KR20120123193A - Apparatus and method for manufacturing sheet-like device - Google Patents

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KR20120123193A
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후미노리 다카미
도시히코 와다
아키히사 야마다
요시후미 다카스
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파나소닉 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A sheet-shaped device and a manufacturing apparatus for the same are provided to prevent the un-transferring and the fault of patterns. CONSTITUTION: A manufacturing apparatus for a sheet-shaped device comprises a mold(4), an elastic body(9), a press device(2), and a curing device(6). Patterns are formed on the mold. The elastic body is arranged oppositely to the mold. A workpiece is inserted between the mold and the elastic body and a press device presses the pattern forming surface on resin. The curing device hardens the resin on the workpiece. The surface of the elastic body is curved surface protruding toward the mold.

Description

시트형상 디바이스의 제조 장치, 시트형상 디바이스의 제조 방법{APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SHEET-LIKE DEVICE}A manufacturing apparatus of a sheet-like device, the manufacturing method of a sheet-like device {APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SHEET-LIKE DEVICE}

본 발명은, 몰드(틀)에 형성된 패턴을 기재 상의 수지에 전사하기 위한 시트형상 디바이스의 제조 장치 및 시트형상 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다. This invention relates to the manufacturing apparatus of a sheet-like device, and the manufacturing method of a sheet-like device for transferring the pattern formed in the mold (frame) to resin on a base material.

미세한 요철 형상(미크론 레벨에서 나노 레벨의 요철 형상)의 패턴을 가지는 시트형상 디바이스를 형성하기 위한 미세 가공 기술로서 임프린트가 있다. 임프린트에는, 열방식과 광방식의 2종류의 방식이 있다. 광방식의 임프린트는, 염가로 미세 구조를 작성할 수 있다. 그 때문에, 광방식의 임프린트는, 다방면에서 실용화를 위한 대응이 진행되고 있다. There is an imprint as a microfabrication technique for forming a sheet-like device having a pattern of a fine concavo-convex shape (a nano-level concave-convex shape at the micron level). There are two types of imprints: thermal and optical. The optical imprint can produce a fine structure at low cost. For this reason, the correspondence for the practical use of the optical system imprint is progressing in many aspects.

임프린트에서는, 미세 패턴이 가공된 몰드(틀)가 이용된다. 열방식의 임프린트는, 기재 상의 열강화성의 수지에, 몰드에 형성되어 있는 미세 패턴을 누른 후, 그 미세 패턴이 눌려진 상태의 열강화성의 수지에 열을 주어, 그 수지를 경화시킴으로써, 미세 패턴을 수지에 전사하는 기술이다. 광방식의 임프린트는, 기재 상의 광경화성의 수지에, 몰드에 형성되어 있는 미세 패턴을 누른 후, 그 미세 패턴이 눌려진 상태의 광경화성의 수지에 광을 조사하여, 그 수지를 경화시킴으로써, 미세 패턴을 수지에 전사하는 기술이다. 광방식의 임프린트에는, 주로 UV(자외선) 경화성의 수지가 이용된다. In imprint, a mold (frame) in which a fine pattern is processed is used. The thermal imprint presses the fine pattern formed on the mold to the thermosetting resin on the substrate, and then heats the thermosetting resin in a state in which the fine pattern is pressed to cure the resin. It is a technique of transferring to a resin. Optical imprint presses the micropattern formed in the mold to photocurable resin on a base material, and then irradiates light to photocurable resin of the state in which the micropattern was pressed, and hardens the resin. Is a technique of transferring a resin to a resin. UV (ultraviolet) curable resin is mainly used for the imprint of a light system.

이러한 임프린트의 기술에 의해, 기재 상의 수지에 패턴을 전사함으로써, 패턴이 임프린트된 시트형상 디바이스를 작성할 수 있다. By the technique of such imprint, the sheet-like device imprinted with the pattern can be created by transferring the pattern to the resin on the substrate.

그러나, 임프린트에서는, 몰드와 기재 상의 수지가 밀착할 때에, 몰드와 수지 사이에 기체가 봉입되기 쉽다. 몰드와 수지 사이에 봉입된 기체가 잔류하면, 패턴 미전사부 또는 패턴형상 불량부가 수지에 발생한다. 패턴 미전사부는, 패턴이 전사되어 있지 않은 부분이다. 패턴형상 불량부는, 패턴의 형상이 원하는 형상이 되지 않은 부분이다. However, in imprint, when the mold and the resin on the substrate are in close contact with each other, a gas is likely to be sealed between the mold and the resin. When the gas enclosed between a mold and resin remains, a pattern non-transfer part or a pattern shape defect part will generate | occur | produce in resin. The pattern non-transfer portion is a portion where the pattern is not transferred. A pattern shape defect part is a part in which the shape of a pattern does not become a desired shape.

이러한 기체 봉입에 기인하는 패턴의 미전사 및 패턴의 형상 불량을 막는 것을 목적으로 하여, 챔버를 이용한 임프린트가, 예를 들면 JP2007-194304A에서 제안되고 있다. 도 8은, JP2007-194304A에서 개시된 종래의 임프린트 장치를 나타낸 도이다. For the purpose of preventing the untransfer of the pattern and the shape defect of the pattern resulting from such gas encapsulation, an imprint using a chamber has been proposed, for example, in JP2007-194304A. 8 is a diagram showing a conventional imprint apparatus disclosed in JP2007-194304A.

도 8에 나타낸 임프린트 장치를 이용하면, 감압한 임프린트 챔버(101) 내에서 임프린트를 행할 수 있다. 이것에 의해, 도 8에 나타낸 임프린트 장치는, 잔류 기포의 발생을 막아, 기체 봉입을 경감시키는 것이 가능해진다. 또한, 도 8에 나타낸 임프린트 장치에 의하면, 금형(106)의 상측(금형(106)의, 패턴이 형성되어 있지 않은 이면측)에 설치된 보조 챔버(108) 내의 압력을 조정함으로써, 금형(106)의 변형(strain)의 제어가 가능해진다. 이하, 도 8에 나타낸 임프린트 장치를 설명한다. If the imprint apparatus shown in FIG. 8 is used, imprint can be performed in the reduced pressure imprint chamber 101. Thereby, the imprint apparatus shown in FIG. 8 can prevent generation | occurrence | production of a residual bubble, and can reduce gas encapsulation. Moreover, according to the imprint apparatus shown in FIG. 8, the metal mold | die 106 is adjusted by adjusting the pressure in the auxiliary chamber 108 provided in the upper side of the metal mold 106 (the back side of the metal mold 106 in which the pattern is not formed). The strain can be controlled. Hereinafter, the imprint apparatus shown in FIG. 8 is demonstrated.

도 8에 나타낸 임프린트 장치에서는, 임프린트 챔버(101)의 상부에 금형(106)이 설치되어 있다. 그 금형(106)의 상측(금형(106)의, 패턴이 형성되어 있지 않은 이면측)에 보조 챔버(8)가 설치되어 있다. 또, 임프린트 챔버(101)와 보조 챔버(108)가, 배관(111)을 통해서 진공 펌프(115)에 연결되어 있다. 임프린트 챔버(101)와 진공 펌프(115) 사이에는, 밸브(113)가 설치되어 있다. 보조 챔버(108)와 진공 펌프(115) 사이에는, 밸브(114)가 설치되어 있다. 또한, 임프린트 챔버(101)와 보조 챔버(108)는, 배관(111)을 통해 연결되어 있다. 임프린트 챔버(101)와 보조 챔버(108) 사이에는, 밸브(112)가 설치되어 있다. In the imprint apparatus shown in FIG. 8, the metal mold 106 is provided on the upper portion of the imprint chamber 101. An auxiliary chamber 8 is provided on the upper side of the mold 106 (the back side of the mold 106 on which the pattern is not formed). In addition, the imprint chamber 101 and the auxiliary chamber 108 are connected to the vacuum pump 115 via a pipe 111. A valve 113 is provided between the imprint chamber 101 and the vacuum pump 115. A valve 114 is provided between the auxiliary chamber 108 and the vacuum pump 115. In addition, the imprint chamber 101 and the auxiliary chamber 108 are connected via the piping 111. The valve 112 is provided between the imprint chamber 101 and the auxiliary chamber 108.

이와 같이 구성된 임프린트 장치는, 다음과 같이 동작한다. 즉, 광경화성의 피전사체(105)가 도포된 기판(104)이 임프린트 챔버(101) 내에 도입된 후에, 임프린트 장치는, 우선, 밸브(112~114)를 열어 임프린트 챔버(101)와 보조 챔버(108)를 배기한다. 다음에, 임프린트 장치는, 이동 기구(102)에 의해 기판(104)을 금형(106)을 향해 상승시켜, 피전사체(105)를 금형(106)의 패턴에 접촉시킨다. 다음에, 임프린트 장치는, 밸브(112)와 밸브(113)를 닫고 나서, 진공 펌프(115)를 정지시켜 보조 챔버(108)를 대기압으로 되돌린다. 이것에 의해, 피전사체(105)가 금형(106)의 패턴에 밀착된다. 그 후, 임프린트 장치는, 보조 챔버(108)의 상부에 설치된 투광부(109)와, 투광성의 금형(106)을 통해, 보조 챔버(108)의 상측에 설치된 광원(110)으로부터 피전사체(105)에 광을 조사한다. 이것에 의해, 피전사체(105)가 경화된다. The imprint apparatus configured as described above operates as follows. That is, after the substrate 104 coated with the photocurable transfer member 105 is introduced into the imprint chamber 101, the imprint apparatus first opens the valves 112 to 114, and then the imprint chamber 101 and the auxiliary chamber. Exhaust 108. Next, the imprint apparatus raises the board | substrate 104 toward the metal mold | die 106 by the moving mechanism 102, and makes the to-be-transferred body 105 contact the pattern of the metal mold 106. Next, as shown in FIG. Next, the imprint apparatus closes the valve 112 and the valve 113, and then stops the vacuum pump 115 to return the auxiliary chamber 108 to atmospheric pressure. Thereby, the to-be-transferred body 105 adheres to the pattern of the metal mold 106. Thereafter, the imprint apparatus transfers the object 105 from the light source 110 provided above the auxiliary chamber 108 via the light transmitting portion 109 provided above the auxiliary chamber 108 and the light-transmitting mold 106. Irradiate light). Thereby, the to-be-transferred body 105 hardens.

이와 같이, 도 8에 나타낸 임프린트 장치를 이용하면, 진공 상태에서 임프린트를 행할 수 있다. 따라서, 종래의 임프린트 장치는, 기체의 잔류에 기인하는 패턴의 미전사 및 패턴의 형상 불량을 막을 수 있다. 또한, 임프린트 챔버(101) 내의 압력에 맞추어 보조 챔버(108) 내의 압력을 임의로 조정함으로써, 금형(106)의 변형을 피하는 것이 가능해진다. Thus, using the imprint apparatus shown in FIG. 8, imprinting can be performed in a vacuum state. Therefore, the conventional imprint apparatus can prevent the untransfer of the pattern and the shape defect of the pattern resulting from the residual of a base. In addition, by arbitrarily adjusting the pressure in the auxiliary chamber 108 in accordance with the pressure in the imprint chamber 101, it is possible to avoid deformation of the mold 106.

이상 설명한 바와 같이, 챔버 내에서 임프린트를 행할 수 있으며, 또한, 금형의 변형 제어를 행할 수 있는 임프린트 장치가 제안되고 있다. 그러나, 이 임프린트 장치는, 몰드(틀)의 상측과 하측에 챔버가 각각 설치되어, 하측의 챔버에 삽입된 기재에 도포되어 있는 수지를, 몰드에 형성되어 있는 패턴에 밀착시키는 구성이다. 그 때문에, 이 임프린트 장치는, 시트형상 디바이스(미세 패턴이 전사되는 디바이스)의 대면적화가 요구된 경우에, 몰드를 크게 할 필요가 있어, 장치가 대형화된다. 또, 몰드가 커지면, 몰드의 변형의 제어는 곤란하게 된다. 그 때문에, 몰드와 기재의 평면 성상의 오차에 기인하여, 몰드와 수지가 미접촉 또는 미밀착이 되는 미접촉부(미밀착부)가 발생하기 쉽다. 그 결과, 몰드와 수지의 미접촉부(미밀착부)에 기인하는 패턴의 미전사 또는 패턴의 형상 불량이 발생하기 쉽다. 이 패턴의 미전사와 패턴의 형상 불량의 문제는, 패턴이 미세할 수록 현저하게 발생한다. As described above, an imprint apparatus capable of imprinting in a chamber and capable of performing deformation control of a mold has been proposed. However, this imprint apparatus is a structure in which the chambers are respectively provided above and below the mold (frame), and the resin applied to the base material inserted in the lower chamber adheres to the pattern formed in the mold. Therefore, in the case where a large area of the sheet-shaped device (device to which the fine pattern is transferred) is required, the imprint apparatus needs to enlarge the mold, and the apparatus is enlarged. In addition, when the mold becomes large, control of deformation of the mold becomes difficult. Therefore, due to the error in the planar properties of the mold and the base material, the non-contact portion (non-adherence portion) where the mold and the resin are in non-contact or non-adherence is likely to occur. As a result, the non-transfer of a pattern resulting from the non-contact part (non-contact part) of mold and resin, or the shape defect of a pattern tends to arise. The problem of untransfer of this pattern and the shape defect of a pattern arises remarkably as the pattern becomes finer.

본 발명은, 패턴의 미전사나 패턴의 형상 불량 등의 문제가 일어나기 어려운 시트형상 디바이스의 제조 장치 및 시트형상 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of this invention is to provide the manufacturing apparatus of a sheet-like device, and the manufacturing method of a sheet-like device in which the problem of untransfer of a pattern, the shape defect of a pattern, etc. hardly arise.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 시트형상 디바이스의 제조 장치는, 패턴이 형성되어 있는 패턴 형성면을 가지는 몰드와, 상기 몰드에 대향 배치된 탄성체와, 상기 몰드와 상기 탄성체 사이에 기재를 끼우고, 상기 기재 상의 수지에 상기 패턴 형성면을 누르는 가압 장치와, 상기 기재 상의 상기 수지를 경화시키는 경화 장치를 구비하고, 상기 몰드의 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 상기 몰드측으로 볼록한 형상의 곡면으로 되어 있다. In order to achieve the above object, the apparatus for manufacturing a sheet-like device of the present invention includes a mold having a pattern forming surface on which a pattern is formed, an elastic body disposed opposite to the mold, and a substrate between the mold and the elastic body. And a pressing device for pressing the pattern forming surface on the resin on the substrate, and a curing device for curing the resin on the substrate, wherein the surface of the elastic body in the projection area of the pattern forming surface of the mold is formed on the mold. It is a curved surface convex toward the side.

또, 상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 시트형상 디바이스의 제조 방법은, 패턴이 형성되어 있는 패턴 형성면을 가지는 몰드와, 곡률을 갖는 소정 형상의 탄성체 사이에, 상기 패턴 형성면에 대면하는 한쪽면 상에 수지가 설치된 기재를 끼우고, 상기 패턴 형성면을 상기 수지에 눌러 상기 수지를 가압하는 공정과, 상기 기재 상의 수지를 경화시키는 공정을 구비하고, 가압 시에, 상기 몰드와 상기 탄성체 중 적어도 한쪽이, 상기 몰드와 상기 탄성체가 접근하는 방향으로 이동함에 따라, 상기 패턴 형성면과 상기 수지가 접촉하는 범위가, 상기 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 넓어진다. Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the sheet-like device of this invention faces the said pattern formation surface between the mold which has a pattern formation surface in which the pattern is formed, and the elastic body of predetermined shape which has a curvature. A process of pressurizing said resin by sandwiching the base material provided with resin on one side, pressing said pattern formation surface to said resin, and the process of hardening resin on the said base material, and at the time of pressurization, the said mold and the said elastic body are provided. As at least one of them moves in the direction in which the mold and the elastic body approach, the range where the pattern forming surface and the resin contact each other is widened from the inside of the pattern forming surface toward the outside.

본 발명에 의하면, 패턴의 미전사나 패턴의 형상 불량 등의 문제가 발생하기 어려워진다. According to the present invention, problems such as untransfer of the pattern and poor shape of the pattern are less likely to occur.

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치를 나타낸 측면도이다.
도 2는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치의 주요부를 확대해 나타낸 측단면도이다.
도 3(a)~(d)는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 가압 공정을 설명하기 위한 도이다.
도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 경화 공정을 설명하기 위한 도이다.
도 5는 본 발명의 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치의 동작을 설명하기 위한 사시도이다.
도 6(a)~(d)는 본 발명의 실시의 형태 2에서의 가압 공정을 설명하기 위한 도이다.
도 7은 본 발명의 실시의 형태 2에서의 경화 공정을 설명하기 위한 도이다.
도 8은 종래의 임프린트 장치의 구성을 나타낸 도이다.
1 is a side view showing an imprint apparatus in Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged side cross-sectional view showing main parts of an imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG.
FIG.3 (a)-(d) are figures for demonstrating the pressurization process in Embodiment 1 of this invention.
It is a figure for demonstrating the hardening process in Embodiment 1 of this invention.
5 is a perspective view for explaining the operation of the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG.6 (a)-(d) are figures for demonstrating the pressurization process in Embodiment 2 of this invention.
It is a figure for demonstrating the hardening process in Embodiment 2 of this invention.
8 is a diagram illustrating a configuration of a conventional imprint apparatus.

이하, 본 발명의 실시의 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 붙이고, 중복되는 설명을 생략하는 경우도 있다. 또, 도면은, 이해하기 쉽게 하기 위해서, 각각인 구성 요소를 주체로 모식적으로 나타낸다. 또 도시된 각 구성 요소의 두께, 길이 등은 도면 작성의 관계 상, 실제와는 상이하다. DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same component and the overlapping description may be abbreviate | omitted. In addition, in order to make drawing easy to understand, each component is typically shown typically. Moreover, the thickness, length, etc. of each shown component differ from an actual thing in relation to drawing drawing.

(실시의 형태 1) (Embodiment Mode 1)

본 발명의 실시의 형태 1에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 발명의 실시의 형태 1에서의 시트형상 디바이스의 제조 장치의 일례로서의 임프린트 장치의 전체를 나타낸 측면도이다. 도 1에 있어서, 그 저면에 임프린트용의 몰드(틀)(4)가 배치되어 있는 하우징(3)은, 그 내부를 도시하고 있다. 이하, 임프린트용의 몰드를, 간단히, 몰드로 칭한다. 시트형상 디바이스의 제조 장치로 제조되는 시트형상 디바이스로서는, 예를 들면, 반사 방지 시트가 있다. Embodiment 1 of this invention is demonstrated. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view which shows the whole imprint apparatus as an example of the manufacturing apparatus of the sheet-like device in Embodiment 1 of this invention. In FIG. 1, the housing 3 in which the mold (frame) 4 for imprint is arrange | positioned at the bottom face is shown in the inside. Hereinafter, the mold for imprint is simply called a mold. As a sheet-like device manufactured by the manufacturing apparatus of a sheet-like device, there exists an anti-reflective sheet, for example.

이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치는, 우선, 몰드(4)를 이용하여, 기재(8)의 한쪽면을 코트하고 있는 도시하지 않은 UV(자외선) 경화성 수지에 미세 패턴(5)을 눌러, UV경화성 수지를 가압한다. 그 후, 이 장치는, UV조사 장치(6)에 UV광을 발광시킨다. 이 UV광은, 몰드(4)를 투과하여 UV경화성 수지에 조사된다. UV광이 조사된 UV경화성 수지는 경화된다. 이것에 의해, 시트형상의 기재(8) 상의 UV경화성 수지에 미세 패턴이 전사된다. 몰드(4)는 미세 패턴(5)이 형성되어 있는 패턴 형성면을 갖는다. 기재(8)는 시트형상의 심리스의 부재이다. 이 장치에서는, 가압 시에, 시트형상의 기재(8)의 하측에 탄성체(9)가 배치되어, 몰드(4)와 탄성체(9)에 의해 시트형상의 기재(8)가 사이에 끼워진다. 탄성체(9)의 표면은, 몰드(4)에 대향하는 부분에, 기재(8)측으로 볼록한 형상의 곡면을 가지고 있다. 이 장치에 의하면, 가압 시에, 몰드(4)의 패턴 형성면과 기재(8) 상의 UV경화성 수지가 접촉하는 범위를, 탄성체(9)의 형상과 탄력에 의해, 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 서서히 확대시킬 수 있다. 그리고, 이와 같이 몰드(4)의 패턴 형성면과 기재(8) 상의 UV경화성 수지가 접촉함으로써, 기체의 잔류 또는 몰드(4)와 UV경화성 수지의 미접촉부(미밀착부)의 발생에 기인하는 패턴의 미전사나 패턴의 형상 불량 등의 문제는 발생하기 어려워진다. In the imprint apparatus according to the first embodiment, first, by pressing the fine pattern 5 on a UV (ultraviolet) curable resin (not shown) that coats one side of the substrate 8 using the mold 4, Pressurize the UV-curable resin. Thereafter, this device causes the UV irradiation device 6 to emit UV light. This UV light passes through the mold 4 and is irradiated to the UV curable resin. The UV curable resin irradiated with UV light is cured. As a result, the fine pattern is transferred to the UV-curable resin on the sheet-shaped substrate 8. The mold 4 has a pattern formation surface on which the fine pattern 5 is formed. The base material 8 is a sheet-shaped seamless member. In this apparatus, the elastic body 9 is arrange | positioned under the sheet-like base material 8 at the time of pressurization, and the sheet-shaped base material 8 is sandwiched between the mold 4 and the elastic body 9. The surface of the elastic body 9 has a curved surface which is convex toward the base material 8 side at the part facing the mold 4. According to this apparatus, at the time of pressurization, the range where the pattern forming surface of the mold 4 and the UV-curable resin on the base material 8 come into contact with each other by the shape and elasticity of the elastic body 9 from the inside to the outside of the pattern forming surface. You can zoom in slowly. And in this way, the pattern forming surface of the mold 4 and the UV-curable resin on the base material 8 come into contact with each other, resulting in residual gas or non-contact portion (non-adherent part) of the mold 4 and the UV-curable resin. Problems such as untransfer of the pattern and poor shape of the pattern are less likely to occur.

이하, 이 실시의 형태 1에서의 시트형상 디바이스의 제조 장치(임프린트 장치) 및 시트형상 디바이스의 제조 방법(임프린트 방법)에 대해서 상세하게 설명한다. Hereinafter, the manufacturing apparatus (imprint apparatus) of the sheet-like device and the manufacturing method (imprint method) of the sheet-shaped device in the first embodiment will be described in detail.

도 1에 나타낸 바와 같이, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치는, 서로 직교하는 방향으로 이동 가능한 X축 테이블(1)과 Y축 테이블(2)을 구비한다. X축 테이블(1)은, 도 1의 종이면에 수직인 방향으로 직선 이동하는 전후 직선 이동축이다. Y축 테이블(2)은, 도 1의 종이면의 상하 방향으로 직선 이동하는 상하 직선 이동축이다. Y축 테이블(2)은, X축 테이블(1)에 구비되어 있다. 이 실시의 형태 1에서는, X축 테이블(1)이 이동 가능한 방향을 X방향으로 하고, Y축 테이블(2)이 이동 가능한 방향을 Y방향으로 하며, X방향과 Y방향에 직교하는 방향을 Z방향으로 하고 있다. As shown in FIG. 1, the imprint apparatus in this Embodiment 1 is equipped with the X-axis table 1 and the Y-axis table 2 which are movable in the direction orthogonal to each other. The X-axis table 1 is the front-rear linear movement axis which linearly moves in the direction perpendicular | vertical to the paper surface of FIG. The Y-axis table 2 is an up-and-down linear movement axis which linearly moves in the up-down direction of the paper surface of FIG. The Y-axis table 2 is provided in the X-axis table 1. In the first embodiment, the direction in which the X-axis table 1 is movable is set as the X direction, the direction in which the Y-axis table 2 is movable is made as the Y direction, and the direction orthogonal to the X direction and the Y direction is Z. Direction.

Y축 테이블(2)에는, 하우징(3)이 구비되어 있다. 그 하우징(3)의 저면에는, 미세 패턴(5)이 형성되어 있는 패턴 형성면을 가지는 몰드(4)가, 하향으로 배치되어 있다. 즉, 몰드(4)는, 미세 패턴(5)이 하향이 되도록 배치되어 있다. 이것에 의해, 몰드(4)의 미세 패턴(5)은, 시트형상의 기재(8)를 향하도록 배치된다. 또, 몰드(4)는, 미세 패턴(5)이 XZ평면과 평행이 되도록, 기울기가 조정된 상태로 배치되어 있다. 또한, 이 실시의 형태 1에서는, 몰드(4)로서, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상이며, 그 평면의 사이즈(미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 사이즈)가 20mm2인 몰드를 이용했다. 예를 들면 반사 방지 시트를 제조하는 경우, 이 미세 패턴(5)의 요철의 깊이는, 200~300nm이다. The Y-axis table 2 is provided with a housing 3. On the bottom face of the housing 3, a mold 4 having a pattern formation surface on which the fine patterns 5 are formed is disposed downward. That is, the mold 4 is arrange | positioned so that the fine pattern 5 may become downward. Thereby, the fine pattern 5 of the mold 4 is arrange | positioned so that it may face the sheet-shaped base material 8. Moreover, the mold 4 is arrange | positioned in the state in which the inclination was adjusted so that the fine pattern 5 may be parallel to an XZ plane. In addition, in this Embodiment 1, as the mold 4, the shape of the surface direction of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is planar shape, and the size of the plane (the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned) in size) it was used to 20mm 2 in the mold. For example, when manufacturing an antireflection sheet, the depth of the unevenness | corrugation of this fine pattern 5 is 200-300 nm.

하우징(3)의 내부에는, 기재(8) 상의 도시하지 않은 UV경화성 수지를 경화시키기 위한 UV조사 장치(6)가 배치되어 있다. 또한, 이 실시의 형태 1에서는, UV조사 장치(6)가 몰드(4)의 상측에 배치되기 때문에, 몰드(4)의 재질로서, UV광이 투과하는 재질을 이용할 필요가 있다. 그 표면에 미세 패턴을 가공할 수 있고, 또한 UV광이 투과하는 소재로서, 예를 들면, 석영 유리를 이용할 수 있다. Inside the housing 3, the UV irradiation apparatus 6 for hardening the UV curable resin not shown on the base material 8 is arrange | positioned. In addition, in this Embodiment 1, since the UV irradiation apparatus 6 is arrange | positioned above the mold 4, it is necessary to use the material which UV light permeates as a material of the mold 4. A fine pattern can be processed on the surface, and quartz glass can be used as a raw material through which UV light transmits.

하우징(3)의 천정부에는, Y축 테이블(2)의 저면에 맞닿는 압력 센서(7)가 배치되어 있다. 이 압력 센서(7)는, 성형 압력을 계측하기 위해서 설치되어 있다. The pressure sensor 7 which abuts on the bottom face of the Y-axis table 2 is arrange | positioned at the ceiling part of the housing 3. This pressure sensor 7 is provided in order to measure molding pressure.

몰드(4)의 하측에는, 시트형상의 심리스의 기재(8)가 배치된다. 따라서, 몰드(4)의 미세 패턴(5)은, 기재(8) 상의 도시하지 않은 UV경화성 수지에 대면한다. 이 실시의 형태 1에서는, 기재(8)로서, PET 필름을 재질로 하는 심리스 기재를 이용했다. Below the mold 4, the sheet | seat seamless base 8 is arrange | positioned. Therefore, the fine pattern 5 of the mold 4 faces the UV curable resin which is not shown in figure on the base material 8. In this Embodiment 1, the seamless base material which uses PET film as a base material 8 was used.

기재(8)의 하측에는, 곡률을 갖는 소정 형상의 탄성체(9)가, 몰드(4)에 대향하도록 배치되어 있다. 이 실시의 형태 1에서는, 탄성체(9)는, 직경 800mm의 원통형상이며, X축과 평행하게 배치되어 있다. Below the base material 8, the elastic body 9 of predetermined shape which has a curvature is arrange | positioned so that the mold 4 may oppose. In this Embodiment 1, the elastic body 9 is cylindrical shape of diameter 800mm, and is arrange | positioned in parallel with an X-axis.

이 탄성체(9)의 소재에는, 적어도 몰드(틀)(4)보다도 부드러운 소재이며, 또한, 성형 시에 몰드(4)의 미세 패턴(5)을 파괴하지 않을 정도의 단단함의 경도를 갖는 소재를 선정할 필요가 있다. 이 실시의 형태 1에서는, 탄성체(9)의 재질로서, 탄성률이 3.5MPa인 실리콘 고무를 선정했다. The material of the elastic body 9 is a material which is at least softer than the mold (frame) 4 and has a hardness of rigidity that does not destroy the fine pattern 5 of the mold 4 during molding. It needs to be selected. In this Embodiment 1, the silicone rubber whose elasticity modulus is 3.5 MPa was selected as a material of the elastic body 9. As shown in FIG.

탄성체(9)에는, 그 탄성체(9)의 표면에서 UV광이 반사되지 않도록 하기 위한 반사 방지 구조를 설치하는 것이 적합하다. 이것은, 몰드(4), UV경화성 수지, 기재(8)를 투과한 UV광이 탄성체(9)에서 반사되어, 원하는 개소 이외의 개소에 UV광이 조사되는 것을 막기 위해서이다. 반사 방지 구조의 일례로서, 탄성체(9)의 표면을, 반사를 방지할 수 있는 색으로 착색해도 된다. It is suitable for the elastic body 9 to provide an antireflection structure for preventing the UV light from being reflected on the surface of the elastic body 9. This is in order to prevent UV light which permeate | transmitted the mold 4, UV hardening resin, and the base material 8 from the elastic body 9, and irradiate UV light to places other than a desired place. As an example of the antireflection structure, the surface of the elastic body 9 may be colored with a color capable of preventing reflection.

이 임프린트 장치에는, 탄성체(9)의 양측에, 사행 제어 롤러(10)와 회전 제어 롤러(11)가 배치되어 있다. 이 실시의 형태 1에서는, 사행 제어 롤러(10)는, 직경 60mm의 원통형상이며, X축과 평행하게 배치되어 있다. 또, 회전 제어 롤러(11)는, 직경 60mm의 원통형상이며, X축과 평행하게 배치되어 있다. 즉, 사행 제어 롤러(10)와 회전 제어 롤러(11)는, 모두, 원통형상의 탄성체(9)와 평행하게 배치되어 있다. 또, 기재(8)는, 탄성체(9), 사행 제어 롤러(10) 및 회전 제어 롤러(11)에 걸쳐 감겨져 있어, 회전 제어 롤러(11)를 구동원으로 하여 회동한다. 이 구성에 의하면, 임프린트 장치는, 사행 제어 롤러(10)와 회전 제어 롤러(11)에 의해, 기재(8)를 탄성체(9) 상으로 송출할 수 있다. The meander control roller 10 and the rotation control roller 11 are arrange | positioned at the both sides of the elastic body 9 in this imprint apparatus. In the first embodiment, the meandering control roller 10 has a cylindrical shape having a diameter of 60 mm and is disposed in parallel with the X axis. Moreover, the rotation control roller 11 is cylindrical shape with a diameter of 60 mm, and is arrange | positioned in parallel with an X-axis. That is, the meandering control roller 10 and the rotation control roller 11 are all arranged in parallel with the cylindrical elastic body 9. Moreover, the base material 8 is wound over the elastic body 9, the meandering control roller 10, and the rotation control roller 11, and rotates using the rotation control roller 11 as a drive source. According to this structure, the imprint apparatus can send out the base material 8 on the elastic body 9 by the meandering control roller 10 and the rotation control roller 11.

이 임프린트 장치에는, 회전 제어 롤러(11)를 Z방향으로 이동시키는 것이 가능한 장력 조정 기구(12)가 구비되어 있다. 이 장력 조정 기구(12)에 의해, 기재(8)는, 휨이 발생하지 않도록 세팅되어 있다. 또한, 이 장력 조정 기구(12)는, 가압 시에 발생할 가능성이 있는 기재(8)의 휨을 흡수하기 위해서, 임프린트 중에는 항상, 시트형상의 기재(8)에 Z방향의 장력을 계속 주고 있다. This imprint apparatus is provided with the tension adjustment mechanism 12 which can move the rotation control roller 11 to Z direction. By this tension adjustment mechanism 12, the base material 8 is set so that curvature may not generate | occur | produce. In addition, the tension adjusting mechanism 12 continuously applies tension in the Z direction to the sheet-shaped substrate 8 during imprint so as to absorb the warpage of the substrate 8 that may occur during pressing.

이 실시의 형태 1에서는, 사행 제어 롤러(10)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도와, 회전 제어 롤러(11)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도가, 모두, XZ평면으로부터 상방향으로 5°가 되도록, 탄성체(9)가 배치되어 있다. 이 각도는, 탄성체(9)의 곡면을 따르도록 기재(8)를 감기 위해서 필요한 각도이다. 단, 회전 제어 롤러(11), 사행 제어 롤러(10) 및 탄성체(9)의 배치에 따라서는, 이 각도로 5° 이외의 각도가 설정되어도 된다. In this Embodiment 1, the angle of the base material 8 between the meander control roller 10 and the elastic body 9, and the angle of the base material 8 between the rotation control roller 11 and the elastic body 9 are all The elastic body 9 is arrange | positioned so that it may become 5 degrees upward from an XZ plane. This angle is an angle required in order to wind the base material 8 along the curved surface of the elastic body 9. However, depending on the arrangement of the rotation control roller 11, the meander control roller 10, and the elastic body 9, an angle other than 5 ° may be set at this angle.

도 2는, 본 발명의 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치의 주요부를 확대하여 나타낸 측단면도이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 미세 패턴에 대면하는 기재(8)의 한쪽면에는, 소정량의 UV경화성 수지(13)가 균일한 두께로 도포되어 있다. 이 실시의 형태 1에서는, 기재(8)의 두께는, 50~500μm를 상정하고 있다. 또, 몰드(4)의 패턴 형성면의 외주부(미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 외측의 영역)에는, 차광 구조의 일례로서, UV광을 차광하는 차광막(14)이 설치되어 있다. 또한, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 외주 라인의 외측에는, 경사면이 형성되어 있다. 2 is an enlarged side cross-sectional view showing the main part of the imprint apparatus according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, UV curable resin 13 of predetermined amount is apply | coated to one surface of the base material 8 which faces a fine pattern in uniform thickness. In this Embodiment 1, the thickness of the base material 8 assumes 50-500 micrometers. Moreover, as an example of a light shielding structure, the light shielding film 14 which shields UV light is provided in the outer peripheral part (the area | region outside the area | region in which the micropattern 5 is arrange | positioned) of the pattern formation surface of the mold 4. Moreover, the inclined surface is formed in the outer side of the outer periphery line of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned.

이어서, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치의 동작에 대해서 설명한다. Next, the operation of the imprint apparatus in the first embodiment will be described.

도 3(a)~(d) 및 도 4는, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치에 의해 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 1개소를 임프린트 성형하는 공정을 나타낸 도이다. 상세하게는, 도 3(a)~(d)는, 몰드(4)와 탄성체(9) 사이에 기재(8)를 끼우고, 몰드(4)의 패턴 형성면을 UV경화성 수지(13)에 누르는 가압 공정을, 시계열로 나타낸 도이다. 또, 도 4는, UV경화성 수지(13)를 경화시키는 경화 공정을 나타낸 도이다. 이 경화 공정은, 도 3(a)~(d)에 나타낸 가압 공정의 후공정이다. 도 3(a)~(d)의 각각에 있어서, 상측 도면은 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위를 나타낸 도이며, 하측 도면은 공정별 측단면도이다. 또, 도 4에 있어서, 상측 도면은 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위 및 UV경화성 수지(13)의 경화 범위를 나타낸 도이며, 하측 도면은 공정별 측단면도이다. FIG.3 (a)-(d) and FIG. 4 are the figures which showed the process of imprint-molding one location of the UV curable resin 13 on the base material 8 by the imprint apparatus in this Embodiment 1. FIG. In detail, FIGS. 3A to 3D show the substrate 8 sandwiched between the mold 4 and the elastic body 9, and the pattern forming surface of the mold 4 is attached to the UV-curable resin 13. It is the figure which showed the pressurization process to press in time series. 4 is a figure which shows the hardening process which hardens UV curable resin 13. As shown in FIG. This hardening process is a post process of the pressurization process shown to FIG. 3 (a)-(d). In each of FIGS.3 (a)-(d), the upper figure is a figure which shows the contact range of the pattern formation surface of the mold 4, and UV-curable resin 13, and the lower figure is a side cross-sectional view by process. In addition, in FIG. 4, the upper figure is a figure which shows the contact range of the pattern formation surface of the mold 4, UV curable resin 13, and the hardening range of UV curable resin 13, A lower figure is a side cross-sectional view by process. to be.

우선, 본 성형 전에 가성형이 행해진다. 이 가성형은, 몰드(4)와 탄성체(9)의 위치를 맞추기 위해 행해진다. 그 후, 본 성형으로 이행한다. First, provisional molding is performed before the main molding. This temporary molding is performed to match the position of the mold 4 and the elastic body 9. Thereafter, the process proceeds to the main molding.

본 성형에서는, 우선, Y축 테이블(2)이 하강함으로써, 패턴 형성면에 대면하는 한쪽면이 UV경화성 수지(13)에 의해 코트되어 있는 기재(8)가, 몰드(4)의 패턴 형성면과 원통형상의 탄성체(9)의 표면(곡면) 사이에 끼워진다. 그리고, 몰드(4)의 패턴 형성면이, UV경화성 수지(13)에 눌러진다. 이것에 의해, UV경화성 수지(13)가 가압된다. In this molding, first, the Y-axis table 2 is lowered, so that the substrate 8 on which one surface facing the pattern formation surface is coated with the UV curable resin 13 is the pattern formation surface of the mold 4. And the surface (curved surface) of the cylindrical elastic body 9. And the pattern formation surface of the mold 4 is pressed by the UV curable resin 13. This pressurizes the UV-curable resin 13.

이 가압 공정에 있어서, Y축 테이블(2)은, 적어도 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 접촉하기 직전부터, 미세 패턴과 UV경화성 수지(13) 사이에 기체가 들어가지 않도록 충분히 느린 등속도로 하강하여, 몰드(4)의 패턴 형성면을 UV경화성 수지(13)에 누른다. 이 실시의 형태 1에서는, 일례로서, Y축 테이블(2)을, 10mm/min로 등속도 하강시켰다. In this pressurization process, the Y-axis table 2 is sufficient so that a gas may not enter between the micropattern and UV curable resin 13 at least immediately before the micropattern 5 and UV curable resin 13 contact. It descend | falls at a slow uniform velocity, and the pattern formation surface of the mold 4 is pressed by the UV-curable resin 13. In this Embodiment 1, as an example, the Y-axis table 2 was lowered at a constant speed at 10 mm / min.

미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 접촉하기 전에는, 탄성체(9) 상에서의 기재(8)의 면방향의 형상이, 원통형상의 탄성체(9)의 외주면(원통면)의 일부를 따른 형상으로 되어 있다. 그 때문에, 패턴 형성면(미세 패턴(5))과 UV경화성 수지(13)는, 우선, 선접촉한다(도 3(a)을 참조). 즉, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 최초의 접촉 범위는 선형상이 된다. 그 후, Y축 테이블(2)이 하강함에 따라, Y축 테이블(2)로부터의 하중에 의해, 기재(8)를 지지하고 있는 원통형상의 탄성체(9)가 서서히 찌부러진다. 그 때문에, 도 3(a)~(d)에 나타낸 바와 같이, Y축 테이블(2)이 하강하여, 몰드(4)와 탄성체(9)가 서로 접근하는 방향으로 상대적으로 이동함에 따라, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위가, 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 서서히 넓어진다. 즉, 접촉 범위(접촉 개소)는, Y축 테이블(2)이 하강함에 따라, 선분으로부터 외측을 향해 서서히 확대된다. Before the micropattern 5 and the UV-curable resin 13 contact each other, the shape of the surface direction of the base material 8 on the elastic body 9 follows a part of the outer circumferential surface (cylindrical surface) of the cylindrical elastic body 9. It is shaped. Therefore, the pattern formation surface (fine pattern 5) and UV curable resin 13 make linear contact first (refer FIG. 3 (a)). That is, the initial contact range of the pattern forming surface of the mold 4 and the UV-curable resin 13 is linear. Then, as the Y-axis table 2 descends, the cylindrical elastic body 9 supporting the base material 8 is gradually crushed by the load from the Y-axis table 2. Therefore, as shown in Figs. 3A to 3D, the Y-axis table 2 descends and moves relatively in the direction in which the mold 4 and the elastic body 9 approach each other. The contact range of the pattern formation surface of 4) and UV-curable resin 13 expands gradually from the inner side of a pattern formation surface toward an outer side. That is, the contact range (contact point) gradually expands from the line segment toward the outside as the Y-axis table 2 descends.

이상의 동작에 의하면, 패턴 형성면(미세 패턴(5))과 UV경화성 수지(13) 사이에 기체가 봉입되기 어려워지고, 또한, 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 확실히 접촉(밀착)되기 쉬워진다. 따라서, 패턴의 미전사 및 패턴의 형상 불량은 발생하기 어려워진다. According to the above operation | movement, gas becomes difficult to be enclosed between the pattern formation surface (fine pattern 5) and UV-curable resin 13, and the micropattern 5 and UV-curable resin 13 make sure contact (adherence | tightness). It becomes easy to become). Therefore, the untransfer of the pattern and the shape defect of the pattern are less likely to occur.

또한, Y축 테이블(2)로부터 몰드(4)에 부여되는 하중은, 압력 센서(7)에 의해 측정되고 있다. 따라서, 본 실시의 형태 1에서는, 압력 센서(7)의 측정치에 기초한 Y축 테이블(2)의 하강 동작의 제어를 실현할 수 있다. 예를 들면, 본 실시의 형태 1에서는, 압력 센서(7)의 측정치가 소정치 이상이 되면, Y축 테이블(2)의 하강 동작을 정지시킨다는 제어가 실현 가능해진다. 이와 같이 압력 센서(7)의 측정치에 기초하여 Y축 테이블(2)의 하강 동작을 제어함으로써 패턴의 미전사 및 패턴의 형상 불량의 발생을 보다 곤란하게 할 수 있다. In addition, the load applied to the mold 4 from the Y-axis table 2 is measured by the pressure sensor 7. Therefore, in the first embodiment, control of the lowering operation of the Y-axis table 2 based on the measured value of the pressure sensor 7 can be realized. For example, in Embodiment 1, when the measured value of the pressure sensor 7 becomes more than a predetermined value, control which stops the falling operation of the Y-axis table 2 can be implement | achieved. In this way, by controlling the lowering operation of the Y-axis table 2 based on the measured value of the pressure sensor 7, it is possible to more difficult to untransfer the pattern and to generate the shape defect of the pattern.

도 3(d)에 나타낸 바와 같이, UV경화성 수지(13)에 원하는 패턴이 부여되는 깊이까지 미세 패턴(5)이 UV경화성 수지(13)에 파묻혔을 때(밀착되었을 때)에는, 탄성체(9)의 변형에 의해, 기재(8)는 XZ평면에 수평 내지는 대략 수평이 된다. 또, 이 때, 도 3(d)에 나타낸 바와 같이, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 범위(영역)의 외측에서도, 몰드(4)의 패턴 형성면이 UV경화성 수지(13)에 접촉(밀착)된다. As shown in FIG. 3 (d), when the fine pattern 5 is buried (adhered to) the UV-curable resin 13 to a depth at which the desired pattern is imparted to the UV-curable resin 13, the elastic body 9 By the deformation | transformation of), the base material 8 becomes horizontal or substantially horizontal with respect to the XZ plane. At this time, as shown in Fig. 3 (d), the pattern forming surface of the mold 4 is in contact with the UV-curable resin 13 even outside the range (area) in which the fine pattern 5 is disposed. Closely).

그 후, 도 4에 나타낸 바와 같이, 미세 패턴(5)이 UV경화성 수지(13)에 밀착된 상태에서, 몰드(4)를 통해서, UV조사 장치(6)로부터 UV경화성 수지(13)로 UV광이 조사되어, UV경화성 수지(13)가 경화된다. 이것에 의해, UV경화성 수지(13)에 미세 패턴이 전사된다. Thereafter, as shown in FIG. 4, the UV light from the UV irradiation device 6 to the UV curable resin 13 is passed through the mold 4 in a state where the fine pattern 5 is in close contact with the UV curable resin 13. Light is irradiated and the UV curable resin 13 hardens. As a result, the fine pattern is transferred to the UV-curable resin 13.

이 실시의 형태 1에서는, 몰드(4)의 패턴 형성면의 외주부(미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 외측의 영역)에 설치된 차광 구조에 의해, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)가 접촉하는 범위 중 소정 범위가 경화된다. 구체적으로는, 몰드(4)의 패턴 형성면의 외주부에, UV광을 차광하는 차광막(14)이 설치되어 있으므로, 미세 패턴(5)의 외측에는 UV광이 미치기 어려워져 있다. 따라서, 이 실시의 형태 1에 의하면, 차광 구조에 의해, UV경화성 수지(13)를, 수지가 경화되어 있는 경화 범위와, 수지가 경화되어 있지 않는 비경화 범위로 나눌 수 있다. In this Embodiment 1, the pattern formation surface and UV of the mold 4 are formed by the light shielding structure provided in the outer peripheral part (region of the outer side of the area | region where the fine pattern 5 is arrange | positioned) of the pattern formation surface of the mold 4 The predetermined range is hardened among the ranges which the curable resin 13 contacts. Specifically, since the light shielding film 14 which shields UV light is provided in the outer peripheral part of the pattern formation surface of the mold 4, UV light is hard to reach the outer side of the fine pattern 5. Therefore, according to the first embodiment, the light-shielding structure can divide the UV-curable resin 13 into a curing range in which the resin is cured and a non-curing range in which the resin is not cured.

또한, 이 실시의 형태 1에서는, 미세 패턴(5)이 형성(가공)되어 있는 영역의 외주 라인의 외측에, 경사면이 형성되어 있다. 그 때문에, 경화 범위와 비경화 범위의 경계 라인 부근에서는, UV경화성 수지(13)의 산소 저해 특성이 작용한다. 따라서, 경화 범위와 비경화 범위의 경계는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 직선이 아닌 불규칙한 곡선이 된다. In addition, in this Embodiment 1, the inclined surface is formed outside the outer periphery line of the area | region in which the fine pattern 5 is formed (processed). Therefore, in the vicinity of the boundary line between the curing range and the non-curing range, the oxygen inhibition characteristic of the UV-curable resin 13 acts. Therefore, the boundary between a hardening range and a nonhardening range becomes an irregular curve rather than a straight line, as shown in FIG.

UV경화성 수지(13)의 경화 후에는, Y축 테이블(2)이 상승함으로써, 몰드(4)가 UV경화성 수지(13)로부터 멀어진다. After the curing of the UV-curable resin 13, the Y-axis table 2 is raised so that the mold 4 moves away from the UV-curable resin 13.

이상의 동작에 의해, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 1개소를 임프린트 성형할 수 있다. 또한, 이상 설명한 동작은, 임프린트 장치 전체의 동작을 제어하는 제어 장치를 설치함으로써, 자동적으로 제어할 수 있다. By the above operation | movement, one location of the UV curable resin 13 on the base material 8 can be imprint-molded. In addition, the operation demonstrated above can be controlled automatically by providing the control apparatus which controls the operation | movement of the whole imprint apparatus.

이어서, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치에 의해, 대면적이며 심리스인 기재(8)에 대해 상기한 임프린트 성형을 반복하여, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 복수 개소에 미세 패턴(5)을 전사하는 공정을 설명한다. Subsequently, by the imprint apparatus in this Embodiment 1, the above-mentioned imprint molding is repeated with respect to the large-area and seamless base material 8, and a fine pattern is provided in several places of the UV-curable resin 13 on the base material 8. The process of transferring (5) is demonstrated.

도 5는, 대면적이며 심리스인 기재(8)에 대해 임프린트 성형을 반복할 때에서의 임프린트 장치의 동작을 설명하기 위한 사시도이다. FIG. 5 is a perspective view for explaining the operation of the imprint apparatus when the imprint molding is repeated for the large-scale, seamless substrate 8.

상기한 바와 같이, 이 실시의 형태 1의 임프린트 장치는, 몰드(4)의 패턴 형성면에 의해 UV경화성 수지(13)를 가압하여, 몰드(4)를 통해서 UV광을 조사함으로써 UV경화성 수지(13)를 경화시킴으로써, 미세 패턴을 UV경화성 수지(13)에 전사한다. As described above, the imprint apparatus of the first embodiment pressurizes the UV-curable resin 13 by the pattern forming surface of the mold 4, and irradiates UV light through the mold 4 to form the UV-curable resin ( By curing 13), the fine pattern is transferred to the UV curable resin 13.

이 실시의 형태 1의 임프린트 장치는, 상기한 미세 패턴을 UV경화성 수지(13)에 전사하는 공정을 반복하여, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 복수 개소에 미세 패턴(5)을 전사한다. 또, 이 실시의 형태 1의 임프린트 장치는, 미세 패턴(5)의 전사를 반복할 때에, 이미 성형되어 있는 패턴에 인접하는 개소에서 패턴 성형을 행한다. 이 동작에 의해, 패턴이 연결된 대면적의 시트형상 디바이스를 얻을 수 있다. 이하, 이 공정을 구체적으로 설명한다. The imprint apparatus of this Embodiment 1 repeats the process of transferring the above-mentioned fine pattern to the UV curable resin 13, and applies the fine pattern 5 to a plurality of places of the UV curable resin 13 on the substrate 8. Warriors Moreover, the imprint apparatus of this Embodiment 1 performs pattern shaping | molding in the location adjacent to the pattern which is already shape | molded, when repeating the transfer of the fine pattern 5. By this operation, a large area sheet-like device to which a pattern is connected can be obtained. This step will be described in detail below.

도 5에 나타낸 바와 같이, 이 실시의 형태 1의 임프린트 장치는, X축 테이블(1)을 조작하여 몰드(4)를 X축 방향으로 옮겨 놓으면서, 원통형상의 탄성체(9) 상의 기재(8)에 대해, 상기 서술한 임프린트 성형 공정을 복수회 반복한다. 이것에 의해, X축 방향의 일렬 분의 임프린트 성형이 완료된다. 일렬의 임프린트 성형의 완료 후, 임프린트 장치는, 회전 제어 롤러(11)에 의해 기재(8)를 일렬분 이송하고, 다음의 일렬의 임프린트 성형을 행한다. 이와 같이 일렬의 임프린트 성형의 동작이 반복됨으로써, 1개의 미세 패턴을 연결한 대면적의 미세 패턴 전사면을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 5, the imprint apparatus of this Embodiment 1 operates to the base material 8 on the cylindrical elastic body 9, operating the X-axis table 1, and moving the mold 4 to an X-axis direction. For the above, the imprint molding step described above is repeated a plurality of times. This completes the imprint molding for one line in the X-axis direction. After completion of a row of imprint molding, the imprint apparatus transfers the substrate 8 for one row by the rotation control roller 11, and performs the next row of imprint molding. By repeating the operation of a series of imprint moldings as described above, a large area fine pattern transfer surface connecting one fine pattern can be formed.

또, 상기한 바와 같이, UV경화성 수지(13)에 전사된 패턴의 경계(경화 범위의 경계)는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 직선이 아닌 규칙성이 없는 곡선이다. 규칙성이 없는 곡선은, 육안으로 확인하기 어렵기 때문에, 패턴의 이음매를 눈에 띄지 않게 할 수 있다. 또한, 패턴의 경계의 곡선폭(도 4에 나타낸 폭 h)은, 몰드(4)의 패턴 형성면의 외주부에 설치한 경사면의 형상(높이나 폭)과 차광막(14)의 범위에 의해 컨트롤할 수 있다. 이 실시의 형태 1에서는, 폭 h는, 50μm정도였다. As described above, the boundary (the boundary of the curing range) of the pattern transferred to the UV-curable resin 13 is a curve without regularity, not a straight line. Since the curve without regularity is hard to see visually, the seam of a pattern can be made inconspicuous. In addition, the curve width (width h shown in FIG. 4) of the boundary of a pattern can be controlled by the shape (height or width) of the inclined surface provided in the outer peripheral part of the pattern formation surface of the mold 4, and the range of the light shielding film 14. have. In this Embodiment 1, the width h was about 50 micrometers.

이에 더하여, 상기한 바와 같이, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치에 의하면, UV경화성 수지(13)를, 수지가 경화되어 있는 경화 범위와, 수지가 경화되어 있지 않는 비경화 범위로 나눌 수 있다. 그 때문에, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치에 의하면, 이미 성형되어 있는 패턴에 인접하는 개소에서 패턴 성형을 행함으로써, 패턴을 연결하는 경우에도, 수지가 경화되어 있지 않는 비경화 범위에서 패턴 성형을 행할 수 있다. 이것에 의해, 본 실시의 형태 1에서는, 인접하는 패턴끼리의 이음매의 단차를 0.5μm 이하로 하는 것이 가능해진다. In addition, as described above, according to the imprint apparatus in the first embodiment, the UV-curable resin 13 can be divided into a curing range in which the resin is cured and a non-curing range in which the resin is not cured. . Therefore, according to the imprint apparatus according to the first embodiment, pattern molding is performed in a non-hardened range in which the resin is not cured even when the patterns are connected by performing pattern molding at a location adjacent to the pattern already formed. Can be done. Thereby, in Embodiment 1, it becomes possible to make the level difference of the joint of adjacent patterns into 0.5 micrometer or less.

따라서, 이 실시의 형태 1에 의하면, 인접하는 패턴끼리의 이음매가 불규칙한 곡선이며, 그 이음매가 0.5μm 이하의 단차를 가지는 시트형상 디바이스를 형성할 수 있다. Therefore, according to this Embodiment 1, the sheet | seat device which has a seamless curve between adjacent patterns is irregular, and the seam has a level | step difference of 0.5 micrometer or less can be formed.

또한, 이 실시의 형태 1에서의 임프린트 장치는, 직선 이동축의 X축 테이블(1)과 회전이동축의 회전 제어 롤러(11)에 의해, 임프린트 성형하는 개소를 옮겨 놓고 있다. 그러나, 몰드(4)와 기재(8)를 상대적으로 이동시키는 구성은 특별히 한정되는 것이 아니며, 예를 들면, 몰드(4)와 기재(8)를 상대적으로 이동시키는 직선의 이동축 또는 회전의 이동축 중 적어도 한쪽이 1축 이상 구비되어 있는 등, 기재(8)의 복수 개소에서의 임프린트 성형이 가능해지는 구성이면 된다. In addition, in the imprint apparatus according to the first embodiment, an imprint-molded portion is moved by the X-axis table 1 of the linear movement shaft and the rotation control roller 11 of the rotational movement shaft. However, the structure which moves the mold 4 and the base material 8 relatively is not specifically limited, For example, the movement of the linear movement axis or rotation which moves the mold 4 and the base material 8 relatively is for example. What is necessary is just the structure by which imprint molding in several places of the base material 8 is possible, such that at least one of the axes is provided with one or more axes.

또, 이 실시의 형태 1에서는, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상이며 그 평면의 사이즈가 20mm2인 몰드(4)를 이용함과 함께, 탄성률이 3.5MPa인 실리콘 고무로 이루어지는 원통형상의 탄성체(9)를 이용했다. 이 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상 및 사이즈와, 원통형상의 탄성체(9)의 탄성률로부터, 유한 요소 해석 시뮬레이션에 의해, 탄성체의 원통의 직경은 800mm 이상이 바람직한 것을 알 수 있어, 이 실시의 형태 1에서는 800mm로 설정했다. Moreover, in this Embodiment 1, while the shape 4 of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is planar shape, and the mold 4 of 20 mm <2> of the plane is used, the elasticity modulus is 3.5 MPa, The cylindrical elastic body 9 which consists of silicone rubber was used. From the shape and size of the surface direction of the area | region where this fine pattern 5 is arrange | positioned, and the elasticity modulus of the cylindrical elastic body 9, it turns out that the diameter of the cylinder of an elastic body is more than 800 mm by finite element analysis simulation. In this Embodiment 1, it set to 800 mm.

또, 이 실시의 형태 1에서는, 사행 제어 롤러(10)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도 및 회전 제어 롤러(11)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도가 모두, XZ평면으로부터 상방향으로 5도가 되도록, 탄성체(9)를 배치했다. 하지만, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상인 경우에는, 사행 제어 롤러(10)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도와, 회전 제어 롤러(11)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도가 모두 마이너스가 아니면, 몰드(4)의 패턴 형성면과 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)를 선접촉시킬 수 있다. 단, 사행 제어 롤러(10)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도와, 회전 제어 롤러(11)와 탄성체(9) 사이의 기재(8)의 각도에 따라, 가압 속도 등의 성형 조건을 적절히 조정할 필요가 있다. Moreover, in this Embodiment 1, the angle of the base material 8 between the meander control roller 10 and the elastic body 9, and the angle of the base material 8 between the rotation control roller 11 and the elastic body 9 are all The elastic body 9 was arrange | positioned so that it might be 5 degree upward from the XZ plane. However, when the shape of the surface direction of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is planar shape, the angle of the base material 8 between the meandering control roller 10 and the elastic body 9, and the rotation control roller 11 If the angle of the base material 8 between () and the elastic body 9 is not all negative, the pattern formation surface of the mold 4 and the UV-curable resin 13 on the base material 8 can be made in linear contact. However, according to the angle of the base material 8 between the meander control roller 10 and the elastic body 9, and the angle of the base material 8 between the rotation control roller 11 and the elastic body 9, shaping | molding of a press speed etc. It is necessary to adjust conditions suitably.

또, 이 실시의 형태 1에서는, 차광막(14)를 가지는 경사면을 몰드(4)에 설치했다. 그러나, 경사면 대신에 단차 형상을 형성해도 된다. 경사면이 아닌 단차 형상으로 한 경우는, 차광 범위를 보다 세밀하게 제어하는 것이 가능해진다. Moreover, in this Embodiment 1, the inclined surface which has the light shielding film 14 was provided in the mold 4. However, you may form a step shape instead of the inclined surface. In the case where the stepped shape is not an inclined surface, the light shielding range can be controlled more precisely.

또, 이 실시의 형태 1에서는 원통형상의 탄성체(9)를 이용했다. 그러나, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에서의 표면이 원통면의 일부를 이루는 형상의 탄성체를 이용해도 된다. Moreover, in this Embodiment 1, the cylindrical elastic body 9 was used. However, you may use the elastic body of the shape in which the surface in the range which opposes the pattern formation surface of the mold 4 (projection area of the pattern formation surface of the mold 4) forms a part of a cylindrical surface.

(실시의 형태 2) (Embodiment 2)

이어서, 본 발명의 실시의 형태 2에 대해서 설명한다. 이 실시의 형태 2는, 탄성체의 형상이 구형상인 점에서, 상기 서술한 실시의 형태 1과 상이하다. 이하, 실시의 형태 2에 대해서, 실시의 형태 1과 상이한 점을 중심으로 설명한다. Next, Embodiment 2 of this invention is demonstrated. The second embodiment is different from the first embodiment described above in that the elastic body has a spherical shape. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, Embodiment 2 is demonstrated centering around a point different from Embodiment 1.

도 6(a)~(d) 및 도 7은, 이 실시의 형태 2에서의 임프린트 장치에 의해, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 1개소를 임프린트 성형하는 공정을 나타낸 도이다. 상세하게는, 도 6(a)~(d)는, 몰드(4)와 탄성체(15) 사이에 기재(8)를 끼우고, 몰드(4)의 패턴 형성면을 UV경화성 수지(13)에 누르는 가압 공정을, 시계열로 나타낸 도이다. 또, 도 7은, UV경화성 수지(13)를 경화시키는 경화 공정을 나타낸 도이다. 이 경화 공정은, 도 6(a)~(d)에 나타낸 가압 공정의 후공정이다. 도 6(a)~(d)의 각각에 있어서, 상측 도면은 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위를 나타낸 도이며, 하측 도면은 공정별 측단면도이다. 또, 도 7에 있어서, 상측 도면은 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위 및 UV경화성 수지(13)의 경화 범위를 나타낸 도이며, 하측 도면은 공정별 측단면도이다. FIG.6 (a)-(d) and FIG. 7 are the figures which showed the process of imprint-molding one location of the UV curable resin 13 on the base material 8 by the imprint apparatus in this Embodiment 2. FIG. In detail, FIGS. 6A to 6D show that the substrate 8 is sandwiched between the mold 4 and the elastic body 15, and the pattern forming surface of the mold 4 is attached to the UV-curable resin 13. It is the figure which showed the pressurization process to press in time series. 7 is a figure which shows the hardening process which hardens UV curable resin 13. As shown in FIG. This hardening process is a post process of the pressurization process shown to FIG. 6 (a)-(d). In each of FIGS. 6 (a) to (d), the upper drawing is a diagram showing a contact range between the pattern forming surface of the mold 4 and the UV curable resin 13, and the lower drawing is a side cross-sectional view for each process. In addition, in FIG. 7, the upper figure is a figure which shows the contact range of the pattern formation surface of the mold 4, UV curable resin 13, and the hardening range of UV curable resin 13, and the lower figure is a side cross-sectional view by process. to be.

우선, 가성형을 행함으로써, 몰드(4)와 탄성체(9)의 위치를 맞춘 후, 본 성형으로 이행한다. First, by performing caustic molding, the positions of the mold 4 and the elastic body 9 are aligned, and then the process proceeds to the main molding.

본 성형에서는, 우선, Y축 테이블(2)이 하강함으로써, 패턴 형성면에 대면하는 한쪽면이 UV경화성 수지(13)에 의해 코트된 기재(8)가, 몰드(4)의 패턴 형성면과 구형상의 탄성체(15)의 표면(곡면) 사이에 끼워진다. 그리고, 몰드(4)의 패턴 형성면이 UV경화성 수지(13)에 눌러진다. 이것에 의해, UV경화성 수지(13)가 가압된다. 또한, 이 실시의 형태 2에서는, 탄성률 3.5MPa의 실리콘 고무로 이루어지는 직경 800mm의 구형상의 탄성체(15)를 이용했다. 또, 몰드(4)로서, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상이며 그 평면의 사이즈(미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 사이즈)가 20mm2인 것을 이용했다. In this molding, first, the Y-axis table 2 is lowered, so that the base material 8 coated with the UV-curable resin 13 on one side facing the pattern formation surface is formed with the pattern formation surface of the mold 4. It fits in between the surfaces (curved surfaces) of the spherical elastic body 15. And the pattern formation surface of the mold 4 is pressed by the UV curable resin 13. This pressurizes the UV-curable resin 13. In addition, in this Embodiment 2, the spherical elastic body 15 of diameter 800mm which consists of silicone rubber of elasticity modulus 3.5MPa was used. Moreover, as the mold 4, the shape of the surface direction of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is planar shape, and the size of the plane (size of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned) is 20 mm <2> . Used.

상기한 가압 공정에 있어서, Y축 테이블(2)은, 적어도 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 접촉하기 직전부터, 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13) 사이에 기체가 들어가지 않도록 충분히 느린 등속도로 하강하여, 몰드(4)의 패턴 형성면을 UV경화성 수지(13)에 누른다. In the above-described pressurization step, the Y-axis table 2 has a gas between the micropattern 5 and the UV curable resin 13 at least immediately before the micropattern 5 and the UV curable resin 13 come into contact with each other. It descend | falls at a constant speed slow enough so that it may not enter, and the pattern formation surface of the mold 4 is pressed by the UV-curable resin 13.

이 실시의 형태 2에서는, 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 접촉하기 전에는, 탄성체(15) 상에서의 기재(8)의 면방향의 형상이, 구형상의 탄성체(15)의 외주면(구면)의 일부를 따른 형상으로 되어 있다. 그 때문에, 패턴 형성면(미세 패턴(5))과 UV경화성 수지(13)는, 우선, 점접촉한다(도 6(a) 참조). 그 후, Y축 테이블(2)이 하강함에 따라, Y축 테이블(2)로부터의 하중에 의해, 기재(8)를 지지하고 있는 구형상의 탄성체(15)가 서서히 찌부러진다. 그 결과, 도 6(a)~(d)에 나타낸 바와 같이, Y축 테이블(2)이 하강하여, 몰드(4)와 탄성체(15)가 서로 접근하는 방향으로 상대적으로 이동함에 따라, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위가, 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 서서히 넓어진다. 즉, 접촉 범위(접촉 개소)는, Y축 테이블(2)이 하강함에 따라, 점으로부터 외측을 향해 서서히 확대된다. 이 실시의 형태 2의 임프린트 장치에 의하면, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위가 점으로부터 확대되므로, 패턴 형성면과 UV경화성 수지의 접촉 범위가 선으로부터 확대되는 상기 서술한 실시의 형태 1의 임프린트 장치에 비해, 기체가 봉입될 가능성을 더 저감할 수 있다. In this Embodiment 2, before the micropattern 5 and the UV curable resin 13 contact, the shape of the surface direction of the base material 8 on the elastic body 15 is the outer peripheral surface of the spherical elastic body 15 ( Spherical surface). Therefore, the pattern formation surface (fine pattern 5) and UV-curable resin 13 first make point contact (refer FIG. 6 (a)). Thereafter, as the Y-axis table 2 descends, the spherical elastic body 15 supporting the base material 8 is gradually crushed by the load from the Y-axis table 2. As a result, as shown in Figs. 6A to 6D, the Y-axis table 2 descends and the mold 4 and the elastic body 15 relatively move in a direction approaching each other. The contact range of the pattern formation surface of 4) and UV-curable resin 13 expands gradually from the inner side of a pattern formation surface toward an outer side. That is, the contact range (contact point) gradually expands from the point toward the outside as the Y-axis table 2 descends. According to the imprint apparatus of the second embodiment, the contact range of the pattern forming surface of the mold 4 and the UV curable resin 13 is expanded from the point, so that the contact range of the pattern forming surface and the UV curable resin is expanded from the line. Compared with the imprint apparatus of Embodiment 1 mentioned above, the possibility that a gas is encapsulated can be further reduced.

이상의 동작에 의하면, 패턴 형성면(미세 패턴(5))과 UV경화성 수지(13) 사이에 기체가 봉입되기 어려워지고, 또한, 미세 패턴(5)과 UV경화성 수지(13)가 확실히 접촉(밀착)되기 쉬워진다. 따라서, 패턴의 미전사 및 패턴의 형상 불량은 발생하기 어려워진다. According to the above operation | movement, gas becomes difficult to be enclosed between the pattern formation surface (fine pattern 5) and UV-curable resin 13, and the micropattern 5 and UV-curable resin 13 make sure contact (adherence | tightness). It becomes easy to become). Therefore, the untransfer of the pattern and the shape defect of the pattern are less likely to occur.

도 6(d)에 나타낸 바와 같이, UV경화성 수지(13)에 원하는 패턴이 부여되는 깊이까지 미세 패턴(5)이 UV경화성 수지(13)에 파묻혔을 때(밀착되었을 때)에는, 탄성체(15)의 변형에 의해, 기재(8)는, XZ평면에 수평 내지는 대략 수평이 된다. 또, 이 때, 도 6(d)에 나타낸 바와 같이, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 범위(영역)의 외측에서도, 몰드(4)의 패턴 형성면이 UV경화성 수지(13)에 접촉(밀착)된다. As shown in FIG. 6 (d), when the fine pattern 5 is buried (adhered to) the UV-curable resin 13 to a depth at which the desired pattern is imparted to the UV-curable resin 13, the elastic body 15 ), The base material 8 is horizontal or substantially horizontal to the XZ plane. At this time, as shown in Fig. 6 (d), the pattern forming surface of the mold 4 is in contact with the UV-curable resin 13 even outside the range (area) in which the fine pattern 5 is disposed. Closely).

그 후, 도 7에 나타낸 바와 같이, 미세 패턴(5)이 UV경화성 수지(13)에 밀착된 상태에서, UV조사 장치(6)가 UV광을 발광한다. 이 UV광은, 몰드(4)를 투과하여 UV경화성 수지(13)로 조사된다. UV광이 조사된 UV경화성 수지(13)는 경화된다. 이것에 의해, UV경화성 수지(13)에 미세 패턴이 전사된다. Thereafter, as shown in FIG. 7, the UV irradiation device 6 emits UV light while the fine pattern 5 is in close contact with the UV-curable resin 13. This UV light passes through the mold 4 and is irradiated with the UV curable resin 13. The UV curable resin 13 irradiated with UV light is cured. As a result, the fine pattern is transferred to the UV-curable resin 13.

이 실시의 형태 2에서도, 상기 서술한 실시의 형태 1과 마찬가지로, 몰드(4)의 패턴 형성면의 외주부에 설치된 차광 구조(차광막(14))에 의해, UV경화성 수지(13)를 경화 범위와 비경화 범위로 나눌 수 있다. 또한, 미세 패턴(5)이 형성되어 있는 영역의 외주 라인의 외측에 설치한 경사면에 의해, 경화 범위와 비경화 범위의 경계를, 직선이 아닌 불규칙한 곡선으로 할 수 있다. Also in this Embodiment 2, similarly to Embodiment 1 mentioned above, the UV-curable resin 13 is hardened | cured by the light shielding structure (light shielding film 14) provided in the outer peripheral part of the pattern formation surface of the mold 4 It can be divided into non-hardening ranges. Moreover, by the inclined surface provided outside the outer periphery line of the area | region in which the fine pattern 5 is formed, the boundary of a hardening range and a nonhardening range can be made into the irregular curve rather than a straight line.

UV경화성 수지(13)의 경화 후에는, Y축 테이블(2)이 상승함으로써, 몰드(4)가 UV경화성 수지(13)로부터 멀어진다. After the curing of the UV-curable resin 13, the Y-axis table 2 is raised so that the mold 4 moves away from the UV-curable resin 13.

이상의 동작에 의해, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 1개소를 임프린트 성형할 수 있다. By the above operation | movement, one location of the UV curable resin 13 on the base material 8 can be imprint-molded.

이어서, 이 실시의 형태 2에서의 임프린트 장치에 의해, 대면적이며 심리스인 기재(8)에 대해 상기한 임프린트 성형을 반복하여, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 복수 개소에 미세 패턴(5)을 전사하는 공정을 설명한다. Subsequently, the above-mentioned imprint molding is repeated with respect to the large-area and seamless base material 8 by the imprint apparatus in the second embodiment, and a fine pattern is provided at a plurality of locations of the UV-curable resin 13 on the base material 8. The process of transferring (5) is demonstrated.

이 실시의 형태 2의 임프린트 장치는, 상기 서술한 실시의 형태 1과 마찬가지로, 미세 패턴을 UV경화성 수지(13)에 전사하는 공정을 반복하여, 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 복수 개소에 미세 패턴(5)을 전사한다. 또, 이 실시의 형태 2의 임프린트 장치는, 상기 서술한 실시의 형태 1과 마찬가지로, 미세 패턴(5)의 전사를 반복하려면, 이미 성형되어 있는 패턴에 인접하는 개소에서 패턴 성형을 행한다. 이 패턴 성형의 동작에 의해, 본 실시의 형태 2에서는, 패턴이 연결된 대면적의 시트형상 디바이스를 형성할 수 있다. In the imprint apparatus of the second embodiment, similarly to the first embodiment described above, the process of transferring the fine pattern to the UV curable resin 13 is repeated, and a plurality of the UV curable resins 13 on the substrate 8 are provided. The fine pattern 5 is transferred to the location. In addition, similarly to the first embodiment described above, the imprint apparatus of the second embodiment performs pattern molding at a location adjacent to the pattern already formed in order to repeat the transfer of the fine pattern 5. By the operation of this pattern molding, in Embodiment 2, the sheet-like device of the large area to which the pattern was connected can be formed.

단, 이 실시의 형태 2에서의 임프린트 장치에서는, 구형상의 탄성체(15)가 사용되고 있다. 그 때문에, 이 실시의 형태 2의 임프린트 장치에는, X축 방향의 일렬 분의 임프린트 성형을 실시할 때에, 몰드(4)와 함께 탄성체(15)를 X축 방향으로 옮겨 놓기 위한 기구(도시하지 않음)가 구비되어 있다. However, in the imprint apparatus according to the second embodiment, a spherical elastic body 15 is used. Therefore, the imprint apparatus of this Embodiment 2 is a mechanism (not shown) for moving the elastic body 15 in the X-axis direction with the mold 4 at the time of performing imprint molding for one line in the X-axis direction. ) Is provided.

또, 이 실시의 형태 2에 있어서, UV경화성 수지(13)에 전사된 패턴의 경계(경화 범위의 경계)는, 상기 서술한 실시의 형태 1과 마찬가지로, 직선이 아닌 규칙성이 없는 곡선이 된다. 따라서, 패턴의 이음매를 눈에 띄지 않게 할 수 있다. 또한, 이 실시의 형태 2에서도, UV경화성 수지(13)를 경화 범위와 비경화 범위로 나눌 수 있다. 따라서, 인접하는 패턴끼리의 이음매의 단차를 0.5μm 이하로 하는 것이 가능해진다. In addition, in the second embodiment, the boundary of the pattern transferred to the UV-curable resin 13 (the boundary of the curing range) is a curve without regularity, not a straight line, as in the first embodiment described above. . Therefore, the seam of a pattern can be made inconspicuous. Moreover, also in this Embodiment 2, UV curable resin 13 can be divided into a hardening range and a nonhardening range. Therefore, it becomes possible to make the level difference of the joint of adjacent patterns into 0.5 micrometer or less.

따라서, 이 실시의 형태 2에서도, 인접하는 패턴끼리의 이음매가 불규칙한 곡선이며, 그 이음매에 0.5μm 이하의 단차를 가지는 시트형상 디바이스를 형성할 수 있다. Therefore, also in this Embodiment 2, the sheet | seat device which has a seamless curve between adjacent patterns is irregular curve, and the step | step of 0.5 micrometer or less can be formed in the joint.

또한, 이 실시의 형태 2에서는, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상이며 그 평면의 사이즈가 20mm2인 몰드(4)를 이용함과 함께, 탄성률이 3.5MPa인 실리콘 고무로 이루어지는 구형상의 탄성체(15)를 이용했다. 이 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상 및 사이즈와, 구형상의 탄성체(15)의 탄성률로부터, 유한 요소 해석 시뮬레이션에 의해, 탄성체의 구의 직경은 800mm 이상이 바람직한 것을 알 수 있어, 이 실시의 형태 2에서는 800mm로 설정했다. Moreover, in Embodiment 2, while the shape of the surface direction of the area | region in which the micropattern 5 is arrange | positioned is planar shape, the mold 4 of 20 mm <2> of the plane is used, and the elasticity modulus is 3.5 MPa, A spherical elastic body 15 made of silicone rubber was used. From the shape and size of the surface direction of the area | region where this fine pattern 5 is arrange | positioned, and the elastic modulus of the spherical elastic body 15, it turns out that the diameter of the sphere of an elastic body is 800 mm or more by finite element analysis simulation. In this Embodiment 2, it set to 800 mm.

또, 이 실시의 형태 2에서는, 구형상의 탄성체를 이용했다. 그러나, 표면이 구면 형상인 탄성체, 또는, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에서의 표면이 구면의 일부를 이루는 형상의 탄성체를 이용해도 된다. Moreover, in this Embodiment 2, the spherical elastic body was used. However, using an elastic body having a spherical shape or an elastic body having a shape in which a surface in a range facing the pattern forming surface of the mold 4 (projection area of the pattern forming surface of the mold 4) forms part of the spherical surface. You may also

이상 설명한 실시의 형태 1 및 2에서는, 실리콘 고무로 이루어지는 탄성체(9, 15)를 이용했다. 단, 탄성률이 소정의 조건을 만족하고 있으면, 탄성체의 소재는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 탄성체의 소재로서, 실리콘 고무, 불소 고무, 우레탄 고무, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 에틸렌프로필렌 고무, 부틸 고무, 클로로설폰화 폴리에틸렌 고무 등의 합성 고무 또는 천연 고무 중 적어도 1종을 사용할 수 있다. 혹은, 탄성체의 소재로서, 탄성 변형 가능한 금속을 이용해도 된다. In Embodiment 1 and 2 demonstrated above, the elastic bodies 9 and 15 which consist of silicone rubber were used. However, as long as the elastic modulus satisfies predetermined conditions, the material of the elastic body is not particularly limited. For example, at least one of synthetic rubber or natural rubber such as silicone rubber, fluorine rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, ethylene propylene rubber, butyl rubber and chlorosulfonated polyethylene rubber can be used as the material of the elastic body. have. Or you may use the metal which can elastically deform as a raw material of an elastic body.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, PET 필름으로 이루어지는 심리스의 기재(8)를 이용했다. 그러나, 롤 벨트로서 사용 가능한 경면이 얇은 다른 수지 또는 금속을 이용해도 된다. In addition, in above-mentioned Embodiment 1 and 2, the seamless base material 8 which consists of PET films was used. However, you may use other resin or metal with a thin mirror surface which can be used as a roll belt.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 몰드(4)와 탄성체(9, 15) 사이에 기재(8)를 끼우고, 그 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)에 몰드(4)의 패턴 형성면을 누르는 가압 장치로서, Y축 테이블(2)을 이용했다. 그러나, Y축 테이블은 일례이며, 가압 장치의 구성은 특별히 한정되는 것은 아니다. In Embodiments 1 and 2 described above, the base material 8 is sandwiched between the mold 4 and the elastic bodies 9 and 15, and the mold 4 is attached to the UV-curable resin 13 on the base material 8. The Y-axis table 2 was used as a pressurization apparatus which presses the pattern formation surface of the. However, the Y-axis table is an example, and the structure of a pressurization apparatus is not specifically limited.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 기재(8) 상에 설치하는 수지에 UV경화성 수지(13)를 이용했다. 그러나, 기체의 잔류 또는 몰드(4)와 기재(8) 상의 수지의 미접촉부(미밀착부)의 발생에 기인하는 패턴의 미전사나 패턴의 형상 불량 등의 문제가 발생하기 어려워지는 한, 기재(8) 상에 설치하는 수지는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 기체의 잔류 또는 몰드(4)와 기재(8) 상의 수지의 미접촉부(미밀착부)의 발생에 기인하는 패턴의 미전사나 패턴의 형상 불량 등의 문제가 발생하기 어려워진다면, UV광 이외의 광에 의해 경화되는 수지나, 전자선에 의해 경화되는 수지나, 열에 의해 경화되는 수지 등을 이용해도 된다. 또, 시트형상 디바이스(미세 패턴이 전사되는 면)의 대면적화에 대해, 인접하는 패턴 간의 이음매를 눈에 띄지 않게 할 수 있으며, 또한, 이음매의 단차를 거의 없앨 수 있는 임프린트를 실현하려면, 1개소의 임프린트 성형에서 경화 범위와 비경화 범위를 나누는 것이 가능하며, 또한, 경화 범위의 경계를 직선이 아닌 규칙성이 없는 곡선으로 할 수 있는 수지를 이용할 필요가 있다. 그러한 수지의 일례로서, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, UV경화성 수지(13)를 이용했다. 그러나, 인접하는 패턴 간의 이음매를 눈에 띄지 않게 할 수 있으며, 또한, 이음매의 단차를 거의 없앨 수 있는 한, 기재(8) 상에 설치하는 수지는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 인접하는 패턴 간의 이음매를 눈에 띄지 않게 할 수 있으며, 또한, 이음매의 단차를 거의 없앨 수 있으면, UV광 이외의 광에 의해 경화되는 수지나, 전자선에 의해 경화되는 수지나, 열에 의해 경화되는 수지 등을 이용해도 된다. Moreover, in above-mentioned Embodiment 1 and 2, UV curable resin 13 was used for resin provided on the base material 8. However, as long as problems such as untransfer of the pattern or poor shape of the pattern due to the residual of gas or the occurrence of uncontacted portions (non-adherent portions) of the resin on the mold 4 and the substrate 8 are difficult to occur, the substrate ( 8) Resin provided on is not specifically limited. For example, if it is difficult to cause problems such as untransfer of the pattern or poor shape of the pattern due to residual gas or generation of non-contact portions (non-adherent portions) of the resin on the mold 4 and the substrate 8, UV You may use resin hardened | cured by light other than light, resin hardened | cured by an electron beam, resin hardened | cured by heat, etc. In order to realize a large area of the sheet-shaped device (the surface on which the fine pattern is transferred), the seam between adjacent patterns can be made inconspicuous, and to realize an imprint that can almost eliminate the step difference between the seams, one place It is necessary to use resin which can divide a hardening range and a nonhardening range in imprint molding of the thing, and can make the boundary of a hardening range into a curve without regularity instead of a straight line. As an example of such resin, in the above-mentioned Embodiments 1 and 2, the UV curable resin 13 was used. However, resin provided on the base material 8 is not specifically limited, as long as the joint between adjacent patterns can be made inconspicuous, and the level | step difference of a joint can be almost eliminated. For example, if the seam between adjacent patterns can be made inconspicuous, and the level of the seam can be almost eliminated, the resin hardened by light other than UV light, the resin hardened by electron beam, or heat You may use resin etc. hardened | cured by it.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는 UV경화성 수지(13)를 이용했다. 그 때문에, 몰드(4)의 패턴 형성면에 접촉하고 있는 수지를 경화시키는 경화 장치로서 UV조사 장치(6)를 이용했다. 그러나, 수지를 경화시키는 장치는 UV조사 장치에 한정되는 것이 아니며, 수지의 종류에 따라 선정하면 된다. In the above-described embodiments 1 and 2, the UV curable resin 13 was used. Therefore, the UV irradiation apparatus 6 was used as a hardening apparatus which hardens resin which contacts the pattern formation surface of the mold 4. However, the apparatus which hardens resin is not limited to a UV irradiation apparatus, What is necessary is just to select according to the kind of resin.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 몰드(4)를 통해 UV광을 UV경화성 수지(13)로 조사하는 구성을 채용했다. 그 때문에, 몰드(4)의 재질로서, UV광이 투과하는 재질을 선정했다. 하지만, 몰드(4)의 재질은, UV광이 투과하는 재질에 한정되는 것이 아니며, 수지의 종류나 경화 장치의 설치 위치 등에 따라 선정할 수 있다. Moreover, in embodiment 1 and 2 mentioned above, the structure which irradiates UV light to the UV curable resin 13 through the mold 4 was employ | adopted. Therefore, the material through which UV light transmits was selected as the material of the mold 4. However, the material of the mold 4 is not limited to the material which UV light transmits, and can be selected according to the kind of resin, the installation position of a hardening apparatus, etc.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 사행 제어 롤러(10)와 회전 제어 롤러(11)에 의해 기재(8)가 탄성체(9, 15) 상으로 송출되는 구성을 채용했다. 그러나, 기재를 탄성체 상으로 송출하는 기구의 구성은 특별히 한정되는 것은 아니다. Moreover, in Embodiment 1 and 2 mentioned above, the structure where the base material 8 is sent out on the elastic bodies 9 and 15 by the meandering control roller 10 and the rotation control roller 11 was employ | adopted. However, the structure of the mechanism which sends out a base material on an elastic body is not specifically limited.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 원통형상의 탄성체(9) 또는 구형상의 탄성체(15)를 이용했다. 그러나, 탄성체의 형상은 원통형상 또는 구형상에 한정되는 것은 아니다. 탄성체는, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에, 그 범위의 내측에서 외측을 향해 몰드(4)의 패턴 형성면으로부터 멀어져 가는 형상의 곡면(표면)을 가지고 있으면 된다. 결국, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에서의 탄성체의 표면이, 몰드측으로 볼록한 형상의 곡면이면 된다. 이러한 탄성체의 표면 형상에 의해, 가압 시에, 몰드(4)의 패턴 형성면과 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위를, 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 확대시킬 수 있다. In the first and second embodiments, the cylindrical elastic body 9 or the spherical elastic body 15 was used. However, the shape of the elastic body is not limited to the cylindrical or spherical shape. The elastic body is a shape that moves away from the pattern forming surface of the mold 4 toward the outside from the inside of the range to the range (projection area of the pattern forming surface of the mold 4) facing the pattern forming surface of the mold 4. You just need to have a curved surface. As a result, the surface of the elastic body in the range facing the pattern formation surface of the mold 4 (projection area of the pattern formation surface of the mold 4) may be a curved surface having a convex shape toward the mold side. By the surface shape of such an elastic body, at the time of pressurization, the contact range of the pattern forming surface of the mold 4 and the UV curable resin 13 can be expanded from the inside of the pattern forming surface toward the outside.

또, 상기한 실시의 형태 1 및 2에서는, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상이며 그 평면의 사이즈(미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 사이즈)가 20mm2인 몰드(4)를 이용했다. 하지만, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이나 사이즈는 특별히 한정되는 것은 아니다. 단, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상에 따라, 탄성체의 표면(곡면)의 곡률을 조정하는 것이 적합하다. 상세하게는, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이 평면 형상 또는, 탄성체측으로 볼록한 형상의 곡면 형상인 경우에는, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에서의 탄성체의 곡면(표면)의 곡률을, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상의 곡률보다도 작게 설정하는 것이 바람직하다. 또, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이, 탄성체와는 반대측으로 볼록한 형상의 곡면 형상(오목한 형상의 곡면 형상)인 경우에는, 몰드(4)의 패턴 형성면에 대향하는 범위(몰드(4)의 패턴 형성면의 투영 영역)에서의 탄성체의 곡면(표면)의 곡률을, 미세 패턴(5)이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상의 곡률보다도 크게 하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 몰드(4)의 패턴 형성면과 기재(8) 상의 UV경화성 수지(13)의 접촉 범위를, 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 서서히 확대시킬 수 있다. In addition, in Embodiment 1 and 2 mentioned above, the shape of the surface direction of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is planar shape, and the size of the plane (size of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned) is A mold 4 of 20 mm 2 was used. However, the shape and size of the surface direction of the area where the fine pattern 5 is arranged are not particularly limited. However, it is suitable to adjust the curvature of the surface (curved surface) of an elastic body according to the shape of the surface direction of the area | region in which the micropattern 5 is arrange | positioned. In detail, when the shape of the surface direction of the area | region in which the fine pattern 5 is arrange | positioned is a planar shape or the curved shape of the shape convex toward the elastic body side, the range which faces the pattern formation surface of the mold 4 (mold ( It is preferable to set the curvature of the curved surface (surface) of the elastic body in the projection area of the pattern formation surface of 4) smaller than the curvature of the shape of the surface direction of the area | region where the micropattern 5 is arrange | positioned. Moreover, when the shape of the surface direction of the area | region where the micropattern 5 is arrange | positioned is a curved surface shape (concave curved surface shape) convex toward the opposite side to an elastic body, it opposes the pattern formation surface of the mold 4 It is preferable to make the curvature of the curved surface (surface) of an elastic body in the range (projection area of the pattern formation surface of the mold 4) larger than the curvature of the shape of the surface direction of the area | region where the micropattern 5 is arrange | positioned. . By doing in this way, the contact range of the pattern formation surface of the mold 4 and the UV-curable resin 13 on the base material 8 can be gradually expanded toward the outer side from the inside of a pattern formation surface.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시의 형태에 의하면, 패턴의 미전사부 및 패턴의 형상 불량부를 발생하기 어렵게 할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시의 형태에 의하면, 인접하는 패턴 간의 이음매의 단차를 거의 없앨 수 있다. 또, 본 발명의 실시의 형태에 의하면, 미세 패턴이 전사된 대면적의 시트형상 디바이스를, 간이한 염가의 설비에 의해 얻을 수 있다.
As described above, according to the embodiment of the present invention, the untransferred portion of the pattern and the shape defective portion of the pattern can be made difficult to occur. Moreover, according to embodiment of this invention, the level difference of the joint between adjacent patterns can be almost eliminated. Moreover, according to embodiment of this invention, the sheet-like device of the large area to which the micropattern was transferred can be obtained by the simple low cost installation.

Claims (15)

패턴이 형성되어 있는 패턴 형성면을 가지는 몰드와,
상기 몰드에 대향 배치된 탄성체와,
상기 몰드와 상기 탄성체 사이에 기재를 끼우고, 상기 기재 상의 수지에 상기 패턴 형성면을 누르는 가압 장치와,
상기 기재 상의 상기 수지를 경화시키는 경화 장치를 구비하고,
상기 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 상기 몰드측으로 볼록한 형상의 곡면인 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
A mold having a pattern forming surface on which a pattern is formed,
An elastic body disposed opposite the mold;
A pressing device which sandwiches a substrate between the mold and the elastic body and presses the pattern forming surface on the resin on the substrate;
It is provided with the hardening apparatus which hardens the said resin on the said base material,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the said pattern formation surface is a curved surface of the shape convex toward the said mold side, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 원통면의 일부를 이루고 있는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the said pattern formation surface forms a part of cylindrical surface, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 구면의 일부를 이루고 있는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the said pattern formation surface forms a part of spherical surface, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 패턴이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이, 평면 형상 또는, 상기 탄성체측으로 볼록한 형상의 곡면 형상이며,
상기 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 상기 패턴이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상의 곡률보다도 작은 곡률을 가지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The shape of the surface direction of the area | region in which the said pattern is arrange | positioned is planar shape or the curved surface shape of the shape convex toward the said elastic body side,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the said pattern formation surface has curvature smaller than the curvature of the shape of the surface direction of the area | region where the said pattern is arrange | positioned, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 패턴이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상이, 상기 탄성체와는 반대측으로 볼록한 형상의 곡면 형상이며,
상기 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 상기 패턴이 배치되어 있는 영역의 면방향의 형상의 곡률보다도 큰 곡률을 가지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The shape of the surface direction of the area | region in which the said pattern is arrange | positioned is the curved surface shape of the shape which convex on the opposite side to the said elastic body,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the said pattern formation surface has curvature larger than the curvature of the shape of the surface direction of the area | region where the said pattern is arrange | positioned, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 탄성체는, 상기 기재 상의 상기 수지를 경화시키는 광이 상기 탄성체의 표면으로부터 반사되지 않도록 하기 위한 반사 방지 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The elastic body has an antireflection structure for preventing the light for curing the resin on the base material from being reflected from the surface of the elastic body.
청구항 1에 있어서,
상기 탄성체의 소재로서, 합성 고무, 천연 고무 중 적어도 1종이 사용되고 있는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
At least 1 sort (s) of synthetic rubber and natural rubber is used as a raw material of the said elastic body, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 몰드와 상기 기재를 상대적으로 이동시키는 직선의 이동축 또는 회전의 이동축 중 적어도 한쪽을 1축 이상 구비하고,
상기 기재 상의 상기 수지의 복수 개소에서 임프린트 성형이 가능한 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
At least one of at least one of a linear axis of movement or a rotary axis of rotation for relatively moving the mold and the substrate,
Imprint molding is possible at multiple places of the said resin on the said base material, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 몰드는, 상기 패턴 형성면의 외주부에, 상기 패턴 형성면과 상기 수지가 접촉하는 범위 중 소정 범위를 경화시키기 위한 차광 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
The said mold has a light shielding structure for hardening | curing a predetermined range among the range which the said pattern formation surface and said resin contact in the outer peripheral part of the said pattern formation surface, The manufacturing apparatus of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 1에 있어서,
상기 기재의 장력을 조정하는 장력 조정 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 장치.
The method according to claim 1,
And a tension adjusting mechanism for adjusting the tension of the base material.
패턴이 형성되어 있는 패턴 형성면을 가지는 몰드와, 곡률을 갖는 소정 형상의 탄성체 사이에, 상기 패턴 형성면에 대면하는 한쪽면 상에 수지가 설치된 기재를 끼우고, 상기 패턴 형성면을 상기 수지에 눌러 상기 수지를 가압하는 공정과,
상기 기재 상의 수지를 경화시키는 공정을 구비하고,
가압 시에, 상기 몰드와 상기 탄성체 중 적어도 한쪽이, 상기 몰드와 상기 탄성체가 접근하는 방향으로 이동함에 따라, 상기 패턴 형성면과 상기 수지가 접촉하는 범위가, 상기 패턴 형성면의 내측에서 외측을 향해 넓어지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 방법.
Between the mold which has a pattern formation surface in which a pattern is formed, and the elastic body of a predetermined shape which has a curvature, the base material provided with resin was pinched on the one surface which faces the said pattern formation surface, and the said pattern formation surface was made to the said resin. Pressing to pressurize the resin;
And a step of curing the resin on the base material,
At the time of pressurization, as the at least one of the mold and the elastic body moves in the direction in which the mold and the elastic body approach, the range where the pattern forming surface and the resin contact each other is outside from the inside of the pattern forming surface. The manufacturing method of the sheet-like device characterized by spreading toward the side.
청구항 11에 있어서,
상기 몰드의 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 그 투영 영역의 내측에서 외측을 향해 상기 패턴 형성면으로부터 멀어져 가는 형상의 곡면인 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 방법.
The method of claim 11,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the pattern formation surface of the said mold is a curved surface of the shape which moves away from the said pattern formation surface toward the outer side inside the projection area, The manufacturing method of the sheet-like device characterized by the above-mentioned.
청구항 11에 있어서,
상기 몰드의 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 원통면의 일부를 이루고,
가압 시에, 상기 몰드와 상기 탄성체 중 적어도 한쪽이, 상기 몰드와 상기 탄성체가 접근하는 방향으로 이동함에 따라, 상기 패턴 형성면과 상기 수지가 접촉하는 범위가, 선분으로부터 외측을 향해 넓어지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 방법.
The method of claim 11,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the pattern formation surface of the said mold forms a part of a cylindrical surface,
At the time of pressurization, as the at least one of the mold and the elastic body moves in a direction in which the mold and the elastic body approach, the range where the pattern forming surface and the resin contact is widened from the line segment to the outside. The manufacturing method of the sheet-like device made into.
청구항 11에 있어서,
상기 몰드의 패턴 형성면의 투영 영역에서의 상기 탄성체의 표면이, 구면의 일부를 이루고,
가압 시에, 상기 몰드와 상기 탄성체 중 적어도 한쪽이, 상기 몰드와 상기 탄성체가 접근하는 방향으로 이동함에 따라, 상기 패턴 형성면과 상기 수지가 접촉하는 범위가, 점으로부터 외측을 향해 넓어지는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 방법.
The method of claim 11,
The surface of the said elastic body in the projection area | region of the pattern formation surface of the said mold forms a part of spherical surface,
At the time of pressurization, as the at least one of the mold and the elastic body moves in a direction in which the mold and the elastic body approach, the range where the pattern-forming surface and the resin contact is widened from the point toward the outside. The manufacturing method of the sheet-like device made into.
청구항 11에 있어서,
상기 패턴 형성면에 의해 상기 수지를 가압한 후, 상기 수지를 경화시킴으로써, 상기 수지에 상기 패턴을 전사하는 공정을 반복하여, 상기 기재 상의 상기 수지의 복수 개소에 상기 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 시트형상 디바이스의 제조 방법.
The method of claim 11,
After pressing the said resin by the said pattern formation surface, hardening the said resin repeats the process of transferring the said pattern to the said resin, and transfers the said pattern to several places of the said resin on the said base material, It is characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of a sheet-like device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20180096613A (en) * 2015-12-18 2018-08-29 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 METHOD OF FORMING REFLECTION-ABSORBING OPTICAL SUBSTRATE
WO2019078412A1 (en) * 2017-10-20 2019-04-25 유버 주식회사 Curing device and display panel curing method
KR102555032B1 (en) * 2022-01-13 2023-07-13 최대용 Form forming apparatus for surface engraving of concrete wall

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