KR20120125057A - 파장가변 외부공진 레이저 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 고속변조동작 및 안정성이 개선된 파장가변 외부공진 레이저를 개시한다. 그의 레이저는, 하우징과, 상기 하우징 내에 형성된 평판형 광회로 소자와, 상기 평판형 광회로 소자의 일측의 상기 하우징 내에 형성된 펌프 광 소스와, 상기 펌프 광 소스에 대향되는 상기 평판형 광회로 소자의 타측의 상기 하우징 내에 형성된 변조부를 포함한다.
Description
본 발명은 레이저에 관한 것으로, 상세하게는 파장가변 외부공진 레이저에 관한 것이다.
차세대 메트로-액세스 전광통합망은 End-to-end 광 파장 서비스를 수용하고, 가입자 및 트래픽 증가에 따른 전기 스위치의 병목 현상이 제거된 차세대 광역 액세스망의 구축을 목표로 하고 있다. 이러한 전광통합망에 사용되는 광부품 시장은 아직 초기인 성장력이 막대한 신흥시장이며, 시스템과 유기적으로 연결하여 조기 개발 시 초기 세계 시장 선점이 가능할 수 있다. 예를 들어, PLC-ECL (Planar Lightwave Circuit-External Cavity Laser)는 양산성이 우수한 가입자용 파장가변 레이저를 구현할 수 있다. 또한 PLC-ECL (Planar Lightwave Circuit-External Cavity Laser)는 차세대 고도화 FTTH 망 구현을 위해서 단일 채널 2.5Gbps 이상의 속도를 가짐과 동시에 신뢰성/저가격 구도에 적합하다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 2.5Gbps 내지 10Gbps 급으로 고속 변조신호를 출력하는 파장가변 외부 공진형 레이저를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 과제는 광학 소자들의 결합 성능과 안정성을 향상시킬 수 있는 파장가변 외부공진 레이저를 제공하는 데 있다.
상기한 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 파장가변 외부 공진형 레이저를 제공한다. 그의 레이저는, 하우징; 상기 하우징 내에 형성된 평판형 광회로 소자; 상기 평판형 광회로 소자의 일측의 상기 하우징 내에 형성된 펌프 광 소스; 및 상기 펌프 광 소스에 대향되는 상기 평판형 광회로 소자의 타측의 상기 하우징 내에 형성된 변조부를 포함한다.
상기 하우징은 상기 펌프 광 소스, 상기 평판형 광회로 소자, 및 상기 변조부를 각각 둘러싸는 제 1 내지 제 3 하우징을 포함할 수 있다.
상기 변조부에 고주파 신호를 전달하고, 상기 제 3 하우징에 체결되는 고주파 커넥터를 더 포함할 수 있다.
상기 고주파 커넥터에서 상기 제 3 하우징 내부의 상기 변조부에 연결되는 고주파 리드 프레임과, 상기 고주파 리드 프레임에 형성된 임피던스 매칭 저항을 더 포함할 수 있다.
상기 변조부는 이에이 변조기를 포함할 수 있다.
상기 변조부는 상기 이에이 변조기에 단일집적되는 광증폭기를 더 포함할 수 있다.
상기 광 증폭기는 상기 펌프 광 소스에서 상기 평판형 광회로 소자까지의 연장선에 수직인 입력단과, 상기 연장선에서 기울어진 출력단을 가질 수 있다.
상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 마주보는 양측 외곽에 형성된 비반사 코팅막들을 더 포함할 수 있다.
상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 온도를 일정하게 유지하는 열전 냉각기와 써미스터를 더 포함할 수 있다.
상기 펌프 광 소스는 패키지 프레임에 형성된 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 구비한 티오캔 패키지를 포함할 수 있다.
상기 제 1 하우징은 상기 패키지 프레임과, 상기 패키지 프레임 상의 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 둘러싸는 패키지 캡을 포함할 수 있다.
상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드는 이득 영역과, 미세 변조 영역을 포함할 수 있다.
상기 이득 영역과 상기 미세 변조 영역은 5도 내지 15도로 기울어질 수 있다.
상기 티오캔 패키지는 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드에서 상기 평판형 광회로 소자까지 펌프 광의 진행 경로를 변경하는 거울을 포함할 수 있다.
상기 평판형 광회로 소자는 브래그 그레이팅을 구비하는 폴리머 도파로를 포함할 수 있다.
상기 하우징은 상기 펌프 광 소스를 둘러싸는 제 1 하우징과, 상기 평판형 광회로 소자 및 상기 변조부를 동시에 둘러싸는 제 4 하우징을 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 과제 해결 수단에 따르면 하우징 내에 펌프광 소스와, 평판형 광회로 소자와, EA 변조기를 배치하여 결합 성능과 안정성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, EA 변조기에 신호를 인가하는 고주파 커넥터를 하우징에 연결하여 10Gbps급으로 고속변조 동작될 수 있는 효과가 있다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도.
도 3a는 브래그 그레이팅에서 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 반사도를 나타내는 그래프.
도 3b는 브래그 그레이팅에 의해 생성된 레이저 광의 패브리-페롯 모드를 나타내는 그래프.
도 3c는 브래그 그레이팅에서 발진되는 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 투과율을 나타내는 그래프.
도 4는 도 3a 내지 도 3c에 개시된 레이저 광의 파장 가변 특성을 나타내는 그래프들.
도 5는 도 4의 공진 주파수들로부터 획득되는 레이저광의 파장가변 특성을 나타내는 도면.
도 6a 및 도 6b는 변조부를 나타내는 도면.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제 1 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 결합 평면도 및 분리 평면도.
도 9는 도 7의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스(101)를 나타낸 평면도.
도 10은 도 9와 다른 종류의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스를 나타낸 측면도.
도 11은 도 7의 PLC 소자를 나타낸 사시도.
도 12는 본 발명의 다른 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 평면도.
도 3a는 브래그 그레이팅에서 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 반사도를 나타내는 그래프.
도 3b는 브래그 그레이팅에 의해 생성된 레이저 광의 패브리-페롯 모드를 나타내는 그래프.
도 3c는 브래그 그레이팅에서 발진되는 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 투과율을 나타내는 그래프.
도 4는 도 3a 내지 도 3c에 개시된 레이저 광의 파장 가변 특성을 나타내는 그래프들.
도 5는 도 4의 공진 주파수들로부터 획득되는 레이저광의 파장가변 특성을 나타내는 도면.
도 6a 및 도 6b는 변조부를 나타내는 도면.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제 1 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 결합 평면도 및 분리 평면도.
도 9는 도 7의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스(101)를 나타낸 평면도.
도 10은 도 9와 다른 종류의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스를 나타낸 측면도.
도 11은 도 7의 PLC 소자를 나타낸 사시도.
도 12는 본 발명의 다른 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 평면도.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 바람직한 실시예에 따른 것이기 때문에, 설명의 순서에 따라 제시되는 참조 부호는 그 순서에 반드시 한정되지는 않는다. 이에 더하여, 본 명세서에서, 어떤 막이 다른 막 또는 기판 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 막 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 막이 개재될 수도 있다는 것을 의미한다.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역은 라운드지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 파장가변 외부공진 레이저는 크게 레이저 발진부(100)와, 변조부(200)를 포함할 수 있다. 레이저 발진부(100)는 2-section 고휘도 발광 다이오드(Super Luminescent Diode: 이하 SLD, 1)와 평판형 광회로(Planar Lightwave Circuit: 이하 PLC) 소자(10)를 포함할 수 있다. 2-section SLD(1)는 이득(gain) 영역(1a)과 미세 변조 영역(1b)을 포함할 수 있다. 이득 영역(1a)과 미세 변조 영역(1b)은 약 5~15도 정도 기울어질 수 있다. 펌프 광은 이득 영역(1a)과 미세 변조 영역(1b)의 기울어진 각도가 증가될수록 비반사 코팅막(2b)에서의 반사가 줄어들 수 있다. 고반사 코팅막(2a)는 90%이상의 펌프 광을 반사시킬 수 있다. 이득 영역(1a)은 외부로부터 입력되는 전류에 의해 펌프 광을 발진하는 이득 물질을 포함할 수 있다. 레이저 광의 발진 파장은 미세 변조 영역(1b)에서 미세하게 조절될 수 있다. 2-section SLD(1)는 이득(gain) 영역(1a)과 미세 변조 영역(1b)의 양측에 각기 형성된 고반사 코팅막(2a)과, 비반사 코팅막(2b)을 포함할 수 있다.
2-section SLD(1)는 제 1 하우징(9) 내에서 제 1 지지블록(1c) 및 제 1 서브 마운터(7)에 지지되고, PLC 소자(10)는 제 2 하우징(19) 내에서 제 2 지지블록(10a) 및 제 2 서브 마운터(15)에 지지될 수 있다. 제 1 렌즈(4)는 2-section SLD(1)와, PLC 소자(10) 사이의 제 1 하우징(9) 내에서 제 1 렌즈 지지블록(4a) 및 제 1 서브 마운터(7)에 지지될 수 있다. 제 1 하우징(9)과 제 1 서브 마운터(7) 사이에 제 1 열전 냉각기(8)가 배치될 수 있다. 제 1 열전 냉각기(TEC, 8)는 2-section SLD(1)의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다.
PLC 소자(10)는 브래그 그레이팅(11)이 형성된 폴리머 도파로 (12)를 포함할 수 있다. 폴리머 도파로(12)는 1.39정도의 유효 굴절율을 갖고, 0.019정도의 유효 굴절율차를 갖는 폴리머를 포함할 수 있다. 폴리머는 2.636×10-4/oC정도의 thermo-optic 계수를 갖는다. 폴리머는 실리카와 같은 무기물 성분에 비해 thermo-optic 계수가 크기 때문에 주입 전력에 비해 굴절율의 가변 특성이 크다는 특징을 가지고 있다. 따라서, 폴리머 도파로(12)는 온도에 따른 반사 피크의 변화가 크기 때문에 파장 가변이 용이한 레이저 광을 발진시킬 수 있다. PLC 소자(10)는 제 2 지지블록(10a)에 의해 고정될 수 있다. PLC 소자(10)는 제 2 하우징(19) 상의 제 2 열전 냉각기(18)에 의해 온도가 조절될 수 있다.
변조부(200)는 단일집적된 광 증폭기(21)와, EA 변조기(20)를 포함할 수 있다. 광 증폭기(21)의 입력단과 출력단은 2-section SLD(1) 및 PLC 소자(10)의 연장선으로부터 약 5도 내지 15도 정도 기울어져(tilted) 배치될 수 있다. 변조부(200)는 PLC 소자(10)로부터 출력되는 레이저 광의 반사를 방지하기 위해 광 증폭기(21) 및 EA 변조기(20)의 전후단에 형성된 비반사 코팅막들(22a, 22b)을 포함할 수 있다. 광 증폭기(21) 및 EA 변조기(20)는 제 3 지지블록(20a) 및 제 3 서브 마운터(27)에 고정될 수 있다. 광 증폭기(21) 및 변조기(20)는 제 3 서브 마운터(27)와, 제 3 하우징(29)사이의 제 3 열전 냉각기(28)에 의해 일정한 온도로 유지될 수 있다. 제 2 렌즈(14)는 PLC 소자10)와 변조부(200)사이에 배치될 수 있다. 또한, 제 3 렌즈(24)는 EA 변조기(20) 및 비반사 코팅막(22b)의 후단에 배치될 수 있다. 제 2 렌즈(14)와 제 3 렌즈(24)는 제 3 서브 마운터(27) 상의 제 2 및 제 3 렌즈 지지블록들(14a, 24a)에 고정될 수 있다. 제 2 렌즈(14)와 제 3 렌즈(24)는 비구면 볼록 렌즈를 포함할 수 있다. 변조부(200)에서 변조된 레이저 광은 광섬유(25)를 통해 출력될 수 있다.
도 3a는 브래그 그레이팅에서 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 반사도를 나타내는 그래프이다. 도 3b는 브래그 그레이팅에 의해 생성된 레이저 광의 패브리-페롯 모드를 나타내는 그래프이다. 도 3c는 브래그 그레이팅에서 발진되는 레이저 광의 주파수(파장)에 따른 투과율을 나타내는 그래프이다.
도 1 내지 도 3c를 참조하면, 브래그 그레이팅(11)은 특정 주파수(파장)에서 반사율이 높은 제 1 피크(31)를 갖는 3-dB 대역폭(32)과, 일정 간격의 주파수(파장)마다 규칙적인 투과율을 갖는 패브리-페롯 모드(33)가, 일치되는 특정 주파수(파장, 34)를 갖는 레이저 광을 발진시킬 수 있다. 레이저 광의 주파수(파장)은 불연속적인 가우시안 분포를 가질 수 있다. 브래그 그레이팅(11)는 약 0.3mm이하의 3-dB 대역폭(32)을 가질 수 있다.
도 4는 도 3a 내지 도 3c에 개시된 레이저 광의 파장 가변 특성을 나타내는 그래프들이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, PLC 소자(10)는 굴절율이 폴리머 성분에 인가되는 전류에 따라 제 1 내지 제 3 반사율 피크들(51, 52, 53)이 주파수(파장)에 의존하여 순차적으로 변화될 수 있다(a). 제 1 패브리-페롯 모드(54)는 외부 공진 레이저 광의 공진 길이에 따라 간격이 변화될 수 있다. 예를 들어, 제 1 패브리-페롯 모드(54)는 약 10GHz(0.08nm)의 주파수(파장) 간격을 가질 수 있다(b). PLC 소자(10)는 제 1 및 제 2 반사율 피크들(51, 52) 내의 제 1 패브리-페롯 모드(54)에 대응되는 제 1 및 제 2 공진 주파수(파장)(55, 56)를 갖는 레이저 광을 발진할 수 있다(c). 제 1 및 제 2 반사율 피크들(51, 52)은 제 1 패브리-페롯 모드(54)에 중심 주파수가 일치되는 제 1 및 제 2 공진 주파수(파장)(55, 56)에 각각 대응될 수 있다. 반면, 제 3 반사율 피크(53)는 제 1 패브리-페롯 모드(54)에 중심 주파수가 일치되지 않기 때문에 제 3 및 제 4 공진 주파수(57, 58)에 배분될 수 있다. 제 3 및 제 4 공진 주파수(57, 58)를 갖는 레이저 광은 낮은 SMSR 특성을 가질 수 있다. 이때, 2-section SLD(1)의 이득 영역(1a)에 인가되는 전류의 제어에 의해 제 2 패브리-페롯 모드(59)로 생성되면서(d) 제 5 공진 주파수(70)의 레이저 광이 발진될 수 있다.
도 5는 도 4의 공진 주파수들로부터 획득되는 레이저광의 파장가변 특성을 나타내는 도면으로서, 본 발명의 실시예에 따른 파장가변 외부공진 레이저에서 발진되는 레이저 광은 약 1565nm에서 1530nm까지 100GHz(0.8nm) 간격으로 47channel을 가질 수 있다. 여기서, SMSR은 약 40dB이상으로 나타났다.
도 6a 및 도 6b는 변조부를 나타내는 도면으로서, 변조부(200)는 제 2 렌즈(14)와 제 3 렌즈(24) 사이에 EA 변조기(20) 하나로 구성되거나, 단일집적된 광 증폭기(21) 및 EA 변조기(20)로 구성될 때, 10Gbps 변조 특성을 가질 수 있다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제 1 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 결합 평면도 및 분리 평면도이다. 도 9는 도 7의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스(101)를 나타낸 평면도이다. 도 10은 도 9와 다른 종류의 TO 캔 패키지의 펌프 광 소스를 나타낸 측면도이다. 도 11은 도 7의 PLC 소자를 나타낸 사시도이다.
도 1 및 도 7 내지 도 11을 참조하면, 본 발명의 제 1 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저의 펌프 광 소스(101), 외부 공진부(110), 및 변조부(200)는 각기 레이저 웰딩 접합되는 제 1 내지 제 3 하우징(9, 19, 29)을 포함할 수 있다. 펌프 광 소스(101) 및 외부 공진부(110)는 레이저 발진부(100)가 될 수 있다. 펌프 광 소스(101)는 TO 캔 패키지를 포함할 수 있다. TO 캔 패키지는 펌프 광을 생성하는 2-section SLD(1), 제 1 써미스터(2), 제 1 리드 프레임(3), 광 검출기(6), 제 1 서브 마운터(7), 제 1 열전 냉각기(8)과, 제 1 하우징(9)을 포함할 수 있다. 제 1 써미스터(2) 및 제 1 열전 냉각기(8)는 2-section SLD(1)의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다. 제 1 리드 프레임(3)은 제 1 본딩 와이어(3a)에 의해 2-section SLD(1)와 제 1 써미스터(2)에 연결될 수 있다. TO 캔 패키지는 펌프 광의 진행 방향을 변경하는 거울(5)을 포함할 수 있다. 거울(5)은 펌프 광을 2-section SLD(1)에서 제 1 렌즈(4)까지 수직방향으로 변경할 수 있다. 거울(5)은 펌프 광을 약 90% 내지 95%정도로 반사시킬 수 있다.
제 1 하우징(9)은 패키지 프레임(9a)과, 패키지 캡(9b)을 포함할 수 있다. 패키지 프레임(9a)은 2-section SLD(1)와, 거울(5)과, 광 검출기(6)가 안착되는 제 1 서브 마운터(7)와, 제 1 열전 냉각기(8)를 고정하고, 제 1 리드 프레임(3)을 통과시킬 수 있다. 예를 들어, 제 1 리드 프레임(3)은 8개로 구성될 수 있다. 패키지 캡(9b)은 패키지 프레임(9a) 상에서 2-section SLD 소자(1)와, 거울(5)과, 광 검출기(6)를 둘러싸고, 제 1 렌즈(4)를 고정시킬 수 있다. 제 1 렌즈(4)는 펌프 광의 반사를 최소화하는 비구면 볼록 렌즈를 포함할 수 있다.
외부 공진부(110)는 펌프 광 소스(101)에서 제 1 렌즈(4)를 통해 공급되는 펌프 광으로부터 레이저 광을 발진시키는 PLC 소자(10)를 포함할 수 있다. PLC 소자(10)는 일정 간격의 브래그 그레이팅(11)이 형성된 폴리머 도파로(12)와, 폴리머 도파로(12)의 아래에 형성된 상부 및 하부 클래드(10b, 10c)와, 상부 및 하부 클래드(10b, 10c)의 위 또는 아래에 형성된 전극(17)을 포함할 수 있다. 폴리머 도파로(12)는 리지형 도파로 층(12a)의 아래에 형성될 수 있다. 상술한 바와 같이, PLC 소자(10)는 전극(17)에 인가되는 전류에 의해 발생된 열에 의해 폴리머 도파로(12)의 굴절율이 변화될 수 있다. PLC 소자(10)는 폴리머 도파로(12)의 굴절율 변화로부터 브래그 그레이팅(11)의 반사 피크가 변화됨에 따라 파장 가변 레이저 광을 발진시킬 수 있다.
PLC소자(10)는 제 2 써미스터(16) 및 제 2 열전 냉각기(18)에 의해 일정한 온도를 갖도록 설정될 수 있다. PLC소자(10)와 제 2 열전 냉각기(18) 사이에 실리콘 재질의 제 2 지지블록(10a)과, 제 2 서브 마운터(15)가 배치될 수 있다. 제 2 하우징(19)은 PLC 소자(10)를 둘러싸고, 상기 PLC 소자(10)와 접합되는 제 2 본딩 와이어(13a)에 연결된 제 2 리드 프레임(13)을 외부에서 내부에 통과시킬 수 있다. 제 2 하우징(19)은 일측으로 제 1 하우징(9)과 결합될 수 있다. 제 2 하우징(19)은 제 1 하우징(9)에 대향되는 타측으로 제 3 하우징(29)과 결합될 수 있다.
변조부(200)는 단일집적된 EA 변조기(20)와, 광 증폭기(21)을 포함할 수 있다. EA 변조기(20)과 광 증폭기(21)는 제 3 본딩 와이어(23a)에 연결될 수 있다. 제 3 하우징(29)은 광 증폭기(21)과, PLC 소자(10)사이의 제 2 렌즈(14)를 고정하고, EA 변조기(20)와 광섬유(25) 사이의 제 3 렌즈(24)를 고정할 수 있다. 제 3 하우징(29)은 제 3 리드 프레임(23)과 광섬유(25)를 통과시킬 수 있다. 제 3 리드 프레임(23)에 대향되는 타측의 제 3 하우징(29)으로 고주파 커넥터(60)가 연결될 수 있다. 고주파 커넥터(60)는 제 3 하우징(29)의 내부에서 외부로 연장되는 고주파 프레임(64)에 연결될 수 있다. 임피던스 매칭 저항(62)은 고주파 프레임(64)과 고주파 커넥터(60)사이에 연결될 수 있다.
도 12는 본 발명의 다른 응용예에 따른 파장가변 외부공진 레이저를 나타내는 평면도이다.
도 12를 참조하면, 파장가변 외부공진 레이저는 외부 공진부(110) 및 변조부(200)를 동시에 둘러싸는 제 4 하우징(39)을 포함할 수 있다. 제 4 하우징(39)는 제 1 하우징(9)과 결합될 수 있다. 제 4 하우징(39)은 제 1 응용예에서의 제 2 하우징(19) 및 제 3 하우징(29)가 결합된 것일 수 있다.
이상, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
1: SLD 2: 제 1 써미스터
3: 제 1 리드 프레임 4: 제 1 렌즈
5: 거울 6: 펌프 광 검출기
7: 제 1 서브 마운터 8: 제 1 열적 냉각기
9: 제 1 하우징 10: PLC 소자
11: 브래그 그레이팅 12: 광 도파로
13: 제 2 리드 프레임 14: 제 2 렌즈
15: 제 2 서브 마운터 16: 제 2 써미스터
17: 전극 18: 제 2 열적 냉각기
19: 제 2 하우징 20: EA 변조기
21: 광 증폭기 22a, 22b: 비반사 코팅막
23: 제 2 리드 프레임 24: 제 3 렌즈
25: 광섬유 60: 고주파 커넥터
62: 임피던스 매칭 저항 64: 고주파 리드 프레임
100: 레이저 발진부 101: 펌프광 소스
110: 외부 공진부 200: 변조부
3: 제 1 리드 프레임 4: 제 1 렌즈
5: 거울 6: 펌프 광 검출기
7: 제 1 서브 마운터 8: 제 1 열적 냉각기
9: 제 1 하우징 10: PLC 소자
11: 브래그 그레이팅 12: 광 도파로
13: 제 2 리드 프레임 14: 제 2 렌즈
15: 제 2 서브 마운터 16: 제 2 써미스터
17: 전극 18: 제 2 열적 냉각기
19: 제 2 하우징 20: EA 변조기
21: 광 증폭기 22a, 22b: 비반사 코팅막
23: 제 2 리드 프레임 24: 제 3 렌즈
25: 광섬유 60: 고주파 커넥터
62: 임피던스 매칭 저항 64: 고주파 리드 프레임
100: 레이저 발진부 101: 펌프광 소스
110: 외부 공진부 200: 변조부
Claims (16)
- 하우징;
상기 하우징 내에 형성된 평판형 광회로 소자;
상기 평판형 광회로 소자의 일측의 상기 하우징 내에 형성된 펌프 광 소스; 및
상기 펌프 광 소스에 대향되는 상기 평판형 광회로 소자의 타측의 상기 하우징 내에 형성된 변조부를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 1 항에 있어서,
상기 하우징은 상기 펌프 광 소스, 상기 평판형 광회로 소자, 및 상기 변조부를 각각 둘러싸는 제 1 내지 제 3 하우징을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 2 항에 있어서,
상기 변조부에 고주파 신호를 전달하고, 상기 제 3 하우징에 체결되는 고주파 커넥터를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 3 항에 있어서,
상기 고주파 커넥터에서 상기 제 3 하우징 내부의 상기 변조부에 연결되는 고주파 리드 프레임과, 상기 고주파 리드 프레임에 형성된 임피던스 매칭 저항을 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 4 항에 있어서,
상기 변조부는 이에이 변조기를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 5 항에 있어서,
상기 변조부는 상기 이에이 변조기에 단일집적되는 광증폭기를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 6 항에 있어서,
상기 광 증폭기는 상기 펌프 광 소스에서 상기 평판형 광회로 소자까지의 연장선에 수직인 입력단과, 상기 연장선에서 기울어진 출력단을 갖는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 6 항에 있어서,
상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 마주보는 양측 외곽에 형성된 비반사 코팅막들을 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 6 항에 있어서,
상기 변조부는 상기 광증폭기와 상기 이에이 변조기의 온도를 일정하게 유지하는 열전 냉각기와 써미스터를 더 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 2 항에 있어서,
상기 펌프 광 소스는 패키지 프레임에 형성된 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 구비한 티오캔 패키지를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 하우징은 상기 패키지 프레임과, 상기 패키지 프레임 상의 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드를 둘러싸는 패키지 캡을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 10 항에 있어서,
상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드는 이득 영역과, 미세 변조 영역을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 12 항에 있어서,
상기 이득 영역과 상기 미세 변조 영역은 5도 내지 15도로 기울어진 파장가변 외부공진 레이저. - 제 10 항에 있어서,
상기 티오캔 패키지는 상기 2-부분 수퍼루미네센스 다이오드에서 상기 평판형 광회로 소자까지 펌프 광의 진행 경로를 변경하는 거울을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 2 항에 있어서,
상기 평판형 광회로 소자는 브래그 그레이팅을 구비하는 폴리머 도파로를 포함하는 파장가변 외부공진 레이저. - 제 1 항에 있어서,
상기 하우징은 상기 펌프 광 소스를 둘러싸는 제 1 하우징과, 상기 평판형 광회로 소자 및 상기 변조부를 동시에 둘러싸는 제 4 하우징을 포함하는 파장가변 외부공진 레이저.
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