KR20130028583A - Method of manufacturing circuit board and circuit board prepared by the same - Google Patents

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KR20130028583A
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이상민
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Abstract

PURPOSE: A circuit board and a manufacturing method thereof are provided to prevent the etching defect of a circuit pattern by forming a bump later after forming a micro circuit pattern first. CONSTITUTION: A second insulation layer(232) is formed in an area except a bump(222). The outer surface of the second insulation layer is formed to be flat against the outer surface of the bump materially. A third insulation layer is formed on the first insulation layer. A second conductive layer is formed on the outer surface of the third insulation layer. The second conductive layer equips with a second circuit pattern.

Description

회로기판의 제조방법 및 회로기판 {Method of manufacturing circuit board and circuit board prepared by the same}Method for manufacturing circuit board and circuit board {Method of manufacturing circuit board and circuit board prepared by the same}

본 발명은 회로기판의 제조방법 및 회로기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 회로패턴의 에칭 불량이 제거된 회로기판의 제조방법 및 회로기판에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board and a circuit board, and more particularly, to a method for manufacturing a circuit board and a circuit board from which etching defects of a circuit pattern are removed.

최근 들어 전자 기기의 부품 크기가 더욱 작아지고, 소비자들이 하나의 제품이 여러 가지 기능을 갖추는 것을 선호함으로 인해 부품의 개수가 증가하고 있다. 이로 인해 회로기판에 많은 수의 전자 부품을 고밀도로 실장하기 위한 기술이 요구되고 있다. 다층 회로기판(multi-layer circuit board)은 복수 개의 기판이 다층식으로 적층되어 이루어져 전자 부품이 실장되는 전자 기기의 구성요소이다. 다층 회로기판은 단면 또는 양면 기판에 비하여 전기적으로 많은 복잡한 기능을 수행할 수 있으며, 전자 부품의 고밀도 실장을 가능하게 하므로 각종 전자 기기에 널리 이용되고 있다. In recent years, the number of components has been increasing due to the smaller size of electronic components and consumers preferring one product to have various functions. Therefore, a technique for mounting a large number of electronic components on a circuit board at a high density is required. A multi-layer circuit board is a component of an electronic device in which a plurality of substrates are stacked in a multilayer manner to mount electronic components. The multilayer circuit board is capable of performing a number of complicated functions electrically in comparison with a single-sided or double-sided board, and is widely used in various electronic apparatuses because it enables high-density mounting of electronic components.

다층 회로기판은, 각각의 층을 이루는 기판들에 부품들을 전기적으로 연결하기 위한 배선을 형성하고, 복수 개의 기판들을 적층한 후, 각각의 층을 전기적으로 연결시키기 위한 홀을 천공하고, 홀을 도금하거나 홀에 도전성 페이스트를 충전하는 등의 방법으로 제조된다.이렇게 다층 회로기판을 제조하는 경우, 기판의 두께가 두꺼워지게 되어 초박막 다층 회로기판을 제조할 수 없는 문제점이 있다. Multi-layered circuit boards form wiring for electrically connecting components to the substrates of each layer, stack a plurality of substrates, and then drill holes for electrically connecting the respective layers and plate the holes. Or a conductive paste is filled into the holes. In the case of manufacturing the multilayer circuit board, the thickness of the substrate becomes thick, and there is a problem in that the ultra-thin multilayer circuit board cannot be manufactured.

또한, 다층 회로기판에는 범프 및 미세회로패턴을 포함하게 되는데, 종종 미세회로패턴을 형성할 때 에칭 불량이 발생하여 원하는 패턴을 얻기 어려운 문제가 있다.In addition, the multilayer circuit board may include bumps and microcircuit patterns. Often, when the microcircuit pattern is formed, etching defects occur to obtain a desired pattern.

본 발명의 일실시예는 회로패턴의 에칭 불량이 제거된 회로기판의 제조방법 및 회로기판을 제공하는 것을 목적으로 한다. One embodiment of the present invention is to provide a circuit board manufacturing method and a circuit board is removed from the etching defect of the circuit pattern.

상기와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 도전성 기판의 일면에 상기 도전성 기판의 일부를 제거한 제1회로패턴을 형성하는 단계; 상기 제1회로패턴의 상기 도전성 기판의 일부가 제거된 부분에 절연물질을 매립하여 제1절연층을 형성하며, 여기서 상기 제1절연층의 외면은 상기 제1회로패턴의 외면과 실질적으로 편평하도록 상기 절연물질이 매립되는 단계; 상기 제1회로패턴이 형성된 상기 일면에 대향하는 타면의 상기 도전성 기판의 일부를 제거하여 돌출된 범프를 형성하는 단계; 및 상기 범프를 형성하기 위해 상기 도전성 기판의 일부가 제거된 부분에 제2절연층을 형성하며, 여기서 상기 제2절연층의 외면은 상기 범프의 외면과 실질적으로 편평하도록 형성되는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법을 제공한다. According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, the step of forming a first circuit pattern to remove a portion of the conductive substrate on one surface of the conductive substrate; A first insulating layer is formed by filling an insulating material in a portion of the first circuit pattern from which the conductive substrate is removed, wherein the outer surface of the first insulating layer is substantially flat with the outer surface of the first circuit pattern. Embedding the insulating material; Forming a protruding bump by removing a portion of the conductive substrate on the other surface opposite to the one surface on which the first circuit pattern is formed; And forming a second insulating layer on a portion of the conductive substrate from which a portion of the conductive substrate is removed to form the bump, wherein the outer surface of the second insulating layer is formed to be substantially flat with the outer surface of the bump; It provides a method of manufacturing a circuit board comprising a.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 절연물질은 액상의 레진 또는 액상의 솔더레지스트이다. According to another feature of the invention, the insulating material is a liquid resin or a liquid solder resist.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제2절연층은 상기 액상의 레진과 동일하거나 상기 액상의 레진보다 점도가 큰 레진 또는 프리프레그를 이용하여 형성된다. According to another feature of the invention, the second insulating layer is formed using a resin or prepreg that is the same as the liquid resin or larger in viscosity than the liquid resin.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1회로패턴을 형성하는 단계는, 상기 도전성 기판의 일면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제1예비패턴을 형성하는 단계; 상기 제1예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전성 기판의 일부를 제거함으로써 상기 제1회로패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제1예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the invention, the step of forming the first circuit pattern, the step of forming a first preliminary pattern including an opening in a photosensitive resist on one surface of the conductive substrate; Forming the first circuit pattern by supplying an etchant to an opening of the first preliminary pattern to remove a portion of the conductive substrate; And removing the first preliminary pattern. It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 범프를 형성하는 단계는, 상기 도전성 기판의 타면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제2예비패턴을 형성하는 단계; 상기 제2예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전성 기판의 일부를 제거함으로써 상기 범프를 형성하는 단계; 및 상기 제2예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the present invention, the forming of the bumps may include forming a second preliminary pattern including openings on the other surface of the conductive substrate with photosensitive resists; Forming the bumps by supplying an etchant to the openings of the second prepattern to remove a portion of the conductive substrate; And removing the second preliminary pattern. It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1회로패턴이 형성된 면에 제3절연층을 형성 및 제2회로패턴을 포함하는 도전층을 형성하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the invention, forming a third insulating layer and a conductive layer including a second circuit pattern on the surface on which the first circuit pattern is formed; It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 범프가 형성된 면에 상기 범프와 전기적으로 연결된 칩을 실장하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the invention, the step of mounting a chip electrically connected to the bump on the surface formed bump; It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1회로패턴이 형성된 면에 상기 제2절연층과 동일한 물질을 포함하는 제3절연층을 형성하는 단계; 상기 제3절연층의 외면에 도전층을 형성하는 단계; 상기 도전층의 외면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제3예비패턴을 형성하는 단계; 상기 제3예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전층의 일부를 제거함으로써 상기 제2회로패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제3예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the invention, forming a third insulating layer including the same material as the second insulating layer on the surface on which the first circuit pattern is formed; Forming a conductive layer on an outer surface of the third insulating layer; Forming a third preliminary pattern including openings on the outer surface of the conductive layer using photosensitive resists; Forming the second circuit pattern by supplying an etchant to the opening of the third prepattern to remove a portion of the conductive layer; And removing the third preliminary pattern. It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제3절연층의 일부를 제거하여, 상기 제1회로패턴과 상기 제2회로패턴을 전기적으로 연결하는 홀을 형성하는 단계; 를 포함한다. According to another feature of the invention, removing the portion of the third insulating layer, forming a hole for electrically connecting the first circuit pattern and the second circuit pattern; It includes.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1절연층을 형성하는 단계 이후에, 분리필름을 사이에 두고 상기 제1회로패턴과 상기 제1절연층이 형성된 상기 도전성 기판 2개를 접합하는 단계; 상기 도전성 기판 각각에 상기 돌출된 범프를 형성하는 단계; 상기 도전성 기판 각각에 제2절연층을 형성하는 단계; 및 상기 분리필름으로부터 상기 도전성 기판 각각을 분리하는 단계; 를 더 포함한다. According to another feature of the invention, after the step of forming the first insulating layer, the step of bonding the two conductive substrates having the first circuit pattern and the first insulating layer with a separation film therebetween; Forming the protruding bumps on each of the conductive substrates; Forming a second insulating layer on each of the conductive substrates; And separating each of the conductive substrates from the separation film. .

상기와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 일면에 제1회로패턴을 구비하고, 타면에 상기 제1회로패턴에 대향하게 돌출된 범프를 구비하는 제1도전층; 상기 제1회로패턴의 오목한 부분에 매립되어 형성되며, 외면이 상기 제1회로패턴의 외면과 실질적으로 편평하도록 매립되는 제1절연층; 상기 돌출된 범프를 제외한 부분에 형성되며, 외면이 상기 범프의 외면과 실질적으로 편평하도록 형성되는 제2절연층; 상기 제1절연층 상에 형성된 제3절연층; 상기 제3절연층의 외면에 형성되며 제2회로패턴을 구비하는 제2도전층; 을 포함한다. According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, a first conductive layer having a first circuit pattern on one surface, and having a bump protruding opposite the first circuit pattern on the other surface; A first insulating layer buried in a concave portion of the first circuit pattern and having an outer surface substantially buried with an outer surface of the first circuit pattern; A second insulating layer formed on a portion other than the protruding bumps and having an outer surface substantially flat with an outer surface of the bumps; A third insulating layer formed on the first insulating layer; A second conductive layer formed on an outer surface of the third insulating layer and having a second circuit pattern; .

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1회로패턴과 상기 제2회로패턴을 전기적으로 연결하는 홀을 더 포함한다. According to another feature of the invention, it further comprises a hole for electrically connecting the first circuit pattern and the second circuit pattern.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1도전층의 상기 범프를 구비하는 면에 상기 범프와 전기적으로 연결되어 실장된 칩; 을 더 포함한다. According to another feature of the invention, the chip is electrically connected to the bump and mounted on the surface having the bump of the first conductive layer; .

이상과 같은 본 발명의 일 실시예에 따르면, 회로패턴의 에칭 불량이 제거되고, 회로기판의 두께가 감소되는 효과가 있으며, 표면 평탄도(surface flatness)가 우수한 면에 칩을 안정적으로 실장할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. According to the exemplary embodiment of the present invention as described above, the etching defect of the circuit pattern is removed, the thickness of the circuit board is reduced, and the chip can be stably mounted on the surface having excellent surface flatness. You can get the effect.

도 1 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 회로기판의 제조방법을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 11a 및 도 11b는 본 발명의 회로기판 제조방법의 효과를 나타내기 위한 비교예이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 의한 회로기판의 제조방법을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 14 내지 도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 회로기판의 제조방법을 나타내는 개략적인 단면도이다.
1 to 10 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a circuit board according to an embodiment of the present invention.
11A and 11B are comparative examples for showing the effect of the circuit board manufacturing method of the present invention.
12 and 13 are cross-sectional views schematically illustrating a method of manufacturing a circuit board according to another embodiment of the present invention.
14 to 18 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a circuit board according to still another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.As the present invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되어서는 안된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.The terms first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by terms. The terms are used only to distinguish one component from another.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함한다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, Should not be construed to preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

이하, 첨부된 도면들에 도시된 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the preferred embodiment of the present invention shown in the accompanying drawings will be described in detail the present invention.

도 1 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 회로기판의 제조방법을 개략적으로 나타낸 단면도이다. 1 to 10 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 먼저 도전성 기판(210)을 준비한다. Referring to FIG. 1, first, a conductive substrate 210 is prepared.

기판(210)은 다층 회로기판에서 전기 신호를 전달하는 기능을 수행하는 패턴을 형성하기 위한 부분이므로, 구리(Cu)나 은(Ag)과 같이 전기를 전도하는 소재를 포함할 수 있다. Since the substrate 210 is a part for forming a pattern for transmitting an electrical signal in the multilayer circuit board, the substrate 210 may include a material that conducts electricity such as copper (Cu) or silver (Ag).

기판(210)은 평판 형상을 갖지만 도면에서는 두께 방향으로 절단하여 단면을 도시하였다. 이하에서 설명되는 회로기판의 제조방법에서 기판(210)을 비롯한 여러 가지 소재들은 릴(reel)에 감기어진 형태로 제공될 수 있으며, 릴이 회전함에 따라 릴에서 풀려지는 기판(210)에 대해 에칭 공정이나 다른 소재를 도포하는 공정이 실행될 수 있다.Although the substrate 210 has a flat plate shape, the substrate 210 is cut in the thickness direction to illustrate a cross section. In the method of manufacturing a circuit board described below, various materials including the substrate 210 may be provided in a form wound on a reel, and are etched with respect to the substrate 210 released from the reel as the reel rotates. A process or a process of applying another material can be carried out.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 도전성 기판(210)의 일면에 제1회로패턴(221)을 형성한다. 2 to 4, the first circuit pattern 221 is formed on one surface of the conductive substrate 210.

상세히, 기판(210)의 일면에 감광성 레지스트(photo resist)를 도포한 후, 마스크를 통한 노광 공정과 현상 공정을 적용하면, 기판(210)의 일면의 감광성 레지스트의 일부분이 제거되어 도 2에 도시된 것과 같이 개구를 포함하는 제1예비패턴(221a)이 형성된다. 제1예비패턴(221a)은 기판(210)에서 제1회로패턴(221)이 형성될 위치에 형성된다. In detail, after applying a photoresist to one surface of the substrate 210 and then applying an exposure process and a developing process through a mask, a portion of the photosensitive resist on one surface of the substrate 210 is removed, and thus shown in FIG. 2. As described above, a first preliminary pattern 221a including an opening is formed. The first preliminary pattern 221a is formed at the position where the first circuit pattern 221 is to be formed on the substrate 210.

기판(210)에 개구에 식각액을 공급하여 습식 에칭(wet etching) 공정을 적용하면 제1예비패턴(221a)의 개구에 대응하는 기판의 부분들이 식각액에 의해 제거되므로, 도 3에 도시된 것과 같이 제1예비패턴(221a)에 대응하는 부분에 제1회로패턴(221)이 형성된다. When a wet etching process is applied by supplying an etchant to the openings in the substrate 210, portions of the substrate corresponding to the openings of the first preliminary pattern 221a are removed by the etchant, as shown in FIG. 3. The first circuit pattern 221 is formed in a portion corresponding to the first preliminary pattern 221a.

도 4에 도시된 바와 같이 제1회로패턴(221)이 형성된 이후에 제1예비패턴(221a)을 제거한다.As illustrated in FIG. 4, the first preliminary pattern 221a is removed after the first circuit pattern 221 is formed.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 제1회로패턴(221)은 약 80 피치(pitch)이하의 미세 회로패턴일 것을 특징으로 한다. 여기서 피치란, 한 회로라인의 일측에서부터 인접한 다른 회로라인의 일측까지의 거리를 의미하며, 80 피치 이하란, 한 피치가 80nm 이하의 미세한 회로패턴을 의미한다. 그러나, 제1회로패턴(221)의 규격은 상술한 바에 한정되지 않으며, 필요에 따라 다양하게 변형될 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the first circuit pattern 221 is characterized in that the fine circuit pattern of less than about 80 pitch (pitch). Here, the pitch means a distance from one side of one circuit line to one side of another adjacent circuit line, and 80 pitches or less means a fine circuit pattern having one pitch of 80 nm or less. However, the standard of the first circuit pattern 221 is not limited to the above description, and may be variously modified as necessary.

도 5를 참조하면, 제1회로패턴(221)이 형성된 면에 제1절연층(231)을 형성한다. Referring to FIG. 5, a first insulating layer 231 is formed on a surface on which the first circuit pattern 221 is formed.

상세히, 제1회로패턴(221) 중 기판(210)의 일부가 제거된 오목 부분에 절연물질을 매립하여 제1절연층(231)을 형성한다. 여기서 절연물질은 오목 부분을 완전히 채운다. 또한, 제1절연층(231)의 외면은 제1회로패턴(221)의 외면과 실질적으로 편평하도록 절연물질을 매립한다. 도 5의 확대도를 참조하면, 제1회로패턴(221)의 오목부분의 깊이t는 제1절연층(231)의 높이t와 실질적으로 동일하다. 따라서, 제1절연층(231)의 외면을 연장하는 가상선과 제1회로패턴(221)의 외면을 연장하는 가상선은 실질적으로 일치하게 된다. In detail, the first insulating layer 231 is formed by filling an insulating material in a recess in which a portion of the substrate 210 is removed from the first circuit pattern 221. Here the insulating material completely fills the recess. In addition, the outer surface of the first insulating layer 231 fills the insulating material to be substantially flat with the outer surface of the first circuit pattern 221. Referring to the enlarged view of FIG. 5, the depth t of the concave portion of the first circuit pattern 221 is substantially the same as the height t of the first insulating layer 231. Therefore, the virtual line extending the outer surface of the first insulating layer 231 and the virtual line extending the outer surface of the first circuit pattern 221 substantially coincide with each other.

한편, 제1절연층(231)을 구성하는 절연물질은 액상의 절연물질인 것을 특징으로 한다. 그래야만, 절연물질이 제1회로패턴(221)의 오목 부분을 완전히 충진할 수 있다. 절연물질은 예를 들어 액상의 레진(resine) 또는 액상의 솔더레지스트(solder resist)일 수 있다. 액상의 레진은 점도 제어가 용이하므로 제1회로패턴(221)의 오목 부분을 완전히 충진할 수 있다. 액상의 솔더레지스트는 묽은 액과 같은 물질이므로 제1회로패턴(221)의 오목 부분을 완전히 충진할 수 있다. 한편, 절연물질은 액상으로 오목 부분에 충진한 후 경화하는 과정을 더 거쳐 제1절연층(231)으로 될 수 있다. On the other hand, the insulating material constituting the first insulating layer 231 is characterized in that the liquid insulating material. Only then, the insulating material may completely fill the recessed portion of the first circuit pattern 221. The insulating material may be, for example, a liquid resin or a liquid solder resist. Since the liquid resin is easy to control the viscosity, the concave portion of the first circuit pattern 221 may be completely filled. Since the liquid solder resist is a material such as a thin liquid, the concave portion of the first circuit pattern 221 may be completely filled. On the other hand, the insulating material may be a first insulating layer 231 through a process of hardening after filling the concave portion in the liquid phase.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 제1절연층(231)의 외면은 제1회로패턴(221)의 외면과 실질적으로 편평하도록 절연물질을 매립함으로써, 제1회로패턴(221)은 매립패턴(buried pattern)이 된다. 이와 같은 구조로부터, 회로기판 전체 두께가 감소하여 초박판 회로기판을 생산할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the outer surface of the first insulating layer 231 is buried with an insulating material so as to be substantially flat with the outer surface of the first circuit pattern 221, whereby the first circuit pattern 221 is a buried pattern ( buried pattern). From such a structure, the overall thickness of the circuit board can be reduced to produce an ultra-thin circuit board.

도 6 및 도 7을 참조하면, 기판(210)의 타면에 범프(222)를 형성한다. 6 and 7, bumps 222 are formed on the other surface of the substrate 210.

상세히, 기판(210)의 타면에 감광성 레지스트를 도포한 후, 마스크를 통한 노광 공정과 현상 공정을 적용하면, 기판(210)의 일면의 감광성 레지스트의 일부분이 제거되어 도 6에 도시된 것과 같이 개구를 포함하는 제2예비패턴(222a)이 형성된다. 제2예비패턴(222a)은 기판(210)에서 범프(222)가 형성될 위치에 형성된다. In detail, after the photosensitive resist is applied to the other surface of the substrate 210 and then subjected to an exposure process and a developing process through a mask, a portion of the photosensitive resist on one surface of the substrate 210 is removed to open the opening as shown in FIG. 6. A second preliminary pattern 222a including a is formed. The second preliminary pattern 222a is formed at the position where the bump 222 is to be formed on the substrate 210.

기판(210)에 개구에 식각액을 공급하여 습식 에칭(wet etching) 공정을 적용하면 제2예비패턴(222a)의 개구에 대응하는 기판의 부분들이 식각액에 의해 제거되므로, 도 7에 도시된 것과 같이 제2예비패턴(222a)에 대응하는 부분에 범프(222)가 형성된다. 범프(222)가 형성된 이후에 제2예비패턴(222a)을 제거한다.When a wet etching process is applied by supplying an etchant to the openings in the substrate 210, portions of the substrate corresponding to the openings of the second preliminary pattern 222a are removed by the etchant, as shown in FIG. 7. The bumps 222 are formed in portions corresponding to the second preliminary patterns 222a. After the bump 222 is formed, the second preliminary pattern 222a is removed.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 범프(222)란 필-비아홀(filied via hole)과 동일한 구성이다. 즉, 범프(222)는 제1회로패턴(221)과 일체로 형성되어 기판(210)의 타면에 형성될 칩 또는 다른 회로패턴과 전기적인 연결을 수행하게 된다. According to one embodiment of the present invention, the bump 222 has the same configuration as the filled via hole. That is, the bump 222 is integrally formed with the first circuit pattern 221 to electrically connect with the chip or other circuit pattern to be formed on the other surface of the substrate 210.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 제1회로패턴(221)을 먼저 형성하고 범프(222)를 나중에 형성함으로써, 범프(222)를 먼저 형성하고 나중에 제1회로패턴(221)을 형성할 때 나타날 수 있는 미세회로패턴의 미에칭 불량을 해소하는 효과가 있다. 이와 관련해서는 이 후 도 11a 및 도 11b를 참조하여 상세히 설명하기로 한다. According to an embodiment of the present invention, the first circuit pattern 221 is formed first and the bumps 222 are formed later, so that the bumps 222 are formed first and the first circuit patterns 221 are formed later. There is an effect of eliminating the unetched failure of the fine circuit pattern. This will be described in detail later with reference to FIGS. 11A and 11B.

도 8을 참조하면, 범프(222)가 형성된 면에 제2절연층(232)을 형성한다.Referring to FIG. 8, a second insulating layer 232 is formed on the surface on which the bumps 222 are formed.

상세히, 범프(222)를 형성하기 위하여 기판(210)의 일부가 제거된 오목 부분에 제2절연층(232)을 형성한다. 제2절연층(232)은 전기가 통하지 않는 소재를 포함하며 강성을 가져 기판(210)을 지지하는 기능을 수행한다. In detail, the second insulating layer 232 is formed in the recess in which a part of the substrate 210 is removed to form the bump 222. The second insulating layer 232 includes a material that is not electrically conductive and has a rigidity to support the substrate 210.

제1절연층(231)과 유사하게, 제2절연층(232)의 외면은 범프(222)의 외면과 실질적으로 편평하도록 형성한다. 도 5의 확대도를 참조하면, 제2절연층(232)의 외면을 연장하는 가상선과 범프(222)의 외면을 연장하는 가상선은 실질적으로 일치하게 된다. 즉, 제2절연층(232)은 범프(222)의 측면이 아닌 상면만 돌출되도록 기판(210)을 덮는다. Similar to the first insulating layer 231, the outer surface of the second insulating layer 232 is formed to be substantially flat with the outer surface of the bump 222. Referring to the enlarged view of FIG. 5, the virtual line extending the outer surface of the second insulating layer 232 and the virtual line extending the outer surface of the bump 222 substantially coincide with each other. That is, the second insulating layer 232 covers the substrate 210 to protrude only the upper surface of the bump 222, not the side surface thereof.

한편, 제2절연층(232)은 회로기판의 강성을 유지할 수 있는 물질을 포함한다. 제2절연층(232)은 리지드(rigid)기판을 제조하기 위한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어 제2절연층(232)은 레진 또는 프리프레그(prepreg)를 포함할 수 있다. 여기서 레진은 제1절연층(231)의 레진과 동일한 레진이거나, 제1절연층(231)의 레진보다 점도가 커야 한다. 그래야만 일정한 두께를 가지도록 레진이 충진될 수 있다. 한편 프리프레그는 미경화 필름 타입으로 범프(222)가 형성된 기판의 타면에 소정의 열과 압력을 가하여 부착될 수 있다. 제2절연층(232)을 구성하는 레진 및 프리프레그는 점도가 높거나, 필름타입이기 때문에 제2절연층(232)을 구성하는 물질들을 제1절연층(231)으로 적용할 경우 폭이 약 수십nm 이하인 미세한 제1회로패턴(221)의 오목 부분을 완전히 충진하지 못하는 문제가 발생할 수 있다. 한편, 레진 또는 프리프레그를 형성한 후 경화하는 과정을 더 거쳐 제2절연층(232)으로 될 수 있다.Meanwhile, the second insulating layer 232 includes a material capable of maintaining the rigidity of the circuit board. The second insulating layer 232 may include a material for manufacturing a rigid substrate. For example, the second insulating layer 232 may include resin or prepreg. In this case, the resin may be the same resin as the resin of the first insulating layer 231 or may have a higher viscosity than the resin of the first insulating layer 231. Only then can the resin be filled to a certain thickness. Meanwhile, the prepreg may be attached by applying a predetermined heat and pressure to the other surface of the substrate on which the bumps 222 are formed as the uncured film type. Since the resin and the prepreg constituting the second insulating layer 232 have a high viscosity or a film type, when the materials constituting the second insulating layer 232 are applied to the first insulating layer 231, the width and the prepreg thereof are about the same. There may be a problem that the filling of the concave portion of the fine first circuit pattern 221 that is several tens of nm or less may occur completely. On the other hand, it may be a second insulating layer 232 through a process of curing after the resin or prepreg is formed.

도 9를 참조하면, 기판에 보호층(241, 242)을 더 형성한다.9, protective layers 241 and 242 are further formed on the substrate.

보호층(241, 242)은 PSR(Photo Solder Resist)을 사용할 수 있으며, 노광가능한 에폭시에 아크릴레이트가 포함된 성분을 포함할 수 있으나 이에 한정된 것은 아니다. 보호층(241, 242)은 외부로부터 제1회로패턴(221) 및 범프(222)를 보호하며, 보호층(241, 242)에는 개구가 있어 제1회로패턴(221) 및 범프(222)의 일부를 노출한다. The protective layers 241 and 242 may use a photo solder resist (PSR), and may include a component in which an acrylate is included in the exposeable epoxy, but is not limited thereto. The protective layers 241 and 242 protect the first circuit patterns 221 and the bumps 222 from the outside, and the protective layers 241 and 242 have openings so that the first circuit patterns 221 and the bumps 222 may be formed. Expose some.

도 10을 참조하면, 칩 본딩 또는 다른 기판을 연결하기 위해 솔더 범프(251) 등을 형성한다. Referring to FIG. 10, solder bumps 251 and the like are formed to connect chip bonding or another substrate.

예를 들어, 회로기판의 하부로 노출된 제1회로패턴(221)에 기판 연결용 솔더 범프(251)를 부착하였다. 한편, 도시되어 있지는 않으나, 회로기판의 상측으로 노출된 범프(222)의 표면에 칩 부착용 솔더 범프를 개재하여 칩을 실장할 수 있다. For example, a solder bump 251 for board connection is attached to the first circuit pattern 221 exposed under the circuit board. Although not shown, the chip may be mounted on the surface of the bump 222 exposed to the upper side of the circuit board through the solder bumps for chip attachment.

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 회로기판 제조방법의 효과를 나타내기 위한 비교예이다. 11A and 11B are comparative examples for showing the effect of the circuit board manufacturing method of the present invention.

비교예에서는 본 발명의 일 실시예와 상이하게 범프(222)를 먼저 형성하고, 제1회로패턴(221)(즉, 미세회로패턴)을 형성한다. 도 11a의 경우 회로기판의 상면을 일부 제거함으로써 범프(222)를 형성하고 범프(222)가 형성된 면에 제2절연층(232)을 형성한 후에, 회로기판의 하부에 제1예비패턴(221a)을 생성하여 제1회로패턴(221)을 형성하는 과정을 나타낸 개략적인 단면도이다. 도면부호 242의 경우 보호층에 해당하며, 생략하여도 무방하다.In the comparative example, the bump 222 is first formed differently from the exemplary embodiment of the present invention, and the first circuit pattern 221 (that is, the fine circuit pattern) is formed. In FIG. 11A, the bump 222 is formed by partially removing the upper surface of the circuit board, and the second insulating layer 232 is formed on the surface on which the bump 222 is formed, and then the first preliminary pattern 221a is disposed below the circuit board. ) Is a schematic cross-sectional view showing a process of forming the first circuit pattern 221 by generating a. Reference numeral 242 corresponds to a protective layer and may be omitted.

도 11b는 도 11a의 점선 표시된 내부를 확대한 사진이다. FIG. 11B is an enlarged photograph of the inside of a dotted line in FIG. 11A.

도 11b를 참조하면, 범프(222)를 먼저 형성하고, 미세회로패턴(221)을 형성하는 경우 미세회로패턴(221)의 미에칭 불량이 발생하는 문제가 있다. 상세히, 범프(222)나 미세회로패턴(221)은 습식 식각에 의해 형성되는데, 이 때 식각액에 의해 기판은 등방성 식각(isotropic etching)된다. 등방성 식각이란, 식각이 어떤 방향에서나 동일한 속도로 일어나게 되는 것으로, 도 11b에 나타난 바와 같이 식각부분은 일정한 곡률을 가지게 된다. 따라서, 범프(222)와 범프(222) 사이의 오목 부분 중 범프(222)와 가까운 부분은 범프(222)에서 먼 부분보다 식각되는 깊이가 작다. 따라서, 범프(222)와 범프(222) 사이에 형성되는 미세회로패턴(221)의 오목 부분 중 범프(222)와 가까운 부분에 형성되는 미세회로패턴(221)의 오목 부분은 도 11b의 화살표로 표시된 바와 같이 미에칭되는 불량이 발생될 수 밖에 없다. 이 경우, 미에칭 불량을 해소하기 위하여 미세회로패턴(221)을 더 깊게 에칭하는 경우 등방성 에칭에 의해 , 예를 들어 쇼트(short), 오픈(open)과 같은 미세회로의 형성 불량이 발생할 수 있다. Referring to FIG. 11B, when the bump 222 is first formed and the microcircuit pattern 221 is formed, there is a problem in that the unetching failure of the microcircuit pattern 221 occurs. In detail, the bump 222 or the microcircuit pattern 221 is formed by wet etching, wherein the substrate is isotropically etched by the etching solution. Isotropic etching means that etching occurs at the same speed in any direction, and as shown in FIG. 11B, the etching portion has a constant curvature. Accordingly, the portion of the concave portion between the bump 222 and the bump 222 that is close to the bump 222 has a smaller depth to be etched than the portion farther from the bump 222. Accordingly, the concave portion of the microcircuit pattern 221 formed at the portion close to the bump 222 among the concave portions of the microcircuit pattern 221 formed between the bump 222 and the bump 222 is indicated by the arrow of FIG. 11B. As indicated, defects that are not etched are bound to occur. In this case, when the microcircuit pattern 221 is deeply etched to solve the unetched defect, the formation of a microcircuit such as short or open may be caused by isotropic etching. .

그러나, 본 발명의 일 실시예에 의한 회로기판의 제조방법에 의하면, 미세회로패턴인 제1회로패턴(221)을 먼저 형성하고 이후에 범프(222)를 형성함으로써, 종래 미세회로패턴의 미에칭 불량을 해소하는 효과가 있다. 상세히, 미세회로패턴을 형성할 때 미세회로패턴에 포함된 오목 부분의 거리를 미리 고려하여 깊이를 비교예보다 깊게 형성한다. 미세회로패턴의 깊이는 과에칭 공차를 반영하여 설정한다. 이렇게 미세회로패턴을 먼저 형성한 후, 범프를 형성하게 되면 종래 미세회로패턴의 미에칭 불량을 해소하는 효과가 있다. However, according to the method of manufacturing a circuit board according to an embodiment of the present invention, by first forming the first circuit pattern 221 which is the fine circuit pattern and then forming the bump 222, the conventional etching of the fine circuit pattern is performed. It is effective in eliminating defects. In detail, when forming the microcircuit pattern, the depth is formed deeper than the comparative example in consideration of the distance of the concave portion included in the microcircuit pattern in advance. The depth of the fine circuit pattern is set by reflecting the over etching tolerance. If the microcircuit pattern is formed first, and then bumps are formed, there is an effect of solving the unetching defect of the conventional microcircuit pattern.

도 12 및 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 의한 회로기판의 제조방법을 개략적으로 나타낸 단면도이다. 12 and 13 are cross-sectional views schematically illustrating a method of manufacturing a circuit board according to another embodiment of the present invention.

금번 실시예는 종래 설명한 도 1 내지 도 8까지 공정은 이전 실시예와 동일하고, 다만, 도 9 및 도 10 단계 대신에 도 12 내지 도 13단계를 포함한다. 따라서, 기존에 이미 설명한 도 1 내지 도 8까지의 공정은 중복되는 설명이므로 생략하고, 금번 실시예에 특유한 도 12 및 도 13 단계만 상세히 설명하기로 한다. In this embodiment, the process of FIGS. 1 to 8 described above is the same as the previous embodiment, but includes steps 12 to 13 instead of steps 9 and 10. Therefore, since the processes previously described with reference to FIGS. 1 to 8 are overlapping descriptions, only the steps of FIGS. 12 and 13 specific to the present embodiment will be described in detail.

도 12를 참조하면, 도 8에서 제조된 회로기판의 일면에 제3절연층(331) 및 제2회로패턴(321)을 더 형성한다. Referring to FIG. 12, a third insulating layer 331 and a second circuit pattern 321 are further formed on one surface of the circuit board manufactured in FIG. 8.

상세히, 제1회로패턴(221)이 형성된 면에 제2절연층(232)과 동일한 물질을 포함하는 제3절연층(331)을 형성한다. 다음으로, 제3절연층(331)의 외면에 도전층을 더 형성한다. 여기서 제3절연층(331)의 외면이란, 제1회로패턴(221)이 형성된 면에 대향하는 면을 의미한다. 그 후 도전층의 외면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제3예비패턴(미도시)을 형성하고, 제3예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 도전층의 일부를 제거함으로써 제2회로패턴(321)을 형성한다. 마지막으로 스트리핑(stripping) 및 애싱(ashing) 공정에 의해 제3예비패턴을 제거한다. In detail, the third insulating layer 331 including the same material as the second insulating layer 232 is formed on the surface on which the first circuit pattern 221 is formed. Next, a conductive layer is further formed on the outer surface of the third insulating layer 331. Here, the outer surface of the third insulating layer 331 means a surface facing the surface on which the first circuit pattern 221 is formed. Thereafter, a third preliminary pattern (not shown) including an opening is formed on the outer surface of the conductive layer, and the second circuit pattern 321 is removed by supplying an etchant to the opening of the third prepattern to remove a portion of the conductive layer. ). Finally, the third preliminary pattern is removed by a stripping and ashing process.

또한 도 12를 참조하면, 홀(VH) 가공공정을 더 포함할 수 있다. 상세히, 제3절연층(331)의 외면에 도전층을 형성한 후에, 레이저 드릴(laser drill)을 사용하여 도전층 및 제3절연층(331)에 홀(VH)을 형성한다. 이렇게 형성된 홀(VH)의 내부면에 전도성 물질을 채우거나, 도금하여 제2회로패턴(321)과 제1회로패턴(221)을 전기적으로 연결시킨다. In addition, referring to FIG. 12, a hole (VH) machining process may be further included. In detail, after the conductive layer is formed on the outer surface of the third insulating layer 331, holes VH are formed in the conductive layer and the third insulating layer 331 by using a laser drill. The second circuit pattern 321 and the first circuit pattern 221 are electrically connected to each other by filling or plating a conductive material on the inner surface of the hole VH thus formed.

본 발명의 다른 실시예에 의하면, 제1회로패턴(221)이 형성된 면에 추가로 절연층 및 회로패턴을 더 형성하여 레이어를 증가시킨 다층 회로기판을 제조할 수 있다. 비록 도 12에서는 하나의 레이어만을 증가시켰으나, 이에 한정되지 않고, 추가의 절연층 및 회로패턴을 계속 형성하여 고객이 원하는 다층 레이어를 가진 다층 회로기판을 제조할 수 있을 것이다. According to another exemplary embodiment of the present invention, an insulating layer and a circuit pattern may be further formed on a surface on which the first circuit pattern 221 is formed to manufacture a multilayer circuit board having increased layers. Although only one layer is increased in FIG. 12, the present invention is not limited thereto, and additional insulating layers and circuit patterns may be continuously formed to manufacture a multilayer circuit board having a multilayer layer desired by a customer.

도 13을 참조하면, 도 12에서 제조된 회로기판의 타면에 칩(260)을 실장한다. Referring to FIG. 13, the chip 260 is mounted on the other surface of the circuit board manufactured in FIG. 12.

상세히, 칩(260)은 플립칩(flip chip)일 수 있으며, 도 12에서 제조된 회로기판의 범프(222)가 형성된 면에 칩(260)을 실장한다. 범프(222)와 칩(260)을 전기적으로 연결하기 위하여 칩 부착용 솔더 범프(252)가 더 개재될 수 있다. 한편, 도 13에서 도면부호 242 및 341은 보호층에 해당한다. In detail, the chip 260 may be a flip chip, and the chip 260 is mounted on a surface on which the bump 222 of the circuit board manufactured in FIG. 12 is formed. In order to electrically connect the bump 222 and the chip 260, a solder bump 252 for attaching the chip may be further interposed. In FIG. 13, reference numerals 242 and 341 correspond to protective layers.

본 발명의 다른 실시예에 의하면, 칩(260)이 표면 평탄도가 우수한 범프(222)가 형성된 면에 실장되므로 회로기판과 칩(260)의 조립 신뢰성이 우수한 특징이 있다. 회로기판 중 범프(222)가 형성된 면은 제2회로패턴(321)이 형성된 면에 비하여 표면 평탄도가 우수하다. 도 13에서 도시된 바와 같이 제2회로패턴(321)은 매립패턴(buried pattern)이 아니기 때문에, 회로기판 표면이 평탄하지 않고 올록 볼록하게 된다. 따라서, 제2회로패턴(321)이 형성된 면에 칩(260)을 실장하는 경우 표면이 고르지 않아 조립 과정에서 불량이 발생한 가능성이 크다. 그러나, 범프(222)가 형성된 면은 제2절연층(232)의 상면이 범프(222)의 상면과 실질적으로 편평하도록 형성되기 때문에 표면 평탄도가 우수하므로, 칩(260)을 실장했을 때 조립 신뢰성이 우수하다. According to another embodiment of the present invention, since the chip 260 is mounted on the surface on which the bump 222 having excellent surface flatness is formed, the assembly reliability of the circuit board and the chip 260 is excellent. The surface on which the bump 222 is formed in the circuit board has better surface flatness than the surface on which the second circuit pattern 321 is formed. As shown in FIG. 13, since the second circuit pattern 321 is not a buried pattern, the surface of the circuit board is not flat and convex. Therefore, when the chip 260 is mounted on the surface on which the second circuit pattern 321 is formed, the surface is uneven, so that a defect may occur in the assembling process. However, since the top surface of the second insulating layer 232 is formed to be substantially flat with the top surface of the bump 222, the surface on which the bump 222 is formed is excellent in surface flatness, and thus, when the chip 260 is mounted, the surface is formed. Excellent reliability

도 14 내지 도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 회로기판의 제조방법을 나타내는 개략적인 단면도이다. 14 to 18 are schematic cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a circuit board according to still another embodiment of the present invention.

금번 실시예는 종래 설명한 도 1 내지 도 5까지 공정이 이전 실시예와 동일하고, 다만, 도 6 내지 도 8 단계 대신에 도 14 내지 도 18단계를 포함한다. 따라서, 기존에 이미 설명한 도 1 내지 도 5까지의 공정은 중복되는 설명이므로 생략하고, 금번 실시예에 특유한 도 14 내지 도 18의 단계만 상세히 설명하기로 한다. 이해의 편의를 위해서 도 14 내지 도 18에서는 기존 실시예의 도면부호 뒤에 x,y를 붙여 기재하였으며, x,y앞에 기재된 도면부호가 동일한 경우, 동일한 구성이다.In this embodiment, the processes of FIGS. 1 to 5 described above are the same as in the previous embodiment, but include steps 14 to 18 instead of steps 6 to 8. Therefore, since the processes previously described with reference to FIGS. 1 to 5 are overlapping descriptions, only the steps of FIGS. 14 to 18 that are specific to this embodiment will be described in detail. For convenience of understanding, in FIG. 14 to FIG. 18, x and y are described after the reference numerals of the existing embodiments, and x and y are the same configuration when the same reference numerals are described.

도 14를 참조하면, 도 5에서 제조된 회로기판 두 개를 분리필름(10)을 사이에 두고 접합한다. Referring to FIG. 14, two circuit boards manufactured in FIG. 5 are bonded to each other with the separation film 10 interposed therebetween.

상세히, 분리필름(10)을 사이에 두고 각각의 회로기판의 제1회로패턴(221x, 221y)이 형성된 면을 접합한다. In detail, the surfaces on which the first circuit patterns 221x and 221y of each circuit board are formed are bonded to each other with the separation film 10 interposed therebetween.

여기서 분리필름(10)은 소정의 열과 힘을 가할 경우 분리필름(10)을 사이에 두고 붙은 두 개의 회로기판의 분리가 용이하도록 하는 필름으로, 발포필름 또는 이형필름을 예로 들 수 있다. 도 14 이후에는 범프(222x, 222y)를 형성하는 공정을 두 개의 회로기판에 대하여 동시에 진행하는 것을 특징으로 하기 때문에, 각각의 회로기판의 범프(222x, 222y)가 형성될 면이 바깥쪽으로 오도록 분리필름(10)에 회로기판을 접합하는 것을 특징으로 한다. Here, the separation film 10 is a film that facilitates separation of two circuit boards attached with the separation film 10 therebetween when a predetermined heat and force are applied, for example, a foam film or a release film. Since the process of forming bumps 222x and 222y is performed simultaneously with respect to the two circuit boards after FIG. 14, the surfaces on which the bumps 222x and 222y of each circuit board are to be formed are separated outward. A circuit board is bonded to the film 10.

도 15를 참조하면, 도 6과 유사하게 바깥쪽으로 노출된 각각의 회로기판의 면에 제2예비패턴(222ax, 222ay)을 형성한다. Referring to FIG. 15, similar to FIG. 6, second preliminary patterns 222ax and 222ay are formed on surfaces of each of the circuit boards exposed to the outside.

도 16을 참조하면, 도 7과 유사하게 제2예비패턴(222ax, 222ay)을 통해 기판(210x, 210y)의 일부를 제거하여 각각의 회로기판에 범프(222x, 222y)를 형성한다. Referring to FIG. 16, similar to FIG. 7, bumps 222x and 222y are formed on each circuit board by removing a portion of the substrates 210x and 210y through the second preliminary patterns 222ax and 222ay.

도 17을 참조하면, 도 8과 유사하게 각각의 회로기판의 범프(222x, 222y)가 형성된 면에 제2절연층(232x, 232y)을 형성한다. Referring to FIG. 17, similar to FIG. 8, second insulating layers 232x and 232y are formed on the surfaces of bumps 222x and 222y of each circuit board.

도 18을 참조하면, 소정의 열과 힘을 가하여 각각의 회로기판을 분리필름(10)으로부터 분리한다. 이로부터 한번의 공정으로 두 개의 회로기판을 제조할 수 있어 공정시간이 단축되고, 생산성이 배가 되며, 가공비가 저감되어 경제성이 증대되는 효과가 있다. Referring to FIG. 18, each circuit board is separated from the separation film 10 by applying a predetermined heat and force. From this, it is possible to manufacture two circuit boards in one process, thereby reducing the processing time, doubling the productivity, and reducing the processing cost, thereby increasing economic efficiency.

도 18 이후에 각각의 회로기판에 대하여 본 발명의 일 실시예인 도 9 및 도 10의 공정이 진행될 수도 있다. 한편, 도 18 이후에 각각의 회로기판에 대하여 본 발명의 다른 실시예인 도 12 및 도 13의 공정이 진행될 수도 있다. After FIG. 18, the processes of FIGS. 9 and 10, which are embodiments of the present invention, may be performed on each circuit board. Meanwhile, the process of FIGS. 12 and 13, which is another embodiment of the present invention, may be performed on each circuit board after FIG. 18.

본 발명에 따른 실시예를 설명하기 위한 도면에는 비아홀(via hole) 및 관통홀(PTH; plated through hole)을 포함하는 소정의 홀, 및 소정 형태의 회로패턴 등이 도시되어 있으나, 이는 설명의 편의를 위한 것일 뿐, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명에 따른 제조방법을 크게 벗어나지 않는 한, 다른 형태, 다른 개수, 다른 패턴이 포함될 수 있음은 물론이다. In the drawings for describing an embodiment of the present invention, a predetermined hole including a via hole and a plated through hole (PTH), and a circuit pattern of a predetermined shape are illustrated. For the sake of clarity, the present invention is not limited thereto, and other forms, different numbers, and other patterns may be included as long as the present invention is not significantly deviated from the manufacturing method.

본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능하다. 또한 설명되지는 않았으나, 균등한 수단도 또한 본 발명에 그대로 결합되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.In the present specification, the present invention has been described with reference to limited embodiments, but various embodiments are possible within the scope of the present invention. In addition, although not described, equivalent means will also be referred to as incorporated in the present invention. Therefore, the true scope of the present invention will be defined by the claims below.

210: 기판 221a: 제1예비패턴
221: 제1회로패턴 231: 제1절연층
222a: 제2예비패턴 222: 범프
232: 제2절연층 241, 242: 보호층
251, 252: 솔더 범프 331: 제3절연층
321: 제2회로패턴 341: 보호층
260: 칩
210: substrate 221a: first preliminary pattern
221: first circuit pattern 231: first insulating layer
222a: second preliminary pattern 222: bump
232: second insulating layer 241, 242: protective layer
251 and 252: solder bump 331: third insulating layer
321: second circuit pattern 341: protective layer
260: chip

Claims (13)

도전성 기판의 일면에 상기 도전성 기판의 일부를 제거한 제1회로패턴을 형성하는 단계;
상기 제1회로패턴의 상기 도전성 기판의 일부가 제거된 부분에 절연물질을 매립하여 제1절연층을 형성하며, 여기서 상기 제1절연층의 외면은 상기 제1회로패턴의 외면과 실질적으로 편평하도록 상기 절연물질이 매립되는 단계;
상기 제1회로패턴이 형성된 상기 일면에 대향하는 타면의 상기 도전성 기판의 일부를 제거하여 돌출된 범프를 형성하는 단계; 및
상기 범프를 형성하기 위해 상기 도전성 기판의 일부가 제거된 부분에 제2절연층을 형성하며, 여기서 상기 제2절연층의 외면은 상기 범프의 외면과 실질적으로 편평하도록 형성되는 단계;
를 포함하는 회로기판의 제조방법.
Forming a first circuit pattern having a portion of the conductive substrate removed on one surface of the conductive substrate;
A first insulating layer is formed by filling an insulating material in a portion of the first circuit pattern from which the conductive substrate is removed, wherein the outer surface of the first insulating layer is substantially flat with the outer surface of the first circuit pattern. Embedding the insulating material;
Forming a protruding bump by removing a portion of the conductive substrate on the other surface opposite to the one surface on which the first circuit pattern is formed; And
Forming a second insulating layer on a portion of the conductive substrate from which a portion of the conductive substrate is removed to form the bumps, wherein the outer surface of the second insulating layer is formed to be substantially flat with the outer surface of the bumps;
Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 절연물질은 액상의 레진 또는 액상의 솔더레지스트인 회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The insulating material is a method of manufacturing a circuit board is a liquid resin or a liquid solder resist.
제2항에 있어서
상기 제2절연층은 상기 액상의 레진보다 점도가 큰 레진 또는 프리프레그를 이용하여 형성되는 회로기판의 제조방법.
The method according to claim 2, wherein
And the second insulating layer is formed of a resin or prepreg having a viscosity greater than that of the liquid resin.
제1항에 있어서,
상기 제1회로패턴을 형성하는 단계는,
상기 도전성 기판의 일면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제1예비패턴을 형성하는 단계;
상기 제1예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전성 기판의 일부를 제거함으로써 상기 제1회로패턴을 형성하는 단계; 및
상기 제1예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming the first circuit pattern,
Forming a first preliminary pattern including openings on one surface of the conductive substrate using photosensitive resists;
Forming the first circuit pattern by supplying an etchant to an opening of the first preliminary pattern to remove a portion of the conductive substrate; And
Removing the first preliminary pattern; Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 범프를 형성하는 단계는,
상기 도전성 기판의 타면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제2예비패턴을 형성하는 단계;
상기 제2예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전성 기판의 일부를 제거함으로써 상기 범프를 형성하는 단계; 및
상기 제2예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming the bumps,
Forming a second preliminary pattern including openings on the other surface of the conductive substrate using photosensitive resists;
Forming the bumps by supplying an etchant to the openings of the second prepattern to remove a portion of the conductive substrate; And
Removing the second preliminary pattern; Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 제1회로패턴이 형성된 면에 제3절연층을 형성 및 제2회로패턴을 포함하는 도전층을 형성하는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming a third insulating layer on a surface on which the first circuit pattern is formed and forming a conductive layer including a second circuit pattern; Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제6항에 있어서,
상기 범프가 형성된 면에 상기 범프와 전기적으로 연결된 칩을 실장하는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method according to claim 6,
Mounting a chip electrically connected to the bumps on a surface where the bumps are formed; Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제6항에 있어서,
상기 제1회로패턴이 형성된 면에 상기 제2절연층과 동일한 물질을 포함하는 제3절연층을 형성하는 단계;
상기 제3절연층의 외면에 도전층을 형성하는 단계;
상기 도전층의 외면에 감광성레지스트로 개구를 포함하는 제3예비패턴을 형성하는 단계;
상기 제3예비패턴의 개구에 식각액을 공급하여 상기 도전층의 일부를 제거함으로써 상기 제2회로패턴을 형성하는 단계; 및
상기 제3예비패턴을 제거하는 단계; 를 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method according to claim 6,
Forming a third insulating layer including the same material as the second insulating layer on a surface on which the first circuit pattern is formed;
Forming a conductive layer on an outer surface of the third insulating layer;
Forming a third preliminary pattern including openings on the outer surface of the conductive layer using photosensitive resists;
Forming the second circuit pattern by supplying an etchant to the opening of the third prepattern to remove a portion of the conductive layer; And
Removing the third prepattern; Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제8항에 있어서,
상기 제3절연층의 일부를 제거하여, 상기 제1회로패턴과 상기 제2회로패턴을 전기적으로 연결하는 홀을 형성하는 단계;
를 포함하는 회로기판의 제조방법.
9. The method of claim 8,
Removing a portion of the third insulating layer to form a hole for electrically connecting the first circuit pattern and the second circuit pattern;
Method of manufacturing a circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 제1절연층을 형성하는 단계 이후에,
분리필름을 사이에 두고 상기 제1회로패턴과 상기 제1절연층이 형성된 상기 도전성 기판 2개를 접합하는 단계;
상기 도전성 기판 각각에 상기 돌출된 범프를 형성하는 단계;
상기 도전성 기판 각각에 제2절연층을 형성하는 단계; 및
상기 분리필름으로부터 상기 도전성 기판 각각을 분리하는 단계; 를 더 포함하는 회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
After forming the first insulating layer,
Bonding two conductive substrates having the first circuit pattern and the first insulating layer therebetween with a separation film therebetween;
Forming the protruding bumps on each of the conductive substrates;
Forming a second insulating layer on each of the conductive substrates; And
Separating each of the conductive substrates from the separation film; Method of manufacturing a circuit board further comprising.
일면에 제1회로패턴을 구비하고, 타면에 상기 제1회로패턴에 대향하게 돌출된 범프를 구비하는 제1도전층;
상기 제1회로패턴의 오목한 부분에 매립되어 형성되며, 외면이 상기 제1회로패턴의 외면과 실질적으로 편평하도록 매립되는 제1절연층;
상기 돌출된 범프를 제외한 부분에 형성되며, 외면이 상기 범프의 외면과 실질적으로 편평하도록 형성되는 제2절연층;
상기 제1절연층 상에 형성된 제3절연층;
상기 제3절연층의 외면에 형성되며 제2회로패턴을 구비하는 제2도전층; 을 포함하는 회로기판.
A first conductive layer having a first circuit pattern on one surface and a bump protruding on the other surface of the first circuit pattern;
A first insulating layer buried in a concave portion of the first circuit pattern and having an outer surface substantially buried with an outer surface of the first circuit pattern;
A second insulating layer formed on a portion other than the protruding bumps and having an outer surface substantially flat with an outer surface of the bumps;
A third insulating layer formed on the first insulating layer;
A second conductive layer formed on an outer surface of the third insulating layer and having a second circuit pattern; Circuit board comprising a.
제11항에 있어서,
상기 제1회로패턴과 상기 제2회로패턴을 전기적으로 연결하는 홀을 더 포함하는 회로기판.
The method of claim 11,
The circuit board further comprises a hole for electrically connecting the first circuit pattern and the second circuit pattern.
제11항에 있어서,
상기 제1도전층의 상기 범프를 구비하는 면에 상기 범프와 전기적으로 연결되어 실장된 칩; 을 더 포함하는 회로기판.
The method of claim 11,
A chip electrically connected to the bump and mounted on a surface of the first conductive layer including the bump; The circuit board further comprising.
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