KR20120116280A - 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same - Google Patents

3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR20120116280A
KR20120116280A KR1020110033926A KR20110033926A KR20120116280A KR 20120116280 A KR20120116280 A KR 20120116280A KR 1020110033926 A KR1020110033926 A KR 1020110033926A KR 20110033926 A KR20110033926 A KR 20110033926A KR 20120116280 A KR20120116280 A KR 20120116280A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode line
electrode
touch sensor
binocular parallax
dimensional display
Prior art date
Application number
KR1020110033926A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
배진호
배은주
Original Assignee
(주)네패스디스플레이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)네패스디스플레이 filed Critical (주)네패스디스플레이
Priority to KR1020110033926A priority Critical patent/KR20120116280A/en
Publication of KR20120116280A publication Critical patent/KR20120116280A/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
    • H04N13/10—Processing, recording or transmission of stereoscopic or multi-view image signals
    • H04N13/194—Transmission of image signals

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

PURPOSE: A touch sensor-integrated 3D display and a manufacturing method thereof are provided to implement a flat-panel 3D display including a touch sensor by forming the touch sensor on a binocular parallax implementing unit. CONSTITUTION: A binocular parallax implementing unit(110) is laminated on a side of a display unit. First electrode lines(202) are directly formed on the binocular parallax implementing unit and extended in a first direction. An insulation pattern(206) covers a part of the first electrode lines. Second electrode lines(204) cover the insulation pattern and are extended in a second direction. A first and a second bus bars(208,210) are connected to the first and the second electrode lines and laminated on the binocular parallax implementing unit. A cover sheet(214) is laminated on the binocular parallax implementing unit through an adhesion layer.

Description

터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 및 그 제조방법{3-Dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same}3-Dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same}

본 발명은 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 3차원 디스플레이의 양안시차 구현부 상에 정전용량 방식의 터치 센서를 일체로 형성한 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch sensor integrated three-dimensional display and a manufacturing method thereof, and more particularly to a touch sensor integrated three-dimensional display and a capacitive touch sensor integrally formed on the binocular parallax implementation of the three-dimensional display and It relates to a manufacturing method.

3차원 디스플레이는 사용자에게 입체감(깊이감)을 갖는 영상(Image)을 표시하는 디스플레이이다. 현재의 평판 디스플레이(FPD)를 대체할 차세대 디스플레이 기술 중 하나로서 3차원 디스플레이가 큰 관심을 받고 있다. 현재의 평판 디스플레이는 기본적으로 2차원 평면, 즉 그 디스플레이 면에서만 영상 정보를 표현하므로 영상의 입체감을 표현할 수 없는 한계를 가지고 있다.The three-dimensional display is a display for displaying an image having a three-dimensional (depth) feeling to the user. As one of the next generation display technologies to replace the current flat panel display (FPD), three-dimensional display is receiving great attention. Current flat panel displays basically display image information only on a two-dimensional plane, that is, the display surface thereof, and thus have a limitation in that it is impossible to express three-dimensional images.

입체 영상은 사람의 두 눈을 통해 나타나는 스테레오 시각의 원리에 의해 이루어지는데, 두 눈이 약 65mm 정도 떨어져 있기 때문에 나타나는 양안시차(Binocular parallax)가 입체감의 중요한 요인이 된다. 이와 같은 양안시차를 이용한 3차원 디스플레이에는 안경 방식(stereoscopic)과 무안경 방식(autostereoscopic)이 존재한다. 안경 방식에는 편광안경 방식과 셔터안경 방식 등이 있으며 안경을 착용해야 하는 근본적 제약이 있어 최근에는 무안경 방식에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 무안경 방식에는 렌티큘러렌즈(Lenticular lens) 방식, 패럴렉스 배리어(Parallax barrier) 방식 등이 존재한다. The stereoscopic image is based on the principle of stereo vision that is seen through the human eyes. The binocular parallax that appears because the eyes are about 65 mm apart is an important factor of the stereoscopic sense. The three-dimensional display using binocular disparity includes a spectroscopic method and an autostereoscopic method. There are polarizing glasses method and shutter glasses method in the glasses method, and there are fundamental constraints on wearing glasses. Recently, studies on the glasses-free method have been actively conducted. In the autostereoscopic method, there are a lenticular lens method and a parallax barrier method.

이러한 3차원 디스플레이의 입력 기능 강화를 위해서는 터치 센서(패널)가 장착될 필요가 있으나 정전용량 방식의 터치 센서를 부착한 3차원 디스플레이에 대한 연구가 전무한 실정이다.
In order to reinforce the input function of the 3D display, a touch sensor (panel) needs to be mounted, but there is no research on a 3D display with a capacitive touch sensor.

본 발명의 목적은 정전용량 방식의 터치 센서가 장착된 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a touch sensor integrated three-dimensional display equipped with a capacitive touch sensor.

본 발명의 다른 목적은 터치 센서를 일체화시켜 박형화가 가능하며, 터치감도를 향상시킬 수 있는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이를 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a touch sensor-integrated three-dimensional display capable of thinning by integrating a touch sensor and improving touch sensitivity.

본 발명의 일 관점은 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이에 관한 것이다. 상기 터처 센서 일체형 3차원 디스플레이는 영상표시부; 상기 영상표시부의 일측에 적층된 양안시차 구현부; 상기 양안시차 구현부 상에 직접 형성되며 제1방향으로 연장되는 다수의 제1전극라인; 상기 제1전극라인의 일부를 덮는 절연패턴; 상기 절연패턴을 덮으며 상기 제1방향과 교차하는 제2방향으로 연장되는 다수의 제2전극라인; 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인에 각각 연결되며 상기 양안시차 구현부 상에 적층된 다수의 제1버스바와 제2버스바; 및 접착층을 매개로 상기 양안시차 구현부 상에 적층된 커버시트;를 포함한다.One aspect of the invention relates to a touch sensor integrated three-dimensional display. The touch sensor integrated three-dimensional display is an image display unit; A binocular parallax implementation unit stacked on one side of the image display unit; A plurality of first electrode lines formed directly on the binocular parallax implementation and extending in a first direction; An insulating pattern covering a portion of the first electrode line; A plurality of second electrode lines covering the insulating pattern and extending in a second direction crossing the first direction; A plurality of first bus bars and second bus bars connected to the first electrode line and the second electrode line and stacked on the binocular parallax implementation; And a cover sheet laminated on the binocular parallax implementation through an adhesive layer.

상기 절연패턴은, 상기 제1전극라인을 감싸며 상기 제2방향으로는 단절된 터널형 절연막이 상기 제2방향을 따라 배열된 패턴일 수 있다.The insulating pattern may be a pattern in which a tunnel-type insulating layer surrounding the first electrode line and cut in the second direction is arranged along the second direction.

상기 절연패턴은 상기 제1전극라인을 감싸며, 상기 제1방향과 제2방향으로 단절된 브릿지형 절연막이 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인의 중첩영역에 배열된 패턴일 수 있다.The insulating pattern may surround the first electrode line, and a bridge-type insulating layer cut in the first direction and the second direction may be a pattern arranged in an overlapping region of the first electrode line and the second electrode line.

구체적으로, 상기 브릿지형 절연막의 도포 면적(B)이 상기 제1전극라인과 제2전극라인이 교차하여 중첩되는 중첩영역의 면적(A)보다 5% 내지 50% 클 수 있다.In detail, the coating area B of the bridge-type insulating layer may be 5% to 50% larger than the area A of the overlapping region where the first electrode line and the second electrode line cross each other.

상기 양안시차 구현부는 패럴랙스 배리어 패널 또는 렌티큘러렌즈 시트일 수 있다.The binocular parallax implementation may be a parallax barrier panel or a lenticular lens sheet.

구체적으로, 상기 양안시차 구현부는 TN 패널일 수 있으며, 상기 제1전극라인의 전부와 상기 제2전극라인의 일부가 상기 TN 패널의 편광판을 구성하는 트리아세틸셀룰로오스 필름에 직접 형성될 수 있다.Specifically, the binocular parallax implementation may be a TN panel, and all of the first electrode line and a part of the second electrode line may be directly formed on the triacetylcellulose film constituting the polarizing plate of the TN panel.

상기 제1전극라인 또는 제2전극라인은 인듐주석산화물, 안티몬주석산화물, 아연산화물, 주석산화물, 인듐아연산화물, 갈륨아연산화물, 알루미늄아연산화물 또는 카드뮴주석산화물 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속산화물이거나, 금, 은, 구리 또는 알루미늄 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속과 상기 금속산화물의 다층박막이거나, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리피롤 또는 탄소나노튜브 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.The first electrode line or the second electrode line is a metal oxide containing any one or more of indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, tin oxide, indium zinc oxide, gallium zinc oxide, aluminum zinc oxide or cadmium tin oxide , A metal thin film containing any one or more of gold, silver, copper or aluminum and the metal oxide, or a polyaniline, polyacetylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polypyrrole or carbon nanotube It may contain the above.

상기 커버시트의 일면에 형성되어 윈도우 영역과 상기 윈도우 영역 주변부에 위치하는 차광 영역을 정의하는 차광층을 포함할 수 있다.The light blocking layer may be formed on one surface of the cover sheet to define a window area and a light blocking area positioned around the window area.

상기 제1버스바와 상기 제2버스바는 상기 양안시차 구현부 상에 직접 형성될 수 있다.The first bus bar and the second bus bar may be directly formed on the binocular parallax implementation.

상기 제1전극라인, 제2전극라인, 제1버스바 및 제2버스바는 금속과 금속 산화물의 다층박막으로 이루어질 수 있다.The first electrode line, the second electrode line, the first bus bar and the second bus bar may be formed of a multilayer thin film of a metal and a metal oxide.

상기 제1전극라인 및 상기 제2전극라인과 상기 접착층 사이에 마련되며, 고굴절율과 저굴절율의 금속 산화물이 교대로 적층된 패시베이션층을 포함할 수 있다.
A passivation layer may be provided between the first electrode line, the second electrode line, and the adhesive layer, and a metal oxide having a high refractive index and a low refractive index may be alternately stacked.

본 발명의 다른 관점은 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법에 관한 것이다. 상기 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법은 3차원 디스플레이 구현을 위한 양안시차 구현부를 준비하는 단계; 상기 양안시차 구현부 상에 제1방향으로 연장되는 다수의 제1전극라인과, 상기 제1전극라인을 사이에 두고 서로 이격된 다수의 제2-1전극패턴을 상기 제1방향과 교차하는 제2방향으로 형성하는 단계; 상기 제1전극라인의 일부를 감싸고, 이웃하는 상기 제2-1전극패턴을 연결하며, 상기 제2방향으로는 단절된 절연막이 배열된 절연패턴을 형성하는 단계; 상기 절연패턴 상에 이웃한 상기 제2-1전극패턴을 연결하는 제2-2전극패턴을 형성하여 상기 제2방향으로 연장되는 다수의 제2전극라인을 형성하는 단계; 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인에 각각 연결되는 다수의 제1버스바와 제2버스바를 상기 양안시차 구현부 상에 형성하는 단계; 및 접착층을 매개로 상기 양안시차 구현부와 커버시트를 합착하는 단계;를 포함한다.Another aspect of the invention relates to a method for manufacturing a touch sensor integrated three-dimensional display. The touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method comprising the steps of preparing a binocular parallax implementation for implementing a three-dimensional display; A plurality of first electrode lines extending in a first direction on the binocular parallax implementing unit, and a plurality of second-1 electrode patterns spaced apart from each other with the first electrode line therebetween intersecting the first direction; Forming in two directions; Forming an insulating pattern covering a part of the first electrode line, connecting the neighboring second-first electrode patterns, and arranged an insulating film cut in the second direction; Forming a plurality of second electrode lines extending in the second direction by forming a second-2 electrode pattern connecting the neighboring second-1 electrode patterns on the insulating pattern; Forming a plurality of first bus bars and second bus bars respectively connected to the first electrode line and the second electrode line on the binocular parallax implementation; And bonding the binocular parallax implementation part and the cover sheet through an adhesive layer.

상기 3차원 디스플레이 구현을 위한 양안시차 구현부를 준비하는 단계에서, 상기 양안시차 구현부는 패럴랙스 배리어 패널 또는 렌티큘러렌즈 시트일 수 있다.In preparing the binocular parallax implementation unit for implementing the 3D display, the binocular parallax implementation unit may be a parallax barrier panel or a lenticular lens sheet.

구체적으로, 상기 양안시차 구현부는 TN 패널일 수 있으며, 상기 제1전극라인과 상기 제2-1전극패턴은 상기 TN 패널의 평관판을 구성하는 트리아세틸셀룰로오스 필름에 직접 형성될 수 있다.Specifically, the binocular parallax implementing unit may be a TN panel, and the first electrode line and the second-1 electrode pattern may be directly formed on a triacetyl cellulose film constituting the flat plate of the TN panel.

상기 제1전극라인의 일부를 감싸고, 이웃하는 상기 제2-1전극패턴을 연결하며, 상기 제2방향으로는 단절된 절연막이 배열된 절연패턴을 형성하는 단계에서, 상기 절연패턴은 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인의 중첩영역에 형성된 브릿지형 절연막이 상기 제1방향과 제2방향을 따라 주기적으로 배열된 패턴일 수 있다.In the step of forming a dielectric pattern surrounding a portion of the first electrode line, connecting the neighboring second-first electrode patterns, and an insulating film cut in the second direction, the insulating pattern is the first electrode. The bridge-type insulating layer formed in the overlapping region of the line and the second electrode line may be a pattern periodically arranged along the first direction and the second direction.

보다 구체적으로, 상기 브릿지형 절연막의 도포 면적(B)이 상기 제1전극라인과 제2전극라인이 교차하여 중첩되는 중첩영역의 면적(A)보다 5% 내지 50% 클 수 있다.More specifically, the coating area B of the bridge-type insulating film may be 5% to 50% larger than the area A of the overlapping region where the first electrode line and the second electrode line cross each other.

상기 제1전극라인, 상기 제2-1전극패턴, 상기 절연패턴, 상기 제2-2전극패턴, 상기 제1버스바 또는 상기 제2버스바는 레이저 식각에 의해 패터닝될 수 있다.
The first electrode line, the second-1 electrode pattern, the insulating pattern, the second-2 electrode pattern, the first bus bar or the second bus bar may be patterned by laser etching.

본 발명에 따르면 양안시차 구현부 상에 터치 센서를 일체로 형성함으로써 터치 센서가 일체로 형성된 박형의 3차원 디스플레이 구현이 가능하다. 또한, 교차하는 전극라인 사이의 절연패턴의 구조 최적화를 통해 터치감도를 향상시킬 수 있고, 사용자 편의성을 크게 향상시킬 수 있다.
According to the present invention, by forming the touch sensor integrally on the binocular parallax implementation, it is possible to implement a thin 3D display in which the touch sensor is integrally formed. In addition, the touch sensitivity may be improved by optimizing the structure of the insulating pattern between the intersecting electrode lines, and the user convenience may be greatly improved.

도 1과 도 2는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 분해 사시도 및 단면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 단면도이고, 도 5는 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다.
도 7 및 도 8은 각각 양안시차 구현부의 일례로 TN 패널과 렌티큘러렌즈 시트를 나타낸 단면도이다.
도 9a, 10a, 11a, 12a는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조공정을 나타낸 단면도이며, 도 9b, 10b, 11b, 12b는 그 평면도이다.1 and 2 are exploded perspective views and cross-sectional views of a touch sensor integrated three-dimensional display according to an embodiment of the present invention, respectively.
3 is a plan view illustrating the insulating pattern structure illustrated in FIGS. 1 and 2.
4 is a cross-sectional view of a touch sensor integrated three-dimensional display according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a plan view illustrating an insulation pattern structure.
6 is a plan view illustrating an insulation pattern structure of a touch sensor integrated three-dimensional display according to another exemplary embodiment of the present invention.
7 and 8 are cross-sectional views illustrating a TN panel and a lenticular lens sheet as an example of a binocular parallax implementation unit, respectively.
9A, 10A, 11A, and 12A are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a touch sensor integrated three-dimensional display according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 9B, 10B, 11B, and 12B are plan views thereof.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms.

한편, 이하에서 도시된 도면들에 있어서, 막(층, 패턴) 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장될 수 있다. 또한, 막(층, 패턴)이 다른 막(층, 패턴)의 '상', '상부', '하', '하부', '일면' 등에 형성(적층)된다고 언급되는 경우에 그것은 다른 막(층, 패턴)에 직접 형성(적층)될 수 있거나 또는 그들 사이에 다른 막(층, 패턴)이 개재될 수도 있다. 아울러, 공간적으로 상대적인 용어인 '하(면)', '하부', '상(면)', '상부' 등은 도면에 도시되어 있는 위치를 기준을 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용된 것이며, 실제 사용시의 상부, 하부를 의미하는 용어로 사용된 것은 아니다. 즉, 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 실제 사용시의 배향에 따라 해석될 수 있다.
Meanwhile, in the drawings shown below, the thicknesses of the films (layers, patterns) and regions may be exaggerated for clarity. In addition, when it is mentioned that the film (layer, pattern) is formed (laminated) on the 'top', 'top', 'bottom', 'bottom', 'one side', etc. of another film (layer, pattern), It may be formed (laminated) directly on the layer, pattern, or another film (layer, pattern) may be interposed therebetween. In addition, the spatially relative terms 'bottom', 'bottom', 'top', 'top' and the like are based on the positions shown in the drawings. It is used to easily describe the correlation with the components, and is not used as a term meaning the upper and lower parts in actual use. That is, the device may be oriented in other directions, and thus spatially relative terms may be interpreted according to the orientation in actual use.

도 1과 도 2는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 분해 사시도 및 단면도이며, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다.1 and 2 are exploded perspective views and cross-sectional views of a touch sensor integrated three-dimensional display according to an embodiment of the present invention, respectively, and FIG. 3 is a plan view illustrating the insulation pattern structure shown in FIGS. 1 and 2.

도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이는 영상표시부(100), 양안시차 구현부(110), 양안시차 구현부(110) 상에 존재하는 터치 센서부(200)를 포함한다.1 and 2, the touch sensor integrated three-dimensional display according to an embodiment of the present invention includes a touch existing on the image display unit 100, the binocular parallax implementation unit 110, and the binocular parallax implementation unit 110. It includes a sensor unit 200.

영상표시부(100)는 영상을 표시하는 통상적인 영상표시 장치를 사용할 수 있다. 예를 들어, 액정 디스플레이(LCD: Liquid Crystal Display) 모듈, 플라즈마 디스플레이(PDP:Plasma Display Panel) 모듈, 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode) 모듈, 필드이미션 디스플레이(FED: Field Emission Display) 모듈 등을 사용할 수 있다. The image display unit 100 may use a conventional image display device for displaying an image. For example, a liquid crystal display (LCD) module, a plasma display panel (PDP) module, an organic light emitting diode (OLED) module, a field emission display (FED) module Etc. can be used.

양안시차 구현부(110)는 영상표시부(100)에서 표시된 2차원 영상을 관찰자가 입체 영상으로 느끼도록 해주는 장치로서, 패럴랙스 배리어(Parallax barrier) 패널(시트) 또는 렌티큘러렌즈(Lenticular lens) 시트일 수 있다. 영상표시부(100)와 양안시차 구현부(110) 사이에는 투명접착층(120)이 존재할 수 있다. 상기 투명접착층(120)은 생략될 수도 있으며 다른 접합 방식을 사용하여 영상표시부(100)와 양안시차 구현부(110)를 접합(적층)할 수 있다. 패럴랙스 배리어 패널로는 트위스트 네마틱(Twisted Nematic) 액정 패널(이하, 'TN 패널'이라 함), 수퍼 트위스트 네마틱(STN: Super Twisted Nematic) 액정 패널 등이 사용될 수 있으며, 광학 스위치 기능을 수행하는 다른 패럴랙스 배리어 패널(시트, 필름)이 사용될 수도 있다.The binocular parallax implementation unit 110 is a device that allows a viewer to feel a two-dimensional image displayed on the image display unit 100 as a stereoscopic image, and is a parallax barrier panel (sheet) or a lenticular lens sheet. Can be. The transparent adhesive layer 120 may exist between the image display unit 100 and the binocular parallax implementation unit 110. The transparent adhesive layer 120 may be omitted, and the image display unit 100 and the binocular parallax implementing unit 110 may be bonded to each other using another bonding method. The parallax barrier panel may be a twisted nematic liquid crystal panel (hereinafter referred to as a 'TN panel'), a super twisted nematic liquid crystal panel (STN), or an optical switch. Other parallax barrier panels (sheets, films) may be used.

터치 센서부(200)는 제1전극라인(202), 제2전극라인(204), 절연패턴(206), 제1버스바(208), 제2버스바(210), 접착층(212) 및 커버시트(214) 등을 포함할 수 있다.The touch sensor unit 200 may include a first electrode line 202, a second electrode line 204, an insulating pattern 206, a first bus bar 208, a second bus bar 210, an adhesive layer 212, and the like. The cover sheet 214 may be included.

제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)은 양안시차 구현부(110) 상에(일면에) 직접 형성될 수 있다. 즉, 제1전극라인(202) 또는 제2전극라인(204)을 구성하는 제2-1전극패턴(204a)을 별도의 필름에 형성하고 이를 양안시차 구현부(110)에 부착하는 방법이 아니라 양안시차 구현부(110)의 일면에 직접 증착(코팅, 도포, 인쇄)하여 형성될 수 있다.The first electrode line 202 and the second-first electrode pattern 204a may be directly formed on the binocular parallax implementing unit 110 (on one surface). That is, not a method of forming the second-first electrode pattern 204a constituting the first electrode line 202 or the second electrode line 204 on a separate film and attaching it to the binocular parallax implementing unit 110. It may be formed by directly depositing (coating, coating, and printing) on one surface of the binocular parallax implementing unit 110.

제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)은 전기전도성을 보이는 투명한 물질이면 제한 없이 이용할 수 있다. 예를 들어, 금속산화물 또는 유기물로 이루어진 투명한 도전성 물질을 이용할 수 있다. 구체적으로, 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide, 이하 'ITO'라 함), 안티몬주석산화물(ATO: Antimony Tin Oxide), 아연산화물(ZnO), 주석산화물(SnO2), 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide, 이하 'IZO'라 함), 갈륨아연산화물(Gallium-doped Zinc Oxide, 이하 'GZO'라 함), 알루미늄아연산화물(Aluminium-doped Zinc Oxide, 이하 'AZO'라 함) 또는 카드뮴주석산화물(CTO: Cadium Tin Oxide) 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속산화물을 들 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있는데 ITO는 전기전도도, 투명도 및 생산성 면에서 우수한 장점이 있다. The first electrode line 202 and the second electrode line 204 may be used without limitation as long as it is a transparent material showing electrical conductivity. For example, a transparent conductive material made of a metal oxide or an organic material may be used. Specifically, indium tin oxide (hereinafter referred to as 'ITO'), antimony tin oxide (ATO: antimony tin oxide), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide (Hereinafter referred to as 'IZO'), Gallium-doped Zinc Oxide (hereinafter referred to as 'GZO'), Aluminum Zinc Oxide (hereinafter referred to as 'AZO') or Cadmium Tin Oxide (CTO) : Metal oxide containing any one or more of: Cadium Tin Oxide). Preferably, ITO may be used, which has excellent advantages in terms of electrical conductivity, transparency, and productivity.

유기물의 구체적 예로, 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT: Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 폴리피롤(Polypyrrole), 탄소나노튜브(CNT: Carbon Nano Tube) 등을 들 수 있으며 이들 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.Specific examples of organic materials include polyaniline, polyacetylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT: Poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polypyrrole, and carbon nanotubes (CNT). : Carbon Nano Tube) and may include any one or more of these.

다른 예를 들어, 금, 은, 구리 및 알루미늄 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속과 전술한 금속산화물의 다층박막일 수 있다. 금속 박막을 아주 얇게, 예를 들어 20nm 이하로 증착하면 투과율 저하를 일으키지 않으면서 전기전도도 향상을 꾀할 수 있다. 구체적으로 ITO/Ag/ITO, ITO/Cu/ITO, AZO/Ag/AZO, GZO/Ag/GZO 또는 IZO/Ag/IZO 등을 포함하는 금속과 금속산화물의 다층 박막을 사용할 수 있다.As another example, it may be a multilayer thin film of a metal including any one or more of gold, silver, copper, and aluminum and the metal oxide described above. When the metal thin film is deposited very thin, for example, 20 nm or less, electrical conductivity can be improved without causing a decrease in transmittance. Specifically, a multilayer thin film of a metal and a metal oxide including ITO / Ag / ITO, ITO / Cu / ITO, AZO / Ag / AZO, GZO / Ag / GZO or IZO / Ag / IZO may be used.

제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)은 사용자가 손가락 등으로 터치 센서(패널)를 접촉하면 정전용량의 변화를 감지하여 그 위치를 감지할 수 있도록 소정 패턴으로 형성될 수 있다. 즉, 제1전극라인(202)은 제1방향(예를 들어, X방향)으로 연장되는 라인&스페이스(line & space) 패턴일 수 있으며, 제2전극라인(204)은 상기 제1방향과 교차하는 제2방향(예를 들어, Y방향)으로 연장되는 라인&스페이스 패턴일 수 있다. 바람직하게는, 상기 제1방향과 제2방향은 서로 직교할 수 있으나, 터치 센서의 설계 사양에 따라 직교하지 않을 수도 있다.The first electrode line 202 and the second electrode line 204 may be formed in a predetermined pattern so that when the user touches the touch sensor (panel) with a finger or the like, the capacitance may be sensed by detecting a change in capacitance. . That is, the first electrode line 202 may be a line & space pattern extending in the first direction (for example, X direction), and the second electrode line 204 may be formed in the first direction. It may be a line & space pattern extending in the intersecting second direction (eg, the Y direction). Preferably, the first direction and the second direction may be orthogonal to each other, but may not be orthogonal depending on the design specification of the touch sensor.

제2전극라인(204)은 제2-1전극패턴(204a)과 제2-2전극패턴(204b)이 연결된 형태를 취할 수 있다. 즉, 제2-1전극패턴(204a)은 양안시차 구현부(110) 상에 직접 형성되고, 제2-2전극패턴(204b)은 절연패턴(206) 상에 적층되어 이웃하는 제2-1전극패턴(204a)을 연결함으로써 하나의 라인으로 연결된 제2전극라인(204)을 구현할 수 있다.The second electrode line 204 may have a form in which the 2-1 electrode pattern 204a and the 2-2 electrode pattern 204b are connected. That is, the 2-1 electrode pattern 204a is directly formed on the binocular parallax implementing unit 110, and the 2-2 electrode pattern 204b is stacked on the insulating pattern 206 to adjoin the neighboring 2-1. By connecting the electrode patterns 204a, the second electrode lines 204 connected by one line may be implemented.

절연패턴(206)은 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204) 간의 전기적 절연 및 커패시터 기능을 수행하며 광학적으로 투명한 재질을 사용하여 제작할 수 있다. 구체적으로, 금속산화물 또는 유기물 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. 금속산화물의 예로, 실리콘산화물(SiO2), 티탄산화물(TiO2), 지르코늄산화물(ZrO2), 하프늄산화물(HfO2) 또는 알루미늄산화물(Al2O3) 중 어느 하나 이상을 포함하는 단층막 또는 다층막을 들 수 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 바람직하게는, 생산성과 가격 면에서 우수한 실리콘산화물을 포함하는 절연막 패턴일 수 있다.The insulating pattern 206 performs electrical insulation and capacitor functions between the first electrode line 202 and the second electrode line 204 and may be manufactured using an optically transparent material. Specifically, it may include any one or more of a metal oxide or an organic material. Examples of the metal oxide include a single layer film including any one or more of silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), or aluminum oxide (Al 2 O 3 ). Or a multilayer film, but the present invention is not limited thereto. Preferably, it may be an insulating film pattern containing silicon oxide excellent in productivity and cost.

투명 유기물 절연체의 예로, 폴리이미드(Polyimide), 파릴렌(Parylene), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA: Polymethlyl Methacrylate), 폴리비닐알콜(PVA: Polyvinyl Alcohol), 폴리비닐페놀(PVP: Polyvinyl Phenol) 등을 들 수 있으며, 이들 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.Examples of transparent organic insulators include polyimide, parylene, polymethyl methacrylate (PMMA), polyvinyl alcohol (PVA), and polyvinyl phenol (PVP). It may include, at least any one of these.

도 3에 도시된 것과 같이, 절연패턴(206)은 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)이 교차하는 영역에 존재하는 브릿지형 절연막이 제1방향과 제2방향을 따라 주기적으로 배열된 패턴일 수 있다. 브릿지형 절연막은 단면도 상에서의 모습을 표현한 것이며, 평면도 상에서는 직사각형 형태일 수 있다. 한편, 상기 브릿지형 절연막의 도포(코팅) 면적(B)은 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)이 교차하여 중첩되는 중첩영역의 면적(A)보다 5% 내지 50%, 바람직하게는 10% 내지 30% 큰 것이 유효할 수 있다. 상기 중첩영역의 면적(A)에 대한 브릿지 형태의 절연막의 도포(코팅) 면적(B)의 비를 상기 하한 이상으로 함으로써 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)의 쇼트 등을 방지하고 공정마진을 확보할 수 있다. 다만, 지나치게 그 비율을 크게 가져가면 터치 감도의 저하를 가져올 수 있으므로 상기 상한 이하로 하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 3, in the insulating pattern 206, a bridge-type insulating film in a region where the first electrode line 202 and the second electrode line 204 intersect is periodically formed along the first direction and the second direction. The pattern may be arranged as. The bridge-type insulating film may be expressed in a cross-sectional view, and may be rectangular in plan view. On the other hand, the coating (coating) area (B) of the bridge-type insulating film is 5% to 50% than the area (A) of the overlapping region where the first electrode line 202 and the second electrode line 204 cross each other, Preferably 10% to 30% larger may be effective. By shortening the ratio of the coating (coating) area B of the bridge-shaped insulating film to the area A of the overlapping area not less than the lower limit, the short of the first electrode line 202 and the second electrode line 204 and the like can be eliminated. Prevent process margins. However, if the ratio is excessively large, the touch sensitivity may be lowered. Therefore, the ratio is preferably below the upper limit.

제1버스바(208, Bus bar)와 제2버스바(210)는 양안시차 구현부(110) 상에 직접 형성될 수도 있고, 후술할 차광층을 양안시차 구현부(110) 상에 형성하는 경우에는 상기 차광층 상에 형성할 수도 있다. 제1버스바(208)와 제2버스바(210)는 도전성 물질이면 제한 없이 이용할 수 있다. 예를 들어, 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 주석(Sn), 납(Pb), 아연(Zn), 인듐(In), 카드뮴(Cd), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 코발트(Co), 마그네슘(Mg), 탄탈륨(Ta) 및 망간(Mn) 중에서 어느 하나 이상을 포함하는 단층막, 다층막일 수 있다. 전기전도도와 제조비용 등을 고려할 때 은, 구리 또는 알루미늄을 포함하는 금속막이 바람직하다. 구체적으로, 은으로 이루어진 단층막, 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴, 크롬/구리/크롬의 다층막이 유효할 수 있다. The first bus bar 208 and the second bus bar 210 may be directly formed on the binocular parallax implementing unit 110, or may form a light shielding layer to be described later on the binocular parallax implementing unit 110. In this case, it may be formed on the light shielding layer. The first bus bar 208 and the second bus bar 210 may be used without limitation as long as it is a conductive material. For example, gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), tungsten (W), titanium (Ti), platinum (Pt), palladium (Pd), tin (Sn), lead (Pb), zinc (Zn), indium (In), cadmium (Cd), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), magnesium (Mg), tantalum It may be a single layer film or a multilayer film containing at least one of (Ta) and manganese (Mn). In view of electrical conductivity, manufacturing cost and the like, a metal film containing silver, copper or aluminum is preferable. Specifically, a single layer film made of silver, molybdenum / aluminum / molybdenum, and a multilayer film of chromium / copper / chrome may be effective.

또한, 제1버스바(208)와 제2버스바(210)는 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)을 구성하는 투명도전성 물질로 이루어질 수도 있다. 구체적으로, 전기전도도가 우수한 ITO/Ag/ITO, ITO/Cu/ITO, AZO/Ag/AZO, GZO/Ag/GZO 또는 IZO/Ag/IZO 등을 포함하는 금속과 금속산화물의 다층박막을 제1전극라인(202), 제2전극라인(204), 제1버스바(208) 및 제2버스바(210)를 구성하는 물질로 사용할 수 있다. 이 경우, 제1버스바(208)와 제2버스바(210) 형성을 위한 별도의 코팅(증착) 및 패터닝 공정이 불필요하여 공정상 유리한 잇점이 있다.In addition, the first bus bar 208 and the second bus bar 210 may be made of a transparent conductive material constituting the first electrode line 202 and the second electrode line 204. Specifically, the multilayer thin film of metal and metal oxide including ITO / Ag / ITO, ITO / Cu / ITO, AZO / Ag / AZO, GZO / Ag / GZO or IZO / Ag / IZO having excellent electrical conductivity may be used. The electrode line 202, the second electrode line 204, the first bus bar 208, and the second bus bar 210 may be used as materials. In this case, a separate coating (deposition) and patterning process for forming the first bus bar 208 and the second bus bar 210 is unnecessary, which is advantageous in the process.

제1버스바(208)와 제2버스바(210)는 이방성도전필름(ACF: Anisotropic Conducting Film, 도시하지 않음)을 통해 회로기판(도시하지 않음)에 전기적으로 연결될 수 있는데, 제1버스바(208)와 제2버스바(210)의 구체적인 배열, 즉 외부 회로기판과의 연결을 위해 패드 형성 위치에는 제한이 없으며 도시된 제1버스바(208)와 제2버스바(210)의 배열은 예시적인 것에 불과하다. 이방성도전필름은 니켈(Ni)이나 금(Au) 등의 금속 입자, 또는 그와 같은 금속들로 코팅된 고분자 입자 등의 전도성 입자를 분산시킨 필름으로서, z-축으로는 전기를 통하는 도전성을, x-y 평면 방향으로는 절연성을 나타내는 필름을 말한다. 이러한 이방성 도전 필름을 제1버스바(208), 제2버스바(210)와 회로기판에 존재하는 패드 사이에 위치시킨 후 일정 조건의 가열, 가압 공정을 거치면, 회로 단자들 사이는 전도성 입자에 의해 전기적으로 접속되고, 인접 회로와의 사이인 스페이스(Space)에는 절연성 접착 수지가 충진되어 전도성 입자가 서로 독립하여 존재하게 됨으로써, 높은 절연성을 부여하게 된다. 상기 회로기판은 연성회로기판(FPC: Flexibel Printed Circuit)인 것이 바람직하다.The first bus bar 208 and the second bus bar 210 may be electrically connected to a circuit board (not shown) through an anisotropic conductive film (ACF), not shown. The specific arrangement of the 208 and the second bus bar 210, that is, the pad forming position is not limited for connection with the external circuit board, and the arrangement of the first bus bar 208 and the second bus bar 210 shown in the drawing. Is merely illustrative. The anisotropic conductive film is a film in which conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and gold (Au), or polymer particles coated with such metals are dispersed, and conducts electricity through the z-axis. The film which shows insulation in the xy plane direction is said. When the anisotropic conductive film is positioned between the first bus bar 208, the second bus bar 210, and a pad existing on the circuit board, and then subjected to a heating and pressing process under a predetermined condition, the circuit terminals are connected to the conductive particles. By electrically insulating, the insulating adhesive resin is filled in the space between adjacent circuits, and conductive particles exist independently of each other, thereby providing high insulation. The circuit board is preferably a flexible printed circuit board (FPC).

제1전극라인(202), 제2전극라인(204), 제1버스바(208) 및 제2버스바(210) 상에는 접착층(212)이 존재한다. 접착층(212)은 가시광선 영역에서 투명한 재료이면 제한 없이 이용할 수 있다. 예를 들어, 열경화 수지 또는 자외선(UV)경화 수지를 포함할 수 있다. 바람직하게는 자외선경화 수지를 포함할 수 있다. 자외선경화 수지는 열경화 수지에 비하여 경화 시 오염 물질의 방출이 적고, 단시간 경화에 의해 생산성을 향상시킬 수 있으며 열풍건조로(Oven)를 이용한 베이킹(Baking) 공정이 불필요하며 공정이 단순한 장점이 있다. 구체적으로, 상기 접착층(212)은 OCA(Optically Clear Adhesive)로 일컬어지는 아크릴계 접착 테이프일 수 있다. 상용의 OCA로는 OCA8146-2(3M), OCA8146-4(3M), OCA8171(3M) 등이 있다.An adhesive layer 212 is present on the first electrode line 202, the second electrode line 204, the first bus bar 208, and the second bus bar 210. The adhesive layer 212 may be used without limitation as long as it is a transparent material in the visible light region. For example, it may include a thermosetting resin or an ultraviolet (UV) curing resin. Preferably, it may include an ultraviolet curable resin. Compared with thermosetting resins, UV curable resins emit less contaminants during curing, improve productivity by short-term curing, do not require baking process using hot air drying furnace, and have simple processes. . Specifically, the adhesive layer 212 may be an acrylic adhesive tape called OCA (Optically Clear Adhesive). Common OCAs include OCA8146-2 (3M), OCA8146-4 (3M), and OCA8171 (3M).

접착층(212) 상에는 커버시트(214)가 위치한다. 커버시트(214)는 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다. 플라스틱 기판으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET: Polyethylene Terephthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN: Polyethylene Naphthalate), 폴리에테르술폰(PES: Polyether Sulfone), 폴리이미드(Polyimide), 폴리아릴레이트(PAR: Polyarylate), 폴리카보네이트(PC: Polycarbonate), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA: Polymethyl Methacrylate) 또는 환상올레핀코폴리머(COC: Cycloolefin Copolymer) 중 어느 하나 이상을 포함하는 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 (강화)유리 기판을 사용할 수 있다. (강화)유리 기판 사용시 고온 공정이 가능하고 공정 선택의 자유도가 증가하며, 내스크래치성이 우수한 잇점이 있다.The cover sheet 214 is positioned on the adhesive layer 212. The cover sheet 214 may be made of a glass substrate or a plastic substrate. Plastic substrates include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyether sulfone (PES), polyimide, polyarylate, and polyarylate (PAR). Plastic substrates including any one or more of carbonate (PC: Polycarbonate), polymethyl methacrylate (PMMA), or cycloolefin copolymer (COC) may be used. Preferably polyethylene terephthalate can be used, More preferably, a (strengthened) glass substrate can be used. When using a (strengthened) glass substrate, high temperature processing is possible, the degree of freedom of process selection is increased, and scratch resistance is excellent.

커버시트(214)의 상면 또는 하면에는 반사방지층(도시하지 않음) 및/또는 비산방지층(도시하지 않음)이 존재할 수 있다. 반사방지층의 구체적 구성에 제한이 있는 것은 아니다. 예를 들어, 고굴절율과 저굴절율의 금속산화막이 다층으로 적층된 구조일 수도 있고, 실리콘질화물(SiNx)로 이루어진 단층막일 수도 있다. 구체적으로, 티탄산화물(TiO2), 실리콘산화물(SiO2), 탄탈산화물(Ta2O5)과 같은 금속산화물 중 어느 두 가지를 선택하여 순차적으로 적층한 다층막일 수 있으나, 실리콘질화물의 단층막이 제조 공정 및 비용상 유리할 수 있다. 또한, 반사방지층을 대신하여, 또는 반사방지층과 함께 비산방지층이 포함될 수 있다. 커버시트(214)가 유리 기판과 같이 깨지기 쉬운 물질로 이루어진 경우, 깨진 조각이 비산되는 것을 방지하기 위해 상기 비산방지층을 구비할 수 있다.An antireflection layer (not shown) and / or a scattering prevention layer (not shown) may be present on an upper surface or a lower surface of the cover sheet 214. There is no limitation on the specific configuration of the antireflection layer. For example, a structure in which a metal oxide film having a high refractive index and a low refractive index is laminated in multiple layers may be formed, or may be a single layer film made of silicon nitride (SiNx). Specifically, the multilayer film may be a multilayer film formed by sequentially selecting any two metal oxides such as titanium oxide (TiO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), and tantalum oxide (Ta 2 O 5 ). It may be advantageous in terms of manufacturing process and cost. An anti-scattering layer may also be included in place of the anti-reflective layer, or together with the anti-reflective layer. When the cover sheet 214 is made of a fragile material such as a glass substrate, the shatterproof layer may be provided to prevent the broken pieces from scattering.

커버시트(214)의 일면(상면 또는 하면)에는 가장자리를 따라 차광층(216)이 존재할 수 있다. 차광층(216)은 관찰자가 영상을 보는 윈도우 영역(W)과 가장자리의 차광 영역(D)을 정의하며, 제1버스바(208)와 제2버스바(210) 등의 영상과 무관한 구성요소를 가려주는 역할을 수행할 수 있다. 도면에 도시된 것과 달리, 차광층(216)이 커버시트(214)의 일면(하면)에 존재하지 않고 양안시차 구현부(110) 상에 존재할 수도 있다. 한편, 제1버스바(208)와 제2버스바(210)가 투명 도전층으로 이루어지는 경우 상기 차광층(216)은 생략되거나 면적을 크게 줄여 제작할 수 있다. The light blocking layer 216 may exist on one surface (top or bottom) of the cover sheet 214 along the edge. The light blocking layer 216 defines a window area W in which an observer views an image, and a light blocking area D at an edge thereof, and is not related to an image of the first bus bar 208 and the second bus bar 210. It can play a role of hiding elements. Unlike the drawing, the light blocking layer 216 may be present on the binocular parallax implementation 110 without being present on one surface (lower surface) of the cover sheet 214. Meanwhile, when the first bus bar 208 and the second bus bar 210 are formed of a transparent conductive layer, the light blocking layer 216 may be omitted or may be manufactured with a large reduction in area.

차광층(216)은 크롬(Cr)을 포함하는 물질로 형성될 수도 있고, 카본 블랙 등의 흑색안료를 포함하는 감광성 수지 조성물, 흑색안료를 폴리이미드 수지 등의 비감광성 수지에 분산시킨 비감광성 수지 조성물 등으로 이루어질 수 있으며, 차광층(216)의 재질 및 형성방법에 제한이 있는 것은 아니다. The light shielding layer 216 may be formed of a material containing chromium (Cr), a photosensitive resin composition containing black pigments such as carbon black, and a non-photosensitive resin in which black pigments are dispersed in non-photosensitive resins such as polyimide resins. It may be made of a composition and the like, and the material and the method of forming the light shielding layer 216 are not limited.

한편, 제1전극라인(202)과 제2전극라인(204)이 외부에서 잘 관찰되지 않도록 하는 패시베이션층(도시하지 않음)이 구비될 수 있다. 상기 패시베이션층은 제1전극라인(202), 제2전극라인(204)과 접착층(212) 사이에 형성될 수 있으며, 적어도 윈도우 영역(W)을 덮도록 코팅하는 것이 바람직하다. 상기 패시베이션층은 고굴절율의 금속 산화물과 저굴절율의 금속 산화물이 교대로 적층된 구조일 수 있다. 예를 들어, 알루미늄산화물(Al2O3), 티탄산화물(TiO2), 실리콘산화물(SiO2), 탄탄륨산화물(Ta2O5) 등과 같은 금속 산화물을 사용할 수 있으며, 구체적으로 티탄산화물, 실리콘산화물, 티탄산화물, 실리콘산화물 순으로 적층된 다층 박막이 바람직하다.
Meanwhile, a passivation layer (not shown) may be provided to prevent the first electrode line 202 and the second electrode line 204 from being easily observed from the outside. The passivation layer may be formed between the first electrode line 202, the second electrode line 204, and the adhesive layer 212, and may be coated to cover at least the window area W. FIG. The passivation layer may have a structure in which a high refractive index metal oxide and a low refractive index metal oxide are alternately stacked. For example, a metal oxide such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ), titanium oxide (TiO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), or the like may be used. Specifically, titanium oxide, The multilayer thin film laminated in order of silicon oxide, titanium oxide, and silicon oxide is preferable.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 단면도이고, 도 5는 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다.4 is a cross-sectional view of a touch sensor integrated three-dimensional display according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a plan view illustrating an insulation pattern structure.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 절연패턴(206)은 제1전극라인(202)을 덮으며, 제1전극라인(202) 사이의 공간(스페이스)도 모두 덮는 형태로 존재할 수 있다. 즉, 평면도로 보았을 때 절연패턴(206)은 하나의 직사각형 형태일 수 있다.
4 and 5, the insulating pattern 206 of the touch sensor integrated three-dimensional display of the present invention covers the first electrode line 202, and the space between the first electrode line 202 is illustrated. All may be present in a covering form. That is, when viewed in plan view, the insulation pattern 206 may have a rectangular shape.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이의 절연패턴 구조를 설명하기 위한 평면도이다. 본 실시예의 단면도는 도 2와 동일하다. 본 실시예의 절연패턴(206)은 이웃하는 제1전극라인(202) 사이의 스페이스 중 일부를 덮지 않으며, 제1전극라인(202)을 덮는 터널형 절연막으로 이루어진 절연패턴일 수 있다. 즉, 제1방향을 따라 연장되며 제2방향으로는 단절된 터널형 절연막이 제2방향을 따라 주기적으로 배열된 패턴일 수 있다.
6 is a plan view illustrating an insulation pattern structure of a touch sensor integrated three-dimensional display according to another exemplary embodiment of the present invention. The sectional view of this embodiment is the same as that of FIG. The insulating pattern 206 of the present exemplary embodiment may not be a portion of the space between the adjacent first electrode lines 202, but may be an insulating pattern made of a tunnel-type insulating layer covering the first electrode line 202. That is, the tunnel-type insulating film extending along the first direction and disconnected in the second direction may be a pattern periodically arranged along the second direction.

도 7 및 도 8은 각각 양안시차 구현부의 일례로 TN 패널과 렌티큘러렌즈 시트를 나타낸 단면도이다.7 and 8 are cross-sectional views illustrating a TN panel and a lenticular lens sheet as an example of a binocular parallax implementation unit, respectively.

도 7을 참조하면, TN 패널은 상부기판(도시하지 않음)과 하부기판(도시하지 않음) 사이에 TN 액정(112)이 봉입된 구조를 취하고 상기 상부기판과 하부기판에 편광판(114)이 적층된 구조를 취한다. 편광판(114)은 일반적으로 폴리비닐알콜(PVA, Polyvinyl Alcohol)을 연신하여 제조된 폴리비닐알콜 필름(114a)과, 폴리비닐알콜 필름(114a)을 습도 등의 외부환경으로부터 보호하기 위해 그 상부면과 하부면에 적층된 트리아세틸셀룰로오스(TAC: Triacetyl Cellulose) 필름(114b)으로 구성된다. 본 발명의 터치 센서부(200), 즉 제1전극라인(202), 제2전극라인(204), 제1버스바(208) 및 제2버스바(210) 중 적어도 일부가 트리아세틸셀룰로오스 필름(114b) 상에 직접 형성될 수 있다. Referring to FIG. 7, the TN panel has a structure in which a TN liquid crystal 112 is enclosed between an upper substrate (not shown) and a lower substrate (not shown), and a polarizing plate 114 is laminated on the upper substrate and the lower substrate. Take the structure The polarizing plate 114 generally has a polyvinyl alcohol film 114a prepared by stretching polyvinyl alcohol (PVA) and an upper surface thereof to protect the polyvinyl alcohol film 114a from an external environment such as humidity. And a triacetyl cellulose (TAC) film 114b stacked on the bottom surface. At least a portion of the touch sensor unit 200, that is, the first electrode line 202, the second electrode line 204, the first bus bar 208, and the second bus bar 210 of the present invention is a triacetylcellulose film. Can be formed directly on 114b.

한편, 터치 센서부(200)와 접하는 트리아세틸셀룰로오스 필름(114b)의 상부면에는 추가적으로 반사방지층(Antireflection coating) 내지 눈부심방지층(Antiglare coating)이 존재하는 경우 상기 반사방지층 또는 눈부심방지층에 제1전극라인(202) 등이 형성될 수도 있다.On the other hand, when the antireflection coating (Antireflection coating) or the anti-glare layer (Antiglare coating) is additionally present on the upper surface of the triacetyl cellulose film 114b in contact with the touch sensor unit 200, the first electrode line on the anti-reflection layer or anti-glare layer 202 and the like may be formed.

도 8을 참조하면, 렌티큘러렌즈 시트는 지지필름(115) 상에 렌티큘러렌즈 부(116)가 존재할 수 있고, 렌티큘러렌즈부(116) 상에 보호층(117)이 존재할 수 있으며, 본 발명의 터치 센서부(200)는 보호층(117) 상에 직접 형성될 수 있다. 보호층(117)은 일반적으로 존재하지 않을 수 있으나, 본 발명에서는 렌티큘러렌즈 시트에 상에 상에 직접 제1전극라인 등을 형성해야 하므로 상기 보호층(117)이 존재하는 것이 바람직하다. 상기 보호층(117)은 투명한 유기절연물층일 수 있으며, 렌티큘러렌즈부(116)의 요철을 없애주는 평평한 형태의 유기절연물층인 것이 바람직하다. 또한, 지지필름(115)이 존재하지 않을 수 있으며, 지지필름(115)과 렐티큘러 렌즈부(116)의 구별이 없이 일체로 형성될 수도 있다.
Referring to FIG. 8, in the lenticular lens sheet, the lenticular lens unit 116 may exist on the support film 115, the protective layer 117 may exist on the lenticular lens unit 116, and the touch of the present invention may be applied to the lenticular lens sheet. The sensor unit 200 may be directly formed on the protective layer 117. The protective layer 117 may not generally exist, but in the present invention, since the first electrode line or the like must be directly formed on the lenticular lens sheet, the protective layer 117 is preferably present. The protective layer 117 may be a transparent organic insulator layer, and the organic insulator layer may be a flat organic insulator layer that eliminates irregularities of the lenticular lens unit 116. In addition, the support film 115 may not exist, and may be integrally formed without distinguishing the support film 115 from the lenticular lens unit 116.

이하에서는 도 1 내지 도 3에 도시된 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이를 기준으로 그 제조방법에 대해 설명하되, 전술한 내용과 중복되는 사항에 대해서는 그 설명을 생략하거나 간단히 설명하도록 한다. 도 9a, 10a, 11a, 12a는 도 1 내지 도 3에 도시된 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조공정을 나타낸 단면도이며, 도 9b, 10b, 11b, 12b는 그 평면도이다.Hereinafter, a description will be given of a manufacturing method based on the touch sensor integrated three-dimensional display shown in FIGS. 1 to 3, but descriptions of the duplicated descriptions will be omitted or simply described. 9A, 10A, 11A, and 12A are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a touch sensor-integrated three-dimensional display shown in FIGS. 1 to 3, and FIGS. 9B, 10B, 11B, and 12B are plan views thereof.

도 9a 및 도 9b를 참조하면, 양안시차 구현부(110) 상에 제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)을 형성한다. 9A and 9B, the first electrode line 202 and the second-first electrode pattern 204a are formed on the binocular parallax implementing unit 110.

제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)은 전술한 ITO 등의 투명 도전성물질을 진공증착(Vacuum evaporation), 이온증착 (Ion plating), 스퍼터링(Sputtering), 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition) 등의 방법에 의해 증착한 후 리소그래피 공정을 통해 도시된 것과 같은 형태로 제작할 수 있다. 또는, 스크린 프린팅(Screen printing) 등의 방법을 패터닝(리소그래피) 공정 없이 바로 제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)을 형성할 수도 있다. The first electrode line 202 and the second electrode pattern 204a may be formed by vacuum evaporation, ion plating, sputtering, or chemical vapor deposition on a transparent conductive material such as ITO. After deposition by a method such as CVD (Chemical Vapor Deposition), it may be manufactured in the form as shown through the lithography process. Alternatively, the first electrode line 202 and the second-first electrode pattern 204a may be formed directly without using a patterning (lithography) process using a screen printing method.

특히, TN 패널의 편광판을 구성하는 트리아세틸셀룰로오스 필름의 유리전이온도(Tg)가 약 120℃이므로 상기 유리전이온도 이하에서 ITO 등의 증착 공정이 이루어지는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 10℃ 내지 50℃의 저온(또는 상온)에서 제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)을 형성하는 물질을 증착하고 패터닝하는 것이 유효할 수 있다. 스크린 프린팅에 의해 ITO 나노입자가 포함된 페이스트를 도포하고 소성(건조)하는 경우에도 약 120℃ 이하에서 소성(건조)하는 것이 바람직하다.In particular, since the glass transition temperature (Tg) of the triacetyl cellulose film constituting the polarizing plate of the TN panel is about 120 ° C., a deposition process such as ITO is preferably performed at the glass transition temperature or lower. More preferably, it is effective to deposit and pattern the material forming the first electrode line 202 and the second-first electrode pattern 204a at a low temperature (or room temperature) of 10 ° C to 50 ° C. Even when the paste containing ITO nanoparticles is coated and baked (dry) by screen printing, baking (drying) is preferably performed at about 120 ° C. or lower.

한편, TN 패널을 구성하는 폴리비닐알콜 필름은 수분 등에 매우 취약하다. 제1전극라인(202), 제2-1전극패턴(204a) 형성을 위한 패터닝 공정시, 습식 식각에 의하는 경우 수분 침투에 의한 TN 패널의 손상 위험이 있으므로 도전성 물질 증착 후 레이저 식각과 같은 건식 공정을 통해 패터닝할 수도 있다. 후술하는 절연패턴(206), 제2-2전극패턴(204b), 제1버스바(208), 제2버스바(210) 또한 레이저 식각에 의해 패터닝될 수 있다.On the other hand, the polyvinyl alcohol film constituting the TN panel is very fragile. In the patterning process for forming the first electrode line 202 and the 2-1 electrode pattern 204a, when wet etching, there is a risk of damage to the TN panel due to moisture infiltration. It can also be patterned through the process. The insulating pattern 206, the second-second electrode pattern 204b, the first bus bar 208, and the second bus bar 210, which will be described later, may also be patterned by laser etching.

도 10a 및 도 10b를 참조하면, 제1방향과 제2방향을 따라 배열된 브릿지형 절연막으로 이루어진 절연패턴(206)을 형성한다. 전술한 것과 같이, 본 실시예와 달리 브릿지형 절연막이 아닌 제1방향으로 단절되지 않고 제2방향으로는 단절되며 제1전극라인(202)을 감싸는 터널형 절연막도 가능하며, 제1전극라인(202)의 양단부를 제외한 내부 전체를 덮는 절연막(절연패턴)도 가능함은 물론이다.10A and 10B, an insulating pattern 206 formed of a bridge type insulating film arranged along a first direction and a second direction is formed. As described above, unlike the embodiment, a tunnel insulating film which is not cut in the first direction but is cut in the second direction and surrounds the first electrode line 202 may be used. Of course, an insulating film (insulation pattern) covering the entire interior except for both ends of the 202 is also possible.

본 실시예의 절연패턴(206)을 구성하는 브릿지형 절연막은 제1전극라인(202)과 제2전극라인이 전기적으로 절연되도록 제1전극라인(202)과 이후 형성되는 제2전극라인이 중첩되는 중첩영역 보다는 넓게 형성되며, 제1방향 또는 제2방향으로 일렬로 연결된 구조가 아닌 제1방향으로 단절되며, 제2방향으로도 단절된 구조의 절연막이다.In the bridge type insulating layer constituting the insulating pattern 206 of the present embodiment, the first electrode line 202 and the second electrode line formed thereafter are overlapped to electrically insulate the first electrode line 202 and the second electrode line. The insulating film is formed to be wider than the overlapping area, and is cut in the first direction instead of being connected in a line in the first direction or the second direction, and is also cut in the second direction.

절연패턴(206)은 절연물질을 스퍼터링, 화학기상증착, 스핀코팅 등에 의해 코팅한 후 리소그래피 공정을 거쳐 패터닝하는 방법에 의해 형성될 수도 있고, 스크린 프린팅을 이용하여 절연 페이스트를 도포하여 형성할 수도 있다.The insulating pattern 206 may be formed by coating an insulating material by sputtering, chemical vapor deposition, spin coating, etc., and then patterning the same through a lithography process. Alternatively, the insulating pattern 206 may be formed by applying an insulating paste using screen printing. .

도 11a 및 도 11b를 참조하면, 제2-2전극패턴(204b)을 형성하여 제2전극라인(204)을 완성한다. 제2-2전극패턴(204b)은 서로 이웃하는 제2-1전극패턴(204a)을 연결하여 제2방향으로 일렬로 연결되는 제2전극라인(204)을 형성하게 된다. 제2-2전극패턴(204b)의 형성 방법은 전술한 제1전극라인(202)과 제2-1전극패턴(204a)의 형성방법에 준한다.11A and 11B, the second electrode line 204b is formed to complete the second electrode line 204. The second electrode pattern 204b connects the adjacent second electrode electrode patterns 204a to form second electrode lines 204 connected in a second direction. The method of forming the second-second electrode pattern 204b follows the method of forming the first electrode line 202 and the second-first electrode pattern 204a described above.

제2전극라인(204)을 형성한 후 또는 후술하는 제1버스바(208)와 제2버스바(210)를 형성한 후에 스퍼터링, 화학기상증착, 스퍼터링, 화학기상증착 등에 의해 고굴절율과 저굴절율의 금속산화물을 교대로 적층하여 전술한 패시베이션층(도시하지 않음)을 형성할 수 있다.After forming the second electrode line 204 or after forming the first bus bar 208 and the second bus bar 210 which will be described later, high refractive index and low refractive index may be achieved by sputtering, chemical vapor deposition, sputtering, chemical vapor deposition, and the like. The above-described passivation layer (not shown) may be formed by alternately stacking metal oxides having a refractive index.

도 12a 및 도 12b를 참조하면, 제1버스바(208)와 제2버스바(210)를 형성한다. 제1버스바(208)는 제1전극라인(202)의 적어도 일단부로부터 양안시차 구현부(110)의 외곽, 즉 차광 영역으로 연장되며, 제2버스바(210)는 제2전극라인(204)의 적어도 일단부로부터 양안시차 구현부(110)의 외곽, 즉 차광 영역으로 연장되어 추후 회로기판 등과 연결되어 터치 센서 기능을 구현하는 전기적 연결통로가 된다.12A and 12B, a first bus bar 208 and a second bus bar 210 are formed. The first bus bar 208 extends from at least one end of the first electrode line 202 to the outside of the binocular parallax implementing unit 110, that is, the light shielding area, and the second bus bar 210 is formed of the second electrode line ( It extends from at least one end of the binocular parallax implementation unit 110 to the outside of the binocular parallax implementation unit 110, that is, is connected to a circuit board and the like, and becomes an electrical connection path for implementing a touch sensor function.

제1버스바(208)와 제2버스바(210)는 은 페이스트, 알루미늄 페이스트 등의 금속 페이스트를 이용한 스크린 프린팅 방법으로 형성할 수도 있고, 진공증착, 스퍼터링 등의 방법을 이용하여 금속막을 증착한 후 패터닝하여 형성할 수도 있다. 미세패턴 구현, 전기적 특성의 향상을 위해서는 진공증착, 스터터링 등의 방법에 의해 금속막을 증착한 후 패터닝하는 것이 유효할 수 있으며, 제조비용 등을 고려하면 스크린 프린팅 방법이 유효할 수 있다.The first bus bar 208 and the second bus bar 210 may be formed by a screen printing method using a metal paste such as silver paste or aluminum paste, and may be formed by depositing a metal film using a method such as vacuum deposition or sputtering. It may be formed by patterning after. In order to realize a fine pattern and improve electrical characteristics, it may be effective to deposit and pattern a metal film by a method such as vacuum deposition or stuttering, and screen printing may be effective in consideration of manufacturing costs.

도 1 및 도 2를 참조하면, 접착층(212)을 매개로 양안시차 구현부(110)와 커버시트(214)를 합착(접착)할 수 있다. 접착층(212)을 제1전극라인(202), 제2전극라인(204) 등이 형성된 양안시차 구현부(110)의 상면에 형성한 후 커버시트(214)를 접착할 수도 있고, 접착층(212)을 커버시트(214)의 하면에 형성한 후 접착할 수도 있다. 또한, 액상의 투명접착층 형성물질을 양안시차 구현부(110)의 상면 또는 커버시트(214)의 하면에 코팅한 후 경화시켜 형성할 수도 있고, 고상의 투명접착층을 라미네이션(Lamination)하여 형성할 수도 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, the binocular parallax implementing unit 110 and the cover sheet 214 may be bonded to each other through the adhesive layer 212. The adhesive layer 212 may be formed on the upper surface of the binocular parallax implementing unit 110 on which the first electrode line 202, the second electrode line 204, etc. are formed, and then the cover sheet 214 may be adhered to the adhesive layer 212. ) May be formed on the lower surface of the cover sheet 214 and then bonded. In addition, the liquid transparent adhesive layer forming material may be formed by coating and curing the upper surface of the binocular parallax implementing unit 110 or the lower surface of the cover sheet 214, or may be formed by laminating a solid transparent adhesive layer. have.

접착층(212)을 매개로 양안시차 구현부(110)와 커버시트(214)를 합착하기 전에, 커버시트(214)의 하면에 차광층(216)을 형성할 수 있다. 차광층(216)의 형성방법에 제한이 있는 것은 아니다. 예를 들어, 감광성 수지 조성물을 코팅하고 노광, 현상을 거쳐 차광층(216)을 형성할 수도 있고, 리소그래피 공정이 없는 스크린 프린팅 방법을 이용하여 블랙 페이스트, 블랙 잉크 등을 인쇄하는 방법을 사용할 수도 있다. 또는, 스퍼터링, 화학기상증착 등을 이용하여 크롬 등의 박막을 형성한 후 패터닝 공정을 통해 소정 형상의 차광층(216)을 형성할 수도 있다.Before bonding the binocular parallax implementing unit 110 and the cover sheet 214 through the adhesive layer 212, the light blocking layer 216 may be formed on the bottom surface of the cover sheet 214. There is no limitation on the method of forming the light shielding layer 216. For example, the light-shielding layer 216 may be formed by coating the photosensitive resin composition, exposing and developing, or printing a black paste or black ink using a screen printing method without a lithography process. . Alternatively, after forming a thin film such as chromium using sputtering, chemical vapor deposition, or the like, a light blocking layer 216 having a predetermined shape may be formed through a patterning process.

전술한 것과 같이, 본 발명의 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 및 그 제조방법은 양안시차 구현부, 예를 들어 TN 패널의 편광판에 터치 센서를 일체로 형성함으로써 3차원 디스플레이의 박형화가 가능하며, 절연패턴의 구조 최적화를 통해 감도 향상 및 사용자 편의성을 향상시킬 수 있다. 또한, 절연패턴의 두께를 얇게하는 것이 가능하여 저유전율의 절연물질을 사용할 수 있는 잇점이 있다. 한편, 전술한 내용은 3차원 디스플레이를 전제로 설명한 것이나 2차원/3차원 겸용 디스플레이에도 적용할 수 있음은 물론이다.
As described above, the touch sensor-integrated three-dimensional display of the present invention and a method of manufacturing the same can be thinned by three-dimensional display by integrally forming the touch sensor on the binocular parallax implementation, for example, a polarizing plate of the TN panel, insulation pattern The optimization of the structure can improve the sensitivity and user convenience. In addition, it is possible to reduce the thickness of the insulating pattern, there is an advantage that an insulating material having a low dielectric constant can be used. Meanwhile, the above description is based on the premise of a three-dimensional display, but can be applied to a two-dimensional and three-dimensional display.

100 : 영상표시부 110 : 양안시차 구현부
120 : 투명접착층 200 : 터치 센서부
202 : 제1전극라인 204 : 제2전극라인
204a : 제2-1전극패턴 204b : 제2-2전극패턴
206 : 절연패턴 208 : 제1버스바
210 : 제2버스바 212 : 접착층
214 : 커버시트 216 : 차광층100: image display unit 110: binocular parallax implementation unit
120: transparent adhesive layer 200: touch sensor unit
202: first electrode line 204: second electrode line
204a: 2-1st electrode pattern 204b: 2-2nd electrode pattern
206: insulating pattern 208: first bus bar
210: second bus bar 212: adhesive layer
214: cover sheet 216: light shielding layer

Claims (19)

영상표시부;
상기 영상표시부의 일측에 적층된 양안시차 구현부;
상기 양안시차 구현부 상에 직접 형성되며 제1방향으로 연장되는 다수의 제1전극라인;
상기 제1전극라인의 일부를 덮는 절연패턴;
상기 절연패턴을 덮으며 상기 제1방향과 교차하는 제2방향으로 연장되는 다수의 제2전극라인;
상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인에 각각 연결되며 상기 양안시차 구현부 상에 적층된 다수의 제1버스바와 제2버스바; 및
접착층을 매개로 상기 양안시차 구현부 상에 적층된 커버시트;
를 포함하는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
An image display unit;
A binocular parallax implementation unit stacked on one side of the image display unit;
A plurality of first electrode lines formed directly on the binocular parallax implementation and extending in a first direction;
An insulating pattern covering a portion of the first electrode line;
A plurality of second electrode lines covering the insulating pattern and extending in a second direction crossing the first direction;
A plurality of first bus bars and second bus bars connected to the first electrode line and the second electrode line and stacked on the binocular parallax implementation; And
A cover sheet laminated on the binocular parallax implementation through an adhesive layer;
Touch sensor integrated three-dimensional display comprising a.
제1항에 있어서,
상기 절연패턴은, 상기 제1전극라인을 감싸며 상기 제2방향으로는 단절된 터널형 절연막이 상기 제2방향을 따라 배열된 패턴인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The insulating pattern is a touch sensor integrated three-dimensional display surrounding the first electrode line and the tunnel-type insulating film is cut in the second direction is arranged in the second direction.
제1항에 있어서,
상기 절연패턴은 상기 제1전극라인을 감싸며, 상기 제1방향과 제2방향으로 단절된 브릿지형 절연막이 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인의 중첩영역에 배열된 패턴인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The insulating pattern surrounds the first electrode line, and the bridge-type insulating film cut in the first direction and the second direction is a pattern in which an overlapping region of the first electrode line and the second electrode line is arranged. display.
제3항에 있어서,
상기 브릿지형 절연막의 도포 면적(B)이 상기 제1전극라인과 제2전극라인이 교차하여 중첩되는 중첩영역의 면적(A)보다 5% 내지 50% 큰 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 3,
And a coating area (B) of the bridge-type insulating film is 5% to 50% larger than the area (A) of the overlapping area where the first electrode line and the second electrode line cross each other.
제1항에 있어서,
상기 양안시차 구현부는 패럴랙스 배리어 패널 또는 렌티큘러렌즈 시트인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The binocular parallax implementation unit is a parallax barrier panel or a lenticular lens sheet touch sensor integrated three-dimensional display.
제1항에 있어서,
상기 양안시차 구현부는 TN 패널인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The binocular parallax implementation unit is a TN panel touch sensor integrated three-dimensional display.
제6항에 있어서,
상기 제1전극라인의 전부와 상기 제2전극라인의 일부가 상기 TN 패널의 편광판을 구성하는 트리아세틸셀룰로오스 필름에 직접 형성된 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 6,
A touch sensor integrated three-dimensional display in which all of the first electrode line and a part of the second electrode line are directly formed on a triacetylcellulose film constituting the polarizing plate of the TN panel.
제1항에 있어서,
상기 제1전극라인 또는 제2전극라인은 인듐주석산화물, 안티몬주석산화물, 아연산화물, 주석산화물, 인듐아연산화물, 갈륨아연산화물, 알루미늄아연산화물 또는 카드뮴주석산화물 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속산화물이거나, 금, 은, 구리 또는 알루미늄 중 어느 하나 이상을 포함하는 금속과 상기 금속산화물의 다층박막이거나, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리피롤 또는 탄소나노튜브 중 어느 하나 이상을 포함하는 유기물로 이루어진 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The first electrode line or the second electrode line is a metal oxide containing any one or more of indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, tin oxide, indium zinc oxide, gallium zinc oxide, aluminum zinc oxide or cadmium tin oxide , A metal thin film containing any one or more of gold, silver, copper or aluminum and the metal oxide, or a polyaniline, polyacetylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polypyrrole or carbon nanotube Touch sensor integrated three-dimensional display consisting of an organic material containing the above.
제1항에 있어서,
상기 커버시트의 일면에 형성되어 윈도우 영역과 상기 윈도우 영역 주변부에 위치하는 차광 영역을 정의하는 차광층을 포함하는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
And a light shielding layer formed on one surface of the cover sheet to define a window area and a light shielding area positioned around the window area.
제1항에 있어서,
상기 제1버스바와 상기 제2버스바는 상기 양안시차 구현부 상에 직접 형성된 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The first bus bar and the second bus bar is a touch sensor integrated three-dimensional display formed directly on the binocular parallax implementation.
제1항에 있어서,
상기 제1전극라인, 제2전극라인, 제1버스바 및 제2버스바는 금속과 금속 산화물의 다층박막으로 이루어진 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
The first electrode line, the second electrode line, the first bus bar and the second bus bar is a touch sensor integrated three-dimensional display consisting of a multilayer thin film of metal and metal oxide.
제1항에 있어서,
상기 제1전극라인 및 상기 제2전극라인과 상기 접착층 사이에 마련되며, 고굴절율과 저굴절율의 금속 산화물이 교대로 적층된 패시베이션층을 포함하는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이.
The method of claim 1,
And a passivation layer provided between the first electrode line, the second electrode line, and the adhesive layer and alternately stacking metal oxides having a high refractive index and a low refractive index.
3차원 디스플레이 구현을 위한 양안시차 구현부를 준비하는 단계;
상기 양안시차 구현부 상에 제1방향으로 연장되는 다수의 제1전극라인과, 상기 제1전극라인을 사이에 두고 서로 이격된 다수의 제2-1전극패턴을 상기 제1방향과 교차하는 제2방향으로 형성하는 단계;
상기 제1전극라인의 일부를 감싸고, 이웃하는 상기 제2-1전극패턴을 연결하며, 상기 제2방향으로는 단절된 절연막이 배열된 절연패턴을 형성하는 단계;
상기 절연패턴 상에 이웃한 상기 제2-1전극패턴을 연결하는 제2-2전극패턴을 형성하여 상기 제2방향으로 연장되는 다수의 제2전극라인을 형성하는 단계;
상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인에 각각 연결되는 다수의 제1버스바와 제2버스바를 상기 양안시차 구현부 상에 형성하는 단계; 및
접착층을 매개로 상기 양안시차 구현부와 커버시트를 합착하는 단계;
를 포함하는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
Preparing a binocular parallax implementation unit for implementing a 3D display;
A plurality of first electrode lines extending in a first direction on the binocular parallax implementing unit, and a plurality of second-1 electrode patterns spaced apart from each other with the first electrode line therebetween intersecting the first direction; Forming in two directions;
Forming an insulating pattern covering a part of the first electrode line, connecting the neighboring second-first electrode patterns, and arranged an insulating film cut in the second direction;
Forming a plurality of second electrode lines extending in the second direction by forming a second-2 electrode pattern connecting the neighboring second-1 electrode patterns on the insulating pattern;
Forming a plurality of first bus bars and second bus bars respectively connected to the first electrode line and the second electrode line on the binocular parallax implementation; And
Bonding the binocular parallax implementation and the cover sheet through an adhesive layer;
Touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method comprising a.
제13항에 있어서,
상기 3차원 디스플레이 구현을 위한 양안시차 구현부를 준비하는 단계에서, 상기 양안시차 구현부는 패럴랙스 배리어 패널 또는 렌티큘러렌즈 시트인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
The method of claim 13,
In the step of preparing a binocular parallax implementation for implementing the three-dimensional display, the binocular parallax implementation is a touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method of a parallax barrier panel or lenticular lens sheet.
제13항에 있어서,
상기 3차원 디스플레이 구현을 위한 양안시차 구현부를 준비하는 단계에서, 상기 양안시차 구현부는 TN 패널인 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
The method of claim 13,
In the step of preparing a binocular parallax implementation for implementing the three-dimensional display, the binocular parallax implementation is a TN panel touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method.
제15항에 있어서,
상기 제1전극라인과 상기 제2-1전극패턴은 상기 TN 패널의 평관판을 구성하는 트리아세틸셀룰로오스 필름에 직접 형성되는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
16. The method of claim 15,
The first electrode line and the 2-1 electrode pattern is a touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method is formed directly on the triacetyl cellulose film constituting the flat plate of the TN panel.
제13항에 있어서,
상기 제1전극라인의 일부를 감싸고, 이웃하는 상기 제2-1전극패턴을 연결하며, 상기 제2방향으로는 단절된 절연막이 배열된 절연패턴을 형성하는 단계에서, 상기 절연패턴은 상기 제1전극라인과 상기 제2전극라인의 중첩영역에 형성된 브릿지형 절연막이 상기 제1방향과 제2방향을 따라 주기적으로 배열된 패턴으로 형성되는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
The method of claim 13,
In the step of forming a dielectric pattern surrounding a portion of the first electrode line, connecting the neighboring second-first electrode patterns, and an insulating film cut in the second direction, the insulating pattern is the first electrode. The bridge-type insulating film formed in the overlapping area of the line and the second electrode line is a touch sensor integrated three-dimensional display manufacturing method is formed in a pattern arranged periodically along the first direction and the second direction.
제17항에 있어서,
상기 브릿지형 절연막의 도포 면적(B)이 상기 제1전극라인과 제2전극라인이 교차하여 중첩되는 중첩영역의 면적(A)보다 5% 내지 50% 큰 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
18. The method of claim 17,
And a coating area (B) of the bridge insulating film is 5% to 50% larger than the area (A) of the overlapping area where the first electrode line and the second electrode line cross each other.
제13항에 있어서,
상기 제1전극라인, 상기 제2-1전극패턴, 상기 절연패턴, 상기 제2-2전극패턴, 상기 제1버스바 또는 상기 제2버스바는 레이저 식각에 의해 패터닝되는 터치 센서 일체형 3차원 디스플레이 제조방법.
The method of claim 13,
The first electrode line, the second-first electrode pattern, the insulating pattern, the second-second electrode pattern, the first bus bar, or the second bus bar are patterned by laser etching. Manufacturing method.
KR1020110033926A 2011-04-12 2011-04-12 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same KR20120116280A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110033926A KR20120116280A (en) 2011-04-12 2011-04-12 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110033926A KR20120116280A (en) 2011-04-12 2011-04-12 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120116280A true KR20120116280A (en) 2012-10-22

Family

ID=47284688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110033926A KR20120116280A (en) 2011-04-12 2011-04-12 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20120116280A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150070663A (en) * 2013-12-17 2015-06-25 엘지디스플레이 주식회사 Organic electro luminescent device having touch screen and method of fabricating the same
CN105652497A (en) * 2016-03-14 2016-06-08 广东欧珀移动通信有限公司 Touch control display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150070663A (en) * 2013-12-17 2015-06-25 엘지디스플레이 주식회사 Organic electro luminescent device having touch screen and method of fabricating the same
CN105652497A (en) * 2016-03-14 2016-06-08 广东欧珀移动通信有限公司 Touch control display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8603611B2 (en) Transparent planar body and transparent touch switch
TWI664560B (en) Layered structure, touch panel, display device with touch panel and manufacturing method thereof
CN108803787B (en) Display device
JP4874145B2 (en) Transparent sheet and transparent touch switch
TWI509477B (en) Touch panel and method for manufacturing the same
JP5997146B2 (en) Touch panel
KR101323601B1 (en) 3-Dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same
JP6533214B2 (en) Transparent electrode pattern laminate and touch screen panel provided with the same
KR101865685B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
KR20130110539A (en) Display device and manufacturing method of the same
JP2013214173A (en) Capacitance-type film sensor, and sensor module and cover module using the same
WO2014045595A1 (en) Transparent conductive film, method for manufacturing transparent conductive film, and touch panel
KR20120134955A (en) Touch panel having improved visibility and method for manufacturing the same
JP6817586B2 (en) Touch panel parts
KR102077548B1 (en) Transparent electrode pattern structure and touch screen panel having the same
JP5305807B2 (en) Transparent sheet and transparent touch switch
JP2015035173A (en) Display device with input function
TWI472984B (en) Touch panel and touch-controlled display device
KR101114028B1 (en) Touch panel
KR20120116280A (en) 3-dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same
KR20150059194A (en) Touch paner and manufacturing method thereof
JP2016173674A (en) Production method of conductive pattern sheet, conductive pattern sheet, touch panel sensor, and image display device
KR101219497B1 (en) 3-Dimensional display having integral touch sensor and method for manufacturing the same
JP6446209B2 (en) Transparent electrode pattern laminate and touch screen panel provided with the same
KR20120091962A (en) Touch panel integrated with window, display apparatus including the same amd method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E601 Decision to refuse application