이 저하되어, 다 용해되지 않고 잔류물이 발생하는 경우가 있다.There is no restriction | limiting in particular as content in the said anisotropic conductive film of the amine salt obtained from the said phosphoric acid (meth) acrylate and the said amine silane coupling agent, Although it can select suitably according to the objective, For example, 0.1 mass%- It is preferable that it is 10 mass%, and it is more preferable that it is 1 mass%-5 mass%. When the said content is less than 0.1 mass%, adhesiveness with respect to both a highly polarizable wiring material and a high hydrophobic insulating film may fall, and when it exceeds 10 mass%, adhesiveness with both a highly polar wiring material and a high hydrophobic insulating film may be carried out. Although property is ensured, compatibility with a resin composition falls, and a residue may generate | occur | produce without melt | dissolving.

<도전성 입자><Conductive Particle>

상기 도전성 입자로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 금속 입자, 금속 피복 수지 입자 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said electroconductive particle, According to the objective, it can select suitably, For example, a metal particle, a metal coating resin particle, etc. are mentioned.

상기 금속 입자로는, 니켈, 코발트, 은, 구리, 금, 팔라듐 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 니켈, 은, 구리가 특히 바람직하다. 이들의 표면 산화를 방지할 목적으로, 표면에 금, 팔라듐을 입힌 입자를 사용해도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다.Nickel, cobalt, silver, copper, gold, palladium etc. are mentioned as said metal particle. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, nickel, silver and copper are particularly preferable. In order to prevent these surface oxidation, you may use the particle | grains which coated gold and palladium on the surface. Moreover, you may use what coated the insulating film with the metal protrusion or the organic substance on the surface.

상기 금속 피복 수지 입자로는, 수지 코어의 표면을 니켈, 구리, 금 및 팔라듐 중 어느 금속을 피복한 입자를 들 수 있다. 동일하게, 최외표면에 금, 팔라듐을 입힌 입자를 사용해도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다.As said metal coating resin particle, the particle | grains which coat | covered any metal among nickel, copper, gold, and palladium on the surface of a resin core are mentioned. Similarly, you may use the particle | grains which coated gold and palladium on the outermost surface. Moreover, you may use what coated the insulating film with the metal protrusion or the organic substance on the surface.

상기 수지 코어에 대한 금속의 피복 방법으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 무전해 도금법, 스퍼터링법 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as a coating method of the metal to the said resin core, According to the objective, it can select suitably, For example, an electroless plating method, a sputtering method, etc. are mentioned.

상기 수지 코어의 재료로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 스티렌-디비닐벤젠 공중합체, 벤조구아나민 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 스티렌-실리카 복합 수지 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as a material of the said resin core, According to the objective, it can select suitably, For example, a styrene-divinylbenzene copolymer, benzoguanamine resin, crosslinked polystyrene resin, an acrylic resin, a styrene-silica composite resin, etc. Can be mentioned.

상기 도전성 입자의 상기 이방성 도전 필름에 있어서의 함유량으로는, 특별히 제한은 없고, 회로 부재의 배선 피치나 접속 면적 등에 따라 적절히 조정할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as content in the said anisotropic conductive film of the said electroconductive particle, According to the wiring pitch, connection area, etc. of a circuit member, it can adjust suitably.

<막 형성 수지><Film forming resin>

상기 막 형성 수지로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 페녹시 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 부타디엔 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있다. 상기 막 형성 수지는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 제막성, 가공성, 접속 신뢰성의 면에서 페녹시 수지가 특히 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular as said film formation resin, According to the objective, it can select suitably, For example, a phenoxy resin, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a saturated polyester resin, a urethane resin, butadiene resin, a polyimide resin, Polyamide resin, polyolefin resin, etc. are mentioned. The said film formation resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, a phenoxy resin is especially preferable at the point of film forming property, workability, and connection reliability.

상기 페녹시 수지란, 비스페놀 A 와 에피클로로히드린으로부터 합성되는 수지로서, 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다.As said phenoxy resin, what was synthesize | combined suitably may be used as resin synthesize | combined from bisphenol A and epichlorohydrin, and a commercial item may be used.

<라디칼 중합성 화합물><Radical polymerizable compound>

상기 라디칼 중합성 화합물로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 아크릴 화합물, 액상 아크릴레이트 등이 예시되고, 구체적으로는, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 디메틸올트리시클로데칸디아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜테트라아크릴레이트, 2-하이드록시-1,3-디아크릴옥시프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시메톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 상기 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 한 것을 사용할 수도 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.There is no restriction | limiting in particular as said radically polymerizable compound, According to the objective, it can select suitably, For example, an acryl compound, a liquid acrylate, etc. are illustrated, Specifically, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acryl Elate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, tetramethylene glycol tetraacrylate, 2-hydro Oxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclophene Tenyl acrylate, tricyclo decanyl acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, epoxy acrylate, etc. are mentioned. have. Moreover, what made the said acrylate the methacrylate can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.

<경화제><Hardener>

상기 경화제로는, 바인더 수지를 경화시킬 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 열 또는 광에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제가 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular as long as it can harden | cure binder resin as said hardening | curing agent, Although it can select suitably according to the objective, The hardening | curing agent which produces | generates free radical by heat or light is preferable.

상기 열 또는 광에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제로서 유기 과산화물을 사용하는 것이 바람직하고, 반응성과 보존 안정성의 관점에서 1 분간 반감기 온도가 90 ℃ ~ 180 ℃ 이고 또한 10 시간 반감기 온도가 40 ℃ 이상인 유기 과산화물이 바람직하다.It is preferable to use an organic peroxide as a curing agent for generating free radicals by the heat or light, and from the viewpoint of reactivity and storage stability, an organic half-life temperature of 90 ° C. to 180 ° C. for 10 minutes and a 10-hour half life temperature of 40 ° C. or more Peroxides are preferred.

10 초간 이하로 접속을 실시하기 위해서는 1 분간 반감기 온도가 180 ℃ 이하인 것이 바람직하고, 10 시간 반감기 온도가 40 ℃ 이하이면 냉장 5 ℃ 이하의 보관이 곤란해지는 경우가 있다.In order to connect for 10 seconds or less, it is preferable that the half-life temperature is 180 degrees C or less for 1 minute, and when the half-life temperature is 40 degrees C or less for 10 hours, storage at 5 degrees C or less of refrigeration may become difficult.

광에 의해 유리 라디칼을 발생시키는 경화제로는, 자외선 파장에 흡수가 있는 재료로, 예를 들어 알킬페논, 벤조인, 벤조페논, 디카르보닐 화합물, 티오크산톤, 아실포스핀옥사이드, 또는 이들의 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As a hardener which generates free radicals by light, it is a material which absorbs in an ultraviolet wavelength, for example, an alkylphenone, benzoin, a benzophenone, a dicarbonyl compound, thioxanthone, an acylphosphine oxide, or these Derivatives; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

-그 밖의 성분-- Other ingredients -

상기 그 밖의 성분으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 충전제, 연화제, 촉진제, 노화 방지제, 착색제 (안료, 염료), 유기 용제, 이온 캐처제 등을 들 수 있다. 상기 그 밖의 성분의 첨가량은, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said other components, According to the objective, it can select suitably, For example, a filler, a softener, an accelerator, an antioxidant, a coloring agent (pigment, dye), an organic solvent, an ion catcher, etc. are mentioned. . There is no restriction | limiting in particular in the addition amount of the said other component, According to the objective, it can select suitably.

상기 이방성 도전 필름은, 예를 들어 도전성 입자, 막 형성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제, 및 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염, 추가로 필요에 따라 그 밖의 성분 (유기 용매 등) 을 함유하는 도포액을 조제하고, 이 도포액을 기재 상에 도포하고, 건조시켜 유기 용매를 제거함으로써 형성할 수 있다.The anisotropic conductive film, for example, conductive particles, film-forming resins, radically polymerizable compounds, curing agents for generating free radicals, and amine salts obtained from phosphoric acid (meth) acrylates and amine-based silane coupling agents, further required The coating liquid containing other components (organic solvent, etc.) can be prepared, and this coating liquid can be formed by apply | coating on a base material, drying, and removing an organic solvent.

상기 이방성 도전 필름의 두께는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 1 ㎛ ~ 50 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ㎛ ~ 40 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the said anisotropic conductive film, According to the objective, it can select suitably, For example, it is preferable that it is 1 micrometer-50 micrometers, and it is more preferable that it is 10 micrometers-40 micrometers.

상기 이방성 도전 필름은, 박리 필름 상에 도포하고, 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 배치된다.The said anisotropic conductive film is arrange | positioned on a peeling film by apply | coating on a peeling film and drying.

상기 박리 필름으로는, 그 형상, 구조, 크기, 두께, 재료 (재질) 등에 대해서는 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 박리성이 양호한 것이나 내열성이 높은 것이 바람직하고, 예를 들어, 실리콘 등의 박리제가 도포된 박리 PET (폴리에틸렌테레프탈레이트) 시트 등을 바람직하게 들 수 있다. 또, PTFE (폴리테트라플루오로에틸렌) 시트를 사용해도 된다.There is no restriction | limiting in particular about the shape, a structure, a size, thickness, a material (material), etc. as said peeling film, Although it can select suitably according to the objective, The thing with favorable peelability and high heat resistance is preferable, for example, The peeling PET (polyethylene terephthalate) sheet etc. which apply | coated the peeling agent, such as silicone, are mentioned preferably. In addition, a PTFE (polytetrafluoroethylene) sheet may be used.

(접합체)(Bonded body)

본 발명의 접합체는, 제 1 회로 부재와, 제 2 회로 부재와, 본 발명의 상기 이방성 도전 필름을 가져 이루어지고, 추가로 필요에 따라 적절히 선택한 그 밖의 부재를 가져 이루어진다.The joined body of the present invention includes the first circuit member, the second circuit member, and the anisotropic conductive film of the present invention, and further includes other members appropriately selected as necessary.

상기 이방성 도전 필름을 개재하여, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재가 접합되어 있다.The said 1st circuit member and the said 2nd circuit member are joined through the said anisotropic conductive film.

<제 1 회로 부재><1st circuit member>

상기 제 1 회로 부재로는, 표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성되어 있으면 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 기판 상에 절연막을 갖고, 그 절연막 상에 배선재가 소정 간격 이간되어 형성되고, 배선재 사이에는 절연막이 노출되어 있는 양태 등을 들 수 있다. 또한, 상기에 한정되지 않고, 절연막 상에 배선재가 형성되어 있지 않아도, 제 1 회로 부재의 표면에 있어서 절연막과 배선재가 교대로 형성되어 있으면 충분하다.As said 1st circuit member, if the insulating film and wiring material are alternately formed in the surface, there will be no restriction | limiting in particular, According to the objective, it can select suitably, For example, it has an insulating film on a board | substrate, and wiring material has a predetermined space | interval on the insulating film. And an insulating film is exposed between the wiring members. In addition, it is not limited to the above, Even if the wiring material is not formed on the insulating film, it is sufficient if the insulating film and the wiring material are alternately formed on the surface of the first circuit member.

상기 기판으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 예를 들어 유리 기판 등이 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular as said board | substrate, Although it can select suitably according to the objective, For example, a glass substrate is preferable.

상기 절연막으로는, 예를 들어 SiNx, 그 밖의 유기계 절연막 등을 들 수 있다.As said insulating film, SiNx, another organic type insulating film etc. are mentioned, for example.

상기 제 1 회로 부재의 배선재로는, 예를 들어, 알루미늄, 크롬, 티탄, 구리, 몰리브덴 등의 금속 ; ITO, IZO 등의 금속 산화물 (투명 전극 재료) 등을 들 수 있고, 1 종 또는 2 종 이상의 금속, 금속 산화물 (투명 전극 재료) 을 적층시켜도 된다.As a wiring material of a said 1st circuit member, For example, metals, such as aluminum, chromium, titanium, copper, molybdenum; Metal oxides (transparent electrode materials), such as ITO and IZO, etc. are mentioned, You may laminate | stack 1 type, or 2 or more types of metals and metal oxides (transparent electrode materials).

<제 2 회로 부재><Second circuit member>

상기 제 2 회로 부재는, 상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 것으로, 예를 들어 배선재를 갖는 플렉시블 기판, IC 칩 등을 들 수 있다.The said 2nd circuit member is a wiring material or an electrode formed in the surface which faces the wiring material of the said 1st circuit member, For example, the flexible board which has a wiring material, an IC chip, etc. are mentioned.

상기 제 2 회로 부재의 배선재 또는 전극으로는, 예를 들어 Cu 에 NiSn 도금 또는 NiAu 도금 등을 들 수 있다.As a wiring material or an electrode of a said 2nd circuit member, Cu, NiSn plating, NiAu plating, etc. are mentioned, for example.

여기서, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 제 1 회로 부재 (10) 는, 유리 기판 (11) 과, 그 기판 상에 절연층 (12) 과, 그 절연층 상에 배선재 (13) 가 소정 간격 이간되어 형성되어 있다.Here, as shown in FIG. 1, the 1st circuit member 10 has the glass substrate 11, the insulating layer 12 on the board | substrate, and the wiring material 13 on the insulating layer at predetermined intervals, Formed.

제 2 회로 부재 (20) 는, 기판 (21) 과, 그 기판 상에 배선재 또는 전극 (22) 이 소정 간격 이간되어 형성되어 있다.The second circuit member 20 is formed with the substrate 21 and the wiring member or the electrode 22 spaced apart from each other by a predetermined interval.

접합체 (100) 는, 제 1 회로 부재 (10) 와, 제 2 회로 부재 (20) 와, 본 발명의 상기 이방성 도전 필름 (1) 을 갖는다.The bonding body 100 has the 1st circuit member 10, the 2nd circuit member 20, and the said anisotropic conductive film 1 of this invention.

제 2 회로 부재 (20) 의 배선재 또는 전극 (22) 과, 이방성 도전 필름 (1) 에 있어서의 도전성 입자 (2) 와, 제 1 회로 부재 (10) 에 있어서의 배선재 (13) 가 도통됨으로써, 제 1 회로 부재 (10) 와 제 2 회로 부재 (20) 가 전기적으로 접속된다.When the wiring member or the electrode 22 of the second circuit member 20, the conductive particles 2 in the anisotropic conductive film 1, and the wiring member 13 in the first circuit member 10 are conducted, The first circuit member 10 and the second circuit member 20 are electrically connected.

(접속 방법)(Connection method)

본 발명의 접속 방법은, 표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성된 제 1 회로 부재와,The connection method of the present invention includes a first circuit member in which an insulating film and a wiring member are alternately formed on a surface thereof,

상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 제 2 회로 부재의 접속 방법에 있어서,In the connection method of the 2nd circuit member in which the wiring material or the electrode was formed in the surface which opposes the wiring material of the said 1st circuit member,

본 발명의 상기 이방성 도전 필름이, 상기 제 1 회로 부재와 제 2 회로 부재 사이에 협지되고,The anisotropic conductive film of the present invention is sandwiched between the first circuit member and the second circuit member,

상기 제 1 회로 부재 및 제 2 회로 부재로부터 가열하면서 가압함으로써, 상기 이방성 도전 필름을 경화시켜, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재를 접속시키는 것이다.The anisotropic conductive film is cured by pressing while heating from the first circuit member and the second circuit member to connect the first circuit member and the second circuit member.

상기 제 1 회로 부재의 배선재로는, 예를 들어 알루미늄, 크롬, 티탄, 구리, 몰리브덴 등의 금속 ; ITO, IZO 등의 금속 산화물 (투명 전극 재료) 등을 들 수 있고, 1 종 또는 2 종 이상의 금속, 금속 산화물 (투명 전극 재료) 을 적층시켜도 된다.As a wiring material of a said 1st circuit member, For example, metals, such as aluminum, chromium, titanium, copper, molybdenum; Metal oxides (transparent electrode materials), such as ITO and IZO, etc. are mentioned, You may laminate | stack 1 type, or 2 or more types of metals and metal oxides (transparent electrode materials).

상기 절연막으로는, 예를 들어 SiNx, 그 밖의 유기계 절연막 등을 들 수 있다.As said insulating film, SiNx, another organic type insulating film etc. are mentioned, for example.

상기 제 2 회로 부재의 배선재 또는 전극으로는, 예를 들어 Cu 에 NiSn 도금 또는 NiAu 도금 등을 들 수 있다.As a wiring material or an electrode of a said 2nd circuit member, Cu, NiSn plating, NiAu plating, etc. are mentioned, for example.

-압착 조건-Crimping condition

상기 가열은 토탈 열량에 따라 결정되며, 접속 시간 10 초 이하로 접합을 완료시키는 경우에는, 가열 온도가 120 ℃ ~ 220 ℃ 에서 실시되는 것이 바람직하다.The said heating is determined according to a total amount of heat, and when it completes joining in connection time 10 second or less, it is preferable that heating temperature is performed at 120 degreeC-220 degreeC.

상기 압착은, 회로 부재의 종류에 따라 상이하여 한 마디로는 규정할 수 없지만, 예를 들어 TAB 테이프의 경우에는 압력 2 ㎫ ~ 6 ㎫, IC 칩의 경우에는 압력 20 ㎫ ~ 120 ㎫, COF 의 경우에는 압력 2 ㎫ ~ 6 ㎫ 로, 각각 3 ~ 10 초간 실시하는 것이 바람직하다.Although the said crimping | compression-bonding differs according to the kind of circuit member, it cannot be prescribed | regulated in one word, for example, in the case of a TAB tape, the pressure is 2 Mpa-6 Mpa, and in the case of an IC chip, the pressure of 20 Mpa-120 Mpa, COF In the case, it is preferable to carry out for 3 to 10 second each by the pressure of 2 Mpa-6 Mpa.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예에 대해 설명하는데, 본 발명은 하기 실시예에 조금도 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited to the following Example at all.

(제조예 1)(Production Example 1)

하기 표 1 에 나타내는 조합의 배합량 (질량부) 에 의해, 인산아크릴레이트를 빙욕 중에서 냉각시키면서 아민계 실란 커플링제를 적하하여 교반하였다 (합성에는 발열을 수반하기 때문에). 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 ~ A8 을 합성하였다.According to the compounding quantity (mass part) of the combination shown in following Table 1, the amine silane coupling agent was dripped and stirred, cooling phosphate acrylate in an ice bath (since synthesis | combination involves heat generation). The amine salts A1-A8 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent were synthesize | combined.

얻어진 각 아민염에 대해, pH 미터 (품명 : HM-30P, 토아 DKK 주식회사 제조) 를 사용하여 산성도의 측정을 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.About each obtained amine salt, acidity was measured using the pH meter (brand name: HM-30P, the Toa DKK Corporation make). The results are shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure pct00005
Figure pct00005

* 인산아크릴레이트 (P-1M) : 모노-(2-메타크릴로일옥시에틸)액시드포스페이트, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조, pH < 1* Phosphate acrylate (P-1M): mono- (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., pH <1

* 인산아크릴레이트 (P-2M) : 디-(2-메타크릴로일옥시에틸)액시드포스페이트, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조, pH < 1* Phosphate acrylate (P-2M): di- (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., pH <1

* 아민계 실란 커플링제 (KBE-903) : N-2-(아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조, pH = 10.5* Amine silane coupling agent (KBE-903): N-2- (aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., pH = 10.5

* 아민계 실란 커플링제 (KBM-573) : N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조, pH = 10.5* Amine silane coupling agent (KBM-573): N-phenyl-3-aminopropyl trimethoxysilane, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product, pH = 10.5

* 아민계 실란 커플링제 (AY43-031) : 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 토오레·다우코닝 주식회사 제조, pH = 10.1* Amine silane coupling agent (AY43-031): 3-ureidopropyltriethoxysilane, manufactured by Toray Dow Corning, Inc., pH = 10.1

<P-1M (인산아크릴레이트) 과 KBE-903 (아민계 실란 커플링제) 으로부터 얻어지는 아민염의 분석 결과><Analysis result of amine salt obtained from P-1M (phosphate acrylate) and KBE-903 (amine silane coupling agent)>

-GC-MS 분석-GC-MS analysis

· 기기명 : AGILENT TECHNOLOGIES 사 제조의 형번 6890N/5975Device name: Part number 6890N / 5975 manufactured by AGILENT TECHNOLOGIES

· 측정 조건 : 시료 10 ㎎ 을 THF 용매 90 ㎖ 에 용해시켜 샘플을 제조하였다. 시료 용액을 GC-MS 에 1 ㎖ 주입하고 측정을 실시하였다. 기화 조건 280 ℃, 칼럼 내 온도 40 ℃/5 분간 유지한 후, 승온 10 ℃/min 로 320 ℃ 까지 승온시키고, 7 분간 유지하여 측정을 종료하였다.Measurement condition: A sample was prepared by dissolving 10 mg of the sample in 90 mL of THF solvent. 1 ml of the sample solution was injected into GC-MS and the measurement was performed. After holding at 280 degreeC of vaporization conditions and 40 degreeC / 5 minute inside columns, it heated up to 320 degreeC at the temperature of 10 degreeC / min, and hold | maintained for 7 minutes, and the measurement was complete | finished.

이하의 4 종류에 대해 측정을 실시하였다. 결과를 도 2 에 나타낸다.The measurement was performed about the following four types. The results are shown in FIG.

· 인산아크릴레이트 (P-1M)Phosphate acrylate (P-1M)

· 아민계 실란 커플링제 (KBE-903)Amine silane coupling agent (KBE-903)

· 아민염 A2 (P-1M : KBE-903 = 7 : 3 (질량비))Amine salt A2 (P-1M: KBE-903 = 7: 3 (mass ratio))

· 아민염 A3 (P-1M : KBE-903 = 5 : 5 (질량비))Amine salt A3 (P-1M: KBE-903 = 5: 5 (mass ratio))

아민염 A2 에는, KBE-903 유래의 피크는 확인되지 않은 점에서, P-1M 은 전부 아민염화되지 않고 잔존하고 있음을 알 수 있었다.Since the peak derived from KBE-903 was not confirmed in amine salt A2, it turned out that all P-1M remains without being amine-chloride.

아민염 A3 에는, KBE-903 유래의 피크가 확인된 점에서, P-1M 은 전부 아민염화되고, 아민염화의 공정에서 소비되지 않은 KBE-903 이 전체 면적의 9.8 % 검출된 것으로 생각된다.Since peak derived from KBE-903 was confirmed by amine salt A3, it is thought that all P-1M was amine-chloride and KBE-903 which was not consumed in the process of amine chloride was detected 9.8% of the total area.

따라서, P-1M 과 KBE-903 의 질량비 (P-1M : KBE-903) 는 7 : 3 (pH 3.3) 이상, 바람직하게는 5 : 5 (pH 4.3) 이상인 KBE-903 을 배합함으로써 P-1M 을 거의 소실시킬 수 있게 되어, P-1M 의 악영향을 잘 받지 않게 할 수 있음을 알 수 있었다.Thus, by mixing KBE-903 having a mass ratio (P-1M: KBE-903) of P-1M and KBE-903 of at least 7: 3 (pH 3.3), preferably at least 5: Can be substantially eliminated, and it can be seen that the P-1M can be prevented from being adversely affected.

-NMR 분석-NMR analysis

· 기기명 : VARIAN 사 제조의 품번 머큐리 300Device Name: Mercury 300 manufactured by VARIAN

· 측정 조건 : 시료 5 ㎎ 을 CDCl3 (중클로로포름) 0.75 ㎖ 로 용해시켜 샘플을 제조하였다. 적산 횟수는 16 회이고 대기 시간을 5 초간으로 실시하였다.Measurement conditions: A sample was prepared by dissolving 5 mg of the sample in 0.75 ml of CDCl 3 (heavy chloroform). The integration count was 16 times and the waiting time was performed for 5 seconds.

P-1M 과 KBE-903 과 아민염 (P-1M : KBE-903 = 5 : 5 (질량비)) 의 3 종류에 대해 NMR 분석을 실시하였다.NMR analysis was performed about three types of P-1M, KBE-903, and an amine salt (P-1M: KBE-903 = 5: 5 (mass ratio)).

P-1M 의 A (-CH3) 와 B (= CH2) 유래의 피크값을 기준으로 하였을 때에 아민염에서는 -OH 유래의 피크가 대폭 감소한 것이 확인되었다. 또, A (-CH3) 와 B (= CH2) 의 비율에 변화가 없었던 점에서 B (= CH2) 는 반응하지 않았음을 알 수 있었다.Based on peak values derived from A (-CH 3 ) and B (= CH 2 ) of P-1M, it was confirmed that the peak derived from -OH was significantly reduced in the amine salt. In addition, A (-CH 3) and B (= CH 2) B ( = CH 2) in that it was not a change in the ratio of it was found that the reaction did not.

동일하게 KBE-903 의 -CH2 유래의 피크값을 기준으로 하였을 때에 아민염은 NH2 유래의 피크에 거의 변화는 관찰되지 않는 것이 확인되었다.Similarly, based on the peak value derived from -CH 2 from KBE-903, it was confirmed that almost no change was observed in the peak derived from NH 2 from the amine salt.

따라서, 얻어진 아민염은 이하의 구조식인 것이 추측된다. 또한, 인산아크릴레이트에는 수산기가 2 개 있으므로, 2 개의 수산기 모두 아민염화되는 경우도 있지만, 하기 구조식에서는 1 개의 수산기만 아민염화된 경우를 나타낸다.Therefore, it is presumed that the obtained amine salt has the following structural formula. In addition, since there are two hydroxyl groups in phosphate acrylate, although both hydroxyl groups may be amine-chloride at all, the following structural formula shows the case where only one hydroxyl group is amine-chloride.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00006
Figure pct00006

(실시예 1)(Example 1)

페녹시 수지 (품명 : YP50, 토토 화성 주식회사 제조) 60 질량부, 라디칼 중합성 수지 (품명 : EB-600, 다이셀·사이테크사 제조) 35 질량부, 표 1 에 기재된 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을 3 질량부, 및 반응 개시제 (품명 : 퍼헥사 C, 닛폰 유지 주식회사 제조) 2 질량부로 구성된 접착제 중에, 수지 코어에 NiAu 도금을 실시한 평균 입자 직경 4 ㎛ 의 도전성 입자 (품명 : AUL704, 세키스이 화학 공업 주식회사 제조) 를 입자 밀도 10,000 개/㎣ 가 되도록 분산시켜, 두께 15 ㎛ 의 이방성 도전막 S1 을 제조하였다.60 parts by mass of phenoxy resin (trade name: YP50, manufactured by Toto Chemical Co., Ltd.), 35 parts by mass of radically polymerizable resin (product name: EB-600, manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.), phosphate acrylate and amine system shown in Table 1 In an adhesive composed of 3 parts by mass of an amine salt A1 obtained from a silane coupling agent and 2 parts by mass of a reaction initiator (trade name: Perhexa C, manufactured by Nippon Oil Holding Co., Ltd.), a conductive core having an average particle diameter of 4 μm in which NiAu plating was applied to the resin core Particles (trade name: AUL704, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were dispersed to have a particle density of 10,000 particles / cc, to prepare an anisotropic conductive film S1 having a thickness of 15 µm.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A2 로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S2 를 제조하였다.Example 1 WHEREIN: Except having substituted the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent by the amine salt A2 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S2 was produced.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A3 으로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S3 을 제조하였다.Example 1 WHEREIN: Except having substituted the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent by the amine salt A3 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S3 was produced.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A4 로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S4 를 제조하였다.Example 1 WHEREIN: Except having substituted the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent by the amine salt A4 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S4 was produced.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A5 로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S5 를 제조하였다.In Example 1, except having replaced the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent with the amine salt A5 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S5 was produced.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A6 으로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S6 을 제조하였다.In Example 1, except having replaced the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent with the amine salt A6 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S6 was produced.

(실시예 7)(Example 7)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A7 로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S7 을 제조하였다.Example 1 WHEREIN: Except having substituted the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent by the amine salt A7 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S7 was produced.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A1 을, 표 1 에 나타내는 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염 A8 로 대신한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 S8 을 제조하였다.Example 1 WHEREIN: Except having substituted the amine salt A1 obtained from the phosphate acrylate and an amine silane coupling agent by the amine salt A8 obtained from the phosphate acrylate and amine silane coupling agent shown in Table 1, In the same manner as in 1, anisotropic conductive film S8 was produced.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

-인산아크릴레이트 및 아민계 실란 커플링제를 함유하지 않는 경우-When it does not contain phosphate acrylate and amine silane coupling agent

페녹시 수지 (품명 : YP50, 토토 화성 주식회사 제조) 60 질량부, 라디칼 중합성 수지 (품명 : EB-600, 다이셀·사이테크사 제조) 35 질량부, 및 반응 개시제(품명 : 퍼헥사 C, 닛폰 유지 주식회사 제조) 2 질량부로 구성된 접착제 중에 도전성 입자 (품명 : AUL704, 세키스이 화학 공업 주식회사 제조) 를 입자 밀도 10,000 개/㎣ 가 되도록 분산시켜, 두께 15 ㎛ 의 이방성 도전막 R1 을 제조하였다.60 parts by mass of a phenoxy resin (trade name: YP50, manufactured by Toto Chemical Co., Ltd.), 35 parts by mass of a radically polymerizable resin (trade name: EB-600, manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.), and a reaction initiator (trade name: Perhexa C, Nippon Oil Holding Co., Ltd.) Electroconductive particle (article name: AUL704, Sekisui Chemical Industry Co., Ltd. product) was disperse | distributed so that it might become particle density of 10,000 pieces / sec, and the anisotropic conductive film R1 of thickness 15micrometer was manufactured.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

-인산아크릴레이트만을 함유하는 경우-When it contains only phosphate acrylate

비교예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트 (품명 : P-1M, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조) 1 질량부를 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R2 를 제조하였다.In Comparative Example 1, an anisotropic conductive film R2 was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that 1 part by mass of phosphate acrylate (trade name: P-1M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was blended.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

-아민계 실란 커플링제만을 함유하는 경우-When containing only amine silane coupling agent

비교예 1 에 있어서, 아민계 실란 커플링제 (품명 : KBE-903, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 1 질량부를 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R3 을 제조하였다.In Comparative Example 1, anisotropic conductive film R3 was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that 1 part by mass of an amine silane coupling agent (trade name: KBE-903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was blended.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

-우레이도실란 커플링제만을 함유하는 경우-When only the ureidosilane coupling agent is contained

비교예 1 에 있어서, 우레이도실란 커플링제 (품명 : AY43-031, 토오레 다우코닝 주식회사 제조) 1 질량부를 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R4 를 제조하였다.In Comparative Example 1, anisotropic conductive film R4 was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that 1 part by mass of a ureidosilane coupling agent (trade name: AY43-031, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was blended.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

-인산아크릴레이트 + 이소시아네이트계 실란 커플링제의 경우 (일본 공개특허공보 2003-282637호의 이소시아네이트계 실란 커플링제를 사용)-In the case of phosphate acrylate + isocyanate silane coupling agent (using isocyanate silane coupling agent of JP 2003-282637 A)

비교예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트 (품명 : P-1M, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조) 1 질량부와 이소시아네이트계 실란 커플링제 (품명 : Y5187, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 1 질량부를 단독으로 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R5 를 제조하였다.In Comparative Example 1, 1 part by mass of phosphate acrylate (trade name: P-1M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 1 part by mass of isocyanate-based silane coupling agent (trade name: Y5187, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Except for the same thing as in Comparative Example 1, an anisotropic conductive film R5 was produced.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

-인산아크릴레이트와 우레이도실란 커플링제로부터 아민염을 사전에 형성시키지 않고, 각각을 계에 배합한 경우-When each is compounded in the system, without forming an amine salt from a phosphate acrylate and a ureidosilane coupling agent beforehand-

비교예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트 (품명 : P-1M, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조) 1 질량부와 우레이도실란 커플링제 (품명 : AY43-031, 토오레 다우코닝 주식회사 제조) 1 질량부를 단독으로 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R6 을 제조하였다.In Comparative Example 1, 1 part by mass of phosphate acrylate (trade name: P-1M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 1 part by mass of ureidosilane coupling agent (trade name: AY43-031, manufactured by Tore Dow Corning Corporation) Except as mix | blended with, it carried out similarly to the comparative example 1, and manufactured the anisotropic conductive film R6.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

-인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 아민염을 사전에 형성시키지 않고, 각각을 계에 배합한 경우-When each is combined with the system, without forming an amine salt from a phosphate acrylate and an amine silane coupling agent beforehand-

비교예 1 에 있어서, 인산아크릴레이트 (품명 : P-1M, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조) 1 질량부와 아민계 실란 커플링제 (품명 : KBE-903, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 1 질량부를 단독으로 배합한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R7 을 제조하였다.In Comparative Example 1, 1 part by mass of a phosphate acrylate (product name: P-1M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and an amine silane coupling agent (product name: KBE-903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) alone Except mix | blended, it carried out similarly to the comparative example 1, and manufactured the anisotropic conductive film R7.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

-인산아크릴레이트 + 아민계 실란 커플링제 이외의 아민계 화합물을 사용한 경우-When amine compounds other than phosphate acrylate + amine silane coupling agent are used

인산아크릴레이트 (품명 : P-1M, 쿄에이샤 화학 주식회사 제조) 를 교반하면서 모노에탄올아민염 (분자 구조 : NH3CH2OH) 을 적하하여 아민염 B1 을 생성하였다. 얻어진 아민염 B1 을 pH 미터 (품명 : HM-30P, 토아 DKK 주식회사 제조) 를 사용하여 산성도의 측정을 실시한 결과, pH 는 7.2 였다.A monoethanolamine salt (molecular structure: NH 3 CH 2 OH) was added dropwise while stirring phosphate acrylate (trade name: P-1M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) to generate an amine salt B1. PH of the obtained amine salt B1 was measured using the pH meter (brand name: HM-30P, Toa DKK Corporation make), and pH was 7.2.

비교예 1 에 있어서, 상기에서 제조한 아민염 B1 3 질량부를 사용한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전막 R8 을 제조하였다.In Comparative Example 1, an anisotropic conductive film R8 was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that 3 parts by mass of the amine salt B1 prepared above was used.

<보존 안정성의 평가><Evaluation of Storage Stability>

다음으로, 제조 직후 (초기) 의 실시예 1 ~ 8 및 비교예 1 ~ 8 의 각 이방성 도전막과, 30 ℃ 에서 60 % RH 환경하 48 시간 노출 후의 각 이방성 도전막을 사용하고, 이하와 같이 하여 각 실장체를 제조하고, 이하와 같이 하여 도통 저항 및 접착 강도를 측정하였다. 그리고, 초기와 30 ℃ 에서 60 % RH 환경하 48 시간 노출 후의 대비에 의해 보존 안정성을 평가하였다.Next, using each anisotropic conductive film of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-8 immediately after manufacture, and each anisotropic conductive film after exposure for 48 hours in 30% of 60% RH environment, it was carried out as follows. Each package was manufactured and conduction resistance and adhesive strength were measured as follows. And storage stability was evaluated by the contrast after 48 hours of exposure in the 60% RH environment at the beginning and 30 degreeC.

<실장체의 제조><Production of Mounting Body>

평가 기재로서, COF (50 ㎛ P, Cu 8 ㎛ t-Sn 도금, 38 ㎛ t-Sperflex 기재) 와 IZO 코팅 유리 (전체 표면 IZO 코트, 유리 두께 0.7 ㎜) 의 접합을 실시하였다.As the evaluation substrate, COF (50 µm P, Cu 8 µm t-Sn plating, 38 µm t-Sperflex substrate) and IZO coated glass (total surface IZO coat, glass thickness 0.7 mm) were bonded.

실시예 1 ~ 8 및 비교예 1 ~ 8 의 각 이방성 도전막을 1.5 ㎜ 폭으로 슬릿하여 IZO 코팅 유리에 첩부 (貼付) 하였다. 그 위에 COF 를 임시 고정시킨 후, 히트 툴 1.5 ㎜ 폭으로 완충재로서 두께 100 ㎛ 의 테플론 (등록 상표) 을 사용하고, 접합 조건 190 ℃, 3 ㎫ 로 10 초간 접합을 실시하여, 각 실장체를 제조하였다.Each anisotropic conductive film of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-8 was slit to 1.5 mm width, and was affixed on IZO coating glass. After temporarily fixing COF on it, using 100-micrometer-thick Teflon (trademark) as a cushioning material with a width of 1.5 mm of a heat tool, it bonded together for 10 second by bonding conditions 190 degreeC and 3 Mpa, and manufactures each package. It was.

또, IZO 코팅 유리를 SiNx 코팅 유리 (전체 표면 SiNx 코트, 유리 두께 0.7 ㎜) 로 변경한 것 이외에는, 동일하게 하여 각 실장체를 제조하였다.Moreover, each mounting body was produced similarly except having changed IZO coating glass into SiNx coating glass (full surface SiNx coat, glass thickness 0.7mm).

<실장체의 도통 저항의 측정><Measurement of Conducting Resistance of the Mounting Body>

상기 IZO 코팅 유리를 사용하여 제조한 각 실장체에 대해, 초기 (접속 직후) 와 85 ℃, 85 % RH, 500 시간 후의 도통 저항을 측정하였다. 도통 저항의 측정은, 디지털 멀티미터 (품번 : 디지털 멀티미터 7555, 요코가와 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 ㎃ 를 흐르게 하였을 때의 도통 저항을 측정하였다. 각 이방성 도전막을 제조한 직후에 접속을 실시한 각 실장체의 결과를 표 2, 및 각 이방성 도전막을 30 ℃ 에서 60 % RH, 48 시간 노출시킨 후에 접속을 실시한 각 실장체의 결과를 표 3 에 나타낸다.About each mounting body manufactured using the said IZO coating glass, the conduction resistance after initial stage (after connection) and 85 degreeC, 85% RH, and 500 hours was measured. The conduction resistance was measured using a digital multimeter (part number: digital multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Co., Ltd.) to measure the conduction resistance when a current of 1 mA was flown by the 4-probe method. Table 2 shows the result of each package which was connected immediately after manufacture of each anisotropic conductive film, and the result of each package which was connected after exposing each anisotropic conductive film at 30 degreeC 60% RH for 48 hours is shown in Table 3. .

<실장체의 접착 강도의 측정><Measurement of Adhesive Strength of the Mounting Body>

상기 IZO 코팅 유리 및 상기 SiNx 코팅 유리를 사용하여 제조한 각 실장체에 대해, 초기 (접속 직후) 와 85 ℃, 85 % RH 에서 500 시간 후의 접착 강도를 측정하였다. 접착 강도는 인장 시험기 (품번 : RTC1201, AND 사 제조) 를 사용하여 측정 속도 50 ㎜/sec 로 COF 를 끌어올렸을 때의 접착 강도를 측정하였다. 각 이방성 도전막을 제조한 직후에 접속을 실시한 각 실장체의 결과를 표 2, 및 각 이방성 도전막을 30 ℃ 에서 60 % RH, 48 시간 노출시킨 후에 접속을 실시한 각 실장체의 결과를 표 3 에 나타낸다.About each package manufactured using the said IZO coating glass and the said SiNx coating glass, the adhesive strength after 500 hours at the initial stage (after connection) and 85 degreeC and 85% RH was measured. The adhesive strength measured the adhesive strength at the time of pulling up COF by 50 mm / sec. Measurement speed using the tensile tester (product number: RTC1201, AND). Table 2 shows the result of each package which was connected immediately after manufacture of each anisotropic conductive film, and the result of each package which was connected after exposing each anisotropic conductive film at 30 degreeC 60% RH for 48 hours is shown in Table 3. .

《이방성 도전막을 제조한 직후에 접속을 실시한 실장체의 결과》<< Result of the mounted body which was connected immediately after manufacturing an anisotropic conductive film >>

[표 2-1]TABLE 2-1

Figure pct00007
Figure pct00007

[표 2-2]Table 2-2

Figure pct00008
Figure pct00008

《이방성 도전막을 30 ℃ 에서 60 % RH, 48 시간 노출시킨 후에 접속을 실시한 실장체의 결과》<< Result of the package which connected after exposing the anisotropic conductive film to 60% RH for 48 hours at 30 degreeC >>

[표 3-1]Table 3-1

Figure pct00009
Figure pct00009

[표 3-2]Table 3-2

Figure pct00010
Figure pct00010

표 2 및 표 3 의 결과로부터, 비교예 1 은 이방성 도전막을 제조한 직후에는 특성을 발현하지만, 보존 안정성이 나쁘므로, 제조 직후에 비해, 이방성 도전막을 30 ℃ 에서 60 % RH, 48 시간 노출시킨 후의 접착 강도가 저하되는 것을 알 수 있었다.From the results of Table 2 and Table 3, Comparative Example 1 expresses the properties immediately after the anisotropic conductive film is produced, but the storage stability is poor. Therefore, the anisotropic conductive film was exposed to 60% RH at 30 ° C. for 48 hours compared to immediately after the production. It turned out that the adhesive strength after this falls.

또, 인산아크릴레이트의 배합량이 많은 경우에는, 도통 저항이 높아져, IZO 에 대한 접착력은 향상되지만, SiNx 에 대한 접착력은 저하되는 경향이 있는 것을 알 수 있었다.Moreover, when the compounding quantity of phosphate acrylate was large, it turned out that conduction resistance becomes high and the adhesive force with respect to IZO improves, but the adhesive force with respect to SiNx tends to fall.

또, 아민계 실란 커플링제의 배합량이 많은 경우에는, 도통 저항은 저하되어, SiNx 에 대한 접착력은 향상되지만, IZO 에 대한 접착력은 저하되는 경향이 있는 것을 알 수 있었다.Moreover, when the compounding quantity of an amine silane coupling agent is large, it turned out that conduction resistance falls and the adhesive force to SiNx improves, but the adhesive force to IZO tends to fall.

인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 생성된 아민염을 함유하는 이방성 도전 필름에서는 양호한 도통 신뢰성, 접착 강도를 나타냈다 (실시예 1 ~ 8). 특히 아민염의 pH 가 3 ~ 8 의 범위인 실시예 2 ~ 4 및 실시예 6 ~ 8 에서는 30 ℃ 에서 60 % RH, 48 시간 노출 시험 후에도 양호한 도통 저항값, 접착 강도를 나타냈다.In the anisotropic conductive film containing the amine salt produced | generated from the phosphate acrylate and the amine silane coupling agent, favorable conduction | reliability reliability and adhesive strength were shown (Examples 1-8). Especially in Examples 2-4 and Examples 6-8 which pH of an amine salt is the range of 3-8, favorable conduction resistance value and adhesive strength were shown after 60% RH and 48-hour exposure test at 30 degreeC.

한편, 아민염을 함유하지 않고, 아민염을 생성하는 원료 (인산아크릴레이트, 아민계 실란 커플링제) 를 함유한 것만으로는, 양호한 도통 신뢰성, 접착성은 얻어지지 않았다 (비교예 1 ~ 4). 또, 아민계 실란 커플링제 이외의 실란 커플링제를 사용한 경우에도 결과는 동일하였다 (비교예 4, 5). 또, 아민염의 원료를 배합하였다고 해도, 아민염을 사전에 형성시키지 않은 경우에도 양호한 결과는 얻어지지 않았다 (비교예 6, 7). 아민염이라도 인산아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제 이외로 형성된 아민염에서는, 양호한 결과가 얻어지지 않았다 (비교예 8).On the other hand, good conduction reliability and adhesiveness were not obtained only by containing the raw material (phosphate acrylate, an amine silane coupling agent) which does not contain an amine salt and produces | generates an amine salt (Comparative Examples 1-4). Moreover, also when silane coupling agents other than an amine silane coupling agent were used, the result was the same (Comparative Examples 4 and 5). Moreover, even if the raw material of an amine salt was mix | blended, even when an amine salt was not formed previously, the favorable result was not obtained (Comparative Examples 6 and 7). Even in the amine salt, good results were not obtained in the amine salts formed other than the phosphate acrylate and the amine silane coupling agent (Comparative Example 8).

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명의 이방성 도전 필름은, 예를 들어 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 이나 IC 칩의 단자와 LCD 패널의 유리 기판 상에 형성된 ITO (Indium Tin Oxide) 전극의 접속, COF 와 PWB 의 접속, TCP 와 PWB 의 접속, COF 와 유리 기판의 접속, COF 와 COF 의 접속, IC 기판과 유리 기판의 접속, IC 기판과 PWB 의 접속 등의 회로 부재끼리의 접속에 바람직하게 사용된다.The anisotropic conductive film of the present invention is, for example, a connection between a terminal of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC chip and an ITO (Indium Tin Oxide) electrode formed on a glass substrate of an LCD panel, a connection of a COF and a PWB, and a TCP and a PWB. It is used suitably for the connection of circuit members, such as the connection of a, a connection of a COF and a glass substrate, a connection of a COF and a COF, a connection of an IC board | substrate and a glass substrate, and a connection of an IC board | substrate and a PWB.

1 : 이방성 도전 필름
2 : 도전성 입자
10 : 제 1 회로 부재
11 : 유리 기판
12 : 절연막
13 : 배선재
20 : 제 2 회로 부재
21 : 기판
22 : 배선재 또는 전극
100 : 접합체
1: anisotropic conductive film
2: electroconductive particle
10: first circuit member
11: glass substrate
12: Insulating film
13: wiring material
20: second circuit member
21: substrate
22: wiring material or electrode
100: conjugate

Claims (4)

도전성 입자, 막 형성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 유리 라디칼을 발생시키는 경화제, 및 인산(메트)아크릴레이트와 아민계 실란 커플링제로부터 얻어지는 아민염을 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.An anisotropic conductive film containing conductive particles, a film-forming resin, a radically polymerizable compound, a curing agent for generating free radicals, and an amine salt obtained from a phosphoric acid (meth) acrylate and an amine silane coupling agent. 제 1 항에 있어서,
아민염의 pH 가 3 ~ 8 인, 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The anisotropic conductive film whose pH of an amine salt is 3-8.
표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성된 제 1 회로 부재와,
상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 제 2 회로 부재와,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 이방성 도전 필름을 구비하고,
상기 이방성 도전 필름을 개재하여, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재가 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 접합체.
A first circuit member having an insulating film and a wiring member alternately formed on a surface thereof;
A second circuit member having a wiring member or an electrode formed on a surface of the first circuit member that faces the wiring member;
The anisotropic conductive film of Claim 1 or 2 is provided,
The said 1st circuit member and the said 2nd circuit member are joined through the said anisotropic conductive film, The bonding body characterized by the above-mentioned.
표면에 절연막과 배선재가 교대로 형성된 제 1 회로 부재와,
상기 제 1 회로 부재의 배선재와 대향하는 면에 배선재 또는 전극이 형성된 제 2 회로 부재의 접속 방법에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 이방성 도전 필름이, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재 사이에 협지되고,
상기 제 1 회로 부재 및 상기 제 2 회로 부재로부터 가열하면서 가압함으로써, 상기 이방성 도전 필름을 경화시켜, 상기 제 1 회로 부재와 상기 제 2 회로 부재를 접속시키는 것을 특징으로 하는 접속 방법.
A first circuit member having an insulating film and a wiring member alternately formed on a surface thereof;
In the connection method of the 2nd circuit member in which the wiring material or the electrode was formed in the surface which opposes the wiring material of the said 1st circuit member,
The anisotropic conductive film of Claim 1 or 2 is clamped between the said 1st circuit member and the said 2nd circuit member,
The said anisotropic conductive film is hardened | cured by pressurizing while heating from the said 1st circuit member and the said 2nd circuit member, and the said 1st circuit member and the said 2nd circuit member are connected, It is characterized by the above-mentioned.
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