KR20130004643U - Dosing device - Google Patents
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Abstract
본 고안은 도징 장치의 분야에 관한 것이다. 특히, 본 고안은 제품의 습식 화학적 처리의 영역에 사용되는 액체 성분용 도징 장치의 분야 및 이러한 도징 장치를 구비한 처리 시스템에 관한 것이다.
제품의 습식 화학적 처리의 영역에서 사용될 액체 성분(F)을 제공하기 위한 본 고안에 따른 도징 장치(1, 1')는 유입부(3) 및 배출부(4)를 갖는 저장용기(2), 상기 저장용기(2) 내로 통하는 적어도 하나의 공급 라인(5), 저장용기 내용물(F')용 계량 장치(7), 상기 배출부(4)의 하류에 배치된 유량 측정 장치(8), 적어도 하나의 제어 가능한 배출 밸브(9), 및 배출 라인(10, 10')을 포함하고, 상기 저장용기(2)는 압축 가스(G)용 공급부(11)를 포함하고, 상기 배출부(4)는 상기 저장용기(2)의 하부 영역(2")에 배치된다.The present invention relates to the field of dosing devices. In particular, the present invention relates to the field of dosing devices for liquid components for use in the area of wet chemical treatment of products and to treatment systems with such dosing devices.
The dosing device 1, 1 ′ according to the present invention for providing a liquid component F to be used in the area of wet chemical treatment of a product comprises a storage container 2 having an inlet 3 and an outlet 4, At least one supply line 5 leading into the reservoir 2, a metering device 7 for the container contents F ′, a flow rate measuring device 8 arranged downstream of the discharge part 4, at least One controllable discharge valve 9, and discharge lines 10, 10 ′, the reservoir 2 comprising a supply 11 for compressed gas G, the discharge 4 Is disposed in the lower region 2 "of the reservoir 2.
Description
본 고안은 도징 장치(dosing device)(정량 투입 장치)의 분야에 관한 것이다. 특히 본 고안은 제품의 습식 화학적 처리의 영역에 사용되는 액체 성분용 도징 장치의 분야 및 이러한 도징 장치를 구비한 처리 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to the field of dosing devices (quantitative dosing devices). In particular, the present invention relates to the field of dosing devices for liquid components for use in the area of wet chemical treatment of products and to treatment systems with such dosing devices.
제품, 예컨대 태양 전지 또는 반도체 소자의 제조는 통상 기판의 하나 또는 다수의 습식 화학적 처리 단계, 예컨대 제거(예컨대, 에칭), 표면 변성(예컨대, 도핑), 코팅(예컨대, 금속화) 또는 세척(예컨대, 세정)을 포함하고, 상기 기판은 종종 실리콘, 유리, 세라믹, 에폭시수지 또는 플라스틱을 포함하거나 또는 그것으로 이루어진다. 대부분의 경우 다수의 이러한 습식 화학적 처리 단계들이 차례로 이루어지기 때문에, 시장에는 상응하는 시스템이 제공되며, 이 시스템은 적어도 하나의, 대부분 다수의 연속하는 습식 화학적 처리 스테이션(station)(이하, 간략히 "스테이션"이라 함)을 포함한다. 처리될 제품은 사용시(배치; batch) 또는 연속해서(인라인) 하나의 스테이션으로부터 다음 스테이션으로 이송된다. 경제적인 이유 때문에, 스테이션들은 이미 그 치수와 관련해서, 하나의 스테이션이 고장나거나 또는 새로운 프로세스가 조합되어야 할 경우 간단한 방식으로 교체될 수 있도록 가능한 표준화된다. 습식 화학적 처리는 통상 스테이션에 할당된 처리 용기에서 이루어진다. 이러한 처리 시스템들은 출원인에 의해 "NIAK" 이라는 이름으로 판매된다. 물론, 이러한 시스템의 각각의 습식 화학적 처리 스테이션에는 하나 또는 다수의 매체, 예컨대 (탈)이온수, 에칭액(산 또는 알칼리), 전해질 등이 공급되어야 한다. 이를 위해, 완전히 조성된 처리 매체 또는 이들의 성분들이 정확한 양으로 용기 내로 정량 투입되어야 한다. 레시피를 매우 충실히 따르는 것이 일정하게 양호한 처리 결과를 위해 필수적이다.The manufacture of an article, such as a solar cell or a semiconductor device, typically involves one or several wet chemical processing steps of the substrate, such as removal (eg etching), surface modification (eg doping), coating (eg metallization) or cleaning (eg , Cleaning), and the substrate often comprises or consists of silicon, glass, ceramic, epoxy resin or plastic. Since in most cases a number of these wet chemical treatment steps take place in turn, there is a corresponding system on the market which provides at least one, mostly a plurality of consecutive wet chemical treatment stations (hereinafter simply referred to as "stations"). ""). The product to be processed is transferred from one station to the next station in use (batch) or continuously (inline). For economic reasons, the stations are already standardized in terms of their dimensions so that one station can be replaced in a simple manner if one station fails or a new process has to be combined. The wet chemical treatment is usually done in a treatment vessel assigned to the station. Such processing systems are sold under the name "NIAK" by the applicant. Of course, each wet chemical processing station of such a system must be supplied with one or a plurality of media such as (de) ionized water, etching solution (acid or alkali), electrolyte, and the like. To this end, the completely formulated treatment medium or components thereof must be metered into the container in the correct amount. Following the recipe very faithfully is essential for consistently good treatment results.
이를 위해, 액체 성분(이하, "액체"라고도 함)을 안내하는 성분 공급 라인이 소위 도징 장치와 접속된다. 통상 배출될 액체의 양은 개별 제어 장치에 의해 검출된다. 이러한 제어 장치들은 선행 기술에 공지되어 있고 다양한 과제를 위해 이용될 수 있다. 그러나, 이러한 제어 장치가 에러를 가진 양을 전달하면, 이는, 만약 있다면, 긴 시간 이후에야 나빠진 처리 결과로 인해 알게 된다. 에러의 위치를 찾는 것은 복잡하고 전체 시스템의 긴 정지 시간을 야기하며, 이는 바람직하지 않다.For this purpose, a component supply line for guiding the liquid component (hereinafter also referred to as "liquid") is connected with a so-called dosing device. Usually the amount of liquid to be discharged is detected by an individual control device. Such control devices are known in the art and can be used for a variety of tasks. However, if such a control device delivers an errored amount, it is known, if any, due to bad processing results after a long time. Finding the location of the error is complex and leads to long downtime of the entire system, which is undesirable.
또한, 종종 적은 양 및 많은 양을 충분한 정확도로 제공하는 것이 필요하고, 공지된 도징 장치들은 정확하지만, 느리게 정량하거나, 또는 많은 양을 신속히 정량할 수 있지만, 적은 양에 부적합하거나 또는 적어도 부정확하다.In addition, it is often necessary to provide small and large amounts with sufficient accuracy, and known dosing devices are accurate, but can quantify slowly or quantify large quantities quickly, but are inadequate or at least inaccurate.
공보 DE 10 2011 111 175 는 실리콘 기판들의 한 면을 습식 화학적으로 처리하는 영역에서 처리액의 레벨을 정확히 조절하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 처리액의 레벨 및 그에 따라 (공급) 정량을 조절하기 위한 수단으로서, 특히 펌프가 제시된다. 그러나, 이러한 펌프들은 항상 좁게 규정된 이송 영역에서만 정확히 조절될 수 있어서, 제한적으로만 도징 장치로서 사용될 수 있다.
통상, 각각의 처리 스테이션은 매체 또는 그 성분용 특정 도징 장치, 제어 장치 등을 포함한다. 그 결과, 이러한 스테이션은 다수의 도징 장치와 유체 라인을 포함하고, 상기 유체 라인은 통상 각각 "필요에 따라" 설치되고 접속된다. 중앙의 성분 공급부에 접속하기 위해, 하나의 스테이션의 하부면, 후면 및/또는 상부면에 정확히 규정되지 않은 영역이 비어 있다. 이에 상응하게, 개별 스테이션들로 시스템을 조립할 때 각각의 스테이션의 접속 상태가 별도로 고려되어야 한다. 이는 시간을 소비하며, 접속 에러의 원인이 될 수 있다.Typically, each processing station includes a specific dosing device, control device, or the like for the medium or its components. As a result, such stations include a plurality of dosing devices and fluid lines, each of which is typically installed and connected "on demand". In order to connect to the central component supply, an area not exactly defined on the bottom, back and / or top of one station is empty. Correspondingly, the connection state of each station must be taken into account separately when assembling the system into individual stations. This is time consuming and can cause connection errors.
종종 하나의 스테이션의 몇몇 또는 모든 정량 또는 조작 부재들이 예컨대 유지 관리의 목적을 위해 교체되어야 한다. 또한, 매체 교체는 하나의 매체의 모든 유체 라인들, 밸브들 등의 세척 또는 교체를 필요로 할 수 있다. 즉, 적어도 모든 스테이션 및 경우에 따라 모든 시스템이 긴 시간 동안 작동되지 않아야 하는데, 그 이유는 종종 다수로 존재하는 유체 성분들이 모두 개별적으로 추출되고 별도로 유지 관리되어야 하기 때문이다. 이는 전기 부품, 예컨대 센서 또는 지시 계기에도 적용된다.Often some or all of the metering or operating members of one station must be replaced, for example for maintenance purposes. In addition, medium replacement may require cleaning or replacement of all fluid lines, valves, etc., of one medium. That is, at least all stations and in some cases all systems should not be operated for long periods of time, because often a large number of existing fluid components must all be extracted individually and maintained separately. This also applies to electrical components such as sensors or indicator instruments.
본 고안의 과제는 선행 기술의 단점을 갖지 않는 도징 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a dosing device that does not have the disadvantages of the prior art.
본 고안은 처리액의 액체 성분의 적은 양 및 많은 양을 신속하고 확실하게 정량 투입할 수 있고, 도징 장치가 할당된 처리 스테이션 및/또는 도징 장치 및/또는 처리 스테이션이 할당된 처리 시스템의 유지 관리로 인한 정지 시간이 최소화되게 하는, 도징 장치를 제공해야 한다.The present invention is capable of quickly and reliably metering a small amount and a large amount of the liquid component of the processing liquid, and maintaining the processing station to which the dosing device is assigned and / or the processing system to which the dosing device and / or processing station is assigned. It is necessary to provide a dosing device, which minimizes downtime due to
또한, 도징 장치는 액체 성분의 정량 투입될 양을 결정할 때 측정 에러의 가능한 간단한 검출을 가능하게 해야 한다.In addition, the dosing device should allow for possible simple detection of measurement errors when determining the amount to be dosed of the liquid component.
또한, 본 고안은 스테이션 및/또는 시스템에 도징 장치를 접속하기 위해 필요한 시간을 단축해야 하고, 접속 에러를 줄이거나 방지해야 한다. 또한, 본 고안은 하나의 스테이션의 특히 유체 성분들의 유지 관리 또는 교체시 비용을 줄이고 이를 위해 필요한 시간을 단축시켜야 한다.In addition, the present invention should shorten the time required to connect the dosing device to the station and / or system, and reduce or prevent connection errors. In addition, the present invention should reduce the cost and the time required for the maintenance or replacement of fluid components, in particular of one station.
상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하고, 후술하는 본 고안의 특유의 효과를 달성하기 위한, 본 고안의 특징적인 구성은 하기와 같다.In order to achieve the object of the present invention as described above and achieve the specific effect of the present invention described below, the characteristic configuration of the present invention is as follows.
본 고안의 일 측면에 따르면, 도징 장치는, 제품에 대한 습식 화학적 처리 영역에서 사용될 액체 성분(F)을 제공하기 위한 도징 장치(1, 1')로서, 상기 도징 장치는 유입부(3) 및 배출부(4)를 갖는 저장용기(2), 상기 저장용기(2) 내로 통하는 적어도 하나의 공급 라인(5), 저장용기 내용물(F')용 계량 장치(7), 상기 배출부(4)의 하류에 배치된 유량 측정 장치(8), 적어도 하나의 제어 가능한 배출 밸브(9), 및 배출 라인(10, 10')을 포함하고, 상기 저장용기(2)는 압축 가스(G)용 공급부(11)를 포함하고, 상기 배출부(4)는 상기 저장용기(2)의 하부 영역(2")에 배치된다.According to one aspect of the present invention, the dosing device is a
바람직하게는, 상기 압축 가스(G)용 상기 공급부(11)가 상기 저장용기(2)의 상부 영역(2')에 배치된다.Preferably, the
바람직하게는, 상기 공급부(11)의 상류에 압력 보상 구간(12)이 배치된다.Preferably, the
바람직하게는, 상기 저장용기(2)에 또한 저장용기 압력 검출 장치 및/또는 과압 밸브가 할당된다.Preferably, the
바람직하게는, 상기 도징 장치가 복수의 배출 밸브(9)를 포함한다.Preferably, the dosing device comprises a plurality of
바람직하게는, 상기 도징 장치는 또한 상기 계량 장치(7), 상기 유량 측정 장치(8) 및 상기 적어도 하나의 배출 밸브(9)와 접속된 평가 및 제어 유닛(13)을 포함한다.Preferably, the dosing device also comprises an evaluation and
바람직하게는, 상기 적어도 하나의 공급 및 배출 라인(5, 10, 10')이 각각 하나의 신속 접속부 내로 통한다.Preferably, the at least one supply and
본 고안의 다른 측면에 따르면, 처리 스테이션은, 적어도 하나의 액체 성분(F)을 포함하는 처리 매체(B)에 의해 제품을 습식 화학적으로 처리하기 위한 처리 스테이션으로서, 상기 처리 스테이션은 처리 용기(15), 상기 처리 용기(15)에서 끝나는 매체 공급 라인(19), 및 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항의 정의에 따른 적어도 하나의 도징 장치(1, 1')를 포함하고, 상기 도징 장치의 공급 라인(5)에 상응하는 성분 공급 라인(18)에 의해 공급받을 수 있고, 상기 도징 장치의 배출 라인(10, 10')은 상기 매체 공급 라인(19) 내로 통한다.According to another aspect of the present invention, a processing station is a processing station for wet chemically treating a product by a processing medium (B) comprising at least one liquid component (F), the processing station being a processing vessel (15). ), A
본 고안의 또 다른 측면에 따르면, 처리 시스템은, 적어도 하나의 액체 성분(F)을 포함하는 처리 매체(B)에 의해 제품을 습식 화학적으로 처리하기 위해 매체 공급 라인(19)을 통해 공급받을 수 있는 처리 용기(15)를 포함하는 처리 시스템(14)으로서, 상기 처리 시스템은 개별 배출 라인(10, 10')을 포함하며 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항의 정의에 따른 적어도 하나의 도징 장치(1, 1')를 포함하고, 전체 시스템(14)의 영역에서 처리를 위해 필요한 각각의 액체 성분(F)에 개별적으로 도징 장치(1, 1')가 할당되고, 각각의 배출 라인(10, 10')은 제어 가능한 전환 밸브(17)를 통해 상기 처리 용기(15)의 상기 매체 공급 라인(19)과 접속되거나, 또는 각각의 배출 라인(10, 10')이 각각의 처리 용기(15) 내로 통하며 선택 밸브(9')를 포함한다.According to another aspect of the present invention, the treatment system may be supplied through the
바람직하게는, 상기 처리 시스템의 성분 및 매체 공급 라인(들)(18, 19)이 신속 접속부 내로 통하는 상기 도징 장치(들)(1, 1')의 공급 및 배출 라인(5, 10, 10')용 수용부 내에서 끝나고, 및/또는 상기 처리 시스템(14)은 정량 모듈로서 형성된, 리세스 내로 삽입 가능한 적어도 하나의 도징 장치(1, 1')용 적어도 하나의 리세스를 포함한다.Preferably, the supply and
본 고안에 의해, 선행 기술의 단점을 갖지 않는 도징 장치가 제공된다.The present invention provides a dosing device that does not have the disadvantages of the prior art.
설명된 바와 같이, 본 고안에 따른 도징 장치는 처리액의 액체 성분의 적은 양 및 많은 양을 신속하고 확실하게 정량할 수 있다.As described, the dosing device according to the present invention can quickly and reliably quantify small and large amounts of the liquid component of the treatment liquid.
또한, 본 고안에 따르면 액체 성분의 정량될 양의 결정시 측정 에러의 간단한 검출을 가능하게 하고, 유지 관리시 접속 에러를 줄이거나 방지함으로써, 본 고안에 따른 도징 장치가 할당된 처리 스테이션, 및/또는 상기 도징 장치 및/또는 상기 처리 스테이션이 할당된 처리 시스템의 유지 관리를 위한 정지 시간을 최소화할 수 있다.Further, according to the present invention, a processing station to which a dosing device according to the present invention is assigned, by enabling simple detection of measurement errors in determining the quantity to be quantified of liquid components, and reducing or preventing connection errors during maintenance, and / Alternatively, downtime for maintenance of the processing system to which the dosing device and / or the processing station is assigned can be minimized.
도 1은 본 고안에 따른 도징 장치의 특히 바람직한 실시예.
도 2는 다수의 정량 모듈을 구비한 처리 시스템.
도 3은 다수의 정량 모듈을 구비한 대안적 처리 시스템.1 is a particularly preferred embodiment of a dosing device according to the present invention.
2 is a processing system having a plurality of quantitative modules.
3 is an alternative processing system with multiple quantification modules.
후술하는 본 고안에 대한 상세한 설명은, 본 고안이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 고안을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 고안의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 고안의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 고안의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 고안의 범위는 적절하게 설명된다면 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, the particular shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in the context of an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the present invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views.
상기 과제는 청구항 1에 따른 도징 장치, 청구항 8에 따른 처리 스테이션 및 청구항 9에 따른 처리 시스템에 의해 달성된다. 다른 바람직한 실시예들은 종속 청구항들, 상세한 설명 및 도면에 제시된다.The object is achieved by a dosing device according to
먼저, 본 고안에 따른 도징 장치가 설명된다. 그리고 나서, 본 고안에 따른 도징 장치를 사용하는 처리 스테이션 및 처리 시스템이 설명된다.First, the dosing device according to the present invention is described. Then, a processing station and a processing system using the dosing device according to the present invention are described.
본 고안에 따른 도징 장치는 제품의 습식 화학적 처리의 영역에서 사용될 처리 매체의 액체 성분을 제공하기 위해 사용된다. 도징 장치는 (적어도) 하나의 유입부 및 (적어도) 하나의 배출부를 가진 저장용기, 상기 저장용기 내로 통하는 매체 또는 그 성분용 적어도 하나의 공급 라인, 저장용기 내용물용 계량 장치, 배출부의 하류에 배치된 유량 측정 장치, 적어도 하나의 제어 가능한 배출 밸브, 및 배출 라인을 포함한다. 본 고안에 따라 저장용기는 바람직하게는 불활성 압축 가스용 공급부를 포함하고, 상기 배출부는 저장용기의 하부 영역에 배치된다.The dosing device according to the present invention is used to provide a liquid component of a treatment medium to be used in the area of wet chemical treatment of a product. The dosing device is arranged in a reservoir having (at least) one inlet and (at least) one outlet, at least one supply line for the medium or components thereof into the reservoir, a metering device for the contents of the reservoir, downstream of the outlet A flow rate measuring device, at least one controllable discharge valve, and a discharge line. According to the present invention the reservoir preferably comprises a feed for inert compressed gas, the discharge being arranged in the lower region of the reservoir.
액체 성분은 예컨대 에칭 매체, 세척액, 또는 이송액, 특히 물일 수 있다. 저장용기는 외부 탱크로부터 공급 라인을 통해 저장용기 내로 공급될 수 있는 액체 성분을 일시 저장하기 위해 사용된다. 바람직하게는 메인 차단 밸브가 유입부의 영역에 배치된다. 또한, 저장용기는 그것 내로 유입되는 액체 성분의 안정화를 위해 사용된다. 따라서, 저장용기를 "맥동 제거 구간"이라고도 한다. 특히, 유입시 형성되는 기포는 바람직하게 상기 성분들의 측정 및 전달 전에 액체로부터 제거되어야 한다. 이는 저장용기의 내부에서 액체 레벨의 상부에 있는 영역 내로 기포를 상승시킴으로써 이루어진다.The liquid component can be for example an etching medium, a cleaning liquid, or a conveying liquid, in particular water. The reservoir is used to temporarily store liquid components that can be supplied into the reservoir via a supply line from an external tank. Preferably the main shutoff valve is arranged in the region of the inlet. In addition, the reservoir is used for stabilization of the liquid component introduced into it. Therefore, the storage container is also referred to as "pulsation removal section". In particular, the bubbles formed upon inlet should preferably be removed from the liquid prior to the measurement and delivery of the components. This is accomplished by raising bubbles into the region above the liquid level inside the reservoir.
계량 장치는 저장용기 내에 포함된 성분들의 양을 결정하기 위해 사용된다. 이를 위해, 저장용기의 빈 중량이 그 실제 중량으로부터 감산된다. 상기 차이는 저장용기 내에 포함된 성분의 중량에 상응한다. 이 경우, 저장용기에 포함된 액체량을 검출하기 위해 사용되는 다른 측정 장치도 적합할 수 있다는 것은 분명하다.The metering device is used to determine the amount of ingredients contained in the reservoir. To this end, the empty weight of the reservoir is subtracted from its actual weight. The difference corresponds to the weight of the components contained in the reservoir. In this case, it is obvious that other measuring devices used to detect the amount of liquid contained in the reservoir may also be suitable.
유량 측정 장치에 의해, 저장용기를 벗어난 성분의 양이 검출된다. 바람직하게 상기 장치는 가능한 정확한 측정 결과를 얻기 위해 밀도 및 온도 보상부를 포함한다.By the flow rate measuring device, the amount of the component out of the storage container is detected. Preferably the device comprises a density and temperature compensator to obtain the most accurate measurement results possible.
적어도 하나의 배출 밸브는 저장용기 내용물의 일부의 제어된 배출을 위해 사용된다. 상기 배출 밸브는 저장용기의 하류에 그리고 그에 따라 유량 측정 장치의 전방 또는 바람직하게는 후방에 배치된다. At least one discharge valve is used for controlled discharge of a portion of the reservoir contents. The discharge valve is arranged downstream of the reservoir and accordingly in front of or preferably behind the flow measuring device.
압축 가스용 공급부를 통해 압축 가스가 저장용기의 내부 공간에 압축된 상태로 공급될 수 있다. 압축 가스는 저장용기 내에 있는 성분을 화학적으로 변화시키지 않기 위해 바람직하게 불활성 가스인 것이 명백하다. 배출 밸브의 개방시, 배출 밸브가 개방되어 있으면, 압축 가스의 과압은 그 아래 있는 액체 성분을 저장용기 밖으로 가압한다. 이로 인해, 액체의 매우 신속한 배출이 보장된다. 또한, 압축 가스가 액체 내에 경우에 따라 포함된 기포를 압축시키므로, 상기 기포는 용적 또는 자기 유도성 측정의 영역에서 에러 소스를 형성하지 않는다. 또한, 높아진 압력은 액체를 신속히 안정화시키는데 사용되는데, 그 이유는 액체가 종종 맥동하며 및/또는 난류 유동 상태로 유입되기 때문이다. 따라서, 압축 가스에 의한 배출은 중력 또는 (종종 맥동하는 피스톤-) 펌프에 의해 배출되는 선행 기술에 공지된 장치에 비해 일련의 장점을 갖는다.The compressed gas may be supplied to the internal space of the storage container in a compressed state through the supply unit for the compressed gas. It is apparent that the compressed gas is preferably an inert gas so as not to chemically change the components in the reservoir. Upon opening the discharge valve, if the discharge valve is open, the overpressure of the compressed gas pressurizes the liquid component beneath it out of the reservoir. This ensures a very quick discharge of the liquid. In addition, since the compressed gas optionally compresses the bubbles contained in the liquid, the bubbles do not form an error source in the area of volume or magnetic induction measurement. In addition, the elevated pressure is used to stabilize the liquid quickly because the liquid often pulsates and / or enters a turbulent flow state. Thus, discharge by compressed gas has a series of advantages over devices known in the art that are discharged by gravity or (often pulsating piston-) pumps.
배출부는 저장용기의 하부 영역에 배치되는데, 그 이유는 상기 배출부가 저장용기 내에 포함된 액체의 표면으로부터 최대로 멀리 떨어져 있기 때문이다. 상기 액체의 상부에는 상승된 기포가 모인다. 또한, 기포들은 그것의 낮은 밀도로 인해 자동으로 배출부의 영역으로부터 떨어진다. 이는 기포의 배출이 요구되지 않기 때문에 바람직하다.The outlet portion is disposed in the lower region of the reservoir, since the outlet portion is maximally far from the surface of the liquid contained in the reservoir. An elevated bubble collects at the top of the liquid. In addition, the bubbles automatically fall out of the area of the discharge due to their low density. This is preferable because no discharge of bubbles is required.
이러한 도징 장치는 액체의 배출 후에 다시 그것 내에 포함된 양의 측정이 이루어짐으로써, 간단한 방식으로 유량 측정 장치에 의해 검출된 값을 제어할 수 있다는 장점을 갖는다. 상기 값들이 일치하지 않으면, 에러를 가진 측정이 주어지고, 이러한 측정은 가장 간단한 경우에 경고등을 통해 지시됨으로써, 대응 조치가 취해질 수 있다. 불충분한 처리 결과가 정량 측정 에러에 기초하면, 지루한 에러 탐색이 생략된다. 실제로, 상기 에러는 미리 나타날 수 있고, 오래 전에 불충분한 처리 결과가 생기며, 이는 시간을 절감하고, 많은 비용의 불량품을 방지한다.This dosing device has the advantage that after the discharge of the liquid the measurement of the amount contained therein is made again, thereby controlling the value detected by the flow measuring device in a simple manner. If the values do not match, a measurement with an error is given and this measurement is indicated in the simplest case via a warning light, so that countermeasures can be taken. If the insufficient processing result is based on quantitative measurement error, the tedious error search is omitted. Indeed, the error may appear in advance and result in insufficient processing long time ago, which saves time and prevents costly rejects.
도징 장치의 바람직한 실시예에 따라, 압축 가스용 공급부가 저장용기의 상부 영역에 배치된다. 이로 인해, 기포 형성이 유입되는 압축 가스에 의해 방지된다. 또한, 액체의 표면의 일부에만 압축 가스가 제공되는 한편, 이것에 대해 수직의 하부로 개방된 분리 벽에 의해 분리된 표면의 다른 부분에는 실질적으로 압축 가스가공급되지 않는다. 상응하는 가이드에 의해 상승하는 가스가 압축 가스의 공급부와 접속된 챔버와는 다른 챔버 내로 유도될 수 있다.According to a preferred embodiment of the dosing device, a supply for compressed gas is arranged in the upper region of the reservoir. For this reason, bubble formation is prevented by the compressed gas which flows in. In addition, only a part of the surface of the liquid is provided with a compressed gas, while substantially no compressed gas is supplied to other parts of the surface separated by a separating wall that is open to the bottom perpendicular to it. The gas rising by the corresponding guide can be led into a different chamber than the one connected with the supply of compressed gas.
다른 실시예에 따라, 공급부의 상류에 압력 보상 구간이 배치된다. 압력 보상 구간은 저장용기에 적합한 압력과 관련한 압축 가스의 제공을 위해 사용되는데, 그 이유는 압축 가스 소스(예컨대, 압축 가스 실린더)가 경우에 따라 저장용기가 수용할 수 있는 것보다 훨씬 더 높은 압력을 제공하기 때문이다. 또한, 압력 보상 구간은 압력 모니터링부, 압력 밸브 및/또는 응축물 분리기 및 응축물 배출부를 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 부품들이 밸브 클러스터 내에 통합된다.According to another embodiment, a pressure compensation section is arranged upstream of the supply. The pressure compensation section is used for the provision of compressed gas in relation to the pressure suitable for the storage container, because the compressed gas source (e.g. the compressed gas cylinder) may in some cases be much higher than the storage container can accommodate. Because it provides. Also, the pressure compensation section may include a pressure monitoring unit, a pressure valve and / or a condensate separator, and a condensate discharge unit. Preferably the parts are integrated in a valve cluster.
다른 실시예에 따라, 저장용기에는 또한 저장용기 압력 검출 장치 및/또는 과압 밸브가 할당된다. 이로 인해, 저장용기에 위험한 과압이 적시에 검출될 수 있고, 바람직하게는 자동화되어, 실제로 손상이 일어나기 전에 배출될 수 있다. 액체의 배출률이 저장용기의 압력에 의존하기 때문에, 밸브를 통해 필요한 경우 소정 배출률을 야기하는 미리 정해진 저장용기 압력으로 압력의 강하가 이루어질 수 있다.According to another embodiment, the reservoir is also assigned a reservoir pressure detection device and / or an overpressure valve. Because of this, dangerous overpressure in the storage container can be detected in a timely manner, preferably automated, and discharged before actual damage occurs. Since the discharge rate of the liquid depends on the pressure of the reservoir, the pressure drop can be achieved through the valve to a predetermined reservoir pressure which causes a desired discharge rate if necessary.
다른 실시예에 따라, 도징 장치는 상이한 성분의 양을 정량하기 위한 다수의 배출 밸브를 포함한다. 상기 배출 밸브들이 하나의 공통 하우징 내에 통합됨으로써, 대안적 실시예에 따라 다수의 배출구를 가진 하나의 배출 밸브가 상이한 배출률을 위해 제공될 수 있다. 이 실시예의 장점은 작은 배출률(예컨대 5 ml/s) 및 큰 배출률(예컨대 400 ml/s)의 더 정확한 정량 가능성(및 그에 따라 레시피 충실도)에 있다. 이 경우, 더 작은 배출률은 더 작은 직경의 배출구를 통해 이루어진다.According to another embodiment, the dosing device comprises a plurality of discharge valves for quantifying the amount of different components. As the outlet valves are integrated in one common housing, according to an alternative embodiment one outlet valve with multiple outlets can be provided for different outlet rates. The advantage of this embodiment lies in the more accurate quantification potential (and thus recipe fidelity) of small discharge rates (eg 5 ml / s) and large discharge rates (eg 400 ml / s). In this case, smaller discharge rates are achieved through smaller diameter outlets.
저장용기가 10 리터의 용적을 갖는 것이 특히 바람직하다. 이러한 용적은 습식 화학적 처리 시스템의 영역에서 전형적인 정량 과제를 위해 충분하고, 동시에 작은 설치 공간만을 필요로 한다.It is particularly preferred that the reservoir has a volume of 10 liters. This volume is sufficient for typical quantitative tasks in the area of wet chemical treatment systems and at the same time requires only a small footprint.
다른 실시예에 따라 도징 장치는 계량 장치, 유량 측정 장치 및 적어도 하나의 배출 밸브와 접속된 평가 및 제어 유닛을 포함한다. 상기 평가 및 제어 유닛은 계량 동작의 결과를 처리하기 위해, 상기 결과와 유량 측정의 결과를 비교하기 위해, 적어도 하나의 배출 밸브를 제어하기 위해 그리고 선택적으로 상기 비교가 중량 측정과 유량 측정 사이의 편차를 나타내면, 에러 신호의 출력하기 위해 사용된다. 경우에 따라 상기 값의 환산은 이들이 비교될 수 있게 이루어져야 하는 것은 명백하다; 예컨대 유동률, 및 배출 밸브가 개방되는 시간으로부터 배출된 양이 추정될 수 있다.According to another embodiment the dosing device comprises a metering device, a flow measuring device and an evaluation and control unit connected with at least one discharge valve. The evaluation and control unit is configured to process the result of the metering operation, to compare the result with the result of the flow measurement, to control at least one discharge valve and optionally the comparison is a deviation between the weighing and the flow measurement. Is used to output an error signal. In some cases it is clear that the conversion of these values should be such that they can be compared; For example, the amount discharged can be estimated from the flow rate and the time at which the discharge valve is opened.
바람직한 실시예에 따라, 적어도 하나의 공급 라인 및 배출 라인이 각각 하나의 신속 접속부 내로 통한다. 이러한 신속 접속부는 특별한 접속부에 의해 유체라인의 특히 시간 절감 방식의 그리고 그럼에도 확실한 접속을 위해 사용된다. 이는 예컨대 자동 밀봉식 플러그 접속부 또는 베이어닛 접속부일 수 있다. 상기 접속부가 이를 위해 제공된 도징 장치의 접속 영역에 통합되는 것이 특히 바람직하다. 도징 장치가 할당되며 도징 장치와 접속될 수 있는 유닛에, 상응하는 대응 부품이 제공되는 것은 명백하다.According to a preferred embodiment, at least one supply line and one discharge line each pass into one quick connection. These quick connections are used for particularly time-saving and nevertheless reliable connection of the fluid lines by means of special connections. This may be for example an automatically sealed plug connection or a bayonet connection. It is particularly preferred that the connection is integrated in the connection area of the dosing device provided for this purpose. It is clear that in the unit to which the dosing device is assigned and to which the dosing device can be connected, a corresponding corresponding part is provided.
이러한 신속 접속부는 유체 인터페이스에 제한될 필요가 없고, 오히려 예컨대 전기 또는 기계식 접속의 분야를 포함할 수도 있다.Such quick connections need not be limited to the fluid interface, but rather may include, for example, the field of electrical or mechanical connections.
다른 실시예에 따라, 도징 장치는 또한 패널 및/또는 국부적 제어 유닛을 포함한다. 패널은 외부로부터 예컨대 조작자에 의해 접근 가능한 제어 부품 및 디스플레이 부품의 통합을 위해 사용된다. 국부적 제어 유닛은 처리 스테이션 또는 처리 시스템의 부분인 상위의 중앙 제어 장치에 대한 인터페이스로서 사용된다.According to another embodiment, the dosing device also comprises a panel and / or a local control unit. The panels are used for the integration of control parts and display parts from the outside, for example accessible by the operator. The local control unit is used as an interface to the upper central control unit which is part of the processing station or processing system.
본 고안은 적어도 하나의 액체 성분을 포함하는 처리 매체에 의해 제품을 습식 화학적으로 처리하기 위한 처리 스테이션을 개시한다. 이러한 스테이션은 처리 매체의 수용을 위한 처리 용기, 처리 용기에서 끝나는 매체 공급 라인, 및 전술한 설명의 정의에 따라 형성된 적어도 하나의 도징 장치를 포함한다. 본 고안에 따라 도징 장치는 적어도 하나의 공급 라인 및 배출 라인을 포함한다. 도징 장치의 적어도 하나의 공급 라인은 상응하는 성분 공급 라인에 의해 공급받을 수 있고, 도징 장치의 배출 라인은 매체 공급 라인 내로 통한다. 처리 스테이션이 하나의 처리 용기만을 포함하기 때문에, 처리 스테이션은 하나의 처리 단계(예컨대, 제품의 에칭 또는 세척)를 실시하기 위해 사용된다.The present invention discloses a processing station for wet chemically treating a product by a processing medium comprising at least one liquid component. Such a station comprises a processing vessel for receiving a processing medium, a media supply line ending at the processing vessel, and at least one dosing device formed according to the definition of the foregoing description. According to the present invention the dosing device comprises at least one supply line and an outlet line. At least one supply line of the dosing device may be supplied by a corresponding component supply line, and the discharge line of the dosing device is led into the medium supply line. Since the processing station contains only one processing container, the processing station is used to perform one processing step (eg, etching or cleaning of the product).
성분 공급 라인은 본 고안에 따른 도징 장치에 의해 본 고안에 따른 처리 스테이션의 처리 용기 내로 공급되어야 하는 액체 성분을 제공하기 위해 사용된다.The component supply line is used by the dosing device according to the present invention to provide a liquid component which must be supplied into the processing vessel of the processing station according to the present invention.
도징 장치의 배출 라인이 매체 공급 라인 내로 통하고 상기 매체 공급 라인이 처리 용기에서 끝나기 때문에, 하나 또는 (다수의 도징 장치들이 있다면) 다수의 성분들이 레시피에 충실하게 처리 용기 내로 유입되어 혼합될 수 있다. 대안으로서, 모든 도징 장치와 접속된 공통의 혼합 라인 내로의 정량(및 따라서 유입 혼합)이 가능하고, 상기 혼합 라인은 용기 내에서 끝난다. 각각의 도징 장치가 다수의 배출 라인을 포함하는 것도 가능하고, 배출 라인의 각각은 상이한 용기 내로 통한다. 각각의 도징 장치는 상응하는 수의 배출 밸브를 포함하고 및/또는 용기를 향한 유출 직전에 배치된 추가의 밸브들이 제공된다.Since the discharge line of the dosing device passes into the media supply line and the media supply line ends in the processing vessel, one or more components (if there are multiple dosing devices) can be introduced into the processing vessel and mixed with the recipe faithfully. . As an alternative, quantification (and thus inlet mixing) into a common mixing line connected with all dosing devices is possible, which end in the vessel. It is also possible for each dosing device to comprise a plurality of discharge lines, each of which leads into a different vessel. Each dosing device comprises a corresponding number of discharge valves and / or additional valves are provided which are arranged just before the outflow towards the container.
상기 설명에 따라 형성된 도징 장치를 구비한 처리 스테이션은 일련의 장점을 갖는다. 적은 양 및 많은 양의 레시피에 충실한 정량 가능성이 보장되고, 정량시 에러들이 조기에 검출되며, 예컨대 유지 보수의 목적을 위한 도징 장치의 교체가 신속하고 간단한 방식으로 가능하다. 이를 위해, 도징 장치가 정량 모듈로서 형성되는 것이 특히 바람직하다. 상기 정량 모듈은 다수로 제공될 수 있으므로 큰 시간 손실 없이 교체될 수 있다. 다른 장점은 이러한 최적화된 모듈의 작은 크기 및 더 컴팩트한 디자인이다. 이는 예컨대 습식 화학적 시스템 내에 존재하는 환기 문제에 긍정적으로 작용하는데, 그 이유는 더 컴팩트하고 매우 바람직하게 캡슐화된 (폐쇄된) 모듈이 그러한 시스템에 존재하는 에칭 가스의 응축을 위한 적은 접촉면을 제공하기 때문이다.A processing station with a dosing device formed according to the above description has a series of advantages. The possibility of quantitative faithfulness in small and large recipes is ensured, errors in quantification are detected early, eg replacement of dosing devices for maintenance purposes is possible in a quick and simple manner. For this purpose, it is particularly preferred that the dosing device is formed as a metering module. The quantification module can be provided in plural and can be replaced without significant time loss. Another advantage is the small size and more compact design of these optimized modules. This positively affects ventilation problems, for example, present in wet chemical systems, because more compact and highly preferably encapsulated (closed) modules provide less contact surface for the condensation of etching gases present in such systems. to be.
본 고안은 끝으로 바람직한 처리 시스템을 개시한다. 처리 시스템은 처리 매체에 의한 제품의 습식 화학적 처리를 위해 매체 공급 라인을 통해 매체를 공급 받을 수 있는 처리 용기를 포함한다. 처리 매체는 적어도 하나의, 통상 다수의 액체 성분을 포함한다. 처리 시스템은 개별적인 배출 라인을 포함하는 적어도 하나의 도징 장치를 포함하고, 상기 도징 장치는 본 고안에 따른 도징 장치에 상응한다.The present invention finally discloses a preferred treatment system. The treatment system includes a treatment vessel capable of receiving the medium through a media supply line for wet chemical treatment of the product by the treatment medium. The treatment medium comprises at least one, usually a plurality of liquid components. The treatment system comprises at least one dosing device comprising a separate discharge line, which corresponds to the dosing device according to the present invention.
본 고안에 따라, 전체 시스템의 영역에서 처리를 위해 필요한 각각의 액체 성분에 개별적인 도징 장치가 할당된다. 즉, 이러한 시스템은 개별 처리 스테이션에 할당된 다수의 도징 장치를 포함하지 않고, 시스템의 영역에서 사용될 액체 성분이 각각 개별 도징 장치에 의해 정량된다. 이는 특히 다수의 용기에 다수의 액체 성분이 공급되는 경우에 더 앞에 설명된 시스템에 비해 필요한 도징 장치의 수를 현저히 줄인다.According to the present invention, a separate dosing device is assigned to each liquid component required for processing in the area of the overall system. That is, such a system does not include a plurality of dosing devices assigned to individual processing stations, and the liquid components to be used in the area of the system are each quantified by the individual dosing device. This significantly reduces the number of dosing devices required compared to the previously described system, especially when a large number of liquid components are supplied to multiple containers.
시스템(처리 스테이션은 아님)에 할당된 도징 장치를 통해 성분들의 의도된 타입 및 양이 개별 처리 용기 내로 정량될 수 있도록 하기 위해, 본 고안에 따라 각각의 도징 장치의 각각의 배출 라인이 제어 가능한 전환 밸브를 통해 처리 용기의 매체 공급 라인과 접속된다. 따라서, 어떤 성분의 어느 정도의 양이 시스템의 어떤 처리 용기 내로 정량되어야 하는지가 개별적으로 제어될 수 있다.In order to enable the intended type and amount of components to be quantified into individual processing vessels via the dosing device assigned to the system (not the processing station), each discharge line of each dosing device is controllable in accordance with the present invention. It is connected to the medium supply line of the processing vessel through the valve. Thus, the amount of which component to be quantified into which processing vessel of the system can be individually controlled.
대안적 실시예에 따라, 시스템은 전환 밸브를 포함하지 않고, 각각의 배출 라인이 각각의 처리 용기 내로 통하며 선택 밸브를 포함하고, 상기 선택 밸브는 제어 가능하며, 실제로 하나의 성분이 상기 처리 용기 내로 정량되어야 하는 경우에만 개방된다. 상기 양은 성분에 속한 도징 장치를 통해 결정되고, 상기 지점은 각각의 선택 밸브를 통해 결정된다.According to an alternative embodiment, the system does not include a diverter valve, each discharge line passes into a respective treatment vessel and comprises a selector valve, the selector valve being controllable, in fact one component of the treatment vessel It is only open if it has to be quantified. The amount is determined via the dosing device belonging to the component and the point is determined via each selector valve.
하나의 또는 다수의 본 고안에 따른 도징 장치의 사용에 의해 추가로 유사한 방식으로 전술한 장점들이 주어지는 것은 명백하지만, 여기에 반복해서 설명되지는 않는다.It is clear that the above-mentioned advantages are additionally given in a similar manner by the use of one or more dosing devices according to the present invention, but are not described herein again.
상기 처리 시스템의 성분 및 매체 공급 라인(들)이 신속 접속부 내로 통하는 도징 장치(들)의 공급 및 배출 라인들용 수용부 내에서 끝나는 것이 특히 바람직하다. 달리 표현하면, 처리 시스템은 상응하는, 전술한 신속 접속부에 의해 도징 장치(들)와 접속될 수 있다.It is particularly preferred that the components of the processing system and the media supply line (s) end in the receptacle for supply and discharge lines of the dosing device (s) leading into the quick connection. In other words, the processing system may be connected with the dosing device (s) by a corresponding quick connection as described above.
처리 시스템이 정량 모듈로서 형성된, 리세스 내로 삽입 가능한 적어도 하나의 도징 장치용 적어도 하나의 리세스를 포함하는 것이 특히 바람직하다. 즉, 처리 시스템은 시스템 내로 삽입 가능하게 형성된 표준화된 정량 모듈을 수용하기에 적합하고, 상기 모듈들은 특히 상기 신속 접속부가 제공되는 경우 특히 시간 절감 방식으로 교체될 수 있다. 이러한 표준은 구조와 더불어 특히 유체, 전기 또는 다른 인터페이스에 대한 접속점에도 관련될 수 있다.It is particularly preferred that the processing system comprises at least one recess for at least one dosing device, which is insertable into the recess, formed as a metering module. That is, the processing system is suitable for receiving standardized quantitative modules which are formed insertable into the system, which modules can be replaced in a particularly time-saving manner, especially when the quick connection is provided. These standards may relate to the structure as well as to the connection points for fluid, electrical or other interfaces in particular.
이하에서, 본 고안에 따른 도징 장치의 사용이 설명된다. 이를 위해, 하기 단계들이 실시된다:In the following, the use of the dosing device according to the present invention is described. To this end, the following steps are carried out:
- 성분을 공급 라인에 의해 저장용기 내로 공급하는 단계: 액체 성분은 바람직하게 이를 위해 개방된 메인 차단 밸브를 통해 저장용기 내로 유입된다.Supplying the component into the reservoir by means of a supply line: the liquid component is preferably introduced into the reservoir via the main shut-off valve opened for this.
- 성분으로 저장용기를 적어도 부분적으로 채우는 단계: 저장용기는 성분으로 채워지고, 액체 레벨의 상부에 모인 가스가 외부로 배출되거나 또는 별도의 용기 내로 압입된다. 이를 위해 저장용기 내에 별도의 유출부가 있어야 하고, 이 유출부는 바람직하게 그 상부 영역에 배치된다.At least partially filling the reservoir with the components: The reservoir is filled with the components and the gas collected at the top of the liquid level is discharged outside or pressurized into a separate container. For this purpose there must be a separate outlet in the reservoir, which outlet is preferably arranged in its upper region.
- 성분의 상부에 남은 저장용기의 잔류 용량에 압축 가스를 제공하는 단계: 압축 가스가 공급부를 통해 저장용기 내로 안내된다. 가스는 바람직하게 불활성 가스, 예컨대 질소이다. 가스는 특히 액체의 배출에 사용된다(하기 참조).Providing compressed gas to the remaining capacity of the reservoir remaining on top of the components: the compressed gas is guided through the feed into the reservoir. The gas is preferably an inert gas such as nitrogen. Gases are especially used for the discharge of liquids (see below).
- 저장용기 내에 포함된 성분의 가스 제거 및 안정화 단계: 기포들이 상부로 상승하고 경우에 따라 거기에 있는 압축 가스와 혼합됨으로써, 액체로부터 제거된다. 일정한 체류 시간으로 인해, 액체가 안정화된다; 이는 구조적 조치, 예컨대 저장용기 내에 삽입된 포움 또는 망상 구조에 의해 지원될 수 있다.Degassing and stabilization of the components contained in the reservoir: bubbles are removed from the liquid by rising upwards and optionally mixed with the compressed gas therein. Due to the constant residence time, the liquid is stabilized; This may be supported by structural measures such as foam or reticular structures inserted into the reservoir.
- 저장용기 내에 포함된 성분의 양을 결정하는 단계: 적합한 측정 장치에 의해 저장용기 내에 포함된 액체량이 결정된다. 이는 직접적으로(예컨대, 저장용기의 공지된 구조에서 충전 레벨 측정에 의해) 또는 간접적으로(예컨대, 계량에 의해) 이루어질 수 있다.Determining the amount of components contained in the reservoir: The amount of liquid contained in the reservoir is determined by a suitable measuring device. This can be done directly (eg by filling level measurement in the known structure of the reservoir) or indirectly (eg by metering).
- 배출 밸브의 개방 및 유량 측정 장치에 의해, 저장용기로부터 상기 배출 밸브 및 이것에 접속된 배출 라인을 통해 배출되는 압축된 성분의 양의 검출 단계: 상기 개방은 예컨대 초기에 용기를 채우기 위해 프로그램 제어 방식으로, 또는 예컨대 처리의 영역에서 사용된 성분의 특정량을 재충전하기 위해 수요 제어 방식으로 이루어진다.Detection of the amount of compressed component discharged from the reservoir via the discharge valve and the discharge line connected thereto by means of the opening and flow measurement device of the discharge valve: the opening is program controlled to initially fill the container, for example. Manner, or in a demand control manner, for example, to recharge a certain amount of components used in the area of treatment.
- 배출된 양이 미리 설정된 설정량에 상응하면, 배출 밸브를 폐쇄하는 단계: 상기 설정량은 미리 정해지거나 또는 계속 결정된다(앞 문단 참조).If the discharged amount corresponds to a preset set amount, closing the discharge valve: the set amount is predetermined or determined continuously (see previous paragraph).
- 저장용기 내에 남은 성분의 양을 결정하고, 배출 밸브의 개방 전에 저장용기 내에 포함된 양과의 차이를 계산하고, 상기 차이를 미리 설정된 설정량과 비교하는 단계: 차이 결정에 의해, 유량 측정 장치를 이용해서 검출된 액체량이 실제로 저장용기로부터 배출된 양에 상응하는지의 여부가 확인될 수 있다.Determining the amount of components remaining in the reservoir, calculating a difference with the amount contained in the reservoir before opening the discharge valve and comparing the difference with a preset set amount: by determining the difference, It can be checked whether the amount of liquid detected is actually equivalent to the amount discharged from the reservoir.
계산된 차이와 설정량 간에 편차가 있으면, 본 고안에 따라 에러 신호가 발생된다. 이 신호는 다음에 접속된 제어부에 대한 경고 표시 또는 제어 신호일 수 있다. 유량 측정 장치에 대한 정정 팩터가 결정될 수 있으므로, 다시 정확한 양이 배출 밸브를 통해 배출된다. 가장 간단한 경우, 조작자는 어떤 장치가 에러 소스인지에 따라 계량기 또는 유량 측정 장치를 교정할 수 있다. 이러한 점에서, 2개의 측정 장치의 상호 제어가 이루어진다.If there is a deviation between the calculated difference and the set amount, an error signal is generated in accordance with the present invention. This signal may be a warning indication or a control signal for a controller connected next. Since the correction factor for the flow measurement device can be determined, again the correct amount is discharged through the discharge valve. In the simplest case, the operator can calibrate the meter or flow measurement device depending on which device is the error source. In this regard, mutual control of the two measuring devices is achieved.
설명된 바와 같이, 본 고안에 따른 도징 장치는 처리액의 액체 성분의 적은 양 및 많은 양을 신속하고 확실하게 정량할 수 있다.As described, the dosing device according to the present invention can quickly and reliably quantify small and large amounts of the liquid component of the treatment liquid.
본 고안은 또한 액체 성분의 정량될 양의 결정시 측정 에러의 간단한 검출을 가능하게 하고, 유지 관리시 접속 에러를 줄이거나 방지함으로써, 본 고안에 따른 도징 장치가 할당된 처리 스테이션, 및/또는 상기 도징 장치 및/또는 상기 처리 스테이션이 할당된 처리 시스템의 유지 관리에 기인한 정지 시간을 최소화할 수 있다.The invention also enables simple detection of measurement errors in the determination of the quantity to be quantified of the liquid component and reduces or prevents connection errors during maintenance, thereby providing a processing station to which the dosing device according to the invention is assigned, and / or It is possible to minimize downtime due to maintenance of the processing system to which the dosing device and / or the processing station is assigned.
이하, 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 고안을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 고안의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.
본 고안에 따른 도징 장치(1)를 도시하는 도 1에 따라 저장용기(2)는 유입부(3) 및 배출부(4)를 포함한다. 공급 라인(5) 및 유입부(2)를 통해 정량될 액체 성분(F)이 저장용기(2) 내로 유입될 수 있다. 이를 위해, (메인) 차단 밸브(6)가 제공되고, 상기 밸브는 유입부를 향해 개방되어야 한다.According to FIG. 1, which shows a
저장용기(2)는 계량 장치(7)에 접속되고, 상기 계량 장치에 의해 저장용기(2)와 그 안에 포함된 액체 성분(F')의 중량이 검출될 수 있다. 이 장치는 도 1에서 개략적으로 용수철 저울로 도시되어 있다.The
액체(F') 내에 있는 기포들(도면 부호 없음)이 상승하여(작은 화살표) 저장용기(2)의 상부 영역(2')에 모인다. 따라서, 기포들은 저장용기(2)의 거의 기포 없는 하부 영역(2")에 배치된 배출부(4)로부터 자동으로 분리된다.Bubbles (not shown) in the liquid F 'rise (small arrows) and collect in the upper region 2' of the
배출부(4)는 유량 측정 장치(8) 내로 통하고, 상기 유량 측정 장치에 의해 액체 성분의 배출량(또는 이것과 관련된 값, 특히 유동률)이 측정될 수 있다. 정량된 성분(F")이 배출 밸브(9) 및 배출 라인(10)을 통해 도징 장치(1)를 벗어난다.The
저장용기(2)는 또한 그 상부 영역(2')에 압축 가스(G)용 공급부(11)를 포함한다. 상기 압축 가스(G)는 바람직하게는 압축 가스(G)의 컨디셔닝을 위해 사용되는 압력 보상 구간(12)을 통해 제공된다. 명확성을 위해, 그 부품, 특히 공급 밸브가 도시되지 않는다.The
도징 장치(1)의 부재들의 제어는 평가 및 제어 유닛(13)에 의해 이루어지고, 상기 평가 및 제어 유닛은 제어 라인(파선, 도면 부호 없음)을 통해 차단 밸브(6), 계량 장치(7), 유량 측정 장치(8) 및 배출 밸브(9)와 접속된다. 평가 및 제어 유닛(13)은 바람직하게 처리 시스템에 할당된 상위의 제어 유닛(도시되지 않음)에 의해 제어될 수 있다.Control of the members of the
도 2는 일련의 처리 용기(15)를 포함하는 처리 시스템(14)을 개략적으로 도시한다. 또한, 처리 시스템은 2개의 도징 장치(1, 1')를 포함한다. 처리 용기들(15)은 매체 공급 라인(16)을 통해 처리 매체(B)를 공급받을 수 있다. 처리 매체는 개별 탱크(16)에 있는 다수의 성분(F)으로 이루어진다. 각각의 탱크는 성분 공급 라인(19)을 통해 상응하는 액체 성분(F)을 위해 제공된 도징 장치(1, 1')와 유체 통하도록 접속된다. 따라서, 전체 시스템(14)의 영역 내에서 처리를 위해 필요한 각각의 액체 성분(F)에 개별 도징 장치(1, 1')가 할당된다.2 schematically shows a
각각의 도징 장치(1, 1')는 개별적인 배출 라인(10, 10')을 포함한다. 또한, 각각의 도징 장치(1, 1')의 각각의 배출 라인(10, 10')은 제어 가능한 전환 밸브(17)를 통해 처리 용기의 매체 공급 라인과 접속된다. 이는 시스템의 특정 처리 용기 내로 특정 성분의 양의 개별 제어를 가능하게 한다. 제어 가능한 전환 밸브(17)와 접속되어야 하고, 도징 장치(1, 1')의 국부적 평가 및 제어 장치(도시되지 않음)를 제어함으로써, 이것이 배출 라인(10, 10') 내로 소정 액체 성분(F)의 소정 양을 정량하는 시스템(14)의 중앙 제어부는 도시되지 않는다.Each
도 3에는 상기 처리 시스템(14)의 대안적 실시예가 도시된다. 편의상 전술한 특징의 설명은 생략된다. 상기 실시예와는 달리, 여기에 도시된 시스템(14)은 제어 가능한 전환 밸브를 포함하지 않고, 각각의 배출 라인(10, 10')은 각각의 처리 용기(15) 내로 통하고, 선택 밸브(9')(도면의 좌측에만 도면 부호로 표시됨)를 포함한다. 이는 제어 가능하고, 실제로 하나의 성분(F")이 바로 그 처리 용기(15) 내로 정량되어야 하는 경우에만 개방된다. 양은 상기 성분(F)에 속한 도징 장치(1, 1')에 의해 결정되고, 지점(및 그에 따라 용기)은 각각의 선택 밸브(9')에 의해 결정된다. 상위의 제어부, 및 이 경우 선택 밸브(9')에 도달해야 하는 제어 라인은 도시되지 않는다. 이 경우, 도징 장치(1, 1')의 배출 밸브(도시되지 않음)가 생략될 수 있는데, 그 이유는 그 기능이 선택 밸브(9')에 의해 수행되기 때문이다.3, an alternative embodiment of the
이상과 같이 본 고안에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 고안의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 고안은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 고안이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.As described above, the present invention has been described with reference to particular embodiments, such as specific elements and the like, with limited examples and drawings. However, the present invention is not limited to the above embodiments, And various modifications and changes may be made thereto by those skilled in the art to which the present invention belongs.
따라서, 본 고안의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 실용신안등록청구범위뿐 아니라 이 실용신안등록청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 고안 사상의 범위에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention is not limited to the embodiments described, and not only the utility model registration claims to be described below but also all the equivalents or equivalent modifications to the utility model registration claims are included in the scope of the invention idea. Will belong.
1, 1' 도징 장치
2 저장용기
2' 상부 영역
2" 하부 영역
3 유입부
4 배출부
5 공급 라인
6 차단 밸브
7 계량 장치
8 유량 측정 장치
9 배출 밸브
9' 선택 밸브
10, 10' 배출 라인
11 공급부
12 압력 보상 구간
13 평가 및 제어 유닛
14 처리 시스템, 시스템
15 처리 용기
16 탱크
17 제어 가능한 전환 밸브
18 성분 공급 라인
19 매체 공급 라인
F 액체 성분
F' 저장용기 내에 포함된/남은 성분, 저장용기 내용물
F" 정량된 성분, 배출된 양
G 압축 가스, 가스
B 처리 매체1, 1 'dosing device
2 Storage Container
2 'upper area
2 "subarea
3 inlet
4 outlet
5 supply lines
6 shutoff valve
7 Weighing Device
8 Flow measuring device
9 outlet valve
9 'selector valve
10, 10 'discharge line
11 Supply Section
12 pressure compensation section
13 Evaluation and Control Unit
14 processing systems, systems
15 processing containers
16 tank
17 controllable switching valve
18 ingredient supply line
19 medium supply line
F liquid component
Ingredients contained / remaining in F 'container, container contents
F "Quantified component, amount emitted
G compressed gas, gas
B treatment medium
Claims (10)
유입부(3) 및 배출부(4)를 갖는 저장용기(2);
상기 저장용기(2) 내로 통하는 적어도 하나의 공급 라인(5);
저장용기 내용물(F')용 계량 장치(7);
상기 배출부(4)의 하류에 배치된 유량 측정 장치(8);
적어도 하나의 제어 가능한 배출 밸브(9); 및
배출 라인(10, 10')을 포함하고,
상기 저장용기(2)는 압축 가스(G)용 공급부(11)를 포함하고,
상기 배출부(4)는 상기 저장용기(2)의 하부 영역(2")에 배치되는, 도징 장치.
A dosing device 1, 1 ′ for providing a liquid component F to be used in the area of wet chemical treatment for a product, the dosing device comprising:
A storage container 2 having an inlet 3 and an outlet 4;
At least one supply line (5) leading into said reservoir (2);
A metering device 7 for the reservoir contents F ';
A flow rate measuring device (8) disposed downstream of the discharge portion (4);
At least one controllable discharge valve 9; And
Including discharge lines 10, 10 ′,
The storage container 2 includes a supply unit 11 for the compressed gas (G),
The dosing device (4) is arranged in the lower region (2 ″) of the reservoir (2).
The dosing device according to claim 1, wherein the supply (11) for the compressed gas (G) is arranged in the upper region (2 ′) of the reservoir (2).
The dosing device according to claim 1 or 2, wherein a pressure compensation section (12) is arranged upstream of the supply (11).
The dosing device according to any one of the preceding claims, wherein the reservoir (2) is further assigned a reservoir pressure detection device and / or an overpressure valve.
The dosing device according to claim 1, wherein the dosing device comprises a plurality of discharge valves.
The evaluation and control unit (13) according to claim 1, wherein the dosing device is also connected with the metering device (7), the flow measuring device (8) and the at least one discharge valve (9). Dosing device comprising a.
The dosing device according to any one of the preceding claims, wherein the at least one supply and discharge line (5, 10, 10 ') each passes into one quick connection.
처리 용기(15);
상기 처리 용기(15)에서 끝나는 매체 공급 라인(19); 및
청구항 1 내지 청구항 7항 중 어느 한 항의 정의에 따른 적어도 하나의 도징 장치(1, 1');를 포함하고,
상기 도징 장치의 공급 라인(5)에 상응하는 성분 공급 라인(18)에 의해 공급받을 수 있고, 상기 도징 장치의 배출 라인(10, 10')은 상기 매체 공급 라인(19) 내로 통하는, 처리 스테이션.
A processing station for wet chemically treating a product by a processing medium (B) comprising at least one liquid component (F), the processing station comprising:
Processing vessel 15;
A media supply line (19) ending in said processing vessel (15); And
At least one dosing device (1, 1 ') according to the definition of any one of the preceding claims,
A processing station, which may be supplied by a component supply line 18 corresponding to the supply line 5 of the dosing device, the discharge lines 10, 10 ′ of the dosing device communicate into the media supply line 19. .
개별 배출 라인(10, 10')을 포함하며,
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항의 정의에 따른 적어도 하나의 도징 장치(1, 1')를 포함하고,
전체 상기 처리 시스템(14)의 영역에서 처리를 위해 필요한 각각의 액체 성분(F)에 개별적으로 도징 장치(1, 1')가 할당되고, 각각의 배출 라인(10, 10')은 제어 가능한 전환 밸브(17)를 통해 상기 처리 용기(15)의 상기 매체 공급 라인(19)과 접속되거나, 또는 각각의 배출 라인(10, 10')이 각각의 처리 용기(15) 내로 통하며 선택 밸브(9')를 포함하는, 처리 시스템.
A processing system 14 comprising a processing vessel 15 which can be supplied via a media supply line 19 for wet chemically treating a product by a processing medium B comprising at least one liquid component F. ), The processing system,
Includes separate discharge lines 10, 10 ',
At least one dosing device 1, 1 ′ according to the definition of claim 1,
A dosing device 1, 1 ′ is individually assigned to each liquid component F required for processing in the entirety of the treatment system 14, and each discharge line 10, 10 ′ is controllable. The valve 17 is connected to the media supply line 19 of the processing vessel 15, or each discharge line 10, 10 ′ passes into each processing vessel 15 and the selection valve 9 Processing system, including;
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