KR20120124603A - Polishing apparatus for strengthening glass panel - Google Patents

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KR20120124603A KR1020110042343A KR20110042343A KR20120124603A KR 20120124603 A KR20120124603 A KR 20120124603A KR 1020110042343 A KR1020110042343 A KR 1020110042343A KR 20110042343 A KR20110042343 A KR 20110042343A KR 20120124603 A KR20120124603 A KR 20120124603A
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Abstract

PURPOSE: A grinding apparatus for glass panel strengthening hardness is provided to smoothly grind the surface of a panel using a rotation moment by converting a grinding wheel supporting structure into a hinge shaft and rotation bearing structure. CONSTITUTION: A grinding wheel(10) polishes the edge of a glass panel(9). A spindle unit(14) provides a rotary shaft(12). The spindle unit provides a driving force to the rotary shaft. Other end unit of a mounting unit(16) is combined with a hinge shaft(18). Resistance which the grinding wheel receives from the edge or pressure for the edge of the grinding wheel is converted by the rotation moment of the mounting unit.

Description

글래스 패널 강성 강화용 연마장치{Polishing apparatus for strengthening glass panel}Polishing apparatus for strengthening glass panel

본 발명은 글래스 패널 강성 강화용 연마장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a polishing apparatus for glass panel rigidity reinforcement.

LCD(Liquid Crystal Display), LED(Light Emitting Diode) 디스플레이, 솔라셀(solar cell) 등의 제조 과정에서 글래스(glass) 패널을 가공하여 기재로 사용하고 있으며, 이를 위해 글래스 패널 등을 절단하고, 절단된 에지(edge) 부위를 연마하며, 연마 후 에지 부위를 검사하는 공정 등이 수행된다.Glass panels are used as substrates in the manufacturing process of liquid crystal displays (LCDs), light emitting diode (LED) displays, and solar cells, and for this purpose, glass panels are cut and cut. The polished edge portion is polished, and a process of inspecting the edge portion after polishing is performed.

종래에는, 글래스 패널을 연마하기 위해, 절단된 패널을 지지 테이블 상에 로딩(loading)하고 소정의 방향으로 테이블을 이동시켜 패널의 에지가 연마용 휠을 통과하도록 하거나, 로딩된 패널에 연마휠을 근접시켜 연마휠이 에지에 접촉하도록 함으로써 패널의 에지를 연마한 후, 테이블에 적재된 패널을 언로딩하는 공정을 수행하였다.Conventionally, in order to polish a glass panel, the cut panel is loaded on a support table and the table is moved in a predetermined direction so that the edge of the panel passes through the polishing wheel, or a polishing wheel is applied to the loaded panel. A process of grinding the edges of the panel by bringing the polishing wheel into contact with the edges in close proximity and then unloading the panel loaded on the table.

그러나, 종래의 패널 연마 공정에 있어서는, 글래스 패널의 절단면(에지)에 칩핑(chipping)이나 마이크로 크랙(micro crack) 등의 결함이 발생하였으며, 이는 글래스 패널의 강도를 저하시키는 요인으로 작용하였다.However, in the conventional panel polishing process, defects such as chipping and micro cracks are generated on the cut surface (edge) of the glass panel, which acts as a factor of lowering the strength of the glass panel.

따라서, 연마 공정 이후에 글래스 패널의 강성을 원래 수준으로 회복시키거나, 또는 그 이상으로 향상시키고자 하는 요청이 있으며, 이에 세륨옥사이드(CeO2) 재질의 연마휠로 에지를 폴리싱(polishing)하는 방법이 사용되었다. 그러나, 이 과정에서도 고속 회전하는 휠과의 접촉으로 인해 글래스 패널에 진동이 발생할 수 있으며, 이러한 진동은 칩핑이나 크랙을 더욱 성장시킬 가능성이 있다.Accordingly, there is a need to restore the stiffness of the glass panel to the original level after the polishing process, or to improve the stiffness to the original level, and a method of polishing the edge with a polishing wheel made of cerium oxide (CeO2) Respectively. However, even in this process, vibrations may occur in the glass panel due to contact with the wheel that rotates at high speed, and the vibration may further increase chipping or cracking.

또한, 종래의 강성 강화용 연마장치는, 도 1에 도시된 것처럼, 연마휠(1)을 지지하는 직선 베어링(2) 및 실린더 가압 구조(3)로 인하여 추가적인 문제가 야기될 수 있는데, 예를 들어, 연마휠을 에지에 접촉시켜 폴리싱을 수행하는 도중에 패널의 표면에 돌기 등이 돌출되어 있는 경우, 연마휠이 이에 반응하지 못하고 돌기와 충돌하여 손상되거나, 연마휠이 돌기에 의해 패널 표면으로부터 이격된 후에 다시 원래의 위치로 복귀하지 못하는 등, 연마휠 지지 구조의 한계로 인하여 연마휠이 패널의 표면 형상을 제대로 추종하지 못하고 손상되거나 오작동되는 문제가 있었다.In addition, the conventional rigid reinforcing polishing apparatus, as shown in Figure 1, may cause additional problems due to the linear bearing (2) and the cylinder pressing structure (3) for supporting the polishing wheel (1), for example For example, if projections or the like protrude on the surface of the panel while the polishing wheel is in contact with the edge while polishing, the polishing wheel does not react to it and collides with the projection and is damaged or the polishing wheel is spaced apart from the surface of the panel by the projection. Due to the limitation of the polishing wheel support structure, such as failing to return to the original position, there was a problem in that the polishing wheel could not properly follow the surface shape of the panel and was damaged or malfunctioned.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
The above-described background technology is technical information that the inventor holds for the derivation of the present invention or acquired in the process of deriving the present invention, and can not necessarily be a known technology disclosed to the general public prior to the filing of the present invention.

본 발명은, 글래스 패널의 에지를 폴리싱하여 강성을 강화하는 장치에 있어서, 패널의 표면 형상을 추종하면서 원활하게 폴리싱을 수행할 수 있는 연마휠 지지구조를 가지는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치를 제공하는 것이다.The present invention provides an apparatus for reinforcing glass panel rigidity, comprising: a device for reinforcing rigidity by polishing an edge of a glass panel, and having a polishing wheel support structure capable of smoothly polishing while following the surface shape of the panel. will be.

본 발명의 이외의 목적들은 하기의 설명을 통해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
Other objects of the present invention will be readily understood through the following description.

본 발명의 일 측면에 따르면, 글래스 패널의 강성을 강화시키기 위한 장치로서, 글래스 패널의 에지(edge)를 폴리싱(polishing)하는 연마휠과, 연마휠이 회전하도록 소정의 방향으로 연장된 회전축을 제공하며, 회전축에 구동력을 부여하는 스핀들(spindle)부와, 그 일단부가 스핀들부에 결합되며, 회전축의 연장 방향과 교차하는 방향으로 연장된 마운팅(mounting)부와, 마운팅부의 타단부가 결합되는 힌지축을 포함하되, 연마휠의 에지에 대한 가압력 또는 연마휠이 에지로부터 받는 저항력은, 힌지축을 중심으로 한 마운팅부의 회전 모멘트로 변환되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for reinforcing rigidity of a glass panel, comprising: a polishing wheel for polishing an edge of the glass panel; and a rotating shaft extending in a predetermined direction so that the polishing wheel rotates. And a spindle portion for imparting a driving force to the rotating shaft, one end thereof coupled to the spindle portion, a mounting portion extending in a direction crossing the extending direction of the rotating shaft, and a hinge coupled to the other end of the mounting portion. And a shaft, wherein the pressing force against the edge of the polishing wheel or the resistance applied by the polishing wheel from the edge is converted into a rotation moment of the mounting portion about the hinge axis.

연마휠은 그 연마 대상인 상기 글래스 패널의 강도를 향상시킬 수 있도록 세륨옥사이드(CeO2) 재질로 이루어질 수 있다. 마운팅부는 스핀들부에 직교하도록 결합될 수 있다. 힌지축은, 글래스 패널의 에지의 높이에 상응하는 높이에 구비될 수 있다. 힌지축에는 마운팅부의 회전에 대한 마찰력이 감소하도록 에어 베어링(air bearing)이 설치될 수 있다.The polishing wheel may be made of cerium oxide (CeO 2) material to improve the strength of the glass panel to be polished. The mounting portion may be coupled to be perpendicular to the spindle portion. The hinge axis may be provided at a height corresponding to the height of the edge of the glass panel. An air bearing may be installed on the hinge shaft to reduce frictional force against rotation of the mounting portion.

연마휠은 그 자중에 의해 에지를 가압하고, 연마휠의 자중에 의해 힌지축에는 일방향으로의 회전 모멘트가 생성되며, 에지의 형상으로 인하여 연마휠에는 그 가압력에 대향하는 저항력이 발생하고, 연마휠에 대한 저항력에 의해 힌지축에는 타방향으로의 회전 모멘트가 생성되며, 힌지축에 생성되는 회전 모멘트에 의해 마운팅부에는 일방향 또는 타방향으로 회전력이 작용할 수 있다.The polishing wheel presses the edge by its own weight, and the rotation moment in one direction is generated on the hinge axis by the weight of the polishing wheel, and the polishing wheel generates a resistance against the pressing force due to the shape of the edge. The rotational moment in the other direction is generated on the hinge axis by the resistance against the rotational force, and the rotational force may act on the mounting portion in one direction or the other direction by the rotational moment generated on the hinge axis.

에지에 돌출부가 존재하는 경우, 마운팅부는 타방향으로 회전하여 스핀들부 및 연마휠이 에지로부터 이격되는 방향으로 이동됨으로써, 연마휠은 에지의 표면의 굴곡에 추종하면서 폴리싱을 수행할 수 있다.If there is a protrusion at the edge, the mounting portion rotates in the other direction and is moved in a direction in which the spindle portion and the polishing wheel are separated from the edge, whereby the polishing wheel can perform polishing while following the bending of the surface of the edge.

마운팅부는, 일방향으로의 회전 모멘트가 타방향으로의 회전 모멘트 보다 커지도록 하는 위치에서 스핀들부에 결합됨으로써, 평상시에 연마휠이 에지에 접하도록 할 수 있다.The mounting portion may be coupled to the spindle portion at a position such that the rotation moment in one direction is greater than the rotation moment in the other direction, so that the polishing wheel is in contact with the edge at normal times.

스핀들부의 일단부에는 연마휠이 결합되고, 스핀들부의 중간에는 마운팅부가 결합되며, 스핀들부의 타단부에는, 일방향으로의 회전 모멘트가 타방향으로의 회전 모멘트 보다 소정의 기준치 이상으로 커지지 않도록 밸런스 웨이트(balance weight)가 설치될 수 있다.A grinding wheel is coupled to one end of the spindle portion, a mounting portion is coupled to the middle of the spindle portion, and a balance weight is coupled to the other end of the spindle portion so that the rotation moment in one direction is not larger than a predetermined reference value than the rotation moment in the other direction. weight) can be installed.

마운팅부에 일방향으로의 회전력이 작용하도록 마운팅부를 가압하는 가압 실린더를 더 포함할 수 있는데, 가압 실린더는 마운팅부에 결합되어, 가압 실린더의 정(+)방향으로의 작동에 의해 마운팅부에는 일방향으로의 회전력이 작용하고, 가압 실린더의 부(-)방향으로의 작동에 의해 마운팅부에는 타방향으로의 회전력이 작용할 수 있다.The mounting unit may further include a pressurizing cylinder for pressurizing the mounting unit so that the rotational force in one direction is applied to the mounting unit. Rotational force of the pressurizing cylinder acts in the negative direction of the pressurizing cylinder, and the rotational force in the other direction may act on the mounting portion.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 강성 강화용 연마휠 지지 구조를 종래의 직선 베어링 구조에서 힌지축 및 회전 베어링 구조로 변경함으로써, 가압 실린더에 복잡한 압력 제어 회로를 적용하지 않더라도, 중력에 의한 회전 모멘트를 이용하여, 연마휠이 패널 표면의 돌출물 등에 의해 불필요한 압력을 받지 않고, 패널 표면의 형상을 추종하면서 원활하게 폴리싱(polishing)을 수행할 수 있다는 효과가 있다.
According to a preferred embodiment of the present invention, by changing the rigidity-reinforced polishing wheel support structure from the conventional linear bearing structure to the hinge shaft and the rotating bearing structure, the rotation moment due to gravity, even without applying a complicated pressure control circuit to the pressure cylinder By using this, there is an effect that the polishing wheel can smoothly polish while following the shape of the panel surface without being subjected to unnecessary pressure by protrusions or the like of the panel surface.

도 1은 종래기술에 따른 강성 강화용 연마휠 지지구조를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 강성 강화용 연마장치를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 힌지축의 높이에 따른 연마휠의 이동 궤적을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 연마휠 지지구조를 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 연마휠의 작동 상태를 나타낸 도면.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 강성 강화용 연마장치를 나타낸 도면.1 is a view showing a structure for supporting a polishing wheel for rigidity according to the prior art;
2 is a view showing a stiffening polishing device according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing the movement trajectory of the polishing wheel according to the height of the hinge axis according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a polishing wheel support structure according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing an operating state of the polishing wheel according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a view showing a stiffening polishing device according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Referring to the accompanying drawings, the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals, .

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 강성 강화용 연마장치를 나타낸 도면이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 힌지축의 높이에 따른 연마휠의 이동 궤적을 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 연마휠 지지구조를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 연마휠의 작동 상태를 나타낸 도면이다. 도 2 내지 도 5를 참조하면, 글래스 패널(9), 연마휠(10), 회전축(12), 스핀들부(14), 마운팅부(16), 힌지축(18), 밸런스 웨이트(20), 가압 실린더(22)가 도시되어 있다.2 is a view showing a stiffening polishing device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing the movement trajectory of the polishing wheel according to the height of the hinge axis according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a present invention Figure 5 is a view showing a polishing wheel support structure according to the embodiment, Figure 5 is a view showing the operating state of the polishing wheel according to an embodiment of the present invention. 2 to 5, the glass panel 9, the polishing wheel 10, the rotating shaft 12, the spindle portion 14, the mounting portion 16, the hinge shaft 18, the balance weight 20, Pressing cylinder 22 is shown.

본 실시예는 소정 재질의 연마휠로 글래스 패널의 에지를 폴리싱(polishing)하여 글래스 패널의 강성을 강화하는 연마장치에 있어서, 연마휠이 결합된 스핀들부를 직선 베어링으로 지지하는 대신, 스핀들부에 직교하도록 마운팅부를 결합하고 마운팅부를 회전축에 힌지결합시킴으로써, 연마휠에 저항력이 작용하면 지렛대 원리에 의해 스핀들부가 회전운동하면서 저항점(예를 들면, 돌출물)으로부터 이격되도록 한 것을 특징으로 한다.The present embodiment is a polishing apparatus for polishing the edge of the glass panel with a polishing wheel of a predetermined material to strengthen the rigidity of the glass panel. By coupling the mounting portion and hinged mounting portion to the rotating shaft, when the resistive force acts on the grinding wheel is characterized in that the spindle is rotated from the resistance point (for example, protrusions) while rotating the spindle by the lever principle.

이와 같이 연마휠이 힌지축을 중심으로 회전하여 글래스 패널에 접촉/이격되는 방식으로 연마휠 지지구조를 구성함으로써, 글래스 패널에 대한 연마휠의 가압/이격을 제어하기 위해 복잡한 압력제어 회로를 구비할 필요가 없고, 연마휠이 저항점을 불필요하게 가압하지 않도록 할 수 있으며, 연마휠이 글래스 기판 표면의 굴곡을 추종하면서 원활하게 폴리싱이 이루어지도록 할 수 있다.As such, the polishing wheel support structure is constructed in such a manner that the polishing wheel rotates about the hinge axis to contact / space the glass panel, so that a complicated pressure control circuit is required to control the pressure / space of the polishing wheel against the glass panel. It is possible to prevent the polishing wheel from unnecessarily pressing the resistance point, and to allow the polishing wheel to smoothly polish while following the bending of the glass substrate surface.

본 실시예에 따른 글래스 패널 강성 강화용 연마장치는, 도 2에 도시된 것처럼, 연마휠(10)과, 연마휠(10)이 결합된 스핀들부(14)와, 스핀들부(14)에 교차하도록 결합된 마운팅부(16), 그리고 마운팅부(16)가 결합된 힌지축(18)을 포함하여 구성될 수 있다.In the polishing apparatus for glass panel rigidity strengthening according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, the polishing wheel 10, the spindle portion 14 to which the polishing wheel 10 is coupled, and the spindle portion 14 intersect with each other. And a hinge shaft 18 to which the mounting portion 16 is coupled, and to which the mounting portion 16 is coupled.

연마휠(10)은 글래스 패널(9)의 에지(도 2의 'E' 참조)에 접촉하여 에지를 폴리싱하는 구성요소로서, 세륨옥사이드(CeO2) 재질로 이루어질 수 있다. 세륨옥사이드 재질 외에도 폴리싱에 의해 글래스 패널(9)의 강도를 향상시킬 수 있는 다양한 재질의 연마휠이 사용될 수도 있음은 물론이다.The polishing wheel 10 is a component for polishing the edge by contacting the edge of the glass panel 9 (see 'E' in FIG. 2), and may be made of cerium oxide (CeO 2) material. In addition to the cerium oxide material, a polishing wheel of various materials may be used to improve the strength of the glass panel 9 by polishing.

스핀들부(14)는 스핀들 모터(spindle motor)와 회전축(12)을 포함하는 구성요소로서, 회전축(12)에는 연마휠(10)이 결합되어 스핀들 모터에 의한 구동력에 의해 연마휠(10)이 고속으로(예를 들면, 3,000rpm) 회전하게 된다. 회전축(12)은 소정의 방향(도 2의 'A' 참조)으로 연장되는데, 회전축(12)의 연장 방향은 연마휠(10)이 에지에 접하는 방향으로 설정된다. 예를 들어, 도 2에 도시된 것처럼, 연마휠(10)이 사선 방향으로 글래스 패널(9)의 에지에 접촉하여 폴리싱을 수행할 경우 회전축(12)은 그 사선 방향으로 설정되며, 본 실시예에 따른 스핀들부(14)는 회전축(12)이 설정된 방향으로 경사진 상태에서 회전할 수 있도록 연마장치에 설치, 결합된다.The spindle unit 14 is a component including a spindle motor and a rotating shaft 12. The grinding wheel 10 is coupled to the rotating shaft 12 so that the grinding wheel 10 is driven by a driving force by the spindle motor. It will rotate at high speed (eg 3000 rpm). The rotating shaft 12 extends in a predetermined direction (see 'A' in FIG. 2), and the extending direction of the rotating shaft 12 is set in a direction in which the polishing wheel 10 contacts the edge. For example, as shown in FIG. 2, when the polishing wheel 10 contacts the edge of the glass panel 9 in an oblique direction to perform polishing, the rotary shaft 12 is set in the oblique direction, and the present embodiment. Spindle portion 14 according to the installation is coupled to the polishing device so that the rotation shaft 12 can rotate in a state inclined in the set direction.

이처럼, 연마휠(10)이 글래스 패널(9)의 에지에 접하여 고속으로 회전하고 있는 상태에서 글래스 패널(9)을 소정의 속도(예를 들면, 50?200mm/sec)로 이동시킴으로써, 에지가 폴리싱되며 그 결과로 글래스 패널(9)의 강도가 향상되게 된다.As such, the edges are moved by moving the glass panel 9 at a predetermined speed (for example, 50 to 200 mm / sec) while the polishing wheel 10 rotates at a high speed in contact with the edge of the glass panel 9. It is polished and as a result the strength of the glass panel 9 is improved.

마운팅(mounting)부는 스핀들부(14) 및 그에 결합된 연마휠(10)이 소정 지점(후술하는 힌지축(18))을 중심으로 회전할 수 있도록 스핀들부(14)를 힌지축(18)에 연결하는 역할을 하는 구성요소이다. 즉, 마운팅부(16)의 일단부는 스핀들부(14)에 결합되고 타단부는 힌지축(18)에 결합될 수 있다.The mounting portion rotates the spindle portion 14 to the hinge shaft 18 so that the spindle portion 14 and the polishing wheel 10 coupled thereto may rotate about a predetermined point (the hinge shaft 18 described later). A component that is responsible for connecting. That is, one end of the mounting portion 16 may be coupled to the spindle portion 14 and the other end may be coupled to the hinge shaft 18.

마운팅부(16)는 스핀들부(14)와 힌지축(18)을 연결하는 가상의 직선의 방향(도 2의 'B' 참조)으로 연장되는데, 마운팅부(16)는 회전축(12)의 연장 방향과 교차하는 방향으로 연장될 수 있다. 예를 들면, 도 2에 도시된 것처럼, 마운팅부(16)의 연장 방향(B)이 회전축(12) 방향(A)과 직교하도록 마운팅부(16)는 스핀들부(14)에 결합될 수 있다.The mounting portion 16 extends in the direction of an imaginary straight line (see 'B' in FIG. 2) connecting the spindle portion 14 and the hinge shaft 18, the mounting portion 16 extending the rotation shaft 12. It may extend in a direction crossing the direction. For example, as shown in FIG. 2, the mounting portion 16 may be coupled to the spindle portion 14 such that the extending direction B of the mounting portion 16 is orthogonal to the direction A of the rotation axis 12. .

힌지축(18)은 연마장치에 구비되는 일종의 회전축으로서, 마운팅부(16)는 힌지축(18)에 결합되어 힌지축(18)을 중심으로 회전할 수 있다. 이로써, 본 실시예에 따른 연마휠(10) 및 스핀들부(14)는 마운팅부(16)를 매개체로 하여 힌지축(18)을 중심으로 소정의 원 궤적을 그리며 회전할 수 있다.The hinge shaft 18 is a kind of rotation shaft provided in the polishing apparatus, and the mounting portion 16 may be coupled to the hinge shaft 18 to rotate about the hinge shaft 18. Thus, the polishing wheel 10 and the spindle unit 14 according to the present embodiment may rotate by drawing a predetermined circle trajectory about the hinge axis 18 using the mounting unit 16 as a medium.

전술한 것처럼 강성 강화용 연마휠의 지지구조를 구성함으로써, 연마휠(10)이 에지에 접하여 폴리싱을 수행하기 위해 연마휠(10)을 에지에 가압하는 힘(가압력), 및 폴리싱 수행 도중 에지의 표면 상태에 따라 연마휠(10)이 에지로부터 이격되려고 하는 힘(저항력)은, 모두 힌지축(18)을 중심으로 한 마운팅부(16)의 회전 모멘트 형태로 변환될 수 있다.By constructing the supporting structure of the rigid reinforcing polishing wheel as described above, the force (pressing force) for pressing the polishing wheel 10 against the edge in order to perform polishing by the polishing wheel 10 in contact with the edge, and The force (resistance force) to which the polishing wheel 10 is to be spaced apart from the edge according to the surface state can all be converted into the form of the rotation moment of the mounting portion 16 about the hinge axis 18.

예를 들어, 폴리싱 수행을 위해 연마휠(10)을 에지에 가압하고자 하는 경우에는 마운팅부(16)의 일방향(도 2에서 반시계 방향) 회전 모멘트를 조절함으로써 연마휠(10)의 가압력을 조절할 수 있으며, 연마휠(10)이 에지로부터 저항력을 받는 경우에는 마운팅부(16)에 타방향(도 2에서 시계 방향)으로의 회전 모멘트가 발생하게 되는 것이다.For example, in order to press the polishing wheel 10 to the edge to perform polishing, the pressing force of the polishing wheel 10 is adjusted by adjusting the rotation moment in one direction (counterclockwise in FIG. 2) of the mounting portion 16. When the polishing wheel 10 receives resistance from the edge, the rotation moment in the other direction (clockwise in FIG. 2) is generated in the mounting portion 16.

이처럼, 본 실시예에 따른 연마휠 지지 구조(연마휠(10), 스핀들부(14), 마운팅부(16))는 마운팅부(16)의 회전에 의해 연마휠(10)이 에지에 가압/이격되는 구조이므로, 마운팅부(16)는 그 회전시 마찰력이 최소화되는 것이 좋다. 즉, 마운팅부(16)에 발생하는 회전 모멘트가 마찰력에 의한 손실 없이 그대로 연마휠(10)의 회전 운동으로 전달되어야 연마휠(10)이 원활하게 회동할 수 있으며, 발생된 회전 모멘트에 따른 연마휠(10)의 회동 응답성이 극대화될 수 있다.As such, the polishing wheel support structure according to the present embodiment (the polishing wheel 10, the spindle portion 14, the mounting portion 16) is pressed by the polishing wheel 10 to the edge by the rotation of the mounting portion 16 / Since the structure is spaced apart, the mounting portion 16 is preferably a frictional force is minimized during its rotation. That is, when the rotation moment generated in the mounting portion 16 is transmitted to the rotational movement of the polishing wheel 10 without loss due to frictional force, the polishing wheel 10 may rotate smoothly, and polishing according to the generated rotation moment The rotational response of the wheel 10 can be maximized.

이를 위해, 본 실시예에 따른 힌지축(18)에는 마운팅부(16)의 회전에 대한 마찰력을 최소화할 수 있도록 에어 베어링(air bearing)이 설치될 수 있다. 에어 베어링은 마찰력이 거의 0에 가깝기 때문에, 마운팅부(16)에 발생한 회전 모멘트는 거의 그대로 연마휠(10)의 회전 운동으로 전달될 수 있다.To this end, an air bearing may be installed in the hinge shaft 18 according to the present embodiment so as to minimize the frictional force with respect to the rotation of the mounting portion 16. Since the air bearing has a frictional force of nearly zero, the rotational moment generated in the mounting portion 16 can be transmitted to the rotary motion of the polishing wheel 10 as it is.

종래에는, 에지에 대한 연마휠의 가압/이격을 위해 스핀들부가 회전축의 연장 방향으로 이동할 수 있도록 스핀들부에 직선 베어링이 설치되었는데, 직선 베어링은 자체 마찰력으로 인하여 스핀들부가 제대로 움직이지 않거나, 한번 움직인 후에 정지 마찰력으로 인하여 다시 원래 위치로 복귀되지 않는다는 문제가 있었다.Conventionally, a linear bearing is installed in the spindle unit so that the spindle unit can move in the extension direction of the rotation axis for pressing / separating the polishing wheel against the edge. The linear bearing does not move properly or moves once due to its own frictional force. There was a problem that it does not return to its original position later due to the static frictional force.

즉, 종래의 연마휠 가압/이격 구조는 스핀들부(및 연마휠)의 전체 중량이 글래스 패널(9)에 가해지는 상황이므로, 에지 표면에 돌출부가 있는 경우 연마휠이 제대로 에지로부터 떨어져 올라가지 않거나, 돌출부에 의해 연마휠이 튀어서 올라간(이격된) 후에 직선 베어링의 정지 마찰력으로 인하여 연마휠이 (에지에 접하도록) 다시 내려오지 않는 문제가 있었다.That is, in the conventional polishing wheel pressurization / separation structure, since the total weight of the spindle portion (and the polishing wheel) is applied to the glass panel 9, when the edge surface has a protrusion, the polishing wheel does not properly rise from the edge, There was a problem that the polishing wheel does not come down again (to come in contact with the edge) due to the static frictional force of the linear bearing after the polishing wheel has been raised (spaced) by the protrusion.

이처럼, 연마휠이 제대로 움직이지 않을 경우 글래스 패널(9)과의 마찰로 인하여 세륨옥사이드(CeO2) 재질의 연마휠이 찢어지는 문제도 발생할 수 있다. 나아가, 직선 베어링의 마찰력으로 인한 문제를 해결하기 위해 스핀들부를 강제로 이동시키는 가압 실린더를 설치하더라도, 실린더의 가압 설계가 복잡하여 비용이 상승하고 고장의 원인이 될 수 있다는 한계가 있다.As such, when the polishing wheel does not move properly, the polishing wheel made of cerium oxide (CeO 2) may be torn due to friction with the glass panel 9. Furthermore, even if a pressurized cylinder forcibly moving the spindle unit is provided in order to solve the problem caused by the frictional force of the linear bearing, there is a limit that the pressurized design of the cylinder is complicated and the cost may increase and cause a failure.

또한, 종래의 직선 베어링 구조(예를 들면, 구름 베어링)는 실링(sealing) 처리가 어려워 연마(폴리싱) 과정에서 발생하는 흄(fume)이 끼어 베어링이 오작동할 우려도 있었다.In addition, the conventional linear bearing structure (for example, rolling bearing) is difficult to seal the sealing (fume) generated during the polishing (polishing) there was a fear that the bearing malfunctions.

이에 대해, 본 실시예에 따른 '힌지축(18)-에어 베어링(회전 베어링)' 구조는 마찰력을 최소화할 수 있고, 베어링의 실링 처리가 용이하여 흄에 의한 오작동 우려를 배제할 수 있으며, 따라서 간단하고 저렴하게 연마휠 지지 구조를 변경한 것만으로 연마휠이 원활하게 가압/이격 이동을 할 수 있고, 폴리싱 과정에서 연마휠이 찢어지거나 손상되는 문제를 방지할 수 있다.On the other hand, the 'hinge shaft 18-air bearing (rotary bearing)' structure according to the present embodiment can minimize the friction force, the sealing of the bearing is easy to eliminate the possibility of malfunction by the fume, so By simply and inexpensively changing the support structure of the polishing wheel, the polishing wheel can be smoothly pressed / separated, and the polishing wheel can be prevented from being torn or damaged during polishing.

한편, 본 실시예에 따른 힌지축(18)은 그 높이(도 3의 'H2' 참조)가, 도 3에 도시된 것처럼, 글래스 패널(9)의 에지의 높이(도 3의 'H1' 참조)와 같은 높이가 되도록 설치될 수 있다. 도 3은 힌지축(18)의 높이에 따른 연마휠(10)의 회전 궤적을 도시한 것으로, 힌지축(18)의 높이가 패널의 높이보다 높을 경우 연마휠(10)은 'C1'과 같은 궤적을 그리며 회전하고, 힌지축(18)의 높이가 패널의 높이와 같을 경우 연마휠(10)은 'C2'과 같은 궤적을 그리며 회전하며, 힌지축(18)의 높이가 패널의 높이보다 낮을 경우 연마휠(10)은 'C3'과 같은 궤적을 그리며 회전하게 된다.On the other hand, the hinge axis 18 according to the present embodiment has a height (see 'H2' in Fig. 3), as shown in Figure 3, the height of the edge of the glass panel 9 (see 'H1' in Fig. 3) It can be installed to be the same height). 3 shows a rotational trajectory of the polishing wheel 10 according to the height of the hinge shaft 18. When the height of the hinge shaft 18 is higher than the height of the panel, the polishing wheel 10 is equal to 'C1'. When rotating the trajectory, and the height of the hinge axis 18 is the same as the height of the panel, the polishing wheel 10 rotates drawing the same trajectory as 'C2', the height of the hinge axis 18 is lower than the height of the panel In this case, the polishing wheel 10 rotates while drawing the same trajectory as 'C3'.

연마휠(10)이 'C1'의 궤적으로 회전할 경우 연마휠(10)은 에지의 표면으로부터 떨어지는 방향(Cy) 뿐만 아니라, 에지의 표면을 스치는 방향(C1x)으로도 이동하게 되며, 연마휠(10)의 'C1x' 방향으로의 이동은 에지에 존재하는 돌출부와의 마찰을 야기할 수 있다. 연마휠(10)이 에지 표면의 돌출부와 만났을 때, 곧바로 떨어지지 않고 마찰을 일으키게 되면, 글래스 패널(9)에 진동이 가해질 수 있고 연마휠(10)이 손상될 우려가 있다.When the polishing wheel 10 rotates in the trajectory of 'C1', the polishing wheel 10 moves not only in the direction Cy falling from the surface of the edge, but also in the direction C1x of rubbing the surface of the edge. Movement in the 'C1x' direction of (10) may cause friction with protrusions present at the edges. When the polishing wheel 10 encounters the protrusion of the edge surface and causes friction without immediately falling off, the glass panel 9 may be vibrated and the polishing wheel 10 may be damaged.

이에 대해, 연마휠(10)이 'C2'의 궤적으로 회전할 경우 연마휠(10)은 에지의 표면으로부터 떨어지는 방향(Cy)으로만 이동하므로, 연마휠(10)이 에지 표면의 돌출부와 만났을 때, 에지의 돌출부와 마찰을 일으키지 않고 곧바로 떨어져, 연마휠(10)은 돌출부에 대해 즉각적인 응답성을 가지고, 즉 민감하게 반응하여 회동하게 된다.On the other hand, when the polishing wheel 10 rotates in the trajectory of 'C2', the polishing wheel 10 moves only in the direction Cy falling from the surface of the edge, so that the polishing wheel 10 meets the protrusion of the edge surface. At this time, the grinding wheel 10 is immediately responsive to the protrusion, i.e., sensitively rotated, without causing friction with the protrusion of the edge.

또는, 'C3'의 궤적으로 회전할 경우 연마휠(10)은 에지의 표면으로부터 떨어지는 방향(Cy) 및 돌출부로부터 멀어지는 방향(C3x)으로 이동하므로, 연마휠(10)이 에지 표면의 돌출부와 만났을 때, 돌출부와 마찰을 일으키지 않고 이격되어, 연마휠(10)이 'C1'의 궤적으로 회전하는 경우와는 달리 글래스 패널(9)의 진동이나 연마휠(10)의 손상 문제를 발생시키지 않을 수 있다.Alternatively, when rotating in the trajectory of 'C3', the polishing wheel 10 moves in the direction Cy away from the surface of the edge and the direction C3x away from the protrusion, so that the polishing wheel 10 meets the protrusion of the edge surface. When the polishing wheel 10 is spaced apart without causing friction with the protrusions, it may not cause vibration of the glass panel 9 or damage of the polishing wheel 10 unlike the case in which the polishing wheel 10 rotates with the trajectory of 'C1'. have.

따라서, 본 실시예에 따른 힌지축(18)은 에지의 높이와 같은 높이가 되도록(연마휠(10)이 도 3의 'C2'과 같은 궤적을 그리며 회전하도록) 설치되는 것이 좋으며, 경우에 따라서는 연마휠(10)이 글래스 패널(9)의 진동이나 연마휠(10)의 손상 문제를 야기시키지 않는 범위 내에서, 힌지축(18)이 에지의 높이보다 낮은 높이가 되도록(연마휠(10)이 도 3의 'C3'과 같은 궤적을 그리며 회전하도록) 설치될 수도 있다.Therefore, the hinge shaft 18 according to the present embodiment may be installed to be at the same height as the height of the edge (to allow the polishing wheel 10 to rotate while drawing a trajectory such as 'C2' in FIG. 3). The hinge shaft 18 is at a height lower than the height of the edge within the range in which the polishing wheel 10 does not cause vibration of the glass panel 9 or damage of the polishing wheel 10 (the polishing wheel 10 ) May be installed to rotate while drawing the same trajectory as 'C3' of FIG. 3).

본 실시예에 따른 연마휠(10)은 힌지축(18)을 중심으로 한 회전에 의해 에지에 가압/이격되는 구조로서, 스핀들부(14)와 마운팅부(16)의 결합 위치 및 스핀들부(14)의 중량 배분을 적절히 조절함으로써 연마휠(10)이 그 자중에 의해 에지를 가압하도록 할 수 있다.Polishing wheel 10 according to the present embodiment is a structure that is pressed / spaced at the edge by a rotation around the hinge axis 18, the spindle portion 14 and the mounting portion of the coupling portion 16 and the spindle portion ( By appropriately adjusting the weight distribution of 14, the polishing wheel 10 can be made to press the edge by its own weight.

한편, 강성 강화용 연마휠(10)은 글래스 기판의 에지를 그라인딩(grinding)하는 것이 아니라, 폴리싱을 통해 강도를 향상시키는 것이므로, 연마휠(10)의 글래스 기판에 대한 가압력은 그라인딩시와 같이 높을 필요는 없으며, 연마휠(10)이 에지에 접촉된 상태를 유지할 정도(예를 들면, 2kgf 미만)의 힘만 가해주면 되는 경우도 있다.On the other hand, since the stiffening reinforcing polishing wheel 10 does not grind the edge of the glass substrate, but improves the strength through polishing, the pressing force of the polishing wheel 10 against the glass substrate may be as high as when grinding. It is not necessary, and it may be necessary to apply only a force (for example, less than 2 kgf) to maintain the state that the polishing wheel 10 in contact with the edge.

본 실시예는, 마운팅부(16)에 결합된 스핀들부(14)(및 연마휠(10))의 중량에 의해 힌지축(18)에 회전 모멘트가 발생하여, 그로 인해 스핀들부(14)(및 연마휠(10))가 힌지축(18)을 중심으로 회전하는 구조이므로, 도 4에 도시된 것처럼, 힌지축(18)을 기준으로 연마휠(10)이 가압되는 방향(도 4에서 반시계 방향)으로 회전 모멘트(도 4의 'M1' 참조)가 발생하도록, 스핀들부(14)와 마운팅부(16)의 결합 위치 및 스핀들부(14)(및 연마휠(10))의 중량 배분을 조절함으로써, 연마휠(10)이 자중에 의해 에지를 가압하도록 할 수 있다.In this embodiment, the rotation moment is generated in the hinge shaft 18 by the weight of the spindle portion 14 (and the polishing wheel 10) coupled to the mounting portion 16, thereby causing the spindle portion 14 ( And since the polishing wheel 10 rotates about the hinge axis 18, as shown in Figure 4, the direction in which the polishing wheel 10 is pressed based on the hinge axis 18 (half in Figure 4) The rotational position of the spindle portion 14 and the mounting portion 16 and the weight distribution of the spindle portion 14 (and the polishing wheel 10) so that a rotational moment (see 'M1' in FIG. 4) occurs in a clockwise direction. By adjusting this, the polishing wheel 10 can be made to press the edge by its own weight.

예를 들어, 본 실시예에 따른 마운팅부(16)는, 일방향으로의 회전 모멘트(도 4의 'M1' 참조)가 타방향으로의 회전 모멘트(도 4의 'M2' 참조) 보다 약간 커지는 위치에서 스핀들부(14)에 결합되도록 함으로써, 평상시에는 마운팅부(16)가 일방향(도 4에서 반시계 방향)으로 회전하여 연마휠(10)이 자중에 의해 에지에 접촉되도록 할 수 있다.For example, the mounting portion 16 according to the present embodiment is a position in which the rotation moment in one direction (see 'M1' in FIG. 4) is slightly larger than the rotation moment in the other direction (see 'M2' in FIG. 4). By being coupled to the spindle portion 14 at, the mounting portion 16 may normally rotate in one direction (counterclockwise in FIG. 4) such that the polishing wheel 10 contacts the edge by its own weight.

연마휠(10)이 자중에 의해 에지를 가압하여 폴리싱을 수행하는 과정에서, 에지의 표면에 돌출부가 존재하는 경우, 연마휠(10)에는 가압력에 대향하는 저항력이 가해지고, 이 저항력으로 인하여 연마휠 지지 구조에는 에지로부터 이격되는 방향(도 4에서 시계 방향)으로의 회전 모멘트가 발생하게 된다.When the polishing wheel 10 presses the edge by its own weight to perform polishing, when a protrusion is present on the surface of the edge, the polishing wheel 10 is applied with a resistance against the pressing force, and the polishing force is applied due to the resistance. The wheel support structure generates a rotational moment in the direction away from the edge (clockwise in FIG. 4).

힌지축(18)에 발생한 회전 모멘트는, 마운팅부(16)에 대한 타방향(에지로부터 이격되는 방향)으로의 회전력으로 작용하고, 이에 따라 연마휠(10)이 에지로부터 멀어지는 방향으로 회전, 이동하게 된다.The rotation moment generated on the hinge shaft 18 acts as a rotational force in the other direction (the direction away from the edge) with respect to the mounting portion 16, thereby rotating and moving in the direction away from the edge of the polishing wheel 10 Done.

도 5에 도시된 것처럼, 평소에는 연마휠(10)이 자중에 의해 에지를 가압하여 폴리싱을 수행하다가, 에지에 돌출부(도 5의 'P' 참조)가 존재하는 경우 에지의 표면의 형상에 따라 원래 위치에서 이격되는 방향으로 이동하여 (돌출부 부분에 대한) 폴리싱을 수행하고, 돌출부가 지나간 후에는 다시 원래의 위치로 복귀하여 폴리싱을 수행하므로, 결과적으로 본 실시예에 따른 연마휠(10)은 에지의 표면의 형상(굴곡)에 추종하면서 폴리싱을 수행하게 된다.As shown in FIG. 5, the polishing wheel 10 normally presses the edge by its own weight to perform polishing, and according to the shape of the surface of the edge when a protrusion (see 'P' in FIG. 5) is present at the edge. Since the polishing is carried out by moving away from the original position (with respect to the protrusion), and after the protrusion has passed, the polishing wheel 10 according to the present embodiment returns to the original position and is polished. Polishing is performed while following the shape (bending) of the surface of the edge.

한편, 도 4에서 회전 모멘트 'M1'이 회전 모멘트 'M2' 보다 지나치게 커지게 되면, 연마휠(10)이 에지를 필요 이상으로 강하게 가압하게 되어, 글래스 패널(9)에 진동이 발생하거나 연마휠(10)에 손상이 가해질 수도 있는데, 이를 방지하기 위해 밸런스 웨이트(balance weight)(20)를 사용하여 회전 모멘트의 크기를 조절할 수 있다.On the other hand, when the rotation moment 'M1' in Fig. 4 becomes too large than the rotation moment 'M2', the polishing wheel 10 is forced to press the edge more strongly than necessary, the vibration generated in the glass panel 9 or the polishing wheel Damage may be applied to the 10, and in order to prevent this, a balance weight 20 may be used to adjust the size of the rotation moment.

즉, 마운팅부(16)를 기준으로 스핀들부(14)의 한 쪽(도 4에서 좌측)에 연마휠(10)이 결합되어 있을 때, 연마휠(10)이 결합된 쪽으로의 회전 모멘트가 지나치게 커지지 않도록 하기 위해, 마운팅부(16)가 스핀들부(14)에 결합되는 위치를 조절할 수도 있으나, 이와 별개로 또는 이와 병행하여, 스핀들부(14)의 다른 쪽(도 4에서 우측)에 밸런스 웨이트(20)를 설치함으로써, 양방향으로의 회전 모멘트가 평형을 이루도록 하거나, 일방향으로의 회전 모멘트가 타방향으로의 회전 모멘트 보다 지나치게 커지지 않도록 하는 등 회전 모멘트의 크기를 조절할 수 있다.That is, when the polishing wheel 10 is coupled to one side (the left side in FIG. 4) of the spindle portion 14 with respect to the mounting portion 16, the rotation moment toward the coupled polishing wheel 10 is excessive. In order not to become large, it is also possible to adjust the position at which the mounting portion 16 is coupled to the spindle portion 14, but separately or in parallel therewith, the balance weight on the other side (right side in FIG. 4) of the spindle portion 14. By providing 20, the magnitude of the rotation moment can be adjusted such that the rotation moment in both directions is balanced, or the rotation moment in one direction is not too large than the rotation moment in the other direction.

이를 위해, 양방향으로의 회전 모멘트의 차이에 대한 소정의 기준치를 미리 설정해 놓고, 회전 모멘트 차이가 설정된 기준치 이상으로 커지면 밸런스 웨이트(20)를 설치하여 회전 모멘트 차이가 기준치 이내가 되도록 할 수 있다.To this end, a predetermined reference value for the difference in the rotation moment in both directions is set in advance, and when the difference in the rotation moment becomes larger than the set reference value, the balance weight 20 may be installed so that the difference in the rotation moment is within the reference value.

전술한 것처럼, 강성 강화용 연마휠 지지 구조를 힌지축(18) 및 회전 베어링 구조로 변경함으로써, 별도의 복잡한 압력 제어 회로를 설치할 필요 없이, 중력에 의한 회전 모멘트를 적절하게 조절하여, 연마휠(10)이 글래스 패널(9) 표면의 형상을 추종하면서 원활하게 폴리싱을 수행하도록 할 수 있다.
As described above, by changing the rigidity-reinforced polishing wheel support structure to the hinge shaft 18 and the rotating bearing structure, it is possible to appropriately adjust the rotational moment due to gravity without installing a complicated pressure control circuit, thereby providing a polishing wheel ( 10) polishing can be performed smoothly while following the shape of the surface of the glass panel 9.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 강성 강화용 연마장치를 나타낸 도면이다. 도 6을 참조하면, 글래스 패널(9), 연마휠(10), 회전축(12), 스핀들부(14), 마운팅부(16), 힌지축(18), 가압 실린더(22')가 도시되어 있다.6 is a view showing a stiffening polishing device according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6, a glass panel 9, a polishing wheel 10, a rotating shaft 12, a spindle portion 14, a mounting portion 16, a hinge shaft 18, and a pressurized cylinder 22 ′ are shown. have.

한편, 전술한 실시예에서 밸런스 웨이트(20)를 설치하는 것과 같은 맥락에서, 회전 모멘트 'M1'이 회전 모멘트 'M2' 보다 충분히 크지 않으면, 연마휠(10)이 에지를 충분히 가압하지 못해 폴리싱이 제대로 수행되지 않을 수 있는데, 이에 대한 대책으로서 (마운팅부(16)가 스핀들부(14)에 결합되는 위치를 조절하는 것과 별개로 또는 이와 병행하여) 가압 실린더(22)를 설치하여 회전 모멘트의 크기를 조절할 수 있다.On the other hand, in the same context as the installation of the balance weight 20 in the above-described embodiment, if the rotation moment 'M1' is not sufficiently larger than the rotation moment 'M2', the polishing wheel 10 does not press the edges sufficiently to prevent polishing. As a countermeasure against this, the pressure of the rotation moment is provided by installing the pressure cylinder 22 (apart from or in parallel with adjusting the position at which the mounting portion 16 is coupled to the spindle portion 14). Can be adjusted.

즉, 도 2에 도시된 것처럼, 본 실시예에 따른 연마장치에는 가압 실린더(22)가 더 설치될 수 있는데, 가압 실린더(22)는 마운팅부(16)를 가압하여 마운팅부(16)에 일방향(도 2에서 반시계 방향)으로 회전력이 작용하도록 할 수 있다. 이에 따라, 연마휠(10)이 글래스 패널(9)의 에지를 가압하는 힘(가압력)을 조절할 수 있다.That is, as shown in Figure 2, the polishing apparatus according to the present embodiment may be further provided with a pressurized cylinder 22, the pressurized cylinder 22 presses the mounting portion 16 in one direction to the mounting portion 16 Rotation force can be applied (counterclockwise in FIG. 2). Thereby, the force (pressure force) which the grinding wheel 10 presses the edge of the glass panel 9 can be adjusted.

나아가, 도 6에 도시된 것처럼 가압 실린더(22')를 마운팅부(16)에 결합하여, 가압 실린더(22')가 마운팅부(16)를 가압할 뿐만 아니라 마운팅부(16)를 잡아 당기도록 할 수도 있으며, 이에 따라 가압 실린더(22')는 일방향으로의 회전 모멘트 및 타방향으로의 회전 모멘트의 크기를 모두 제어하는 역할을 할 수 있다.Furthermore, as shown in FIG. 6, the pressure cylinder 22 ′ is coupled to the mounting portion 16 such that the pressure cylinder 22 ′ not only presses the mounting portion 16 but also pulls the mounting portion 16. In this way, the pressure cylinder 22 ′ may serve to control both the magnitude of the rotation moment in one direction and the rotation moment in the other direction.

도 6에 도시된 가압 실린더(22')의 경우, 가압 실린더(22')가 정(+)방향(마운팅부(16)를 미는 방향)으로 작동함에 따라 마운팅부(16)에는 일방향(도 6에서 반시계 방향)으로 회전력이 작용하고, 가압 실린더(22')가 부(-)방향(마운팅부(16)를 당기는 방향)으로 작동함에 따라 마운팅부(16)에는 타방향(도 6에서 시계 방향)으로 회전력이 작용하게 된다.In the case of the pressure cylinder 22 'shown in FIG. 6, the pressure cylinder 22' operates in the positive (+) direction (the direction in which the mounting portion 16 is pushed), so that the mounting portion 16 has one direction (FIG. 6). In the counterclockwise direction) and the pressure cylinder 22 'operates in the negative (-) direction (the direction in which the mounting portion 16 is pulled), so that the mounting portion 16 has the other direction (clockwise in FIG. 6). Direction), the rotational force is applied.

이처럼, 연마휠(10) 등의 자중에 의한 회전 모멘트를 이용하여 연마휠(10)이 에지를 가압하고 에지에 돌출부가 존재하더라도 연마휠(10)이 에지의 표면 형상을 추종하여 폴리싱을 수행하도록 한 연마장치에, 마운팅부(16)를 가압/인출할 수 있는 가압 실린더(22')(및 이를 작동시키기 위한 단순한 압력 제어 회로)를 더 설치함으로써, 폴리싱 과정에서 연마휠(10)이 에지의 표면 상태에 보다 민감하여 반응하여 가압/이격 회동을 하도록 할 수 있다.
As such, even when the polishing wheel 10 presses the edge by using the rotational moment due to the weight of the polishing wheel 10 and the like, and the protrusion is present at the edge, the polishing wheel 10 follows the surface shape of the edge to perform polishing. In one polishing apparatus, by further installing a pressurizing cylinder 22 '(and a simple pressure control circuit for operating the same) capable of pressing / drawing the mounting portion 16, the polishing wheel 10 is driven by the edge of the edge during polishing. It is more sensitive to surface condition and can react to make pressurization / spaced rotation.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It will be understood that the invention may be varied and varied without departing from the scope of the invention.

9 : 글래스 패널 10 : 연마휠
12 : 회전축 14 : 스핀들부
16 : 마운팅부 18 : 힌지축
20 : 밸런스 웨이트 22, 22' : 가압 실린더9 Glass Panel 10 Polishing Wheel
12: shaft 14: spindle portion
16: mounting portion 18: hinge axis
20: Balance weight 22, 22 ': Pressurized cylinder

Claims (11)

글래스 패널의 강성을 강화시키기 위한 장치로서,
상기 글래스 패널의 에지(edge)를 폴리싱(polishing)하는 연마휠과;
상기 연마휠이 회전하도록 소정의 방향으로 연장된 회전축을 제공하며, 상기 회전축에 구동력을 부여하는 스핀들(spindle)부와;
그 일단부가 상기 스핀들부에 결합되며, 상기 회전축의 연장 방향과 교차하는 방향으로 연장된 마운팅(mounting)부와;
상기 마운팅부의 타단부가 결합되는 힌지축을 포함하되,
상기 연마휠의 상기 에지에 대한 가압력 또는 상기 연마휠이 상기 에지로부터 받는 저항력은, 상기 힌지축을 중심으로 한 상기 마운팅부의 회전 모멘트로 변환되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
As a device for enhancing the rigidity of the glass panel,
An abrasive wheel for polishing an edge of the glass panel;
A spindle unit providing a rotation shaft extending in a predetermined direction so that the polishing wheel rotates, and applying a driving force to the rotation shaft;
A mounting portion having one end coupled to the spindle portion and extending in a direction intersecting an extension direction of the rotation shaft;
It includes a hinge shaft coupled to the other end of the mounting portion,
And a pressing force on the edge of the polishing wheel or a resistance force received by the polishing wheel from the edge is converted into a rotation moment of the mounting portion about the hinge axis.
제1항에 있어서,
상기 연마휠은 그 연마 대상인 상기 글래스 패널의 강도를 향상시킬 수 있도록 세륨옥사이드(CeO2) 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method of claim 1,
And the polishing wheel is made of cerium oxide (CeO 2) material so as to improve the strength of the glass panel as the polishing target.
제1항에 있어서,
상기 마운팅부는 상기 스핀들부에 직교하도록 결합되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method of claim 1,
And the mounting part is coupled to be perpendicular to the spindle part.
제1항에 있어서,
상기 힌지축은, 상기 글래스 패널의 에지의 높이에 상응하는 높이에 구비되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method of claim 1,
The hinge axis, the glass panel rigidity polishing apparatus, characterized in that provided at a height corresponding to the height of the edge of the glass panel.
제1항에 있어서,
상기 힌지축에는 상기 마운팅부의 회전에 대한 마찰력이 감소하도록 에어 베어링(air bearing)이 설치되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method of claim 1,
The hinge shaft is provided with an air bearing (air bearing) to reduce the frictional force for the rotation of the mounting portion, the glass panel rigidity polishing apparatus.
제1항에 있어서,
상기 연마휠은 그 자중에 의해 상기 에지를 가압하고, 상기 연마휠의 자중에 의해 상기 힌지축에는 일방향으로의 회전 모멘트가 생성되며,
상기 에지의 형상으로 인하여 상기 연마휠에는 그 가압력에 대향하는 저항력이 발생하고, 상기 연마휠에 대한 저항력에 의해 상기 힌지축에는 타방향으로의 회전 모멘트가 생성되며,
상기 힌지축에 생성되는 회전 모멘트에 의해 상기 마운팅부에는 일방향 또는 타방향으로 회전력이 작용하는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method of claim 1,
The polishing wheel presses the edge by its own weight, and a rotation moment in one direction is generated on the hinge axis by the own weight of the polishing wheel.
Due to the shape of the edge, the polishing wheel generates a resistance force that opposes the pressing force, and the resistance to the polishing wheel generates a rotation moment in the other direction on the hinge axis.
And a rotational force acting on the mounting part in one direction or the other direction by a rotation moment generated at the hinge shaft.
제6항에 있어서,
상기 에지에 돌출부가 존재하는 경우, 상기 마운팅부는 타방향으로 회전하여 상기 스핀들부 및 상기 연마휠이 상기 에지로부터 이격되는 방향으로 이동됨으로써, 상기 연마휠은 상기 에지의 표면의 굴곡에 추종하면서 폴리싱을 수행하는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method according to claim 6,
When there is a protrusion at the edge, the mounting portion rotates in the other direction and is moved in a direction in which the spindle portion and the polishing wheel are spaced apart from the edge, so that the polishing wheel follows polishing while keeping track of the surface of the edge. Polishing apparatus for glass panel rigidity strengthening, characterized in that performed.
제6항에 있어서,
상기 마운팅부는, 일방향으로의 회전 모멘트가 타방향으로의 회전 모멘트 보다 커지도록 하는 위치에서 상기 스핀들부에 결합됨으로써, 평상시에 상기 연마휠이 상기 에지에 접하도록 한 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method according to claim 6,
The mounting part is coupled to the spindle part at a position such that the rotation moment in one direction is greater than the rotation moment in the other direction, so that the polishing wheel is in contact with the edges in a normal manner. Polishing device.
제8항에 있어서,
상기 스핀들부의 일단부에는 상기 연마휠이 결합되고, 상기 스핀들부의 중간에는 상기 마운팅부가 결합되며,
상기 스핀들부의 타단부에는, 일방향으로의 회전 모멘트가 타방향으로의 회전 모멘트 보다 소정의 기준치 이상으로 커지지 않도록 밸런스 웨이트(balance weight)가 설치되는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
9. The method of claim 8,
The polishing wheel is coupled to one end of the spindle portion, and the mounting portion is coupled to the middle of the spindle portion.
A balance weight is provided on the other end of the spindle portion such that a balance weight is provided so that a rotation moment in one direction does not become larger than a predetermined reference value than a rotation moment in the other direction.
제6항에 있어서,
상기 마운팅부에 일방향으로의 회전력이 작용하도록 상기 마운팅부를 가압하는 가압 실린더를 더 포함하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.
The method according to claim 6,
And a pressurizing cylinder pressurizing the mounting portion such that a rotational force in one direction acts on the mounting portion.
제10항에 있어서,
상기 가압 실린더는 상기 마운팅부에 결합되어, 상기 가압 실린더의 정(+)방향으로의 작동에 의해 상기 마운팅부에는 일방향으로의 회전력이 작용하고, 상기 가압 실린더의 부(-)방향으로의 작동에 의해 상기 마운팅부에는 타방향으로의 회전력이 작용하는 것을 특징으로 하는 글래스 패널 강성 강화용 연마장치.The method of claim 10,
The pressurized cylinder is coupled to the mounting part, and a rotational force in one direction acts on the mounting part by operation in the positive (+) direction of the pressurized cylinder, and acts in the negative (-) direction of the pressurized cylinder. By virtue of the rotational force in the other direction acts on the mounting portion, glass panel rigidity reinforcing polishing device.
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