KR20120134371A - Transparent plasma display panel having mirror function, and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A transparent plasma display panel and a manufacturing method thereof are provided to increase luminescence intensity of a transparency fluorescent material layer by generating surface plasmon resonance. CONSTITUTION: A bottom panel forms one cell with a top panel. A transparency fluorescent material layer(150) is arranged between transparent barrier walls. A dielectric spacer layer(155) is arranged under the transparency fluorescent material layer. A metal nanofilm(165) is formed under the dielectric spacer layer. The metal nanofilm increases luminescence intensity of the transparency fluorescent material layer by generating surface plasmon resonance. [Reference numerals] (105) Top transparent substrate; (130) Top transparent dielectric layer; (135) Protection layer; (150) Transparent fluorescent layer; (155) Dielectric spacer layer; (160,165) Metal nano film; (170) Bottom transparent dielectric layer; (180) Bottom transparent substrate; (200) Top panel; (300) Bottom panel

Description

거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널，및 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법{Transparent plasma display panel having mirror function, and method of manufacturing the same}Transparent plasma display panel having mirror function, and method of manufacturing the same

본 발명은 미러 디스플레이 장치(mirror display device)에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonance)을 이용하는 것에 의해 높은 발광 효율(luminous efficacy)을 가지며, 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널, 및 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mirror display device, and more particularly, to a transparent plasma display panel having high luminous efficacy and mirror function by using surface plasmon resonance. And a method for manufacturing the transparent plasma display panel.

반도체 제조 기술의 발달과 영상 처리 기술의 발달에 따라 경량 및 박형화가 용이하고 고화질을 실현할 수 있는 평판 디스플레이 소자들의 상용화 및 보급 확대가 급격히 진행되고 있으며, 이러한 평판 디스플레이 소자로서는 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 또는 유기발광 다이오드(organic light emitting diode display: OLED) 등이 있다.With the development of semiconductor manufacturing technology and the development of image processing technology, commercialization and expansion of flat panel display devices that can easily achieve light weight, thinness, and high image quality are rapidly progressing. Such flat panel display devices include liquid crystal display (LCD) and plasma. Displays (PDPs), or organic light emitting diode displays (OLEDs).

다양한 사용자의 욕구를 충족하기 위하여, 전자 제품의 다기능화가 추진 및 채용되고 있으며, 이에 따라 디스플레이 소자에서도 고유의 표시 기능뿐만 아니라 다른 기능까지도 포함하는 연구 개발이 진행되고 있다. 이러한 다기능화의 일환으로 휴대폰 또는 개인 휴대 통신(PDA) 등에 채용되는 디스플레이 소자에 거울 기능을 부가하는 시도가 행해지고 있다.In order to meet the needs of various users, the multifunctionalization of electronic products has been promoted and adopted. Accordingly, research and development including not only a unique display function but also other functions are progressing in display elements. As part of such multifunctionalization, attempts have been made to add a mirror function to display elements employed in cellular phones or personal digital assistants (PDAs).

디스플레이 소자에 거울 기능(mirror function)이 부가되는 장치는 미러 디스플레이 장치로 언급될 수 있으며, 이러한 미러 디스플레이 장치는 기본적으로 거울과 디스플레이 장치가 결합된 구조를 가질 수 있다. 즉, 미러 디스플레이 장치의 픽셀(pixel)(또는 셀(cell))이 오프(off)될 때에는 미러 디스플레이 장치는 거울로서 동작을 수행하고, 미러 디스플레이 장치의 픽셀이 온(on)될 때에는 미러 디스플레이 장치는 디스플레이 장치로서 동작할 수 있다.A device to which a mirror function is added to the display element may be referred to as a mirror display device, and such a mirror display device may basically have a structure in which a mirror and a display device are combined. That is, when a pixel (or cell) of the mirror display device is turned off, the mirror display device operates as a mirror, and when the pixel of the mirror display device is turned on, the mirror display device Can operate as a display device.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 표면 플라즈몬 공명을 이용하는 것에 의해 높은 발광 효율을 가지며, 거울기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널, 및 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is to provide a transparent plasma display panel having a high luminous efficiency and a mirror function by using surface plasmon resonance, and a method of manufacturing the transparent plasma display panel.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널은, 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널은, 상부 패널; 및 상기 상부 패널과 함께 하나의 셀을 구성하는 하부 패널을 포함할 수 있으며, 상기 하부 패널은, 투명 격벽들 사이에 배치되는 투명 형광체 층; 상기 투명 형광체 층 아래에 배치되는 유전체 스페이서 층; 및 상기 유전체 스페이서 층 아래에 형성되고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시하지 않을 때 상기 거울 기능을 수행하고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명을 발생하여 상기 투명 형광체 층의 발광 세기를 증가시킬 수 있다.In order to achieve the above technical problem, a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention relates to a transparent plasma display panel having a mirror function. The transparent plasma display panel includes an upper panel; And a lower panel constituting one cell together with the upper panel, wherein the lower panel comprises: a transparent phosphor layer disposed between the transparent partition walls; A dielectric spacer layer disposed below the transparent phosphor layer; And a transparent phosphor layer formed under the dielectric spacer layer to perform the mirror function when the transparent plasma display panel does not display an image, and generate surface plasmon resonance when the transparent plasma display panel displays an image. Can increase the light emission intensity.

상기 금속 나노 필름은, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 동작을 수행하는 어드레스 전극의 면적에 대응하는 부분을 제외하고 형성될 수 있다.The metal nanofilm may be formed except a portion corresponding to an area of an address electrode for performing an address operation of the transparent plasma display panel.

상기 금속 나노 필름은, 은, 금, 알루미늄, 및 구리 중 어느 하나를 포함할 수 있고, 상기 금속 나노 필름의 두께는, 20 (nm) 이상이고 500 (nm) 이하일 수 있다.The metal nanofilm may include any one of silver, gold, aluminum, and copper, and the thickness of the metal nanofilm may be 20 (nm) or more and 500 (nm) or less.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, (a) 상부 패널을 형성하는 단계; 및 (b) 상기 상부 패널과 함께 하나의 셀을 구성하는 하부 패널을 형성하는 단계를 포함할 수 있으며, 상기 (b) 단계는, (b1) 상기 하부 패널의 투명 유전체 층 위에 배치되는 금속 나노 필름을 형성하는 단계; (b2) 상기 금속 나노 필름 위에 유전체 스페이서 층을 형성하는 단계; 및 (b3) 상기 유전체 스페이서 층 위에 형성되는 투명 격벽들 사이에 배치되는 투명 형광체 층을 형성하는 단계를 포함할 수 있으며, 상기 금속 나노 필름은, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시하지 않을 때 거울 동작을 수행하고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명 동작을 수행하여 상기 투명 형광체 층의 발광 세기를 증가시킬 수 있다.In order to achieve the above technical problem, a method of manufacturing a transparent plasma display panel according to an embodiment of the present invention relates to a method of manufacturing a transparent plasma display panel having a mirror function. The method of manufacturing the transparent plasma display panel includes the steps of: (a) forming an upper panel; And (b) forming a lower panel constituting one cell together with the upper panel, wherein (b) comprises: (b1) a metal nanofilm disposed on the transparent dielectric layer of the lower panel; Forming a; (b2) forming a dielectric spacer layer on the metal nanofilm; And (b3) forming a transparent phosphor layer disposed between the transparent partition walls formed on the dielectric spacer layer, wherein the metal nanofilm is a mirror when the transparent plasma display panel does not display an image. When the transparent plasma display panel displays an image, a surface plasmon resonance operation may be performed to increase light emission intensity of the transparent phosphor layer.

본 발명에 따른 투명 플라즈마 디스플레이 패널, 및 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 표면 플라즈몬 공명을 발생하는 것에 의해 미러 디스플레이에 사용되는 투명 형광체의 발광 효율 및 발광 휘도를 향상시키고 거울 기능을 가지는 고반사율의 금속 나노 필름을 포함하므로, 거울 기능을 가지며 발광 세기 및 발광 효율을 향상시킬 수 있다.The transparent plasma display panel and the method for manufacturing the transparent plasma display panel according to the present invention improve the luminous efficiency and luminous luminance of the transparent phosphor used for the mirror display by generating surface plasmon resonance, and have a high reflectance having a mirror function. Since it includes a metal nano-film, it has a mirror function and can improve the light emission intensity and light emission efficiency.

본 발명은 금속 나노 필름을 가지는 새로운 셀(cell) 구조를 포함하므로, 거울로서 동작을 원활하게 하면서도 디스플레이 소자의 효율을 증가시킬 수 있다.Since the present invention includes a new cell structure having a metal nanofilm, it is possible to increase the efficiency of the display device while smoothly operating as a mirror.

본 발명의 상세한 설명에서 사용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여, 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.
도 1은 본 발명과 비교되는 미러 디스플레이 장치(10)를 설명하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)을 설명하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법(400)을 설명하는 흐름도(flow chart)이다.
도 4는 도 3에 도시된 상부 패널 형성 단계(500)를 설명하는 흐름도이다.In order to more fully understand the drawings used in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.
1 is a cross-sectional view illustrating a mirror display device 10 compared with the present invention.
2 is a cross-sectional view illustrating a transparent plasma display panel 100 having a mirror function according to an embodiment of the present invention.
3 is a flow chart illustrating a method 400 of manufacturing a transparent plasma display panel having a mirror function according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a flowchart describing the upper panel forming step 500 shown in FIG. 3.

본 발명 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는, 본 발명의 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용이 참조되어야 한다.In order to fully understand the present invention and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하는 것에 의해, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail by explaining embodiment of this invention with reference to attached drawing. Like reference numerals in the drawings denote like elements.

본 발명을 설명하기 전에, 본 발명에 대한 비교예가 다음과 같이 설명된다.Before describing the present invention, a comparative example of the present invention will be described as follows.

도 1은 본 발명과 비교되는 미러 디스플레이 장치(10)를 설명하는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 미러 디스플레이 장치(10)는, 반사 시트(reflection sheet)(20)와, 반사 시트(20) 위에 형성(제작)되는 유기 전자 발광 소자(organic electroluminescence device)(70)를 포함한다. 도 1에서는 미러 디스플레이 장치(10)의 하나의 픽셀(pixel)이 도시된다.1 is a cross-sectional view illustrating a mirror display device 10 compared with the present invention. Referring to FIG. 1, the mirror display apparatus 10 includes a reflection sheet 20 and an organic electroluminescence device 70 formed (manufactured) on the reflection sheet 20. do. In FIG. 1, one pixel of the mirror display apparatus 10 is illustrated.

반사 시트(20)는 미러 디스플레이 장치(10)가 거울 동작을 수행하도록 투명 디스플레이 소자인 유기 전자 발광 소자(70) 아래에 배치(형성)되어, 반사 시트(20)와 유기 전자 발광 소자(70)는 서로 마주 보게 된다. 반사 시트(20)는 유기 전자 발광 소자(70)에 부착될 수도 있다.The reflective sheet 20 is disposed (formed) under the organic electroluminescent element 70, which is a transparent display element, so that the mirror display device 10 performs a mirror operation, so that the reflective sheet 20 and the organic electroluminescent element 70 are formed. Face each other. The reflective sheet 20 may be attached to the organic electroluminescent device 70.

반사 시트(20)는 미러 디스플레이 장치(10)가 영상을 표시하지 않을 때 유기 전자 발광 소자(70)를 통해 입사되는 외부의 빛을 반사하여 미러 디스플레이(10)가 거울의 기능을 수행하도록 한다. 반사 시트(20)는 반사율이 높은 물질로 형성되는 금속 필름일 수 있다.The reflective sheet 20 reflects external light incident through the organic electroluminescent device 70 when the mirror display apparatus 10 does not display an image so that the mirror display 10 performs a mirror function. The reflective sheet 20 may be a metal film formed of a material having high reflectance.

유기 전자 발광 소자(70)는, 투명한 유리 기판(30), 하부 투명 전극(하판 투명 전극)(40), 투명 형광체로 구성되는 유기 발광층(50), 및 상부 투명 전극(상판 투명 전극)(60)을 포함한다. 즉, 유기 전자 발광 소자(70)는 OLED 디스플레이 패널로서 투명하게 제작된다. 하부 투명 전극(40), 유기 발광층(50), 및 상부 투명 전극(60)은 유리 기판(30) 위에 순서대로 적층될 수 있다. 상부 투명 전극(60)과 하부 투명 전극(40) 사이에 전압이 인가될 때, 상부 투명 전극(60)을 통해 유기 발광층(50)에서 형성되는 영상이 외부에 표시될 수 있다.The organic electroluminescent device 70 includes a transparent glass substrate 30, a lower transparent electrode (lower transparent electrode) 40, an organic light emitting layer 50 composed of a transparent phosphor, and an upper transparent electrode (upper transparent electrode) 60 ). That is, the organic electroluminescent element 70 is produced transparently as an OLED display panel. The lower transparent electrode 40, the organic emission layer 50, and the upper transparent electrode 60 may be sequentially stacked on the glass substrate 30. When a voltage is applied between the upper transparent electrode 60 and the lower transparent electrode 40, an image formed in the organic light emitting layer 50 through the upper transparent electrode 60 may be displayed on the outside.

유기 전자 발광 소자(70)의 발광 효율을 높이기 위해, 반사 시트(20)를 구성하는 물질의 반사율을 높이거나 또는 빛의 투과도가 0 (%)에 가까운 금속 필름으로 반사 시트(20)를 구성할 수 있다. 또한, 미러 디스플레이(10)의 픽셀 구조를 최적화하고 유기 발광층(50)을 높은 휘도의 발광 물질로 사용하는 것에 의해, 유기 전자 발광 소자(70)의 발광 효율을 높일 수 있다. 그러나, 유기 전자 발광 소자(70)(또는 유기 발광층(50)의 형광물질)는 투명하게 제조되므로, 유기 전자 발광 소자(70)의 발광 효율(발광 특성)이 현저하게 떨어질 수 있다.In order to increase the luminous efficiency of the organic electroluminescent device 70, the reflecting sheet 20 may be formed of a metal film that increases the reflectance of the material constituting the reflecting sheet 20 or transmits light of which light is close to 0 (%). Can be. In addition, by optimizing the pixel structure of the mirror display 10 and using the organic light emitting layer 50 as a high luminance light emitting material, the light emission efficiency of the organic electroluminescent device 70 can be improved. However, since the organic electroluminescent device 70 (or the fluorescent material of the organic light emitting layer 50) is manufactured to be transparent, the luminous efficiency (luminescence property) of the organic electroluminescent device 70 may be significantly reduced.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)을 설명하는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)은, 상부 패널(전면판)(200) 및 하부 패널(후면판)(300)을 포함한다.2 is a cross-sectional view illustrating a transparent plasma display panel 100 having a mirror function according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the transparent plasma display panel 100 includes an upper panel (front panel) 200 and a lower panel (back panel) 300.

투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 3전극 교류형(AC) 플라즈마 디스플레이 패널로서, 면방전 구조를 가진다. 교류형 플라즈마 디스플레이 패널은 격벽으로 구획된 방전 셀(cell)에서 전극에 인가되는 교류 전압에 의해 불활성 혼합 가스(방전 가스)가 방전할 때 발생하는 진공 자외선(VUV(vacuum-ultraviolet))이 형광체를 여기(excitation)시켜 형광체로부터 발생되는 가시광선에 의해 영상을 표시할 수 있다.The transparent plasma display panel 100 is a three-electrode alternating current (AC) plasma display panel and has a surface discharge structure. In the AC plasma display panel, a vacuum ultraviolet ray (VUV (vacuum-ultraviolet)) generated when an inert mixed gas (discharge gas) is discharged by an AC voltage applied to an electrode in a discharge cell partitioned by a partition wall. The image may be displayed by visible light generated from the phosphor by excitation.

도 2에서 상부 패널(200)은 설명의 편의를 위해 상부 패널(200)의 세로 중심축을 기준으로 시계방향으로 90 도(degree) 회전되어 도시되어 있다. 상부 패널(200)과 하부 패널(300)은 하나의 셀(cell)(서브픽셀(subpixel) 또는 방전 셀)을 구성한다. 상부 패널(200)과 하부 패널(300)은 실런트(sealant)를 이용하여 봉합될 수 있다.In FIG. 2, the upper panel 200 is rotated 90 degrees clockwise about the longitudinal center axis of the upper panel 200 for convenience of description. The upper panel 200 and the lower panel 300 constitute one cell (subpixel or discharge cell). The upper panel 200 and the lower panel 300 may be sealed using a sealant.

상부 패널(200)은, 상부 투명 기판(상판 투명 기판)(105), 투명 스캔 전극(scan electrode)(110)과 투명 유지 전극(sustain electrode)(115)과 버스 전극들(bus electrodes)(120, 125)로 구성되는 투명 전극, 상부 투명 유전체 층(130), 및 보호층(135)을 포함한다. 투명 전극, 상부(상판) 투명 유전체 층(130), 및 보호층(135)은 상부 투명 기판(105) 위에 순서대로 적층된다.The upper panel 200 includes an upper transparent substrate (top transparent substrate) 105, a transparent scan electrode 110, a transparent sustain electrode 115, and bus electrodes 120. , 125, a transparent electrode, an upper transparent dielectric layer 130, and a protective layer 135. The transparent electrode, the upper (top) transparent dielectric layer 130, and the protective layer 135 are sequentially stacked on the upper transparent substrate 105.

상부 투명 기판(105)은, 예를 들어, 유리로 제작될 수 있다. 투명 스캔 전극(110)과 투명 유지 전극(115)은 투명한 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide: ITO)를 포함할 수 있다. 버스 전극들(120, 125)은 투명한 소재로 제조될 수 있고 투명 스캔 전극(110)의 라인(line) 저항 및 투명 유지 전극(115)의 라인 저항을 감소시키며, 버스 전극들(120, 125) 각각은 투명 스캔 전극(110)(또는 투명 유지 전극(115))에 비하여 그 폭이 좁게 형성된다. 투명 스캔 전극(110)과 투명 유지 전극(115)과 버스 전극들(120, 125)은 스트라이프(stripe) 형태를 가진다.The upper transparent substrate 105 may be made of glass, for example. The transparent scan electrode 110 and the transparent sustain electrode 115 may include transparent indium tin oxide (ITO). The bus electrodes 120 and 125 may be made of a transparent material and reduce the line resistance of the transparent scan electrode 110 and the line resistance of the transparent sustain electrode 115, and the bus electrodes 120 and 125. Each has a smaller width than that of the transparent scan electrode 110 (or the transparent sustain electrode 115). The transparent scan electrode 110, the transparent sustain electrode 115, and the bus electrodes 120 and 125 have a stripe shape.

상부 투명 유전체 층(130)은 투명 전극을 보호하고 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 교류 동작을 위한 커패시터(capacitor)의 역할을 수행할 수 있다. 상부 투명 유전체 층(130)은 플라즈마 방전이 될 때 발생된 벽 전하가 축적되어 방전을 유지시킨다.The upper transparent dielectric layer 130 may protect the transparent electrode and serve as a capacitor for alternating current operation of the transparent plasma display panel 100. The upper transparent dielectric layer 130 accumulates wall charges generated when the plasma is discharged to maintain the discharge.

보호층(135)은 상부 투명 유전체 층(130)을 보호하고, 2차 전자를 방출하여 방전 전압을 하강시킨다. 보호층(135)은 투명한 산화마그네슘(MgO)을 포함하는 산화 보호막일 수 있다.The protective layer 135 protects the upper transparent dielectric layer 130 and emits secondary electrons to lower the discharge voltage. The protective layer 135 may be an oxide protective film including transparent magnesium oxide (MgO).

하부 패널(300)은, 하부 투명 기판(하판 투명 기판)(180), 어드레스 전극(address electrode)(175), 하부(하판) 투명 유전체 층(170), 금속 나노 필름(금속 박막)(160 및 165), 유전체 스페이서(spacer) 층(155), 투명 격벽들(140, 145), 및 투명 형광체(발광체) 층(150)을 포함한다. 어드레스 전극(175), 하부 투명 유전체 층(170), 금속 나노 필름(160 및 165), 유전체 스페이서(spacer) 층(155), 투명 격벽들(140, 145), 및 투명 형광체 층(150)이 하부 투명 기판(180) 위에 순서대로 적층된다. 하부 투명 기판(180)은, 예를 들어, 유리로 제작될 수 있다. The lower panel 300 includes a lower transparent substrate (lower transparent substrate) 180, an address electrode 175, a lower (lower substrate) transparent dielectric layer 170, a metal nanofilm (metal thin film) 160, and 165, dielectric spacer layer 155, transparent partitions 140, 145, and transparent phosphor (light emitter) layer 150. The address electrode 175, the lower transparent dielectric layer 170, the metal nanofilms 160 and 165, the dielectric spacer layer 155, the transparent barrier ribs 140 and 145, and the transparent phosphor layer 150 are The lower transparent substrate 180 is stacked in this order. The lower transparent substrate 180 may be made of, for example, glass.

어드레스 전극(175)은 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 상부 패널(200)(또는 하부 패널(300))을 통해 영상을 표시하도록 하는 데이터 펄스 신호가 인가되는 전극으로서, 하나의 셀(cell)을 선택하기 위해 사용된다. 어드레스 전극(175)은 스트라이프(stripe) 형태를 가지며 상부 패널(200)의 투명 전극과 직교하고, 투명한 물질인 ITO로 형성될 수 있다.The address electrode 175 is an electrode to which a data pulse signal is applied so that the transparent plasma display panel 100 displays an image through the upper panel 200 (or the lower panel 300). Used to select. The address electrode 175 has a stripe shape, is orthogonal to the transparent electrode of the upper panel 200, and may be formed of ITO, which is a transparent material.

하부 투명 유전체 층(170)은 투명 형광체 층(150)으로부터 후방으로 방사되는 가시광선의 일부를 반사시키는 것에 의해 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 발광효율을 향상시킬 수도 있다. 하부 투명 유전체 층(170)은 어드레스 전극(175)을 보호하는 기능도 수행할 수 있다.The lower transparent dielectric layer 170 may improve the luminous efficiency of the transparent plasma display panel 100 by reflecting a portion of visible light emitted from the transparent phosphor layer 150 to the rear. The lower transparent dielectric layer 170 may also function to protect the address electrode 175.

본 발명의 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 도 1에 도시된 미러 디스플레이 장치(10)와 달리 셀(cell) 내부에 거울 기능을 수행하는 금속 나노 필름(160 및 165)을 포함한다. 금속 나노 필름(160 및 165)은 유전체 스페이서 층(155) 아래에 형성되고, 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 영상을 표시하지 않을 때(디스플레이(100)가 오프(off)될 때) 거울 기능(거울 동작)을 수행한다. 즉, 금속 나노 필름(160 및 165)은 반사시트로 기능하여 거울 동작을 한다. 금속 나노 필름(160 및 165)은 상부 패널(200)(또는 하부 패널(300))을 통해 입사되는 외부의 빛을 반사하여 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 거울의 기능을 수행하도록 한다.Unlike the mirror display apparatus 10 illustrated in FIG. 1, the transparent plasma display panel 100 of the present invention includes metal nanofilms 160 and 165 that perform a mirror function in a cell. The metal nanofilms 160 and 165 are formed under the dielectric spacer layer 155 and the mirror function (when the transparent plasma display panel 100 does not display an image (when the display 100 is off)) Mirror operation). That is, the metal nanofilms 160 and 165 function as a reflective sheet to perform a mirror operation. The metal nanofilms 160 and 165 reflect external light incident through the upper panel 200 (or the lower panel 300) to allow the transparent plasma display panel 100 to function as a mirror.

금속 나노 필름(160 및 165)은 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명을 발생하여 투명 형광체 층(150)의 발광 세기(발광 휘도)를 증가시킨다. 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 영상을 표시할 때는, 디스플레이(100)가 온(on)되는 경우로서, 예를 들어, 스캔 전극(110)과 유지 전극(115)과 어드레스 전극(175)에 전압이 인가되는 것에 의해 수행되는 플라즈마 방전에서 진공자외선 및 적외선(IR(infrared ray))이 발생될 때, 또는 상기 플라즈마 방전을 통해 투명 형광체 층(150)에서 가시광선이 발광(방출)될 때를 의미할 수 있다.The metal nanofilms 160 and 165 generate surface plasmon resonance when the transparent plasma display panel 100 displays an image to increase the emission intensity (luminescence brightness) of the transparent phosphor layer 150. When the transparent plasma display panel 100 displays an image, the display 100 is turned on. For example, a voltage is applied to the scan electrode 110, the sustain electrode 115, and the address electrode 175. When vacuum ultraviolet rays and infrared rays (infrared ray) are generated in the plasma discharge performed by the application, or when the visible light is emitted (emitted) in the transparent phosphor layer 150 through the plasma discharge. can do.

표면 플라즈몬 공명 특성(공명할 때의 표면 플라즈몬)은 투명 형광체 층(150)의 밴드갭 에너지(bandgap energy)와 결합하여 투명 형광체 층(150)에 강한 발광 세기를 유도한다. 이러한 표면 플라즈몬 공명 특성은, 가시광선 영역에서 음의 굴절률을 보이는 금속에서만 나타나는 고유의 특성일 수 있다.The surface plasmon resonance characteristic (surface plasmon when resonating) is combined with the bandgap energy of the transparent phosphor layer 150 to induce strong luminescence intensity in the transparent phosphor layer 150. This surface plasmon resonance characteristic may be an inherent characteristic only in metals exhibiting negative refractive index in the visible region.

금속 나노 필름(160 및 165)은 나노 단위로 형성되므로 금속 표면 특성 및 재질이 변화되는 것에 의해 가시광선 영역 내에서 표면 플라즈몬 공명 특성을 유도(발생)할 수 있다. 표면 플라즈몬 공명 특성은 통상 수십 나노미터(nano-meter) 까지 영향을 줄 수 있으므로, 표면 플라즈몬 공명의 영향권 아래에 있고 금속 나노 필름(160 및 165)에 근접한 위치에 있는 투명 형광체 층(150)의 발광 강도(발광 세기)는 향상될 수 있다. 상기 표면 플라즈몬 공명 특성은 투명 형광체 층(150)의 형광을 강화시킬 수 있고, 투명 형광체 층(150)의 형광체의 지속 시간(형광 지속 시간)을 감소시키고 메탈(metal) 유도 발광을 증가시켜 디스플레이 소자의 발광 효율(광 효율)을 증가시킬 수 있다. 전술한 바와 같이, 본 발명은 투명하게 제조된 투명 형광체 층(150) 아래에 표면 플라즈몬 공명을 유도할 수 있는 금속 나노 필름(160 및 165)을 삽입하여 표면 플라즈몬 공명 특성이 발현될 수 있도록 한다.Since the metal nanofilms 160 and 165 are formed in nano units, the surface plasmon resonance characteristics may be induced (generated) in the visible region by changing metal surface properties and materials. Surface plasmon resonance characteristics can affect up to several tens of nanometers, so that light emission of the transparent phosphor layer 150 under the influence of surface plasmon resonance and located in proximity to the metal nanofilms 160 and 165. The intensity (luminescence intensity) can be improved. The surface plasmon resonance characteristic may enhance the fluorescence of the transparent phosphor layer 150, reduce the duration (fluorescence duration) of the phosphor of the transparent phosphor layer 150, and increase metal-induced emission to display devices. The luminous efficiency (light efficiency) can be increased. As described above, the present invention allows surface plasmon resonance characteristics to be expressed by inserting metal nanofilms 160 and 165 capable of inducing surface plasmon resonance under the transparent phosphor layer 150.

상기 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonance)은 금속 나노 입자가 가시광선 대역 또는 근적외선 대역의 특정 파장을 갖는 빛 등과 공명하여 금속 나노 입자의 표면 플라즈몬이 집단으로 진동하는 현상을 말한다. 표면 플라즈몬 공명이 발생하는 경우 금속 나노 입자는 공명 파장의 빛을 흡수하여 그 보색의 선명한 빛을 방출한다.The surface plasmon resonance refers to a phenomenon where the surface plasmon of the metal nanoparticles vibrates collectively because the metal nanoparticles resonate with light having a specific wavelength in the visible or near infrared band. When surface plasmon resonance occurs, the metal nanoparticles absorb light at the resonant wavelength and emit vivid complementary light.

금속 나노 필름(160 및 165)은, 투명 형광체 층(150)의 방출 파장(발광 파장)에 따른 표면 플라즈몬 공명의 유도를 위해, 은, 금, 알루미늄, 및 구리 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 은, 금, 알루미늄, 또는 구리는 가시광선 영역인 400 (nm)이상이고 700 (nm)이하에서 표면 플라즈몬 공명을 유도할 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 금속 나노 필름(160 및 165)은, 은, 금, 알루미늄, 및 구리 중 적어도 두 개를 혼합한 물질을 포함할 수도 있다. 금속 나노 필름(160 및 165)의 두께는 금속 나노 필름(160 및 165)의 거울 동작을 위해 20 (nm)이상이고 500 (nm)이하일 수 있다. 두께가 20 (nm)이상이고 500 (nm)이하인 금속 나노 필름(160 및 165)은 상대적으로 높은 고반사율을 가질 수 있다.The metal nanofilms 160 and 165 may include any one of silver, gold, aluminum, and copper for induction of surface plasmon resonance according to the emission wavelength (emission wavelength) of the transparent phosphor layer 150. Silver, gold, aluminum, or copper can induce surface plasmon resonance above the visible range of 400 (nm) and below 700 (nm). In another embodiment of the present invention, the metal nanofilms 160 and 165 may include a material in which at least two of silver, gold, aluminum, and copper are mixed. The thickness of the metal nanofilms 160 and 165 may be 20 (nm) or more and 500 (nm) or less for the mirror operation of the metal nanofilms 160 and 165. The metal nanofilms 160 and 165 having a thickness of 20 nm or more and 500 nm or less may have a relatively high high reflectance.

금속 나노 필름(160 및 165)은 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 어드레스(address) 동작을 수행하는 어드레스 전극(175)의 면적에 대응하는 부분을 제외하고 형성될 수 있다. 상기 금속 나노 필름(160 및 165)의 배치 구조는, 어드레스 방전을 위해 어드레스 전극(175)과 스캔 전극(110) 사이에 전압이 인가될 때, 금속 나노 필름(160 및 165)에 의한 상기 인가 전압의 차폐량을 감소시킬 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 금속 나노 필름(160 및 165)은 어드레스 전극(175)의 면적에 대응하는 부분도 금속 나노 필름이 형성되어 금속 나노 필름(160 및 165)이 하나의 층(layer)을 형성할 수도 있다.The metal nanofilms 160 and 165 may be formed except for a portion corresponding to the area of the address electrode 175 that performs the address operation of the transparent plasma display panel 100. The arrangement structure of the metal nanofilms 160 and 165 is such that the voltage applied by the metal nanofilms 160 and 165 when a voltage is applied between the address electrode 175 and the scan electrode 110 for address discharge. The shielding amount of can be reduced. In another embodiment of the present invention, the metal nanofilms 160 and 165 correspond to the area of the address electrode 175, and the metal nanofilms are formed so that the metal nanofilms 160 and 165 are formed in one layer. ) May be formed.

유전체 스페이서(spacer) 층(155)은 투명 형광체 층(150)이 금속 나노 필름(160 및 165)에 직접적으로 접촉되는 경우 또는 투명 형광체 층(150)이 금속 나노 필름(160 및 165)에 매우 가까이 위치하는 경우 형광이 퀀칭(quenching)되어 투명 형광체 층(150)의 발광 세기가 감소하는 현상을 방지한다.Dielectric spacer layer 155 may be used when the transparent phosphor layer 150 is in direct contact with the metal nanofilms 160 and 165 or the transparent phosphor layer 150 is very close to the metal nanofilms 160 and 165. When positioned, the fluorescence is quenched to prevent the emission intensity of the transparent phosphor layer 150 from decreasing.

유전체 스페이서 층(155)은 투명 형광체 층(150) 아래에 형성(배치)되고, 금속 나노 필름(160 및 165)과 투명 형광체 층(150)을 물리적으로 분리하고, 투명한 옥사이드(oxide) 물질일 수 있다. 유전체 스페이서 층(155)의 두께는 1 (nm) 이상이고 50 (nm) 이하일 수 있다. 유전체 스페이서 층(155)은, 가시광선의 투과도가 양호한 MgO, SiO2, Si3N4, Al2O3, 및 TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The dielectric spacer layer 155 is formed (disposed) under the transparent phosphor layer 150, and physically separates the metal nanofilms 160 and 165 and the transparent phosphor layer 150, and may be a transparent oxide material. have. The thickness of the dielectric spacer layer 155 may be 1 (nm) or more and 50 (nm) or less. The dielectric spacer layer 155 may include any one of MgO, SiO 2 , Si 3 N 4 , Al 2 O 3 , and TiO 2 having good transmittance of visible light.

투명 형광체 층(150)은, Red 발광 형광체, Green 발광 형광체, 또는 Blue 발광 형광체를 포함할 수 있다. 투명 형광체 층(150)은 투명 격벽들(140, 145) 사이에 배치되고, 전이 금속 이온 또는 희토류 금속 이온이 발광 이온으로 도핑(doping)된 형광체를 포함할 수 있다. 상기 도핑(doping)된 형광체를 포함하는 투명 형광체 층(150)의 빛에 대한 투과도는, 10 (%) 이상이고 95 (%) 이하일 수 있다.The transparent phosphor layer 150 may include a red light emitting phosphor, a green light emitting phosphor, or a blue light emitting phosphor. The transparent phosphor layer 150 may be disposed between the transparent barrier ribs 140 and 145 and may include a phosphor in which transition metal ions or rare earth metal ions are doped with light emitting ions. Transmittance of the transparent phosphor layer 150 including the doped phosphor may be 10 (%) or more and 95 (%) or less.

투명 격벽들(140, 145)은 셀들(cells)을 각각 분리하고, 스트라이프(stripe) 구조 또는 웰(well) 구조(격자 구조)를 가질 수 있다. 투명 격벽들(140, 145)은 유리 소재로 형성될 수 있다.The transparent barrier ribs 140 and 145 may separate cells, respectively, and have a stripe structure or a well structure (lattice structure). The transparent partitions 140 and 145 may be formed of a glass material.

따라서, 본 발명에 따른 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 표면 플라즈몬 공명을 발생하는 금속 나노 필름을 셀(cell)의 내부에 포함하므로, 고휘도 및 고효율의 미러 디스플레이 소자에 사용될 수 있다. 특히, 투명 형광체 층(150)이 Red 발광 형광체이고 금속 나노 필름(160 및 165)이 은 나노 필름인 경우, 본 발명은 상대적으로 높은 광 효율을 가질 수 있다.Therefore, the transparent plasma display panel 100 having a mirror function according to the present invention includes a metal nanofilm that generates surface plasmon resonance inside the cell, and thus may be used in a mirror display device having high brightness and high efficiency. In particular, when the transparent phosphor layer 150 is a red light emitting phosphor and the metal nanofilms 160 and 165 are silver nanofilms, the present invention may have a relatively high light efficiency.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법(400)을 설명하는 흐름도(flow chart)이다. 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법(400)에 의해, 도 2를 참조하여 설명된 투명 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 제작(형성)될 수 있다.3 is a flow chart illustrating a method 400 of manufacturing a transparent plasma display panel having a mirror function according to an embodiment of the present invention. By the method 400 for manufacturing a transparent plasma display panel, the transparent plasma display panel 100 described with reference to FIG. 2 may be manufactured (formed).

도 3을 참조하면, 상부 패널 형성 단계(500)에서 투명한 상부 패널이 형성된다. 상부 패널 형성 단계(500)는 도 4에 도시되어 있다. 즉, 도 4는 도 3에 도시된 상부 패널 형성 단계(500)를 설명하는 흐름도이다.Referring to FIG. 3, in the upper panel forming step 500, a transparent upper panel is formed. Top panel forming step 500 is shown in FIG. 4. That is, FIG. 4 is a flowchart for explaining the upper panel forming step 500 shown in FIG.

도 4를 참조하면, 스캔 전극 및 유지 전극 형성 단계(502)에서 상부 투명 기판 위에 투명 스캔 전극 및 투명 유지 전극이 형성된다. 투명 스캔 전극 및 투명 유지 전극은, 예를 들어, 상부 투명 기판 위에 ITO 또는 SnO2를 코팅한 후 사진 식각법 등으로 패터닝하여 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4, in the scan electrode and sustain electrode forming step 502, a transparent scan electrode and a transparent sustain electrode are formed on the upper transparent substrate. The transparent scan electrode and the transparent sustain electrode may be formed by, for example, coating ITO or SnO 2 on the upper transparent substrate and patterning the same by photolithography.

버스 전극 형성 단계(504)에 따르면, 투명 스캔 전극 및 투명 유지 전극 위에 각각 투명 스캔 전극(또는 투명 유지 전극)보다 폭이 좁은 투명한 버스 전극이 형성된다. 투명 버스 전극은, 예를 들어, 감광성 Ag 페이스트를 인쇄한 후 사진 식각법 등으로 패터닝하여 형성할 수 있다. 투명 유지 전극과 투명 스캔 전극과 투명 버스 전극은 투명 전극을 구성한다.According to the bus electrode forming step 504, a transparent bus electrode having a width narrower than that of the transparent scan electrode (or the transparent sustain electrode) is formed on the transparent scan electrode and the transparent sustain electrode, respectively. The transparent bus electrode may be formed by, for example, printing a photosensitive Ag paste and then patterning the same by photolithography. The transparent sustain electrode, the transparent scan electrode, and the transparent bus electrode constitute a transparent electrode.

유전체 층 형성 단계(506)에 따르면, 버스 전극 위에 상부 투명 유전체 층이 형성된다. 상부 투명 유전체 층은 스크린 인쇄법 등으로 글라스 분말 페이스트를 인쇄하여 형성할 수 있다.According to the dielectric layer forming step 506, an upper transparent dielectric layer is formed over the bus electrode. The upper transparent dielectric layer may be formed by printing glass powder paste by screen printing or the like.

보호층 형성 단계(508)에 따르면, 상부 투명 유전체 층 위에 보호층이 형성된다. 보호층은 MgO을 이용하여 진공 증착법 등에 의해 형성할 수 있다.According to the protective layer forming step 508, a protective layer is formed over the upper transparent dielectric layer. The protective layer can be formed by vacuum deposition or the like using MgO.

다시 도 3을 참조하면, 하부 패널 형성 단계는, 어드레스 전극 형성 단계(402), 유전체 층 형성 단계(404), 나노 필름 형성 단계(406), 스페이서 층 형성 단계(408), 격벽 형성 단계(410), 및 형광체 형성 단계(412)를 포함한다. 하부 패널 형성 단계에 의해 투명한 하부 패널이 형성된다. 하부 패널과 상기 상부 패널은 하나의 셀(cell)을 구성한다.Referring to FIG. 3 again, the lower panel forming step includes an address electrode forming step 402, a dielectric layer forming step 404, a nano film forming step 406, a spacer layer forming step 408, and a partition wall forming step 410. ), And phosphor formation step 412. The lower panel forming step forms a transparent lower panel. The lower panel and the upper panel constitute one cell.

어드레스 전극 형성 단계(402)에 따르면, 하부 패널의 하부 투명 기판 위에 어드레스 전극이 형성된다. 어드레스 전극은 상부 패널의 투명 전극과 직교하고, 투명한 물질로 형성될 수 있다. 어드레스 전극은 스캔 전극 및 유지 전극 형성 단계(502)에서 설명된 스캔 전극 및 유지 전극의 형성 방법과 동일한 방법에 의해 형성될 수 있다.According to the address electrode forming step 402, an address electrode is formed on the lower transparent substrate of the lower panel. The address electrode is orthogonal to the transparent electrode of the upper panel and may be formed of a transparent material. The address electrode may be formed by the same method as the method of forming the scan electrode and the sustain electrode described in the scan electrode and sustain electrode forming step 502.

유전체 층 형성 단계(404)에 따르면, 어드레스 전극 위에 하부 투명 유전체 층이 형성된다. 하부 투명 유전체 층은 유전체 층 형성 단계(506)에서 설명된 상부 투명 유전체 층의 형성 방법과 동일한 방법에 의해 형성될 수 있다.According to the dielectric layer forming step 404, a lower transparent dielectric layer is formed over the address electrode. The lower transparent dielectric layer may be formed by the same method as the method of forming the upper transparent dielectric layer described in the dielectric layer forming step 506.

나노 필름 형성 단계(406)에 따르면, 하부 투명 유전체 층 위에 금속 나노 필름이 형성(배치)된다. 금속 나노 필름은, 열적 증착(thermal evaporation) 방법, 금속을 증착할 수 있는 스퍼터(sputter) 증착 방법, 또는 전자빔 증착 방법에 의해 형성될 수 있다. 금속 나노 필름은 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시하지 않을 때 거울 동작을 수행한다. 금속 나노 필름은 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명 동작을 수행하여 투명 형광체 층의 발광 세기를 증가시킨다. 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 금속 나노 필름은, 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 동작을 수행하는 어드레스 전극의 면적에 대응하는 부분을 제외하고 형성될 수 있다.According to nano film forming step 406, a metal nano film is formed (disposed) on the lower transparent dielectric layer. The metal nanofilm may be formed by a thermal evaporation method, a sputter deposition method capable of depositing metal, or an electron beam deposition method. The metal nanofilm performs a mirror operation when the transparent plasma display panel does not display an image. The metal nanofilm performs surface plasmon resonance operation when the transparent plasma display panel displays an image to increase the emission intensity of the transparent phosphor layer. In another embodiment of the present invention, the metal nanofilm may be formed except a portion corresponding to the area of the address electrode for performing the address operation of the transparent plasma display panel.

스페이서 층 형성 단계(408)에 따르면, 금속 나노 필름 위에 투명한 유전체 스페이서 층이 형성된다. 유전체 스페이서 층은, 전자빔 증착 방법, 스퍼터 증착 방법, PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 방법, 또는 ALD(Atomic Layer Deposition) 방법에 의해 형성될 수 있다.According to the spacer layer forming step 408, a transparent dielectric spacer layer is formed over the metal nanofilm. The dielectric spacer layer may be formed by an electron beam deposition method, a sputter deposition method, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, or an atomic layer deposition (ALD) method.

격벽 형성 단계(410)에 따르면, 유전체 스페이서 층 위에 투명 격벽들이 형성된다. 투명 격벽들은 유리 소재로 이루어질 수 있고, 유리판을 식각 처리하여 형성되거나 또는 스크린프린트 공정 후 샌드 블래스팅(sand blasting) 법 등에 의해 형성될 수 있다. According to the barrier rib forming step 410, transparent barrier ribs are formed on the dielectric spacer layer. The transparent partitions may be made of a glass material, and may be formed by etching the glass plate, or may be formed by a sand blasting method or the like after the screen printing process.

형광체 형성 단계(412)에 따르면, 투명 격벽들 사이에 투명 형광체 층이 형성(도포 또는 배치)된다. 투명 형광체 층은 Red 발광 형광체, Green 발광 형광체, 또는 Blue 발광 형광체를 이용하여 인쇄법 또는 감광성 용제를 첨가하여 노광 식각하는 감광성 페이스터법과 형광체를 함유하는 잉크를 잉크젯으로 토출하여 형광체 패턴을 형성하는 잉크젯법 등으로 형성될 수 있다.According to the phosphor forming step 412, a transparent phosphor layer is formed (coated or disposed) between the transparent partitions. The transparent phosphor layer is an inkjet which forms a phosphor pattern by discharging an ink containing a photosensitive paste method and an ink containing a phosphor by a printing method or a photosensitive solvent using a red light emitting phosphor, a green light emitting phosphor, or a blue light emitting phosphor. Or the like.

봉합 단계(414)에 따르면, 상기 각각 형성된 상부 패널과 하부 패널은 서로 조립되어 실런트(sealant)를 이용하여 봉합(봉착)될 수 있고, 방전 공간인 방전 셀이 형성된다.According to the sealing step 414, the formed upper panel and the lower panel may be assembled to each other and sealed (sealed) using a sealant, and a discharge cell, which is a discharge space, is formed.

배기 및 주입 단계(416)에 따르면, 봉합된 상부 패널과 하부 패널에 진공 배기 공정이 수행되고 가스 주입 공정에 의해 방전 가스가 주입된다. 그러면, 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 제작된다.According to the evacuation and injection step 416, a vacuum evacuation process is performed on the sealed upper panel and the lower panel and a discharge gas is injected by the gas injection process. Then, a transparent plasma display panel having a mirror function is produced.

도 3 및 도 4에 도시된 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법(400)은 상부 패널이 먼저 형성된 후 하부 패널이 형성되는 것으로 설명되었지만, 본 발명의 다른 실시예의 경우 하부 패널이 먼저 형성된 후 상부 패널이 형성될 수도 있고, 하부 패널과 상부 패널이 동시에 형성될 수도 있다.The method 400 for manufacturing the transparent plasma display panel shown in FIGS. 3 and 4 has been described that the lower panel is formed after the upper panel is first formed, but in another embodiment of the present invention, the lower panel is first formed and then the upper panel is The lower panel and the upper panel may be formed at the same time.

이상에서와 같이, 도면과 명세서에서 실시예가 개시되었다. 여기서, 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이며 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명으로부터 다양한 변형 및 균등한 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the embodiments have been disclosed in the drawings and specification. Although specific terms are used herein, they are used for the purpose of describing the present invention only and are not used to limit the scope of the present invention described in the claims or the claims. Therefore, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent embodiments are possible from the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

150: 투명 형광체 층
155: 유전체 스페이서 층
160: 금속 나노 필름
165: 금속 나노 필름
175: 어드레스 전극
200: 상부 패널
300: 하부 패널150: transparent phosphor layer
155: dielectric spacer layer
160: metal nano film
165: metal nano film
175: address electrode
200: top panel
300: lower panel

Claims (5)

거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
상부 패널; 및
상기 상부 패널과 함께 하나의 셀을 구성하는 하부 패널을 포함하며,
상기 하부 패널은,
투명 격벽들 사이에 배치되는 투명 형광체 층;
상기 투명 형광체 층 아래에 배치되는 유전체 스페이서 층; 및
상기 유전체 스페이서 층 아래에 형성되고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시하지 않을 때 상기 거울 기능을 수행하고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명을 발생하여 상기 투명 형광체 층의 발광 세기를 증가시키는 금속 나노 필름을 포함하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.A transparent plasma display panel having a mirror function,
Upper panel; And
A lower panel constituting one cell together with the upper panel,
The lower panel,
A transparent phosphor layer disposed between the transparent partition walls;
A dielectric spacer layer disposed below the transparent phosphor layer; And
Formed under the dielectric spacer layer and performing the mirror function when the transparent plasma display panel does not display an image, and generating surface plasmon resonance when the transparent plasma display panel displays an image, Transparent plasma display panel comprising a metal nano film to increase the light emission intensity. 제1항에 있어서, 상기 금속 나노 필름은,
상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 동작을 수행하는 어드레스 전극의 면적에 대응하는 부분을 제외하고 형성되는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.The method of claim 1, wherein the metal nano film,
And a portion corresponding to an area of an address electrode for performing an address operation of the transparent plasma display panel. 제1항에 있어서, 상기 투명 형광체 층은,
전이 금속 이온 또는 희토류 금속 이온이 발광 이온으로 도핑(doping)된 형광체를 포함하는 투명 플라즈마 디스플레이 패널.The method of claim 1, wherein the transparent phosphor layer,
A transparent plasma display panel comprising phosphors in which transition metal ions or rare earth metal ions are doped with light emitting ions. 거울 기능을 가지는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서,
(a) 상부 패널을 형성하는 단계; 및
(b) 상기 상부 패널과 함께 하나의 셀을 구성하는 하부 패널을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 (b) 단계는,
(b1) 상기 하부 패널의 투명 유전체 층 위에 배치되는 금속 나노 필름을 형성하는 단계;
(b2) 상기 금속 나노 필름 위에 유전체 스페이서 층을 형성하는 단계; 및
(b3) 상기 유전체 스페이서 층 위에 형성되는 투명 격벽들 사이에 배치되는 투명 형광체 층을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 금속 나노 필름은, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시하지 않을 때 거울 동작을 수행하고, 상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널이 영상을 표시할 때 표면 플라즈몬 공명 동작을 수행하여 상기 투명 형광체 층의 발광 세기를 증가시키는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.In the method of manufacturing a transparent plasma display panel having a mirror function,
(a) forming a top panel; And
(b) forming a lower panel constituting one cell together with the upper panel;
The step (b)
(b1) forming a metal nanofilm disposed on the transparent dielectric layer of the lower panel;
(b2) forming a dielectric spacer layer on the metal nanofilm; And
(b3) forming a transparent phosphor layer disposed between the transparent partition walls formed on the dielectric spacer layer,
The metal nanofilm may perform a mirror operation when the transparent plasma display panel does not display an image, and perform surface plasmon resonance operation when the transparent plasma display panel displays an image to adjust the emission intensity of the transparent phosphor layer. The manufacturing method of the transparent plasma display panel which increases. 제4항에 있어서, 상기 금속 나노 필름은,
상기 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 동작을 수행하는 어드레스 전극의 면적에 대응하는 부분을 제외하고 형성되는 투명 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.The method of claim 4, wherein the metal nano film,
And a portion corresponding to an area of an address electrode for performing an address operation of the transparent plasma display panel is formed.
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