KR20120120633A - Coating method of anti-adhesive material on mold surface for nanoimprint lithography - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A coating method of a surface of a mold for nanoimprint lithography with an anti-adhesive material is provided to provide high accuracy and contact angle for a mold of high steps or a micro mold with a period of 100 nm or less. CONSTITUTION: A coating method of a surface of a mold for nanoimprint lithography comprises: a step of conducting surface oxidation by reacting with basic oxide etchant; a step of attaching a weld surface of APTES of -OH(hydroxyl) group of a surface of a mold by reacting the mold with 3-aminopropyl triethoxysilane solution; and a step of reacting the mold with monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane solution, and attaching PDMS material to the APTES as an anti-adhesive material.

Description

나노임프린트 리소그라피용 주형 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법{COATING METHOD OF ANTI-ADHESIVE MATERIAL ON MOLD SURFACE FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY}COATING METHOD OF ANTI-ADHESIVE MATERIAL ON MOLD SURFACE FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY}

본 발명은 나노임프린트 리소그라피(nanoimprint lithography)용 주형 표면에 항부착성 물질(anti-adhesive material)을 코팅하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 나노임프린트 리소그라피용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 있어서, ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,; ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및; ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함한 나노 임프린트 리소그라피용 주형 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of coating an anti-adhesive material on the surface of a mold for nanoimprint lithography, and more particularly, to an anti-adhesive material on a mold surface for nanoimprint lithography. In the method for coating, iii) reacting the template with the basic oxidation solution to proceed with the surface oxidation; Ii) reacting the surface-oxidized template with 3-aminopropyl triethoxysilane (APTES) solution to react with -OH (hydroxyl group) on the surface of the mold to attach APTES to the surface of the mold; Iii) reacting the APTES-attached template with a monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane (PDMS) solution to attach PDMS as an antiadhesive material to the APTES. A method of coating an antiadhesive material on a surface.

1995년 프린스턴 대학의 Chou 교수가 최초로 제안한 나노 임프린트 리소그라피는 나노 크기의 패턴을 가지는 단단한 원판 주형을 고분자로 코팅된 기판 위에 열과 압력을 이용하여 찍어내는 직접 각인 기술로서, 원판의 나노패턴이 반대 형상으로 전사된 나노 패턴을 가진 고분자 박막을 손쉽고 정확하게 제조할 수 있는 기술이다. 원판 주형의 경우 주로 산화실리콘(SiO2)이나 실리콘 웨이퍼(Si-wafer)와 같은 무기물 표면에 화학적 식각이나 원자빔 식각 방법을 이용하여 나노 패턴을 만든다. Nano imprint lithography, first proposed by Professor Chou of Princeton University in 1995, is a direct imprinting technique that uses a heat- and pressure-printed rigid disc template with a nano-sized pattern on a polymer-coated substrate. It is a technology that can easily and accurately manufacture a polymer thin film having a transferred nano pattern. In the case of disc molds, nano-patterns are mainly formed by chemical etching or atomic beam etching on inorganic surfaces such as silicon oxide (SiO 2) or silicon wafers (Si-wafer).

그러나 나노 임프린트 리소그라피는 대상 물질에 주형 물질을 고압으로 누르는 공정이 포함되므로 무기질 원판 물질의 단단한 특성 때문에 반복적으로 원판 주형을 사용할 경우, 원판 주형의 나노구조가 파괴될 가능성이 있다. 또한, 무기질 원판과 고분자 대상 물질간의 열팽창 정도 차이에서 오는 나노구조의 변형, 원판의 오염문제 등 해결해야 할 문제가 많다. 최근 이와 같은 문제점을 개선하기 위해, 무기물을 단단한 재질의 고분자로 대체하려는 연구가 진행되고 있다. 고분자 물질을 사용할 경우, 하나의 무기물 원판 주형에서 여러 개의 고분자 레플리카 주형을 제작할 수 있으므로 원판의 오염을 근본적으로 줄일 수 있다. 또한 무기물 주형에 비해 경제성 면에서도 장점을 가진다. 대상 고분자 물질로는 임프린팅 공정을 충분히 견딜 수 있을 정도의 강도를 가지는 우레탄 계열, 혹은 에폭사이드 계열의 고분자 물질이 주로 사용된다. 그러나 이러한 고분자 물질들은 높은 표면에너지 때문에 이를 주형으로 사용하여 나노 임프린트 리소그라피를 진행할 경우, 주형 물질과 패턴이 전사되는 대상 물질 사이가 서로 강하게 접착되어 이에 때른 패턴 왜곡 현상과 주형의 오염 문제가 발생하게 된다. 이를 해결하기 위해 항부착성질인 PDMS(poly dimethylsiloxane) 등의 물질을 주형 표면에 코팅하는 연구가 시도되고 있다. 그러나 백 나노미터 이하의 주기를 가지는 미세 나노구조체나 지름:길이의 비가 1:5 이상의 고단차(high aspect ratio)를 가지는 주형의 경우, 균일한 항부착성 물질 코팅이 다음과 같은 두 가지 이유로 매우 어렵다. However, since nanoimprint lithography involves the process of pressing the mold material at a high pressure, the nanostructure of the disc mold may be destroyed if the disc mold is repeatedly used due to the rigid properties of the inorganic disc material. In addition, there are many problems to be solved, such as the deformation of the nanostructure, the contamination of the disk resulting from the difference in the degree of thermal expansion between the inorganic disk and the polymer target material. Recently, in order to improve such a problem, research is being conducted to replace the inorganic material with a polymer of a hard material. In the case of using a polymer material, since several polymer replica molds can be manufactured from one inorganic disc mold, the contamination of the disc can be fundamentally reduced. It also has advantages in economics compared to mineral molds. As the target polymer material, a urethane-based or epoxide-based polymer material having strength sufficient to withstand the imprinting process is mainly used. However, when these polymer materials are nanoimprinted by lithography using them as a template due to their high surface energy, the template material and the target material to which the pattern is transferred are strongly adhered to each other, resulting in occasional pattern distortion and contamination of the mold. . In order to solve this problem, a research has been attempted to coat an antiadhesive material such as PDMS (poly dimethylsiloxane) on the surface of a mold. However, for micro-nanostructures with periods of less than one hundred nanometers or for molds with high aspect ratios of diameter to length ratios of greater than 1: 5, a uniform antiadhesive coating is very important for two reasons: it's difficult.

첫 번째는 항부착성 물질 코팅을 위한 전처리 과정에 주형 표면 산화 공정이 필수적인데, 이 때 기존에 주로 사용되어 온 광산화(photooxidation)법은 광경화성 수지로 만들어진 레플리카 주형에 손상을 가져와 임프린팅시 정확도(fidelity)가 보장되지 않는 어려움이 있다. 이러한 문제는 특히 나노구조체의 주기가 작아질수록 매우 심각해진다. 두 번째 어려움은 고단차를 가지는 주형의 경우, 코팅 물질이 나노구조체 안으로 완벽하게 침투되지 않는다는 것이다. 이로 인하여 레플리카 주형이 원판 주형의 나노구조를 그대로 복제하기 매우 어렵다. First, mold surface oxidation is essential for pretreatment for anti-adhesive coatings. Photooxidation, which has been commonly used in the past, can damage replica molds made of photo-curable resins, resulting in accuracy when imprinting. There is a difficulty that fidelity is not guaranteed. This problem is particularly acute when the nanostructures are shortened. The second difficulty is that for molds with high steps, the coating material does not penetrate completely into the nanostructures. Because of this, it is very difficult for a replica template to replicate the nanostructure of the original template as it is.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기존의 광학적 산화방법을 사용하지 않아 주형을 손상시키지 않으면서도 나노임프린트 리소그래피용 주형, 특히 100nm 이하의 주기를 갖는 미세 주형이나 고단차의 주형에도 높은 정확도 및 접촉각을 갖도록 주형 표면에 효과적으로 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공하는 것이다. Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to use a conventional optical oxidation method without damaging the mold without damaging the mold, particularly high precision and contact angles even for fine molds having a cycle of less than 100nm or high-step mold It is to provide a method for effectively coating the anti-adhesive material on the mold surface to have a.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 있어서, ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,; ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및; ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함한 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention is a method of coating an anti-adhesive material on the surface of the mold (nanoimprint lithography) for the mold, i) reacting the template with a basic oxidation solution to proceed with the surface oxidation Doing; Ii) reacting the surface-oxidized template with 3-aminopropyl triethoxysilane (APTES) solution to react with -OH (hydroxyl group) on the surface of the mold to attach APTES to the surface of the mold; Iii) reacting the APTES-attached template with a monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane (PDMS) solution to attach PDMS as an antiadhesive material to the APTES. It provides a method for coating an anti-adhesive material.

또한, 본 발명은 상기 ⅲ)단계가 감압하에 수행되는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for coating an anti-adhesive material on a template for nanoimprint lithography, wherein the step iii) is performed under reduced pressure.

또한, 본 발명은 상기 주형이 원판 주형에서 복제된 고분자 물질로 된 레플리카 주형(replica mold)인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for coating an anti-adhesive material on a mold for nanoimprint lithography, wherein the mold is a replica mold made of a polymeric material replicated in a disc mold.

또한, 본 발명은 상기 염기성 산화용액이 염기로서 암모니아와 과산화수소를 포함한 수용액이며, 상기 암모니아수(25 wt%), 과산화수소(28 wt%) 및 물의 비율이 부피비로 1: 0.7 내지 5: 5 범위인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법을 제공한다.In addition, the present invention is that the basic oxidation solution is an aqueous solution containing ammonia and hydrogen peroxide as a base, the ratio of the ammonia water (25 wt%), hydrogen peroxide (28 wt%) and water in the volume ratio of 1: 0.7 to 5: 5 range. It provides a method for coating an anti-adhesive material on a template for nanoimprint lithography characterized in that.

본 발명에 따른 나노 임프린트 리소그라피용 주형 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 의하면 100nm 이하의 주기 또는 고단차를 가지는 경우에도 주형의 표면에 비파괴적으로 염기성 용액 산화 처리가 적용된 항부착성 물질을 균일하게 코팅할 수 있어 좋은 정확도와 재현성을 가지는 항부착성 물질이 코팅된 나노 임프린트 리소그라피용 주형을 제작할 수 있다.According to the method of coating the anti-adhesive material on the surface of the nanoimprint lithography mold according to the present invention, even if the cycle or high step of less than 100nm, the anti-adhesive material to which the basic solution oxidation treatment is applied nondestructively to the surface of the mold Uniform coating allows the fabrication of nanoimprint lithography molds coated with anti-adhesive materials with good accuracy and reproducibility.

도 1은 본 발명의 나노 구조 레플리카 주형의 제조 과정을 설명하기 위한 공정 이해도
도 2는 각각 (a) 진공조에 투입하지 않고 제작된 레플리카 주형과 (b) 진공조에 투입하여 제작된 레플리카 주형의 비교 SEM 사진
도 3은 광산화법을 이용하여 각각 (a) 1분, (b) 2분, (c) 4분, (d) 8분의 산화 공정을 거친 후 제작된 레플리카 주형의 SEM 사진
도 4는 본발명의 방법으로 염기성 산화용액 산화법을 이용하여 각각 (a) 5분, (b) 10분, (c) 15분, (d) 30분의 산화 공정을 거친 후 제작된 레플리카 주형의 SEM 사진
도 5는 (a) 항부착성 물질 코팅을 하지 않은 레플리카 주형, (b)-(e)는 광산화법을 이용하여 표면 산화 후 항부착성 물질 코팅을 한 레플리카 주형으로 광산화 시간이 각각 (b) 1분, (c) 2분, (d) 4분, (e) 8분인 경우, (f)-(i)는 염기성 용액 산화법을 이용하여 표면 산화 후 항부착성 물질 코팅을 한 레플리카 주형으로 산화 처리 시간이 각각 (f) 2분, (g) 5분, (h) 10분, (i) 30분인 경우의 접촉각 측정 사진 및 시간에 따른 접촉각 변화 그래프1 is a process understanding for explaining the manufacturing process of the nano-structured replica template of the present invention
Figure 2 is a comparative SEM photograph of the (a) replica molds produced without input to the vacuum chamber and (b) replica molds produced by injection into the vacuum chamber
Figure 3 is a SEM photograph of a replica mold produced after the oxidation process of (a) 1 minute, (b) 2 minutes, (c) 4 minutes, (d) 8 minutes using the photooxidation method, respectively
Figure 4 is a replica of a replica template prepared after the oxidation process of (a) 5 minutes, (b) 10 minutes, (c) 15 minutes, (d) 30 minutes using the basic oxidation solution oxidation method according to the present invention SEM photo
Figure 5 is a (a) replica mold without an anti-adhesive material coating, (b)-(e) is a replica mold with an anti-adhesive material coating after surface oxidation using a photooxidation method (b) For 1 minute, (c) 2 minutes, (d) 4 minutes, and (e) 8 minutes, (f)-(i) is oxidized to a replica template coated with an anti-adhesive material after surface oxidation using basic solution oxidation Contact angle measurement photograph and graph of contact angle change over time when treatment time is (f) 2 minutes, (g) 5 minutes, (h) 10 minutes, and (i) 30 minutes, respectively

이하에서 본 명세서에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 나노 구조 레플리카 주형의 제조 과정은 도 1에 나타난 것과 같이 제조될 수 있다. 도 1은 본 발명의 나노 구조 레플리카 주형의 제조 과정을 설명하기 위한 공정 흐름도이다. 도 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 먼저 항부착성 물질이 코팅되어 있는 나노 구조의 원판 주형 물질 위에 레플리카 주형으로 사용될 광경화성 고분자 물질을 떨어뜨린 후, PET(poly-ethylene terephthalate) 필름을 사용하여 눌러 준다. 이후 일정 시간 동안 자외선을 조사하여 고분자 물질을 광경화 시킨 후 원판 주형으로부터 탈착시키면 원판 주형의 나노 구조와 반대 모양의 나노 구조 레플리카 주형을 얻을 수 있다. 이 주형 표면을 염기성 용액 산화법으로 처리하고 그 위에 항부착성 물질을 코팅함으로써 다른 고분자 물질의 나노 임프린트 리소그라피를 위한 나노 구조 레플리카 주형을 얻게 된다.The manufacturing process of the nanostructured replica template of the present invention can be prepared as shown in FIG. 1 is a process flow chart for explaining the manufacturing process of the nano-structured replica template of the present invention. As shown in FIG. 1, first, a photocurable polymer material to be used as a replica template is dropped on a negative electrode template coated with an anti-adhesive material, and then pressed using a PET (poly-ethylene terephthalate) film. give. After irradiating UV light for a certain time, the polymer material is photocured, and then desorbed from the disc mold to obtain a nanostructure replica mold having a shape opposite to that of the disc template. The surface of the template is treated by basic solution oxidation and the anti-adhesive material coated thereon to obtain a nano-structured replica template for nanoimprint lithography of other polymeric materials.

본 발명의 나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법은 ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,; ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및; ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함한다.  The method for coating an anti-adhesive material on the surface of the mold for nanoimprint lithography of the present invention includes the steps of: i) reacting the template with a basic oxidation solution to perform surface oxidation; Ii) reacting the surface-oxidized template with 3-aminopropyl triethoxysilane (APTES) solution to react with -OH (hydroxyl group) on the surface of the mold to attach APTES to the surface of the mold; Iii) reacting the template to which APTES is attached with a monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane (PDMS) solution to attach PDMS as an antiadhesive material to the APTES.

본 발명에 있어서 상기 나노임프린트 리소그래피용 주형은 원판 주형일 수도 있고 레플리카 주형(replica mold)일 수도 있다. 다만, 원판 주형의 경우 통상 금속 또는 금속산화물과 같이 광산화에도 손상의 염려가 적어 본 발명의 나노임프린트 리소그래피용 주형은 원칙적으로 광경화성 수지와 같은 고분자 재질의 레플리카 주형을 그 대상으로 한다. 또한, 본 발명에 적용 가능한 주형은 나노임프린트 리소그래피용으로 사용되는 것에 모두 적용 가능하며, 특히 종전 광산화 공정에는 적용이 어려운 것으로 알려진 100nm 이하의 패턴을 가진 주형이나 고단차 주형에도 항부착성 물질의 고른 도포가 가능함을 알 수 있다. 원판 주형은 고단차를 가지는 양극 산화 알루미늄 나노구조체를 예로 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 레플리카 주형에 적용되는 재질은 특별히 제한되는 것은 아니며, 자외선에 경화되는 고분자 물질, 바람직한 예로 에폭사이드계, 우레탄계 또는 이소시아네이트계 고분자 등을 들 수 있다.In the present invention, the mold for nanoimprint lithography may be a disc mold or a replica mold. However, in the case of a disc mold, there is little concern about damage even in photo-oxidation like a metal or a metal oxide, and thus the mold for nanoimprint lithography of the present invention is a replica mold made of a polymer material such as a photocurable resin. In addition, the molds applicable to the present invention can be applied to all those used for nanoimprint lithography, and in particular, even with a mold having a pattern of 100 nm or less or a high step mold known to be difficult to apply to a conventional photochemical process, It can be seen that the application is possible. The disc template may include, but is not limited to, anodized aluminum oxide nanostructures having high steps. The material applied to the replica mold is not particularly limited, and examples thereof include a polymer material that is cured by ultraviolet rays, and an epoxide-based, urethane-based or isocyanate-based polymer.

본 발명의 나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법은 ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계를 포함한다. 일반적으로 기존의 항부착성 물질 코팅은 광산화 과정을 거치게 되는데, 이는 표면을 산화시킴으로써 표면에 수산화기를 많이 만들어 두어야 이것이 APTES와 효과적으로 반응하게 되고 이 APTES가 결국 항부착성 물질인 PDMS와 실란화 반응에 의해 결합되어 항부착성 물질 코팅이 효과적으로 이루어지기 때문이다. 그런데 고분자 주형의 경우, 특히 나노 구조를 가지는 고분자 물질의 경우, 광산화 과정을 거칠 경우, 그 표면에 심각한 손상을 입게 된다. 따라서, 본 발명에서는 광산화 반응보다 마일드(mild)한 산화방법인 염기성 산화용액을 이용하여 산화반응시 주형 표면의 손상을 방지할 수 있도록 하였다. 본 발명에 있어서 상기 염기성 산화용액은 주형 표면을 산화시켜 -OH(수산기)를 형성하기 위한 것이다. 또한, 산화반응에는 산(acid) 용액을 이용하는 것이 일반적이나, 산 용액은 산화와 더불어 고분자 재질의 레플리카 주형의 구조를 상하게 할 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 산화용액의 pH를 7 이상의 염기성으로 하여 산화과정에서 레플리카 주형의 파괴를 방지하도록 한다. 상기 염기성 산화용액에 사용되는 염기의 종류는 특별히 제한되는 것은 아니나, 유기물 제거에 효과가 있고 잔류가 적은 휘발성 염기인 암모니아를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 산화제의 종류 역시 특별히 제한되는 것은 아니나, 미세구조를 갖는 나노구조체가 대상임을 고려하면 세척 후 잔류가 적은 산화제를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 실시예에서는 산화제로서 과산화수소를 사용하였다. 본 발명의 실시예에서는 상기 염기성 산화용액으로 염기로서 암모니아수(25wt%)를, 산화제로서 과산화수소수(28wt%)를 포함한 수용액인 것을 사용 하였고, 상기 암모니아수와 과산화수소수 및 물의 비율이 부피비로 1: 0.7 내지 5: 5 의 범위인 것이 바람직하다.The method of coating the anti-adhesive material on the surface of the mold for nanoimprint lithography of the present invention includes the steps of: i) reacting the template with a basic oxidation solution to proceed with surface oxidation. In general, conventional anti-adhesive coatings undergo a photooxidation process, which requires oxidation of the surface to make more hydroxyls on the surface, which effectively reacts with APTES, which eventually reacts with the anti-adhesive PDMS and silanization reaction. This is because the anti-adhesive material coating is effectively performed by bonding together. However, in the case of the polymer template, particularly in the case of a polymer material having a nanostructure, the surface is severely damaged when subjected to the photooxidation process. Therefore, in the present invention, it is possible to prevent damage to the mold surface during the oxidation reaction by using a basic oxidation solution, which is a mild oxidation method than the photoacidification reaction. In the present invention, the basic oxidation solution is for oxidizing the mold surface to form -OH (hydroxyl group). In addition, an acid solution is generally used for the oxidation reaction, but the acid solution may damage the structure of the replica mold made of a polymer material together with the oxidation. Therefore, in the present invention, the pH of the oxidizing solution is made to be 7 or more basic to prevent destruction of the replica template during the oxidizing process. The type of the base used in the basic oxidation solution is not particularly limited, but it is more preferable to use ammonia, which is effective in removing organic matter and has a less residual volatile base. In addition, the type of oxidizing agent is also not particularly limited, but considering that the nanostructure having a microstructure is an object, it is preferable to use an oxidizing agent having little residual after washing. In the embodiment of the present invention, hydrogen peroxide was used as the oxidizing agent. In the exemplary embodiment of the present invention, an aqueous solution including ammonia water (25 wt%) as a base and hydrogen peroxide (28 wt%) as an oxidant was used as the basic oxidation solution, and the ratio of the ammonia water, hydrogen peroxide water and water was 1: 0.7 by volume. It is preferable that it is in the range of 5: 5.

본 발명의 나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법은 상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계를 포함한다. 항부착성 물질인 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)은 통상 주형 표면의 수산기와 반응을 하지 않는다. 따라서, 수산기와 PDMS를 연결하는 연결제로서 APTES를 주형 표면의 수산기와 우선적으로 반응시킨다.The method of coating an anti-adhesive material on a mold surface for nanoimprint lithography of the present invention is a solution of 3-aminopropyl triethoxysilane (APTES) in which the surface is oxidized. Reacting with -OH (hydroxyl group) on the mold surface to attach APTES to the mold surface. Polydimethylsiloxane (PDMS), an anti-adhesive material, usually does not react with hydroxyl groups on the surface of the mold. Thus, APTES preferentially reacts with the hydroxyl group on the mold surface as a linking agent to the hydroxyl group and PDMS.

상기 APTES가 부착된 주형은 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키게 된다. APTES와 PDMS의 반응은 APTES의 아민기와 PDMS의 에폭시기의 실란화 반응으로 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 모두 알 수 있을 것이므로 본 명세서에서 더 이상의 설명은 하지 않기로 한다. 또한, 상기 ⅲ)단계 반응은 특별한 반응조건을 요하지 않으나, 감압(진공)하에 수행되는 것이 보다 바람직하다. 진공 조건하에 반응을 수행하는 경우 주형 내부의 공기가 빠져나가면서 PDMS가 주형의 패턴 속으로 보다 깊숙이 침투할 수 있도록 하여 100nm 이하의 패턴을 가진 주형이나 고단차 주형 등 복잡한 나노 구조체에도 고른 코팅이 가능해지기 때문이다. The APTES-attached template reacts with monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane (PDMS) solution to attach PDMS as an antiadhesive material to the APTES. The reaction between APTES and PDMS is a silanization reaction between the amine group of APTES and the epoxy group of PDMS, and therefore will be understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. In addition, the iii) step reaction does not require special reaction conditions, it is more preferably carried out under reduced pressure (vacuum). When the reaction is carried out under vacuum conditions, the air inside the mold escapes to allow the PDMS to penetrate deeper into the mold pattern, allowing even coating of complex nanostructures such as molds with sub-100 nm patterns or high step molds. For losing.

본 명세서에서 용액과 주형의 반응으로 표현된 부분은 주형을 용액에 침지하거나 용액을 주형에 도포하는 방식으로 진행되었다.In the present specification, the part expressed by the reaction of the solution with the mold was performed by immersing the mold in the solution or applying the solution to the mold.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention.

실시예 1(레플리카 주형의 제작)Example 1 (production of replica molds)

우선 항부착성 물질 코팅을 하게 될 고단차를 가지는 양극 산화 알루미늄 나노 구조체(원판 주형)을 에탄올로 10분간 초음파 세정 후 질소로 표면을 건조시킨다. 세정, 건조된 무기물 원판은 자외선에 의한 표면 파괴가 거의 없으므로, 광산화법을 이용하여 30 분간 표면 산화 공정을 진행하고, 0.5 wt%로 맞추어진 APTES(3-(aminopropyl triethoxysilane)) 용액에 10분간 담가둔다. APTES 에 10분간 방치 되었던 원판을 꺼내어 증류수로 닦아주고, 질소로 표면을 건조시킨다. 이후 monoglycidyl ether terminated PDMS 용액을 원판위에 얇게 펴 발라준다. 이 때, 고단차를 가지는 원판의 경우, 대기 중에서 실험을 진행할 때는 나노구조체의 깊은 곳까지 들어가기 어려운 단점이 있다. 이를 해결하기 위하여, PDMS 용액 처리를 마친 원판을 압력 ~1.0 X 10-3Torr의 진공조에 넣어 30분간 나노구조체 속의 공기를 빼내어 줌으로써 PDMS 용액이 나노구조체 속으로 효과적으로 침투될 수 있도록 해 준다. 이후에 80℃로 4시간 가열하여 표면에 있는 APTES의 아민기와 PDMS의 에폭시기를 반응시켜 PDMS를 표면에 코팅시킨다. 4시간이 지난 후 이소프로필 알콜로 10분간 초음파 세정 후 질소로 표면을 건조시킨다. First, the anodized aluminum oxide nanostructure (disc template) having a high step to be coated with an antiadhesive material is ultrasonically cleaned with ethanol for 10 minutes and then the surface is dried with nitrogen. Since the cleaned and dried inorganic disk has almost no surface destruction by ultraviolet light, the surface oxidation process is carried out for 30 minutes by photooxidation method and soaked in APTES (3- (aminopropyl triethoxysilane)) solution set at 0.5 wt% for 10 minutes. Put it. Remove the original plate, which was left in APTES for 10 minutes, clean it with distilled water and dry the surface with nitrogen. Then apply a thin layer of monoglycidyl ether terminated PDMS solution on the disc. At this time, in the case of the disc having a high step, it is difficult to enter deep into the nanostructure when the experiment in the air. In order to solve this problem, the PDMS solution treated disk was put in a vacuum chamber of pressure ˜1.0 × 10 −3 Torr to extract air from the nanostructure for 30 minutes to allow the PDMS solution to effectively penetrate into the nanostructure. After 4 hours heating to 80 ℃ to react the amine of APTES and the epoxy group of PDMS on the surface to coat the PDMS surface. After 4 hours, ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol for 10 minutes, the surface is dried with nitrogen.

진공조를 사용함으로써 나노구조체 깊숙한 곳까지 항부착성 코팅이 되었다는 것은 이후 레플리카 주형 제작을 통해 확인된다. 항부착성 물질이 코팅된 원판 주형에 레플리카 주형으로 사용하게 될 광경화성 고분자 물질을 적하한다. 이후 압력 ~1.0 X 10-3Torr의 진공조에 넣어 원판 나노 구조체와 레플리카 주형 사이의 공기를 효과적으로 제거해 준다. 10분이 지난 후 PET 필름으로 눌러 주고, 365nm 파장의 자외선을 1시간 동안 조사하여 레플리카 주형 물질을 광경화 시키고 떼어낸다. 이렇게 만들어진 레플리카 주형을 주사전자현미경을 통해 분석하였다. The use of a vacuum bath to provide an anti-adhesive coating deep into the nanostructures is later confirmed by the manufacture of replica molds. The photocurable polymer material, which will be used as a replica mold, is added to the disk mold coated with the anti-adhesive material. It is then placed in a vacuum chamber of pressure ˜1.0 × 10 −3 Torr to effectively remove air between the disc nanostructure and the replica template. After 10 minutes, the film is pressed with a PET film and irradiated with ultraviolet rays of 365 nm wavelength for 1 hour to photo-cure and remove the replica template material. The replica template thus prepared was analyzed by scanning electron microscopy.

도 2는 각각 (a) 항부착성 코팅 과정을 대기 중에서만 진행한 레플리카 주형의 표면과 (b) 항부착성 코팅 과정을 진공조에서 실시한 레플리카 주형 표면의 주사전자현미경 데이터이다. 도 2(b)에서 알 수 있는 바와 같이, 진공조에 넣어 공정을 진행한 레플리카 주형의 경우 일정한 길이를 가지는 나노구조체를 제작 할 수 있었으나, 진공조에 넣지 않고 공정을 진행한 레플리카 주형의 경우(도 2a), 나노구조체의 길이가 일정하지 않음을 확인할 수 있다. 즉 원판 주형의 나노구조체 안으로 PDMS나 레플리카 주형 물질이 깊숙이 들어가지 못했음을 알 수 있다. 이것은 원판 주형에 항부착성 물질 코팅시 진공조에서 공정을 진행해야만 나노구조체 속의 공기가 제거되어 항부착성 물질이 나노구조체의 깊숙한 곳까지 침투함으로써 레플리카 주형 제작시 완벽한 전사가 될 수 있음을 의미한다.
FIG. 2 shows scanning electron microscope data of (a) the surface of a replica mold having an anti-adhesive coating process only in the air and (b) the surface of the replica template having an anti-adhesive coating process in a vacuum chamber. As can be seen in Figure 2 (b), in the case of replica molds that were subjected to the process in a vacuum chamber was able to produce a nanostructure having a certain length, but in the case of replica molds that proceeded the process without putting in a vacuum chamber (Fig. 2a ), It can be seen that the length of the nanostructure is not constant. In other words, PDMS or replica template material did not penetrate deep into the nanostructure of the disc template. This means that when the anti-stick material is coated on the disc mold, the process must be carried out in a vacuum chamber to remove the air in the nano-structure, so that the anti-stick material penetrates deep into the nano-structure to be a perfect transfer in the production of replica molds. .

실시예 2 및 비교예(레플리카 주형에 항부착성 물질 코팅)Example 2 and Comparative Example (Coating Anti-Adhesive Material to Replica Mold)

전술한 방법 중 원판 주형의 항부착성 물질 코팅을 진공에서 수행하여 제조된 레플리카 주형을 이용하여 다시 그 표면에 항부착성 물질 코팅을 진행하였다. 염기성 산화용액으로는 암모니아수, 과산화수소 그리고 물을 적당한 비율로 섞어 사용하였고, 비교를 위해 자외선에 의한 광산화 결과와 대비하였다. 광산화 과정으로 항부착성 물질을 코팅하는 공정의 경우, 실시예 1의 방법과 동일하다.  The anti-adhesive material coating was again performed on the surface of the above-described method using a replica mold prepared by coating the anti-adhesive material of the disc mold in a vacuum. The basic oxidation solution was mixed with ammonia water, hydrogen peroxide and water in an appropriate ratio, and compared with the result of photooxidation by UV light for comparison. In the case of coating the anti-adhesive material by the photooxidation process, the method of Example 1 is the same.

염기성 산화용액의 경우, 광경화성 수지로 만들어진 나노 구조 레플리카 주형을 에탄올을 이용하여 10분간 초음파 세정 후 질소로 표면을 건조시킨다. 암모니아수(25 wt%), 과산화수소(28 wt%) 그리고 물을 각각 1:1:5의 부피 비율로 혼합한 용액을 80℃로 가열하고 세정, 건조된 레플리카 몰드를 투입한다. 각각 2분에서 30분간 처리하고 꺼내어 물로 세정 후 질소로 건조 시킨다. 이후 APTES 처리와 monoglycidyl ether terminated PDMS 용액 처리를 실시예1 과 동일한 방법으로 진행하였다. 이렇게 제작된 레플리카 주형을 주사전자현미경과 접촉각 측정을 통해 분석하였다. 도 3은 광산화 시간(a-1분, b-2분, c-4분, d-8분)에 따른 레플리카 주형의 전자주사현미경 사진이고, 도 4는 염기성 용액 산화 시간(a-5분, b-10분, c-15분, d-30분)에 따른 레플리카 주형의 전자주사현미경의 사진이다. 두 경우 모두 표면 산화 공정 이후에 APTES 처리와 PDMS 처리를 거친 후 측정된 것으로, 시간이 지남에 따라 레플리카 주형의 코팅 표면 손상에 의해 표면에너지가 높아져서 나노 구조체들이 서로 들러붙는 현상을 관찰할 수 있다. 그러나 염기성 용액 산화법의 경우가 광산화법에 비해 훨씬 장시간 표면 나노구조가 유지되는 것을 알 수 있다. 즉, 광산화의 경우, 4분 정도가 지나면 표면 나노 구조 붕괴가 일어나기 시작하지만 염기성 용액 산화의 경우 15분 정도 후에 비슷한 표면 나노 구조 붕괴가 관찰된다. 도 5는 두 가지 비교 산화 방법에 대해 각각 시간에 따른 접촉각 측정 결과를 보여 주는 데이터이다. 표면 산화가 얼마나 효과적으로 잘 되었는지는 표면의 접촉각 측정을 통해 알 수 있다. 즉, 표면의 산화가 더 효과적일수록 APTES 처리가 잘 되어 표면의 접촉각을 결정하는 PDMS 코팅 처리 또한 효과적으로 일어나게 되고, 그 결과 접촉각이 증가하게 된다. 표면에 산화 처리를 하지 않은 경우(도 5a)의 레플리카 주형은 95±2°의 접촉각을 보여 준다. 두 가지 산화 처리의 경우 모두 레플리카 주형 표면의 접촉각은 시간이 지남에 따라 증가하다 급격히 감소하는 현상이 관찰되었다. 이러한 결과를 주사전자현미경 분석과 연관 지어 생각해 보면, 어느 특정한 시간이 지나면 표면이 완전히 산화되어 식각되어 버리는 현상과 무관하지 않다. 광산화법을 이용한 주형의 경우, 2분간 처리 했을 때 109±2°의 최대 접촉각을 확인할 수 있었다. 반면 염기성 산화용액을 이용한 항부착성 물질 코팅의 경우, 5분간 처리 했을 때, 121±2°의 최대 접촉각을 확인할 수 있었다. 이는 광산화법을 이용한 항부착성 물질 코팅보다 본 발명의 염기성 용액 산화법을 이용한 항부착성 물질 코팅이 더 효율적임을 말해준다. 또한, 광산화법의 경우 주형 표면이 충분히 산화되기 전에 자외선에 의한 식각이 먼저 일어남을 의미한다.In the case of the basic oxidation solution, the nanostructured replica template made of photocurable resin is ultrasonically cleaned for 10 minutes using ethanol, and then the surface is dried with nitrogen. A solution of ammonia water (25 wt%), hydrogen peroxide (28 wt%) and water in a volume ratio of 1: 1: 5, respectively, was heated to 80 ° C., and a washed, dried replica mold was introduced. 2 to 30 minutes each, take out, wash with water and dry with nitrogen. After the APTES treatment and monoglycidyl ether terminated PDMS solution treatment was carried out in the same manner as in Example 1. The replica template thus prepared was analyzed by scanning electron microscope and contact angle measurement. 3 is an electron scanning micrograph of the replica template according to the photooxidation time (a-1 minutes, b-2 minutes, c-4 minutes, d-8 minutes), Figure 4 is a basic solution oxidation time (a-5 minutes, b-10 minutes, c-15 minutes, d-30 minutes) is a photograph of the electron scanning microscope of the replica template. In both cases, it was measured after the APTES treatment and PDMS treatment after the surface oxidation process. As time passes, the surface energy is increased due to the coating surface damage of the replica mold, and thus the nanostructures can be observed to stick together. However, it can be seen that the basic solution oxidation method maintains the surface nanostructure much longer than the photooxidation method. That is, in the case of photooxidation, surface nanostructure collapse begins to occur after about 4 minutes, but similar surface nanostructure collapse is observed after 15 minutes in case of basic solution oxidation. 5 shows data showing contact angle measurement results over time for two comparative oxidation methods. The effective surface oxidation can be determined by measuring the contact angle of the surface. In other words, the more effective the oxidation of the surface, the better the APTES treatment and the PDMS coating treatment to determine the contact angle of the surface is more effective, resulting in an increase in the contact angle. The replica template without oxidation treatment on the surface (FIG. 5A) shows a contact angle of 95 ± 2 °. In both oxidation treatments, the contact angle of the replica mold surface increased over time and then rapidly decreased. Considering these results in connection with scanning electron microscopy analysis, the surface is completely oxidized and etched after a certain time. In the case of the mold using the photooxidation method, the maximum contact angle of 109 ± 2 ° was confirmed after 2 minutes of treatment. On the other hand, in the case of anti-adhesive coating using basic oxidizing solution, the maximum contact angle of 121 ± 2 ° was confirmed after 5 minutes treatment. This indicates that the coating of the antiadhesive material using the basic solution oxidation method of the present invention is more efficient than the coating of the antiadhesive material using the photooxidation method. In addition, in the case of the photooxidation method, the etching by ultraviolet rays occurs before the mold surface is sufficiently oxidized.

앞에서 설명된 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석 되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. Embodiment of the present invention described above should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms.

Claims (4)

나노임프린트 리소그라피 (nanoimprint lithography)용 주형(mold) 표면에 항부착성 물질을 코팅하는 방법에 있어서,
ⅰ)주형을 염기성 산화용액과 반응시켜 표면 산화를 진행하는 단계,;
ⅱ)상기 표면이 산화된 주형을 3-아미노프로필트리에톡시실란(3-aminopropyl triethoxysilane, APTES) 용액과 반응시켜 주형 표면의 -OH(수산기)와 반응시켜 APTES를 주형 표면에 부착시키는 단계 및;
ⅲ)상기 APTES가 부착된 주형을 모노글리시딜 에테르 폴리디메틸실록산(monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane(PDMS)) 용액과 반응시켜 상기 APTES에 항부착성 물질로서 PDMS를 부착시키는 단계를 포함한 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법.In the method of coating the anti-adhesive material on the surface of the mold for nanoimprint lithography,
Iii) reacting the template with a basic oxidation solution to perform surface oxidation;
Ii) reacting the surface-oxidized template with 3-aminopropyl triethoxysilane (APTES) solution to react with -OH (hydroxyl group) on the surface of the mold to attach APTES to the surface of the mold;
Iii) a template for nanoimprint lithography comprising reacting the APTES-attached template with a monoglycidyl ether terminated polydimethylsiloxane (PDMS) solution to attach PDMS as an antiadhesive material to the APTES On coating an anti-adhesive material. 제1항에 있어서,
상기 ⅲ)단계는 감압하에 수행되는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법.The method of claim 1,
The step iii) is to coat the anti-adhesive material on the template for nanoimprint lithography, characterized in that carried out under reduced pressure. 제1항에 있어서,
상기 주형은 원판 주형에서 복제된 고분자 물질로 된 레플리카 주형(replica mold)인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법.The method of claim 1,
The mold is a method of coating an anti-adhesive material on a nanoimprint lithography mold, characterized in that the replica mold (replica mold) made of a polymeric material replicated in the disc mold. 제1항에 있어서,
상기 염기성 산화용액은 염기로서 암모니아와 과산화수소를 포함한 수용액이며, 상기 암모니아수(25 wt%), 과산화수소(28 wt%) 및 물의 비율이 부피비로 1: 0.7 내지 5: 5 범위인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그라피용 주형에 항부착성 물질을 코팅하는 방법.The method of claim 1,
The basic oxidation solution is an aqueous solution containing ammonia and hydrogen peroxide as a base, the ratio of the ammonia water (25 wt%), hydrogen peroxide (28 wt%) and water in the volume ratio of 1: 0.7 to 5: nanoimprint, characterized in that A method of coating an antiadhesive material on a lithography mold.
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